JP2014081658A5 - - Google Patents
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Claims (14)
- 物体平面(5、505、605、705、805)の物体視野(3、503、603、703、803)を像平面(9、509、609、709、809)の像視野(7、507、607、707、807)に結像する複数のミラー(M1〜M6、M501〜506、M601〜M606、M701〜M706、M801〜M808)を有する、マイクロリソグラフィのための投影対物系(907)として設計される結像光学系(1、501、601、701、801)であって、
前記複数のミラー(M1〜M6、M501〜506、M601〜M606、M701〜M706、M801〜M808)の少なくとも一つは、前記結像光通過のための貫通開口部(21、521、621、721、821)を有し、
前記結像光学系は、前記物体視野と該像視野の間の結像光(17、517、617、717、817)のビーム経路内の最後から2番目のミラー(M5、M505、M605、M705、M807)及び該ビーム経路内の最後のミラー(M6、M506、M606、M706、M808)を含み、
前記最後から2番目のミラー(M5、M505、M605、M705、M807)が、正の屈折力を有し、
前記最後から2番目のミラーと前記像平面の間の作動距離に対する、前記最後から2番目のミラーの外径の比は、5よりも小さい、
ことを特徴とする、マイクロリソグラフィのための投影対物系(907)として設計される結像光学系(1、501、601、701、801)。 - 前記最後から2番目のミラーと前記像平面の間の作動距離に対する、前記最後から2番目のミラーの外径の比は、2よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。 - 前記最後のミラー(M6、M506、M606、M706、M808)は、前記結像光の通過のための貫通開口部(21、521、621、721、821)を有する、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結像光学系。 - 前記最後から2番目のミラーの光学的使用区域の内側の前記ビーム経路内の該最後から2番目のミラー(M5、M505)の反射面が、前記結像光(17、517)の前記通過のための貫通開口部を持たない、
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の結像光学系(1、501)。 - 前記最後から2番目のミラー(M5、M505)は、前記最後のミラー(M6、M506)と前記像視野(7、507)の間の結像光束の外側に配置される、
ことを特徴とする請求項4に記載の結像光学系。 - 前記最後から2番目のミラー(M5、M505)は外径を有し、前記最後のミラー(M6、M506)も外径を有し、
前記最後から2番目のミラーの前記外径は、前記最後のミラーの前記外径よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の結像光学系。 - 前記最後から2番目のミラーの光学的使用区域の内側の前記ビーム経路内の該最後から2番目のミラー(M605、M705、M807)の反射面が、前記結像光(617、717、817)の前記通過のための貫通開口部(635、735、835)を有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の結像光学系(601、701、801)。 - 少なくとも1つのミラー(M1〜M6、M501〜M506)の反射面が、回転非対称関数によって記述することができる自由曲面として設計される、
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学系(1,501)。 - 前記第1の部分対物系(11、511、611、711)は、4つのミラー(M1〜M4、M501〜504、M601〜M604、M701〜M704)を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。 - 反射光学対物系である、
ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の結像光学系。 - 前記像平面内の開口数が、少なくとも0.3である、
ことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の結像光学系。 - マイクロリソグラフィのための投影露光装置(901)であって、
請求項11に記載の投影対物系(907)を有し、
照明光(903)を発生させるための光源(902)を有し、かつ
前記照明光を前記投影対物系の物体視野(904)まで遠くに案内するための照明光学系(906)を有する、
ことを特徴とする投影露光装置(901)。 - 前記光源は、5と30nmの間の波長を有する照明光を発生させるように設計される、
ことを特徴とする請求項12に記載の投影露光装置。 - 構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル及びウェーハを準備する方法段階と、
請求項12又は請求項13に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル上の構造を前記ウェーハの感光層上に投影する方法段階と、
前記ウェーハ上に微細構造を生成する方法段階と、
を有することを特徴とする方法。
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