JP2011013378A - Film - Google Patents
Film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011013378A JP2011013378A JP2009156177A JP2009156177A JP2011013378A JP 2011013378 A JP2011013378 A JP 2011013378A JP 2009156177 A JP2009156177 A JP 2009156177A JP 2009156177 A JP2009156177 A JP 2009156177A JP 2011013378 A JP2011013378 A JP 2011013378A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- weight
- polymer
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
【課題】面内の位相差が小さく、耐衝撃性に優れるフィルムを提供する。
【解決手段】面内の位相差が1nm以下であるフィルムを、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計3ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が82重量%〜90重量%、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が10重量%〜18重量%であり、少なくともポリマー鎖の一端以上が芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなるビニル脂環式炭化水素重合体を含む層を設けることにより実現する。
【選択図】なしA film having a small in-plane retardation and excellent impact resistance is provided.
A film having an in-plane retardation of 1 nm or less has a total of 3 or more aromatic vinyl compound hydride blocks and diene compound hydride blocks, and the content of aromatic vinyl compound hydride block is 82% by weight to 90% by weight, diene compound hydride block content is 10% by weight to 18% by weight, and at least one end of the polymer chain is composed of an aromatic vinyl compound hydride block. This is realized by providing a layer including coalescence.
[Selection figure] None
Description
本発明はフィルムに関し、特に偏光板保護フィルムとして用いて好適なフィルムに関する。 The present invention relates to a film, and more particularly to a film suitable for use as a polarizing plate protective film.
液晶表示装置などの表示装置には、偏光板、位相差板等の様々な光学素子が設けられる。このような光学素子の中にはフィルムにより構成されているものがある(特許文献1〜5参照)。
また、特許文献6〜8に記載のような技術も知られている。
A display device such as a liquid crystal display device is provided with various optical elements such as a polarizing plate and a retardation plate. Some of these optical elements are made of a film (see Patent Documents 1 to 5).
In addition, techniques as described in Patent Documents 6 to 8 are also known.
ところで、光学素子の中でも偏光板には、通常、偏光板保護フィルムが設けられる。この偏光板保護フィルムには、その面内の位相差(レターデーションともいう。)が小さいことと、耐衝撃性に優れることとの両方が求められる。
しかしながら、従来の技術では、フィルムの製造過程において位相差が容易に発現する傾向があり、その面内の位相差が小さいことと、耐衝撃性に優れることとの両方を達成するフィルムの実現が困難であった。
By the way, a polarizing plate protective film is usually provided in a polarizing plate among optical elements. The polarizing plate protective film is required to have both a small in-plane retardation (also referred to as retardation) and excellent impact resistance.
However, in the conventional technology, there is a tendency that a phase difference is easily developed in the film manufacturing process, and it is possible to realize a film that achieves both a small in-plane retardation and excellent impact resistance. It was difficult.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その面内の位相差が小さく、且つ、耐衝撃性に優れるフィルムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a film having a small in-plane phase difference and excellent impact resistance.
上述した課題を解決し目的を達成するため、本発明者は鋭意検討した結果、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを、所定の重量比で所定のブロック数以上含み、そのポリマー鎖の一端が芳香族ビニル化合物水素化物ブロックであるブロック共重合体を含む層が、面内の位相差Reが小さく且つ耐衝撃性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の〔1〕〜〔5〕を要旨とするものである。
In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present inventors have intensively studied, and as a result, the aromatic vinyl compound hydride block and the diene compound hydride block include a predetermined number of blocks at a predetermined weight ratio, The inventors have found that a layer containing a block copolymer in which one end of a polymer chain is an aromatic vinyl compound hydride block has a small in-plane retardation Re and excellent impact resistance, thereby completing the present invention.
That is, the gist of the present invention is the following [1] to [5].
〔1〕ビニル脂環式炭化水素重合体を含む層Aを有するフィルムであって、前記ビニル脂環式炭化水素重合体は、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計3ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が82重量%〜90重量%、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が10重量%〜18重量%であり、少なくともポリマー鎖の一端以上は芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなり、その面内の位相差が1nm以下であるフィルム。
〔2〕前記層Aに積層される層Bをさらに備え、前記層Bは、前記ビニル脂環式炭化水素重合体および微粒子を含む層であり、前記微粒子の数平均粒子径が0.01μm〜1.0μmであり、前記層Bにおける前記ビニル脂環式炭化水素重合体に対する微粒子の重量比が0.01%〜5.00%である、〔1〕記載のフィルム。
〔3〕ビニル脂環式炭化水素重合体を含む層Aと、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、水素化ノルボルネン重合体、及び、メタクリル酸エステル系重合体からなる群より選ばれるいずれか1種類以上の材料を含む層Cとを有するフィルムであって、前記ビニル脂環式炭化水素重合体は、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計3ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が82重量%〜90重量%、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が10重量%〜18重量%であり、少なくともポリマー鎖の一端以上は芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなり、前記ビニル脂環式炭化水素重合体を含む樹脂と、前記材料を含む樹脂とを共押し出しして得られる、フィルム。
〔4〕前記層Aが紫外線吸収剤を含む、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載のフィルム。
〔5〕延伸フィルムである、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載のフィルム。
[1] A film having a layer A containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, wherein the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer comprises a total of 3 aromatic vinyl compound hydride blocks and diene compound hydride blocks. The aromatic vinyl compound hydride block content is 82 wt% to 90 wt%, the diene compound hydride block content is 10 wt% to 18 wt%, and at least one end of the polymer chain A film comprising an aromatic vinyl compound hydride block and having an in-plane retardation of 1 nm or less.
[2] It further includes a layer B laminated on the layer A, and the layer B is a layer containing the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and fine particles, and the number average particle diameter of the fine particles is 0.01 μm to [1] The film according to [1], which is 1.0 μm, and the weight ratio of fine particles to the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer in the layer B is 0.01% to 5.00%.
[3] Layer A containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and at least one material selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polypropylene, hydrogenated norbornene polymer, and methacrylate polymer The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer has a total of 3 or more blocks of aromatic vinyl compound hydride block and diene compound hydride block, and the aromatic vinyl compound hydrogen. The content of the halide block is 82% by weight to 90% by weight, the content of the diene compound hydride block is 10% by weight to 18% by weight, and at least one end of the polymer chain is composed of an aromatic vinyl compound hydride block, Obtained by coextrusion of a resin containing the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and a resin containing the material, Irumu.
[4] The film according to any one of [1] to [3], wherein the layer A contains an ultraviolet absorber.
[5] The film according to any one of [1] to [4], which is a stretched film.
本発明のフィルムは、その面内の位相差が小さく、且つ、耐衝撃性に優れる。 The film of the present invention has a small in-plane retardation and excellent impact resistance.
以下、例示物や実施形態を挙げて本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に挙げる例示物や実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。なお、以下の説明において、層Aの符号「A」、層Bの符号「B」、層Cの符号「C」、メタクリル酸エステル(M1)の符号「(M1)」、アクリル酸エステル(M2)の符号「(M2)」、ビニル基を有する化合物(M3)の符号「(M3)」、メタクリル酸エステル(M4)の符号「(M4)」、及び、ビニル基を有する化合物(M5)の符号「(M5)」は、いずれもその符号が付された構成要素を他の構成要素から区別するために付した符号であり、構成要素の区別以外の意味を有するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and embodiments, but the present invention is not limited to the examples and embodiments listed below, and can be arbitrarily changed without departing from the gist of the present invention. Can be implemented. In the following description, reference sign “A” for layer A, reference sign “B” for layer B, reference sign “C” for layer C, reference sign “(M1)” for methacrylate ester (M1), and acrylic ester (M2). ), “(M3)” of the compound (M3) having a vinyl group, “(M4)” of the methacrylate (M4), and the compound (M5) having a vinyl group. The symbol “(M5)” is a symbol assigned to distinguish the component with the symbol from other components, and has no meaning other than the distinction between the components.
[1.フィルムの構成]
[1−1.ビニル脂環式炭化水素重合体]
(1)ビニル脂環式炭化水素重合体の構造
本発明のフィルムは、少なくとも、ビニル脂環式炭化水素重合体を含む層Aを備える。層Aに含まれるビニル脂環式炭化水素重合体は、少なくとも、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックと、ジエン化合物水素化物ブロックとを有するブロック共重合体である。
[1. Composition of film]
[1-1. Vinyl alicyclic hydrocarbon polymer]
(1) Structure of vinyl alicyclic hydrocarbon polymer The film of the present invention includes at least a layer A containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer contained in the layer A is a block copolymer having at least an aromatic vinyl compound hydride block and a diene compound hydride block.
芳香族ビニル化合物水素化物ブロックは、芳香族ビニル化合物を重合した後で、その不飽和結合を水素化して得られる重合物の繰り返し単位と同様の構造を有する繰り返し単位からなるブロックのことを指し、例えば以下の構造式(1)で表される繰り返し単位からなるブロックのことを指す。ただし、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックは、その構造が前記のようになっていれば、その製造方法については問わない。 Aromatic vinyl compound hydride block refers to a block composed of a repeating unit having the same structure as the repeating unit of a polymer obtained by polymerizing an aromatic vinyl compound and then hydrogenating its unsaturated bond, For example, it refers to a block composed of repeating units represented by the following structural formula (1). However, the aromatic vinyl compound hydride block may be produced by any method as long as the structure is as described above.
構造式(1)において、Rcは脂環式炭化水素基を表す。Rcの例を挙げると、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基類;デカヒドロナフチル基類等が挙げられる。 In the structural formula (1), R c represents an alicyclic hydrocarbon group. Examples of R c include cyclohexyl groups such as cyclohexyl group; decahydronaphthyl groups and the like.
構造式(1)において、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基(ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基)で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもR1、R2及びR3としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数1〜6個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。 In the structural formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group, an ester group, a cyano group, an amide group or an imide group. Represents a chain hydrocarbon group substituted with a silyl group or a polar group (halogen atom, alkoxy group, hydroxyl group, ester group, cyano group, amide group, imide group, or silyl group). Among them, R 1 , R 2 and R 3 are preferably a hydrogen atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms from the viewpoints of heat resistance, low birefringence, mechanical strength and the like. The chain hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group.
芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの分子量は、通常1000以上、好ましくは2000以上、より好ましくは3000以上であり、通常100000以下、好ましくは90000以下、より好ましくは80000以下である。芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの分子量が前記範囲の下限以上となることによりフィルムの弾性率が向上するという利点が得られ、また、上限以下となることによりフィルムの耐衝撃性が向上するという利点が得られる。また、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックが複数ある場合には、各ブロックの分子量を上記範囲の値とすることができる。この場合において、各ブロックの分子量は同じでもよいし、異なっていてもよい。 The molecular weight of the aromatic vinyl compound hydride block is usually 1000 or more, preferably 2000 or more, more preferably 3000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 90000 or less, more preferably 80000 or less. The advantage that the elastic modulus of the film is improved by the molecular weight of the aromatic vinyl compound hydride block being not less than the lower limit of the above range, and the impact resistance of the film is improved by being not more than the upper limit. Is obtained. Moreover, when there are a plurality of aromatic vinyl compound hydride blocks, the molecular weight of each block can be set to a value within the above range. In this case, the molecular weight of each block may be the same or different.
芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの繰り返し単位の例を挙げると、以下のような例が挙げられる。なお、以下の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。また、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの繰り返し単位は、1種類だけも用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックも、1種類だけも用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the repeating unit of the aromatic vinyl compound hydride block include the following examples. In addition, what has a stereoisomer in the following examples can use any of the stereoisomers. Moreover, the repeating unit of an aromatic vinyl compound hydride block may use only 1 type, and may use it combining 2 or more types by arbitrary ratios. Further, only one type of aromatic vinyl compound hydride block may be used, or two or more types may be used in combination at any ratio.
ビニル脂環式炭化水素重合体中に含まれる芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率は、82重量%以上、好ましくは84重量%以上であり、90重量%以下、好ましくは88重量%以下である。芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率がこの範囲を外れると、層Aにおいて面方向の位相差Reが大きくなる傾向がある。 The content of the aromatic vinyl compound hydride block contained in the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is 82% by weight or more, preferably 84% by weight or more, 90% by weight or less, preferably 88% by weight or less. is there. When the content of the aromatic vinyl compound hydride block is out of this range, the phase difference Re in the plane direction tends to increase in the layer A.
ビニル脂環式炭化水素重合体のポリマー鎖においては、少なくともそのポリマー鎖の末端のうちの一端、好ましくは複数の末端が、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなる。これにより、耐衝撃性を向上させることができる。なお、ポリマー鎖の末端が芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなることは、NMR法により確認できる。 In the polymer chain of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, at least one end, preferably a plurality of ends, of the ends of the polymer chain is composed of an aromatic vinyl compound hydride block. Thereby, impact resistance can be improved. In addition, it can confirm by NMR method that the terminal of a polymer chain consists of an aromatic vinyl compound hydride block.
ジエン化合物水素化物ブロックは、ジエン化合物を重合した後で、その得られた重合物が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる重合物の繰り返し単位と同様の構造を有する繰り返し単位からなるブロックのことを指す。中でも、ジエン化合物水素化物ブロックは、共役ジエン化合物を重合した後で、その不飽和結合を水素化して得られる重合物の繰り返し単位と同様の構造を有する繰り返し単位からなるブロックであることが好ましい。その例を挙げると、例えば以下の構造式(2)又は構造式(3)で表される繰り返し単位からなるブロックが挙げられる。ただし、ジエン化合物水素化物ブロックは、その構造が前記のようになっていれば、その製造方法については問わない。 The diene compound hydride block has the same structure as the repeating unit of the polymer obtained by polymerizing the diene compound and then hydrogenating the unsaturated bond if the polymer obtained has an unsaturated bond. The block which consists of a repeating unit which has. Especially, it is preferable that a diene compound hydride block is a block which consists of a repeating unit which has a structure similar to the repeating unit of the polymer obtained by polymerizing a conjugated diene compound and hydrogenating the unsaturated bond. When the example is given, the block which consists of a repeating unit represented, for example by following Structural formula (2) or Structural formula (3) is mentioned. However, the diene compound hydride block may be produced by any method as long as the structure is as described above.
構造式(2)において、R4〜R9は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基(ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基)で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもR4〜R9としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数1〜6個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。 In Structural Formula (2), R 4 to R 9 are each independently a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group, an ester group, a cyano group, an amide group, an imide group, or a silyl group. Or a chain hydrocarbon group substituted with a polar group (halogen atom, alkoxy group, hydroxyl group, ester group, cyano group, amide group, imide group, or silyl group). Among them, R 4 to R 9 are preferably a hydrogen atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms from the viewpoints of heat resistance, low birefringence, mechanical strength, and the like. The chain hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group.
構造式(3)において、R10〜R15は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基(ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基)で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもR10〜R15としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数1〜6個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。 In the structural formula (3), R 10 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group, an ester group, a cyano group, an amide group, an imide group, or a silyl group. Or a chain hydrocarbon group substituted with a polar group (halogen atom, alkoxy group, hydroxyl group, ester group, cyano group, amide group, imide group, or silyl group). Among them, R 10 to R 15 are preferably a hydrogen atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms from the viewpoints of heat resistance, low birefringence, mechanical strength, and the like. The chain hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group.
ジエン化合物水素化物ブロックの分子量は、通常500以上、好ましくは1000以上、より好ましくは2000以上であり、通常50000以下、好ましくは30000以下、より好ましくは20000以下である。ジエン化合物水素化物ブロックの分子量が前記範囲の下限以上となることにより耐衝撃性が向上するという利点が得られ、また、上限以下となることにより弾性率が向上するという利点が得られる。また、ジエン化合物水素化物ブロックが複数ある場合には、各ブロックの分子量を上記範囲の値とすることができる。この場合において、各ブロックの分子量は同じでもよいし、異なっていてもよい。 The molecular weight of the diene compound hydride block is usually 500 or more, preferably 1000 or more, more preferably 2000 or more, and usually 50000 or less, preferably 30000 or less, more preferably 20000 or less. When the molecular weight of the diene compound hydride block is not less than the lower limit of the above range, an advantage that the impact resistance is improved is obtained, and when it is not more than the upper limit, an advantage that the elastic modulus is improved is obtained. Moreover, when there are a plurality of diene compound hydride blocks, the molecular weight of each block can be set to a value within the above range. In this case, the molecular weight of each block may be the same or different.
ジエン化合物水素化物ブロックの繰り返し単位の例を挙げると、以下のような例が挙げられる。なお、以下の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。また、ジエン化合物水素化物ブロックの繰り返し単位は、1種類だけも用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、ジエン化合物水素化物ブロックも、1種類だけも用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the repeating unit of the diene compound hydride block include the following examples. In addition, what has a stereoisomer in the following examples can use any of the stereoisomers. Moreover, only one type of repeating unit of the diene compound hydride block may be used, or two or more types may be used in combination at any ratio. Furthermore, only one type of diene compound hydride block may be used, or two or more types may be used in combination at any ratio.
ビニル脂環式炭化水素重合体中に含まれるジエン化合物水素化物ブロックの含有率は、10重量%以上、好ましくは12重量%以上であり、18重量%以下、好ましくは16重量%以下である。ジエン化合物水素化物ブロックの含有率がこの範囲を外れると、層Aにおいて面方向の位相差Reが大きくなる傾向がある。 The content of the diene compound hydride block contained in the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is 10% by weight or more, preferably 12% by weight or more, and 18% by weight or less, preferably 16% by weight or less. When the content of the diene compound hydride block is outside this range, the phase difference Re in the plane direction tends to increase in the layer A.
ビニル脂環式炭化水素重合体は、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを、合計で3ブロック以上有する。芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計で3ブロック以上有することにより、耐衝撃性を高めることが可能となる。また、通常は層Aの耐熱性を高めることもできる。一方、上限は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、好ましくは5ブロック以下であり、より好ましくは4ブロック以下である。ブロック数が多すぎると耐衝撃性が低下する傾向があるためである。 The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer has a total of 3 or more blocks of aromatic vinyl compound hydride blocks and diene compound hydride blocks. By having a total of three or more blocks of aromatic vinyl compound hydride blocks and diene compound hydride blocks, it becomes possible to improve impact resistance. In addition, the heat resistance of the layer A can usually be increased. On the other hand, the upper limit is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but it is preferably 5 blocks or less, more preferably 4 blocks or less. This is because if the number of blocks is too large, impact resistance tends to decrease.
ビニル脂環式炭化水素重合体は、本発明の効果を著しく損なわない限り、前記の芳香族ビニル化合物水素化物ブロックおよびジエン化合物水素化物ブロック以外にその他のブロックを有していても良い。ただし、本発明の効果をより顕著に発揮させる観点からは、その他のブロックは少ないことが好ましい。ビニル脂環式炭化水素重合体が含んでいてもよいその他のブロックの具体的な含有率はフィルムの用途等により一様ではないが、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下、より好ましくは3重量%以下であり、含まないことが特に好ましい。 The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer may have other blocks in addition to the aromatic vinyl compound hydride block and diene compound hydride block as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. However, it is preferable that the number of other blocks is small from the viewpoint of exhibiting the effects of the present invention more remarkably. The specific content of other blocks that the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer may contain is not uniform depending on the use of the film, etc., but is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably Is 3% by weight or less, and it is particularly preferable not to contain.
ビニル脂環式炭化水素重合体の重量平均分子量Mwは、通常50,000以上、好ましくは55,000以上、より好ましくは60,000以上であり、通常100,000以下、好ましくは90,000以下、より好ましくは80,000以下である。重量平均分子量Mwが前記範囲の下限以上となることによりフィルムの耐衝撃性を向上させることができ、上限以下となることにより重合体の粘度を低めて成形性を高めることができる。 The weight average molecular weight Mw of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is usually 50,000 or more, preferably 55,000 or more, more preferably 60,000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 90,000 or less. More preferably, it is 80,000 or less. When the weight average molecular weight Mw is not less than the lower limit of the above range, the impact resistance of the film can be improved, and when it is not more than the upper limit, the viscosity of the polymer can be lowered and the moldability can be improved.
ビニル脂環式炭化水素重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、通常2以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.2以下である。これにより、重合体粘度を低めて成形性を高めることができる。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is usually 2 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.2 or less. Thereby, a polymer viscosity can be lowered | hung and a moldability can be improved.
ビニル脂環式炭化水素重合体のガラス転移温度TgAは、通常110℃以上、好ましくは115℃以上、より好ましくは120℃以上であり、通常150℃以下、好ましくは148℃以下、より好ましくは145℃以下である。ビニル脂環式炭化水素重合体のガラス転移温度が前記範囲の下限以上であることによりフィルムの耐熱性が向上するという利点が得られ、上限以下であることにより加工温度を下げて成形性を高めるという利点が得られる。なお、ビニル脂環式炭化水素重合体のガラス転移温度TgAは、複数のガラス転移温度が見られる場合には、高いほうの数値を採用することができる。 The glass transition temperature Tg A of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is usually 110 ° C. or higher, preferably 115 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and usually 150 ° C. or lower, preferably 148 ° C. or lower, more preferably. It is 145 degrees C or less. When the glass transition temperature of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is not less than the lower limit of the above range, an advantage that the heat resistance of the film is improved is obtained, and when it is not more than the upper limit, the processing temperature is lowered to increase the moldability. The advantage is obtained. The glass transition temperature Tg A of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, when a plurality of glass transition temperature is observed, it is possible to adopt the numerical value of the higher.
