JP2016089023A - Method for producing water repellent film - Google Patents
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Abstract
【課題】容易に実施することができ、且つ耐久性の高い撥水性フィルムを製造することができる、撥水性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】第1の基材フィルムの第1表面と、第2の基材フィルムの第1表面とを、貼合材料を介して貼合して積層体を得る貼合工程、及び前記第1の基材フィルムと前記第2の基材フィルムとを剥離して撥水性フィルムを得る剥離工程を含み、前記第1の基材フィルム又は前記第2の基材フィルムが、延伸フィルムであり、且つ、引張弾性率が1600MPa以上2600MPa以下である、撥水性フィルムの製造方法。【選択図】図2Provided is a method for producing a water-repellent film, which can be easily carried out and can produce a highly durable water-repellent film. A bonding step of bonding a first surface of a first base film and a first surface of a second base film through a bonding material to obtain a laminate, and the first Including a peeling step of peeling the base film of 1 and the second base film to obtain a water-repellent film, wherein the first base film or the second base film is a stretched film, And the manufacturing method of a water-repellent film whose tensile elasticity modulus is 1600 Mpa or more and 2600 Mpa or less. [Selection] Figure 2
Description
本発明は、撥水性フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a water-repellent film.
屋外、又は水が飛散する場所で用いられる装置には、その表面において撥水性が求められる場合がある。そのような装置に撥水性を付与する手段として、撥水性フィルムを装置に貼付することが行われる。 An apparatus used outdoors or in a place where water scatters may require water repellency on the surface thereof. As a means for imparting water repellency to such a device, a water repellent film is applied to the device.
撥水性フィルムの製造方法としては、基材フィルムの表面に撥水性の層を形成する方法(例えば特許文献1)、基材フィルムの表面に微細な凹凸構造を設ける方法(例えば特許文献2)等が知られている。 As a method for producing a water-repellent film, a method for forming a water-repellent layer on the surface of the base film (for example, Patent Document 1), a method for providing a fine uneven structure on the surface of the base film (for example, Patent Document 2), etc. It has been known.
しかしながら、特許文献1及び2に記載される方法では、撥水性の層を形成する材料、及び/又は凹凸構造を形成するための特別な装置が必要になるため、フィルム製造の工程で汎用される装置及び材料により容易に実施できない。
さらに、特許文献1に記載される方法では、撥水性の層の耐久性が不十分で、長期間の使用により撥水性の層が剥がれて撥水性が低下するという問題もある。
However, the methods described in Patent Documents 1 and 2 require a material for forming a water-repellent layer and / or a special apparatus for forming a concavo-convex structure, and are therefore widely used in the film manufacturing process. Not easily implemented by equipment and materials.
Furthermore, the method described in Patent Document 1 has a problem that the durability of the water-repellent layer is insufficient, and the water-repellent layer is peeled off due to long-term use and the water repellency is lowered.
したがって、本発明の目的は、容易に実施することができ、且つ耐久性の高い撥水性フィルムを製造することができる、撥水性フィルムの製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a water-repellent film, which can be easily carried out and can produce a highly durable water-repellent film.
本発明者は、前記の課題を解決するべく検討した結果、2枚の基材フィルムを貼合してから剥離することにより、剥離面に微小な凹凸構造を形成しうることを、撥水性フィルムの製造に利用することを着想した。そして、貼合するフィルムとして、特定のフィルムを用いることにより、撥水性フィルムを、フィルムの製造において汎用される設備及び材料により容易に製造しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成されたものである。
すなわち、本発明は以下の通りである。
As a result of studying to solve the above-mentioned problems, the present inventor has shown that a water-repellent film can form a minute uneven structure on a peeled surface by bonding two substrate films and then peeling them. Inspired to be used in the manufacture of And it discovered that a water-repellent film could be easily manufactured with the equipment and material generally used in manufacture of a film by using a specific film as a film to bond. The present invention has been completed based on such findings.
That is, the present invention is as follows.
〔1〕 第1の基材フィルムの第1表面と、第2の基材フィルムの第1表面とを、貼合材料を介して貼合して積層体を得る貼合工程、及び
前記第1の基材フィルムと前記第2の基材フィルムとを剥離して撥水性フィルムを得る剥離工程を含み、
前記第1の基材フィルム又は前記第2の基材フィルムが、
延伸フィルムであり、且つ、引張弾性率が1600MPa以上2600MPa以下である、
撥水性フィルムの製造方法。
〔2〕 前記第1の基材フィルム、前記第2の基材フィルム、又はこれらの両方が、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルムである、〔1〕に記載の撥水性フィルムの製造方法。
〔3〕 前記貼合材料が紫外線硬化型の接着剤である、〔1〕又は〔2〕に記載の撥水性フィルムの製造方法。
[1] A bonding step of bonding the first surface of the first base film and the first surface of the second base film via a bonding material to obtain a laminate, and the first A peeling step of peeling the base film and the second base film to obtain a water-repellent film,
The first base film or the second base film is
It is a stretched film and has a tensile elastic modulus of 1600 MPa to 2600 MPa,
A method for producing a water-repellent film.
[2] The method for producing a water-repellent film according to [1], wherein the first base film, the second base film, or both of them are films of an alicyclic structure-containing polymer resin. .
[3] The method for producing a water-repellent film according to [1] or [2], wherein the bonding material is an ultraviolet curable adhesive.
本発明の製造方法は、容易に実施することができ、且つ耐久性の高い撥水性フィルムを製造することができる。 The production method of the present invention can be easily carried out and can produce a highly durable water-repellent film.
以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the following embodiments and exemplifications, and may be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of the claims of the present invention and its equivalent scope.
以下の説明において、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及びメタクリルの両方を包含する。また、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両方を包含する。 In the following description, “(meth) acryl” includes both acrylic and methacrylic. “(Meth) acrylate” includes both acrylate and methacrylate.
以下の説明において、要素の方向が「平行」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。 In the following description, the direction of the element “parallel” may include an error within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, within a range of ± 5 °, unless otherwise specified.
さらに、以下の説明において「長尺」のフィルムとは、幅に対して、少なくとも5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。 Further, in the following description, a “long” film refers to a film having a length of at least 5 times the width, preferably having a length of 10 times or more, specifically Refers to a film having a length that can be wound or stored in a roll.
〔1.製造方法の概要〕
本発明の撥水性フィルムの製造方法は、特定の貼合工程及び剥離工程を含む。
[1. Overview of manufacturing method)
The manufacturing method of the water-repellent film of the present invention includes a specific bonding step and a peeling step.
〔2.貼合工程〕
貼合工程では、第1の基材フィルムの第1表面と、第2の基材フィルムの第1表面とを、貼合材料を介して貼合して積層体を得る。
図1は、本発明の製造方法の貼合工程で得られた積層体を模式的に示す側面図である。図1において、積層体100は、第1の基材フィルム111と、第2の基材フィルム112と、その間に介在する貼合材料層122とを備える。
積層体100において、第1の基材フィルム111は、第1表面111U及び第2表面111Dを有し、第2の基材フィルム112は、第1表面112D及び第2表面112Uを有する。第1の基材フィルム111の第1表面111Uと第2の基材フィルム112の第1表面112Dとは、貼合材料122とを介して貼合され、これにより積層体100が構成される。
図1に示す例では、第1の基材フィルム111及び第2の基材フィルム112は、その全面が貼合されているのではなく、一部に貼合されない部分が存在している。即ち、第1の基材フィルム111は、その一部に不貼合部分111Gを有し、第2の基材フィルム112は、その一部に不貼合部分112Gを有する。
[2. (Bonding process)
In the bonding step, the first surface of the first base film and the first surface of the second base film are bonded through a bonding material to obtain a laminate.
FIG. 1 is a side view schematically showing a laminate obtained in the bonding step of the production method of the present invention. In FIG. 1, the laminated body 100 is provided with the 1st base film 111, the 2nd base film 112, and the bonding material layer 122 interposed between them.
In the laminate 100, the first base film 111 has a first surface 111U and a second surface 111D, and the second base film 112 has a first surface 112D and a second surface 112U. The first surface 111U of the first base film 111 and the first surface 112D of the second base film 112 are bonded via the bonding material 122, whereby the laminate 100 is configured.
In the example shown in FIG. 1, the entire surface of the first base film 111 and the second base film 112 is not pasted, but there is a part that is not pasted. That is, the 1st base film 111 has the non-bonding part 111G in the part, and the 2nd base film 112 has the non-bonding part 112G in the part.
貼合工程は、第1の基材フィルムの第1表面及び第2の基材フィルムの第1表面の一方又は両方に、貼合材料の層を設け、その後、第1の基材フィルムの第1表面及び第2の基材フィルムの第1表面が向き合った状態でこれらを接触させることにより行いうる。接触と同時に、又は接触の前若しくは後に、必要に応じて、加熱、加圧等の操作を併せて行いうる。加圧を行う場合の圧力は、0.1MPa以上が好ましく、また1.3MPa以下が好ましい。圧力を前記下限以上とすることにより、貼合を十分に達成することができる。また特に、貼合材料として接着剤を用いた場合には、接着剤の膜厚ムラの発生を低減し剥離工程における剥離を均一に達成することができる。一方、圧力を前記上限以下とすることにより、基材フィルムの皺等の不具合の発生を低減しうる。貼合工程の具体的な操作は、用いる基材フィルム及び貼合材料に適した操作としうる。 In the bonding step, a layer of a bonding material is provided on one or both of the first surface of the first base film and the first surface of the second base film, and then the first base film One surface and the first surface of the second base film can be brought into contact with each other in a state where they face each other. Simultaneously with the contact, or before or after the contact, operations such as heating and pressurization may be performed as necessary. The pressure when pressurizing is preferably 0.1 MPa or more, and preferably 1.3 MPa or less. By setting the pressure to be equal to or higher than the lower limit, the bonding can be sufficiently achieved. In particular, when an adhesive is used as the bonding material, it is possible to reduce the occurrence of uneven film thickness of the adhesive and achieve uniform peeling in the peeling step. On the other hand, the occurrence of problems such as wrinkles of the base film can be reduced by setting the pressure to the upper limit or less. The specific operation of the bonding step can be an operation suitable for the base film and the bonding material to be used.
〔2.1.基材フィルム〕
貼合工程に用いる基材フィルム(第1の基材フィルム及び第2の基材フィルム)としては、通常、樹脂フィルムを用いる。基材フィルムを構成する樹脂としては、任意の重合体を含む樹脂を用いうる。中でも、基材フィルムを構成する樹脂としては、熱可塑性樹脂が好ましく、脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いることが特に好ましい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂を、以下、適宜「脂環式構造含有重合体樹脂」と呼ぶ。脂環式構造含有重合体樹脂は、撥水性、透明性、低吸湿性、寸法安定性および軽量性などに優れ、光学フィルムに適している。
[2.1. (Base film)
As a base film (a 1st base film and a 2nd base film) used for a pasting process, a resin film is usually used. As resin which comprises a base film, resin containing arbitrary polymers can be used. Especially, as resin which comprises a base film, a thermoplastic resin is preferable and it is especially preferable to use resin containing an alicyclic structure containing polymer. Hereinafter, the resin containing the alicyclic structure-containing polymer is appropriately referred to as “alicyclic structure-containing polymer resin”. The alicyclic structure-containing polymer resin is excellent in water repellency, transparency, low hygroscopicity, dimensional stability and light weight, and is suitable for an optical film.
脂環式構造含有重合体は、重合体の構造単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれを用いてもよい。また、脂環式構造含有重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。 The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the structural unit of the polymer, a polymer having an alicyclic structure in the main chain, and an alicyclic structure in the side chain. Any of the polymers may be used. Moreover, an alicyclic structure containing polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Among these, a polymer containing an alicyclic structure in the main chain is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like.
脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。 Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoints of mechanical strength, heat resistance and the like, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲である。これにより、基材フィルムの機械強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされ、好適である。 The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is a range of 15 or less. Thereby, the mechanical strength, heat resistance, and moldability of the base film are highly balanced and suitable.
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する構造単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択してもよく、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、基材フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。 The proportion of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer may be appropriately selected depending on the purpose of use, preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably. Is 90% by weight or more. When the ratio of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is in this range, it is preferable from the viewpoint of the transparency and heat resistance of the base film.
脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適である。 Examples of alicyclic structure-containing polymers include norbornene polymers, monocyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and hydrides thereof. Can be mentioned. Among these, norbornene-based polymers are preferable because of their good transparency and moldability.
ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と任意の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と任意の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物;等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。ここで「(共)重合体」とは、重合体及び共重合体の両方を包含する。 Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer, or a hydride thereof; An addition polymer of a monomer having a norbornene structure, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer, or a hydride thereof. Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of transparency, moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. It is. Here, the “(co) polymer” includes both a polymer and a copolymer.
ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。また、ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 17, 10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Moreover, these substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring. Moreover, the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。 Examples of the polar group include a hetero atom or an atomic group having a hetero atom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, a nitrile group, and a sulfonic acid group.
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な任意の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体;などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of an optional monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; and cyclic conjugates such as cyclohexadiene and cycloheptadiene. Dienes and derivatives thereof; and the like. As the optional monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な任意の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。 A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, and a ring-opening copolymer of any monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure are, for example, a known ring-opening monomer. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence of a polymerization catalyst.
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な任意の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of any monomer that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, And cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene; and the like. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable. Moreover, the arbitrary monomer which can carry out addition copolymerization with the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な任意の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。 An addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of any monomer that can be copolymerized with a monomer having a norbornene structure include, for example, a monomer of a known addition polymerization catalyst. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence.
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。 Examples of the monocyclic olefin polymer include addition polymers of a cyclic olefin monomer having a single ring such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物;などを挙げることができる。 Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by cyclization reaction of addition polymers of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene. And 1,2- or 1,4-addition polymers of diene monomers; and their hydrides.
ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物;ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な任意のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物;等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。 Examples of vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon monomers such as vinylcyclohexene and vinylcyclohexane and their hydrides; vinyl aromatic hydrocarbons such as styrene and α-methylstyrene. Hydrogenated product obtained by hydrogenating an aromatic ring part contained in a polymer obtained by polymerizing monomers; vinyl alicyclic hydrocarbon monomer, or vinyl aromatic hydrocarbon monomer and vinyl aromatic hydrocarbon monomer And an aromatic ring hydride of a copolymer such as a random copolymer or a block copolymer with an arbitrary copolymerizable monomer. Examples of the block copolymer include a diblock copolymer, a triblock copolymer or a multi-block copolymer having more than that, a gradient block copolymer, and the like.
基材フィルムを構成する樹脂に含まれる重合体の重量平均分子量(Mw)は、通常10,000以上、好ましくは15,000以上、より好ましくは20,000以上であり、通常100,000以下、好ましくは80,000以下、より好ましくは50,000以下である。ここで、前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いて(但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい)ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平気分子量である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、基材フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ、好適である。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymer contained in the resin constituting the base film is usually 10,000 or more, preferably 15,000 or more, more preferably 20,000 or more, and usually 100,000 or less. Preferably it is 80,000 or less, More preferably, it is 50,000 or less. Here, the weight average molecular weight is calculated by polyisoprene or polystyrene measured by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, toluene may be used when the sample does not dissolve in cyclohexane). The weight average molecular weight. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and molding processability of the base film are highly balanced and suitable.
基材フィルムを構成する樹脂に含まれる重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、通常1.2以上、好ましくは1.5以上、更に好ましくは1.8以上であり、通常3.5以下、好ましくは3.0以下、更に好ましくは2.7以下である。分子量分布を前記範囲の下限値以上にすることにより、重合体の生産性を高め、コストを抑制することができる。また、上限値以下にすることにより、低分子量成分を減らすことができるので、緩和時間を長くできる。そのため、高温曝露時の緩和を抑制でき、基材フィルムの安定性を高めることができる。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the polymer contained in the resin constituting the base film is usually 1.2 or more, preferably 1.5 or more, more preferably 1. It is 8 or more, usually 3.5 or less, preferably 3.0 or less, more preferably 2.7 or less. By making molecular weight distribution more than the lower limit of the said range, productivity of a polymer can be improved and cost can be suppressed. Moreover, since a low molecular weight component can be reduced by making it below an upper limit, relaxation time can be lengthened. Therefore, relaxation at high temperature exposure can be suppressed, and the stability of the base film can be enhanced.
本発明の製造方法で得られる撥水性フィルムを貼付する対象は、液晶表示装置の表示面等の、光透過性が求められ、且つ光学特性が所定のものであることが求められる場合がある。そのような用途に用いる撥水性フィルムを製造する場合、基材フィルムを構成する樹脂に含まれる重合体は、光弾性係数Cの絶対値が10×10−12Pa−1以下であることが好ましく、7×10−12Pa−1以下であることがより好ましく、4×10−12Pa−1以下であることが特に好ましい。光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、「C=Δn/σ」で表される値である。重合体の光弾性係数を前記範囲に納めることにより、基材フィルムの面内レターデーションReのバラツキを小さくできる。 The object to which the water-repellent film obtained by the production method of the present invention is attached may be required to have optical transparency and a predetermined optical property such as a display surface of a liquid crystal display device. When producing a water-repellent film used for such applications, the polymer contained in the resin constituting the base film preferably has an absolute value of the photoelastic coefficient C of 10 × 10 −12 Pa −1 or less. 7 × 10 −12 Pa −1 or less is more preferable, and 4 × 10 −12 Pa −1 or less is particularly preferable. The photoelastic coefficient C is a value represented by “C = Δn / σ” where birefringence is Δn and stress is σ. By keeping the photoelastic coefficient of the polymer within the above range, the variation in the in-plane retardation Re of the base film can be reduced.
基材フィルムを構成する樹脂に含まれる重合体の飽和吸水率は、好ましくは0.03重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下、特に好ましくは0.01重量%以下である。飽和吸水率が前記範囲であると、得られる撥水性フィルムの機械的性質及び光学的性質の経時変化を小さくすることができる。 The saturated water absorption rate of the polymer contained in the resin constituting the base film is preferably 0.03% by weight or less, more preferably 0.02% by weight or less, and particularly preferably 0.01% by weight or less. When the saturated water absorption is in the above range, the change over time of the mechanical properties and optical properties of the resulting water-repellent film can be reduced.
飽和吸水率は、試験片を一定温度の水中に一定時間浸漬して増加した質量を、浸漬前の試験片の質量に対する百分率で表した値である。通常は、23℃の水中に24時間、浸漬して測定される。重合体における飽和吸水率は、例えば、重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。飽和吸水率をより低くする観点から、前記の重合体は、極性基を有さないことが好ましい。 The saturated water absorption is a value expressed as a percentage with respect to the mass of the test piece before immersion, which is obtained by immersing the test piece in water at a constant temperature for a certain period of time. Usually, it is measured by immersing in 23 ° C. water for 24 hours. The saturated water absorption in the polymer can be adjusted to the above range, for example, by reducing the amount of polar groups in the polymer. From the viewpoint of lowering the saturated water absorption rate, the polymer preferably does not have a polar group.
基材フィルムを構成する樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、重合体以外に任意の成分を含んでいてもよい。その任意の成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤;可塑剤;蛍光増白剤;分散剤;熱安定剤;光安定剤;紫外線吸収剤;耐電防止剤;酸化防止剤;滑剤;界面活性剤などの添加剤が挙げられる。これらの成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The resin constituting the base film may contain any component other than the polymer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of the optional components include colorants such as pigments and dyes; plasticizers; fluorescent brighteners; dispersants; thermal stabilizers; light stabilizers; ultraviolet absorbers; antistatic agents; An additive such as a surfactant. These components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ただし、基材フィルムを構成する樹脂に含まれる重合体の量は、一般的には50%〜100%、又は70%〜100%である。重合体の量の割合を一定以上の高い値とすることにより、重合体の好ましい性質を良好に発現することができる。例えば、重合体が脂環式構造含有重合体である場合、透明性、低吸湿性、寸法安定性および軽量性などの利点を高い水準で享受しうる。 However, the amount of the polymer contained in the resin constituting the base film is generally 50% to 100%, or 70% to 100%. By setting the ratio of the amount of the polymer to a high value above a certain value, the preferable properties of the polymer can be expressed well. For example, when the polymer is an alicyclic structure-containing polymer, advantages such as transparency, low hygroscopicity, dimensional stability and light weight can be enjoyed at a high level.
基材フィルムは、1層のみを含む単層構造のフィルムであってもよく、2層以上の層を備える複層構造のフィルムであってもよい。
基材フィルムが2層以上の層を備える場合、一種類のフィルム層を2層以上備えていてもよく、異なる二種類以上のフィルム層を備えていてもよい。基材フィルムが複層構造を有する場合、良好な物性を有する撥水性フィルムを得る観点から、基材フィルムが備える層のうち1層以上が脂環式構造含有重合体樹脂からなることが好ましく、基材フィルムの第1表面が脂環式構造含有重合体樹脂からなることが特に好ましい。また、基材フィルムには、上述した脂環式構造含有重合体樹脂以外の樹脂からなる層を設けてもよい。脂環式構造含有重合体樹脂以外からなる層としては、例えば、反射防止、帯電防止、防眩などの機能を有するフィルム層が挙げられる。
The base film may be a single-layer film including only one layer, or may be a multilayer film having two or more layers.
When a base film is provided with two or more layers, two or more types of one type of film layer may be provided, or two or more types of different film layers may be provided. When the base film has a multilayer structure, from the viewpoint of obtaining a water-repellent film having good physical properties, it is preferable that one or more layers included in the base film are made of an alicyclic structure-containing polymer resin. It is particularly preferable that the first surface of the base film is made of an alicyclic structure-containing polymer resin. Moreover, you may provide the layer which consists of resin other than the alicyclic structure containing polymer resin mentioned above in a base film. Examples of the layer made of other than the alicyclic structure-containing polymer resin include a film layer having functions such as antireflection, antistatic, and antiglare.
本発明の製造方法により、光透過性を有する撥水性フィルムを製造する場合、製造に用いる基材フィルムは、光透過性を有するものとしうる。この場合、基材フィルムは、1mm厚換算での全光線透過率が、70%以上であることが好ましく、80%以上がより好ましい。全光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計「V−570」)を用いて測定できる。また、基材フィルムは、1mm厚でのヘイズが、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましい。ここで、ヘイズは、JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−300A」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。 When manufacturing the water-repellent film which has a light transmittance with the manufacturing method of this invention, the base film used for manufacture shall have a light transmittance. In this case, the base film preferably has a total light transmittance in terms of 1 mm thickness of 70% or more, more preferably 80% or more. The total light transmittance can be measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer “V-570”) in accordance with JIS K0115. The base film preferably has a haze at a thickness of 1 mm of 5% or less, and more preferably 3% or less. Here, the haze is an average value obtained by measuring five points using a “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. according to JIS K7361-1997.
基材フィルムは、その幅方向の寸法を、例えば1000mm〜3000mmとしうる。基材フィルムの長手方向の寸法には制限は無いが、長尺のフィルムであることが好ましい。長尺のフィルムを用いることにより、効率的な製造が可能となる。 The base film may have a width direction dimension of, for example, 1000 mm to 3000 mm. Although there is no restriction | limiting in the dimension of the longitudinal direction of a base film, It is preferable that it is a long film. By using a long film, efficient production becomes possible.
