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JP2013010650A - Scribing apparatus - Google Patents

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JP2013010650A
JP2013010650A JP2011143252A JP2011143252A JP2013010650A JP 2013010650 A JP2013010650 A JP 2013010650A JP 2011143252 A JP2011143252 A JP 2011143252A JP 2011143252 A JP2011143252 A JP 2011143252A JP 2013010650 A JP2013010650 A JP 2013010650A
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JP
Japan
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scribing
scribing wheel
brittle material
material substrate
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011143252A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadanobu Nakano
忠信 中野
Naoko Tomei
直子 留井
Yasuhiro Sendai
康弘 千代
Mitsuru Kitaichi
充 北市
Mikio Kondo
幹夫 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2011143252A priority Critical patent/JP2013010650A/en
Publication of JP2013010650A publication Critical patent/JP2013010650A/en
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  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scribing apparatus which favorably forms a scribe line even when a brittle material substrate is repeatedly scribed.SOLUTION: An adjustment part 70 lowers the temperature of a scribing wheel 50. The adjustment part 70 includes mainly a proximity plate 71, nozzles 72, and a cooling section 78. The proximity plate 71 is disposed above the scribing wheel 50 held by a holder 35. When a scribe line SL is formed by the scribing wheel 50, the proximity plate 71 comes close to a brittle material substrate 4. The plurality of nozzles 72 eject nitrogen gas into an adjustment space 70a between the brittle material substrate 4 held by a holding unit 10 and the proximity plate 71. The cooling section 78 cools, in a common pipe 75, nitrogen gas to be supplied to the nozzles 72, whereby the atmosphere in the adjustment space 70a is cooled by nitrogen gas, so that the scribing wheel is sufficiently cooled during scribing.

Description

本発明は、脆性材料基板にスクライブラインを形成するスクライブ装置に関する。   The present invention relates to a scribing apparatus for forming a scribe line on a brittle material substrate.

従来、カッターホイールチップによって、ガラス基板の表面にスクライブラインを刻む技術が、知られている。また、スクライブ時に生じた切り粉を、圧縮空気により吹き飛ばす技術も、知られている(いずれも、特許文献1)。   Conventionally, a technique for engraving a scribe line on the surface of a glass substrate with a cutter wheel chip is known. Moreover, the technique of blowing away the swarf produced at the time of scribing with compressed air is also known (all are patent documents 1).

特開2000−247667号公報JP 2000-247667 A

ここで、特許文献1の技術において、ガラス基板にスクライブラインが形成される場合、カッターホイールチップは、ガラス基板に対して所定の圧力で押し当てられる。これにより、スクライブラインの形成時、カッターホイールチップとガラス基板の間には摩擦による発熱が生じる。   Here, in the technique of Patent Document 1, when a scribe line is formed on a glass substrate, the cutter wheel chip is pressed against the glass substrate with a predetermined pressure. As a result, when the scribe line is formed, heat is generated due to friction between the cutter wheel chip and the glass substrate.

そのため、この発熱に起因してカッターホイールチップが酸化されることにより、場合によっては、カッターホイールチップが劣化したり、スクライブ性能が低下したりする。その結果、場合によっては、工具寿命が短くなるという問題が生ずる。   For this reason, the cutter wheel tip is oxidized due to this heat generation, so that the cutter wheel tip may be deteriorated or the scribing performance may be lowered depending on circumstances. As a result, there is a problem that the tool life is shortened in some cases.

そこで、本発明では、脆性材料基板を繰り返しスクライブしても、良好にスクライブラインを形成することができるスクライブ装置を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a scribing apparatus that can form a scribe line satisfactorily even when a brittle material substrate is scribed repeatedly.

上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、脆性材料基板にスクライブラインを形成するスクライブ装置であって、スクライビングホイールと、前記スクライビングホイールを保持するホルダと、基板を保持しつつ移動させる保持ユニットと、前記スクライビングホイールの温度を低下させる調節部と、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記調節部に前記スクライビングホイールを冷却させる制御ユニットとを備えることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 1 is a scribing device for forming a scribe line on a brittle material substrate, wherein the scribing wheel, a holder for holding the scribing wheel, and a substrate are moved while being held. A holding unit, an adjustment unit that lowers the temperature of the scribing wheel, and a control unit that cools the scribing wheel when the scribing line is formed by the scribing wheel.

また、請求項2の発明は、請求項1に記載のスクライブ装置において、前記調節部は、前記ホルダにより保持された前記スクライビングホイールの上方に設けられており、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記脆性材料基板と近接する近接板と、前記保持ユニットに保持された前記基板と前記近接板との間の調節空間に、冷却ガスを吐出する第1ノズルとを有し、前記制御ユニットは、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記第1ノズルによって、前記冷却ガスを前記調節空間に吐出させることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the scribing device according to claim 1, wherein the adjusting portion is provided above the scribing wheel held by the holder, and a scribing line is formed by the scribing wheel. A proximity plate that is close to the brittle material substrate, and a first nozzle that discharges a cooling gas into an adjustment space between the substrate and the proximity plate held by the holding unit, The control unit discharges the cooling gas into the adjustment space by the first nozzle when a scribe line is formed by the scribing wheel.

また、請求項3の発明は、請求項1に記載のスクライブ装置において、前記調節部は、前記ホルダに保持された前記スクライビングホイールに向けて、冷却ガスを吐出する第2ノズル、を有し、前記制御ユニットは、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記第2ノズルによって、前記スクライビングホイールに向けて前記冷却ガスを吐出させることを特徴とする。   The invention of claim 3 is the scribing device according to claim 1, wherein the adjustment unit has a second nozzle that discharges cooling gas toward the scribing wheel held by the holder, The control unit discharges the cooling gas toward the scribing wheel by the second nozzle when a scribing line is formed by the scribing wheel.

請求項1から請求項3に記載の発明によれば、脆性材料基板にスクライブラインが形成される際に、スクライビングホイールを冷却することができる。これにより、スクライブ時の発熱の影響によりスクライビングホイールが酸化されることを防止でき、スクライビングホイールの寿命を延ばすことができる。   According to the first to third aspects of the invention, the scribing wheel can be cooled when the scribe line is formed on the brittle material substrate. Thereby, it can prevent that a scribing wheel is oxidized by the influence of the heat_generation | fever at the time of scribing, and can extend the lifetime of a scribing wheel.

特に、請求項2に記載の発明によれば、スクライブラインが形成される際に、調節空間の雰囲気は、冷却ガスにより冷却される。これにより、スクライブ時において、スクライビングホイールが十分冷却され、スクライビングホイールをさらに長寿命化することができる。   In particular, according to the second aspect of the invention, when the scribe line is formed, the atmosphere of the adjustment space is cooled by the cooling gas. Thereby, at the time of a scribe, a scribing wheel is fully cooled and the life of a scribing wheel can be further extended.