ビニル脂環式炭化水素重合体の引張弾性率は、通常1,500MPa以上、好ましくは1,600MPa以上であり、通常2,500MPa以下、好ましくは2,200MPa以下である。ビニル脂環式炭化水素重合体の引張弾性率が前記範囲の下限以上であることによりフィルムにした際に腰が得られるという利点が得られ、上限以下であることによりフィルムの耐衝撃性が向上するという利点が得られる。 The tensile elastic modulus of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is usually 1,500 MPa or more, preferably 1,600 MPa or more, and usually 2,500 MPa or less, preferably 2,200 MPa or less. The advantage that the elasticity of the film is obtained when the tensile modulus of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is not less than the lower limit of the above range is obtained, and the impact resistance of the film is improved by being less than the upper limit. The advantage is that
(2)ビニル脂環式炭化水素重合体の製造方法
ビニル脂環式炭化水素重合体の製造方法に制限は無いが、例えば、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックおよびジエン化合物水素化物ブロックそれぞれに対応する単量体を用意し、これをブロック重合させて重合体を得て、得られた重合体の水素化を行うようにすればよい。
(2) Production method of vinyl alicyclic hydrocarbon polymer Although there is no limitation on the production method of vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, it corresponds to, for example, each of aromatic vinyl compound hydride block and diene compound hydride block. A monomer is prepared, this is block-polymerized to obtain a polymer, and the resulting polymer is hydrogenated.
芳香族ビニル化合物水素化物ブロックに対応する単量体の例を挙げると、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−t−ブチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、4−フェニルスチレン等のスチレン類;ビニルシクロヘキサン、3−メチルイソプロペニルシクロヘキサン等のビニルシクロヘキサン類;4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン等のビニルシクロヘキセン類;などが挙げられる。
なお、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックに対応する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
Examples of monomers corresponding to the aromatic vinyl compound hydride block include styrene, α-methyl styrene, α-ethyl styrene, α-propyl styrene, α-isopropyl styrene, α-t-butyl styrene, 2- Methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene, monochlorostyrene, dichlorostyrene Styrenes such as monofluorostyrene and 4-phenylstyrene; vinylcyclohexanes such as vinylcyclohexane and 3-methylisopropenylcyclohexane; 4-vinylcyclohexene, 4-isopropenylcyclohexene, 1-methyl-4-vinylcyclohexene, 1 -Methyl-4-isop Vinylcyclohexenes such as lopenylcyclohexene, 2-methyl-4-vinylcyclohexene, 2-methyl-4-isopropenylcyclohexene; and the like.
In addition, the monomer corresponding to an aromatic vinyl compound hydride block may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
一方、ジエン化合物水素化物ブロックに対応する単量体の例を挙げると、ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、及び1,3−ヘキサジエン等の鎖状共役ジエン類などが挙げられる。
なお、ジエン化合物水素化物ブロックに対応する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
On the other hand, examples of monomers corresponding to diene compound hydride blocks include chains such as butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and 1,3-hexadiene. And conjugated dienes.
In addition, the monomer corresponding to a diene compound hydride block may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
重合には、通常、アニオン重合を採用できる。
また、重合は、塊状重合や、溶液重合等のいずれで行ってもよい。中でも、重合反応と水素化反応とを連続して行うためには、溶液重合が好ましい。
In general, anionic polymerization can be employed for the polymerization.
The polymerization may be performed by any of bulk polymerization and solution polymerization. Among these, solution polymerization is preferable in order to continuously perform the polymerization reaction and the hydrogenation reaction.
重合の反応溶媒としては、例えば、n−ブタン、n−ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。中でも脂肪族炭化水素類及び脂環式炭化水素類を用いると、水素化反応にも不活性な溶媒としてそのまま使用することができ、好ましい。
なお、反応溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
反応溶媒は、通常、全単量体100重量部に対して200〜10,000重量部となるような割合で用いられる。
Examples of the reaction solvent for polymerization include aliphatic hydrocarbons such as n-butane, n-pentane, isopentane, n-hexane, n-heptane, and isooctane; cyclopentane, cyclohexane, methylcyclopentane, methylcyclohexane, decalin, and the like. And alicyclic hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. Of these, the use of aliphatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons is preferable because they can be used as they are as an inert solvent for the hydrogenation reaction.
In addition, a reaction solvent may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
The reaction solvent is usually used at a ratio of 200 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomers.
重合の際、通常は重合開始剤を使用する。重合開始剤としては、例えば、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、フェニルリチウム等のモノ有機リチウム;ジリチオメタン、1,4−ジオブタン、1,4−ジリチオー2−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物;などが挙げられる。なお、重合開始剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 In the polymerization, a polymerization initiator is usually used. Examples of the polymerization initiator include monoorganolithium such as n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, hexyllithium, and phenyllithium; dilithiomethane, 1,4-diobtan, 1,4-dilithio-2-ethyl And polyfunctional organolithium compounds such as cyclohexane. In addition, a polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
それぞれの重合体ブロックを重合する際には、各ブロック内で、ある1成分の連鎖が過度に長くなることを防止するために、重合促進剤及びランダマイザーなどを使用することができる。例えば重合をアニオン重合により行う場合には、ルイス塩基化合物などをランダマイザーとして使用できる。ルイス塩基化合物の具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルフェニルエーテル等のエーテル化合物;テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級アミン化合物;カリウム−t−アミルオキシド、カリウム−t−ブチルオキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物;トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。なお、これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 When polymerizing each polymer block, a polymerization accelerator, a randomizer, or the like can be used in order to prevent an excessively long chain of one component in each block. For example, when the polymerization is performed by anionic polymerization, a Lewis base compound or the like can be used as a randomizer. Specific examples of Lewis base compounds include ether compounds such as dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, diphenyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl phenyl ether; tetramethylethylenediamine, trimethylamine, triethylamine, pyridine, etc. Tertiary amine compounds; alkali metal alkoxide compounds such as potassium-t-amyl oxide and potassium-t-butyl oxide; phosphine compounds such as triphenylphosphine. In addition, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
重合温度は重合が進行する限り制限は無いが、通常0℃以上、好ましくは20℃以上であり、通常200℃以下、好ましくは100℃以下、より好ましくは80℃以下である。 The polymerization temperature is not limited as long as the polymerization proceeds, but is usually 0 ° C. or higher, preferably 20 ° C. or higher, and is usually 200 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
重合後は、例えばスチームストリッピング法、直接脱溶媒法、アルコール凝固法等の公知の方法で重合体を回収できる。また、重合時に水素化反応に不活性な溶媒を反応溶媒として用いた場合は、重合溶液から重合体を回収せず、そのまま水素化工程に供することができる。 After the polymerization, the polymer can be recovered by a known method such as a steam stripping method, a direct solvent removal method, or an alcohol coagulation method. Further, when a solvent inert to the hydrogenation reaction is used as the reaction solvent during the polymerization, the polymer can be used as it is without recovering the polymer from the polymerization solution.
重合体の水素化方法に制限は無く、例えば適切な水素化触媒を用いて行えばよい。例えば、有機溶媒中で、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウムからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属を含む水素化触媒を用いて行えばよい。なお水素化触媒は、不均一系触媒、均一系触媒のいずれも使用可能である。また、水素化触媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 There is no restriction | limiting in the hydrogenation method of a polymer, For example, what is necessary is just to perform using a suitable hydrogenation catalyst. For example, a hydrogenation catalyst containing at least one metal selected from the group consisting of nickel, cobalt, iron, titanium, rhodium, palladium, platinum, ruthenium, and rhenium may be used in an organic solvent. As the hydrogenation catalyst, either a heterogeneous catalyst or a homogeneous catalyst can be used. Moreover, a hydrogenation catalyst may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
不均一系触媒は、金属または金属化合物のままで用いてもよく、適切な担体に担持させて用いてもよい。担体の例を挙げると、活性炭、シリカ、アルミナ、炭化カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、炭化珪素等が挙げられる。担体における触媒の担持量は、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上であり、通常80重量%以下、好ましくは60重量%以下である。
均一系触媒は、例えば、ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物と有機金属化合物(例えば、有機アルミニウム化合物、有機リチウム化合物)とを組み合わせた触媒;ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体触媒;などが挙げられる。ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物としては、例えば、各種金属のアセチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエニル化合物、シクロペンタジエニルジクロロ化合物等が挙げられる。また、有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルミニウム;ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウム;などが挙げられる。
有機金属錯体触媒の例としては、例えば、上記各金属のγ−ジクロロ−π−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス(トリフェニルホスフィン)錯体、ヒドリド−クロロ−トリフェニルホスフィン)錯体等の金属錯体が挙げられる。
水素化触媒の使用量は、重合体100重量部に対して、通常0.01重量部以上、好ましくは0.05重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上であり、通常100重量部以下、好ましくは50重量部以下、より好ましくは30重量部以下である。
The heterogeneous catalyst may be used as it is as a metal or a metal compound, or may be used by being supported on an appropriate carrier. Examples of the carrier include activated carbon, silica, alumina, calcium carbide, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth, silicon carbide and the like. The amount of the catalyst supported on the carrier is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, and usually 80% by weight or less, preferably 60% by weight or less.
The homogeneous catalyst is, for example, a catalyst in which a compound of nickel, cobalt, titanium or iron and an organometallic compound (for example, organoaluminum compound, organolithium compound) is combined; organometallic such as rhodium, palladium, platinum, ruthenium and rhenium Complex catalyst; and the like. Examples of the nickel, cobalt, titanium, or iron compound include acetylacetone salts, naphthenic acid salts, cyclopentadienyl compounds, cyclopentadienyl dichloro compounds of various metals, and the like. Examples of the organic aluminum compound include alkylaluminums such as triethylaluminum and triisobutylaluminum; aluminum halides such as diethylaluminum chloride and ethylaluminum dichloride; alkylaluminum hydrides such as diisobutylaluminum hydride; and the like.
Examples of the organometallic complex catalyst include metal complexes such as γ-dichloro-π-benzene complex, dichloro-tris (triphenylphosphine) complex, hydrido-chloro-triphenylphosphine) complex of each of the above metals. .
The amount of the hydrogenation catalyst used is usually 0.01 parts by weight or more, preferably 0.05 parts by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight or more, and usually 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer. Hereinafter, it is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less.
水素化反応の際の反応温度は、通常10℃〜250℃であるが、水素化率を高くでき、且つ、重合体鎖切断反応を小さくできるという理由から、好ましくは50℃以上、より好ましくは80℃以上であり、好ましくは200℃以下、より好ましくは180℃以下である。また、反応時の圧力は、通常0.1MPa〜30MPaであるが、上記理由に加え、操作性の観点から、好ましくは1MPa以上、より好ましくは2MPa以上であり、好ましくは20MPa以下、より好ましくは10MPa以下である。
水素化率は、通常90%以上、好ましくは95%以上、より好ましくは97%以上である。水素化率を高くすることにより、ビニル脂環式炭化水素重合体の低複屈折性及び熱安定性等を高めることができる。なお、水素化率は1H−NMRにより測定できる。
The reaction temperature during the hydrogenation reaction is usually 10 ° C. to 250 ° C., but is preferably 50 ° C. or more, more preferably, because the hydrogenation rate can be increased and the polymer chain scission reaction can be reduced. It is 80 degreeC or more, Preferably it is 200 degrees C or less, More preferably, it is 180 degrees C or less. Further, the pressure during the reaction is usually 0.1 MPa to 30 MPa, but in addition to the above reasons, from the viewpoint of operability, it is preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, preferably 20 MPa or less, more preferably 10 MPa or less.
The hydrogenation rate is usually 90% or more, preferably 95% or more, more preferably 97% or more. By increasing the hydrogenation rate, the low birefringence and thermal stability of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer can be enhanced. The hydrogenation rate can be measured by 1 H-NMR.
[1−2.層A]
(1)層Aの組成
本発明のフィルムが備える層Aは、少なくともビニル脂環式炭化水素重合体を含む層である。層Aは、ビニル脂環式炭化水素重合体を、1種類だけ含んでいてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて含んでいてもよい。
[1-2. Layer A]
(1) Composition of Layer A Layer A provided in the film of the present invention is a layer containing at least a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. Layer A may contain only one type of vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, or may contain two or more types in combination at any ratio.
また、層Aは紫外線吸収剤を含んでいてもよい。これにより、本発明のフィルムは紫外線に対する耐性を獲得することができる。このため、例えば偏光板保護フィルム等の光学フィルムとして本発明のフィルムを用いる場合、本発明のフィルム及びこのフィルムに保護される偏光板等の保護対象を、紫外線による劣化から保護することが可能となる。 Further, the layer A may contain an ultraviolet absorber. Thereby, the film of this invention can acquire the tolerance with respect to an ultraviolet-ray. For this reason, for example, when using the film of the present invention as an optical film such as a polarizing plate protective film, it is possible to protect the film of the present invention and the protection target such as the polarizing plate protected by this film from deterioration due to ultraviolet rays. Become.
紫外線吸収剤のとしては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤などが使用可能であり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤が好ましい。中でも、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2,2’−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2,4−ジ−tert−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール;ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン;トリアジン系紫外線吸収剤としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール;ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、2,4−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート;等が好適に用いられる。これらの中でも、特に2,2’−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)が好ましい。なお、紫外線吸収剤は、1種類で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 As the UV absorber, for example, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, triazine UV absorbers, acrylonitrile UV absorbers, benzoate UV absorbers, etc. can be used. Absorbers, triazine ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, and benzoate ultraviolet absorbers are preferred. Of these, 2,2′-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2 -(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,4-di-tert-butyl-6- (5-chlorobenzotriazol-2-yl) Phenol; 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone as benzophenone UV absorber; 2- ( 4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol; benzoate ultraviolet The absorbent, 2,4-di -tert- butyl-4-hydroxybenzoate; and the like are suitably used. Among these, 2,2'-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol) is particularly preferable. In addition, a ultraviolet absorber may be used by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
層Aに紫外線吸収剤を含有させる方法としては、例えば、紫外線吸収剤を予めビニル脂環式炭化水素重合体と混合する方法;紫外線吸収剤を高濃度に含有するマスターバッチを用いる方法;溶融押出成形時に直接供給する方法などが挙げられる。 Examples of the method for containing the ultraviolet absorber in the layer A include, for example, a method in which the ultraviolet absorber is previously mixed with a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer; a method in which a master batch containing the ultraviolet absorber in a high concentration is used; Examples include a method of directly supplying at the time of molding.
ただし、層A中の紫外線吸収剤の濃度は、0.5重量%以上が好ましく、1.0重量%以上がより好ましく、8.0重量%以下が好ましい。紫外線吸収剤の濃度を前記の範囲に収めることにより、本発明のフィルムの色調を悪化させること無く紫外線を効率的に遮断することができる。紫外線吸収剤の濃度が前記範囲の下限未満であると、波長370nm及び380nmにおける光線透過率が大きくなり、本発明のフィルムを偏光板保護フィルムとして使用した場合に偏光板の偏光度が低下する可能性がある。一方、紫外線吸収剤の含有量が前記範囲の上限を超えると、短波長側の光線透過率が小さくなり、フィルムの黄色味が強くなりすぎる可能性がある。 However, the concentration of the ultraviolet absorber in the layer A is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1.0% by weight or more, and preferably 8.0% by weight or less. By keeping the concentration of the ultraviolet absorber within the above range, it is possible to efficiently block ultraviolet rays without deteriorating the color tone of the film of the present invention. When the concentration of the ultraviolet absorber is less than the lower limit of the above range, the light transmittance at wavelengths of 370 nm and 380 nm increases, and the degree of polarization of the polarizing plate may decrease when the film of the present invention is used as a polarizing plate protective film. There is sex. On the other hand, if the content of the ultraviolet absorber exceeds the upper limit of the above range, the light transmittance on the short wavelength side may be reduced, and the yellowness of the film may be too strong.
また、層Aにおける紫外線吸収剤の濃度のばらつきは、全面で±0.1重量%以内であることが好ましい。これにより、初期フィルムの色調ムラがなく、また、長期使用後の紫外線による劣化が均一に起こり、本発明のフィルムを液晶表示装置に実装したときに色調ムラが起こりにくくなる。層Aにおける紫外線吸収剤の濃度のばらつきが全面で±0.1重量%を超えると、色調のムラがはっきりと視認でき、色調不良となる可能性がある。また、長期使用後には紫外線による劣化が不均一となり、色調不良が更に顕著になる可能性がある。 Moreover, it is preferable that the dispersion | variation in the density | concentration of the ultraviolet absorber in the layer A is less than +/- 0.1 weight% on the whole surface. Thereby, there is no uneven color tone of the initial film, and the deterioration due to ultraviolet rays after long-term use occurs uniformly, and the uneven color tone hardly occurs when the film of the present invention is mounted on a liquid crystal display device. If the variation in the concentration of the UV absorber in the layer A exceeds ± 0.1% by weight over the entire surface, uneven color tone can be clearly recognized, which may result in poor color tone. In addition, after long-term use, deterioration due to ultraviolet rays becomes non-uniform, and color tone defects may become more prominent.
なお、層Aにおける紫外線吸収剤の濃度のばらつきは以下の手順で測定する。まず分光光度計によりフィルムの紫外線透過率を測定する。次に、接触式厚み計によりフィルムの厚さを測定する。次いで、もしフィルムに層A以外の層があれば、測定部の断面を光学顕微鏡により観察し、層Aと層A以外の層との厚さの比を求め、層Aの厚さを求める。そして、紫外線透過率と層Aの厚さとから紫外線吸収剤の濃度を、下記数式[1]から算出する。
数式[1]:C=−log(0.01T)/K/L
数式[1]において、Cは紫外線吸収剤の濃度(重量%)、Tは光線透過率(%)、Kは吸光係数(−)、Lはフィルムの厚さ(μm)である。
紫外線吸収剤の濃度の測定はフィルムの縦方向及び横方向で一定間隔毎に行い、これらの測定値の算術平均値をとり、これを平均濃度Caveとする。そして、測定した濃度Cの内最大値をCmax、最小値をCminとして、濃度のばらつきは以下の式から算出する。
濃度のばらつき(%) = (Cmin−Cave)/Cave×100、又は、
濃度のばらつき(%) = (Cmax−Cave)/Cave×100
ここで前記Cmin−CaveおよびCmax−Caveの絶対値が異なる場合は、絶対値の大きいほうを採用する。
In addition, the dispersion | variation in the density | concentration of the ultraviolet absorber in the layer A is measured in the following procedures. First, the ultraviolet transmittance of the film is measured with a spectrophotometer. Next, the thickness of the film is measured with a contact-type thickness meter. Next, if the film has a layer other than layer A, the cross section of the measurement part is observed with an optical microscope, the ratio of the thickness of layer A to a layer other than layer A is determined, and the thickness of layer A is determined. And the density | concentration of a ultraviolet absorber is computed from following numerical formula [1] from a ultraviolet-ray transmittance and the thickness of the layer A. FIG.
Formula [1]: C = −log (0.01T) / K / L
In Formula [1], C is the concentration (% by weight) of the UV absorber, T is the light transmittance (%), K is the extinction coefficient (−), and L is the film thickness (μm).
The concentration of the UV absorber is measured at regular intervals in the longitudinal and lateral directions of the film, and an arithmetic average value of these measured values is taken as an average concentration C ave . Then, with the maximum value of the measured density C being C max and the minimum value being C min , the density variation is calculated from the following equation.
Concentration variation (%) = (C min −C ave ) / C ave × 100, or
Concentration variation (%) = (C max −C ave ) / C ave × 100
Here, when the absolute values of C min -C ave and C max -C ave are different, the larger absolute value is adopted.
層Aにおける紫外線吸収剤の濃度のばらつきを全面で±0.1重量%とするための方法としては、(i)乾燥させたビニル脂環式炭化水素重合体と紫外線吸収剤とを混合させ、次いで、その混合物を押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機へ供給して溶融押出する方法;(2)乾燥機付きホッパーにビニル脂環式炭化水素重合体を投入し、また別の投入口から紫外線吸収剤を投入し、ビニル脂環式炭化水素重合体及び紫外線吸収剤をそれぞれフィーダーで計量しながら二軸押出機へ供給して溶融押出する方法;などが挙げられる。 As a method for making the variation in the concentration of the ultraviolet absorber in the layer A ± 0.1% by weight over the entire surface, (i) mixing the dried vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and the ultraviolet absorber, Next, the mixture is charged into a hopper connected to an extruder, and supplied to a single screw extruder and melt extruded; (2) a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is charged into a hopper with a dryer; A method in which an ultraviolet absorber is introduced from another inlet, and the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and the ultraviolet absorber are fed to a twin-screw extruder while being metered with a feeder and melt extruded.
また、層Aは、本発明の効果を著しく損なわない限り、ビニル脂環式炭化水素重合体及び紫外線吸収剤以外の成分を含む層であってもよい。そのような成分の例を挙げると、無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料や顔料等の着色剤;帯電防止剤などが挙げられる。これらその他の成分は、1種類が含まれていても良く、2種類以上が任意の比率及び組み合わせで含まれていてもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、その他の成分の量は少ないことが好ましい。その他の成分の具体的な量は本発明のフィルムの用途や層Aの厚さ等にもよるが、例えばビニル脂環式炭化水素重合体100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下が更に好ましい。中でも、その他の成分は含まないことが特に好ましい。 Further, the layer A may be a layer containing components other than the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and the ultraviolet absorber as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of such components include: inorganic fine particles; stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers and near infrared absorbers; resin modifiers such as lubricants and plasticizers; colorants such as dyes and pigments; Examples include inhibitors. One of these other components may be included, and two or more may be included in any ratio and combination. However, the amount of other components is preferably small from the viewpoint of remarkably exhibiting the effects of the present invention. The specific amount of the other components depends on the use of the film of the present invention and the thickness of the layer A, but is preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, 5 parts by weight or less is more preferable, and 3 parts by weight or less is still more preferable. Among these, it is particularly preferable that other components are not included.