基材フィルムの平均厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは20μm以上であり、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下である。基材フィルムの厚み変動幅は、長尺方向及び幅方向にわたって、前記平均厚みの±3%以内であることが好ましい。厚み変動を前記範囲にすることにより、得られる撥水性フィルムの機械的性質及び光学性質のバラツキを小さくできる。 The average thickness of the base film is preferably 5 μm or more, more preferably 20 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less. The thickness variation width of the base film is preferably within ± 3% of the average thickness over the longitudinal direction and the width direction. By setting the thickness variation within the above range, variations in mechanical properties and optical properties of the obtained water-repellent film can be reduced.
基材フィルムが含む揮発性成分の量は、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。揮発性成分の量を前記範囲にすることにより、寸法安定性が向上し、得られる撥水性フィルムの機械的性質及び光学性質の経時変化を小さくすることができる。ここで、揮発性成分とは、分子量200以下の物質である。揮発性成分としては、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の量は、分子量200以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。 The amount of the volatile component contained in the base film is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, and further preferably 0.02% by weight or less. By setting the amount of the volatile component within the above range, the dimensional stability can be improved, and the change over time in the mechanical properties and optical properties of the resulting water-repellent film can be reduced. Here, the volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less. Examples of volatile components include residual monomers and solvents. The amount of volatile components can be quantified by analyzing by gas chromatography as the sum of substances having a molecular weight of 200 or less.
基材フィルムの製造方法に制限はない。基材フィルムは、当該基材フィルムを形成するための樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶媒を使用しない溶融押出法が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられ、中でも生産性や厚み精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。 There is no restriction | limiting in the manufacturing method of a base film. The base film is obtained by molding a resin for forming the base film by a known film forming method. Examples of the film forming method include a cast forming method, an extrusion forming method, and an inflation forming method. Among these, a melt extrusion method that does not use a solvent can reduce the amount of residual volatile components efficiently, and is preferable from the viewpoints of the global environment and work environment, and excellent manufacturing efficiency. Examples of the melt extrusion method include an inflation method using a die, and among them, a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
基材フィルムのそれぞれは、2層以上の層を備えた複層フィルムであってもよいが、良好に制御された凝集破壊を発生させる観点から、単層のフィルムであることが好ましい。 Each of the base films may be a multilayer film having two or more layers, but is preferably a single-layer film from the viewpoint of generating well-controlled cohesive failure.
〔2.2.延伸処理、及び第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとの関係〕
基材フィルムは、延伸処理を施されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸処理を施された延伸フィルムであってもよい。但し、本発明の製造方法においては、第1の基材フィルム又は前記第2の基材フィルムが延伸フィルムであり、且つ、引張弾性率が1600MPa以上2600MPa以下である。以下の説明では、別に断らない限り、第1の基材フィルムが延伸フィルムであり、且つ、引張弾性率が1600MPa以上2600MPa以下である場合について説明する。
[2.2. Stretching process and relationship between first substrate film and second substrate film]
The base film may be an unstretched film that has not been stretched, or a stretched film that has been stretched. However, in the production method of the present invention, the first base film or the second base film is a stretched film, and the tensile elastic modulus is 1600 MPa or more and 2600 MPa or less. In the following description, the case where the first base film is a stretched film and the tensile elastic modulus is 1600 MPa or more and 2600 MPa or less will be described unless otherwise specified.
延伸フィルムは、前記方法で得られた未延伸の基材フィルムを延伸することにより得られる。延伸方法は特に制限されず、例えば、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれを採用してもよい。延伸方法の例を挙げると、一軸延伸法の例としては、フィルム搬送用のロールの周速の差を利用して長尺方向に一軸延伸する方法;テンター延伸機を用いて幅方向に一軸延伸する方法等が挙げられる。また、二軸延伸法の例としては、固定するクリップの間隔を開いての長尺方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により幅方向に延伸する同時二軸延伸法;フィルム搬送用のロール間の周速の差を利用して長尺方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて幅方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法等が挙げられる。さらに、例えば、幅方向又は長尺方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いて、フィルムの幅方向に対して平行でもなく垂直でもない方向に連続的に斜め延伸する斜め延伸法を用いてもよい。 The stretched film is obtained by stretching the unstretched base film obtained by the above method. The stretching method is not particularly limited, and for example, either a uniaxial stretching method or a biaxial stretching method may be adopted. As an example of the stretching method, as an example of the uniaxial stretching method, a method of uniaxial stretching in the longitudinal direction using a difference in peripheral speed of a roll for film conveyance; uniaxial stretching in the width direction using a tenter stretching machine And the like. In addition, as an example of the biaxial stretching method, simultaneous biaxial stretching method that stretches in the width direction according to the spread angle of the guide rail at the same time as stretching in the longitudinal direction with an interval between the clips to be fixed; roll for film conveyance The biaxial stretching method such as the sequential biaxial stretching method is used in which the two ends are clipped and stretched in the width direction using a tenter stretching machine. Can be mentioned. Furthermore, it is neither parallel nor perpendicular to the width direction of the film using, for example, a tenter stretching machine that can apply a feeding force, a pulling force, or a pulling force at different speeds in the width direction or the longitudinal direction. An oblique stretching method in which oblique stretching is continuously performed in the direction may be used.
延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラー延伸機等が挙げられる。延伸温度は、延伸されるフィルムを構成する樹脂のガラス転移温度をTgとして、好ましくは(Tg−30℃)以上、より好ましくは(Tg−10℃)以上であり、好ましくは(Tg+60℃)以下、より好ましくは(Tg+50℃)以下である。 Examples of the apparatus used for stretching include a longitudinal uniaxial stretching machine, a tenter stretching machine, a bubble stretching machine, and a roller stretching machine. The stretching temperature is preferably (Tg-30 ° C) or higher, more preferably (Tg-10 ° C) or higher, preferably (Tg + 60 ° C) or lower, where Tg is the glass transition temperature of the resin constituting the stretched film. More preferably, it is (Tg + 50 ° C.) or less.
延伸倍率は、通常1.05倍以上、好ましくは1.1倍以上であり、通常10.0倍以下、好ましくは2.0倍以下である。延伸倍率を前記上限以下とすることにより、得られる撥水性フィルムの強度を所望の高い値に保つことができる。延伸倍率を前記下限以上とすることにより、第1の基材フィルムの層内における凝集破壊を良好な態様で発生させることができ、その結果、良好な品質の撥水性フィルムを容易に製造することができる。 The draw ratio is usually 1.05 times or more, preferably 1.1 times or more, and usually 10.0 times or less, preferably 2.0 times or less. By making a draw ratio below the said upper limit, the intensity | strength of the water-repellent film obtained can be kept at a desired high value. By setting the draw ratio to the above lower limit or more, cohesive failure in the layer of the first base film can be generated in a good mode, and as a result, a water-repellent film of good quality can be easily produced. Can do.
第1の基材フィルムの引張弾性率は、1600MPa以上であり、好ましくは1800MPa以上である。一方、第1の基材フィルムの引張弾性率の上限は、2600MPa以下であり、好ましくは2400MPa以下、より好ましくは2200MPa以下としうる。
引張弾性率が前記下限以上であることにより、剥離工程において、第1の基材フィルムの層内における凝集破壊を良好な態様で発生させることができ、その結果、良好な品質の撥水性フィルムを容易に製造することができる。一方、引張弾性率が前記上限以下であることにより、得られる撥水性フィルムの強度を所望の高い値に保つことができる。
The tensile modulus of the first base film is 1600 MPa or more, preferably 1800 MPa or more. On the other hand, the upper limit of the tensile elastic modulus of the first base film is 2600 MPa or less, preferably 2400 MPa or less, more preferably 2200 MPa or less.
When the tensile elastic modulus is equal to or higher than the lower limit, in the peeling step, the cohesive failure in the layer of the first base film can be generated in a good mode. It can be manufactured easily. On the other hand, when the tensile elastic modulus is not more than the above upper limit, the strength of the obtained water-repellent film can be maintained at a desired high value.
第2の基材フィルムは、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。延伸フィルムと未延伸フィルムとを対比すると、延伸フィルムのほうが、分子の絡み合いが比較的少ないため凝集破壊しやすく、従って、第2の基材フィルムとして未延伸フィルムを用いた場合、第1の基材フィルムの層内においてより良好に制御された凝集破壊を発生させることができる。但し、第2の基材フィルムが延伸フィルムである場合であっても、剥離の態様により、第1の基材フィルムの層内において制御された凝集破壊を発生させうる。第2の基材フィルムの引張弾性率は、凝集破壊を容易に発生させる観点から、好ましくは1000MPa以上としうる。上限は特に制限されないが、5000MPa以下である。 The second base film may be a stretched film or an unstretched film. When the stretched film is compared with the unstretched film, the stretched film is more likely to cause cohesive failure because the molecular entanglement is relatively small. Therefore, when the unstretched film is used as the second base film, the first base Better controlled cohesive failure can occur in the layers of the material film. However, even if the second base film is a stretched film, controlled cohesive failure can be generated in the layer of the first base film depending on the peeling mode. The tensile elastic modulus of the second base film can be preferably 1000 MPa or more from the viewpoint of easily causing cohesive failure. The upper limit is not particularly limited, but is 5000 MPa or less.
基材フィルムが2層以上の層を備える場合、予め延伸処理を施されたフィルム層を貼り合せて延伸フィルムを得てもよく、共押出等により得られた複層構造の延伸前フィルムに延伸処理を施して延伸フィルムを得てもよい。
基材フィルムのそれぞれが2層以上の層を備える場合、基材フィルムの少なくとも第1表面を構成する層が前記要件を満たす場合、前記要件を満たす基材フィルムとして、本発明の製造方法に用いうる。例えば、第1の基材フィルムが2層以上の層を備える場合、その第1表面を構成する層が引張弾性率が1600MPa以上の延伸フィルムである場合、当該フィルムを、第1の基材フィルムとして用いうる。
When the base film has two or more layers, a stretched film may be obtained by laminating a stretched film layer in advance, and stretched to a pre-stretch film having a multilayer structure obtained by coextrusion or the like. You may process and obtain a stretched film.
When each of the base films includes two or more layers, when at least the layer constituting the first surface of the base film satisfies the above requirements, the base film satisfying the above requirements is used in the production method of the present invention. sell. For example, when the first base film includes two or more layers, when the layer constituting the first surface is a stretched film having a tensile elastic modulus of 1600 MPa or more, the film is the first base film. Can be used as
〔2.3.貼合材料〕
貼合工程に際し、第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとの間に介在する貼合材料の例としては、
・第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとを接着する接着剤層を形成しうる接着剤
・第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとの間に化学的結合を形成しうるカップリング剤
等の材料が挙げられる。
[2.3. (Bonding material)
As an example of the bonding material interposed between the first base film and the second base film during the bonding step,
An adhesive capable of forming an adhesive layer that bonds the first base film and the second base film. A chemical bond is formed between the first base film and the second base film. Materials such as coupling agents that can be used.
〔2.4.接着剤〕
接着剤の例としては、水性接着剤、溶剤型接着剤、二液硬化型接着剤、光硬化型接着剤、及び感圧性接着剤が挙げられる。この中でも、光硬化型接着剤が好ましい。また、接着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
[2.4. adhesive〕
Examples of adhesives include water-based adhesives, solvent-based adhesives, two-component curable adhesives, photo-curable adhesives, and pressure-sensitive adhesives. Among these, a photocurable adhesive is preferable. Moreover, an adhesive agent may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
光硬化型接着剤としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、およびアクリルアミド誘導体を含むアクリレート系接着剤を用いることができる。これらの接着剤は、紫外線硬化型の接着剤としうる。貼合材料として、紫外線硬化型の接着剤を用いることにより、他の形式の接着剤を用いる場合及びシランカップリング剤を用いる場合に比べて、塗布及び硬化を迅速に行うことができ、高い生産性を得ることができる。 As the photocurable adhesive, for example, an acrylate adhesive containing urethane (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and acrylamide derivative can be used. These adhesives may be UV curable adhesives. By using an ultraviolet curable adhesive as the bonding material, it can be applied and cured more quickly than other types of adhesives and silane coupling agents. Sex can be obtained.