本発明の第1および第2の実施の形態におけるスクライブ装置の全体構成の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of the whole structure of the scribing apparatus in the 1st and 2nd embodiment of this invention. 本発明の第1および第2の実施の形態におけるスクライブ装置の全体構成の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the whole structure of the scribing apparatus in the 1st and 2nd embodiment of this invention. 第1の実施の形態における調節部の構成の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of a structure of the adjustment part in 1st Embodiment. スクライビングホイールの構成の一例を示す下面図である。It is a bottom view which shows an example of a structure of a scribing wheel. キャスター効果を説明するための下面図である。It is a bottom view for demonstrating a caster effect. 第2の実施の形態における調節部の構成の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of a structure of the adjustment part in 2nd Embodiment.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<1.第1の実施の形態>
<1.1.スクライブ装置の構成>
図1および図2は、それぞれスクライブ装置1の全体構成の一例を示す正面図および側面図である。図3は、調節部70の構成の一例を示す正面図である。図4は、スクライビングホイール50の構成の一例を示す下面図である。図5は、キャスター効果を説明するための下面図である。
<1. First Embodiment>
<1.1. Configuration of scribing device>
FIGS. 1 and 2 are a front view and a side view, respectively, showing an example of the overall configuration of the scribe device 1. FIG. 3 is a front view illustrating an example of the configuration of the adjustment unit 70. FIG. 4 is a bottom view showing an example of the configuration of the scribing wheel 50. FIG. 5 is a bottom view for explaining the caster effect.

スクライブ装置1は、例えばガラス基板またはセラミックス基板等のように、脆性材料で形成された基板(以下、単に、「脆性材料基板」とも呼ぶ)4の表面に、スクライブライン(切りすじ:縦割れ)を入れる装置である。   The scribe device 1 includes a scribe line (cutting line: vertical crack) on the surface of a substrate 4 (hereinafter, also simply referred to as “brittle material substrate”) formed of a brittle material such as a glass substrate or a ceramic substrate. It is a device that puts in.

図1および図2に示すように、スクライブ装置1は、主として、保持ユニット10と、スクライブユニット20と、撮像部ユニット60と、調節部70と、制御ユニット90と、を備えている。なお、図1および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Z軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系が付されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the scribing apparatus 1 mainly includes a holding unit 10, a scribing unit 20, an imaging unit 60, an adjustment unit 70, and a control unit 90. 1 and the subsequent drawings have an XYZ orthogonal coordinate system in which the Z-axis direction is a vertical direction and the XY plane is a horizontal plane, as necessary, in order to clarify the directional relationship. .

ここで、本実施の形態において、
(1)スクライブ装置1により脆性材料基板4の表面にスクライブラインSLを形成することで垂直クラックK(図3など参照)を発生させ(スクライブ工程)、
(2)次に、応力付与により垂直クラックKをさらに伸展させて、脆性材料基板4を切断する(ブレーク工程)、
手法を、「割断」と呼ぶ。
Here, in this embodiment,
(1) A scribe line SL is formed on the surface of the brittle material substrate 4 by the scribe device 1 to generate a vertical crack K (see FIG. 3 and the like) (scribe process),
(2) Next, the vertical crack K is further extended by applying stress, and the brittle material substrate 4 is cut (break process).
The technique is called “cleaving”.

一方、スクライブ工程のみによって(すなわち、ブレーク工程を実行することなく)、垂直クラックKを脆性材料基板4のスクライブラインSLが形成された側の主面から逆側の主面まで伸展させ、脆性材料基板4を切断する手法を、「分断」と呼ぶ。   On the other hand, only by the scribe process (that is, without executing the break process), the vertical crack K is extended from the main surface on the side where the scribe line SL of the brittle material substrate 4 is formed to the main surface on the opposite side, so that the brittle material A method of cutting the substrate 4 is referred to as “dividing”.

また、本実施の形態のスクライブ方法により割断または分断可能な脆性材料基板4の材質の例としては、ガラス、セラミック、シリコン、またはサファイア等が挙げられる。特に近年、通信機器関連の高周波モジュールに用いる基板として、HTCC(High Temperature Co-fired Ceramics)から、比較的加工のしやすいLTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics)への移行が加速している。そのため、本実施の形態のスクライブ方法は、益々有効に用いられることになる。   Examples of the material of the brittle material substrate 4 that can be cleaved or divided by the scribing method of the present embodiment include glass, ceramic, silicon, sapphire, and the like. In particular, in recent years, the transition from HTCC (High Temperature Co-fired Ceramics) to LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics), which is relatively easy to process, is accelerating as a substrate used in high-frequency modules related to communication equipment. Therefore, the scribing method of the present embodiment is used more and more effectively.

保持ユニット10は、脆性材料基板4を保持しつつ移動させることによって、脆性材料基板4をスクライブユニット20に対して移動させる。図1に示すように、保持ユニット10は、基部10a上に設けられており、主として、テーブル11と、ボールねじ機構12と、モータ13と、を有している。   The holding unit 10 moves the brittle material substrate 4 relative to the scribe unit 20 by moving while holding the brittle material substrate 4. As shown in FIG. 1, the holding unit 10 is provided on a base 10 a and mainly includes a table 11, a ball screw mechanism 12, and a motor 13.

ここで、基部10aは、例えば略直方体状の石定盤により形成されており、その上面(保持ユニット10と対向する面)は、平坦加工されている。これにより、基部10aの熱膨張を低減でき、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4を良好に移動させることができる。   Here, the base 10a is formed of, for example, a substantially rectangular parallelepiped stone surface plate, and the upper surface (the surface facing the holding unit 10) is flattened. Thereby, the thermal expansion of the base 10a can be reduced, and the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10 can be favorably moved.

テーブル11は、載置された脆性材料基板4を吸着保持する。また、テーブル11は、保持された脆性材料基板4を、矢印AR1方向(X軸プラスまたはマイナス方向:以下、単に、「進退方向」とも呼ぶ)に進退させるとともに、矢印R1方向(Z軸周りの方向)に回転させる。図1および図2に示すように、テーブル11は、主として、吸着部11aと、回転台11bと、移動台11cと、を有している。   The table 11 sucks and holds the brittle material substrate 4 placed thereon. In addition, the table 11 advances and retracts the held brittle material substrate 4 in the direction of the arrow AR1 (X-axis plus or minus direction: hereinafter also simply referred to as “advance / retreat direction”), and in the direction of the arrow R1 (around the Z-axis). Direction). As shown in FIGS. 1 and 2, the table 11 mainly includes a suction unit 11 a, a turntable 11 b, and a moving table 11 c.

吸着部11aは、回転台11bの上側に設けられている。図1および図2に示すように、吸着部11aの上面には、脆性材料基板4が載置可能とされている。また、吸着部11aの上面には、複数の吸着溝(図示省略)が格子状に配置されている。したがって、脆性材料基板4が載置された状態で、各吸着溝内の雰囲気が排気(吸引)されることによって、脆性材料基板4は、吸着部11aに対して吸着される。   The adsorption part 11a is provided on the upper side of the turntable 11b. As shown in FIGS. 1 and 2, a brittle material substrate 4 can be placed on the upper surface of the suction portion 11 a. A plurality of suction grooves (not shown) are arranged in a lattice pattern on the upper surface of the suction portion 11a. Therefore, the brittle material substrate 4 is adsorbed to the adsorbing portion 11a by exhausting (suctioning) the atmosphere in each adsorption groove while the brittle material substrate 4 is placed.

