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JP2010020017A5 - - Google Patents

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Claims (9)

  1. 物体面から像面に至る光路に第1凹反射面、凸反射面、第2凹反射面が順に配置され、前記物体面に配置された物体の像を前記像面に投影する投影光学系であって、
    前記光路に配置された第1屈折光学ユニットおよび第2屈折光学ユニットを備え、
    前記第1屈折光学ユニットおよび前記第2屈折光学ユニットは、それぞれ、2以上のシリンドリカル面を有し、
    前記第1屈折光学ユニットは、第1方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成され、前記第2屈折光学ユニットは、前記第1方向に直交する第2方向における前記投影光学系の投影倍率を調整可能に構成されている、
    ことを特徴とする投影光学系。
  2. 前記第1屈折光学ユニットおよび前記第2屈折光学ユニットの少なくとも一方は、第1面および第2面を有する屈折光学素子を含み、前記第1面はシリンドリカル面であり、前記第2面は曲面である、
    ことを特徴とする請求項に記載の投影光学系。
  3. 前記第1方向における投影倍率が第1目標投影倍率になるように前記第1屈折光学ユニットを駆動する第1アクチュエータと、
    前記第2方向における投影倍率が第2目標投影倍率になるように前記第2屈折光学ユニットを駆動する第2アクチュエータとを更に備える、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の投影光学系。
  4. 前記第1屈折光学ユニットは、前記物体面と前記第1凹反射面との間に配置され、前記第2屈折光学ユニットは、前記第2凹反射面と前記像面との間に配置されている、
    ことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の投影光学系。
  5. 前記物体面と前記像面との間において前記投影光学系の光軸を折り曲げるミラーを更に備える、
    ことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の投影光学系。
  6. 請求項1乃至のいずれか1項に記載の投影光学系を備え、前記投影光学系によって原版のパターンを基板に投影して該基板を露光することを特徴とする露光装置。
  7. 原版および基板を走査方向に走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
    請求項1乃至5のいずれか1項に記載の投影光学系を備え、
    前記第1方向は前記走査方向であって、
    前記第2方向は前記走査方向に垂直な方向であって、
    前記第1屈折光学ユニットの2以上のシリンドリカル面の間隔を変更することによって、前記走査方向における前記投影光学系の投影倍率が調整可能であり、
    前記第2屈折光学ユニットの2以上のシリンドリカル面の間隔を変更することによって、前記走査方向に垂直な方向における前記投影光学系の投影倍率が調整可能であることを特徴とする露光装置。
  8. 前記走査方向の投影倍率が第1目標投影倍率になるように、前記第1屈折光学ユニットの2以上のシリンドリカル面の間隔を変更し、
    前記走査方向に対して垂直な方向の投影倍率が第2目標投影倍率になるように、前記第2屈折光学ユニットの2以上のシリンドリカル面の間隔を変更する
    ことを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
  9. デバイス製造方法であって、
    感光剤が塗布された基板を請求項6乃至8のいずれか1項に記載の露光装置によって露光する工程と、
    該感光剤を現像する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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