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリイソシアネートとポリオールとを反応させた後、更に水酸基含有(メタ)アクリル化合物および必要に応じて水酸基含有アリルエーテル化合物を反応させることによって、ラジカル重合性不飽和基含有オリゴマーとして得ることができる。また、ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、水酸基含有(メタ)アクリル化合物とポリオールとを反応させた後、更にポリイソシアネートを反応させることによっても得ることができる。
ウレタン(メタ)アクリレートとしては、一分子当たり2個〜3個の二重結合を有し、且つ、二重結合1個当たりの数平均分子量が500〜3000であるウレタン(メタ)アクリレートを用いることが、接着強度、柔軟性、光硬化性及び粘度等をバランスさせやすいので、好ましい。
光硬化型接着剤におけるウレタン(メタ)アクリレートの量は、通常30重量%〜50重量%である。ウレタン(メタ)アクリレートの量を前記範囲の下限値以上にすることにより、接着剤層が脆くなることを防止できる。また、上限値以下にすることにより、接着剤の粘度を低くでき、また、接着強度を高くできる。
Urethane (meth) acrylate, for example, after reacting a polyisocyanate and a polyol, further reacting a hydroxyl group-containing (meth) acryl compound and, if necessary, a hydroxyl group-containing allyl ether compound, thereby producing a radically polymerizable unsaturated group. It can be obtained as a containing oligomer. In addition, urethane (meth) acrylate can be obtained, for example, by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylic compound with a polyol and further reacting with polyisocyanate.
As urethane (meth) acrylate, use urethane (meth) acrylate having 2 to 3 double bonds per molecule and having a number average molecular weight of 500 to 3000 per double bond. However, it is preferable because it is easy to balance adhesive strength, flexibility, photocurability, viscosity, and the like.
The amount of urethane (meth) acrylate in the photocurable adhesive is usually 30% by weight to 50% by weight. By making the amount of urethane (meth) acrylate not less than the lower limit of the above range, the adhesive layer can be prevented from becoming brittle. Moreover, by making it into below an upper limit, the viscosity of an adhesive agent can be made low and adhesive strength can be made high.
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられる。それらの中でも、特にヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
光硬化型接着剤におけるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの量は、通常13重量%〜40重量%である。ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの量を前記範囲の下限値以上にすることにより、接着剤全体の親水性を適切な範囲とすることができる。また、上限値以下にすることにより、接着剤層が脆くなることを防止でき、また、接着剤の光硬化性を高くできる。
Examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate. Among these, hydroxyethyl methacrylate is particularly preferable.
The amount of hydroxyalkyl (meth) acrylate in the photocurable adhesive is usually 13 wt% to 40 wt%. By setting the amount of hydroxyalkyl (meth) acrylate to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the hydrophilicity of the entire adhesive can be set to an appropriate range. Moreover, by making it into an upper limit or less, it can prevent that an adhesive bond layer becomes weak, and can make photocurability of an adhesive agent high.
アクリルアミド誘導体としては、例えば、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミドが挙げられる。中でも、特にN,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミドが好ましい。
光硬化型接着剤におけるアクリルアミドの量は、通常0〜30重量%、好ましくは1重量%〜30重量%の範囲である。
Examples of acrylamide derivatives include N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N, N-dimethylaminoethylacrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, N-isopropylacrylamide, and N, N-dimethylamino. Examples thereof include propylacrylamide and N-hydroxyethylacrylamide. Of these, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, and N-hydroxyethylacrylamide are particularly preferable.
The amount of acrylamide in the photocurable adhesive is usually in the range of 0 to 30% by weight, preferably 1 to 30% by weight.
光硬化型接着剤は、上述した成分に加えて、イソボルニル(メタ)アクリレートを30重量%〜40重量%含むことが好ましい。イソボルニル(メタ)アクリレートを含むことで、接着剤層に耐熱性が付与される。さらに、接着性能を低下させずに塗工性能を改良するための粘度調整を容易に行うことができる。 The photocurable adhesive preferably contains 30% to 40% by weight of isobornyl (meth) acrylate in addition to the components described above. By including isobornyl (meth) acrylate, heat resistance is imparted to the adhesive layer. Furthermore, it is possible to easily adjust the viscosity for improving the coating performance without deteriorating the adhesive performance.
光硬化型接着剤は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。また、光硬化型接着剤における光重合開始剤の量は、通常2重量%〜10重量%である。 The photocurable adhesive preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4- Chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chloro Thioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino - propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, and the like. Moreover, the quantity of the photoinitiator in a photocurable adhesive agent is 2 to 10 weight% normally.
接着剤の粘度は、23℃で、通常20mPa・s以上、好ましくは30mPa・s以上、より好ましくは50mPa・s以上であり、通常5000mPa・s以下、好ましくは3000mPa・s以下、より好ましくは1500mPa・s以下である。 The viscosity of the adhesive at 23 ° C. is usually 20 mPa · s or more, preferably 30 mPa · s or more, more preferably 50 mPa · s or more, usually 5000 mPa · s or less, preferably 3000 mPa · s or less, more preferably 1500 mPa. -S or less.
接着剤を、第1の基材フィルムの第1表面と第2の基材フィルムの第1表面との間に介在させ、さらに必要に応じて硬化させることにより、貼合材料として接着剤を用いた積層体を得うる。より具体的には例えば、第1の基材フィルムの第1表面及び/又は第2の基材フィルムの第1表面に接着剤を塗布した後、ロールラミネーター等の貼合装置を用いて第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとを貼り合せ、必要に応じて乾燥又は紫外線等の光の照射を行い、接着剤層を形成しうる。 The adhesive is used as a bonding material by interposing the adhesive between the first surface of the first base film and the first surface of the second base film, and further curing as necessary. A laminated body can be obtained. More specifically, for example, after applying an adhesive to the first surface of the first base film and / or the first surface of the second base film, the first using a laminating device such as a roll laminator. The base film and the second base film can be bonded together and dried or irradiated with light such as ultraviolet rays as necessary to form an adhesive layer.
接着剤層の平均厚みは、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.3μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。接着剤層の厚みが前記上限以下であることにより、剥離時の力を基材フィルムに負荷させ、基材フィルム層内の所望の凝集破壊を容易に起こすことができる。また、接着剤層の厚みが前記下限以上であることにより、接着剤層の強度を確保し、基材フィルム層内の所望の凝集破壊を容易に起こすことができる。 The average thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. When the thickness of the adhesive layer is equal to or less than the above upper limit, a force at the time of peeling can be applied to the base film, and desired cohesive failure in the base film layer can be easily caused. Moreover, when the thickness of the adhesive layer is equal to or more than the lower limit, the strength of the adhesive layer can be ensured and desired cohesive failure in the base film layer can be easily caused.
接着剤層は、その貯蔵弾性率が、好ましくは3.00GPa以上、より好ましくは3.50GPa以上である。上限は特に制限されないが、10.0GPa以下である。貯蔵弾性率が前記範囲内であることにより、基材フィルム層内の所望の凝集破壊を容易に起こすことができる。貯蔵弾性率は、HYSITRON社製TI−950 TriboIndenterを用いて、常温、300Hz、押し込み深さ50nmの条件により測定しうる。 The storage modulus of the adhesive layer is preferably 3.00 GPa or more, more preferably 3.50 GPa or more. The upper limit is not particularly limited, but is 10.0 GPa or less. When the storage elastic modulus is within the above range, desired cohesive failure in the base film layer can be easily caused. The storage elastic modulus can be measured using a TI-950 TriboIndenter manufactured by HYSITRON under conditions of normal temperature, 300 Hz, and an indentation depth of 50 nm.
〔2.5.改質処理〕
接着剤層の形成に先立ち、基材フィルムの表面に改質処理を施し、基材フィルムと接着剤層との密着性を向上させることが好ましい。基材フィルムに対する表面改質処理としては、例えば、エネルギー線照射処理、プライマー処理、及び薬品処理等が挙げられる。エネルギー線照射処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理及びプラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。プライマー処理の例としては、基材フィルムの表面に、ポリウレタンの層を形成する処理が挙げられる。また、薬品処理としては、例えば、ケン化処理、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。
[2.5. Modification process)
Prior to the formation of the adhesive layer, it is preferable to improve the adhesion between the base film and the adhesive layer by subjecting the surface of the base film to a modification treatment. Examples of the surface modification treatment for the base film include energy ray irradiation treatment, primer treatment, and chemical treatment. Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, etc., and from the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. preferable. Examples of the primer treatment include a treatment for forming a polyurethane layer on the surface of the base film. Examples of the chemical treatment include a saponification treatment, a method of immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution and concentrated sulfuric acid, and then washing with water.
コロナ放電処理は、電極の構造として、ワイヤー電極、平面電極又はロール電極のものが好適である。電極の材質としては、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ステンレスなどの金属が挙げられる。電極形状としては、例えば、薄板状、ナイフエッジ状、ブラシ状などが挙げられる。 For the corona discharge treatment, the electrode structure is preferably a wire electrode, a planar electrode, or a roll electrode. Examples of the material of the electrode include metals such as iron, copper, aluminum, and stainless steel. Examples of the electrode shape include a thin plate shape, a knife edge shape, and a brush shape.
また、コロナ放電処理では、放電を均一にするために、処理対象のフィルムと電極との間に誘電体を挟んで処理を実施することが好ましい。誘電体としては、比誘電率が10以上のものを使用することが好ましい。また、誘電体の設置構造は、両極の電極をそれぞれ誘電体で挟んだ構造が好ましい。誘電体の材質としては、例えば、セラミック;シリコンゴム、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック;ガラス;石英;二酸化珪素;酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物;チタン酸バリウム等の化合物;などが挙げられる。特に、比誘電率10以上(25℃環境下)の固体誘電体を介在させておくことが、低電圧で高速にコロナ放電処理を行えるという点で有利である。前記比誘電率10以上の固体誘電体としては、例えば、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物;チタン酸バリウムなどの酸化物;シリコンゴムなどが挙げられる。誘電体の厚みは0.3mm〜1.5mmの範囲が好ましい。誘電体の厚みを前記範囲の下限値以上にすることにより絶縁破壊を防止できる。また、上限値以下にすることにより、印加電圧を高くする必要がなくなるので、処理効率を良くできる。 Further, in the corona discharge treatment, it is preferable to carry out the treatment by sandwiching a dielectric between the film to be treated and the electrode in order to make the discharge uniform. It is preferable to use a dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more. The dielectric structure is preferably a structure in which electrodes of both electrodes are sandwiched between dielectrics. Examples of the dielectric material include ceramics; plastics such as silicon rubber, polytetrafluoroethylene, and polyethylene terephthalate; glass; quartz; silicon dioxide; metal oxides such as aluminum oxide, zirconium dioxide, and titanium dioxide; barium titanate and the like. And the like. In particular, it is advantageous to interpose a solid dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more (under an environment of 25 ° C.) in that corona discharge treatment can be performed at a low voltage and at a high speed. Examples of the solid dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more include metal oxides such as zirconium dioxide and titanium dioxide; oxides such as barium titanate; and silicon rubber. The thickness of the dielectric is preferably in the range of 0.3 mm to 1.5 mm. Dielectric breakdown can be prevented by setting the thickness of the dielectric to be equal to or greater than the lower limit of the above range. Moreover, since it is not necessary to raise an applied voltage by making it below an upper limit, processing efficiency can be improved.
コロナ放電処理では、処理対象となるフィルムと電極との間隔は、0.5mm〜10mmであることが好ましい。間隔を前記範囲の下限値以上にすることにより、厚みの厚いフィルムであっても電極間を通すことができる。このため、例えば継ぎ目等の厚みが厚い部分を有するフィルムであっても、安定して電極間を通過させることができるので、フィルムの傷つきを防止できる。また、上限値以下にすることにより、印加電圧を低くできるので、電源を小型化でき、放電がストリーマ状になることを防止できる。 In the corona discharge treatment, the distance between the film to be treated and the electrode is preferably 0.5 mm to 10 mm. By setting the interval to be equal to or greater than the lower limit of the above range, even a thick film can be passed between the electrodes. For this reason, even if it is a film which has thick parts, such as a seam, for example, since it can pass between electrodes stably, the damage of a film can be prevented. Further, by making the voltage lower than the upper limit value, the applied voltage can be lowered, so that the power source can be miniaturized and the discharge can be prevented from becoming a streamer shape.
