JP2012218196A

JP2012218196A - Method for manufacturing optical film

Info

Publication number: JP2012218196A
Application number: JP2011083378A
Authority: JP
Inventors: Masanori Ninomiya; 正紀二宮; Katsunori Takada; 勝則高田; Yasuo Yamaguchi; 康雄山口; Hiroyuki Takemoto; 博之武本
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2011-04-05
Filing date: 2011-04-05
Publication date: 2012-11-12

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing capable of stably performing continuous processing of an optical film with excellent appearance to which an irregular shape is accurately transferred with good reproducibility.SOLUTION: The method for manufacturing an optical film includes an application step of forming a coating layer by applying an active energy beam cure resin composition on at least one surface of a transparent substrate film; a transfer step of supplying the transparent substrate film with the coating layer formed thereon between an irregular roll and a nip roll disposed oppositely to the irregular roll to transfer the shape of irregularities on the surface of the irregular roll to the coating layer; and a curing step of curing the coating layer to form an irregular layer. The width of the coating layer is wider than the width of the nip roll.

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an optical film.

光の反射を防止する機能または光を拡散させる機能を発揮する光学フィルムとして、表面に凹凸形状を有する光学フィルムが多用されている。このような光学フィルムの製造方法としては、微細な凹凸形状を有する凹凸ロールの凹凸部に硬化型樹脂組成物を充填し、当該凹凸ロールにフィルム基材を接触させると同時に硬化型樹脂組成物を硬化させて、凹凸形状の転写された光学フィルムを得る方法が知られている（例えば、特許文献１）。しかし、この方法では、フィルム基材が滑りやすく、凹凸形状を精密に転写することが困難である。また、外観上の欠点も発生しやすい。 As an optical film that exhibits a function of preventing reflection of light or a function of diffusing light, an optical film having a concavo-convex shape on its surface is frequently used. As a method for producing such an optical film, a curable resin composition is filled in a concavo-convex portion of a concavo-convex roll having a fine concavo-convex shape, and at the same time a curable resin composition is brought into contact with the concavo-convex roll. A method for obtaining an optical film having a concavo-convex shape by curing is known (for example, Patent Document 1). However, with this method, the film substrate is slippery and it is difficult to accurately transfer the uneven shape. In addition, appearance defects are likely to occur.

このような問題を解決する方法として、表面に樹脂液層が形成されているフィルム基材を、凹凸ロールと当該凹凸ロールに対向配置されるニップロールとで挟圧した後に、樹脂液を硬化させる方法が提案されている（特許文献２、３）。しかし、この方法では、凹凸ロールとニップロールとの間に樹脂液が溜まったり、凹凸ロールが樹脂液に汚染されるという問題がある。これらの問題が生じた場合、フィルム基材の破断が生じ、安定して連続加工することが困難となる。 As a method for solving such a problem, a method of curing a resin liquid after sandwiching a film substrate having a resin liquid layer formed on the surface between a concavo-convex roll and a nip roll disposed to face the concavo-convex roll. Has been proposed (Patent Documents 2 and 3). However, this method has a problem that the resin liquid is accumulated between the uneven roll and the nip roll, or the uneven roll is contaminated by the resin liquid. When these problems occur, the film base material breaks, and it becomes difficult to perform stable continuous processing.

特許第４２８７１０９号Japanese Patent No. 4287109 特開２００７−１０６０２５号公報JP 2007-106025 A 特開２００７−１１８４４９号公報JP 2007-118449 A

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、凹凸ロールの汚染を防いで、精密かつ再現性よく凹凸形状の転写された外観に優れる光学フィルムを、安定して連続加工し得る製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in order to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to prevent the contamination of the uneven roll, and to provide an optical film excellent in the appearance of the transferred uneven shape with high precision and reproducibility. Another object of the present invention is to provide a production method capable of stable and continuous processing.

本発明の光学フィルムの製造方法は、透明基材フィルムの少なくとも一方の面に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を塗布して塗布層を形成する塗布工程と、該塗布層が形成された透明基材フィルムを、凹凸ロールと該凹凸ロールと対向配置されるニップロールとの間に供給して、該塗布層に凹凸ロール表面の凹凸を形状転写させる転写工程と、該塗布層を硬化して、凹凸層を形成する硬化工程とを含み、該塗布層の幅が該ニップロールの幅よりも広い。
好ましい実施形態においては、上記塗布工程後、上記転写工程前に、上記塗布層の粘度を塗布時よりも上昇させる粘度調整工程をさらに含む。
好ましい実施形態においては、上記粘度調整工程において、上記塗布層に活性エネルギー線を照射する。
好ましい実施形態においては、上記活性エネルギー線の発光ピーク波長が３８０ｎｍ〜４５０ｎｍである。
好ましい実施形態においては、上記硬化工程が、上記透明基材フィルム側から活性エネルギー線を照射して上記塗布層を硬化させることを含む。
好ましい実施形態においては、上記硬化工程において、硬化処理を段階的に行う。
好ましい実施形態においては、上記硬化工程において、１段階目の硬化を上記凹凸ロール上で行い、２段階目の硬化を上記塗布層の形成された透明基材フィルムを該凹凸ロールから剥離した後に行い、２段階目の硬化においては、該塗布層側から活性エネルギー線を照射することを含む。
本発明の別の局面によれば、光学フィルムが提供される。この光学フィルムは、上記凹凸層の幅方向両端部または幅方向両端部の近傍に、該凹凸層の幅方向中央部よりも厚みが大きい厚膜部を有する。
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は、上記製造方法により得られた光学フィルムを含む。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記製造方法により得られた光学フィルムを含む。 The method for producing an optical film of the present invention includes an application step of applying an active energy ray-curable resin composition to at least one surface of a transparent substrate film to form an application layer, and a transparent substrate on which the application layer is formed. A material film is supplied between the concavo-convex roll and a nip roll disposed opposite to the concavo-convex roll, and a transfer process for transferring the shape of the concavo-convex surface of the concavo-convex roll to the coating layer, and curing the coating layer, A curing step of forming a layer, wherein the width of the coating layer is wider than the width of the nip roll.
In a preferred embodiment, the method further includes a viscosity adjusting step for increasing the viscosity of the coating layer after the coating step and before the transfer step.
In a preferred embodiment, the coating layer is irradiated with active energy rays in the viscosity adjusting step.
In a preferred embodiment, the emission peak wavelength of the active energy ray is 380 nm to 450 nm.
In preferable embodiment, the said hardening process includes irradiating an active energy ray from the said transparent base material film side, and hardening the said coating layer.
In preferable embodiment, in the said hardening process, a hardening process is performed in steps.
In a preferred embodiment, in the curing step, the first-stage curing is performed on the concave-convex roll, and the second-stage curing is performed after peeling the transparent substrate film on which the coating layer is formed from the concave-convex roll. The second-stage curing includes irradiating active energy rays from the coating layer side.
According to another aspect of the present invention, an optical film is provided. This optical film has thick film portions having a thickness larger than that of the uneven layer in the width direction at both ends or in the vicinity of both ends in the width direction.
According to another aspect of the present invention, a polarizing plate is provided. This polarizing plate contains the optical film obtained by the said manufacturing method.
According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device includes an optical film obtained by the above manufacturing method.