回転台11bは、吸着部11aの下側に設けられており、Z軸と略平行な回転軸11dを中心に吸着部11aを回転させる。また、移動台11cは、回転台11bの下側に設けられており、進退方向に沿って、吸着部11aおよび回転台11bを移動させる。   The turntable 11b is provided on the lower side of the suction portion 11a, and rotates the suction portion 11a around a rotation shaft 11d substantially parallel to the Z axis. The moving table 11c is provided below the rotating table 11b, and moves the suction unit 11a and the rotating table 11b along the advancing / retreating direction.

したがって、テーブル11に吸着保持された脆性材料基板4は、矢印AR1方向に進退させられるとともに、吸着部11aの進退動作にともなって移動する回転軸11dを中心に回転させられる。   Therefore, the brittle material substrate 4 sucked and held by the table 11 is moved forward and backward in the direction of the arrow AR1, and is rotated around the rotating shaft 11d that moves as the suction portion 11a moves back and forth.

ボールねじ機構12は、テーブル11の下側に配置されており、テーブル11を矢印AR1方向に進退させる。図1および図2に示すように、ボールねじ機構12は、主として、送りネジ12aと、ナット12bと、を有している。   The ball screw mechanism 12 is disposed below the table 11 and moves the table 11 back and forth in the direction of the arrow AR1. As shown in FIGS. 1 and 2, the ball screw mechanism 12 mainly has a feed screw 12a and a nut 12b.

送りネジ12aは、テーブル11の進退方向に沿って延びる棒体である。送りネジ12aの外周面には、螺旋状の溝(図示省略)が設けられている。また、送りネジ12aの一端は支持部14aにより、送りネジ12aの他端は支持部14bにより、それぞれ回転可能に支持されている。さらに、送りネジ12aは、モータ13と連動連結されており、モータ13が回転すると、その回転方向に送りネジ12aが回転する。   The feed screw 12 a is a rod that extends along the advancing / retreating direction of the table 11. A spiral groove (not shown) is provided on the outer peripheral surface of the feed screw 12a. One end of the feed screw 12a is rotatably supported by the support portion 14a, and the other end of the feed screw 12a is rotatably supported by the support portion 14b. Further, the feed screw 12a is linked to the motor 13, and when the motor 13 rotates, the feed screw 12a rotates in the rotation direction.

ナット12bは、送りネジ12aの回転にしたがい、不図示のボールの転がり運動によって、矢印AR1方向に進退する。図1および図2に示すように、ナット12bは、移動台11cの下部に固定されている。   As the feed screw 12a rotates, the nut 12b advances and retreats in the direction of the arrow AR1 due to a rolling motion of a ball (not shown). As shown in FIGS. 1 and 2, the nut 12b is fixed to the lower part of the movable table 11c.

したがって、モータ13が駆動させられ、モータ13の回転力が送りネジ12aに伝達されると、ナット12bは、矢印AR1方向に進退する。その結果、ナット12bが固定されているテーブル11は、ナット12bと同様に矢印AR1方向に進退する。   Therefore, when the motor 13 is driven and the rotational force of the motor 13 is transmitted to the feed screw 12a, the nut 12b advances and retreats in the direction of the arrow AR1. As a result, the table 11 to which the nut 12b is fixed advances and retreats in the direction of the arrow AR1 similarly to the nut 12b.

一対のガイドレール15、16は、進行方向におけるテーブル11の移動を規制する。図2に示すように、一対のガイドレール15、16は、基部10a上において、矢印AR2方向に所定距離だけ隔てて固定されている。   The pair of guide rails 15 and 16 regulate the movement of the table 11 in the traveling direction. As shown in FIG. 2, the pair of guide rails 15 and 16 are fixed on the base portion 10a with a predetermined distance in the direction of the arrow AR2.

複数(本実施の形態では2つ)の摺動部17(17a、17b)は、ガイドレール15に沿って矢印AR1方向に摺動自在とされている。図1および図2に示すように、各摺動部17(17a、17b)は、移動台11cの下部において、矢印AR1方向に所定距離だけ隔てて固定されている。   A plurality of (two in the present embodiment) sliding portions 17 (17a, 17b) are slidable along the guide rail 15 in the direction of the arrow AR1. As shown in FIGS. 1 and 2, the sliding portions 17 (17a, 17b) are fixed at a predetermined distance in the direction of the arrow AR1 at the lower portion of the movable table 11c.

複数(本実施の形態では2つ:ただし、図示の都合上、摺動部18aのみ記載)の摺動部18は、ガイドレール16に沿って矢印AR1方向に摺動自在とされている。図1および図2に示すように、各摺動部18は、摺動部17(17a、17b)と同様に、移動台11cの下部において、矢印AR1方向に所定距離だけ隔てて固定されている。   A plurality of (two in the present embodiment: for convenience of illustration, only the sliding portion 18a is described) sliding portions 18 are slidable along the guide rail 16 in the direction of the arrow AR1. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, each sliding portion 18 is fixed at a predetermined distance in the direction of the arrow AR1 at the lower portion of the movable table 11c, similarly to the sliding portion 17 (17a, 17b). .

このように、モータ13の回転力がボールねじ機構12に付与されると、テーブル11は、一対のガイドレール15、16に沿って移動する。これにより、進退方向におけるテーブル11の直進性を確保することができる。   As described above, when the rotational force of the motor 13 is applied to the ball screw mechanism 12, the table 11 moves along the pair of guide rails 15 and 16. Thereby, the rectilinearity of the table 11 in the advance / retreat direction can be ensured.

スクライブユニット20は、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4に対し、スクライビングホイール50(図3参照)を圧接転動させることによって、脆性材料基板4の表面にスクライブラインSLを形成する。図1および図2に示すように、スクライブユニット20は、主として、スクライビングホイール50を保持するヘッド部30と、駆動部40と、を有している。   The scribe unit 20 forms a scribe line SL on the surface of the brittle material substrate 4 by pressing and rolling the scribing wheel 50 (see FIG. 3) against the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10. As shown in FIGS. 1 and 2, the scribe unit 20 mainly has a head unit 30 that holds a scribing wheel 50 and a drive unit 40.

ヘッド部30は、不図示の昇降・加圧機構によって、保持されたスクライビングホイール50から脆性材料基板4の表面に対し、押圧力(以下、単に、「スクライブ荷重」とも呼ぶ)を付与する。図3に示すように、ヘッド部30は、ホルダ35を有している。   The head unit 30 applies a pressing force (hereinafter, also simply referred to as “scribe load”) to the surface of the brittle material substrate 4 from the held scribing wheel 50 by a lifting / pressing mechanism (not shown). As shown in FIG. 3, the head unit 30 has a holder 35.

ホルダ35は、スクライビングホイール50を回転自在に保持する要素である。図3に示すように、ホルダ35は、主として、ピン36と、支持枠体37と、旋回部38と、を有している。   The holder 35 is an element that holds the scribing wheel 50 rotatably. As shown in FIG. 3, the holder 35 mainly includes a pin 36, a support frame body 37, and a turning portion 38.

ピン36は、スクライビングホイール50を貫通する貫通孔50aに挿入された状態でスクライビングホイール50に固定された棒体である。ここで、貫通孔50aは、図3および図4に示すように、X軸と略平行な回転軸50bに沿って延びている。   The pin 36 is a rod that is fixed to the scribing wheel 50 in a state of being inserted into a through hole 50 a that penetrates the scribing wheel 50. Here, as shown in FIGS. 3 and 4, the through hole 50a extends along a rotation axis 50b substantially parallel to the X axis.

支持枠体37は、図3に示すように、貫通孔50aの両開口(両端)を覆うように配置された構造物である。貫通孔50aの両端から突出するピン36は、支持枠体37に対して、回転可能に設置されている。したがって、ピン36に固定されたスクライビングホイール50は、支持枠体37に対して回転自在とされている。   As shown in FIG. 3, the support frame body 37 is a structure arranged so as to cover both openings (both ends) of the through hole 50 a. The pins 36 protruding from both ends of the through hole 50 a are rotatably installed with respect to the support frame 37. Therefore, the scribing wheel 50 fixed to the pin 36 is rotatable with respect to the support frame 37.

旋回部38は、図3に示すように、支持枠体37の上部に設けられており、Z軸と略平行な回転軸38aを中心に支持枠体37を回転させる。図4に示すように、下面から見た旋回部38の回転軸38aの位置と、脆性材料基板4における保持ユニット10の設置位置50cとは、XY平面内においてズレている。   As shown in FIG. 3, the swivel unit 38 is provided on the upper portion of the support frame 37 and rotates the support frame 37 around a rotation axis 38 a substantially parallel to the Z axis. As shown in FIG. 4, the position of the rotation shaft 38 a of the swivel unit 38 viewed from the lower surface and the installation position 50 c of the holding unit 10 on the brittle material substrate 4 are misaligned in the XY plane.

そのため、スクライビングホイール50の進行方向が、図5に示すように、矢印AR3(2点鎖線)方向から矢印AR4(実線)方向に変化すると、キャスター効果によりスクライビングホイール50には、回転軸38a周りのトルクが働く。これにより、スクライビングホイール50は矢印R2方向に回動し、スクライビングホイール50の位置は2点鎖線位置から実線位置に変化する。   Therefore, as shown in FIG. 5, when the traveling direction of the scribing wheel 50 changes from the arrow AR3 (two-dot chain line) direction to the arrow AR4 (solid line) direction, the scribing wheel 50 is moved around the rotation axis 38a by the caster effect. Torque works. As a result, the scribing wheel 50 rotates in the direction of the arrow R2, and the position of the scribing wheel 50 changes from the two-dot chain line position to the solid line position.

このように、スクライビングホイール50の進行方向が変化して、スクライビングホイール50の姿勢が進行方向に対して角度θ1だけズレた場合であっても、スクライビングホイール50に矢印R2方向のトルクが働く。その結果、スクライビングホイール50の姿勢と、スクライビングホイール50の進行方向が略平行となるように、スクライビングホイール50が旋回する。   Thus, even when the traveling direction of the scribing wheel 50 is changed and the attitude of the scribing wheel 50 is shifted by the angle θ1 with respect to the traveling direction, torque in the direction of the arrow R2 acts on the scribing wheel 50. As a result, the scribing wheel 50 turns so that the posture of the scribing wheel 50 and the traveling direction of the scribing wheel 50 are substantially parallel.

駆動部40は、スクライビングホイール50が設けられたヘッド部30を、図2の矢印AR2方向(Y軸プラスまたはマイナス方向:以下、単に、「往復方向」とも呼ぶ)に往復させる。図2に示すように、駆動部40は、主として、複数(本実施の形態では2本)の支柱41(41a、41b)と、複数(本実施の形態では2本)のガイドレール42と、モータ43と、を有している。   The drive unit 40 reciprocates the head unit 30 provided with the scribing wheel 50 in the direction of arrow AR2 in FIG. 2 (Y-axis plus or minus direction: hereinafter also simply referred to as “reciprocating direction”). As shown in FIG. 2, the drive unit 40 mainly includes a plurality (two in the present embodiment) of columns 41 (41a, 41b), a plurality (two in the present embodiment) of guide rails 42, And a motor 43.

支柱41(41a、41b)は、基部10aから上下方向(Z軸方向)に延びる。図2に示すように、ガイドレール42は、支柱41a、41bの間に挟まれた状態で、これら支柱41a、41bに対して固定される。   The support columns 41 (41a, 41b) extend in the vertical direction (Z-axis direction) from the base portion 10a. As shown in FIG. 2, the guide rail 42 is fixed to the columns 41 a and 41 b while being sandwiched between the columns 41 a and 41 b.

ガイドレール42は、往復方向におけるヘッド部30の移動を規制する。図2に示すように、ガイドレール42は、上下方向に所定距離だけ隔てて固定されている。   The guide rail 42 regulates the movement of the head unit 30 in the reciprocating direction. As shown in FIG. 2, the guide rail 42 is fixed at a predetermined distance in the vertical direction.

モータ43は、不図示の送り機構(例えば、ボールねじ機構)と連動連結されている。これにより、モータ43が回転すると、ヘッド部30は、複数のガイドレール42に沿って矢印AR2方向に往復する。   The motor 43 is interlocked and connected to a feed mechanism (not shown) (for example, a ball screw mechanism). Accordingly, when the motor 43 rotates, the head unit 30 reciprocates in the direction of the arrow AR2 along the plurality of guide rails 42.

スクライビングホイール50は、ダイヤモンド含有物を成形したものである。ここで、このダイヤモンド含有物の一例としては、焼結ダイヤモンド、多結晶体ダイヤモンド、天然単結晶ダイヤモンド、および合成単結晶ダイヤモンドが挙げられる。   The scribing wheel 50 is formed by molding a diamond-containing material. Here, examples of the diamond-containing material include sintered diamond, polycrystalline diamond, natural single crystal diamond, and synthetic single crystal diamond.

撮像部ユニット60は、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4を撮像する。図2に示すように、撮像部ユニット60は、複数(本実施の形態では2台)のカメラ65(65a、65b)を有している。   The imaging unit 60 images the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10. As shown in FIG. 2, the imaging unit 60 has a plurality of (two in this embodiment) cameras 65 (65a, 65b).

カメラ65(65a、65b)は、図1および図2に示すように、保持ユニット10の上方に配置されている。カメラ65(65a、65b)は、脆性材料基板4上に形成された特徴的な部分(例えば、アライメントマーク(図示省略))の画像を撮像する。そして、カメラ65(65a、65b)により撮像された画像に基づいて、脆性材料基板4の位置および姿勢が求められる。   The camera 65 (65a, 65b) is disposed above the holding unit 10 as shown in FIGS. The camera 65 (65a, 65b) captures an image of a characteristic portion (for example, an alignment mark (not shown)) formed on the brittle material substrate 4. And the position and attitude | position of the brittle material board | substrate 4 are calculated | required based on the image imaged with the camera 65 (65a, 65b).

ここで、脆性材料基板4の「位置」とは、絶対座標系における脆性材料基板4上の任意の位置を言うものとする。また、脆性材料基板4の「姿勢」とは、ヘッド部30の往復方向に対する脆性材料基板4の基準線(例えば、脆性材料基板4が角形の場合、4辺のうちの1辺)の傾きを言うものとする。   Here, the “position” of the brittle material substrate 4 refers to an arbitrary position on the brittle material substrate 4 in the absolute coordinate system. The “posture” of the brittle material substrate 4 is the inclination of the reference line of the brittle material substrate 4 with respect to the reciprocating direction of the head portion 30 (for example, one of the four sides when the brittle material substrate 4 is square). Say it.

角形の脆性材料基板4が割断または分断される場合、脆性材料基板4の4つのコーナーのうち、隣接する2つのコーナーにはアライメントマークが形成される。各アライメントマークは、対応するカメラ65a、65bで撮像され、これら撮像された画像に基づいて、絶対座標系における各アライメントマークの位置が求められる。そして、これらアライメントマークの位置に基づいて、脆性材料基板4の位置および姿勢が演算される。   When the square brittle material substrate 4 is cleaved or divided, alignment marks are formed at two adjacent corners among the four corners of the brittle material substrate 4. Each alignment mark is imaged by the corresponding camera 65a, 65b, and the position of each alignment mark in the absolute coordinate system is obtained based on these captured images. Based on the positions of these alignment marks, the position and posture of the brittle material substrate 4 are calculated.

調節部70は、ホルダ35に保持されたスクライビングホイール50の温度を低下させ、および/または、後述する調節空間70aの雰囲気を調節する(より具体的には、調節空間70aの雰囲気を低酸素状態にする)。なお、調節部70の詳細な構成については、後述する。   The adjusting unit 70 reduces the temperature of the scribing wheel 50 held by the holder 35 and / or adjusts the atmosphere of the adjusting space 70a described later (more specifically, the atmosphere of the adjusting space 70a is in a low oxygen state. ). The detailed configuration of the adjustment unit 70 will be described later.

制御ユニット90は、スクライブ装置1の各要素の動作制御、およびデータ演算を実現する。図1および図2に示すように、制御ユニット90は、主として、ROM91と、RAM92と、CPU93と、を有している。   The control unit 90 realizes operation control of each element of the scribe device 1 and data calculation. As shown in FIGS. 1 and 2, the control unit 90 mainly has a ROM 91, a RAM 92, and a CPU 93.

ROM(Read Only Memory)91は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム91aが格納されている。なお、ROM91としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。RAM(Random Access Memory)92は、例えば揮発性の記憶部により構成されており、CPU93の演算で使用されるデータが格納できる。   A ROM (Read Only Memory) 91 is a so-called nonvolatile storage unit, and stores, for example, a program 91a. As the ROM 91, a flash memory that is a readable / writable nonvolatile memory may be used. A RAM (Random Access Memory) 92 is configured by, for example, a volatile storage unit, and can store data used in the calculation of the CPU 93.

CPU(Central Processing Unit)93は、ROM91のプログラム91aに従った制御(保持ユニット10の進退・回転動作、後述するバルブ77の開閉動作、および後述する冷却部78の冷却動作等の制御など)を実行する。   A CPU (Central Processing Unit) 93 performs control in accordance with the program 91a of the ROM 91 (control of forward / backward / revolving operation of the holding unit 10, opening / closing operation of a valve 77 described later, cooling operation of a cooling unit 78 described later, etc.). Run.

<1.2.調節部の構成>
ここでは、図3を参照しつつ、調節部70の構成を説明する。図3に示すように、調節部70は、主として、近接板71と、複数(本実施の形態では2本)のノズル(第1ノズル)72(72a、72b)と、窒素ガス供給源73と、を有している。
<1.2. Configuration of adjustment unit>
Here, the configuration of the adjusting unit 70 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the adjustment unit 70 mainly includes a proximity plate 71, a plurality (two in this embodiment) of nozzles (first nozzles) 72 (72 a and 72 b), and a nitrogen gas supply source 73. ,have.

近接板71は、矩形状(正方形または長方形状)の板体である。近接板71は、ホルダ35により保持されたスクライビングホイール50の上方に設けられている。図3に示すように、ホルダ35の旋回部38は、近接板71の貫通孔71aに挿入されている。   The proximity plate 71 is a rectangular (square or rectangular) plate. The proximity plate 71 is provided above the scribing wheel 50 held by the holder 35. As shown in FIG. 3, the turning portion 38 of the holder 35 is inserted into the through hole 71 a of the proximity plate 71.

そして、スクライビングホイール50によりスクライブラインSLが形成される場合、近接板71は、スクライビングホイール50とともに下降する。その結果、近接板71は、図3に示すように、脆性材料基板4と近接する。   When the scribe line SL is formed by the scribing wheel 50, the proximity plate 71 descends together with the scribing wheel 50. As a result, the proximity plate 71 is close to the brittle material substrate 4 as shown in FIG.

ノズル72(72a、72b)は、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4と近接板71との間の空間であって、ホルダ35に保持されたスクライビングホイール50が位置する調節空間70aに、窒素ガスを吐出する。図3に示すように、ノズル72(72a、72b)は、例えばX軸方向における近接板71の端部に取り付けられている。   The nozzles 72 (72a, 72b) are spaces between the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10 and the proximity plate 71, and in an adjustment space 70a where the scribing wheel 50 held by the holder 35 is located. Nitrogen gas is discharged. As shown in FIG. 3, the nozzles 72 (72a, 72b) are attached to the end of the proximity plate 71 in the X-axis direction, for example.

また、図3に示すように、ノズル72aは、分岐管74aおよび共通管75を介して、窒素ガス供給源73と連通接続されている。一方、ノズル72bは、分岐管74bおよび共通管75を介して、窒素ガス供給源73と連通接続されている。したがって、共通管75に設けられたバルブ77が開放されると、調節空間70aには、窒素ガスが吐出される。   As shown in FIG. 3, the nozzle 72 a is connected to a nitrogen gas supply source 73 through a branch pipe 74 a and a common pipe 75. On the other hand, the nozzle 72 b is connected to the nitrogen gas supply source 73 through the branch pipe 74 b and the common pipe 75. Therefore, when the valve 77 provided in the common pipe 75 is opened, nitrogen gas is discharged into the adjustment space 70a.

冷却部78は、共通管75の一部を覆うように設けられた冷却要素である。冷却部78は、ノズル72(72a、72b)に供給される窒素ガスを共通管75内で冷却する。したがって、バルブ77が開放された状態で、冷却部78が駆動されると、調節空間70aには、冷却された窒素ガスが吐出される。   The cooling unit 78 is a cooling element provided so as to cover a part of the common pipe 75. The cooling unit 78 cools the nitrogen gas supplied to the nozzles 72 (72 a, 72 b) in the common pipe 75. Accordingly, when the cooling unit 78 is driven in a state where the valve 77 is opened, the cooled nitrogen gas is discharged into the adjustment space 70a.

<1.3.スクライブ方法>
ここでは、本実施の形態のスクライブ装置1によって、脆性材料基板4上にスクライブラインSLを形成する手法を説明する。
<1.3. Scribing method>
Here, a method of forming the scribe line SL on the brittle material substrate 4 by the scribe device 1 of the present embodiment will be described.

本手法において、ヘッド部30のスクライビングホイール50は、不図示の昇降・加圧機構により脆性材料基板4に対して圧接される。また、保持ユニット10のモータ13、および/または、駆動部40のモータ43が、駆動させられ、ヘッド部30が、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4に対して水平面内で相対的に移動させられる。   In this method, the scribing wheel 50 of the head unit 30 is pressed against the brittle material substrate 4 by a lifting / pressurizing mechanism (not shown). Further, the motor 13 of the holding unit 10 and / or the motor 43 of the driving unit 40 is driven, and the head unit 30 is relatively relative to the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10 in the horizontal plane. Moved.

これにより、脆性材料基板4上には、スクライビングホイール50により所望のスクライブラインSLが形成され、該スクライブラインSLの直下に垂直クラックKが発生する。   Thereby, a desired scribe line SL is formed on the brittle material substrate 4 by the scribing wheel 50, and a vertical crack K is generated immediately below the scribe line SL.

ただし、本実施の形態に係るスクライブ装置1においては、このようにしてスクライビングホイール50によりスクライブラインSLを形成する際、制御ユニット90の作用によりバルブ77を開放させることによって、ノズル72から調節空間70aに対し窒素ガスを吐出させる。   However, in the scribing apparatus 1 according to the present embodiment, when the scribe line SL is formed by the scribing wheel 50 in this manner, the control space 90a is opened from the nozzle 72 by opening the valve 77 by the action of the control unit 90. Nitrogen gas is discharged.

これにより、調節空間70aに存在する酸素は窒素ガスと置換され、調節空間70aは、窒素ガスで満たされる。すなわち、本実施の形態に係るスクライブ装置1において、脆性材料基板4のスクライブラインSLの形成は、低酸素状態のもとで行われる。   Thereby, oxygen existing in the regulation space 70a is replaced with nitrogen gas, and the regulation space 70a is filled with nitrogen gas. That is, in the scribing apparatus 1 according to the present embodiment, the scribe line SL of the brittle material substrate 4 is formed under a low oxygen state.

このときさらに、冷却部78が駆動させられると、調節空間70aには冷却された窒素ガスが吐出される。この場合、調節空間70aの雰囲気は、低酸素状態とされつつ冷却される。よって、スクライブラインSLの形成は、低酸素状態下で、かつスクライビングホイール50が十分に冷却された状態で、行われる。   At this time, when the cooling unit 78 is further driven, cooled nitrogen gas is discharged into the adjustment space 70a. In this case, the atmosphere of the adjustment space 70a is cooled while being in a low oxygen state. Therefore, the scribe line SL is formed in a low oxygen state and in a state where the scribing wheel 50 is sufficiently cooled.

なお、スクライブ荷重は、好ましくは、3(N)〜30(N)(さらに好ましくは、5(N)〜20(N))の範囲である。また、脆性材料基板4に対するスクライビングホイール50の移動速度は、通常、50(mm/sec)〜1200(mm/sec)、好ましくは、50(mm/sec)〜300(mm/sec)の範囲である。なお、スクライブ荷重および移動速度の具体的な値は、脆性材料基板4の材質、および/または、厚さ等から適宜設定される。   The scribe load is preferably in the range of 3 (N) to 30 (N) (more preferably 5 (N) to 20 (N)). The moving speed of the scribing wheel 50 relative to the brittle material substrate 4 is usually in the range of 50 (mm / sec) to 1200 (mm / sec), preferably 50 (mm / sec) to 300 (mm / sec). is there. Note that specific values of the scribe load and the moving speed are appropriately set based on the material and / or thickness of the brittle material substrate 4.

また、割断の場合には、ブレーク装置(図示省略)によって、脆性材料基板4の主面のうち、(1)スクライブラインSLが形成された主面(以下、単に、「形成面」とも呼ぶ)と、(2)形成面と逆側の主面とに対し、応力が付与される。そのため、スクライブ工程において脆性材料基板4に発生した垂直クラックKは、形成面と逆側の面まで成長し、脆性材料基板4が切断される(ブレーク工程)。   In the case of cleaving, the main surface of the brittle material substrate 4 (1) the main surface on which the scribe line SL is formed (hereinafter also simply referred to as “formation surface”) by a break device (not shown). (2) Stress is applied to the formation surface and the main surface on the opposite side. Therefore, the vertical crack K generated in the brittle material substrate 4 in the scribing process grows to the surface opposite to the formation surface, and the brittle material substrate 4 is cut (break process).

これに対して、分断の場合には、スクライブ工程によって、深い垂直クラックKが形成される。それゆえ、ブレーク装置(図示省略)は必要とされず、スクライブ工程のみで脆性材料基板4が切断される。   On the other hand, in the case of division, deep vertical cracks K are formed by a scribe process. Therefore, a break device (not shown) is not required, and the brittle material substrate 4 is cut only by a scribe process.

<1.4.第1の実施の形態におけるスクライビングホイールの利点>
以上のように、本実施の形態のスクライブ装置1は、スクライビングホイール50によって脆性材料基板4にスクライブラインSLを形成する際に、スクライビングホイール50が存在する調節空間70aに対してノズル72から窒素ガスを吐出させることにより、低酸素状態下でスクライブラインSLを形成することができる。これにより、スクライビングホイール50付近の酸素の影響によりスクライビングホイール50が酸化されることを防止でき、スクライビングホイール50の寿命を延ばすことができる。
<1.4. Advantages of scribing wheel in the first embodiment>
As described above, when the scribing device 1 of the present embodiment forms the scribe line SL on the brittle material substrate 4 by the scribing wheel 50, the nitrogen gas is supplied from the nozzle 72 to the adjustment space 70 a where the scribing wheel 50 exists. By discharging the scribe line SL, the scribe line SL can be formed in a low oxygen state. As a result, the scribing wheel 50 can be prevented from being oxidized due to the influence of oxygen in the vicinity of the scribing wheel 50, and the life of the scribing wheel 50 can be extended.

また、本実施の形態のスクライブ装置1は、ノズル72からの窒素ガスの吐出に際して冷却部78を駆動させることによって、冷却された窒素ガスを調節空間70aに吐出することができる。冷却された窒素ガスが吐出されると、調節空間70aの雰囲気が冷却されるので、結果として、スクライブに用いられるスクライビングホイール50が十分冷却される。これにより、スクライブ時の発熱と、スクライビングホイール50付近の酸素との影響により、スクライビングホイール50が酸化されることを防止でき、スクライビングホイール50の寿命をさらに延ばすことができる。   In addition, the scribing apparatus 1 of the present embodiment can discharge the cooled nitrogen gas to the adjustment space 70a by driving the cooling unit 78 when discharging the nitrogen gas from the nozzle 72. When the cooled nitrogen gas is discharged, the atmosphere of the adjustment space 70a is cooled. As a result, the scribing wheel 50 used for scribing is sufficiently cooled. Accordingly, the scribing wheel 50 can be prevented from being oxidized due to the influence of heat generated during scribing and oxygen in the vicinity of the scribing wheel 50, and the life of the scribing wheel 50 can be further extended.

<2.第2の実施の形態>
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態のスクライブ装置100は、調節部170(図6参照)のハードウェア構成が相違する点を除いて、第1の実施の形態のスクライブ装置1と同様である。そこで、以下では、この相違点を中心に説明する。
<2. Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. The scribing apparatus 100 of the second embodiment is the same as the scribing apparatus 1 of the first embodiment, except that the hardware configuration of the adjustment unit 170 (see FIG. 6) is different. Therefore, in the following, this difference will be mainly described.

なお、スクライブ装置100において、スクライブ装置1と同様な構成要素には、同一符号が付されており、この構成要素は、第1の実施の形態で説明済みである。そのため、本実施の形態では、説明を省略する。   In the scribing apparatus 100, the same components as those of the scribing apparatus 1 are denoted by the same reference numerals, and these constituent elements have been described in the first embodiment. Therefore, the description is omitted in this embodiment.

<2.1.調節部の構成>
図6は、調節部170の構成の一例を示す正面図である。調節部170は、スクライビングホイール50の温調部であり、ホルダ35に保持されたスクライビングホイール50の温度を低下させる。図6に示すように、調節部170は、主として、取付板171と、複数(本実施の形態では2本)のノズル(第2ノズル)172(72a、72b)と、窒素ガス供給源73と、を有している。
<2.1. Configuration of adjustment unit>
FIG. 6 is a front view illustrating an example of the configuration of the adjustment unit 170. The adjustment unit 170 is a temperature adjustment unit of the scribing wheel 50 and reduces the temperature of the scribing wheel 50 held by the holder 35. As shown in FIG. 6, the adjustment unit 170 mainly includes a mounting plate 171, a plurality (two in this embodiment) of nozzles (second nozzles) 172 (72 a and 72 b), and a nitrogen gas supply source 73. ,have.

取付板171は、ホルダ35により保持されたスクライビングホイール50の上方に設けられた板体である。図6に示すように、ホルダ35の旋回部38、取付板171の貫通孔171aに挿入されている。   The mounting plate 171 is a plate provided above the scribing wheel 50 held by the holder 35. As shown in FIG. 6, the holder 35 is inserted into the turning portion 38 and the through hole 171 a of the mounting plate 171.

ノズル172(172a、172b)は、ホルダ35に保持されたスクライビングホイール50に対し直接に、冷却された窒素ガスを吐出する。図6に示すように、ノズル172(172a、172b)は、例えばX軸方向における取付板171の端部に取り付けられている。   The nozzles 172 (172a and 172b) discharge the cooled nitrogen gas directly to the scribing wheel 50 held by the holder 35. As shown in FIG. 6, the nozzles 172 (172a, 172b) are attached to the end of the attachment plate 171 in the X-axis direction, for example.

また、図6に示すように、ノズル172aは、分岐管174aおよび共通管75を介して、窒素ガス供給源73と連通接続されている。一方、ノズル172bは、分岐管174bおよび共通管75を介して、窒素ガス供給源73と連通接続されている。ただし、本実施の形態に係るスクライブ装置100の場合、バルブ77の開放は必ず、冷却部78が駆動された状態で行われる。これにより、スクライビングホイール50に対し冷却された窒素ガスが吹き付けられる。   Further, as shown in FIG. 6, the nozzle 172a is connected to the nitrogen gas supply source 73 through the branch pipe 174a and the common pipe 75. On the other hand, the nozzle 172b is connected to the nitrogen gas supply source 73 through the branch pipe 174b and the common pipe 75. However, in the scribing apparatus 100 according to the present embodiment, the valve 77 is always opened while the cooling unit 78 is driven. Thereby, the cooled nitrogen gas is sprayed on the scribing wheel 50.

<2.2.スクライブ方法>
本実施の形態のスクライブ装置100により脆性材料基板4上にスクライブラインSLを形成する場合も、第1の実施の形態と同様に、スクライビングホイール50が、不図示の昇降・加圧機構により脆性材料基板4に対して圧接された状態で、ヘッド部30が、保持ユニット10に保持された脆性材料基板4に対して水平面内で相対的に移動させられる。
<2.2. Scribing method>
Even when the scribe line SL is formed on the brittle material substrate 4 by the scribe device 100 of the present embodiment, the scribing wheel 50 is made of a brittle material by an unillustrated elevating / pressing mechanism as in the first embodiment. The head unit 30 is moved relative to the brittle material substrate 4 held by the holding unit 10 in a horizontal plane while being pressed against the substrate 4.

ただし、本実施の形態に係るスクライブ装置100においては、スクライビングホイール50によりスクライブラインSLを形成する際、制御ユニット90の作用により冷却部78を駆動させた状態でバルブ77を開放させることによって、ノズル72からスクライビングホイール50に対し冷却された窒素ガスを吐出させる。すなわち、本実施の形態の場合、スクライビングホイール50による脆性材料基板4へのスクライブラインSLの形成は、スクライビングホイール50を冷却しつつ行われる。   However, in the scribing apparatus 100 according to the present embodiment, when the scribing line SL is formed by the scribing wheel 50, the nozzle 77 is opened by opening the valve 77 while the cooling unit 78 is driven by the action of the control unit 90. The cooled nitrogen gas is discharged from 72 to the scribing wheel 50. That is, in the case of the present embodiment, the scribe line SL is formed on the brittle material substrate 4 by the scribing wheel 50 while the scribing wheel 50 is cooled.

<2.3.第2の実施の形態におけるスクライビングホイールの利点>
以上のように、本実施の形態のスクライブ装置100は、スクライブラインSLの形成を、スクライビングホイール50を冷却しつつ行うことができる。これにより、スクライブ時の発熱の影響によりスクライビングホイール50が酸化されることを防止でき、スクライビングホイール50の寿命を延ばすことができる。
<2.3. Advantages of scribing wheel in the second embodiment>
As described above, the scribing apparatus 100 according to the present embodiment can form the scribe line SL while cooling the scribing wheel 50. As a result, the scribing wheel 50 can be prevented from being oxidized due to the influence of heat generated during scribing, and the life of the scribing wheel 50 can be extended.

<3.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<3. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.

(1)第1の実施の形態においては、複数のノズル72の本数が2本であるものとして、第2の実施の形態においては、複数のノズル172の本数が2本であるものとして、それぞれ説明しているが、ノズル72、172の本数は、これらに限定されるものでない。例えば、3本以上であっても良い。   (1) In the first embodiment, the number of the plurality of nozzles 72 is assumed to be two, and in the second embodiment, the number of the plurality of nozzles 172 is assumed to be two. Although described, the number of nozzles 72 and 172 is not limited to these. For example, three or more may be used.

また、スクライブラインSLの形成に際して、調節空間70aに十分な量の窒素ガスが供給できる場合には、あるいは、スクライビングホイール50を十分に冷却できる場合には、ノズル72、172の本数は、それぞれ1本であっても良い。   Further, when forming a scribe line SL, when a sufficient amount of nitrogen gas can be supplied to the adjustment space 70a, or when the scribing wheel 50 can be sufficiently cooled, the number of nozzles 72 and 172 is 1 respectively. It may be a book.

(2)また、第1および第2の実施の形態において、ノズル72、172は、窒素ガスを吐出するものとして説明したが、吐出されるガスの種類は、これに限定されない。窒素ガスと同様に反応性の低い希ガス(例えば、ヘリウムおよびアルゴン等)が、ノズル72、172から吐出されても良い。本願では、窒素ガスおよび希ガスを総称して「不活性ガス」とも呼ぶ。   (2) In the first and second embodiments, the nozzles 72 and 172 have been described as ejecting nitrogen gas, but the type of gas ejected is not limited to this. A rare gas (for example, helium, argon, etc.) with low reactivity may be discharged from the nozzles 72 and 172 in the same manner as the nitrogen gas. In the present application, nitrogen gas and noble gas are also collectively referred to as “inert gas”.

ただし、第1および第2の実施の形態では、安価な窒素ガスが用いられている。これにより、加工コストを増加させることなく、スクライビングホイール50の長寿命化を実現することができる。   However, in the first and second embodiments, inexpensive nitrogen gas is used. Thereby, the lifetime improvement of the scribing wheel 50 is realizable, without increasing a processing cost.

(3)また、第1および第2の実施の形態において、ノズル72、172からは、冷却された窒素ガスが吐出できるものとして説明したが、これに限定されるものでない。スクライブ時における酸化を十分に防止できる場合には、窒素ガス以外の他の気体(例えば、空気)を冷却したものが、ノズル72、172から吐出されても良い。本願では、窒素ガス、および窒素ガス以外の他の気体を冷却したものを総称して「冷却ガス」とも呼ぶ。   (3) In the first and second embodiments, it has been described that the cooled nitrogen gas can be discharged from the nozzles 72 and 172. However, the present invention is not limited to this. When oxidation during scribing can be sufficiently prevented, a gas other than nitrogen gas (for example, air) cooled may be discharged from the nozzles 72 and 172. In this application, what cooled nitrogen gas and other gas other than nitrogen gas is named generically, and it is also called "cooling gas."

この場合も、スクライビングホイール50を冷却することができ、スクライブ時の発熱の影響によりスクライビングホイール50が酸化されることを防止できる。これにより、スクライビングホイールの寿命をさらに延ばすことができる。   Also in this case, the scribing wheel 50 can be cooled, and the scribing wheel 50 can be prevented from being oxidized due to the influence of heat generated during scribing. Thereby, the lifetime of the scribing wheel can be further extended.

(4)第1および第2の実施の形態において、ノズル72、172はX軸方向における近接板71、171の端部(スクライビングホイール50の側面方向)に取り付けられているが、例えば、Y軸方向の端部(スクライビングホイール50の稜線側の前方や後方)に取り付けてもよい。   (4) In the first and second embodiments, the nozzles 72 and 172 are attached to the end portions of the proximity plates 71 and 171 in the X-axis direction (side direction of the scribing wheel 50). You may attach to the edge part of a direction (front of the ridgeline side of the scribing wheel 50, or back).

1、100 スクライブ装置
4 脆性材料基板
10 保持ユニット
20 スクライブユニット
30 ヘッド部
35 ホルダ
50 スクライビングホイール
60 撮像部ユニット
70、170 調節部
70a 調節空間
71 近接板
72(72a、72b) ノズル
73 窒素ガス供給源
77 バルブ
78 冷却部
90 制御ユニット
171 取付板
172(172a、172b) ノズル
SL スクライブライン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,100 Scribing device 4 Brittle material substrate 10 Holding unit 20 Scribe unit 30 Head part 35 Holder 50 Scribing wheel 60 Imaging part unit 70, 170 Adjustment part 70a Adjustment space 71 Proximity plate 72 (72a, 72b) Nozzle 73 Nitrogen gas supply source 77 Valve 78 Cooling unit 90 Control unit 171 Mounting plate 172 (172a, 172b) Nozzle SL Scribe line

Claims (3)

脆性材料基板にスクライブラインを形成するスクライブ装置であって、
(a) スクライビングホイールと、
(b) 前記スクライビングホイールを保持するホルダと、
(c) 基板を保持しつつ移動させる保持ユニットと、
(d) 前記スクライビングホイールの温度を低下させる調節部と、
(e) 前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記調節部に前記スクライビングホイールを冷却させる制御ユニットと、
を備えることを特徴とするスクライブ装置。
A scribing device for forming a scribe line on a brittle material substrate,
(a) a scribing wheel;
(b) a holder for holding the scribing wheel;
(c) a holding unit that moves while holding the substrate;
(d) an adjustment unit that reduces the temperature of the scribing wheel;
(e) when a scribe line is formed by the scribing wheel, a control unit that causes the adjusting unit to cool the scribing wheel;
A scribing device comprising:
請求項1に記載のスクライブ装置において、
前記調節部は、
(d-1) 前記ホルダにより保持された前記スクライビングホイールの上方に設けられており、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記脆性材料基板と近接する近接板と、
(d-2) 前記保持ユニットに保持された前記基板と前記近接板との間の調節空間に、冷却ガスを吐出する第1ノズルと、
を有し、
前記制御ユニットは、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記第1ノズルによって、前記冷却ガスを前記調節空間に吐出させることを特徴とするスクライブ装置。
The scribing device according to claim 1,
The adjusting unit is
(d-1) is provided above the scribing wheel held by the holder, and when a scribe line is formed by the scribing wheel, a proximity plate close to the brittle material substrate;
(d-2) a first nozzle that discharges cooling gas into an adjustment space between the substrate and the proximity plate held by the holding unit;
Have
The control unit causes the cooling gas to be discharged into the adjustment space by the first nozzle when a scribe line is formed by the scribing wheel.
請求項1に記載のスクライブ装置において、
前記調節部は、
(d-1) 前記ホルダに保持された前記スクライビングホイールに向けて、冷却ガスを吐出する第2ノズル、
を有し、
前記制御ユニットは、前記スクライビングホイールによりスクライブラインが形成される際に、前記第2ノズルによって、前記スクライビングホイールに向けて前記冷却ガスを吐出させることを特徴とするスクライブ装置。
The scribing device according to claim 1,
The adjusting unit is
(d-1) a second nozzle that discharges a cooling gas toward the scribing wheel held by the holder;
Have
The scribing apparatus, wherein the control unit discharges the cooling gas toward the scribing wheel by the second nozzle when a scribing line is formed by the scribing wheel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015063010A (en) * 2013-09-24 2015-04-09 三星ダイヤモンド工業株式会社 Scribing wheel, holder unit, scribing device, production method for scribing wheel, and scribing method

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JP2015063010A (en) * 2013-09-24 2015-04-09 三星ダイヤモンド工業株式会社 Scribing wheel, holder unit, scribing device, production method for scribing wheel, and scribing method

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