コロナ放電処理の出力は、処理対象面のダメージをできるだけ少なく処理する条件が好ましく、具体的には、好ましくは0.02kW以上、より好ましくは0.04kW以上であり、好ましくは5kW以下、より好ましくは2kW以下である。また、この範囲内で、可能な限り低出力で数回コロナ放電処理を施すことが、好ましいコロナ放電処理方法である。 The output of the corona discharge treatment is preferably performed under the condition that the damage to the surface to be treated is as small as possible. Specifically, it is preferably 0.02 kW or more, more preferably 0.04 kW or more, preferably 5 kW or less, more preferably Is 2 kW or less. Further, within this range, it is a preferable corona discharge treatment method to perform the corona discharge treatment several times at the lowest possible output.
コロナ放電処理の密度は、好ましくは1W・min/m2以上、より好ましくは5W・min/m2以上、特に好ましくは10W・min/m2以上であり、好ましくは1000W・min/m2以下、より好ましくは500W・min/m2以下、特に好ましくは300W・min/m2以下である。処理密度を前記範囲の下限値以上にすることにより、ウレタン組成物の塗布性を良好にできる。また、上限値以下にすることにより、処理面の破壊による防止による接着性の低下を防止できる。 The density of the corona discharge treatment is preferably 1 W · min / m 2 or more, more preferably 5 W · min / m 2 or more, particularly preferably 10 W · min / m 2 or more, preferably 1000 W · min / m 2 or less. More preferably, it is 500 W · min / m 2 or less, and particularly preferably 300 W · min / m 2 or less. By setting the treatment density to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the applicability of the urethane composition can be improved. Moreover, the fall of the adhesiveness by prevention by destruction of a process surface can be prevented by making it into an upper limit or less.
コロナ放電処理の周波数は、好ましくは5kHz以上、より好ましくは10kHz以上であり、好ましくは100kHz以下、より好ましくは50kHz以下である。周波数を前記範囲の下限値以上にすることにより、コロナ放電処理の均一性を高めることができるので、コロナ放電処理のムラを防止できる。また、上限値以下にすることにより、安定したコロナ放電処理を行うことができる。 The frequency of the corona discharge treatment is preferably 5 kHz or more, more preferably 10 kHz or more, preferably 100 kHz or less, more preferably 50 kHz or less. By setting the frequency to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, the uniformity of the corona discharge treatment can be improved, so that unevenness of the corona discharge treatment can be prevented. Moreover, the stable corona discharge process can be performed by making it below an upper limit.
コロナ放電処理は電極周辺をケーシングで囲い、ケーシングの内部に不活性ガスを入れ、電極部にガスをかけて行うと、放電をより細かい状態で発生させることができる。不活性ガスとしては、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素等が挙げられる。不活性ガスは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 When corona discharge treatment is performed by surrounding the electrode with a casing, putting an inert gas inside the casing, and applying gas to the electrode portion, the discharge can be generated in a finer state. As an inert gas, helium, argon, nitrogen etc. are mentioned, for example. An inert gas may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
改質処理としてプラズマ処理を行う場合、プラズマ放電処理としては、例えば、グロー放電処理、フレームプラズマ処理などが挙げられる。グロー放電処理としては、真空下で行う真空グロー放電処理、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理のいずれも用いうる。中でも、生産性の観点から、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理が好ましい。ここで、大気圧とは、700Torr〜780Torrの範囲である。 When performing plasma treatment as the modification treatment, examples of the plasma discharge treatment include glow discharge treatment and flame plasma treatment. As the glow discharge treatment, either a vacuum glow discharge treatment performed under vacuum or an atmospheric pressure glow discharge treatment performed under atmospheric pressure can be used. Among these, from the viewpoint of productivity, atmospheric pressure glow discharge treatment performed under atmospheric pressure is preferable. Here, the atmospheric pressure is in the range of 700 Torr to 780 Torr.
グロー放電処理は、相対する電極の間に処理対象のフィルムを置き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ、電極間においてグロー放電を行うものである。これにより、処理された面の親水性がより高められる。 In the glow discharge treatment, a film to be treated is placed between opposing electrodes, a plasma-exciting gas is introduced into the apparatus, and a high-frequency voltage is applied between the electrodes to excite the gas between the electrodes. Glow discharge is performed. This further increases the hydrophilicity of the treated surface.
プラズマ励起性気体とは、前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス;窒素;二酸化炭素;テトラフルオロメタンのようなフロン類及びそれらの混合物;アルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、カルボキシル基、水酸基、カルボニル基などの極性官能基を付与し得る反応性ガスを加えたもの;などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 A plasma-excitable gas refers to a gas that can be plasma-excited under the above conditions. Examples of the plasma-exciting gas include rare gases such as argon, helium, neon, krypton, and xenon; nitrogen; carbon dioxide; chlorofluorocarbons such as tetrafluoromethane and mixtures thereof; and inert gases such as argon and neon. , A reactive gas capable of imparting a polar functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group or a carbonyl group; Moreover, plasma excitation gas may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
プラズマ処理における高周波電圧の周波数は、1kHz〜100kHzの範囲が好ましい。電圧の大きさは、電極に印加した時の電界強度が1kV/cm〜100kV/cmとなる範囲にすることが好ましい。 The frequency of the high frequency voltage in the plasma treatment is preferably in the range of 1 kHz to 100 kHz. The magnitude of the voltage is preferably in a range in which the electric field strength when applied to the electrode is 1 kV / cm to 100 kV / cm.
改質処理としてケン化処理を行う場合、ケン化処理としては、アルカリケン化処理が好適である。処理方法としては、例えば浸漬法、アルカリ液塗布法等が挙げられ、生産性の観点から浸漬法が好ましい。 When performing a saponification process as a modification process, an alkali saponification process is suitable as the saponification process. Examples of the treatment method include an immersion method and an alkaline solution coating method, and the immersion method is preferable from the viewpoint of productivity.
ケン化処理における浸漬法は、アルカリ液の中に処理対象のフィルムを適切な条件で浸漬し、そのフィルムの全表面のアルカリと反応性を有する全ての面をケン化処理する手法である。浸漬法は、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。アルカリ液の濃度は、好ましくは0.5mol/リットル以上、より好ましくは1mol/リットル以上であり、好ましくは3mol/リットル以下、より好ましくは2mol/リットル以下である。アルカリ液の液温は、好ましくは25℃以上、より好ましくは30℃以上であり、好ましくは70℃以下、より好ましくは60℃以下である。処理された面の平均水接触角及び水接触角の標準偏差を所望の範囲に設定するためには、例えば、浸漬時間などを適宜調整する。 The dipping method in the saponification treatment is a technique in which a film to be treated is dipped in an alkaline solution under appropriate conditions, and all surfaces having reactivity with alkali on the entire surface of the film are saponified. The immersion method is preferable from the viewpoint of cost because it does not require special equipment. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. The concentration of the alkaline solution is preferably 0.5 mol / liter or more, more preferably 1 mol / liter or more, preferably 3 mol / liter or less, more preferably 2 mol / liter or less. The liquid temperature of the alkaline solution is preferably 25 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, preferably 70 ° C. or lower, more preferably 60 ° C. or lower. In order to set the average water contact angle of the treated surface and the standard deviation of the water contact angle within a desired range, for example, the dipping time is appropriately adjusted.
アルカリ液にフィルムを浸漬した後は、処理されたフィルムにアルカリ成分が残留しないように、フィルムを水で十分に水洗したり、フィルムを希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和したりすることが好ましい。 After immersing the film in the alkaline solution, the film is thoroughly washed with water so that the alkali component does not remain in the treated film, or the alkali component is neutralized by immersing the film in dilute acid. It is preferable.
改質処理として紫外線照射処理を行う場合、照射する紫外線の波長は、通常100nm〜400nmである。また、紫外線の光源であるランプの出力値は、通常120W以上、好ましくは160W以上であり、通常240W以下、好ましくは200W以下である。紫外線の照射量は、紫外線を照射される対象物に対しての紫外線の積算光量の総量で表記すると、好ましくは100mJ/cm2以上、更に好ましくは、200mJ/cm2以上、特に好ましくは300mJ/cm2以上であり、好ましくは2,000mJ/cm2以下、更に好ましくは1,500mJ/cm2以下、特に好ましくは1,000mJ/cm2以下である。積算光量の総量は、紫外線照射ランプの照度とライン速度(フィルムの移動速度)によって決まる値であり、例えば、紫外線積算照度計(アイグラフィック社製:EYEUV METER UVPF−A1)で測定しうる。 When performing ultraviolet irradiation treatment as the modification treatment, the wavelength of ultraviolet rays to be irradiated is usually 100 nm to 400 nm. The output value of the lamp, which is an ultraviolet light source, is usually 120 W or more, preferably 160 W or more, and is usually 240 W or less, preferably 200 W or less. The irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 100 mJ / cm 2 or more, more preferably 200 mJ / cm 2 or more, and particularly preferably 300 mJ / cm, when expressed as the total amount of accumulated ultraviolet light with respect to the object irradiated with ultraviolet rays. cm 2 or more, preferably 2,000 mJ / cm 2 or less, more preferably 1,500 mJ / cm 2 or less, particularly preferably 1,000 mJ / cm 2 or less. The total amount of integrated light is a value determined by the illuminance of the ultraviolet irradiation lamp and the line speed (film moving speed), and can be measured by, for example, an ultraviolet integrated illuminometer (EYEUV METER UVPF-A1 manufactured by Eye Graphic).
〔2.6.カップリング剤〕
貼合材料としてのカップリング剤の例としては、材料の表面処理に用いられるシランカップリング剤が挙げられる。
シランカップリング剤の具体的としては、
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニル基を有するもの;
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどのエポキシ基を有するもの;
p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル基を有するもの;
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシトリエトキシシランなどのメタクリロキシ基を有するもの;
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリロキシ基を有するもの;
N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチルブチリデンプロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、特殊アミノシラン(信越化学社製、KBM−6135など)などのアミノ基を有するもの;
3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド結合を有するもの;
3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのハロゲン原子を含有するもの;
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプト基を有するもの;
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド結合を有するもの;
3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基を有するもの;
等が挙げられる。これらのうちの一種を単独で用いることもでき、二種以上を組み合わせて用いることもできる。
[2.6. (Coupling agent)
As an example of the coupling agent as the bonding material, a silane coupling agent used for surface treatment of the material may be mentioned.
As specific examples of the silane coupling agent,
Having vinyl groups such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane;
Having an epoxy group such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane;
having a styryl group such as p-styryltrimethoxysilane;
Those having a methacryloxy group such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxymethyldiethoxysilane, 3-methacryloxytriethoxysilane;
Having an acryloxy group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane;
N-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane Methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidenepropylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2 -Those having an amino group such as aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, special aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-6135, etc.);
Having a ureido bond such as 3-ureidopropyltriethoxysilane;
Containing halogen atoms such as 3-chloropropyltrimethoxysilane;
Those having a mercapto group such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane;
Having a sulfide bond such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide;
Having an isocyanate group such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane;
Etc. One of these can be used alone, or two or more can be used in combination.