本発明によれば、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を、ニップロール幅よりも広い幅で透明基材フィルムに塗布した後、当該透明基材フィルムを凹凸ロールとニップロールとの間に供給することにより、凹凸ロールの汚染を防いで、精密かつ再現性よく凹凸形状の転写された外観に優れる光学フィルムを安定して連続加工することができる。 According to the present invention, the active energy ray-curable resin composition is applied to the transparent base film with a width wider than the nip roll width, and then the transparent base film is supplied between the uneven roll and the nip roll. In addition, it is possible to stably and continuously process an optical film that prevents the contamination of the concavo-convex roll and is excellent in the transferred appearance of the concavo-convex shape with high precision and reproducibility.

本発明の光学フィルムの一実施の形態に係る製造方法を示す概略図である。It is the schematic which shows the manufacturing method which concerns on one Embodiment of the optical film of this invention. 本発明の一実施の形態に係る製造方法により得られる光学フィルムの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the optical film obtained by the manufacturing method which concerns on one embodiment of this invention. （ａ）は、本発明の製造方法における、塗布層２０の幅と各ロールの幅の関係を示す断面図であり、（ｂ）は当該幅の関係を示す斜視図である。(A) is sectional drawing which shows the relationship between the width | variety of the application layer 20, and the width | variety of each roll in the manufacturing method of this invention, (b) is a perspective view which shows the relationship of the said width | variety. （ａ）は、本発明の製造方法おける塗布層２０の厚みおよび幅の変動を説明する図であり、（ｂ）は従来の製造方法における塗布層２０の厚みおよび幅の変動を説明する図である。(A) is a figure explaining the fluctuation | variation of the thickness and the width | variety of the coating layer 20 in the manufacturing method of this invention, (b) is a figure explaining the fluctuation | variation of the thickness and the width | variety of the coating layer 20 in the conventional manufacturing method. is there.

図１は、本発明の光学フィルムの一実施の形態に係る製造方法を示す概略図である。本実施の形態では、例えば、本発明の製造方法は、透明基材フィルム１０の少なくとも一方の面（図示例では、片面）に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を塗布して塗布層２０を形成する塗布工程と、該塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を、凹凸ロール１と該凹凸ロール１と対向配置されるニップロール２との間に供給して、該塗布層２０に凹凸ロール１表面の凹凸を形状転写させる転写工程と、該塗布層２０を硬化して、凹凸層２１を形成する硬化工程とを含む。なお、転写工程においては、塗布層２０が凹凸ロール１と、透明基材フィルム１０がニップロール２と接触するようにして、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を当該両ロール間に供給して挟圧する。ニップロール２を用いて挟圧することにより、精密かつ再現性よく外観に優れる光学フィルムを得ることができる。本発明の製造方法は、溶媒を用いるか否かに関わらず、凹凸層２１表面に凹凸形状を形成させることができる。溶剤を用いない場合は、非防曝型の装置が使用可能となり、結果的に、低コストで光学フィルムを生産することができる。 FIG. 1 is a schematic view showing a production method according to an embodiment of the optical film of the present invention. In the present embodiment, for example, in the manufacturing method of the present invention, the active energy ray-curable resin composition is applied to at least one surface (in the illustrated example, one surface) of the transparent substrate film 10 to form the coating layer 20. A transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed is supplied between the concavo-convex roll 1 and the nip roll 2 disposed opposite to the concavo-convex roll 1, and the concavo-convex roll is applied to the coating layer 20. 1 includes a transfer step of transferring the shape of the irregularities on the surface and a curing step of curing the coating layer 20 to form the uneven layer 21. In the transfer step, the transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed is supplied between the two rolls so that the coating layer 20 is in contact with the uneven roll 1 and the transparent base film 10 is in contact with the nip roll 2. And pinch. By pressing with the nip roll 2, an optical film excellent in appearance can be obtained with high precision and reproducibility. The manufacturing method of the present invention can form a concavo-convex shape on the surface of the concavo-convex layer 21 regardless of whether or not a solvent is used. When a solvent is not used, a non-exposure type apparatus can be used, and as a result, an optical film can be produced at low cost.

図２は、本発明の一実施の形態に係る製造方法により得られる光学フィルムの概略断面図である。本発明の製造方法によれば、透明基材フィルム１０上に表面に微細な凹凸（図示せず）を有する凹凸層２１を有する光学フィルム１００が得られる。また、図示しないが、１つの実施形態においては、本発明の光学フィルムは、後述するように、凹凸層の幅方向両端部または幅方向両端部の近傍に厚膜部を有する。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an optical film obtained by the manufacturing method according to one embodiment of the present invention. According to the manufacturing method of the present invention, the optical film 100 having the uneven layer 21 having fine unevenness (not shown) on the surface on the transparent substrate film 10 is obtained. Moreover, although not shown in figure, in one embodiment, the optical film of this invention has a thick film part in the width direction both ends or the vicinity of the width direction both ends of an uneven | corrugated layer so that it may mention later.

図３（ａ）は、本発明の製造方法における、塗布工程における塗布層２０の幅と、各ロールの幅の関係とを示す模式断面図であり、図３（ｂ）は当該幅の関係を示す斜視図である。本発明においては、塗布層幅Ｙを、ニップロール幅Ｂよりも広くなるように設定する。 Fig.3 (a) is a schematic cross section which shows the width | variety of the coating layer 20 in the application | coating process in the manufacturing method of this invention, and the relationship of the width of each roll, FIG.3 (b) shows the relationship of the said width | variety. It is a perspective view shown. In the present invention, the coating layer width Y is set to be wider than the nip roll width B.

より好ましくは、透明基材フィルム幅Ｘ、塗布層幅Ｙ、凹凸ロール幅Ａおよびニップロール幅Ｂは、図３に示すように、凹凸ロール幅Ａ＞透明基材フィルム幅Ｘ≧塗布層幅Ｙ＞ニップロール幅Ｂとなるように設定される。これらの幅がこのような関係にあれば、凹凸ロール１の汚染を防いで、精密かつ再現性よく凹凸形状の転写された光学フィルムを安定的に連続加工することができる。なお、本明細書において、凹凸ロール幅およびニップロールロール幅とは、それぞれのロールにおけるロール面の幅をいう。 More preferably, the transparent substrate film width X, the coating layer width Y, the concavo-convex roll width A, and the nip roll width B are, as shown in FIG. 3, the concavo-convex roll width A> transparent substrate film width X ≧ application layer width Y>. The nip roll width B is set. If these widths have such a relationship, contamination of the concavo-convex roll 1 can be prevented, and an optical film having a concavo-convex shape transferred thereon can be stably and continuously processed with high precision and reproducibility. In the present specification, the concavo-convex roll width and the nip roll roll width refer to the width of the roll surface in each roll.

上記塗布層幅Ｙは、ニップロール幅Ｂに対して、好ましくは１０１％〜１３０％であり、より好ましくは１０２％〜１１０％である。このような幅で塗布すれば、凹凸ロール１の汚染を防いで、かつ、製造ロスを少なくすることができる。 The coating layer width Y is preferably 101% to 130% and more preferably 102% to 110% with respect to the nip roll width B. If it apply | coats with such a width | variety, the contamination of the uneven | corrugated roll 1 can be prevented and manufacturing loss can be decreased.