(2)層Aの寸法
層Aの厚さは、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上であり、通常35μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは25μm以下である。層Aの厚さを前記範囲の下限以上にすることで偏光板保護フィルムとして使用した際に偏光板の破損防止などハンドリング性が向上するという利点があり、上限以下にすることで偏光板を薄くすることができるという利点がある。
(2) Dimensions of Layer A The thickness of the layer A is usually 10 μm or more, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, and usually 35 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 25 μm or less. When the thickness of the layer A is not less than the lower limit of the above range, there is an advantage that handling properties such as prevention of damage to the polarizing plate are improved when used as a polarizing plate protective film. There is an advantage that you can.
層Aの厚さのばらつきは全面で±1μm以内であることが好ましい。層Aの厚さのばらつきが全面で±1μm以内であることにより、本発明のフィルムの色調のばらつきが小さくなる。また、長期使用後の色調変化も均一となるため、長期使用後の色調ムラも起こり難い。 The variation in the thickness of the layer A is preferably within ± 1 μm over the entire surface. When the variation in the thickness of the layer A is within ± 1 μm on the entire surface, the variation in the color tone of the film of the present invention is reduced. In addition, since the color tone change after long-term use is uniform, color tone unevenness after long-term use hardly occurs.
なお、本発明のフィルムが層A以外にも層を有する積層フィルムである場合、層Aの厚さは、市販の接触式厚さ計を用いて、総厚を測定し、厚さ測定部分を切断し断面を光学顕微鏡で観察して、層Aと他の層との厚さ比を求めて、その比率より層Aの厚さを計算する。
層Aの厚さの測定はフィルムの横方向及び縦方向において一定間隔毎に行い、測定した測定値の算術平均値を基準厚さTaveとし、測定した厚さTの内最大値をTmax、最小値をTminとして、厚さのばらつきを以下の式から算出する。
厚さのばらつき(μm)=Tmin−Tave、又は
厚さのばらつき(μm)=Tmax−Tave
ここで前記Tmin−Tave、及びTmax−Taveの絶対値が異なる場合は、絶対値の大きいほうを採用する。
In addition, when the film of the present invention is a laminated film having layers other than the layer A, the thickness of the layer A is measured using a commercially available contact thickness gauge, and the thickness measurement portion is measured. After cutting, the cross section is observed with an optical microscope, the thickness ratio between the layer A and the other layer is obtained, and the thickness of the layer A is calculated from the ratio.
The thickness of the layer A is measured at regular intervals in the transverse and longitudinal directions of the film, the arithmetic average value of the measured values is set as the reference thickness T ave, and the maximum value of the measured thickness T is T max The thickness variation is calculated from the following equation, with the minimum value being T min .
Thickness variation (μm) = T min −T ave or Thickness variation (μm) = T max −T ave
Here, when the absolute values of T min −T ave and T max −T ave are different, the larger absolute value is adopted.
(3)層Aの物性
層Aの面内の位相差Reは、通常1nm以下、好ましくは0.8nm以下、より好ましくは0.5nm以下であり、下限は理想的には0nmである。本発明のフィルムは層Aの面内の位相差Reがこのように小さいため、偏光板等の光学素子の保護フィルムとして好適に用いることができる。
また、層Aの厚さ方向の位相差Rthは、通常1nm以下、好ましくは0.8nm以下、より好ましくは0.5nm以下であり、下限は理想的には0nmである。
層Aの位相差Re,Rthをこのように小さくできる理由は定かではないが、本発明者の検討によれば、以下のような理由によるものと推察される。すなわち、ビニル脂環式炭化水素重合体においては、芳香族ビニル化合物水素化物が負の複屈折性を有し、ジエン化合物水素化物が正の複屈折性を有することから、層Aの製造時に各々のユニットで発現する正・負の位相差が相殺され、層A全体の位相差の発現が抑制されているものと推察される。
なお、層Aの面内の位相差Reは、層Aの面内の主屈折率をnx及びnyとし、層Aの厚さをd(nm)として、Re=|nx−ny|×dで求められる。また、厚さ方向の位相差Rthは、層A全体の面内の主屈折率をnx及びnyとし、厚さ方向の屈折率をnzとし、層Aの厚さをd(nm)とすると、Rth=[{(nx+ny)/2}−nz]×dで求めることができる。これらの位相差Re及びRthは、例えば市販の自動複屈折計を用いて測定することができる。なお、前記の位相差Re及びRthは、波長590nmの光に対する評価とする。
(3) Physical properties of layer A The in-plane retardation Re of layer A is usually 1 nm or less, preferably 0.8 nm or less, more preferably 0.5 nm or less, and the lower limit is ideally 0 nm. Since the in-plane retardation Re of the layer A is so small, the film of the present invention can be suitably used as a protective film for optical elements such as polarizing plates.
Further, the thickness direction retardation Rth of the layer A is usually 1 nm or less, preferably 0.8 nm or less, more preferably 0.5 nm or less, and the lower limit is ideally 0 nm.
The reason why the phase differences Re and Rth of the layer A can be reduced in this way is not clear, but according to the study by the inventor, it is assumed that the reason is as follows. That is, in the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, the aromatic vinyl compound hydride has a negative birefringence, and the diene compound hydride has a positive birefringence. It is presumed that the positive and negative phase differences expressed in the unit of the above are offset, and the expression of the phase difference of the entire layer A is suppressed.
The in-plane retardation Re of the layer A is expressed by Re = | nx−ny | × d, where the main refractive index in the plane of the layer A is nx and ny, and the thickness of the layer A is d (nm). Desired. Further, the retardation Rth in the thickness direction is such that the in-plane main refractive index of the entire layer A is nx and ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the thickness of the layer A is d (nm). Rth = [{(nx + ny) / 2} −nz] × d. These phase differences Re and Rth can be measured using, for example, a commercially available automatic birefringence meter. The phase differences Re and Rth are evaluated for light having a wavelength of 590 nm.
層Aは、通常、透明な層であり可視光線を良好に透過させる。具体的な光線透過率は本発明のフィルムの用途に応じて一様ではないが、波長420〜780nmにおける光線透過率としては、通常85%以上、好ましくは88%以上である。層Aが波長420〜780nmにおいてこのように高い光線透過率を有することにより、本発明のフィルムを液晶表示装置などの表示装置に実装した場合に、特に長期間使用時の輝度低下を抑制できる。 The layer A is usually a transparent layer and transmits visible light well. Although the specific light transmittance is not uniform depending on the use of the film of the present invention, the light transmittance at a wavelength of 420 to 780 nm is usually 85% or more, preferably 88% or more. When the layer A has such a high light transmittance at a wavelength of 420 to 780 nm, when the film of the present invention is mounted on a display device such as a liquid crystal display device, it is possible to suppress a decrease in luminance particularly during long-term use.
層Aが紫外線吸収剤を含有する場合、層Aの波長250nm〜370nmにおける光線透過率は、0.1%以下が好ましい。下限は、理想的には0%である。層Aがこのように波長250nm〜370nmの紫外線を透過させないことにより、本発明のフィルムは良好な光学素子保護フィルムとして使用することができ、例えば偏光フィルム等の黄変を長期間にわたって防止できる。
なお光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計を用いて測定することができる。
When layer A contains an ultraviolet absorber, the light transmittance at a wavelength of 250 nm to 370 nm of layer A is preferably 0.1% or less. The lower limit is ideally 0%. Since the layer A does not transmit ultraviolet rays having a wavelength of 250 nm to 370 nm as described above, the film of the present invention can be used as a good protective film for optical elements, and for example, yellowing of a polarizing film or the like can be prevented over a long period of time.
The light transmittance can be measured using a spectrophotometer according to JIS K0115.
層Aは、耐衝撃性に優れる。このように優れた耐衝撃性を有する理由は定かではないが、本発明者の検討によれば、以下のような理由によるものと推察される。すなわち、ビニル脂環式炭化水素重合体においては、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとが相分離し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの相ドメインの間をジエン化合物水素化物ブロックの相ドメインが繋ぐような構造になっていると推察され、このようなドメイン構造においてはジエン化合物水素化物ブロックがいわば緩衝材のように機能するため、耐衝撃性が向上しているものと推察される。 Layer A is excellent in impact resistance. The reason for such excellent impact resistance is not clear, but according to the study of the present inventor, it is presumed that the reason is as follows. That is, in the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, the aromatic vinyl compound hydride block and the diene compound hydride block are phase-separated, and the diene compound hydride block is between the phase domains of the aromatic vinyl compound hydride block. It is inferred that the structure has a structure in which the phase domains of each other are connected, and in such a domain structure, the diene compound hydride block functions like a buffer material, so it is assumed that the impact resistance is improved. Is done.
層Aは、通常は耐熱性に優れる。ビニル脂環式炭化水素重合体が耐熱性に優れるため、それを含む層Aも耐熱性が高いものとなるからである。なお、具体的な耐熱性の程度はビニル脂環式炭化水素重合体の芳香族ビニル化合物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックの組成比、分子量及び層Aの厚さ等に応じて設定できるため、フィルムの用途に応じて適切に調整すればよい。 Layer A is usually excellent in heat resistance. This is because the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is excellent in heat resistance, so that the layer A containing the polymer also has high heat resistance. The specific degree of heat resistance can be set according to the composition ratio of the aromatic vinyl compound block and the diene compound hydride block of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, the molecular weight, the thickness of the layer A, etc. What is necessary is just to adjust suitably according to the use of.
[1−3.層構成]
本発明のフィルムは、層Aを少なくとも1層有する限り、任意の層構成にすることができる。したがって、本発明のフィルムは、例えば、層Aを1層のみを有する単層構造のフィルムであってもよく、層Aを2層以上備える積層構造のフィルムであってもよく、層A以外にも層を1層又は2層以上備える積層構造のフィルムであってもよい。本発明のフィルムが備えてもよい層A以外の層としては、例えば、フィルムの滑り性を良くするマット層、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。
[1-3. Layer structure]
The film of the present invention can have any layer structure as long as it has at least one layer A. Therefore, the film of the present invention may be, for example, a single-layer film having only one layer A, or a laminated film having two or more layers A. Alternatively, a film having a laminated structure including one layer or two or more layers may be used. Examples of the layer other than the layer A that the film of the present invention may have include, for example, a hard coat layer such as a mat layer and an impact-resistant polymethacrylate resin layer that improve the slipperiness of the film, an antireflection layer, and an antifouling layer Is mentioned.
ただし、いずれの層構成にする場合であっても、本発明のフィルム自体が、層Aの物性の項で説明した層Aの位相差、光線透過率、耐衝撃性、耐熱性等の優れた物性と同様の物性を有するようにすることが好ましい。したがって、例えば面内の位相差Reに関して言えば、いずれの層構成のフィルムであっても、フィルムの面内の位相差Reは1nm以下となることが好ましい。なお、後述する層構成の第二の例のように、その使用時にフィルムから剥離層(例えば層C)を剥離する場合においては、フィルムから剥離層を剥離した後に残った層の物性が、層Aの物性の項で説明したのと同様の物性を有するようにすることが好ましく、剥離前のフィルムは前記物性を有していなくても構わない。
本発明のフィルムの具体的な層構成は、本発明のフィルムの用途等に応じて設定できるが、中でも好適な層構成の例としては、以下の2例が挙げられる。
However, in any layer configuration, the film itself of the present invention is excellent in the phase difference, light transmittance, impact resistance, heat resistance, etc. of the layer A described in the physical properties of the layer A. It is preferable to have physical properties similar to the physical properties. Therefore, for example, with respect to the in-plane retardation Re, the in-plane retardation Re of the film is preferably 1 nm or less for any film having a layer structure. In addition, when peeling a peeling layer (for example, layer C) from a film at the time of its use, as in the second example of the layer configuration described later, the physical properties of the layer remaining after peeling the peeling layer from the film are: It is preferable to have the same physical properties as described in the physical property section A, and the film before peeling may not have the physical properties.
The specific layer configuration of the film of the present invention can be set according to the use of the film of the present invention, etc. Among them, the following two examples are preferable as examples of the layer configuration.
(1)層構成の第一の例
まず、本発明のフィルムの層構成の第一の例について説明する。第一の例に係るフィルムは、層Aに加え、少なくとも層Bを備える積層フィルムである。
ここで層Bとは、少なくとも上述したビニル脂環式炭化水素重合体および微粒子を含む層である。層Bがビニル脂環式炭化水素重合体を有することにより、第一の例に係るフィルムは、位相差Reを小さくでき、且つ、耐衝撃性を高めることが可能となっている。また通常は、層Bがビニル脂環式炭化水素重合体を含むことにより層Aとの親和性が高くなるため、層Aと層Bとの接着強度を高めることも可能である。さらに、層Bが微粒子を含むことにより、層Bの表面は滑り性が良好となっているので、フィルムの取り扱い性を改善することが可能である。
(1) First Example of Layer Structure First, a first example of the layer structure of the film of the present invention will be described. The film according to the first example is a laminated film including at least the layer B in addition to the layer A.
Here, the layer B is a layer containing at least the above-described vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and fine particles. Since the layer B includes the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, the film according to the first example can reduce the retardation Re and can improve the impact resistance. In general, since the layer B contains a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, the affinity with the layer A is increased, so that the adhesive strength between the layer A and the layer B can be increased. Furthermore, since the layer B contains fine particles, the surface of the layer B has good slipperiness, so that the handleability of the film can be improved.
層Bに含まれるビニル脂環式炭化水素重合体は、層Aに含まれるビニル脂環式炭化水素重合体と同様である。 The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer contained in layer B is the same as the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer contained in layer A.
層Bに含まれる微粒子は、無機粒子でもよく、有機粒子でもよく、無機材料及び有機材料を組み合わせた複合粒子でもよい。中でも無機粒子が好ましく、特に、金属酸化物の微粒子がより好ましい。その具体例を挙げると、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化珪素、酸化スズ、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン等が挙げられる。中でも、酸化チタン−酸化ケイ素系の金属酸化物は、屈折率の調整が容易である点から特に好ましい。これらの微粒子は、例えば特開平7−2520公報に記載の手法を用いて製造することができる。なお、微粒子は、1種類のものを用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The fine particles contained in the layer B may be inorganic particles, organic particles, or composite particles combining an inorganic material and an organic material. Of these, inorganic particles are preferable, and metal oxide fine particles are more preferable. Specific examples thereof include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, copper oxide, aluminum oxide, cerium oxide, yttrium oxide, silicon oxide, tin oxide, iron oxide, magnesium oxide, and manganese oxide. Among these, titanium oxide-silicon oxide based metal oxides are particularly preferable because the refractive index can be easily adjusted. These fine particles can be produced, for example, using the technique described in JP-A-7-2520. Note that one kind of fine particles may be used, or two or more kinds may be used in combination at an arbitrary ratio.
層Bに含まれる微粒子の平均粒子径は、通常0.01μm以上、好ましくは0.03μm以上、より好ましくは0.05μm以上であり、通常1.0μm以下、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。微粒子の平均粒子径を前記範囲の下限以上にすることで、フィルムの滑り性を高めることが可能となる。また、微粒子の平均粒子径を前記範囲の上限以下とすることで、フィルムのヘイズを抑制することができる。
なお微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により撮影した写真から200個以上の粒子径を計測し、平均値を算出することによって測定できる。
The average particle size of the fine particles contained in the layer B is usually 0.01 μm or more, preferably 0.03 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and usually 1.0 μm or less, preferably 0.5 μm or less, more preferably Is 0.3 μm or less. By making the average particle diameter of the fine particles equal to or more than the lower limit of the above range, it becomes possible to improve the slipperiness of the film. Moreover, the haze of a film can be suppressed by making the average particle diameter of fine particles below the upper limit of the said range.
The average particle diameter of the fine particles can be measured by measuring 200 or more particle diameters from a photograph taken with a transmission electron microscope and calculating the average value.
微粒子の屈折率は、通常1.20以上、好ましくは1.30以上、より好ましくは1.40以上、特に好ましくは1.43以上であり、通常1.60以下、好ましくは1.57以下、より好ましくは1.55以下である。微粒子の屈折率をこの範囲に収めることにより、微粒子によるフィルムの透明性の低下を避けることができる。 The refractive index of the fine particles is usually 1.20 or more, preferably 1.30 or more, more preferably 1.40 or more, particularly preferably 1.43 or more, and usually 1.60 or less, preferably 1.57 or less, More preferably, it is 1.55 or less. By keeping the refractive index of the fine particles within this range, it is possible to avoid a decrease in transparency of the film due to the fine particles.
層Bにおいて、微粒子のビニル脂環式炭化水素重合体に対する重量比は、通常0.01%以上、好ましくは0.03%以上、より好ましくは0.05%以上であり、通常5.00%以下、好ましくは4.00%以下、より好ましくは3.00%以下である。微粒子の前記重量比を前記範囲の下限以上にすることで、フィルムの滑り性を高めることが可能となる。また、微粒子の前記重量比を前記範囲の上限以下とすることで、フィルムの表面に微粒子の脱落による白粉が発生して傷つきが生じたり、層Bの強度が低下したりすることを防止できる。 In layer B, the weight ratio of the fine particles to the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is usually 0.01% or more, preferably 0.03% or more, more preferably 0.05% or more, and usually 5.00%. Hereinafter, it is preferably 4.00% or less, more preferably 3.00% or less. By making the weight ratio of the fine particles equal to or higher than the lower limit of the range, it becomes possible to improve the slipperiness of the film. Further, by setting the weight ratio of the fine particles to be equal to or less than the upper limit of the above range, it is possible to prevent white powder due to dropping off of fine particles from being generated on the surface of the film, resulting in damage or a decrease in the strength of the layer B.
また、層Bは、本発明の効果を著しく損なわない限り、ビニル脂環式炭化水素重合体及び微粒子以外の成分を含む層であってもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、ビニル脂環式炭化水素重合体及び微粒子以外の成分の量は少ないことが好ましい。ビニル脂環式炭化水素重合体及び微粒子以外の成分の具体的な量はフィルムの用途や厚さ等にもよるが、例えばビニル脂環式炭化水素重合体100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下が更に好ましい。中でも、ビニル脂環式炭化水素重合体及び微粒子以外の成分は含まないことが特に好ましい。 The layer B may be a layer containing components other than the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and the fine particles as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. However, from the viewpoint of remarkably exerting the effects of the present invention, it is preferable that the amount of components other than the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and the fine particles is small. The specific amount of components other than the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and fine particles depends on the use and thickness of the film, but for example, 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. The following is preferable, 5 parts by weight or less is more preferable, and 3 parts by weight or less is still more preferable. Among these, it is particularly preferable that components other than the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and fine particles are not included.
層Bの厚さは、通常0.5μm以上、好ましくは1.0μm以上、より好ましくは1.5μm以上であり、通常10.0μm以下、好ましくは8.0μm以下、より好ましくは7.5μm以下である。層Bの厚さを前記範囲の下限以上にすることでフィルムの耐衝撃性を十分に高くすることができ、上限以下にすることでフィルムの位相差を小さく抑制し、且つ、ヘイズを小さくすることができる。なお、層Bの厚さは層Aの厚さと同様にして測定できる。 The thickness of layer B is usually 0.5 μm or more, preferably 1.0 μm or more, more preferably 1.5 μm or more, and usually 10.0 μm or less, preferably 8.0 μm or less, more preferably 7.5 μm or less. It is. By making the thickness of the layer B equal to or higher than the lower limit of the above range, the impact resistance of the film can be sufficiently increased, and by setting the thickness to the upper limit or lower, the retardation of the film is suppressed to be small and the haze is reduced. be able to. The thickness of the layer B can be measured in the same manner as the thickness of the layer A.
層Bは、フィルムの少なくとも一方の最表面には位置することが好ましい。微粒子を含む層Bは優れた滑り性を有するので、層Bが最表面に位置することにより、第一の例に係るフィルムも優れた滑り性を発揮できるようになり、フィルムの取り扱い性が向上するからである。 Layer B is preferably located on at least one outermost surface of the film. Since the layer B containing fine particles has excellent slipperiness, when the layer B is located on the outermost surface, the film according to the first example can also exhibit excellent slipperiness, and the handleability of the film is improved. Because it does.
また、層Aと層Bとは、その層界面の少なくとも一部が接着層を介さずに直接に接することが好ましく、その層界面の全体が接着層を介さずに直接に接していることがより好ましい。このように接着層を介することなく層Aと層Bとが直接に積層されていても、層Aと層Bとが共にビニル脂環式炭化水素重合体を含んでいるため、層Aと層Bとは強固に接着されている。したがって、接着剤が不要となることでフィルムの厚みを薄くすることが可能となる。 In addition, it is preferable that at least a part of the layer interface between the layer A and the layer B is in direct contact without an adhesive layer, and the entire layer interface is in direct contact without an adhesive layer. More preferred. Thus, even if the layer A and the layer B are directly laminated without interposing the adhesive layer, both the layer A and the layer B contain the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. It is firmly bonded to B. Therefore, it becomes possible to reduce the thickness of the film by eliminating the need for an adhesive.