気化したシランカップリング剤を含むガス(以下、「処理用ガス」と呼ぶ場合がある。)を、第1の基材フィルムの第1表面及び/又は第2の基材フィルムの第1表面に接触させてこれらの表面を処理し、その後第1の基材フィルム及び第2の基材フィルムを適切な条件で圧着することにより、貼合材料としてシランカップリング剤を用いた積層体を得うる。処理用ガスによる処理は、第1の基材フィルムの第1表面及び第2の基材フィルムの第1表面の一方のみに行ってもよいが、通常はこれらの両方に行う。 Gas containing the vaporized silane coupling agent (hereinafter sometimes referred to as “treatment gas”) is applied to the first surface of the first base film and / or the first surface of the second base film. By treating these surfaces by contact, and then crimping the first substrate film and the second substrate film under appropriate conditions, a laminate using a silane coupling agent as a bonding material can be obtained. . The treatment with the treatment gas may be performed on only one of the first surface of the first base film and the first surface of the second base film, but is usually performed on both of them.
処理用ガスは、シランカップリング剤に加えて、キャリアガスを含有しうる。かかるキャリアガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスを用いうる。
処理用ガスにおけるシランカップリング剤濃度(飽和濃度を100%とした割合)は、好ましくは20%以上であり、より好ましくは40%以上であり、さらにより好ましくは60%以上であり、且つ、100%以下であり、好ましくは95%以下であり、さらに好ましくは90%以下である。シランカップリング剤濃度を飽和濃度の20%以上とすることにより、剥離工程において、第1の基材フィルムの層内における凝集破壊を良好な態様で発生させることができ、その結果、良好な品質の撥水性フィルムを容易に製造することができる。
The processing gas can contain a carrier gas in addition to the silane coupling agent. As such a carrier gas, an inert gas such as nitrogen, helium, or argon can be used.
The concentration of the silane coupling agent in the processing gas (ratio where the saturation concentration is 100%) is preferably 20% or more, more preferably 40% or more, still more preferably 60% or more, and It is 100% or less, preferably 95% or less, and more preferably 90% or less. By setting the silane coupling agent concentration to 20% or more of the saturation concentration, cohesive failure in the layer of the first base film can be generated in a good manner in the peeling step, and as a result, good quality The water-repellent film can be easily produced.
処理用ガスは、さらに、必要に応じて、水蒸気を含むことができる。水蒸気を含むことにより、高い剥離強度を与えるシランカップリング処理を、さらに効率的に達成することができる。処理用ガスにおける水蒸気の含有割合は、飽和濃度の5%〜100%とすることができる。 The processing gas can further contain water vapor as required. By containing water vapor, a silane coupling treatment that provides high peel strength can be achieved more efficiently. The content ratio of water vapor in the processing gas can be 5% to 100% of the saturation concentration.
処理用ガスは、さらに、必要に応じて、任意の気体成分を含むことができる。かかる任意の気体成分としては、メタノール、エタノールなどを挙げることができる。処理用ガスにおける任意の気体成分の含有割合は、飽和濃度の0.1%〜10%とすることができる。 The processing gas can further contain an optional gas component as required. Examples of such optional gas components include methanol and ethanol. The content ratio of an arbitrary gas component in the processing gas can be 0.1% to 10% of the saturation concentration.
シランカップリング剤を貼合材料として用いた場合、貼合材料の層の厚さは、通常5nm以下の範囲となる。 When a silane coupling agent is used as the bonding material, the thickness of the layer of the bonding material is usually in the range of 5 nm or less.
カップリング剤による処理に先立ち、基材フィルムの表面に改質処理を施し、カップリング剤の効果を向上させることが好ましい。かかる改質処理の例としては、上に述べた接着剤層の形成に先立つ改質処理と同様の処理が挙げられる。 Prior to the treatment with the coupling agent, it is preferable to modify the surface of the base film to improve the effect of the coupling agent. An example of such a modification process is the same process as the modification process prior to the formation of the adhesive layer described above.
〔3.剥離工程〕
剥離工程では、第1の基材フィルムと第2の基材フィルムとを剥離して撥水性フィルムを得る。
剥離のより具体的な操作の例としては、積層体中の第1の基材フィルム又は前記第2の基材フィルムの一方の端部を把持し、当該端部から、他の一方の端部へ剥離位置が移動するよう、把持したフィルムを引っ張ることにより、剥離を達成しうる。
基材フィルムが長尺のフィルムである場合、その長手方向を剥離方向とすることが、製造効率を高める上で好ましい。
剥離速度について特に制限はないが、剥離速度が低すぎると生産性が悪く、逆に剥離速度が高すぎると剥離時の応力が強くなり基材が破断する場合がある。したがって、基材が破断しない程度に剥離速度を速めることが、高い生産性で安定した製造を行うことができるため好ましい。
[3. (Peeling process)
In the peeling step, the first base film and the second base film are peeled to obtain a water repellent film.
As an example of a more specific operation of peeling, one end of the first base film or the second base film in the laminate is gripped, and from the end, the other end Peeling can be achieved by pulling the gripped film so that the peel position moves.
When the base film is a long film, it is preferable that the longitudinal direction is the peeling direction in order to increase the production efficiency.
There is no particular limitation on the peeling speed, but if the peeling speed is too low, the productivity is poor. Conversely, if the peeling speed is too high, the stress at the time of peeling may increase and the substrate may break. Therefore, it is preferable to increase the peeling speed to such an extent that the substrate does not break, because stable production can be performed with high productivity.
第1の基材フィルムが延伸フィルムであり且つ引張弾性率が1600MPa以上である場合は、剥離工程を行うことにより、第1の基材フィルムの層内において凝集破壊を発生させ、第1の基材フィルムの一部を、積層体の残余の部分から剥離することができる。このような凝集破壊は、第1の基材フィルムとして前記所定のものを用い、且つ、貼合材料及び第2の基材フィルムの材料並びに積層体の形成条件を適宜調節することにより達成しうる。この剥離工程により、分離された第1の基材フィルムの一部、及び積層体の残余の部分の剥離面に、凝集破壊に起因する微細な凹凸構造を形成することができ、これらの分離物はいずれも、製品たる撥水性フィルムとしうる。剥離工程により生じる凝集破壊は、第1の基材フィルムの層内のみ、又は第2の基材フィルムの層内のみにおいて発現させることが好ましく、特に、第1の基材フィルムの層内のみにおいて発現させ、それにより生業された態様の凝集破壊が発生した大面積で均質な撥水性フィルムを安定して製造することが、特に好ましい。 When the first base film is a stretched film and the tensile modulus is 1600 MPa or more, a cohesive failure is generated in the layer of the first base film by performing a peeling step, and the first base film A part of the material film can be peeled off from the remaining part of the laminate. Such cohesive failure can be achieved by using the above-mentioned predetermined one as the first base film and appropriately adjusting the material for the bonding material and the second base film and the formation conditions of the laminate. . By this peeling step, a fine uneven structure due to cohesive failure can be formed on a part of the separated first base film and the peeled surface of the remaining part of the laminate. Any of these can be a water-repellent film as a product. The cohesive failure caused by the peeling step is preferably expressed only in the layer of the first base film or only in the layer of the second base film, and particularly only in the layer of the first base film. It is particularly preferable to stably produce a large-area, homogeneous water-repellent film in which the cohesive failure of the embodiment produced and thereby produced has occurred.
図2は、図1に示した積層体を剥離工程に供して得られた一対の撥水性フィルムを模式的に示す側面図である。図1における第1の基材フィルム111は、凝集破壊することにより、その一部が、第1の撥水性フィルム211となっている。第1の基材フィルム111の残余212と、貼合材料層122と、第2の基材フィルム112は、第2の撥水性フィルム202を構成している。第1の撥水性フィルム211の剥離面211U、及び第2の撥水性フィルム202の剥離面202Dは、いずれも、第1の基材フィルム111の凝集破壊により生じた微細な凹凸構造を有する。当該剥離面は、微細な凹凸構造が無い場合に比べて、高い撥水効果を有するため、撥水面として利用しうる。 FIG. 2 is a side view schematically showing a pair of water-repellent films obtained by subjecting the laminate shown in FIG. 1 to a peeling step. A part of the first base film 111 in FIG. 1 becomes a first water-repellent film 211 by cohesive failure. The remaining 212 of the first base film 111, the bonding material layer 122, and the second base film 112 constitute a second water-repellent film 202. Both the peeling surface 211U of the first water-repellent film 211 and the peeling surface 202D of the second water-repellent film 202 have a fine concavo-convex structure generated by cohesive failure of the first base film 111. Since the release surface has a higher water repellent effect than a case where there is no fine uneven structure, it can be used as a water repellent surface.
図3は、本発明の製造方法により得られた撥水性フィルムの撥水面の一例を示す電子顕微鏡写真である。このように、凝集破壊により撥水面の表面に微細な凹凸構造が形成され、これにより、高い撥水効果を得ることができる。 FIG. 3 is an electron micrograph showing an example of the water-repellent surface of the water-repellent film obtained by the production method of the present invention. Thus, a fine concavo-convex structure is formed on the surface of the water-repellent surface due to cohesive failure, whereby a high water-repellent effect can be obtained.
〔4.撥水性フィルム〕
本発明の製造方法により、撥水性フィルムとして、上に述べた第1の撥水性フィルム及び第2の得られる撥水性フィルムが得られる。撥水性フィルムの界面は、粒子等により構成される凹凸構造とは異なり、基材フィルムにより構成される凹凸構造であるため、使用時における耐久性が高い。特に、第1の撥水性フィルムは、凹凸構造と基材とが一体になっているため、使用時における耐久性に特に優れたフィルムとしうる。
[4. (Water-repellent film)
By the production method of the present invention, the above-described first water-repellent film and second water-repellent film can be obtained as the water-repellent film. Unlike the concavo-convex structure constituted by particles or the like, the interface of the water-repellent film is a concavo-convex structure constituted by a base film, and therefore has high durability during use. In particular, the first water-repellent film can be a film that is particularly excellent in durability during use because the concavo-convex structure and the substrate are integrated.
本発明の製造方法により得られる撥水性フィルムは、水滴の付着による汚れの付着、美観の低下、視認性の低下等の不所望な現象を低減することが好ましい表面に適用しうる。例えば、降雨、結露、水の飛散等の現象により水滴が付きやすい箇所に用いる装置又は部材の表面に適用しうる。具体的には、窓、屋外又は浴室で用いる表示装置、照明等の表面に適用しうる。 The water-repellent film obtained by the production method of the present invention can be applied to a surface where it is preferable to reduce undesired phenomena such as adhesion of dirt due to adhesion of water droplets, deterioration of aesthetics, and deterioration of visibility. For example, the present invention can be applied to the surface of an apparatus or member used in a place where water droplets are easily attached due to a phenomenon such as rainfall, condensation, or water splash. Specifically, it can be applied to surfaces such as windows, display devices used outdoors or in bathrooms, and lighting.
撥水性フィルムは、適用対象の表面に、必要に応じて接着剤層等の層を介して貼付することにより使用しうる。具体的には、撥水面とは反対の面(図2に示す第1の撥水性フィルム211であれば面211D、第2の撥水性フィルム202であれば面202U)に、接着剤層を形成し、当該接着剤層を介して適用対象の表面に貼付することにより、撥水性フィルムを使用しうる。 The water-repellent film can be used by sticking to the surface to be applied through a layer such as an adhesive layer as necessary. Specifically, an adhesive layer is formed on the surface opposite to the water repellent surface (the surface 211D for the first water repellent film 211 shown in FIG. 2 and the surface 202U for the second water repellent film 202). And a water-repellent film can be used by sticking on the surface of an application object through the said adhesive bond layer.