図４（ａ）は、本発明の製造方法における塗布層２０の厚みおよび幅の変動を説明する図であり、図４（ｂ）は従来の製造方法における塗布層２０の厚みおよび幅の変動を説明する図である。本発明においては、上記のように、塗布層幅Ｙを、ニップロール幅Ｂよりも広くなるように設定する。こうすることにより、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を、転写工程において、凹凸ロール１とニップロール２とにより挟圧した際、塗布層２０の幅方向の両端部分にはニップロール２による圧がかからないので、塗布層幅Ｙの両端側への拡大を抑制できる。挟圧時の塗布層幅Ｙの拡大を抑制することにより、転写工程前に透明基材フィルム１０との接触履歴がない塗布層部分（すなわち、凹凸ロール１とニップロール２とにより挟圧されることによって幅方向の両側へ広がった部分であり、挟圧されて初めて透明基材フィルム１０と接触する塗布層部分）の発生を防ぐことができる。一方、図４（ｂ）に示すように、塗布時の塗布層幅Ｙ’がニップロール幅Ｂ以下である従来の製造方法においては、挟圧時に塗布層幅Ｙ’が両端側へ拡大して、転写工程前に透明基材フィルム１０との接触履歴のない塗布層部分２０ｂが生じる。 FIG. 4A is a diagram for explaining fluctuations in the thickness and width of the coating layer 20 in the manufacturing method of the present invention, and FIG. 4B shows fluctuations in the thickness and width of the coating layer 20 in the conventional manufacturing method. It is a figure explaining. In the present invention, as described above, the coating layer width Y is set to be wider than the nip roll width B. By carrying out like this, when the transparent base film 10 in which the coating layer 20 is formed is sandwiched between the uneven roll 1 and the nip roll 2 in the transfer step, both ends of the coating layer 20 in the width direction are formed by the nip roll 2. Since no pressure is applied, expansion of the coating layer width Y to both ends can be suppressed. By suppressing the expansion of the coating layer width Y at the time of clamping, the coating layer part having no contact history with the transparent substrate film 10 before the transfer step (that is, being sandwiched between the concavo-convex roll 1 and the nip roll 2) Therefore, it is possible to prevent the occurrence of a coating layer portion that comes into contact with the transparent base film 10 only after being pressed. On the other hand, as shown in FIG. 4 (b), in the conventional manufacturing method in which the coating layer width Y ′ at the time of coating is equal to or less than the nip roll width B, the coating layer width Y ′ is expanded to both end sides during clamping, The coating layer portion 20b having no contact history with the transparent base film 10 is generated before the transfer step.

本発明によれば、上記のとおり、透明基材フィルム１０と転写工程前に接触履歴がない塗布層部分の発生を防ぎ、塗布層２０は、その全体において、転写工程前に透明基材フィルム１０と接触履歴があるので、凹凸ロール１の汚染を防止することができる。このように、凹凸ロール１の汚染が防止される理由は、以下のメカニズムによるものと推察される。すなわち、転写工程前に透明基材フィルム１０との接触履歴がある塗布層２０は、例えば、上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の透明基材フィルム１０への浸透、塗布層２０と透明基材フィルム１０との間の分子間相互作用、塗布層２０および透明基材フィルム１０の形成成分の反応等により、透明基材フィルム１０との密着性が高くなる。本発明における塗布層２０は、その全体において、透明基材フィルム１０に対する密着性が高いので、凹凸ロール１は、汚染が少なく、清浄な状態が保たれる。その結果、光学フィルムを安定的に連続加工することができる。一方、転写工程前に透明基材フィルム１０との接触履歴のない塗布層部分２０ｂが生じる従来の製造方法においては、当該部分の透明基材フィルム１０に対する密着性は低い。このため、当該部分からの塗布層成分（代表的には、活性エネルギー線硬化型樹脂）が、凹凸形状を有して表面積の大きい凹凸ロール１側へ付着しやすくなる。なお、本発明は上記メカニズムによって限定されない。 According to the present invention, as described above, it is possible to prevent the occurrence of a coating layer portion having no contact history before the transfer process with the transparent substrate film 10, and the coating layer 20 in its entirety before the transfer process. Since there is a contact history, contamination of the uneven roll 1 can be prevented. Thus, it is guessed that the reason that contamination of the uneven roll 1 is prevented is due to the following mechanism. That is, the coating layer 20 having a contact history with the transparent substrate film 10 before the transfer step is, for example, the penetration of the active energy ray-curable resin composition into the transparent substrate film 10, the coating layer 20 and the transparent substrate. Due to the intermolecular interaction with the film 10, the reaction of the components forming the coating layer 20 and the transparent base film 10, etc., the adhesiveness with the transparent base film 10 becomes high. Since the coating layer 20 in the present invention has high adhesion to the transparent substrate film 10 as a whole, the uneven roll 1 is less contaminated and is kept clean. As a result, the optical film can be continuously processed stably. On the other hand, in the conventional manufacturing method in which the coating layer portion 20b having no contact history with the transparent substrate film 10 is produced before the transfer step, the adhesiveness of the portion to the transparent substrate film 10 is low. For this reason, the coating layer component (typically, the active energy ray-curable resin) from the portion tends to adhere to the uneven roll 1 side having an uneven shape and a large surface area. In addition, this invention is not limited by the said mechanism.

Ａ．塗布工程
塗布工程は、任意の適切な塗布手段（図１の塗布手段４）により、透明基材フィルム１０の少なくとも一方の面に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を塗布して塗布層２０を形成する工程である。 A. Application Step The application step forms the application layer 20 by applying the active energy ray-curable resin composition to at least one surface of the transparent substrate film 10 by any appropriate application means (application means 4 in FIG. 1). It is a process to do.

上記透明基材フィルム１０は、代表的には、透明でかつ光学的に複屈折の少ない樹脂を含むフィルムで構成される。このような樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂；塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂；イミド系樹脂；スルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ビニルアルコール系樹脂；塩化ビニリデン系樹脂；ビニルブチラール系樹脂；アリレート系樹脂；ポリオキシメチレン系樹脂；エポキシ系樹脂；およびこれらのブレンドが挙げられる。好ましくは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ビニルアルコール系樹脂または（メタ）アクリル系樹脂である。 The transparent base film 10 is typically composed of a film containing a resin that is transparent and optically has little birefringence. Specific examples of such resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; cellulose resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; polycarbonate resins; acrylic resins such as polymethyl methacrylate; polystyrene and acrylonitrile.・ Styrene resins such as styrene copolymers; polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin resins such as ethylene / propylene copolymers; vinyl chloride resins, amide resins such as nylon and aromatic polyamide Imide resin, sulfone resin, polyether sulfone resin, polyether ether ketone resin, polyphenylene sulfide resin, vinyl alcohol resin, vinylidene chloride Fats; vinyl butyral resins; arylate resin; polyoxymethylene-based resin, epoxy-based resins; and blends thereof. Triacetyl cellulose (TAC), vinyl alcohol resin or (meth) acrylic resin is preferable.

上記透明基材フィルム１０は偏光子であってもよい。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、代表的には、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製される。延伸は染色した後に行ってもよいし、染色しながら延伸してもよいし、延伸してから染色してもよい。延伸、染色以外にも、例えば、膨潤、架橋、調整、水洗、乾燥等の処理が施されて作製される。 The transparent substrate film 10 may be a polarizer. Examples of the polarizer include hydrophilic polymers such as polyvinyl alcohol film, partially formalized polyvinyl alcohol film, and ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified film, and two colors such as iodine and dichroic dye. Examples thereof include polyene-based oriented films such as those obtained by adsorbing a functional substance and uniaxially stretched, polyvinyl alcohol dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products. Among these, a polarizer obtained by adsorbing a dichroic substance such as iodine on a polyvinyl alcohol film and uniaxially stretching is particularly preferable because of its high polarization dichroic ratio. Polarizers that are uniaxially stretched by adsorbing iodine to a polyvinyl alcohol film are typically produced by immersing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine and stretching it 3 to 7 times the original length. The Stretching may be performed after dyeing, may be performed while dyeing, or may be performed after stretching. In addition to stretching and dyeing, for example, treatments such as swelling, crosslinking, adjustment, washing with water, and drying are performed.