第一の例に係るフィルムは少なくとも層A及び層Bを有するフィルムであればよい。したがって、第一の例に係るフィルムは、前記の層A及び層Bの2層のみからなる積層フィルムであってもよく、3層以上の層を有する積層フィルムであってもよい。例えば、本発明のフィルムは、前記の層A及び層Bの一方又は両方を2層以上有する積層フィルムであってもよい。この際、層Aは、フィルムの最表面には位置しないことが好ましい。すなわち、層Aの両面には別の層が形成されていることが好ましい。中でも、層Aの両面に層Bが形成されることで、層B、層A及び層Bをこの順に有する積層フィルムとすることが特に好ましい。これにより、層Aに含まれる成分を層Bによって保護することが可能となるからである。中でも、層Bが紫外線吸収剤を含有する場合、フィルムの成形時における紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できることから、特に好ましい。 The film which concerns on a 1st example should just be a film which has the layer A and the layer B at least. Therefore, the film according to the first example may be a laminated film including only two layers A and B, or may be a laminated film having three or more layers. For example, the film of the present invention may be a laminated film having two or more of one or both of the layer A and the layer B. At this time, the layer A is preferably not located on the outermost surface of the film. That is, another layer is preferably formed on both sides of the layer A. Especially, it is especially preferable to set it as the laminated film which has layer B, layer A, and layer B in this order by forming layer B on both surfaces of layer A. This is because the component contained in the layer A can be protected by the layer B. Especially, when the layer B contains a ultraviolet absorber, since the bleeding out of the ultraviolet absorber at the time of shaping | molding of a film can be suppressed, it is especially preferable.
さらに、第一の例に係るフィルムは、本発明の効果を著しく損なわない限り、層A及び層B以外にその他の層を有していてもよい。なお、その他の層は、1層でもよく、2層以上であってもよい。また、各層は同じでもよく、異なる層であってもよい。また、その他の層の位置は任意に設定できる。 Furthermore, the film according to the first example may have other layers in addition to the layer A and the layer B as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. The other layers may be one layer or two or more layers. Moreover, each layer may be the same or different. The positions of other layers can be set arbitrarily.
第一の例に係るフィルムは、少なくともその面内の位相差Re、厚み方向の位相差Rth、光線透過率及び耐衝撃性については、層Aのみからなるフィルムと同様である。第一の例に係るフィルムは、層A及び層Bがいずれもビニル脂環式炭化水素重合体を含むため、位相差Reが小さく、且つ、耐衝撃性が小さいため、偏光板保護フィルムとして好適に使用できる。
さらに、第一の例に係るフィルムは層Bを備えるため、層A単独のフィルムと比較して表面の滑り性が向上しており、取り扱い性が良好である。このため、第一の例に係るフィルムはロール状にして保存、運搬などを行いやすく、さらに使用時にロールから引き出しやすくなっている。
The film according to the first example is the same as the film composed of only the layer A with respect to at least the in-plane retardation Re, the thickness direction retardation Rth, the light transmittance, and the impact resistance. The film according to the first example is suitable as a polarizing plate protective film because both the layer A and the layer B contain a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, so that the retardation Re is small and the impact resistance is small. Can be used for
Furthermore, since the film according to the first example includes the layer B, the slipperiness of the surface is improved as compared with the film of the layer A alone, and the handleability is good. For this reason, the film which concerns on a 1st example makes it easy to carry out a preservation | save, conveyance etc. in roll shape, and also becomes easy to pull out from a roll at the time of use.
(2)層構成の第二の例
次に、本発明のフィルムの層構成の第二の例について説明する。第二の例に係るフィルムは、層Aに加え、少なくとも層Cを備える積層フィルムである。
ここで層Cとは、(i)ポリエステル、(ii)ポリカーボネート、(iii)ポリプロピレン、(iv)水素化ノルボルネン重合体、及び、(v)メタクリル酸エステル系重合体、からなる群より選ばれるいずれか1種類以上の材料等を含む層である。
(2) Second Example of Layer Configuration Next, a second example of the layer configuration of the film of the present invention will be described. The film according to the second example is a laminated film including at least layer C in addition to layer A.
Here, the layer C is any selected from the group consisting of (i) polyester, (ii) polycarbonate, (iii) polypropylene, (iv) hydrogenated norbornene polymer, and (v) methacrylate ester-based polymer. Or a layer containing one or more materials.
(i)ポリエステル
ポリエステルとしては、エステル結合による繰り返し単位(以下、適宜「エステル成分」という。)を有する重合体であれば任意のものを使用できる。また、ポリエステルは、1種類の繰り返し単位からなるものを用いてもよく、2種類以上の繰り返し単位を任意の比率で組み合わせてなるものを用いてもよい。さらに、ポリエステルは、エステル成分以外の繰り返し単位を有する共重合体であってもよい。ポリエステルが共重合体である場合には、ポリエステルはランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体でもよく、グラフト共重合体でもよい。ただし、ポリエステルがエステル成分以外の繰り返し単位を有する場合でも、ポリエステルが含むエステル成分の含有率が高いことが好ましく、具体的には、80重量%以上が好ましく、85重量%以上がより好ましい。
ポリエステルの例を挙げると、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートなどが挙げられる。なお、層Cが含むポリエステルは、1種類であってもよく、2種類以上が任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。
(I) Polyester As the polyester, any polymer can be used as long as it is a polymer having a repeating unit by an ester bond (hereinafter referred to as “ester component” as appropriate). Moreover, what consists of one type of repeating unit may be used for polyester, and what combined two or more types of repeating units by arbitrary ratios may be used for it. Further, the polyester may be a copolymer having a repeating unit other than the ester component. When the polyester is a copolymer, the polyester may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer. However, even when the polyester has a repeating unit other than the ester component, the content of the ester component contained in the polyester is preferably high. Specifically, the content is preferably 80% by weight or more, and more preferably 85% by weight or more.
Examples of polyesters include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene-2,6-naphthalate. In addition, the polyester which the layer C contains may be one type, and may be contained combining two or more types by arbitrary ratios.
ポリエステルの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常5000以上、好ましくは10000以上、より好ましくは15000以上であり、通常100000以下、好ましくは80000以下、より好ましくは65000以下である。
また、ポリエステルの融点は、通常210℃以上、好ましくは220℃以上、より好ましくは230℃以上であり、通常280℃以下、好ましくは270℃以下、より好ましくは260℃以下である。
The weight average molecular weight of the polyester is a polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography, and is usually 5000 or more, preferably 10,000 or more, more preferably 15000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 80,000 or less. More preferably, it is 65000 or less.
The melting point of the polyester is usually 210 ° C. or higher, preferably 220 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and is usually 280 ° C. or lower, preferably 270 ° C. or lower, more preferably 260 ° C. or lower.
(ii)ポリカーボネート
ポリカーボネートとしては、カーボネート結合(−O−C(=O)−O−)による繰り返し単位(以下、適宜「カーボネート成分」という。)を有する重合体であれば任意のものを使用できる。また、ポリカーボネートは、1種類の繰り返し単位からなるものを用いてもよく、2種類以上の繰り返し単位を任意の比率で組み合わせてなるものを用いてもよい。さらに、ポリカーボネートは、カーボネート成分以外の繰り返し単位を有する共重合体であってもよい。ポリカーボネートが共重合体である場合には、ポリカーボネートはランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体でもよく、グラフト共重合体でもよい。ただし、ポリカーボネートがカーボネート成分以外の繰り返し単位を有する場合でも、ポリカーボネートが含むカーボネート成分の含有率が高いことが好ましく、具体的には、80重量%以上が好ましく、85重量%以上がより好ましい。
ポリカーボネートの例を挙げると、ビスフェノールAポリカーボネート、分岐ビスフェノールAポリカーボネートなどが挙げられる。なお、層Cが含むポリカーボネートは、1種類であってもよく、2種類以上が任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。
(Ii) Polycarbonate Any polycarbonate can be used as long as it is a polymer having a repeating unit (hereinafter referred to as “carbonate component” as appropriate) based on a carbonate bond (—O—C (═O) —O—). . Moreover, what consists of one type of repeating unit may be used for a polycarbonate, and what combined two or more types of repeating units in arbitrary ratios may be used. Further, the polycarbonate may be a copolymer having a repeating unit other than the carbonate component. When the polycarbonate is a copolymer, the polycarbonate may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer. However, even when the polycarbonate has a repeating unit other than the carbonate component, the content of the carbonate component contained in the polycarbonate is preferably high. Specifically, the content is preferably 80% by weight or more, and more preferably 85% by weight or more.
Examples of the polycarbonate include bisphenol A polycarbonate and branched bisphenol A polycarbonate. In addition, the polycarbonate which the layer C contains may be one type, and may be contained combining two or more types by arbitrary ratios.
ポリカーボネートの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常10000以上、好ましくは30000以上、より好ましくは50000以上であり、通常200000以下、好ましくは180000以下、より好ましくは160000以下である。
また、ポリカーボネートのガラス転移温度は、通常130℃以上、好ましくは140℃以上、より好ましくは150℃以上であり、通常190℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは170℃以下である。
The weight average molecular weight of the polycarbonate is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, and is usually 10,000 or more, preferably 30,000 or more, more preferably 50,000 or more, and usually 200,000 or less, preferably 180000 or less. More preferably, it is 160000 or less.
The glass transition temperature of polycarbonate is usually 130 ° C. or higher, preferably 140 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and is usually 190 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower.
(iii)ポリプロピレン
ポリプロピレンは、プロピレンの単独重合体であってもよく、プロピレン以外の単量体との共重合体であってもよい。ポリプロピレンが共重合体である場合、ポリプロピレンはランダム重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよく、グラフト重合体であってもよい。ただし、ただし、ポリプロピレンが共重合体である場合でも、ポリプロピレンが含むプロピレン由来の繰り返し単位の含有率が高いことが好ましく、具体的には、80重量%以上が好ましく、85重量%以上がより好ましい。なお、層Cが含むポリプロピレンは、1種類であってもよく、2種類以上が任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。
(Iii) Polypropylene Polypropylene may be a homopolymer of propylene or a copolymer with a monomer other than propylene. When polypropylene is a copolymer, the polypropylene may be a random polymer, a block copolymer, or a graft polymer. However, even when the polypropylene is a copolymer, it is preferable that the content of the propylene-derived repeating unit contained in the polypropylene is high, specifically, 80% by weight or more is preferable, and 85% by weight or more is more preferable. . In addition, the polypropylene which the layer C contains may be one kind, and may be contained combining two or more kinds by arbitrary ratios.
ポリプロピレンの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常10000以上、好ましくは20000以上、より好ましくは25000以上であり、通常200000以下、好ましくは180000以下、より好ましくは150000以下である。
また、ポリプロピレンの融点は、通常100℃以上、好ましくは110℃以上、より好ましくは120℃以上であり、通常170℃以下、好ましくは160℃以下、より好ましくは150℃以下である。
The weight average molecular weight of polypropylene is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, and is usually 10,000 or more, preferably 20,000 or more, more preferably 25,000 or more, and usually 200,000 or less, preferably 180000 or less. More preferably, it is 150,000 or less.
The melting point of polypropylene is usually 100 ° C. or higher, preferably 110 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and is usually 170 ° C. or lower, preferably 160 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.
(iv)水素化ノルボルネン重合体
水素化ノルボルネン重合体は、ノルボルネン重合体の水素化物である。ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネン単量体の開環重合体、ノルボルネン単量体と共重合可能な単量体との開環共重合体、ノルボルネン単量体の付加重合体、ノルボルネン単量体と共重合可能な単量体との付加共重合体が挙げられる。
中でも、ノルボルネン単量体の開環重合体の水素化物は、耐熱性及び機械的強度が良好であり、特に好適に用いることができる。
(Iv) Hydrogenated norbornene polymer The hydrogenated norbornene polymer is a hydride of a norbornene polymer. Examples of the norbornene polymer include a ring-opening polymer of a norbornene monomer, a ring-opening copolymer of a monomer copolymerizable with the norbornene monomer, an addition polymer of a norbornene monomer, and a norbornene monomer. And an addition copolymer of a monomer and a copolymerizable monomer.
Among them, a hydride of a ring-opening polymer of a norbornene monomer has good heat resistance and mechanical strength, and can be particularly preferably used.
ノルボルネン単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(別名ノルボルネン)、トリシクロ[5.2.1.02,7]デカ−3,8−ジエン(別名ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ[7.4.110,13.01,9.02,7]トリデカ−2,4,6,11−テトラエン(別名メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.12,5.17,10.0]ドデカ−3−エン(別名テトラシクロドデセン)、これらの環に置換基を有する誘導体などが挙げられる。置換基としては、例えば、アルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。なお、置換基は、1個又は2個以上を有することができる。このような誘導体としては、例えば、8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.12,5.17,10.0]ドデカ−3−エン、8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.12,5.17,10.0]ドデカ−3−エン等が挙げられる。なお、ノルボルネン単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the norbornene monomer include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (also known as norbornene), tricyclo [5.2.1.0 2,7 ] deca-3,8-diene (also known as diene). Cyclopentadiene), tetracyclo [7.4.1 10,13 . 0 1,9 . 0 2,7 ] trideca-2,4,6,11-tetraene (also known as methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.1 2,5 . 1 7,10 . 0] dodec-3-ene (also known as tetracyclododecene), derivatives having substituents on these rings, and the like. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and an alkoxycarbonyl group. In addition, a substituent can have 1 piece or 2 or more pieces. Examples of such derivatives include 8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.1 2,5 . 1 7,10 . 0] dodec-3-ene, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.1 2,5 . 1 7,10 . 0] dodec-3-ene and the like. In addition, a norbornene monomer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ノルボルネン単量体の開環重合体及びノルボルネン単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得られる。開環重合触媒としては、例えば、ルテニウム、オスミウム等の金属のハロゲン化物、硝酸塩又はアセチルアセトン化合物及び還元剤からなる触媒;チタン、ジルコニウム、タングステン、モリブデン等の金属のハロゲン化物又はアセチルアセトン化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒;などが挙げられる。
ノルボルネン単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの単環の環状オレフィンなどが挙げられる。なお、これらのノルボルネン単量体と共重合可能な他の単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
A ring-opening polymer of norbornene monomer and a ring-opening copolymer with other monomers copolymerizable with norbornene monomer are obtained by polymerizing the monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst. It is done. Examples of the ring-opening polymerization catalyst include a metal halide such as ruthenium and osmium, a catalyst comprising a nitrate or acetylacetone compound and a reducing agent; a metal halide such as titanium, zirconium, tungsten and molybdenum, or an acetylacetone compound and an organoaluminum compound. A catalyst consisting of: and the like.
Examples of the other monomer capable of ring-opening copolymerization with the norbornene monomer include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene. In addition, the other monomer copolymerizable with these norbornene monomers may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ノルボルネン単量体の付加重合体及びノルボルネン単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得られる。付加重合触媒としては、例えば、チタン、ジルコニウム、バナジウム等の金属の化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒等が挙げられる。
ノルボルネン単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン等の炭素原子数2〜20のα−オレフィン、並びにこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデン等のシクロオレフィン、並びにこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエン等の非共役ジエン;などが挙げられる。これらの中で、α−オレフィンが好ましく、エチレンが特に好ましい。なお、これらのノルボルネン単量体と共重合可能な他の単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
The addition polymer of norbornene monomer and the addition copolymer with other monomer copolymerizable with norbornene monomer can be obtained, for example, by polymerizing the monomer in the presence of an addition polymerization catalyst. . Examples of the addition polymerization catalyst include a catalyst composed of a metal compound such as titanium, zirconium, vanadium and an organoaluminum compound.
Examples of other monomers copolymerizable with norbornene monomers include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1- Α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as hexadecene, 1-octadecene, 1-eicosene and the like; and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cyclooctene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7- Cycloolefins such as methano-1H-indene, and derivatives thereof; non-conjugated such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,7-octadiene Diene; and the like. Of these, α-olefins are preferred and ethylene is particularly preferred. In addition, the other monomer copolymerizable with these norbornene monomers may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ノルボルネン単量体と共重合可能な他の単量体との共重合体は、共重合体中のノルボルネン成分の割合が、30重量%以上であることが好ましく、50重量%であることがより好ましく、70重量%以上であることがさらに好ましい。 In the copolymer of the norbornene monomer and other monomers copolymerizable, the ratio of the norbornene component in the copolymer is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight. Preferably, it is 70% by weight or more.
ノルボルネン重合体の水素化物は、例えば、ノルボルネン重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む水素化触媒を含有させ、炭素−炭素不飽和結合を水素化することにより得られる。
なお、層Cが含む水素化ノルボルネン重合体は、1種類であってもよく、2種類以上が任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。
The hydride of norbornene polymer can be obtained, for example, by containing a hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium in a solution of norbornene polymer and hydrogenating a carbon-carbon unsaturated bond.
In addition, the hydrogenated norbornene polymer included in the layer C may be one type, or two or more types may be included in combination at an arbitrary ratio.
水素化ノルボルネン重合体の重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算で、通常5,000以上、好ましくは8,000以上、より好ましくは10,000以上であり、通常500,000以下、好ましくは200,000以下、より好ましくは100,000以下である。
水素化ノルボルネン重合体のガラス転移温度は、通常80℃以上、好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上であり、通常250℃以下、好ましくは200℃以下である。
The weight average molecular weight of the hydrogenated norbornene polymer is usually 5,000 or more, preferably 8,000 or more, more preferably 10,000 or more, and usually 500, in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. , 000 or less, preferably 200,000 or less, more preferably 100,000 or less.
The glass transition temperature of the hydrogenated norbornene polymer is usually 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and usually 250 ° C. or lower, preferably 200 ° C. or lower.
(v)メタクリル酸エステル系重合体
メタクリル酸エステル系重合体は、メタクリル酸エステル(M1)を主成分とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体、及び、メタクリル酸エステルとその他の単量体との共重合体が挙げられる。メタクリル酸エステル(M1)としては、通常、メタクリル酸アルキルが用いられる。共重合体とする場合、メタクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体としては、例えば、アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物、ビニルシアン化合物などが挙げられる。
中でも、メタクリル酸エステル系重合体は、炭素原子数1〜4のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルと、アクリル酸エステル(M2)と、必要に応じてこれらに共重合可能なビニル基を有する化合物(M3)とを含む単量体の重合により得られる重合体であることが好ましい。
(V) Methacrylic acid ester polymer The methacrylic acid ester polymer is a polymer mainly composed of methacrylic acid ester (M1). It is a homopolymer of methacrylic acid ester, and methacrylic acid ester and other single polymers. And a copolymer with a monomer. As the methacrylic acid ester (M1), alkyl methacrylate is usually used. In the case of a copolymer, examples of other monomers copolymerizable with methacrylic acid esters include acrylic acid esters, aromatic vinyl compounds, and vinylcyan compounds.
Among them, a methacrylic acid ester polymer is an alkyl methacrylate having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an acrylate ester (M2), and a compound having a vinyl group copolymerizable therewith if necessary ( A polymer obtained by polymerization of a monomer containing M3) is preferred.
メタクリル酸アルキルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル等が挙げられるが、特にメタクリル酸メチルが好ましい。
アクリル酸エステル(M2)としては、通常アクリル酸アルキルが用いられ、そのアルキル基は、炭素原子数1〜8が好ましい。例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシルなどが挙げられる。
メタクリル酸アルキル(M1)及び/又はアクリル酸エステル(M2)に共重合可能な、ビニル基を有する化合物(M3)とは、従来からメタクリル重合体の分野で知られている各種単量体が使用できる。例えば、スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル等のビニルシアン化合物などが挙げられる。
なお、これらの単量体は、それぞれ、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
Examples of the alkyl methacrylate include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate and the like, and methyl methacrylate is particularly preferable.
As the acrylate ester (M2), alkyl acrylate is usually used, and the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and the like.
The compound (M3) having a vinyl group that can be copolymerized with an alkyl methacrylate (M1) and / or an acrylic ester (M2) is a variety of monomers that are conventionally known in the field of methacrylic polymers. it can. For example, aromatic vinyl compounds such as styrene, vinylcyan compounds such as acrylonitrile, and the like can be given.
Each of these monomers may be used alone or in combination of two or more at any ratio.
メタクリル酸エステル系重合体は、メタクリル酸エステル(M1)を通常50重量%以上、通常100重量%以下、好ましくは99.9重量%以下、より好ましくは99.5重量%以下と、アクリル酸エステル(M2)を通常0重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、通常50重量%以下と、これらに共重合可能な前記ビニル基を有する化合物(M3)を通常0重量%以上、通常49重量%以下とを、重合させて得られるものが好適である。
なお、層Cが含むメタクリル酸エステル系重合体は、1種類であってもよく、2種類以上が任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。
As for the methacrylic acid ester polymer, methacrylic acid ester (M1) is usually 50% by weight or more, usually 100% by weight or less, preferably 99.9% by weight or less, more preferably 99.5% by weight or less. (M2) is usually 0% by weight or more, preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more and usually 50% by weight or less, and the compound (M3) having a vinyl group copolymerizable therewith. ) Is usually obtained by polymerizing 0 wt% or more and usually 49 wt% or less.
In addition, the methacrylate polymer which the layer C contains may be one type, and two or more types may be included in combination at an arbitrary ratio.
メタクリル酸エステル系重合体の重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常10000以上、好ましくは15000以上、より好ましくは20000以上であり、通常300000以下、好ましくは250000以下、より好ましくは200000以下である。 The weight average molecular weight of the methacrylic acid ester polymer is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, and is usually 10,000 or more, preferably 15,000 or more, more preferably 20,000 or more, and usually 300,000 or less. , Preferably 250,000 or less, more preferably 200000 or less.