基材フィルム(又は、図2に示す第2の撥水性フィルム202のような層構成を有する場合は基材フィルム及び貼合材料)として光透過性を有する材料を用いた場合、得られる撥水性フィルムも、光透過性を有するものとしうる。例えば、撥水性フィルムは1mm厚換算での全光線透過率を、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上としうる。また、撥水性フィルムの1mm厚換算でのヘイズを、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下としうる。このような特性を有することにより、窓及び表示装置等の、光透過性が求められる部材又は装置に、撥水性フィルムを良好に適用しうる。 The water repellency obtained when a material having optical transparency is used as the base film (or a base film and a bonding material in the case where the second water repellent film 202 shown in FIG. 2 has a layer structure). The film may also be light transmissive. For example, the water repellent film can have a total light transmittance in terms of 1 mm thickness of preferably 70% or more, more preferably 80% or more. Further, the haze in terms of 1 mm thickness of the water repellent film can be preferably 5% or less, more preferably 3% or less. By having such characteristics, the water-repellent film can be favorably applied to members or devices that require light transmission, such as windows and display devices.
撥水性フィルムの撥水面は、その平均水接触角を、好ましくは115°以上、より好ましくは120°以上としうる。基材フィルムの材質を適宜選択することにより、基材フィルムの表面が平滑であっても、110°程度の平均水接触角を得ることは可能だが、本発明の製造方法により得られる撥水性フィルムは、撥水面における微細な凹凸構造により、それよりもさらに高い平均水接触角を得ることができる。 The water repellent surface of the water repellent film can have an average water contact angle of preferably 115 ° or more, more preferably 120 ° or more. By appropriately selecting the material of the base film, it is possible to obtain an average water contact angle of about 110 ° even if the surface of the base film is smooth, but the water repellent film obtained by the production method of the present invention Can obtain an even higher average water contact angle due to the fine uneven structure on the water repellent surface.
前記の平均水接触角は、接触角計を用いてθ/2法により求めうる。
平均水接触角は、例えば、測定対象の表面において、100cm2の範囲内で無作為に選んだ20点の水接触角を測定し、この測定値の加算平均により算出される。
The average water contact angle can be determined by the θ / 2 method using a contact angle meter.
The average water contact angle is calculated, for example, by measuring 20 water contact angles randomly selected within a range of 100 cm 2 on the surface of the measurement target and adding the measured values.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
また、以下の説明において、量を示す「部」及び「%」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof are not deviated from. Any change can be made.
Further, in the following description, “parts” and “%” indicating amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.
〔評価方法の説明〕
(引張弾性率)
フィルムの引張弾性率は、JIS K7113に則り、引張試験機(インストロン社製、5564型デジタル材料試験機)にて、長手方向(MD方向)及び幅方向(TD方向)それぞれのフィルムの引張弾性率を測定した。測定条件は、引張速度を5m/分、試験回数を5回、室温を23℃、湿度を50%RHとした。引張弾性率の測定におけるひずみ測定は、試験片中央部に50mmの間隔をあけ点を打ち、2点の間隔をビデオ伸び計(インストロン社製)にて測定した。
[Explanation of evaluation method]
(Tensile modulus)
The tensile modulus of the film is in accordance with JIS K7113, and the tensile elasticity of the film in the longitudinal direction (MD direction) and in the width direction (TD direction) with a tensile tester (Instron, 5564 type digital material tester). The rate was measured. The measurement conditions were a tensile speed of 5 m / min, a test count of 5 times, a room temperature of 23 ° C., and a humidity of 50% RH. In the measurement of the tensile modulus, the strain was measured by placing a point at a distance of 50 mm in the center of the test piece and measuring the distance between the two points with a video extensometer (manufactured by Instron).
(接触角)
JISR3257:1999に準拠し、撥水性フィルムの撥水面の接触角を測定した。
協和界面科学株式会社製 自動接触角計(型名:DropMaster500)を用い、液滴として蒸留水を使用し接触角を求めた。
(Contact angle)
The contact angle of the water repellent surface of the water repellent film was measured according to JIS R3257: 1999.
Using an automatic contact angle meter (model name: DropMaster500) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the contact angle was determined using distilled water as droplets.
(貯蔵弾性率)
接着層の貯蔵弾性率は、得られた積層体の一部から、接着剤層を剥離して取り出し試料とし、HYSITRON社製TI−950 TriboIndenterを用いて、常温、300Hz、押し込み深さ50nmの条件にて測定した。
(Storage modulus)
The storage elastic modulus of the adhesive layer was obtained by peeling the adhesive layer from a part of the obtained laminate and using it as a sample, using TI-950 TriboIndenter manufactured by HYSITRON at room temperature, 300 Hz, and an indentation depth of 50 nm. Measured at
〔実施例1〕
(1−1.第2の基材フィルム:未延伸フィルムの製造)
ノルボルネン系重合体(商品名「ZEONOR 1420」、日本ゼオン社製;ガラス転移温度Tg136℃)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて100℃で、4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター(濾過精度30μm)を設置した50mmの単軸押出機と内面に表面粗さRa=0.15μmのクロムメッキを施した650mm幅のT型ダイスを用いて260℃で押出した。押出されたシート状のノルボルネン系重合体を第1冷却ドラム(直径250mm、温度:135℃、周速度R1:25.7m/分)に密着させ、次いで第2冷却ドラム(直径250mm、温度125℃、周速度R2:25.7m/分)、次いで第3冷却ドラム(直径250mm、温度100℃、周速度R3:25.5m/分)に順次密着させて移送し、幅600mm、長さ300mの未延伸フィルム1を得た。これらの移送経路のうち、T型ダイスの開口部から押出されたシート状のノルボルネン系重合体が最初に密着する第1冷却ドラムまでをアルミ製の囲い部材で覆い、かつ前記囲い部材からシート状の溶融樹脂が最初に密着する冷却ドラムまでの距離を80mmとした。得られた未延伸フィルム1の引張弾性率を測定したところ1650MPaであった。
[Example 1]
(1-1. Second base film: Production of unstretched film)
A pellet of a norbornene polymer (trade name “ZEONOR 1420”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature Tg 136 ° C.) was dried at 100 ° C. for 4 hours using a hot air dryer in which air was circulated. The pellets were then used with a 50 mm single-screw extruder provided with a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy 30 μm) and a 650 mm wide T-die with a surface roughness Ra = 0.15 μm chrome plated. And extruded at 260 ° C. The extruded sheet-shaped norbornene polymer was brought into close contact with the first cooling drum (diameter 250 mm, temperature: 135 ° C., peripheral speed R1: 25.7 m / min), and then the second cooling drum (diameter 250 mm, temperature 125 ° C.). , Peripheral speed R2: 25.7 m / min), and then transferred in close contact with the third cooling drum (diameter 250 mm, temperature 100 ° C., peripheral speed R3: 25.5 m / min), with a width of 600 mm and a length of 300 m. An unstretched film 1 was obtained. Of these transfer paths, the sheet-shaped norbornene-based polymer extruded from the opening of the T-shaped die is covered with an aluminum enclosure member to the first contact with the first cooling drum, and the enclosure member forms a sheet form. The distance to the cooling drum to which the molten resin first adhered was 80 mm. It was 1650 MPa when the tensile elasticity modulus of the obtained unstretched film 1 was measured.
(1−2.第1の基材フィルム:延伸フィルムの製造)
(1−1)で作製した未延伸フィルム1をそのまま連続してフローティング方式の縦延伸装置に供給し、140℃、1.3倍の条件で縦延伸を行った後、さらに連続してテンターに供給した。テンター内では、フィルムを、145℃、1.5倍で進行方向に対し直角方向に延伸した。これにより、延伸フィルム1を得た。得られた延伸フィルム1の引張弾性率を測定したところ1630MPaであった。
(1-2. First base film: production of stretched film)
The unstretched film 1 produced in (1-1) is continuously supplied to a floating-type longitudinal stretching apparatus as it is, and after longitudinal stretching is performed at 140 ° C. and 1.3 times, further continuously into a tenter. Supplied. In the tenter, the film was stretched in a direction perpendicular to the traveling direction at 145 ° C. and 1.5 times. Thereby, the stretched film 1 was obtained. It was 1630 MPa when the tensile elasticity modulus of the obtained stretched film 1 was measured.
(1−3.貼合工程:積層体の製造)
図1に模式的に示す構造を有する積層体を、下記の操作により製造した。
(1−2)で得られた延伸フィルム1(図1中の第1の基材フィルム111に相当)の一方の表面及び(1−1)で得られた未延伸フィルム1(図1中の第2の基材フィルム112に相当)の一方の表面に、コロナ処理装置(春日電機社製)を用いて、出力500W、電極長1.35m、搬送速度5m/minの条件で放電処理を施した。
延伸フィルム1及び未延伸フィルム1の放電処理された面を、UV硬化タイプ接着剤を介して貼合した。貼合に際しては、市販のラミネータ(アコブランズジャパン社製GLM320R4)を用いた。この時の貼合圧力は1.1MPaであった。貼合に際しては、全面を貼合するのではなく、剥離のために把持する不貼合部分(図1中の不貼合部分111G及び112Gに相当)を残して貼合した。UV硬化タイプ接着剤としては、東亜合成社製、商品名「アロニックス7300K」を用い、接着剤層の厚みは、硬化後の厚みが2μmとなるよう調整した。
得られた貼合物に、未延伸フィルム1側からUV照射(メタルハライドランプ 500mW/m2、2000mJ/m2)を行い、接着剤を硬化させ、接着剤層(図1中の貼合部材122に相当)を形成し、積層体を得た。得られた接着剤層の貯蔵弾性率は、3.9GPaであった。
(1-3. Bonding step: production of laminate)
A laminate having the structure schematically shown in FIG. 1 was produced by the following operation.
One surface of the stretched film 1 obtained in (1-2) (corresponding to the first base film 111 in FIG. 1) and the unstretched film 1 obtained in (1-1) (in FIG. 1) One surface of the second substrate film 112) is subjected to a discharge treatment using a corona treatment device (Kasuga Denki Co., Ltd.) under conditions of an output of 500 W, an electrode length of 1.35 m, and a conveyance speed of 5 m / min. did.
The discharge-treated surfaces of the stretched film 1 and the unstretched film 1 were bonded via a UV curable adhesive. In pasting, a commercially available laminator (GLM320R4 manufactured by Acobrands Japan) was used. The bonding pressure at this time was 1.1 MPa. In pasting, the entire surface was not pasted, but pasting was performed while leaving unbonded portions (corresponding to the unbonded portions 111G and 112G in FIG. 1) to be gripped for peeling. As the UV curable adhesive, product name “Aronix 7300K” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd. was used, and the thickness of the adhesive layer was adjusted to 2 μm after curing.
The obtained paste is subjected to UV irradiation (metal halide lamp 500 mW / m 2 , 2000 mJ / m 2 ) from the unstretched film 1 side to cure the adhesive, and the adhesive layer (bonding member 122 in FIG. 1). To obtain a laminate. The storage modulus of the obtained adhesive layer was 3.9 GPa.
(1−4.剥離工程)
図2に模式的に示す構造を有する撥水性フィルムを、下記の操作により製造した。
(1−3)で得られた積層体を、延伸フィルム1の縦延伸方向が長手方向になるように、100mm×25mmの長方形にカットした。
カットした積層体を、引張り試験器(インストロンジャパン社製「引っ張り試験機5564」)に、長手方向が剥離方向になるようにセットし、不貼合部分にチャックを取り付けて把持し、180°方向でT型剥離(未延伸フィルム1及び延伸フィルム1のそれぞれが、剥離箇所において90°曲がった状態で、これらを反対方向に牽引する剥離)するように300mm/minの速度で引張を行なった。引張の結果、延伸フィルム1の層内において凝集破壊が生じ、延伸フィルム1の一部が、残余の部分から剥離された。これにより、延伸フィルム1の当該剥離された部分を第1の撥水性フィルム(図2中の撥水性フィルム211に相当)として得、残余の部分を、第2の撥水性フィルム(図2中の撥水性フィルム202に相当)として得た。得られた第1及び第2の撥水性フィルムにおいては、撥水面即ち凝集破壊が発生した側の面において、微小な凹凸構造が形成されていた。
(1-4. Peeling process)
A water-repellent film having a structure schematically shown in FIG. 2 was produced by the following operation.