上記透明基材フィルム１０は、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。 The transparent substrate film 10 may contain any appropriate additive depending on the purpose. Examples of additives include hindered phenol-based, phosphorus-based and sulfur-based antioxidants; light-resistant stabilizers, weather-resistant stabilizers, heat stabilizers and other stabilizers; reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; Infrared absorbers; flame retardants such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; antistatic agents such as anionic, cationic and nonionic surfactants; coloring of inorganic pigments, organic pigments, dyes, etc. Agents; organic fillers and inorganic fillers; resin modifiers; organic fillers and inorganic fillers; plasticizers; lubricants; antistatic agents; flame retardants; The kind, combination, content, and the like of the additive to be contained can be appropriately set according to the purpose and desired characteristics.

上記透明基材フィルム１０には、必要に応じて、塗布層２０との密着性を向上させるために表面処理を施してもよい。表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理、易接着処理等が挙げられる。 The transparent substrate film 10 may be subjected to a surface treatment as necessary in order to improve the adhesion with the coating layer 20. Examples of the surface treatment include low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment, and easy adhesion treatment.

上記透明基材フィルム１０の厚みは、好ましくは１０μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜３００μｍであり、さらに好ましくは４０μｍ〜１００μｍである。 The thickness of the transparent substrate film 10 is preferably 10 μm to 500 μm, more preferably 30 μm to 300 μm, and still more preferably 40 μm to 100 μm.

上記透明基材フィルム幅Ｘは、光学フィルムの用途に応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは０．１ｍ〜３ｍであり、より好ましくは０．４ｍ〜２ｍである。 The said transparent base film width X can be set to arbitrary appropriate values according to the use of an optical film. Preferably it is 0.1m-3m, More preferably, it is 0.4m-2m.

上記透明基材フィルム１０の光透過率は、好ましくは４０％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。このような範囲であれば、後工程の硬化工程において、透明基材フィルム１０側から活性エネルギー線を照射して（例えば、図１の硬化手段５ａにより、活性エネルギー線を照射して）、塗布層２０を硬化させることができるので、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を凹凸ロール１に巻き付けた状態で硬化処理を行うことができる。このように硬化処理を行えば、精密かつ再現性よく凹凸形状を転写することができる。 The light transmittance of the transparent substrate film 10 is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. If it is such a range, in the subsequent curing step, the active energy ray is irradiated from the transparent substrate film 10 side (for example, the active energy ray is irradiated by the curing means 5a in FIG. 1), and coating is performed. Since the layer 20 can be cured, the curing treatment can be performed in a state where the transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed is wound around the uneven roll 1. By performing the curing process in this way, the uneven shape can be transferred with high precision and reproducibility.

上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、活性エネルギー線（紫外線や電子線など）を照射して硬化し得る活性エネルギー線硬化型樹脂を含む。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、（メタ）アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、エポキシ系等のモノマー、オリゴマーおよびポリマーが挙げられる。好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の不飽和基を２個以上有する。 The active energy ray-curable resin composition includes an active energy ray-curable resin that can be cured by irradiation with active energy rays (such as ultraviolet rays and electron beams). Examples of the active energy ray curable resin include monomers, oligomers, and polymers such as polyester, (meth) acrylic, urethane, silicone, and epoxy. Preferably, the active energy ray curable resin has two or more unsaturated groups such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group.

上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、好ましくは、任意の適切な光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス-（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、チオキサントン系化合物等が挙げられる。 The active energy ray-curable resin composition preferably contains any appropriate photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenone, benzophenone, xanthone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, benzoinpropyl ether, benzyldimethyl Ketal, N, N, N ′, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,4,6 -Trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, bis- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, thioxanthone compounds and the like.

上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、レベリング剤、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤、溶媒等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。 The active energy ray-curable resin composition may further include any appropriate additive. Examples of additives include leveling agents, anti-blocking agents, dispersion stabilizers, thixotropic agents, antioxidants, UV absorbers, antifoaming agents, thickeners, dispersants, surfactants, catalysts, fillers, and lubricants. , Antistatic agents, solvents and the like. The kind, combination, content, and the like of the additive to be contained can be appropriately set according to the purpose and desired characteristics.

上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、塗布方法に適した粘度に調整するために、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、析出物、相分離、白濁等が生じず均一に他の成分と混合し得る限り、任意の適切な溶媒を採用し得る。溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン，３−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。なお、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が溶媒を含む場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物塗布後、転写工程前に溶媒を揮発、乾燥することが好ましい。 The active energy ray-curable resin composition may contain a solvent in order to adjust the viscosity to be suitable for the coating method. Any appropriate solvent can be adopted as the solvent as long as no precipitates, phase separation, white turbidity, etc. occur and the solvent can be mixed uniformly with other components. Examples of the solvent include dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK). , Diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate, Acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 1-pentanol 2-methyl-2-butanol, cyclohexanol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol Examples thereof include monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, when an active energy ray-curable resin composition contains a solvent, it is preferable to volatilize and dry the solvent after the application of the active energy ray-curable resin composition and before the transfer step.

上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の塗布方法は、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、任意の適切なコーターを用いる方法が挙げられる。コーターとしては、例えば、コンマロールコーター、ダイロールコーター、グラビアロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどが挙げられる。 Arbitrary appropriate methods can be employ | adopted for the coating method of the said active energy ray hardening-type resin composition. For example, a method using any appropriate coater can be mentioned. Examples of the coater include a comma roll coater, a die roll coater, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, and a spray coater.

上記塗布層２０の転写工程前の厚みは、好ましくは２μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは３μｍ〜２０μｍであり、さらに好ましくは５μｍ〜１０μｍである。膜厚が薄すぎると、良好な凹凸形状を形成することができないおそれがある。一方、膜厚が厚すぎると、次工程の転写工程において、凹凸ロール１とニップロール２とにより挟圧された際、塗布層２０が幅方向両側に流動して生じる厚膜部の厚みが厚くなりすぎ、フィルムが破断するおそれがある。なお、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が溶媒を含む場合、上記塗布層２０の転写工程前の厚みとは、当該溶媒を揮発、乾燥させた後の厚みをいう。 The thickness of the coating layer 20 before the transfer step is preferably 2 μm to 30 μm, more preferably 3 μm to 20 μm, and further preferably 5 μm to 10 μm. If the film thickness is too thin, there is a possibility that a good uneven shape cannot be formed. On the other hand, if the film thickness is too thick, the thickness of the thick film portion that is generated when the coating layer 20 flows on both sides in the width direction becomes thick when sandwiched between the uneven roll 1 and the nip roll 2 in the next transfer process. The film may break. When the active energy ray-curable resin composition contains a solvent, the thickness of the coating layer 20 before the transfer step refers to the thickness after the solvent is volatilized and dried.

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物塗布時の塗布層２０（すなわち、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物）の粘度は、採用する塗布方法により塗布が可能であれば限定されず、例えば、５ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓである。 The viscosity of the coating layer 20 at the time of application of the active energy ray-curable resin composition (that is, the active energy ray-curable resin composition) is not limited as long as it can be applied by the application method employed, for example, 5 mPa · s. ~ 1000 mPa · s.

上記塗布工程後、転写工程前に、上記塗布層２０の粘度を塗布時よりも上昇させる粘度調整工程を設けてもよい。転写工程前に、塗布層２０の粘度を上昇させてその流動性を低下させれば、転写工程において塗布層２０の形成された透明基材フィルム１０を挟圧する際に生じ得る塗布層幅Ｙの広がりをより良好に抑制することができる。塗布層２０の粘度を上昇させる方法としては、例えば、塗布層２０に活性エネルギー線を照射する方法、塗布層２０を冷却する方法等が挙げられる。 You may provide the viscosity adjustment process which raises the viscosity of the said coating layer 20 rather than the time of application | coating after the said application | coating process and before a transfer process. If the viscosity of the coating layer 20 is increased and its fluidity is lowered before the transfer step, the coating layer width Y can be generated when the transparent substrate film 10 on which the coating layer 20 is formed is clamped in the transfer step. Spreading can be suppressed more favorably. Examples of the method for increasing the viscosity of the coating layer 20 include a method of irradiating the coating layer 20 with active energy rays, a method of cooling the coating layer 20, and the like.

上記粘度調整工程においては、例えば、図１に示す硬化手段５ｂにより、上記塗布層２０に活性エネルギー線を照射することが好ましい。図１に示すように、活性エネルギー線は、塗布層２０側から照射することが好ましい。活性エネルギー線源としては、例えば、ＬＥＤランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。活性エネルギー線の発光ピーク波長は、好ましくは３８０ｎｍ〜４５０ｎｍであり、より好ましくは３９０ｎｍ〜４１０ｎｍである。このような範囲であれば、照射量により硬化度を制御でき、塗布層２０の最表層が硬化することなく、塗布層２０の粘度を上昇させることができる。粘度調整工程における活性エネルギー線の照射積算光量は、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であり、より好ましくは８０ｍＪ／ｃｍ^２〜１８０ｍＪ／ｃｍ^２である。 In the viscosity adjusting step, it is preferable to irradiate the coating layer 20 with active energy rays, for example, by the curing means 5b shown in FIG. As shown in FIG. 1, the active energy ray is preferably irradiated from the coating layer 20 side. Examples of the active energy ray source include an LED lamp, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. The emission peak wavelength of the active energy ray is preferably 380 nm to 450 nm, and more preferably 390 nm to 410 nm. Within such a range, the degree of curing can be controlled by the irradiation amount, and the viscosity of the coating layer 20 can be increased without curing the outermost layer of the coating layer 20. Irradiation integrated light quantity of the active energy ray in the viscosity adjusting step is preferably ^{^{50mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2}} , more preferably ^{^{80mJ / cm 2 ~180mJ / cm 2}} .

上記粘度調整工程を設ける場合、粘度調整工程後の塗布層２０の粘度は、好ましくは１０，０００，０００ｍＰａ・ｓ〜１００，０００，０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは３０，０００，０００ｍＰａ・ｓ〜５０，０００，０００ｍＰａ・ｓである。このような範囲であれば、転写工程において、転写工程において塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を挟圧する際に生じ得る塗布層幅Ｙの拡大をより良好に抑制しつつも、塗布層２０に凹凸形状を転写することができる。 When the viscosity adjusting step is provided, the viscosity of the coating layer 20 after the viscosity adjusting step is preferably 10,000,000 mPa · s to 100,000,000 mPa · s, more preferably 30,000,000 mPa · s. ˜50,000,000 mPa · s. Within such a range, in the transfer step, the coating layer width Y that can be generated when the transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed in the transfer step is clamped is more effectively suppressed, while the application is suppressed. The uneven shape can be transferred to the layer 20.

上記塗布工程後、転写工程前に、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０をプレヒートしてもよい。プレヒートすれば、塗布層２０と透明基材フィルム１０との密着性が高くなり、転写工程において凹凸ロール１の汚染をより良好に防止することができる。プレヒートの温度は、好ましくは、５０℃〜１４０℃である。プレヒートの時間は、好ましくは、３０秒〜５分である。上記粘度調整工程を設ける場合、プレヒートは、粘度調整工程の前に行われることが好ましい。 The transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed may be preheated after the coating step and before the transfer step. If preheating is performed, the adhesiveness between the coating layer 20 and the transparent substrate film 10 is increased, and contamination of the uneven roll 1 can be better prevented in the transfer step. The preheating temperature is preferably 50 ° C to 140 ° C. The preheating time is preferably 30 seconds to 5 minutes. When providing the said viscosity adjustment process, it is preferable that preheating is performed before a viscosity adjustment process.

Ｂ．転写工程
転写工程は、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を、凹凸ロール１と該凹凸ロール１と対向配置されるニップロール２との間に供給して、該塗布層２０に凹凸ロール１表面の凹凸を形状転写させる工程である。 B. Transfer process The transfer process supplies the transparent substrate film 10 on which the coating layer 20 is formed between the concavo-convex roll 1 and the nip roll 2 disposed opposite to the concavo-convex roll 1, so that the concavo-convex roll is applied to the coating layer 20. This is a step of transferring the shape of unevenness on one surface.

上記凹凸ロール１は、表面に微細な凹凸パターンを有するロールである。凹凸パターンの形状、凸部の間隔および凹部深さは、所望とする光学フィルムの特性に応じて、適切な値に設定され得る。 The uneven roll 1 is a roll having a fine uneven pattern on the surface. The shape of the concavo-convex pattern, the interval between the convex portions, and the depth of the concave portions can be set to appropriate values according to the desired characteristics of the optical film.

上記凹凸ロール幅Ａは、代表的には、０．３ｍ〜２ｍである。 The uneven roll width A is typically 0.3 m to 2 m.

上記凹凸ロール１の外径は、好ましくは１５０ｍｍ〜１５００ｍｍであり、より好ましくは６００ｍｍ〜１２００ｍｍである。凹凸ロール１の外径が１５０ｍｍ以上であれば、次工程（硬化工程）において、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を凹凸ロール１に巻き付けた状態で硬化処理を行う場合に、効率よく硬化処理を行うことができる。 The outer diameter of the uneven roll 1 is preferably 150 mm to 1500 mm, and more preferably 600 mm to 1200 mm. When the outer diameter of the concave-convex roll 1 is 150 mm or more, in the next step (curing step), when the curing treatment is performed in a state where the transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed is wound around the concave-convex roll 1, the efficiency is increased. The curing process can be performed well.

上記凹凸ロール１表面には、離型処理を施してもよい。これにより、凹凸ロールの汚染を抑制し得る。離型処理としては、例えば、フッ素樹脂によるコーティングが挙げられる。 A release treatment may be performed on the surface of the uneven roll 1. Thereby, contamination of the uneven roll can be suppressed. Examples of the mold release treatment include coating with a fluororesin.

上記ニップロール２は、好ましくは、弾性体で形成される。弾性体としては、好ましくは、シリコンゴムが用いられる。ニップロール２の表面硬度は、ＪＩＳＫ６２５３に準じて測定されるゴム硬度で、代表的には３０度〜８０度である。 The nip roll 2 is preferably formed of an elastic body. As the elastic body, silicon rubber is preferably used. The surface hardness of the nip roll 2 is a rubber hardness measured according to JIS K 6253, and is typically 30 to 80 degrees.

上記ニップロール幅Ｂは、代表的には、０．２ｍ〜１．８ｍである。 The nip roll width B is typically 0.2 m to 1.8 m.

上記ニップロール２により加えられるニップ圧は、好ましくは０．２ＭＰａ／ｍ〜３ＭＰａ／ｍであり、より好ましくは０．８ＭＰａ／ｍ〜１．７ＭＰａ／ｍである。このような範囲であれば、精密かつ再現性よく外観に優れる光学フィルムを得ることができる。 The nip pressure applied by the nip roll 2 is preferably 0.2 MPa / m to 3 MPa / m, more preferably 0.8 MPa / m to 1.7 MPa / m. If it is such a range, the optical film which is excellent in precision and reproducibility and excellent in an external appearance can be obtained.

１つの実施形態においては、図４に示すように、塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０が、凹凸ロール１とニップロール２とにより挟圧された際、ニップ圧により挟圧された塗布層２０が幅方向両側に流動し、挟圧後、塗布層２０のニップロール２に対応する部分（被挟圧部分）の両外側に厚膜部２０ａが生じる。本発明においては、上記のように、塗布層成分が凹凸ロールに付着しないので、塗布層の厚膜部は、硬化工程後まで残存する（すなわち、硬化して凹凸層の厚膜部２１ａとなる）。その結果、得られた光学フィルムは、両端部または両端部近傍に厚膜部を有する。厚膜部を有する光学フィルムは、ブロッキングや巻締りが防止され、光学フィルムを円滑にロール状に巻き取ることができる。このようにロール状に巻き取られた光学フィルムは、他の光学部材（例えば、偏光子）と積層して光学積層体（例えば、偏光板）を作製する際の原反として有効に用いられ得る。 In one embodiment, as shown in FIG. 4, when the transparent base film 10 on which the coating layer 20 is formed is sandwiched between the uneven roll 1 and the nip roll 2, the coating is sandwiched by the nip pressure. The layer 20 flows on both sides in the width direction, and after the pinching, thick film portions 20a are formed on both outer sides of the portion corresponding to the nip roll 2 (the portion to be pinched) of the coating layer 20. In the present invention, as described above, since the coating layer component does not adhere to the concavo-convex roll, the thick film portion of the coating layer remains until after the curing step (that is, is cured to become the thick film portion 21a of the concavo-convex layer. ). As a result, the obtained optical film has thick film portions at both ends or in the vicinity of both ends. The optical film having a thick film portion is prevented from blocking or tightening, and the optical film can be smoothly wound into a roll. Thus, the optical film wound up in roll shape can be effectively used as a raw material when producing an optical laminated body (for example, a polarizing plate) by laminating with another optical member (for example, a polarizer). .

Ｃ．硬化工程
硬化工程は、塗布層２０を硬化して、凹凸層２１を形成する工程である。塗布層２０を硬化することにより、塗布層２０に形成された凹凸形状が固定化される。 C. Curing Step The curing step is a step of curing the coating layer 20 to form the uneven layer 21. By curing the coating layer 20, the uneven shape formed in the coating layer 20 is fixed.

上記塗布層２０の硬化は、代表的には、活性エネルギー線を照射して行う。図１に示すように、活性エネルギー線の照射は、透明基材フィルム１０側から行うことが好ましく、塗布層２０の形成された透明基材フィルム１０を凹凸ロール１に巻き付けた状態、すなわち塗布層２０が凹凸ロール１に接触した状態で、透明基材フィルム１０側から行うことがより好ましい。このようにすれば、精密かつ再現性よく凹凸形状が転写された光学フィルムを製造することができる。 The coating layer 20 is typically cured by irradiating active energy rays. As shown in FIG. 1, the irradiation of active energy rays is preferably performed from the transparent substrate film 10 side, and the transparent substrate film 10 on which the coating layer 20 is formed is wound around the uneven roll 1, that is, the coating layer. It is more preferable to carry out from the transparent base film 10 side in a state where 20 is in contact with the uneven roll 1. In this way, an optical film having a concavo-convex shape transferred with precision and reproducibility can be produced.

上記活性エネルギー線源としては、例えば、ＬＥＤランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。活性エネルギー線の発光ピーク波長は、好ましくは２５０ｎｍ〜４５０ｎｍである。活性エネルギー線の発光ピーク波長は、使用する透明基材フィルム１０の種類に応じて設定することが好ましい。より詳細には、透明基材フィルム１０側から活性エネルギー線の照射を行うことが好ましいことから、透明基材フィルム１０が吸収しない領域に発光ピーク波長をもつ活性エネルギー線源を使用すれば、塗布層２０を効率良く硬化でき、精密かつ再現性よく凹凸形状を固定化することができる。 Examples of the active energy ray source include an LED lamp, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. The emission peak wavelength of the active energy ray is preferably 250 nm to 450 nm. The emission peak wavelength of the active energy ray is preferably set according to the type of the transparent substrate film 10 to be used. More specifically, since it is preferable to irradiate the active energy ray from the transparent substrate film 10 side, if an active energy ray source having an emission peak wavelength is used in a region that the transparent substrate film 10 does not absorb, it is applied. The layer 20 can be efficiently cured, and the uneven shape can be fixed accurately and reproducibly.

硬化工程における活性エネルギー線の照射積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２〜６００ｍＪ／ｃｍ^２であり、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ^２〜４００ｍＪ／ｃｍ^２である。 Irradiation integrated light quantity of the active energy ray in the curing step is preferably ^{^{100mJ / cm 2 ~600mJ / cm 2}} , more preferably ^{^{200mJ / cm 2 ~400mJ / cm 2}} .

上記塗布層２０の硬化は、段階的に行ってもよい。塗布層２０を段階的に硬化させれば、耐擦傷性に優れる光学フィルムを得ることができる。塗布層２０を段階的に硬化させる場合、第一段階目の硬化（半硬化）は、上記のように塗布層２０の形成された透明基材フィルム１０を凹凸ロール１に巻き付けた状態で透明基材フィルム１０側から活性エネルギー線を照射して（すなわち、図１に示す硬化手段５ａにより活性エネルギー線を照射して）行い、第２段階目の硬化（本硬化）は塗布層２０が形成された透明基材フィルム１０を凹凸ロール１から剥離（代表的には、図１に示すように、剥離ロール３を用いて剥離）した後、塗布層２０側から活性エネルギー線を照射して（すなわち、図１に示す硬化手段５ａ’により活性エネルギー線を照射して）行うことが好ましい。 The coating layer 20 may be cured stepwise. If the coating layer 20 is cured stepwise, an optical film having excellent scratch resistance can be obtained. When the coating layer 20 is cured stepwise, the first-stage curing (semi-curing) is performed in a state where the transparent substrate film 10 on which the coating layer 20 is formed is wound around the uneven roll 1 as described above. The active energy ray is irradiated from the side of the material film 10 (that is, the active energy ray is irradiated by the curing means 5a shown in FIG. 1), and the coating layer 20 is formed in the second stage curing (main curing). The peeled transparent substrate film 10 is peeled from the concavo-convex roll 1 (typically peeled off using the peeling roll 3 as shown in FIG. 1), and then irradiated with active energy rays from the coating layer 20 side (that is, The irradiation is preferably performed by irradiating active energy rays with the curing means 5a ′ shown in FIG.

上記塗布層２０を硬化して得られる凹凸層２１の厚みは、厚膜部が生じない場合、好ましくは１μｍ〜２０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜１０μｍである。また、厚膜部が生じる場合、厚膜部以外の部分の厚みは、好ましくは１μｍ〜２０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜１０μｍであり、厚膜部の厚みは、厚膜部以外の部分（具体的には、幅方向中央部）よりも１μｍ以上厚いことが好ましい。 The thickness of the uneven layer 21 obtained by curing the coating layer 20 is preferably 1 μm to 20 μm, and more preferably 5 μm to 10 μm, when no thick film portion is generated. Moreover, when a thick film part arises, the thickness of parts other than a thick film part becomes like this. Preferably they are 1 micrometer-20 micrometers, More preferably, they are 5 micrometers-10 micrometers, The thickness of a thick film part is parts other than a thick film part ( Specifically, it is preferably 1 μm or more thicker than the central portion in the width direction.

Ｄ．光学フィルム
本発明の製造方法により得られる光学フィルムの具体例としては、モスアイ構造を有するフィルム、防眩性フィルム、レンチキュラーレンズ等の平板状レンズ、導光板、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシート等が挙げられる。また、本発明の製造方法により得られる光学フィルムは、画像表示装置の前面板または偏光板の保護材料として好適に用いられ得る。 D. Optical film Specific examples of the optical film obtained by the production method of the present invention include a film having a moth-eye structure, an antiglare film, a flat lens such as a lenticular lens, a light guide plate, a light diffusion sheet, a brightness enhancement sheet, and an optical waveguide. Examples thereof include embossed sheets such as sheets and prism sheets. Moreover, the optical film obtained by the manufacturing method of this invention can be used suitably as a protective material of the front plate or polarizing plate of an image display apparatus.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「％」は重量基準である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. The evaluation methods in the examples are as follows. In Examples, unless otherwise specified, “parts” and “%” are based on weight.

（１）粘度
実施例および比較例で用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の粘度を、活性エネルギー線を照射しない場合、および活性エネルギー（光源：水銀キセノンランプ、シグマ光機製シャープカットフィルターＳＣＦ−５０Ｓ−３８Ｌを用い、３８０ｎｍ以下の波長をカット）を積算光量１３０ｍＪ／ｃｍ^２で照射した場合、それぞれについてＲＥＯＬＯＧＩＣＡ社製ＵＶレオメータＲＳ−１００を用いて測定した。
活性エネルギー線を照射しない場合の粘度は、粘度調整工程を設けない場合（実施例１、２および比較例１）の転写工程直前の塗布層の粘度に相当し、活性エネルギー線を照射する場合の粘度は、粘度調整工程を設ける場合（実施例３および比較例２）の転写工程直前の塗布層の粘度に相当する。
（２）ロール汚れ
凹凸ロールへの樹脂汚染（ロール汚れ）は、光学フィルムを連続に加工した後、凹凸ロールの状態を目視確認し、以下の基準で評価した。
◎：端部への樹脂残りも起こらず、安定して５００ｍ以上の連続転写可能
○：若干端部への樹脂残りは発生するが、５００ｍ以上の連続転写可能
×：経時とともに樹脂残りが顕著に起こり、５００ｍ以上の連続転写不可能
××：転写直後から樹脂残りが発生し、短時間でフィルム破断起こり、連続転写不可能
（３）凹凸層の厚み
（株）ミツトヨ社製のマイクロゲージ式厚み計を用い、光学フィルムの全体厚みを測定し、全体厚みから、透明基材フィルムの厚みを差し引くことにより、凹凸層の厚みを算出した。
（４）耐擦傷性
実施例および比較例で得られた光学フィルムを幅１１ｍｍ、長さ１００ｍｍの大きさに切断し、透明基材フィルムを下にしてガラス板に載せた。次いで、当該光学フィルムの凹凸層側表面上で、直径１１ｍｍの円柱の断面に取り付けたスチールウール＃００００を、荷重４００ｇ、１００ｍｍ／ｓｅｃで１０往復させた。その後の凹凸層側表面を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：傷が全く観察されない
○：傷がほとんど観察されない
×：数本以上の傷が観察される (1) Viscosity Viscosity of the active energy ray-curable resin composition used in the examples and comparative examples is the case where active energy rays are not irradiated, and the active energy (light source: mercury xenon lamp, Sigma Koki Sharp Cut Filter SCF- When 50S-38L was used and a wavelength of 380 nm or less was cut at an integrated light amount of 130 mJ / cm ² , each was measured using a UV rheometer RS-100 manufactured by REOLOGICA.
The viscosity in the case of not irradiating the active energy ray corresponds to the viscosity of the coating layer immediately before the transfer step in the case where the viscosity adjusting step is not provided (Examples 1 and 2 and Comparative Example 1). The viscosity corresponds to the viscosity of the coating layer immediately before the transfer step when the viscosity adjustment step is provided (Example 3 and Comparative Example 2).
(2) Roll Dirt Resin contamination (roll dirt) on the uneven roll was evaluated by the following criteria by visually checking the state of the uneven roll after processing the optical film continuously.
A: Residual resin does not occur on the edge, and stable continuous transfer over 500 m is possible.
○: Resin remains slightly on the edge, but continuous transfer over 500m is possible
X: Resin residue remarkably occurs with time, and continuous transfer of 500 m or longer is impossible
Xx: Resin residue occurs immediately after transfer, film breakage occurs in a short time, and continuous transfer is impossible. (3) Thickness of uneven layer Total thickness of optical film using a micro gauge thickness meter manufactured by Mitutoyo Corporation Was measured, and the thickness of the concavo-convex layer was calculated by subtracting the thickness of the transparent substrate film from the total thickness.
(4) Scratch resistance The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 11 mm in width and 100 mm in length, and placed on a glass plate with the transparent substrate film facing down. Subsequently, on the surface of the optical film on the concave-convex layer side, steel wool # 0000 attached to a cross section of a cylinder having a diameter of 11 mm was reciprocated 10 times at a load of 400 g and 100 mm / sec. The subsequent uneven layer side surface was visually observed and evaluated according to the following criteria.
A: Scratches are not observed at all ○: Scratches are hardly observed ×: Several or more scratches are observed

＜実施例１＞
紫外線硬化型アクリル樹脂（日本ペイント（株）製、商品名「ルシフラール」）の樹脂固形分１００部当たり、レベリング剤（ＤＩＣ（株）製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣＰＣ−４１３３」）０．１重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア８１９」）３重量部および反応性希釈剤（（株）興人社製、商品名「ＨＥＡＡ」）を混合し、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を調整した。
透明基材フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製、商品名「ＴＤ８０ＵＬ」、厚さ：８０μｍ）を準備した。
（塗布工程）
上記透明基材フィルム（幅４００ｍｍ）の片面に、上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を、コンマコータを用いて塗布層を形成した。このとき、塗布層幅は３８０ｍｍとし、ニップロール幅（幅３５０ｍｍ）より幅の広い塗布層を形成した。また、塗布層の厚みは８μｍとした。
（転写工程）
塗布工程で得られた塗布層を形成した透明基材フィルムを、６０℃で１分間プレヒートした後、凹凸ロール（幅５００ｍｍ）とニップロールとの間に供給した。
（硬化工程）
塗布層を形成した透明基材フィルムを凹凸ロールに巻き付けた状態で、透明基材フィルム側から、波長４０５ｎｍの紫外線（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、塗布層を硬化させ、光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Example 1>
Leveling agent (manufactured by DIC Corporation, trade name “GRANDIC PC-4133”) 0.1 parts by weight per 100 parts of resin solid content of UV curable acrylic resin (trade name “Luciferal”, manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.) , 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 819”) and a reactive diluent (trade name “HEAA”, manufactured by Kojin Co., Ltd.) are mixed to obtain an active energy ray-curable resin. The composition was adjusted.
A triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name “TD80UL”, thickness: 80 μm) was prepared as a transparent substrate film.
(Coating process)
The active energy ray-curable resin composition was formed on one side of the transparent substrate film (width 400 mm) using a comma coater. At this time, the coating layer width was 380 mm, and a coating layer wider than the nip roll width (width 350 mm) was formed. The thickness of the coating layer was 8 μm.
(Transfer process)
The transparent substrate film on which the coating layer obtained in the coating step was formed was preheated at 60 ° C. for 1 minute, and then supplied between the uneven roll (width 500 mm) and the nip roll.
(Curing process)
In a state where the transparent substrate film on which the coating layer is formed is wound around the concavo-convex roll, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2) having a wavelength of 405 nm from the transparent substrate film side. Obtained.
The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜実施例２＞
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を酢酸エチルにてベース濃度（固形分濃度）４０％に希釈し、塗布したこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Example 2>
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable resin composition was diluted with ethyl acetate to a base concentration (solid content concentration) of 40% and applied. The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜実施例３＞
硬化工程において、硬化処理を２段階で行った以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。１段階目の硬化処理は、塗布層を形成した透明基材フィルムを凹凸ロールに巻き付けた状態で、透明基材フィルム側から波長４０５ｎｍの紫外線（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して行い、２段階目の硬化処理は、塗布層を形成した透明基材フィルムを凹凸ロールから剥離した後、塗布層側から波長４０５ｎｍの紫外線（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して行った。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Example 3>
In the curing step, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curing treatment was performed in two stages. The first-stage curing treatment is performed by irradiating the transparent substrate film side with ultraviolet light having a wavelength of 405 nm (integrated light amount 300 mJ / cm 2) in a state where the transparent substrate film on which the coating layer is formed is wound around the uneven roll. The curing process at the stage was performed by peeling the transparent substrate film on which the coating layer was formed from the concavo-convex roll and then irradiating the coating layer side with ultraviolet light having a wavelength of 405 nm (integrated light amount 300 mJ / cm 2). The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜実施例４＞
塗布工程と転写工程との間に粘度調整工程を設けた以外は、実施例３と同様にして光学フィルムを得た。粘度調整工程においては、塗布層側から、波長４０５ｎｍの紫外線（積算光量１３０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して行った。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Example 4>
An optical film was obtained in the same manner as in Example 3 except that a viscosity adjustment step was provided between the coating step and the transfer step. In the viscosity adjustment step, ultraviolet rays having a wavelength of 405 nm (integrated light amount 130 mJ / cm 2) were irradiated from the coating layer side. The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜実施例５＞
塗布工程において、透明基材フィルム幅を１３３０ｍｍとし、塗布層幅を１２８０ｍｍとし、ニップロール幅を１２５０ｍｍとし、転写工程において、凹凸ロール幅を１５００ｍｍとした以外は、実施例４と同様にして光学フィルムを得た。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Example 5>
The optical film was formed in the same manner as in Example 4 except that the transparent substrate film width was 1330 mm in the coating step, the coating layer width was 1280 mm, the nip roll width was 1250 mm, and the uneven roll width was 1500 mm in the transfer step. Obtained. The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜比較例１＞
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の塗布層幅を、３００ｍｍとし、ニップロール幅（幅３５０ｍｍ）より幅の狭い塗布層を形成した以外は、実施例３と同様にして光学フィルムを得た。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Comparative Example 1>
An optical film was obtained in the same manner as in Example 3, except that the coating layer width of the active energy ray-curable resin composition was 300 mm, and a coating layer narrower than the nip roll width (width 350 mm) was formed. The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

＜比較例２＞
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の塗布層幅を、３００ｍｍとし、ニップロール幅（幅３５０ｍｍ）より幅の狭い塗布層を形成した以外は、実施例４と同様にして光学フィルムを得た。得られた光学フィルムを上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を下記表１に示す。 <Comparative example 2>
An optical film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the coating layer width of the active energy ray-curable resin composition was 300 mm and a coating layer narrower than the nip roll width (350 mm width) was formed. The obtained optical film was subjected to the evaluations (1) to (4) above. The results are shown in Table 1 below.

表１からも明らかなように、本発明の製造方法によれば、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の塗布層幅をニップロール幅より広くすることにより、凹凸ロールの汚染がなく、光学フィルムを安定的に連続加工することができる。また、このような効果は、転写工程直前の塗布層の粘度を上昇させることにより顕著となる（実施例４および５）。硬化処理を段階的に行えば、耐擦傷性に優れる光学フィルムを得ることができる（実施例３〜５）。 As is apparent from Table 1, according to the production method of the present invention, the optical film is stabilized without contamination of the uneven roll by making the coating layer width of the active energy ray-curable resin composition wider than the nip roll width. Can be continuously processed. Moreover, such an effect becomes remarkable by increasing the viscosity of the coating layer immediately before the transfer step (Examples 4 and 5). If a hardening process is performed in steps, the optical film excellent in abrasion resistance can be obtained (Examples 3-5).

本発明の製造方法により得られる光学フィルムは、画像表示装置に好適に用いられ得る。 The optical film obtained by the production method of the present invention can be suitably used for an image display device.

１凹凸ロール
２ニップロール
３剥離ロール
４塗布手段（活性エネルギー線硬化型樹脂組成物塗布）
５ａ、５ａ’、５ｂ硬化手段（活性エネルギー線照射）
１０透明基材フィルム
２０塗布層
２０ａ塗布層の厚膜部
２１凹凸層
１００光学フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Concavity and convexity roll 2 Nip roll 3 Peeling roll 4 Application | coating means (active energy ray hardening-type resin composition application | coating)
5a, 5a ′, 5b Curing means (active energy ray irradiation)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent base film 20 Application layer 20a Thick film part of application layer 21 Concavity and convexity layer 100 Optical film

Claims

An application step of applying an active energy ray-curable resin composition to at least one surface of the transparent substrate film to form an application layer;
A transfer step of supplying the transparent substrate film on which the coating layer is formed between a concavo-convex roll and a nip roll disposed to face the concavo-convex roll, and transferring the shape of the concavo-convex roll surface to the coating layer;
Curing the coating layer to form a concavo-convex layer,
The coating layer width is wider than the width of the nip roll,
Manufacturing method of optical film.

The manufacturing method of the optical film of Claim 1 which further includes the viscosity adjustment process which raises the viscosity of the said coating layer rather than the time of application | coating after the said application | coating process and before the said transfer process.

The manufacturing method of the optical film of Claim 2 which irradiates an active energy ray to the said application layer in the said viscosity adjustment process.

The manufacturing method of the optical film of Claim 3 whose emission peak wavelength of the said active energy ray is 380 nm-450 nm.

The manufacturing method of the optical film in any one of Claim 1 to 4 in which the said hardening process includes irradiating an active energy ray from the said transparent base film side, and hardening the said coating layer.

The method for producing an optical film according to claim 1, wherein in the curing step, a curing process is performed step by step.

In the curing step,
First-stage curing is performed on the uneven roll,
Second stage curing is performed after the transparent substrate film on which the coating layer is formed is peeled off from the uneven roll,
In the second stage curing, irradiation with active energy rays from the coating layer side,
The manufacturing method of the optical film of Claim 6.

A thick film portion obtained by the manufacturing method according to claim 1, wherein the thick film portion is thicker than the width direction center portion of the uneven layer in the width direction both ends or the vicinity of the width direction both ends of the uneven layer. An optical film.

A polarizing plate comprising an optical film obtained by the production method according to claim 1.

The image display apparatus containing the optical film obtained by the manufacturing method in any one of Claim 1 to 7.