メタクリル酸エステル系重合体のガラス転移温度は、通常40℃以上、好ましくは60℃以上である。メタクリル酸エステル系重合体のガラス転移温度が低すぎると、フィルムの耐熱性が低くなる可能性がある。なお、ガラス転移温度は、メタクリル酸エステルと共重合される他の単量体の種類と量を変化させることにより、適宜設定できる。また、メタクリル酸メチルの単独重合体のガラス転移温度は約106℃であるので、メタクリル酸エステルとしてメタクリル酸メチルを用いる場合、得られるメタクリル酸エステル系重合体のガラス転移温度は、通常106℃以下となる。 The glass transition temperature of the methacrylic acid ester polymer is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher. If the glass transition temperature of the methacrylic acid ester polymer is too low, the heat resistance of the film may be lowered. The glass transition temperature can be appropriately set by changing the type and amount of other monomers copolymerized with the methacrylic acid ester. Moreover, since the glass transition temperature of the homopolymer of methyl methacrylate is about 106 ° C., when methyl methacrylate is used as the methacrylate ester, the glass transition temperature of the resulting methacrylate polymer is usually 106 ° C. or less. It becomes.
ここで、メタクリル酸エステル系重合体には、所定のゴム粒子を含有するメタクリル酸エステル系重合体組成物も含まれる。メタクリル酸エステル系重合体組成物に含まれる前記ゴム粒子は、平均粒子径が、通常0.05μm以上であり、通常0.3μm以下、好ましくは0.2μm以下であれば、任意のものを用いることができる。ゴム粒子の平均粒子径がこの範囲にあると、フィルムの製膜性が安定するとともに、フィルム自体の柔軟性や取扱い性の面で優れる。ゴム粒子の平均粒子径があまり小さいと、フィルムの柔軟性が低下し、取扱い性が低下する傾向になり、一方、その平均粒子径があまり大きいと、表面平滑性が低下し、透明感が損なわれるおそれがある。 Here, the methacrylic ester polymer includes a methacrylic ester polymer composition containing predetermined rubber particles. The rubber particles contained in the methacrylic acid ester polymer composition have an average particle diameter of usually 0.05 μm or more, and usually 0.3 μm or less, preferably 0.2 μm or less. be able to. When the average particle diameter of the rubber particles is within this range, the film-forming property of the film is stabilized and the film itself is excellent in flexibility and handling properties. If the average particle size of the rubber particles is too small, the flexibility of the film will decrease and the handling will tend to be reduced. On the other hand, if the average particle size is too large, the surface smoothness will decrease and the transparency will be impaired. There is a risk of being.
なお、ゴム粒子の平均粒子径は、ゴム粒子をメタクリル重合体と混合してフィルム化し、その断面を酸化ルテニウムにより染色させ、染色された粒子の直径を電子顕微鏡で観察することにより求めることができる。これにより、後述するようにゴム粒子の表面がメタクリル重合体で覆われていた場合でも、ゴム粒子は、外層のメタクリル重合体が、混合するメタクリル重合体と混和して染色されず、架橋構造を有する内層のゴム粒子のみが染色されるので、電子顕微鏡などで観察することで、ゴム粒子の粒子径を求めることができる。 The average particle diameter of the rubber particles can be obtained by mixing the rubber particles with a methacrylic polymer to form a film, dyeing the cross section with ruthenium oxide, and observing the diameter of the dyed particles with an electron microscope. . As a result, even when the surface of the rubber particles is covered with a methacrylic polymer as will be described later, the rubber particles are not dyed by mixing with the methacrylic polymer to be mixed with the outer layer of the methacrylic polymer. Since only the inner layer rubber particles are dyed, the particle diameter of the rubber particles can be determined by observing with an electron microscope or the like.
ゴム粒子を構成するゴムとしては、各種の弾性共重合体からなるものを用いることができる。中でも好ましくは、アクリル酸アルキル単量体50〜99.9重量%と、炭素−炭素二重結合を1個有する単官能単量体0〜49.9重量%と、炭素−炭素二重結合を少なくとも2個有する多官能単量体0.1〜10重量%との共重合体が挙げられる。 As the rubber constituting the rubber particles, those made of various elastic copolymers can be used. Among them, preferably, an alkyl acrylate monomer is 50 to 99.9% by weight, a monofunctional monomer having 1 to 49.9% by weight of a carbon-carbon double bond, and a carbon-carbon double bond. Examples thereof include a copolymer of 0.1 to 10% by weight of a polyfunctional monomer having at least two.
前記のアクリル酸アルキルとしては、例えば、アルキル基の炭素原子数が1〜8のものが挙げられる。なかでも、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル等の、アルキル基の炭素原子数4〜8のものが好ましい。なお、アクリル酸アルキルは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the alkyl acrylate include those having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group. Of these, alkyl groups having 4 to 8 carbon atoms such as butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate are preferable. In addition, alkyl acrylate may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
前記の炭素−炭素二重結合を一分子中に1個有する単官能化合物としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル等のメタクリル酸エステル;スチレン等の芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル等のビニルシアン化合物;などが挙げられる。なお、炭素−炭素二重結合を一分子中に1個有する単官能化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monofunctional compound having one carbon-carbon double bond in one molecule include methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, butyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate; aromatic vinyl compounds such as styrene; acrylonitrile Vinylcyan compounds such as; and the like. In addition, the monofunctional compound which has one carbon-carbon double bond in 1 molecule may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
前記の炭素−炭素二重結合を一分子中に少なくとも2個有する多官能化合物としては、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート等のグリコール類の不飽和カルボン酸ジエステル;アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ケイ皮酸アリル等の不飽和カルボン酸のアルケニルエステル;フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等の多塩基酸のポリアルケニルエステル;トリメチロールプロパントリアクリレート等の多価アルコールの不飽和カルボン酸エステル;ジビニルベンゼンなどが挙げられる。なかでも、不飽和カルボン酸のアルケニルエステルや多塩基酸のポリアルケニルエステルが好ましい。また、炭素−炭素二重結合を一分子中に少なくとも2個有する多官能化合物は、架橋性を有することが好ましい。なお、炭素−炭素二重結合を一分子中に少なくとも2個有する多官能化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the polyfunctional compound having at least two carbon-carbon double bonds in one molecule include unsaturated carboxylic acid diesters of glycols such as ethylene glycol dimethacrylate and butanediol dimethacrylate; allyl acrylate, methacryl Alkenyl esters of unsaturated carboxylic acids such as allyl acrylate and allyl cinnamate; polyalkenyl esters of polybasic acids such as diallyl phthalate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate; trimethylolpropane triacrylate, etc. An unsaturated carboxylic acid ester of a polyhydric alcohol; divinylbenzene and the like. Of these, alkenyl esters of unsaturated carboxylic acids and polyalkenyl esters of polybasic acids are preferred. The polyfunctional compound having at least two carbon-carbon double bonds in one molecule preferably has crosslinkability. In addition, the polyfunctional compound which has at least 2 carbon-carbon double bond in 1 molecule may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
ゴム粒子は、例えば、前記の単量体を乳化重合することにより製造できる。また、その平均粒子径は、乳化重合における乳化剤の量や単量体の仕込み量などを調節することによって調節できる。 The rubber particles can be produced, for example, by emulsion polymerization of the above monomer. The average particle size can be adjusted by adjusting the amount of emulsifier and the amount of monomer charged in the emulsion polymerization.
さらに、ゴム粒子は、その表面がメタクリル重合体で覆われていてもよい。メタクリル重合体とは、メタクリル酸またはメタクリル酸エステル構造を繰り返し単位として有する樹脂であり、好ましくは、前記のメタクリル酸エステル系重合体と同様のものである。中でもより好ましくは、前記のメタクリル酸エステル(M1)50〜100重量%と、アクリル酸エステル(M2)0〜50重量%と、ビニル基を有する化合物(M3)0〜49重量%とからなる単量体組成物を重合してなるものである。
ゴム粒子の表面がメタクリル重合体で覆われている場合、ゴム粒子の表面にはメタクリル重合体からなる外層が形成される。この外層を含めたゴム粒子の平均粒子径は、好ましくは0.07μm以上、より好ましくは0.1μm以上であり、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.45μm以下である。なお、ゴム粒子は、メタクリル重合体からなる外層以外にも更に別の層を有していてもよい。
Furthermore, the surface of the rubber particles may be covered with a methacrylic polymer. The methacrylic polymer is a resin having a methacrylic acid or methacrylic ester structure as a repeating unit, and is preferably the same as the methacrylic ester polymer. Among these, more preferably, the methacrylic acid ester (M1) is 50 to 100% by weight, the acrylic acid ester (M2) is 0 to 50% by weight, and the vinyl group-containing compound (M3) is 0 to 49% by weight. It is obtained by polymerizing a monomer composition.
When the surface of the rubber particle is covered with a methacrylic polymer, an outer layer made of a methacrylic polymer is formed on the surface of the rubber particle. The average particle diameter of the rubber particles including the outer layer is preferably 0.07 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.45 μm or less. The rubber particles may have another layer other than the outer layer made of a methacrylic polymer.
表面がメタクリル重合体で覆われたゴム粒子を製造する場合、ゴム粒子の存在下で、メタクリル重合体の単量体を重合させればよい。これにより、メタクリル重合体の単量体がゴム粒子に対してグラフト共重合され、グラフト鎖を有する架橋弾性共重合体となったゴム粒子を製造することができる。通常、このゴム粒子は、アクリル酸アルキルをゴムの主成分として含む多層構造を有するグラフト共重合体となる。
重合時のメタクリル重合体の単量体の量は、ゴム粒子100重量部に対し、メタクリル重合体の単量体10〜400重量部とすればよい。具体的には、ゴム粒子100重量部の存在下に、メタクリル重合体の単量体を通常10重量部以上、好ましくは20重量部以上、また、通常400重量部以下、好ましくは200重量部以下だけ重合させることにより、メタクリル重合体による重合層をゴム粒子の表面に少なくとも1層結合させた構成にすることができる。メタクリル重合体の単量体の量が上記範囲内であると、ゴム粒子の凝集が生じにくくなり、フィルムとした際の透明性が良好となる。メタクリル重合体の単量体の量が上記範囲から外れると、ゴム粒子を分散させたメタクリル酸エステル系重合体の組成物全体の流動性の低下が起こり、フィルム成膜が困難となるおそれがある。また、この重合の際、反応条件を調節して、ゴム粒子の平均粒子径を所望の範囲となるようにすることができる。
When producing rubber particles whose surfaces are covered with a methacrylic polymer, the monomer of the methacrylic polymer may be polymerized in the presence of the rubber particles. As a result, the methacrylic polymer monomer is graft-copolymerized to the rubber particles, and the rubber particles can be produced as a crosslinked elastic copolymer having a graft chain. Usually, the rubber particles are a graft copolymer having a multilayer structure containing alkyl acrylate as a main component of rubber.
The amount of the methacrylic polymer monomer during the polymerization may be 10 to 400 parts by weight of the methacrylic polymer monomer with respect to 100 parts by weight of the rubber particles. Specifically, in the presence of 100 parts by weight of rubber particles, the methacrylic polymer monomer is usually 10 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or more, and usually 400 parts by weight or less, preferably 200 parts by weight or less. By polymerizing only the polymer layer, at least one layer of a polymer layer made of a methacrylic polymer can be bonded to the surface of the rubber particles. When the amount of the methacrylic polymer monomer is within the above range, the rubber particles are less likely to aggregate, and the transparency of the film is improved. If the amount of the methacrylic polymer monomer is out of the above range, the fluidity of the entire composition of the methacrylic acid ester polymer in which rubber particles are dispersed may be lowered, and film formation may be difficult. . In this polymerization, the reaction conditions can be adjusted so that the average particle diameter of the rubber particles falls within a desired range.
さらに、ゴム粒子は、その内側に芯内層をさらに有し、この芯内層が、メタクリル酸エステル(M4)70〜100重量%と、ビニル基を有する化合物(M5)0〜30重量%との(共)重合体からなることがさらに好ましい。ゴム粒子が3層以上の構造を有すると、フィルムとしたときの弾性率や表面平滑性、表面硬度などの点で、特に好ましい。このように3層以上の構造を有するゴム粒子は、例えば、芯内層を構成する(共)重合体の単量体を重合させ、次に得られる重合体の存在下で上記のゴムを構成する重合体の単量体を重合させ、そうして得られるゴム粒子の存在下でメタクリル重合体の単量体を重合させて製造できる。 Further, the rubber particles further have an inner core layer on the inner side, and the inner core layer comprises 70 to 100% by weight of a methacrylic acid ester (M4) and 0 to 30% by weight of a compound having a vinyl group (M5) ( More preferably, it comprises a (co) polymer. It is particularly preferable that the rubber particles have a structure of three or more layers from the viewpoints of elastic modulus, surface smoothness, surface hardness and the like when a film is formed. Thus, the rubber particles having a structure of three or more layers, for example, polymerize the monomer of the (co) polymer constituting the inner core layer, and then constitute the rubber in the presence of the obtained polymer. It can be produced by polymerizing a polymer monomer and polymerizing a methacrylic polymer monomer in the presence of the rubber particles thus obtained.
前記メタクリル酸エステル(M4)としては、メタクリル酸アルキル、特にメタクリル酸メチルが有利である。任意に用いられるビニル基を有する化合物(M5)としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル等のアクリル酸エステル;スチレン等の芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル等のビニルシアン化合物;などが挙げられる。また、前記ビニル基を有する化合物(M5)は、共重合性の架橋性物質であることが好ましい。このような物質としては、前記の炭素−炭素二重結合を一分子中に少なくとも2個有する多官能化合物と同様の化合物を用いることができる。なお、メタクリル酸エステル(M4)及びビニル基を有する化合物(M5)は、それぞれ、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
このような3層構造のゴム粒子は、例えば、特公昭55−27576号公報(米国特許明細書第3,793,402号)に開示されている。特に同公報の実施例3に記載のものは、好ましい組成の一つである。
As said methacrylic acid ester (M4), alkyl methacrylate, especially methyl methacrylate is advantageous. Examples of the compound (M5) having a vinyl group used arbitrarily include acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, and cyclohexyl acrylate; aromatic vinyl compounds such as styrene; vinyl such as acrylonitrile. A cyanide compound; and the like. The vinyl group-containing compound (M5) is preferably a copolymerizable cross-linkable substance. As such a substance, the same compound as the polyfunctional compound having at least two carbon-carbon double bonds in one molecule can be used. In addition, as for the methacrylic acid ester (M4) and the compound (M5) having a vinyl group, one type may be used, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.
Such rubber particles having a three-layer structure are disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 55-27576 (US Pat. No. 3,793,402). In particular, the one described in Example 3 of the publication is one of the preferred compositions.
ゴム粒子を含むメタクリル酸エステル系重合体組成物において、その組成物の全量を100重量%とした場合に、前記ゴム粒子を、通常1重量%以上、好ましくは5重量%以上、より好ましくは10重量%以上、また、通常80重量%以下、好ましくは35重量%以下、より好ましくは25重量%以下含有する。ゴム粒子の量がこのような範囲であると、フィルムが脆くなることがなくなり、層Cの製膜性を向上させることができたり、層Cを破断させることなく延伸することができたりする。ゴム粒子の量が少なすぎると、層Cの成形が困難になるおそれがあり、またその量が多すぎると、層Cの透明性や表面硬度が損なわれるおそれがある。また、メタクリル酸エステル系重合体の割合は、通常20〜99重量%であるが、メタクリル酸エステル系重合体及びゴム粒子以外の他の添加剤を含む場合は、その割合を適宜調整することができる。 In a methacrylic ester polymer composition containing rubber particles, when the total amount of the composition is 100 wt%, the rubber particles are usually 1 wt% or more, preferably 5 wt% or more, more preferably 10 wt%. It is contained in an amount of not less than wt%, usually not more than 80 wt%, preferably not more than 35 wt%, more preferably not more than 25 wt%. When the amount of the rubber particles is within such a range, the film will not become brittle, the film-forming property of the layer C can be improved, and the layer C can be stretched without breaking. If the amount of rubber particles is too small, the layer C may be difficult to mold, and if the amount is too large, the transparency and surface hardness of the layer C may be impaired. The proportion of the methacrylic ester polymer is usually 20 to 99% by weight, but when other additives other than the methacrylic ester polymer and rubber particles are included, the proportion can be adjusted as appropriate. it can.
ゴム粒子を含むメタクリル酸エステル系重合体組成物は、その溶融粘度が、通常400Pa・s以上、好ましくは450Pa・s以上であり、通常1000Pa・s以下、好ましくは900Pa・s以下である。ここで、溶融粘度は、温度250℃、剪断速度150sec−1により測定した値をいう。このような溶融粘度を有することにより、延伸を行う場合に破断などが起こりにくくなり、延伸時及び製品の使用時における強度をさらに向上させることができる。 The methacrylic ester polymer composition containing rubber particles has a melt viscosity of usually 400 Pa · s or higher, preferably 450 Pa · s or higher, and usually 1000 Pa · s or lower, preferably 900 Pa · s or lower. Here, the melt viscosity is a value measured at a temperature of 250 ° C. and a shear rate of 150 sec −1 . By having such a melt viscosity, breakage or the like hardly occurs when stretching, and the strength during stretching and use of the product can be further improved.
上述した(i)ポリエステル、(ii)ポリカーボネート、(iii)ポリプロピレン、(iv)水素化ノルボルネン重合体、及び、(v)メタクリル酸エステル系重合体のうちから具体的に層Cに含ませる材料を選択する際、層Aを構成するビニル脂環式炭化水素重合体と相溶せず、層Aと層Cとを剥離させやすくするものを選択することが好ましい。具体的には、層Aを構成するビニル脂環式炭化水素重合体の溶解度パラメータと、層Cに含まれる前記材料の溶解度パラメータとの差が、通常1(cal1/2/cm3/2)以上、好ましくは2(cal1/2/cm3/2)以上であるものを選択する。なお、溶解度パラメーターの簡易的な求め方としては、P.A.Smallのモル分子間引力定数を用いることができる。通常、層Cは本発明のフィルムの使用時には剥離されるので、層Aと層Cとを剥がしやすくしておけば前記の剥離が容易となるからである。 A material to be specifically included in the layer C from the above-mentioned (i) polyester, (ii) polycarbonate, (iii) polypropylene, (iv) hydrogenated norbornene polymer, and (v) methacrylic ester polymer. When selecting, it is preferable to select a material that is not compatible with the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer constituting the layer A and that makes the layer A and the layer C easy to peel off. Specifically, the difference between the solubility parameter of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer constituting the layer A and the solubility parameter of the material contained in the layer C is usually 1 (cal 1/2 / cm 3/2. ) Or more, preferably 2 (cal 1/2 / cm 3/2 ) or more. As a simple method for determining the solubility parameter, P.I. A. Small molar intermolecular attractive constants can be used. Usually, the layer C is peeled off when the film of the present invention is used. Therefore, if the layer A and the layer C are easily peeled off, the peeling is facilitated.
層Cは、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述した(i)ポリエステル、(ii)ポリカーボネート、(iii)ポリプロピレン、(iv)水素化ノルボルネン重合体、及び、(v)メタクリル酸エステル系重合体以外にその他の成分を含んでいてもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、その他の成分の量は少ないことが好ましい。その他の成分の具体的な量はフィルムの用途や厚さ等にもよるが、例えば(i)ポリエステル、(ii)ポリカーボネート、(iii)ポリプロピレン、(iv)水素化ノルボルネン重合体、及び、(v)メタクリル酸エステル系重合体の総重量100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下が更に好ましい。中でも、その他の成分は含まないことが特に好ましい。 As long as the effect of the present invention is not significantly impaired, the layer C includes the above-mentioned (i) polyester, (ii) polycarbonate, (iii) polypropylene, (iv) hydrogenated norbornene polymer, and (v) methacrylic ester heavy polymer. Other components may be included in addition to the coalescence. However, the amount of other components is preferably small from the viewpoint of remarkably exhibiting the effects of the present invention. Specific amounts of the other components depend on the use and thickness of the film. For example, (i) polyester, (ii) polycarbonate, (iii) polypropylene, (iv) hydrogenated norbornene polymer, and (v ) It is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, and still more preferably 3 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total weight of the methacrylic ester polymer. Among these, it is particularly preferable that other components are not included.
層Cの厚さは、通常10μm以上、好ましくは12μm以上、より好ましくは15μm以上であり、通常25μm以下、好ましくは23μm以下、より好ましくは20μm以下である。層Cの厚さを前記範囲の下限以上にすることで、剥離後において層Cが破断しにくいなどのハンドリング性が向上する。また、上限以下にすることでフィルム成形時にロールを通過させる際に剥離しなくなる。なお、層Cの厚さは層Aの厚さと同様にして測定できる。 The thickness of the layer C is usually 10 μm or more, preferably 12 μm or more, more preferably 15 μm or more, and usually 25 μm or less, preferably 23 μm or less, more preferably 20 μm or less. By setting the thickness of the layer C to be equal to or more than the lower limit of the above range, handling properties such that the layer C is hardly broken after peeling are improved. Moreover, when it is made below the upper limit, it will not peel when passing a roll at the time of film forming. The thickness of the layer C can be measured in the same manner as the thickness of the layer A.
層Aと層Cとは、その層界面の少なくとも一部が接着層を介さずに直接に接することが好ましく、その層界面の全体が接着層を介さずに直接に接していることがより好ましい。層Cはフィルムの使用時にはフィルムから剥離させられるが、通常、前記の層Cは層Aから剥離しやすい性質を有する。このため、使用時に行う層Cの剥離を容易にする観点からは、保存及び運搬の時点では接着層を介することなく層Aと層Cとが直接に積層させて層Aを層Cで保護しておき、使用時には層Cの剥離し易い性質を活用してフィルムから層Cを簡単に剥がすようにすることが好ましい。 The layer A and the layer C are preferably in direct contact with at least part of the layer interface without going through the adhesive layer, and more preferably the whole of the layer interface is in direct contact without going through the adhesive layer. . Although the layer C is peeled off from the film when the film is used, the layer C usually has a property of being easily peeled off from the layer A. For this reason, from the viewpoint of facilitating peeling of the layer C performed at the time of use, the layer A and the layer C are directly laminated without using an adhesive layer at the time of storage and transportation, and the layer A is protected by the layer C. It is preferable that the layer C is easily peeled off from the film by using the property of the layer C being easily peeled off during use.