The laminate obtained in (1-3) was cut into a rectangle of 100 mm × 25 mm so that the longitudinal stretching direction of the stretched film 1 was the longitudinal direction.
The cut laminate is set in a tensile tester (“Tensile Testing Machine 5564” manufactured by Instron Japan Co., Ltd.) so that the longitudinal direction is the peeling direction, a chuck is attached to the non-bonded portion, and gripped, 180 ° Tension was performed at a speed of 300 mm / min so that T-type peeling was performed in the direction (each of the unstretched film 1 and the stretched film 1 was peeled by pulling them in the opposite direction in a state where the unstretched film 1 was bent at 90 °). . As a result of the tension, cohesive failure occurred in the layer of the stretched film 1, and a part of the stretched film 1 was peeled off from the remaining portion. Thus, the peeled portion of the stretched film 1 is obtained as a first water-repellent film (corresponding to the water-repellent film 211 in FIG. 2), and the remaining portion is obtained as a second water-repellent film (in FIG. 2). Obtained as a water-repellent film 202). In the obtained first and second water-repellent films, a fine concavo-convex structure was formed on the water-repellent surface, that is, the surface where cohesive failure occurred.
(1−5.評価)
得られた第1及び第2の撥水性フィルムの撥水面の接触角を評価した。
(1-5. Evaluation)
The contact angle of the water repellent surface of the obtained first and second water repellent films was evaluated.
〔実施例2〕
(2−1.第2の基材フィルム:未延伸フィルムの製造)
第1冷却ドラムの周速度R1を10.05m/分、第2冷却ドラムの周速度R2を10.05m/s、及び第3冷却ドラムの周速度R3を9.98m/分とした他は、実施例1の(1−1)の未延伸フィルム1の製造と同様にして、未延伸フィルム2を得た。
[Example 2]
(2-1. Second base film: Production of unstretched film)
The peripheral speed R1 of the first cooling drum was 10.05 m / min, the peripheral speed R2 of the second cooling drum was 10.05 m / s, and the peripheral speed R3 of the third cooling drum was 9.98 m / min. The unstretched film 2 was obtained in the same manner as in the production of the unstretched film 1 of (1-1) in Example 1.
(2−2.第1の基材フィルム:延伸フィルムの製造)
(1−1)で得た未延伸フィルム1に代えて、(2−1)で得た未延伸フィルム2を用いた他は、実施例1の(1−2)の延伸フィルム1の製造と同様にして、延伸フィルム2を得た。得られた延伸フィルム2の引張弾性率を測定したところ2580MPaであった。
(2-2. First base film: production of stretched film)
In place of the unstretched film 1 obtained in (1-1), except that the unstretched film 2 obtained in (2-1) was used, the production of the stretched film 1 in (1-2) of Example 1 was carried out. Similarly, a stretched film 2 was obtained. It was 2580 MPa when the tensile elasticity modulus of the obtained stretched film 2 was measured.
(2−3.積層体、撥水性フィルムの製造及び評価)
延伸フィルム1に代えて、(2−2)で得た延伸フィルム2を用いた他は、実施例1の(1−3)〜(1−5)と同様にして((1−3)においては、未延伸フィルムについては、実施例1と同様に未延伸フィルム1を使用)、積層体及び撥水性フィルムを製造して評価した。
(2-3. Manufacture and evaluation of laminate and water-repellent film)
Instead of the stretched film 1, the same procedure as in (1-3) to (1-5) of Example 1 except that the stretched film 2 obtained in (2-2) was used ((1-3) The unstretched film was evaluated by producing a laminate and a water-repellent film using the unstretched film 1 as in Example 1.
〔実施例3〕
(3−1.貼合工程:積層体の製造)
実施例1の(1−2)で得られた延伸フィルム1の一方の表面及び実施例1の(1−1)で得られた未延伸フィルム1の一方の表面に、コロナ処理装置(春日電機社製)を用いて、出力500W、電極長1.35m、搬送速度5m/分の条件で放電処理を施した。
Example 3
(3-1. Bonding step: production of laminate)
On one surface of the stretched film 1 obtained in (1-2) of Example 1 and one surface of the unstretched film 1 obtained in (1-1) of Example 1, a corona treatment device (Kasuga Electric) The product was discharged under the conditions of an output of 500 W, an electrode length of 1.35 m, and a conveyance speed of 5 m / min.
シランカップリング剤(信越シリコーン社製KBM−903)を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、放電処理された延伸フィルム1を入れ、シランカップリング剤の液面がフィルムに触れないようにして、25℃で15分間保持し、ベーパー処理法によるシランカップリング処理を行なった。 A small amount of a silane coupling agent (KBM-903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was placed in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. The stretched film 1 subjected to the discharge treatment was put therein, and the silane coupling agent was subjected to silane coupling treatment by a vapor treatment method while keeping the liquid level of the silane coupling agent in contact with the film for 15 minutes.
一方、シランカップリング剤(信越シリコーン社製KBM−403)を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、放電処理された未延伸フィルム1を入れ、シランカップリング剤の液面がフィルムに触れないようにして、25℃で15分間保持し、ベーパー処理法によるシランカップリング処理を行なった。 On the other hand, a small amount of a silane coupling agent (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was put in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. Here, the unstretched film 1 subjected to the discharge treatment was put, and the liquid surface of the silane coupling agent was kept at 25 ° C. for 15 minutes so that the liquid level of the silane coupling agent did not touch the film, and a silane coupling treatment by a vapor treatment method was performed.
延伸フィルム1の放電処理及びシランカップリング処理された面と、未延伸フィルム1の放電処理及びシランカップリング処理された面とを合わせた後、ラミネータ(日本GBC社製GLM320R4)を用いて圧着貼合した。圧着貼合の条件は、圧力0.4MPa、及び温度130℃とした。貼合に際しては、全面を貼合するのではなく、剥離のために把持する不貼合部分を残して貼合した。これにより、積層体を得た。 After aligning the surface of the stretched film 1 that has been subjected to the discharge treatment and silane coupling treatment and the surface of the unstretched film 1 that has been subjected to the discharge treatment and silane coupling treatment, pressure bonding using a laminator (GLM320R4 manufactured by Nippon GBC). Combined. The pressure bonding conditions were a pressure of 0.4 MPa and a temperature of 130 ° C. In pasting, the entire surface was not pasted, but pasting was performed leaving a non-bonded portion to be gripped for peeling. This obtained the laminated body.
(3−2.剥離工程)
(3−1)で得られた積層体を、延伸フィルム1の縦延伸方向が長手方向になるように、100mm×25mmの長方形にカットした。
カットした積層体を、引張り試験器(インストロンジャパン社製「引っ張り試験機5564」)に、長手方向が剥離方向になるようにセットし、不貼合部分にチャックを取り付けて把持し、180°方向でT型剥離するように300mm/minの速度で引張を行なった。引張の結果、延伸フィルム1の層内において凝集破壊が生じ、延伸フィルム1の一部が、残余の部分から剥離された。これにより、延伸フィルム1の当該剥離された部分を第1の撥水性フィルムとして得、残余の部分を、第2の撥水性フィルムとして得た。得られた第1及び第2の撥水性フィルムにおいては、撥水面即ち凝集破壊が発生した側の面において、微小な凹凸構造が形成されていた。
(3-2. Peeling step)
The laminate obtained in (3-1) was cut into a rectangle of 100 mm × 25 mm so that the longitudinal stretching direction of the stretched film 1 was the longitudinal direction.
The cut laminate is set in a tensile tester (“Tensile Testing Machine 5564” manufactured by Instron Japan Co., Ltd.) so that the longitudinal direction is the peeling direction, a chuck is attached to the non-bonded portion, and gripped, 180 ° Tensioning was performed at a speed of 300 mm / min so as to peel the T-shape in the direction. As a result of the tension, cohesive failure occurred in the layer of the stretched film 1, and a part of the stretched film 1 was peeled off from the remaining portion. Thereby, the peeled part of the stretched film 1 was obtained as the first water-repellent film, and the remaining part was obtained as the second water-repellent film. In the obtained first and second water-repellent films, a fine concavo-convex structure was formed on the water-repellent surface, that is, the surface where cohesive failure occurred.
(3−3.評価)
得られた第1及び第2の撥水性フィルムの撥水面の接触角を評価した。
(3-3. Evaluation)
The contact angle of the water repellent surface of the obtained first and second water repellent films was evaluated.
〔参考例1〕
実施例1の(1−2)で得られた延伸フィルムの一方の面について接触角を測定した。
[Reference Example 1]
The contact angle was measured on one side of the stretched film obtained in (1-2) of Example 1.
〔比較例1〕
延伸フィルムとして、(1−2)で得られたものに代えて、2軸延伸PETフィルム(東洋紡社製 コスモシャインA4300 膜厚100μm)を用いた他は、実施例1の(1−1)及び(1−3)〜(1−5)と同様にして、第1及び第2の撥水性フィルムを得て評価した。但し、(1−3)における積層体のカットは、カットする前の長尺の2軸延伸PETフィルムの長手方向が、カットされた積層体の長手方向に一致するように行った。
[Comparative Example 1]
As the stretched film, instead of the one obtained in (1-2), a biaxially stretched PET film (Cosmo Shine A4300 film thickness 100 μm manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used. In the same manner as (1-3) to (1-5), first and second water-repellent films were obtained and evaluated. However, the cut of the laminate in (1-3) was performed so that the longitudinal direction of the long biaxially stretched PET film before cutting coincided with the longitudinal direction of the cut laminate.
〔比較例2〕
(1−2)で得られた延伸フィルムに代えて、未延伸のポリビニルアルコールフィルム(厚さ80μm)を用いた他は、実施例1の(1−1)及び(1−3)〜(1−5)と同様にして、第1及び第2の撥水性フィルムを得て評価した。但し、積層体を構成するフィルムがいずれも異方性の無いフィルムであるので、(1−3)における積層体のカットは、任意のある方向が長手方向になるように行った。
[Comparative Example 2]
(1-1) and (1-3) to (1) of Example 1 except that an unstretched polyvinyl alcohol film (thickness 80 μm) was used instead of the stretched film obtained in (1-2). In the same manner as in −5), first and second water-repellent films were obtained and evaluated. However, since the film which comprises a laminated body is a film without anisotropy, the cut of the laminated body in (1-3) was performed so that arbitrary arbitrary directions may become a longitudinal direction.
実施例及び比較例の概要及び評価結果を、表1に示す。 Table 1 shows the outline and evaluation results of Examples and Comparative Examples.
表1の結果より、本発明の製造方法により、高い撥水性を有する撥水性フィルムを容易に製造しうることが分かる。 From the results in Table 1, it can be seen that a water-repellent film having high water repellency can be easily produced by the production method of the present invention.
100:積層体
111:第1の基材フィルム
111G:不貼合部分
112:第2の基材フィルム
112G:不貼合部分
122:貼合材料
211:第1の撥水性フィルム
212:第1の基材フィルムの残余
202:第2の撥水性フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100: Laminated body 111: 1st base film 111G: Non-bonding part 112: 2nd base film 112G: Non-bonding part 122: Bonding material 211: 1st water-repellent film 212: 1st Residue 202 of base film: second water repellent film
Claims (3)
前記第1の基材フィルムと前記第2の基材フィルムとを剥離して撥水性フィルムを得る剥離工程を含み、
前記第1の基材フィルム又は前記第2の基材フィルムが、
延伸フィルムであり、且つ、引張弾性率が1600MPa以上2600MPa以下である、
撥水性フィルムの製造方法。 The 1st surface of the 1st substrate film and the 1st surface of the 2nd substrate film are pasted together via a pasting material, and the pasting process which obtains a layered product, and the 1st base material Including a peeling step of peeling the film and the second base film to obtain a water-repellent film,
The first base film or the second base film is
It is a stretched film and has a tensile elastic modulus of 1600 MPa to 2600 MPa,
A method for producing a water-repellent film.
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