層Aと層Cとの剥離のし易さの程度は任意に設定すればよいが、層Aと層Cとの剥離力が、通常1g/cm以上であり、通常100g/cm以下、好ましくは50g/cmとする。剥離が容易であるほど好ましいが、あまり容易に剥離できるとフィルムの搬送時の層間剥離を起こすおそれがあるからである。 The degree of ease of peeling between layer A and layer C may be set arbitrarily, but the peeling force between layer A and layer C is usually 1 g / cm or more, usually 100 g / cm or less, preferably 50 g / cm. It is preferable that peeling is easy, but if it can be peeled off very easily, delamination may occur during film transport.
また、通常、層Cは層Aに比べて滑り性が良好である。このため、層Cを有することにより第二の例に係るフィルムは取り扱い性が良好となっている。 In general, the layer C is more slippery than the layer A. For this reason, the film which concerns on a 2nd example by having the layer C has favorable handleability.
第二の例に係るフィルムは少なくとも層A及び層Cを有するフィルムであればよい。したがって、第二の例に係るフィルムは、前記の層A及び層Cの2層のみからなる積層フィルムであってもよく、3層以上の層を有する積層フィルムであってもよい。例えば、本発明のフィルムは、前記の層A及び層Cの一方又は両方を2層以上有する積層フィルムであってもよい。この際、層Aは、フィルムの最表面には位置しないことが好ましい。すなわち、層Aの両面には別の層が形成されていることが好ましい。中でも、層Aの両面に層Cが形成されることで、層C、層A及び層Cをこの順に有する積層フィルムとすることが特に好ましい。これにより、層Aを傷等から保護することが可能となるからである。 The film which concerns on a 2nd example should just be a film which has the layer A and the layer C at least. Therefore, the film according to the second example may be a laminated film including only two layers A and C, or may be a laminated film having three or more layers. For example, the film of the present invention may be a laminated film having two or more of one or both of the layer A and the layer C. At this time, the layer A is preferably not located on the outermost surface of the film. That is, another layer is preferably formed on both sides of the layer A. Especially, it is especially preferable to set it as the laminated | multilayer film which has the layer C, the layer A, and the layer C in this order by forming the layer C on both surfaces of the layer A. This is because the layer A can be protected from scratches and the like.
さらに、第二の例に係るフィルムは、本発明の効果を著しく損なわない限り、層A及び層C以外にその他の層を有していてもよい。なお、その他の層は、1層でもよく、2層以上であってもよい。また、各層は同じでもよく、異なる層であってもよい。また、その他の層の位置は任意に設定できる。 Furthermore, the film according to the second example may have other layers in addition to the layer A and the layer C as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. The other layers may be one layer or two or more layers. Moreover, each layer may be the same or different. The positions of other layers can be set arbitrarily.
第二の例に係るフィルムは、前記のように、その使用時には、フィルムから層Cを剥離させて使用される。したがって、層Cを剥がした後のフィルムの面内の位相差Re、厚み方向の位相差Rth、光線透過率及び耐衝撃性については、層Aのみからなるフィルムと同様に優れていることが好ましい。通常、層Cを剥がした後の第二の例に係るフィルムには層Aが残り、層Aの優れた性能が発揮されるため、位相差Reが小さく、且つ、耐衝撃性が小さくなり、偏光板保護フィルムとして好適に使用できる。
さらに、第二の例に係るフィルムは、層Cを剥離する以前においては層Cを備えるため、層A単独のフィルムと比較して、表面の滑り性が向上しており、取り扱い性が良好である。このため、第二の例に係るフィルムはロール状にして保存、運搬などを行いやすく、さらに使用時にロールから引き出しやすくなっている。
As described above, the film according to the second example is used by peeling the layer C from the film at the time of use. Accordingly, the in-plane retardation Re, thickness direction retardation Rth, light transmittance and impact resistance after peeling off the layer C are preferably excellent as in the case of the film comprising only the layer A. . Usually, the layer A remains in the film according to the second example after the layer C is peeled off, and the excellent performance of the layer A is exhibited. Therefore, the phase difference Re is small, and the impact resistance is small. It can be suitably used as a polarizing plate protective film.
Furthermore, since the film according to the second example includes the layer C before the layer C is peeled off, the slipperiness of the surface is improved as compared with the film of the layer A alone, and the handleability is good. is there. For this reason, the film according to the second example is easy to be stored and transported in the form of a roll, and is further easily pulled out from the roll during use.
[2.フィルムの製造方法]
本発明のフィルムの製造方法に特に制限は無く、溶融成形法、溶液流延法のいずれを用いることもできる。溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等に優れたフィルムを得るために、押出成形法、インフレーション成形法又はプレス成形法が好ましく、中でも位相差の発現をより確実に抑制しながらも、効率よく簡単に本発明のフィルムを製造できる観点から、押出成形法が特に好ましい。
[2. Film production method]
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the film of this invention, Either a melt molding method or a solution casting method can be used. The melt molding method can be further classified into an extrusion molding method, a press molding method, an inflation molding method, an injection molding method, a blow molding method, and a stretch molding method. Among these methods, in order to obtain a film excellent in mechanical strength, surface accuracy, etc., an extrusion molding method, an inflation molding method or a press molding method is preferable. Among them, the efficiency is improved while suppressing the development of retardation more reliably. From the viewpoint of easily and easily producing the film of the present invention, the extrusion method is particularly preferable.
また、本発明のフィルムを積層フィルムとして製造する場合、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等の共押出成形方法;ドライラミネーション等のフィルムラミネーション成形方法;層Aに対してそれ以外の層を構成する樹脂溶液をコーティングするようなコーティング成形方法などの公知の方法が適宜利用され得る。中でも、製造効率が良く、フィルム中に溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点から、共押出成形方法が好ましい。共押出成形法の中でも、共押出Tダイ法が好ましい。さらに共押出Tダイ法にはフィードブロック方式、マルチマニホールド方式が挙げられるが、層Aの厚さのばらつきを少なくできる点でマルチマニホールド方式がさらに好ましい。 When the film of the present invention is produced as a laminated film, for example, a coextrusion molding method such as a coextrusion T-die method, a coextrusion inflation method, or a coextrusion lamination method; a film lamination molding method such as dry lamination; On the other hand, a known method such as a coating molding method in which a resin solution constituting other layers is coated can be appropriately used. Among them, the coextrusion molding method is preferable from the viewpoint of good production efficiency and preventing volatile components such as a solvent from remaining in the film. Among the coextrusion molding methods, the coextrusion T-die method is preferable. Further, examples of the coextrusion T-die method include a feed block method and a multi-manifold method, but the multi-manifold method is more preferable in that variation in the thickness of the layer A can be reduced.
例えば、前述した本発明のフィルムの層構成の第一の例に係るフィルムを共押出法により製造する場合、少なくとも、層Aを構成するビニル脂環式炭化水素重合体等を含む樹脂と、層Bを構成するビニル脂環式炭化水素重合体及び微粒子等を含む樹脂とを、共押し出しし、硬化させて成形すればよい。
また、例えば、前述した本発明のフィルムの層構成の第二の例に係るフィルムを共押出法により製造する場合、少なくとも、層Aを構成するビニル脂環式炭化水素重合体等を含む樹脂と、層Cを構成するポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、水素化ノルボルネン重合体、及び、メタクリル酸エステル系重合体等の材料を含む樹脂とを、共押し出しし、硬化させて成形すればよい。
For example, when the film according to the first example of the layer structure of the film of the present invention described above is produced by a coextrusion method, at least a resin containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer or the like constituting the layer A, and a layer The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer constituting B and the resin containing fine particles may be coextruded and cured to be molded.
Further, for example, when the film according to the second example of the layer structure of the film of the present invention described above is produced by a coextrusion method, at least a resin containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer or the like constituting the layer A and A resin containing materials such as polyester, polycarbonate, polypropylene, hydrogenated norbornene polymer, and methacrylic acid ester polymer constituting the layer C may be coextruded and cured to be molded.
ただし、押出成形(共押し出しを含む)によりフィルムを製造する場合には、押出成形時のダイの設定温度は、ビニル脂環式炭化水素重合体のガラス転移温度TgAを基準として、TgA+100℃以上が好ましく、TgA+110℃以上がより好ましく、また、TgA+135℃以下が好ましく、TgA+130℃以下がより好ましい。ダイの設定温度を前記範囲の下限以上にすることにより層A及びフィルムの位相差の発現をより抑制することができ、また前記範囲の上限以下にすることによりビニル脂環式炭化水素重合体の劣化を安定して防止できる。 However, when a film is produced by extrusion (including coextrusion), the set temperature of the die at the time of extrusion is Tg A +100 based on the glass transition temperature Tg A of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. ° C. or higher, Tg A + 110 ° C. or higher is more preferable, Tg A + 135 ° C. or lower is preferable, and Tg A + 130 ° C. or lower is more preferable. By making the set temperature of the die more than the lower limit of the above range, it is possible to further suppress the expression of the phase difference between the layer A and the film, and by making it below the upper limit of the above range of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. Deterioration can be stably prevented.
さらに、層Aの厚さのばらつきを全面で±1μm以内とするためには、(1)押出機内に目開きが20μm以下のポリマーフィルターを設ける;(2)ギヤポンプを5rpm以上で回転させる;(3)ダイ周りに囲い手段を配置する;(4)エアギャップを200mm以下とする;(5)フィルムを冷却ロール上にキャストする際にエッジピニングを行う;(6)押出機として二軸押出機又はスクリュー形式がダブルフライト型の単軸押出機を用いる;のすべてを行うことが望ましい。前記(1)〜(6)の1つでも実施しないと、層Aの厚さのばらつきを全面で±1μm以内にすることは難しくなる傾向がある。 Further, in order to make the variation in the thickness of the layer A within ± 1 μm over the entire surface, (1) a polymer filter having an opening of 20 μm or less is provided in the extruder; (2) the gear pump is rotated at 5 rpm or more; 3) Surrounding means is arranged around the die; (4) Air gap is 200 mm or less; (5) Edge pinning is performed when the film is cast on a cooling roll; (6) Twin screw extruder as an extruder Alternatively, it is desirable to use a single-screw extruder having a double flight type screw type. Unless even one of the above (1) to (6) is carried out, it tends to be difficult to make the variation in the thickness of the layer A within ± 1 μm over the entire surface.
フィルムの製造方法として溶融押出法を用いる場合には、通常、溶融樹脂はダイの開口部からキャストロール上に共押し出しされ、その後冷却ドラムに接触させられる。冷却ドラムに接触させると溶融樹脂は冷却されて硬化し、フィルムが得られる。溶融樹脂と冷却ドラムとの接触の程度としては、冷却を十分に行う観点から、密着させようにすることが好ましい。溶融樹脂を冷却ドラムに密着させる方法としては、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式などが挙げられる。また、冷却ドラムの数は特に制限されないが、通常は2本以上である。さらに、冷却ドラムの配置方法としては、例えば、直線型、Z型、L型などが挙げられる。またダイの開口部から押出された溶融樹脂の冷却ドラムへの通し方も特に制限されない。
通常、冷却ドラムの温度により、押出された樹脂の冷却ドラムへの密着具合が変化する。冷却ドラムの温度を上げると密着はよくなるが、温度を上げすぎるとフィルムが冷却ドラムから剥がれずに、ドラムに巻きつくおそれがある。そのため、冷却ドラムの温度は、好ましくはダイから押し出す非晶性の樹脂のガラス転移温度をTg(℃)に対して、(Tg+30)℃以下、さらに好ましくは(Tg−5)℃〜(Tg−45)℃の範囲にする。そうすることにより、滑りやキズなどの不具合を防止することができる。
When a melt extrusion method is used as a method for producing a film, the molten resin is usually coextruded from a die opening onto a cast roll and then brought into contact with a cooling drum. When brought into contact with the cooling drum, the molten resin is cooled and cured to obtain a film. The degree of contact between the molten resin and the cooling drum is preferably in close contact from the viewpoint of sufficient cooling. Examples of the method for bringing the molten resin into close contact with the cooling drum include an air knife method, a vacuum box method, and an electrostatic contact method. The number of cooling drums is not particularly limited, but is usually two or more. Furthermore, examples of the arrangement method of the cooling drum include a linear type, a Z type, and an L type. Further, the way of passing the molten resin extruded from the opening of the die through the cooling drum is not particularly limited.
Normally, the degree of adhesion of the extruded resin to the cooling drum changes depending on the temperature of the cooling drum. When the temperature of the cooling drum is raised, the adhesion is improved, but when the temperature is raised too much, the film may not be peeled off from the cooling drum and may be wound around the drum. Therefore, the temperature of the cooling drum is preferably (Tg + 30) ° C. or less, more preferably (Tg-5) ° C. to (Tg−) with respect to Tg (° C.) of the glass transition temperature of the amorphous resin extruded from the die. 45) Set to a range of ° C. By doing so, it is possible to prevent problems such as slipping and scratches.
さらに、押出成形により製造された本発明のフィルムは、通常、延伸されて延伸フィルムとされる。延伸する条件は特に制限されないが、延伸温度を層Bまたは層Cのガラス転移温度または融点よりも20℃〜60℃高い温度にし、延伸倍率を1.1倍〜6倍にすることが好ましい。なお、層B又は層Cのガラス転移温度または融点が相違する場合には、高い方の温度を基準とする。延伸方向は、フィルム流れ方向(MD方向)、フィルム幅方向(TD方向)フィルム流れ方向に平行でも直交でもない斜め方向のいずれでも良い。
更に、二軸延伸処理を施すことにより、二軸延伸フィルムとしてもよい。本発明のフィルムの層Aは、二軸延伸処理を施しても位相差Reを発現しにくいという優れた性質を有する。さらに、二軸延伸処理を施すと、層Aは通常は耐衝撃性が向上する。このため、二軸延伸処理により、位相差Reを小さく維持したままで本発明のフィルムの耐衝撃性の向上を図ることができる。
Furthermore, the film of the present invention produced by extrusion is usually drawn into a stretched film. The stretching conditions are not particularly limited, but it is preferable that the stretching temperature is 20 ° C. to 60 ° C. higher than the glass transition temperature or melting point of the layer B or C, and the stretching ratio is 1.1 times to 6 times. When the glass transition temperature or the melting point of the layer B or the layer C is different, the higher temperature is used as a reference. The stretching direction may be a film flow direction (MD direction), a film width direction (TD direction), or an oblique direction that is neither parallel nor orthogonal to the film flow direction.
Furthermore, it is good also as a biaxially stretched film by giving a biaxial stretching process. The layer A of the film of the present invention has an excellent property that the retardation Re is hardly exhibited even when the biaxial stretching treatment is performed. Further, when the biaxial stretching treatment is performed, the impact resistance of the layer A is usually improved. For this reason, the biaxial stretching process can improve the impact resistance of the film of the present invention while keeping the phase difference Re small.
二軸延伸の方式としては、逐次二軸延伸を行ってもよく、同時二軸延伸を行ってもよい。中でも、より生産性が高い方式である同時二軸延伸が好ましい。
同時二軸延伸とは、縦方向の延伸(即ちフィルムの搬送方向に沿った、フィルムの長さの拡張)と、横方向の延伸(即ちフィルムの搬送方向と直角な方向に沿った、フィルムの幅の拡張)とが、少なくともその一部において同時に行われる延伸の態様をいい、好ましくは縦方向と横方向の延伸が、同時に開始され同時に終了する。
As a biaxial stretching method, sequential biaxial stretching may be performed or simultaneous biaxial stretching may be performed. Among these, simultaneous biaxial stretching, which is a method with higher productivity, is preferable.
Simultaneous biaxial stretching refers to stretching in the machine direction (ie, extending the length of the film along the film transport direction) and stretching in the transverse direction (ie, along the direction perpendicular to the film transport direction). (Width expansion) refers to a mode of stretching performed at least in part at the same time. Preferably, stretching in the longitudinal direction and the transverse direction are started simultaneously and ended simultaneously.
同時二軸延伸を行う延伸機は特に限定されず、リニアモーター方式、パンタグラフ方式及びモーター・チェーン駆動方式等の方式のものを用いることができる。中でもパンタグラフ方式の延伸機が、構造が簡易で且つ延伸機を含む製造ライン全体の立ち上げが迅速に行える等の利点のため好ましい。 The stretching machine that performs simultaneous biaxial stretching is not particularly limited, and a linear motor system, a pantograph system, a motor chain drive system, or the like can be used. Of these, a pantograph type stretching machine is preferable because of its advantage that the structure is simple and the entire production line including the stretching machine can be quickly started up.
延伸倍率は、所望の条件に応じて適宜調節することができるが、縦方向及び横方向それぞれ、好ましくは1.1倍以上、より好ましくは1.2倍以上であり、好ましくは2倍以下、より好ましくは1.5倍以下である。この範囲の延伸倍率とすることにより、光学フィルムに適した二軸延伸フィルムを得ることができ、且つフィルムの厚さ及び配向を均一にすることができる。 The draw ratio can be appropriately adjusted according to the desired conditions, but is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.2 times or more, and preferably 2 times or less, in the longitudinal direction and the transverse direction, respectively. More preferably, it is 1.5 times or less. By setting it as the draw ratio of this range, the biaxially stretched film suitable for an optical film can be obtained, and the thickness and orientation of a film can be made uniform.
同時二軸延伸の工程において延伸される未延伸フィルムは、通常、その長さ方向に連続的に供給される。フィルムの幅は特に限定されないが、通常450mm以上、好ましくは1000mm以上であり、通常2000mm以下、好ましくは1500mm以下である。また、フィルムの厚さは、通常40μm以上、好ましくは60μm以上であり、通常400μm以下、好ましくは300μm以下である。 The unstretched film stretched in the simultaneous biaxial stretching process is usually continuously supplied in the length direction. Although the width | variety of a film is not specifically limited, Usually, it is 450 mm or more, Preferably it is 1000 mm or more, Usually, it is 2000 mm or less, Preferably it is 1500 mm or less. Moreover, the thickness of a film is 40 micrometers or more normally, Preferably it is 60 micrometers or more, and is 400 micrometers or less normally, Preferably it is 300 micrometers or less.
延伸温度は、ビニル脂環式炭化水素重合体のガラス転移温度TgAを基準として、TgA−5(℃)〜TgA+30(℃)が好ましい。さらに、フィルムの延伸を行う領域の温度のムラは、±0.5℃以内に制御することが好ましい。このような温度制御を行うことにより、フィルムの配向を均一なものとすることができる。
このような温度制御を達成する同時二軸延伸機の好ましい構成としては、延伸を行う領域を囲むオーブンを備えることが挙げられる。さらに、当該オーブンは、千鳥配置されたヒーター、各ヒーターに接続されたファン、ファンからの温風をオーブンの上下に振り分けるダクト、並びにダクトからの温風をオーブン内のフィルムへ広範囲に吹き付けるノズルを備えることにより、さらに良好に温度制御を達成することができる。またさらに、オーブン内のフィルム近傍の温度を検出するセンサー、並びにセンサーにより検出されたデータを元にヒーター及びファンの動作を手動又は自動で制御する制御装置などをさらに備えるようにしてもよい。また、センサー及び制御装置からの指示を元にファンからの温風の上下ダクトへの振り分けを手動又は自動で制御する弁等も、必要に応じてさらに備えるようにしてもよい。
The stretching temperature is preferably Tg A −5 (° C.) to Tg A +30 (° C.) based on the glass transition temperature Tg A of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. Furthermore, it is preferable to control the temperature unevenness in the region where the film is stretched within ± 0.5 ° C. By performing such temperature control, the orientation of the film can be made uniform.
As a preferable configuration of the simultaneous biaxial stretching machine that achieves such temperature control, it is possible to include an oven that surrounds a region where stretching is performed. Furthermore, the oven has a staggered heater, a fan connected to each heater, a duct that distributes the hot air from the fan to the top and bottom of the oven, and a nozzle that blows the hot air from the duct to the film in the oven over a wide range. By providing, temperature control can be achieved more satisfactorily. Furthermore, a sensor for detecting the temperature in the vicinity of the film in the oven, and a controller for controlling the operation of the heater and the fan manually or automatically based on data detected by the sensor may be further provided. Moreover, you may make it further provide the valve etc. which control manually or automatically the distribution of the warm air from a fan to the upper and lower ducts based on the instruction | indication from a sensor and a control apparatus as needed.
さらに、オーブンの加熱手段は、前記ノズルからオーブン内のフィルムへ吹き出される空気中の、埃等の異物を除くための、HEPAフィルター等のフィルターを備えることが好ましい。それにより、より高品質な光学フィルムを製造することができる。 Furthermore, it is preferable that the heating means of the oven includes a filter such as a HEPA filter for removing foreign matters such as dust in the air blown out from the nozzle to the film in the oven. Thereby, a higher quality optical film can be manufactured.
また、オーブン内のフィルムの縦方向への移動速度は、高精度に制御することが好ましい。具体的には、リンク装置を駆動するスプロケットを回転させる駆動装置が、3万分の1の回転精度を有する駆動装置を用いることが好ましい。このような制御を行うことにより、より均一な配向を有するフィルムを製造することができる。 Moreover, it is preferable to control the moving speed of the film in the oven in the vertical direction with high accuracy. Specifically, it is preferable to use a drive device having a rotational accuracy of 1 / 30,000 as the drive device that rotates the sprocket that drives the link device. By performing such control, a film having a more uniform orientation can be produced.
延伸機への未延伸フィルムの供給の態様は特に限定されず、予め調製しておいた未延伸フィルムのロールからフィルムを繰り出して供給することもでき、又は、押出成形したフィルムを引続きインラインで延伸機に連続的に搬送して供給することもできる。特に、後者の場合、製造工程を効率化することができ、且つ製造設備を小型化できるなどの利点があり好ましい。 The mode of supplying the unstretched film to the stretching machine is not particularly limited, and the film can be fed out from a previously prepared roll of unstretched film or supplied, or the extruded film is continuously stretched in-line. It can also be fed continuously to the machine. In particular, the latter case is preferable because there are advantages that the manufacturing process can be made more efficient and the manufacturing equipment can be downsized.
[3.偏光板]
本発明のフィルムは面内の位相差Reが小さく且つ耐衝撃性に優れるため、光学素子およびその光学素子の保護フィルムとして用いることができる。その例を挙げると液晶表示装置などの表示装置に用いられる部材が挙げられ、その具体例としては偏光板保護フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、透明導電フィルム、タッチパネル用基板、液晶基板、光拡散シート、プリズムシートなどが挙げられる。本発明のフィルムは、中でも偏光板保護フィルムとして用いて好適である。
[3. Polarizer]
Since the film of the present invention has a small in-plane retardation Re and excellent impact resistance, it can be used as an optical element and a protective film for the optical element. Examples thereof include members used in display devices such as liquid crystal display devices. Specific examples thereof include a polarizing plate protective film, a retardation film, a brightness enhancement film, a transparent conductive film, a touch panel substrate, a liquid crystal substrate, and light. Examples include a diffusion sheet and a prism sheet. The film of the present invention is particularly suitable for use as a polarizing plate protective film.
本発明のフィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板は、本発明のフィルムと、偏光フィルムとを備えて構成される。この際、通常は偏光フィルムの両面に本発明のフィルムを設けるようにする。例えば、偏光フィルムの片面又は両面に、適切な接着剤を介して本発明のフィルムを積層する。
偏光フィルムは任意のものを用いることができ、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素などをドープした後、延伸加工したものを用いることができる。また、接着層としては、例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどのポリマーをベースポリマーとする粘着剤などが挙げられる。
When using the film of this invention as a polarizing plate protective film, a polarizing plate is provided with the film of this invention, and a polarizing film. At this time, the film of the present invention is usually provided on both sides of the polarizing film. For example, the film of the present invention is laminated on one side or both sides of a polarizing film via an appropriate adhesive.
Any polarizing film can be used, for example, a polyvinyl alcohol film doped with iodine or the like and then stretched can be used. Moreover, as an adhesive layer, the adhesive etc. which use polymers, such as an acrylic polymer, a silicone type polymer, polyester, a polyurethane, polyether, and a synthetic rubber, as a base polymer are mentioned, for example.
前記の偏光板には、さらに他の層を設けるようにしてもよい。他の層としては、例えば、反射防止層、ハードコート層、プライマー層;アンカー層;SiOx(x=1.5〜2.0)超微粒子の三次元骨格からなる高均質透明多孔体層(屈折率1.25〜1.46);粘着剤層;防汚層;などが挙げられる。 You may make it provide another layer in the said polarizing plate further. Other layers include, for example, an antireflection layer, a hard coat layer, a primer layer; an anchor layer; a highly homogeneous transparent porous material layer (refracted) composed of a three-dimensional skeleton of SiOx (x = 1.5 to 2.0) ultrafine particles. Rate 1.25 to 1.46); pressure-sensitive adhesive layer; antifouling layer; and the like.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。なお、以下の実施例において、量を示す「部」は、特に断らない限り「重量部」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the gist of the present invention. In the following examples, “part” indicating the amount represents “part by weight” unless otherwise specified.
〔合成例1:実施例1及び3のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー45部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー15部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー40部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=75,100、Mw/Mn=1.11であった。
[Synthesis Example 1: Synthesis of polymers of Examples 1 and 3]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 45 parts of styrene monomer and 0.38 part of dibutyl ether and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 15 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further polymerization reaction for 1 hour, 40 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Went. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 75,100 and Mw / Mn = 1.11.
次いで、上記重合反応溶液400部を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、シリカ−アルミナ担持型ニッケル触媒(日揮化学工業社製;E22U、ニッケル担持量60%)10部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度160℃、圧力4.5MPaにて8時間水素化反応を行った。 Next, 400 parts of the polymerization reaction solution was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and a silica-alumina supported nickel catalyst (manufactured by JGC Chemical Industry Co., Ltd .; E22U, nickel supported amount 60%) 10 as a hydrogenation catalyst. Part was added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, and hydrogen was supplied while stirring the solution, and a hydrogenation reaction was performed at a temperature of 160 ° C. and a pressure of 4.5 MPa for 8 hours.
水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、シクロヘキサン800部を加えて希釈し、該反応溶液を3500部のイソプロパノール(クラス1000のクリーンルームで、孔径1μmのフィルターにてろ過したもの)中に注いでブロック共重合体を析出させ、ろ過により分離回収し、80℃にて48時間減圧乾燥させた。得られたブロック共重合体は、スチレン由来の繰り返し単位を含有するブロック(以下、適宜「St」という。)、イソプレン由来の繰り返し単位を含有するブロック(以下、適宜「Ip」という。)とからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St=45:15:40であった。該ブロック共重合体のMwは68,000、Mw/Mnは1.17、主鎖及び芳香環の水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは141.5℃であった。 After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution is filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then diluted by adding 800 parts of cyclohexane, and the reaction solution is filtered with 3500 parts of isopropanol (class 1000 clean room with a filter having a pore diameter of 1 μm. The block copolymer was precipitated by filtration into a filtered product), separated and recovered by filtration, and dried under reduced pressure at 80 ° C. for 48 hours. The obtained block copolymer is composed of a block containing a repeating unit derived from styrene (hereinafter referred to as “St” as appropriate) and a block containing a repeating unit derived from isoprene (hereinafter referred to as “Ip” as appropriate). The weight ratio of each block was St: Ip: St = 45: 15: 40. The block copolymer had an Mw of 68,000, an Mw / Mn of 1.17, a hydrogenation rate of the main chain and the aromatic ring of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 141.5 ° C.
〔合成例2:実施例2のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー45部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー12部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー42部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=103,000、Mw/Mn=1.13であった。
[Synthesis Example 2: Synthesis of polymer of Example 2]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 45 parts of styrene monomer and 0.38 part of dibutyl ether and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 12 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further polymerization reaction for 1 hour, 42 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Went. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 103,000 and Mw / Mn = 1.13.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、StとIpとからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St=45:12:43であった。該ブロック共重合体のMwは92,000、Mw/Mnは1.19、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは146.6℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer was a ternary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block was St: Ip: St = 45: 12: 43. The block copolymer had Mw of 92,000, Mw / Mn of 1.19, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 146.6 ° C.
〔合成例3:実施例4のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー25部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー10部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー20部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー5部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー20部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=92,000、Mw/Mn=1.18であった。
[Synthesis Example 3: Synthesis of Polymer of Example 4]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 25 parts of styrene monomer, and 0.38 part of dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 10 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further polymerization reaction for 1 hour, 20 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Then, 5 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further performed for 1 hour. Then, 20 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further performed for 1 hour. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 92,000 and Mw / Mn = 1.18.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、StとIpとからなる5元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St:Ip:St=25:10:20:5:20であった。該ブロック共重合体のMwは88,000、Mw/Mnは1.21、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは125.4℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer is a ternary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block is St: Ip: St: Ip: St = 25: 10: 20: 5: It was 20. The block copolymer had an Mw of 88,000, an Mw / Mn of 1.21, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 125.4 ° C.
〔比較合成例1:比較例1のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー40部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー20部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー40部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=103,000、Mw/Mn=1.13であった。
[Comparative Synthesis Example 1: Synthesis of Polymer of Comparative Example 1]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 40 parts of styrene monomer and 0.38 part of dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 20 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further polymerization reaction for 1 hour, 40 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Went. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 103,000 and Mw / Mn = 1.13.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、StとIpとからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St=40:20:40であった。該ブロック共重合体のMwは72,000、Mw/Mnは1.17、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは133.6℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer was a ternary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block was St: Ip: St = 40: 20: 40. The block copolymer had Mw of 72,000, Mw / Mn of 1.17, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 133.6 ° C.
〔比較合成例2:比較例2のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー50部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー5部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー45部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=98,000、Mw/Mn=1.12であった。
[Comparative Synthesis Example 2: Synthesis of Polymer of Comparative Example 2]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 50 parts of styrene monomer, and 0.38 part of dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 5 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further polymerizing reaction for 1 hour, 45 parts of styrene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Went. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 98,000 and Mw / Mn = 1.12.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、StとIpとからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St=50:5:45であった。該ブロック共重合体のMwは82,000、Mw/Mnは1.19、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは148.7℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer was a ternary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block was St: Ip: St = 50: 5: 45. The block copolymer had an Mw of 82,000, an Mw / Mn of 1.19, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 148.7 ° C.
〔比較合成例3:比較例3のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー85部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、イソプレンモノマー15部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=102,000、Mw/Mn=1.14であった。
[Comparative Synthesis Example 3: Synthesis of Polymer of Comparative Example 3]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 85 parts of styrene monomer and 0.38 part of dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After performing the polymerization reaction for 1 hour, 15 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and the polymerization reaction was further performed for 1 hour. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 102,000 and Mw / Mn = 1.14.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、StとIpとからなる2元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip=85:15であった。該ブロック共重合体のMwは89,000、Mw/Mnは1.17、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは110.3℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer was a binary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block was St: Ip = 85: 15. The block copolymer had an Mw of 89,000, an Mw / Mn of 1.17, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 110.3 ° C.
〔比較合成例4:比較例4のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー45部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー10部とイソプレンモノマー15部からなる混合モノマー25部を添加し、さらに1時間重合反応を行った後、反応溶液中に、スチレンモノマー30部を添加し、さらに1時間重合反応を行った。その後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=83,000、Mw/Mn=1.16であった。
[Comparative Synthesis Example 4: Synthesis of Polymer of Comparative Example 4]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 45 parts of styrene monomer and 0.38 part of dibutyl ether and stirred at 60 ° C. with n-butyllithium. The polymerization reaction was started by adding 0.36 part of a solution (15% by weight containing hexane solution). After carrying out the polymerization reaction for 1 hour, 25 parts of a mixed monomer composed of 10 parts of styrene monomer and 15 parts of isoprene monomer was added to the reaction solution, and after further conducting the polymerization reaction for 1 hour, the styrene monomer was added to the reaction solution. 30 parts were added, and the polymerization reaction was further carried out for 1 hour. Thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer were measured, they were Mw = 83,000 and Mw / Mn = 1.16.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたブロック共重合体は、Stと、スチレン由来の繰り返し単位とイソプレン由来の繰り返し単位とが共存するブロック(以下、適宜「St/Ip」という。)と、Ipとからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:St/Ip:St=45:10/15:30であった。該ブロック共重合体のMwは79,000、Mw/Mnは1.16、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは138.3℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained block copolymer is a ternary block copolymer comprising St, a block in which a repeating unit derived from styrene and a repeating unit derived from isoprene coexist (hereinafter referred to as “St / Ip” as appropriate) and Ip. It was a polymer, and the weight ratio of each block was St: St / Ip: St = 45: 10/15: 30. The block copolymer had Mw of 79,000, Mw / Mn of 1.16, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 138.3 ° C.
〔比較合成例5:比較例5のポリマーの合成〕
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレンモノマー85部とイソプレンモノマー15部とからなる混合モノマー、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.36部を添加して重合反応を開始した。1時間重合反応を行った後、反応溶液にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。
得られたランダム共重合体の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=87,000、Mw/Mn=1.15であった。
[Comparative Synthesis Example 5: Synthesis of Polymer of Comparative Example 5]
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 85 parts of styrene monomer and 15 parts of isoprene monomer, and 0.38 part of dibutyl ether. While stirring at 60 ° C., 0.36 part of n-butyllithium solution (15% by weight containing hexane solution) was added to initiate the polymerization reaction. After performing the polymerization reaction for 1 hour, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained random copolymer were measured, they were Mw = 87,000 and Mw / Mn = 1.15.
実施例1同様に水素化反応を行った。得られたランダム共重合体は、StとIpとからなるランダム共重合体であり、StとIpの重量比はSt:Ip=85/15であった。該ランダム共重合体のMwは82,000、Mw/Mnは1.19、水素化率は99.9%、ガラス転移温度Tgは109.7℃であった。 A hydrogenation reaction was carried out in the same manner as in Example 1. The obtained random copolymer was a random copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of St and Ip was St: Ip = 85/15. The random copolymer had an Mw of 82,000, an Mw / Mn of 1.19, a hydrogenation rate of 99.9%, and a glass transition temperature Tg of 109.7 ° C.
〔実施例1〕
(1)樹脂Aの作製
合成例1で合成したブロック共重合体(ビニル脂環式炭化水素重合体)94重量%に、紫外線吸収剤として2,2’−メチレンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール〕5.0重量%と2−(4,6−ジフェニルー1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール1.0重量%を添加し、二軸押出機で混錬し、ストランド状に押出し、ペレタイザーで裁断してビニル脂環式構造含有重合体組成物A(樹脂A)を得た。
[Example 1]
(1) Production of Resin A 94% by weight of the block copolymer (vinyl alicyclic hydrocarbon polymer) synthesized in Synthesis Example 1 and 2,2′-methylenebis [4- (1,1,1, 3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol] 5.0% by weight and 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)- Add 1.0% by weight of 5-[(hexyl) oxy] -phenol, knead with a twin-screw extruder, extrude into a strand, cut with a pelletizer and vinyl alicyclic structure-containing polymer composition A ( Resin A) was obtained.
(2)樹脂Bの作製
合成例1で合成したブロック共重合体(ビニル脂環式炭化水素重合体)99.5重量%に、微粒子として(株)アドマテックス製シリカビーズ アドマファインSO−C2(粒径0.5μm)を0.5重量%混合して、二軸押出機で溶融混練しビニル脂環式構造含有重合体組成物(樹脂B)を得た。
(2) Production of Resin B 99.5% by weight of the block copolymer (vinyl alicyclic hydrocarbon polymer) synthesized in Synthesis Example 1 was added as fine particles to silica beads manufactured by Admatechs Co., Ltd. Admafine SO-C2 ( 0.5 wt% of particle size) was mixed and melt kneaded with a twin screw extruder to obtain a vinyl alicyclic structure-containing polymer composition (resin B).
(3)押出しフィルムの成形
樹脂A及び樹脂Bそれぞれを単軸押出機に供給し共押出成形で積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムは樹脂B/樹脂A/樹脂Bの三層構造を有し、得られた積層フィルムの厚みは5μm/20μm/5μmであった。
(3) Molding of Extruded Film Resin A and Resin B were supplied to a single screw extruder, and a laminated film was produced by coextrusion molding. The obtained laminated film had a three-layer structure of resin B / resin A / resin B, and the thickness of the obtained laminated film was 5 μm / 20 μm / 5 μm.
〔実施例2〕
ブロック共重合体として合成例2で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Example 2]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Synthesis Example 2 was used as the block copolymer.
〔実施例3〕
(1)押出しフィルムの成形
実施例1と同様にして、樹脂A及び樹脂Bを用意した。
樹脂A、Bそれぞれを単軸押出機に供給し共押出成形で積層フィルムを製造した。得られた積層フィルムは樹脂B/樹脂A/樹脂Bの三層構造を有し、得られた積層フィルムの厚みは6μm/24μm/6μmであった。
Example 3
(1) Molding of Extruded Film Resin A and Resin B were prepared in the same manner as Example 1.
Resins A and B were supplied to a single screw extruder, and a laminated film was produced by coextrusion molding. The obtained laminated film had a three-layer structure of resin B / resin A / resin B, and the thickness of the obtained laminated film was 6 μm / 24 μm / 6 μm.
(2)二軸延伸処理
得られた積層フィルムを、延伸温度147℃で同時二軸延伸機にて縦1.5倍・横1.15倍の延伸倍率で延伸成形を行った。
得られた積層フィルムの厚みは5μm/20μm/5μmであった。
(2) Biaxial stretching treatment The obtained laminated film was stretch-molded at a stretching temperature of 147 ° C. with a simultaneous biaxial stretching machine at a stretching ratio of 1.5 times in length and 1.15 times in width.
The thickness of the obtained laminated film was 5 μm / 20 μm / 5 μm.
〔実施例4〕
ブロック共重合体として合成例3で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
Example 4
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Synthesis Example 3 was used as the block copolymer.
〔比較例1〕
ブロック共重合体として比較合成例1で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Comparative Example 1]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Comparative Synthesis Example 1 was used as the block copolymer.
〔比較例2〕
ブロック共重合体として比較合成例2で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Comparative Example 2]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Comparative Synthesis Example 2 was used as the block copolymer.
〔比較例3〕
ブロック共重合体として比較合成例3で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Comparative Example 3]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Comparative Synthesis Example 3 was used as the block copolymer.
〔比較例4〕
ブロック共重合体として比較合成例4で合成したブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Comparative Example 4]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer synthesized in Comparative Synthesis Example 4 was used as the block copolymer.
〔比較例5〕
ブロック共重合体の代わりに比較合成例5で合成したランダム共重合体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、同様の厚みの積層フィルムを製造した。
[Comparative Example 5]
A laminated film having the same thickness was produced in the same manner as in Example 1 except that the random copolymer synthesized in Comparative Synthesis Example 5 was used instead of the block copolymer.
〔位相差Reの測定〕
自動複屈折計(王子計測機器(株) KOBLA−21ADH)で積層フィルムの幅方向に50mm間隔で1000mmにわたって測定した。全測定結果を平均して、積層フィルムの面内位相差Re値とした。
[Measurement of phase difference Re]
It measured over 1000 mm at intervals of 50 mm in the width direction of the laminated film with an automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments KOBLA-21ADH). All measurement results were averaged to obtain the in-plane retardation Re value of the laminated film.
〔耐衝撃性の測定〕
直径40mmのサイズに積層フィルムを切り出し、5.5gの金属球を高さを変えて落として、フィルムの割れた高さを記録した。
20回繰り返して行い、JIS K7211−01に記載された方法で50%破壊高さを算出した。50%破壊高さが、20cm以上であれば「優」、20cm未満から17cm以上であれば「良」、17cm未満から13cm以上であれば「可」、13cm未満であれば「不良」とした。
(Measurement of impact resistance)
The laminated film was cut into a size of 40 mm in diameter, and 5.5 g of a metal ball was dropped at a different height, and the height at which the film was broken was recorded.
The test was repeated 20 times, and the 50% fracture height was calculated by the method described in JIS K7211-01. If the 50% fracture height is 20 cm or more, “excellent”, less than 20 cm to 17 cm or more “good”, less than 17 cm to 13 cm or more “good”, and less than 13 cm “bad”. .
〔耐熱試験〕
ポリビニルアルコールのフィルム(平均重合度2400、ケン化度99.9モル%、厚み80μm)にヨウ素を吸着させて得られた偏光子Aの片面に、平均厚み60μmのトリアセチルセルロースフィルムを貼り合わせ、もう一方の面に粘着剤(日東電工 CS9621)を用いて積層フィルムを貼り合わせてフィルムXを作製した。
得られたフィルムXをA4サイズに切りだし、80℃のオーブン内に100時間放置し、フィルムの寸法変化を測定した。寸法変化が0.5mm以上であれば「不良」とし、0mm以上0.5mm未満を「良」とした。
[Heat resistance test]
A triacetyl cellulose film having an average thickness of 60 μm is bonded to one side of a polarizer A obtained by adsorbing iodine to a polyvinyl alcohol film (average polymerization degree 2400, saponification degree 99.9 mol%, thickness 80 μm), A film X was produced by laminating a laminated film on the other surface using an adhesive (Nitto Denko CS9621).
The obtained film X was cut into A4 size, left in an oven at 80 ° C. for 100 hours, and the dimensional change of the film was measured. If the dimensional change was 0.5 mm or more, it was judged as “bad”, and 0 mm or more and less than 0.5 mm was judged as “good”.
〔評価結果〕
各実施例及び比較例で製造した積層フィルムの評価結果を、下記表1及び表2に示す。
〔Evaluation results〕
The evaluation results of the laminated films produced in each Example and Comparative Example are shown in Table 1 and Table 2 below.
表1から、本発明の実施例1〜4の積層フィルムはいずれも位相差Reが小さく、耐衝撃性及び耐熱性に優れることがわかる。特に実施例3では、二軸延伸処理を行ったことにより耐衝撃性が顕著に向上していることが分かる。
一方、表2の比較例1,2から、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックであるStの含有率、及び、ジエン化合物水素化物ブロックであるIpの含有率が本発明に係る範囲を外れると、位相差Reが大きくなることが分かる。
また、表2の比較例3から、St及びIpのブロック数が3ブロックに満たないと耐衝撃性が十分には得られないことが分かる。さらに、表2の比較例4から、ジエン化合物水素化物ブロックがスチレンとイソプレンとのランダムコポリマーになっていると、耐衝撃性が十分には得られないことが分かる。したがって、本発明に係るブロック構造を有していなければ耐衝撃性が不足することがわかる。
さらに、表2の比較例5から、重合体をランダム共重合体にすると、位相差Reが大きく、耐衝撃性及び耐熱性のいずれにも劣るフィルムとなることがわかる。
From Table 1, it can be seen that all the laminated films of Examples 1 to 4 of the present invention have a small retardation Re and are excellent in impact resistance and heat resistance. In particular, in Example 3, it can be seen that the impact resistance is remarkably improved by performing the biaxial stretching treatment.
On the other hand, from Comparative Examples 1 and 2 in Table 2, when the content of St which is an aromatic vinyl compound hydride block and the content of Ip which is a diene compound hydride block are out of the range according to the present invention, It can be seen that the phase difference Re increases.
Moreover, it can be seen from Comparative Example 3 in Table 2 that sufficient impact resistance cannot be obtained unless the number of St and Ip blocks is less than 3. Furthermore, it can be seen from Comparative Example 4 in Table 2 that if the diene compound hydride block is a random copolymer of styrene and isoprene, sufficient impact resistance cannot be obtained. Therefore, it can be seen that the impact resistance is insufficient if the block structure according to the present invention is not provided.
Furthermore, it can be seen from Comparative Example 5 in Table 2 that when the polymer is a random copolymer, the phase difference Re is large and the film is inferior in both impact resistance and heat resistance.
本発明のフィルムは産業上の任意の分野において使用できるが、特に光学素子に係る分野に用いて好適であり、例えば、液晶表示装置等の偏光板の保護フィルムとして好適に使用できる。 The film of the present invention can be used in any industrial field, but is particularly suitable for use in the field relating to optical elements.
Claims (5)
前記ビニル脂環式炭化水素重合体は、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計3ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が82重量%〜90重量%、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が10重量%〜18重量%であり、少なくともポリマー鎖の一端以上は芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなり、
その面内の位相差が1nm以下であるフィルム。 A film having a layer A containing a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer,
The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer has a total of 3 or more blocks of aromatic vinyl compound hydride block and diene compound hydride block, and the content of aromatic vinyl compound hydride block is 82% by weight to 90% by weight. %, The content of the diene compound hydride block is 10% by weight to 18% by weight, and at least one end of the polymer chain is composed of an aromatic vinyl compound hydride block,
A film having an in-plane retardation of 1 nm or less.
前記層Bは、前記ビニル脂環式炭化水素重合体および微粒子を含む層であり、
前記微粒子の数平均粒子径が0.01μm〜1.0μmであり、
前記層Bにおける前記ビニル脂環式炭化水素重合体に対する微粒子の重量比が0.01%〜5.00%である、請求項1記載のフィルム。 A layer B laminated on the layer A;
The layer B is a layer containing the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and fine particles,
The number average particle diameter of the fine particles is 0.01 μm to 1.0 μm,
The film according to claim 1, wherein a weight ratio of fine particles to the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer in the layer B is 0.01% to 5.00%.
前記ビニル脂環式炭化水素重合体は、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックとジエン化合物水素化物ブロックとを合計3ブロック以上有し、芳香族ビニル化合物水素化物ブロックの含有率が82重量%〜90重量%、ジエン化合物水素化物ブロックの含有率が10重量%〜18重量%であり、少なくともポリマー鎖の一端以上は芳香族ビニル化合物水素化物ブロックからなり、
前記ビニル脂環式炭化水素重合体を含む樹脂と、前記材料を含む樹脂とを共押し出しして得られる、フィルム。 Layer A containing vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and layer containing any one or more materials selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polypropylene, hydrogenated norbornene polymer, and methacrylic ester polymer A film having C,
The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer has a total of 3 or more blocks of aromatic vinyl compound hydride block and diene compound hydride block, and the content of aromatic vinyl compound hydride block is 82% by weight to 90% by weight. %, The content of the diene compound hydride block is 10% by weight to 18% by weight, and at least one end of the polymer chain is composed of an aromatic vinyl compound hydride block,
A film obtained by coextruding a resin containing the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer and a resin containing the material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009156177A JP5487759B2 (en) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | Film and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009156177A JP5487759B2 (en) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | Film and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011013378A true JP2011013378A (en) | 2011-01-20 |
| JP5487759B2 JP5487759B2 (en) | 2014-05-07 |
Family
ID=43592348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009156177A Active JP5487759B2 (en) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | Film and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5487759B2 (en) |
Cited By (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014030409A1 (en) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | 三菱樹脂株式会社 | Optical laminate and method for manufacturing optical laminate |
| WO2015105127A1 (en) | 2014-01-09 | 2015-07-16 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film and method for producing same |
| JP2016089023A (en) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | 日本ゼオン株式会社 | Method for producing water repellent film |
| JPWO2015115397A1 (en) * | 2014-01-29 | 2017-03-23 | 日本ゼオン株式会社 | Transparent adhesive sheet |
| WO2017086265A1 (en) | 2015-11-18 | 2017-05-26 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and polarizing plate |
| WO2017150166A1 (en) * | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film and production method |
| JP2017173754A (en) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, polarizing plate, and display device |
| JP2017177367A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | Optical laminate, polarizing plate and liquid crystal display device |
| WO2017199892A1 (en) * | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film |
| WO2018061648A1 (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and production method therefor, and polarizing plate |
| WO2018123662A1 (en) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 日本ゼオン株式会社 | Film |
| KR20180083320A (en) | 2015-11-18 | 2018-07-20 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and polarizer |
| CN108369310A (en) * | 2015-12-25 | 2018-08-03 | 柯尼卡美能达株式会社 | Polaroid protective film, its manufacturing method and polarizing film |
| WO2018181696A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, method for producing same, polarizing plate and liquid crystal display device |
| WO2018180498A1 (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, polarizing plate and production method |
| WO2018221274A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| WO2018221275A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| WO2018221276A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| WO2019022022A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate |
| WO2019022027A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate |
| WO2019022013A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Polarizing plate and display device |
| WO2019026842A1 (en) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and method for manufacturing same |
| WO2019131684A1 (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate body for polarization plate, polarization plate, display device, and method for manufacturing polarization plate |
| WO2019131666A1 (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate body for polarization plate, polarization plate, laminate body film roll for polarization plate, method for manufacturing laminate body for polarization plate, and method for manufacturing polarization plate |
| KR20190099400A (en) | 2016-12-28 | 2019-08-27 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and polarizer |
| WO2020110673A1 (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, retarder film, and method for manufacturing same |
| WO2020153233A1 (en) * | 2019-01-23 | 2020-07-30 | 日本ゼオン株式会社 | Layered body, polarizing plate, method for producing layered body, method for producing polarizing plate, and method for producing display device |
| KR20200131822A (en) | 2018-03-19 | 2020-11-24 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Phase difference film and manufacturing method of phase difference film |
| KR20200131833A (en) | 2018-03-19 | 2020-11-24 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Phase difference film and manufacturing method of phase difference film |
| US20220282028A1 (en) * | 2019-08-30 | 2022-09-08 | Zeon Corporation | Phase contrast film and production method therefor |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081957A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Teijin Limited | Optical film |
| JP2005105140A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Transparent polymer film, and polarizing plate and liquid crystal display device obtained by using the same |
| JP2006283010A (en) * | 2005-03-07 | 2006-10-19 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Optical film |
| JP2008003426A (en) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Nippon Zeon Co Ltd | Polarizer |
-
2009
- 2009-06-30 JP JP2009156177A patent/JP5487759B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081957A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Teijin Limited | Optical film |
| JP2005105140A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Transparent polymer film, and polarizing plate and liquid crystal display device obtained by using the same |
| JP2006283010A (en) * | 2005-03-07 | 2006-10-19 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Optical film |
| JP2008003426A (en) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Nippon Zeon Co Ltd | Polarizer |
Cited By (100)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014030409A1 (en) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | 三菱樹脂株式会社 | Optical laminate and method for manufacturing optical laminate |
| WO2014030698A1 (en) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | 三菱樹脂株式会社 | Optical laminate and method for manufacturing optical laminate |
| JPWO2014030698A1 (en) * | 2012-08-24 | 2016-07-28 | 三菱樹脂株式会社 | OPTICAL LAMINATE AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL LAMINATE |
| WO2015105127A1 (en) | 2014-01-09 | 2015-07-16 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film and method for producing same |
| CN105813843A (en) * | 2014-01-09 | 2016-07-27 | 日本瑞翁株式会社 | Multilayer film and method for producing same |
| JPWO2015115397A1 (en) * | 2014-01-29 | 2017-03-23 | 日本ゼオン株式会社 | Transparent adhesive sheet |
| JP2016089023A (en) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | 日本ゼオン株式会社 | Method for producing water repellent film |
| EP3379305A4 (en) * | 2015-11-18 | 2019-07-03 | Zeon Corporation | Optical film and polarizing plate |
| KR20180084041A (en) | 2015-11-18 | 2018-07-24 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and polarizer |
| WO2017086265A1 (en) | 2015-11-18 | 2017-05-26 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and polarizing plate |
| US10941236B2 (en) | 2015-11-18 | 2021-03-09 | Zeon Corporation | Optical film and polarizing plate |
| JPWO2017086265A1 (en) * | 2015-11-18 | 2017-11-16 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and polarizing plate |
| JPWO2017086270A1 (en) * | 2015-11-18 | 2018-08-30 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and polarizing plate |
| CN108351457A (en) * | 2015-11-18 | 2018-07-31 | 日本瑞翁株式会社 | Optical film and polarizing film |
| CN108351456A (en) * | 2015-11-18 | 2018-07-31 | 日本瑞翁株式会社 | Optical Films and Polarizers |
| KR20180083320A (en) | 2015-11-18 | 2018-07-20 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and polarizer |
| CN108369310B (en) * | 2015-12-25 | 2021-03-16 | 柯尼卡美能达株式会社 | Polarizer protective film, method for producing the same, and polarizer |
| CN108369310A (en) * | 2015-12-25 | 2018-08-03 | 柯尼卡美能达株式会社 | Polaroid protective film, its manufacturing method and polarizing film |
| JPWO2017150166A1 (en) * | 2016-02-29 | 2018-12-27 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film and manufacturing method |
| WO2017150166A1 (en) * | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film and production method |
| JP2017173754A (en) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, polarizing plate, and display device |
| JP2017177367A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | Optical laminate, polarizing plate and liquid crystal display device |
| WO2017199892A1 (en) * | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 日本ゼオン株式会社 | Multilayer film |
| JP6992759B2 (en) | 2016-09-30 | 2022-01-13 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and its manufacturing method, and polarizing plate |
| KR20190055093A (en) | 2016-09-30 | 2019-05-22 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | OPTICAL FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND POLARIZER |
| WO2018061648A1 (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and production method therefor, and polarizing plate |
| JPWO2018061648A1 (en) * | 2016-09-30 | 2019-07-11 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, method for producing the same, and polarizing plate |
| KR102470048B1 (en) * | 2016-09-30 | 2022-11-22 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and its manufacturing method, and polarizing plate |
| TWI760365B (en) * | 2016-09-30 | 2022-04-11 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Optical film, method for producing the same, and polarizing plate |
| US10962690B2 (en) | 2016-09-30 | 2021-03-30 | Zeon Corporation | Optical film and production method therefor, and polarizing plate |
| WO2018123662A1 (en) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 日本ゼオン株式会社 | Film |
| KR102638927B1 (en) * | 2016-12-28 | 2024-02-20 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical films and polarizers |
| CN109963712A (en) * | 2016-12-28 | 2019-07-02 | 日本瑞翁株式会社 | membrane |
| JPWO2018124137A1 (en) * | 2016-12-28 | 2019-10-31 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and polarizing plate |
| KR20190099400A (en) | 2016-12-28 | 2019-08-27 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film and polarizer |
| KR102607190B1 (en) * | 2017-03-30 | 2023-11-27 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film, manufacturing method thereof, polarizer, and liquid crystal display device |
| CN110418988B (en) * | 2017-03-30 | 2021-08-13 | 日本瑞翁株式会社 | Optical film, method for producing optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
| JPWO2018181696A1 (en) * | 2017-03-30 | 2020-02-06 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, manufacturing method thereof, polarizing plate, and liquid crystal display device |
| CN110418988A (en) * | 2017-03-30 | 2019-11-05 | 日本瑞翁株式会社 | Optical film, the manufacturing method of optical film, polarizing film and liquid crystal display device |
| KR20190128648A (en) | 2017-03-30 | 2019-11-18 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film, its manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device |
| WO2018181696A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, method for producing same, polarizing plate and liquid crystal display device |
| TWI787246B (en) * | 2017-03-30 | 2022-12-21 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Optical film, manufacturing method thereof, polarizing plate, and liquid crystal display device |
| WO2018180498A1 (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, polarizing plate and production method |
| KR20190127748A (en) | 2017-03-31 | 2019-11-13 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Optical film, polarizing plate, and manufacturing method |
| JPWO2018221276A1 (en) * | 2017-05-31 | 2020-04-02 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| TWI799419B (en) * | 2017-05-31 | 2023-04-21 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Retardation film and manufacturing method |
| KR20200010277A (en) * | 2017-05-31 | 2020-01-30 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| CN110709737A (en) * | 2017-05-31 | 2020-01-17 | 日本瑞翁株式会社 | Retardation film and method for producing same |
| KR20200013668A (en) * | 2017-05-31 | 2020-02-07 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| JPWO2018221274A1 (en) * | 2017-05-31 | 2020-04-02 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| CN110678787A (en) * | 2017-05-31 | 2020-01-10 | 日本瑞翁株式会社 | Phase difference film and method for producing the same |
| JPWO2018221275A1 (en) * | 2017-05-31 | 2020-05-21 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| KR102677393B1 (en) * | 2017-05-31 | 2024-06-20 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| KR102676190B1 (en) * | 2017-05-31 | 2024-06-17 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| KR102675462B1 (en) * | 2017-05-31 | 2024-06-13 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| JP2022136084A (en) * | 2017-05-31 | 2022-09-15 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| TWI835733B (en) * | 2017-05-31 | 2024-03-21 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Manufacturing method of phase difference film |
| WO2018221274A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| WO2018221275A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| JP2022136086A (en) * | 2017-05-31 | 2022-09-15 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| KR20200010283A (en) * | 2017-05-31 | 2020-01-30 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Retardation film and manufacturing method |
| TWI754063B (en) * | 2017-05-31 | 2022-02-01 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Phase difference film and method for producing the same |
| EP3633424A4 (en) * | 2017-05-31 | 2021-03-03 | Zeon Corporation | PHASING FILM, AND ASSOCIATED MANUFACTURING PROCESS |
| EP3633425A4 (en) * | 2017-05-31 | 2021-03-03 | Zeon Corporation | PHASING FILM, AND ASSOCIATED MANUFACTURING PROCESS |
| EP3637159A4 (en) * | 2017-05-31 | 2021-03-03 | Zeon Corporation | RETARDATION FILM AND MANUFACTURING PROCESS |
| CN110651207A (en) * | 2017-05-31 | 2020-01-03 | 日本瑞翁株式会社 | Retardation film and method for producing same |
| CN115629437A (en) * | 2017-05-31 | 2023-01-20 | 日本瑞翁株式会社 | Retardation film and method for producing same |
| WO2018221276A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and production method |
| JP2022136085A (en) * | 2017-05-31 | 2022-09-15 | 日本ゼオン株式会社 | Retardation film and manufacturing method |
| WO2019022022A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate |
| WO2019022013A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Polarizing plate and display device |
| US11573359B2 (en) | 2017-07-25 | 2023-02-07 | Zeon Corporation | Method for producing a polarizing plate |
| WO2019022027A1 (en) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate |
| US11409028B2 (en) | 2017-07-25 | 2022-08-09 | Zeon Corporation | Laminate |
| WO2019026842A1 (en) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and method for manufacturing same |
| JPWO2019026842A1 (en) * | 2017-08-02 | 2020-08-20 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film and manufacturing method thereof |
| JP7226334B2 (en) | 2017-12-28 | 2023-02-21 | 日本ゼオン株式会社 | Polarizing plate laminate, polarizing plate, polarizing plate laminate film roll, and method for producing polarizing plate |
| JP7294142B2 (en) | 2017-12-28 | 2023-06-20 | 日本ゼオン株式会社 | LAMINATE FOR POLARIZING PLATE, POLARIZING PLATE, DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING POLARIZING PLATE |
| CN111492276B (en) * | 2017-12-28 | 2022-04-19 | 日本瑞翁株式会社 | Laminate for polarizer, polarizer, and method for producing the same |
| KR102716966B1 (en) * | 2017-12-28 | 2024-10-14 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Laminate for polarizing plate, polarizing plate, display device, and method for manufacturing polarizing plate |
| KR102716965B1 (en) * | 2017-12-28 | 2024-10-11 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Laminate for polarizing plate, polarizing plate, laminate film roll for polarizing plate, method for manufacturing laminate for polarizing plate and method for manufacturing polarizing plate |
| WO2019131684A1 (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate body for polarization plate, polarization plate, display device, and method for manufacturing polarization plate |
| WO2019131666A1 (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日本ゼオン株式会社 | Laminate body for polarization plate, polarization plate, laminate body film roll for polarization plate, method for manufacturing laminate body for polarization plate, and method for manufacturing polarization plate |
| JPWO2019131666A1 (en) * | 2017-12-28 | 2021-01-28 | 日本ゼオン株式会社 | Laminating body for polarizing plate, polarizing plate, laminate film roll for polarizing plate, method for manufacturing laminated body for polarizing plate and method for manufacturing polarizing plate |
| JPWO2019131684A1 (en) * | 2017-12-28 | 2021-01-21 | 日本ゼオン株式会社 | Laminated body for polarizing plate, polarizing plate, display device, manufacturing method of polarizing plate |
| TWI795501B (en) * | 2017-12-28 | 2023-03-11 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | Stack for polarizing plate, polarizing plate, film roll of stack for polarizing plate, method for manufacturing stack for polarizing plate, and method for manufacturing polarizing plate |
| CN111492276A (en) * | 2017-12-28 | 2020-08-04 | 日本瑞翁株式会社 | Laminate for polarizing plates, polarizing plate, laminated body film roll for polarizing plates, manufacturing method of the laminated body for polarizing plates, and manufacturing method of polarizing plate |
| KR20200101915A (en) * | 2017-12-28 | 2020-08-28 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Polarizing plate laminate, polarizing plate, polarizing plate laminate film roll, polarizing plate laminate manufacturing method and polarizing plate manufacturing method |
| KR20200104297A (en) * | 2017-12-28 | 2020-09-03 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Polarizing plate laminate, polarizing plate, display device, and manufacturing method of polarizing plate |
| KR20200131822A (en) | 2018-03-19 | 2020-11-24 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Phase difference film and manufacturing method of phase difference film |
| US11970562B2 (en) | 2018-03-19 | 2024-04-30 | Zeon Corporation | Retardation film and production method for retardation film |
| KR20200131833A (en) | 2018-03-19 | 2020-11-24 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | Phase difference film and manufacturing method of phase difference film |
| US12139570B2 (en) | 2018-03-19 | 2024-11-12 | Zeon Corporation | Retardation film and production method for retardation film |
| JP7338639B2 (en) | 2018-11-30 | 2023-09-05 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, retardation film, and manufacturing method thereof |
| WO2020110673A1 (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, retarder film, and method for manufacturing same |
| CN113056685A (en) * | 2018-11-30 | 2021-06-29 | 日本瑞翁株式会社 | Optical film, phase difference film, and method for producing same |
| JPWO2020110673A1 (en) * | 2018-11-30 | 2021-10-14 | 日本ゼオン株式会社 | Optical film, retardation film, and their manufacturing method |
| WO2020153233A1 (en) * | 2019-01-23 | 2020-07-30 | 日本ゼオン株式会社 | Layered body, polarizing plate, method for producing layered body, method for producing polarizing plate, and method for producing display device |
| US20220282028A1 (en) * | 2019-08-30 | 2022-09-08 | Zeon Corporation | Phase contrast film and production method therefor |
| US12319782B2 (en) * | 2019-08-30 | 2025-06-03 | Zeon Corporation | Phase contrast film and production method therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5487759B2 (en) | 2014-05-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5487759B2 (en) | Film and manufacturing method thereof | |
| TWI636079B (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| JP4461795B2 (en) | Optical laminate and method for producing optical laminate | |
| KR102406582B1 (en) | Polarizer protective film, polarizer and display device | |
| JP6777176B2 (en) | Optical laminate and its manufacturing method, polarizing plate and display device | |
| JP2012092217A (en) | Optical polycarbonate-based resin film, and method for producing the same | |
| CN108351456B (en) | Optical film and polarizing plate | |
| KR20180116252A (en) | Multi-layer film and manufacturing method | |
| CN108351457B (en) | Optical film and polarizing plate | |
| JP4110361B2 (en) | Method for producing stretched film | |
| JP6557108B2 (en) | Transparent conductive film and touch panel | |
| CN108474893A (en) | Optical laminate, polarizing film and liquid crystal display device | |
| CN109716182B (en) | Optical film, method for producing the same, and polarizing plate | |
| WO2018124137A1 (en) | Optical film and polarizing plate | |
| JP2017065086A (en) | Multilayer film | |
| JP7226333B2 (en) | Protective film for polarizing plate, polarizing plate and display device | |
| CN102532850A (en) | Method for making makrolon serial resin film for optics and makrolon serial resin film for optics | |
| JP6891902B2 (en) | Laminated film, its manufacturing method, polarizing plate, and display device | |
| JP2018097121A (en) | Composite film, production method, polarizing plate, and display device | |
| JP2018069613A (en) | Laminated film, manufacturing method, polarizing plate, and display device | |
| JP2018097110A (en) | Composite film, production method, polarizing plate, and display device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120326 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130321 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130528 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140128 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140210 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5487759 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |