JP2011228331A - Cutting apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被加工物に対する切削ブレードの切り込み量を制御することができる切削加工装置に関する。 The present invention relates to a cutting apparatus capable of controlling a cutting amount of a cutting blade with respect to a workpiece.
ICやLSI等の回路がストリートによって区画されて表面に複数形成された半導体ウェーハは、ストリートを縦横に切削(ダイシング)することにより個々の半導体チップに分割され、各種電子機器に利用されている。近年は、電子機器の軽量化、小型化を可能とするために、半導体チップの厚さを100μm以下、50μm以下というように極めて薄く形成することが求められており、そのために、先ダイシングと称される技術が開発され、実用に供されている(例えば特許文献1参照)。 A semiconductor wafer in which a plurality of circuits such as ICs and LSIs are partitioned by streets and formed on the surface is divided into individual semiconductor chips by cutting (dicing) the streets vertically and horizontally and used for various electronic devices. In recent years, in order to reduce the weight and size of electronic devices, it has been required to form a semiconductor chip as extremely thin as 100 μm or less and 50 μm or less. The technology to be developed has been developed and put into practical use (see, for example, Patent Document 1).
この先ダイシングとは、半導体チップの厚さに相当する深さの切削溝を半導体ウェーハの表面に形成し、その後半導体ウェーハの裏面を研削して切削溝を裏面側から表出させることにより個々の半導体チップに分割する技術であり、表面に切削溝を形成する際には、高精度に溝の深さを制御することが求められる。 In this tip dicing, each semiconductor is formed by forming a cutting groove having a depth corresponding to the thickness of the semiconductor chip on the surface of the semiconductor wafer, and then grinding the back surface of the semiconductor wafer to expose the cutting groove from the back surface side. This is a technique of dividing into chips, and when forming a cutting groove on the surface, it is required to control the depth of the groove with high accuracy.
さらに、異なる素材を複数貼り合わせて構成される被加工物の加工においては、素材と素材との境界面まで達する溝を高精度に形成することが求められる場合がある。高精度に溝の深さを制御するために、被加工物を保持する保持手段の近傍に設置されたサブテーブルに保持されたダミーウェーハに溝を形成し、その溝をワークの表面側から撮像して溝の深さを測定し、切り込み深さを制御する技術も実用化されている(例えば特許文献2参照)。 Furthermore, in processing of a workpiece formed by bonding a plurality of different materials, it may be required to form a groove that reaches the boundary surface between the materials with high accuracy. In order to control the groove depth with high accuracy, a groove is formed on a dummy wafer held on a sub-table installed near the holding means for holding the workpiece, and the groove is imaged from the surface side of the workpiece. A technique for measuring the depth of the groove and controlling the depth of cut has also been put into practical use (see, for example, Patent Document 2).
特許文献2に記載された技術により、ワークに形成される溝の深さは高精度に制御されるようになったが、高精度な制御のためには加工中に頻繁にダミーウェーハへの切り込みを行って溝を撮像する必要があった。ダミーウェーハへの切り込み頻度を上げると加工効率が低下してしまうという問題がある。
With the technique described in
本発明は、これらの事実に鑑みてなされたものであって、その主な技術的課題は、加工効率を低下させることなく従来よりも高精度にワークに形成される溝の深さを制御できる切削加工装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of these facts, and the main technical problem thereof is to control the depth of grooves formed on a workpiece with higher accuracy than before without lowering the machining efficiency. The object is to provide a cutting device.
本発明は、分割予定ラインが表面に設定されたワークを保持する保持手段と、保持手段に保持されたワークを分割予定ラインに沿って切削する切削ブレードと切削ブレードを回転させるスピンドルと切削ブレードをワークの厚み方向に移動させる移動部とを備えた切削加工手段と、移動部の移動量を制御して切削ブレードのワークへの切り込み量を調整する制御手段とを有する切削加工装置に関するもので、分割予定ラインに形成された加工溝の断面形状をワークの外周側面側から撮像する撮像手段を有し、制御手段は、撮像手段で撮像した加工溝の断面形状から取得したワークへの切削ブレードの切り込み量に基づいて、後に加工する分割予定ラインへの切り込み量を制御する。 The present invention includes a holding unit that holds a workpiece with a division schedule line set on the surface, a cutting blade that cuts the workpiece held by the holding unit along the division division line, a spindle that rotates the cutting blade, and a cutting blade. The present invention relates to a cutting device having a cutting means having a moving part that moves in the thickness direction of the workpiece, and a control means that controls the amount of movement of the moving part to adjust the cutting amount of the cutting blade into the work, It has an imaging means for imaging the cross-sectional shape of the machining groove formed on the planned dividing line from the outer peripheral side surface side of the workpiece, and the control means is for the cutting blade to the workpiece obtained from the cross-sectional shape of the machining groove imaged by the imaging means. Based on the cut amount, the cut amount to the division planned line to be processed later is controlled.
切削加工手段は、切削ブレードに切削水を供給する切削水ノズルを有し、撮像手段は、ワークと切削ブレードとの接触位置を基準として切削水が飛散する方向の反対側の方向に設置されることが望ましい。 The cutting means has a cutting water nozzle for supplying cutting water to the cutting blade, and the imaging means is installed in a direction opposite to the direction in which the cutting water scatters with reference to the contact position between the workpiece and the cutting blade. It is desirable.
本発明は、分割予定ラインに形成された加工溝の断面形状をワークの外周側面側から撮像する撮像手段を備え、切削ブレードの摩耗など、切り込み深さが一定にならなくなるような要因がある場合でも、現実にワークに形成された加工溝の深さに基づき後の切り込み深さを制御することができるため、所望深さの加工溝を高精度に形成することができる。また、一本の分割予定ラインを加工して加工溝を形成した後、後の分割予定ラインの切削開始位置に切削ブレードを位置づけるまでの間に、加工溝の深さを認識して切削ブレードの切り込み量を調整しなおすことができるため、加工効率を低下させることがない。 The present invention is provided with an image pickup means for picking up an image of the cross-sectional shape of the machining groove formed in the planned dividing line from the outer peripheral side surface of the workpiece, and there is a factor that causes the cutting depth to become constant, such as wear of a cutting blade. However, since the depth of subsequent cutting can be controlled based on the depth of the machining groove actually formed on the workpiece, a machining groove having a desired depth can be formed with high accuracy. In addition, after processing a single division line to form a machining groove, it is necessary to recognize the depth of the machining groove until the cutting blade is positioned at the cutting start position of the subsequent division line. Since the amount of cut can be adjusted again, the processing efficiency is not reduced.
図1に示す切削加工装置1は、保持手段2において保持された被加工物(ワーク)を2つの切削加工手段3a、3bが切削加工する装置である。なお、切削加工手段は、1つだけであってもよい。
A cutting apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus in which two cutting means 3 a and 3 b cut a workpiece (workpiece) held by a
保持手段2は、ワークを保持する保持テーブル20と、鉛直方向であるZ方向を回転軸として保持テーブル20を回転させる回転支持部21と、ワークを外周側から固定するクランプ部22とを有している。保持テーブル20は、多孔質部材で形成され負圧によりワークを保持する吸引部200を有している。
The
保持手段2は、X方向移動部4によって駆動されてY方向及びZ方向に直交するX方向に移動可能となっている。X方向移動部4は、X軸方向の回転軸を有するボールスクリュー40と、ボールスクリュー40と平行に配設されたガイドレール41と、ボールスクリュー40の一端に連結されたモータ42と、下部がガイドレール41に摺接するとともに内部の図示しないナットがボールスクリュー40に螺合する移動基台43とを備えており、モータ42によって駆動されたボールスクリュー40が回動することにより移動基台43がガイドレール41にガイドされてX方向に移動する構成となっている。
The
2つの切削加工手段3a、3bは同様に構成されるため、共通の符号を付して説明する。切削加工手段3は、保持手段2に保持されたワークを切削加工する切削ブレード30と、Z方向に直交する方向であるY方向を回転軸として切削ブレード30を回転させるスピンドル31とを有している。
Since the two cutting means 3a and 3b are configured in the same manner, they will be described with common reference numerals. The cutting means 3 includes a
2つの切削加工手段3a、3bは、切削ブレード30をワークの厚み方向(Z方向)に移動させるZ方向移動部5a、5bをそれぞれ備えている。2つのZ方向移動部5a、5bは同様に構成されるため、共通の符号を付して説明する。Z方向移動部5a、5bは、鉛直方向の回転軸を有するボールスクリュー50と、ボールスクリュー50と平行に配設されたガイドレール51と、ボールスクリュー50の一端に連結されたパルスモータ52と、側部がガイドレール51に摺接するとともに内部の図示しないナットがボールスクリュー50に螺合する昇降基台53とを備えており、パルスモータ52によって駆動されたボールスクリュー50が回動することにより昇降基台53がガイドレール51にガイドされてZ方向に移動し、昇降基台53とともに切削ブレード30をZ方向に昇降させる構成となっている。
The two cutting means 3a and 3b are respectively provided with Z
切削加工手段3a、3bは、2つのY方向移動部6a、6bによってそれぞれ駆動されてY方向に移動可能となっている。2つのY方向移動部6a、6bは同様に構成されるため、共通の符号を付して説明する。Y方向移動部6a、6bは、Y軸方向の回転軸を有するボールスクリュー60と、ボールスクリュー60と平行に配設されたガイドレール61と、ボールスクリュー60の一端に連結されたパルスモータ62と、側部がガイドレール61に摺接するとともに内部の図示しないナットがボールスクリュー60に螺合する移動基台63とを備えており、パルスモータ62によって駆動されたボールスクリュー60が回動することにより移動基台63がガイドレール61にガイドされてY軸方向に移動して切削加工手段3をY方向に移動させる構成となっている。
The cutting means 3a and 3b are driven by two Y-direction moving parts 6a and 6b, respectively, and are movable in the Y direction. Since the two Y-direction moving units 6a and 6b are configured in the same manner, they will be described with common reference numerals. The Y-direction moving units 6a and 6b include a
X方向移動部4を構成する移動基台43には、撮像手段移動部7及び撮像手段移動部7によって駆動されてY方向に移動する撮像手段8が配設されている。撮像手段移動部7は、Y方向の回転軸を有するボールスクリュー70と、ボールスクリュー70と平行に配設されたガイドレール71と、ボールスクリュー70の一端に連結されたパルスモータ72と、底部がガイドレール61に摺接するとともに内部の図示しないナットがボールスクリュー70に螺合する移動基台73とを備えており、パルスモータ72によって駆動されたボールスクリュー70が回動することにより移動基台73がガイドレール71にガイドされてY軸方向に移動し、移動基台73に固定された撮像手段8をY方向に移動させる構成となっている。撮像手段8は、X方向の光軸を有しており、ワークをX方向の側面側から撮像することができる。
An imaging unit moving unit 7 and an
X方向移動部4、Z方向移動部5、Y方向移動部6及び撮像手段移動部7の動作は、CPU、メモリ等を有する制御手段10によって制御される。したがって、X方向移動部4によって駆動される保持テーブル2のX方向の位置、Z方向移動部5の制御による切削ブレード30のワークに対する切り込み量、及びY方向移動部6によって調整される切削ブレード30のY方向及びZ方向の位置、撮像手段8のY方向の位置などは、制御部10によって制御することができる。
The operations of the X direction moving unit 4, the Z direction moving unit 5, the Y direction moving unit 6 and the imaging means moving unit 7 are controlled by a control unit 10 having a CPU, a memory and the like. Therefore, the position of the holding table 2 driven by the X direction moving unit 4 in the X direction, the cutting amount of the
図2に示すように、切削ブレード30は、ナット32によってスピンドル31に固定されており、切削ブレード30のY方向の両面側には、切削ブレード30に対して切削水を供給する一対の切削水供給ノズル33が配設されている。
As shown in FIG. 2, the
このように構成される切削加工装置では、図3に示すように、保持手段2においてワークWが吸引保持される。ワークWの裏面にはテープTが貼着されている。ワークWの種類は特に限定はされないが、例えばシリコンウェーハ、ガリウム砒素等の半導体ウェーハや、チップ実装用としてウェーハの裏面に設けられるDAF(Die Attach Film)等の粘着部材、半導体製品のパッケージ、セラミックス、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、LCDドライバー等の各種電子部品、さらには、ミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料が挙げられる。 In the cutting apparatus configured as described above, the work W is sucked and held by the holding means 2 as shown in FIG. A tape T is attached to the back surface of the workpiece W. The type of workpiece W is not particularly limited. For example, semiconductor wafers such as silicon wafers and gallium arsenide, adhesive members such as DAF (Die Attach Film) provided on the back surface of the wafer for chip mounting, semiconductor product packages, ceramics Glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based inorganic material substrates, various electronic components such as LCD drivers, and various processing materials that require micron-order processing position accuracy.
保持手段2にワークWが保持されると、図1に示したZ方向移動部5aまたはZ方向移動部5bのいずれかが切削加工手段3aまたは3bを下降させることにより切削ブレード3の下端が所定のZ方向位置に位置決めされる。そして、ワークWを保持した保持手段2がX方向であるA方向に移動することにより、ワークWと切削ブレード30とが相対的にX方向に切削送りされ、B方向に高速回転する切削ブレード3がワークWに対して切り込み、図3に示す所定深さの溝9が形成される。かかる切削時には、撮像手段8も、保持手段2と連動してA方向に移動する。溝9の深さ、すなわち切削ブレード30のワークWに対する切り込み量は、制御手段10による制御の下で、図1に示したZ方向移動部5a、5bによって調整することができる。
When the workpiece W is held by the holding means 2, either the Z-
図3に示すように、切削時には、切削水供給ノズル33から切削水33aが噴出され、その切削水33aは、切削ブレード30のB方向の高速回転によってミスト33bとなって切削屑とともにB方向に飛散するが、撮像手段8は、ワークWと切削ブレード30との接触位置を基準としてミスト33bが飛散する方向と反対側の方向に設置されているため、撮像手段8にミスト33bや切削屑が付着するのを避けることができる。
As shown in FIG. 3, at the time of cutting, cutting
図4に示すように、表面に設定された複数の分割予定ラインL(以下「ラインL」という。)によって区画されてデバイスDが形成されたウェーハWについて、複数のラインLを切削して加工溝を複数形成する場合は、切削ブレード30とワークWとのX方向の相対移動により1本のラインL1に加工溝9を形成した後に、切削加工手段3aまたは3bを上昇させて退避させ、その状態で切削加工手段3aまたは3bとワークWとが切削時とは逆方向に相対移動することにより、元の位置関係に戻る。そして、図1に示したY方向移動部6aまたは6bによって切削ブレード30がY方向にインデックス送りされて次のラインL2に対してY方向の位置合わせが行われた後、再び切削加工手段3を下降させ切削ブレード30とワークWとのX方向の相対移動により次のラインL2に加工溝が形成される。この繰り返しにより、同方向のすべてのラインLに加工溝が形成される。また、ワークWを90度回転させてから同様の切削を行うことにより、すべてのラインLに縦横に加工溝が形成される。
As shown in FIG. 4, a plurality of lines L are cut and processed for a wafer W on which a device D is formed by being divided by a plurality of division lines L (hereinafter referred to as “lines L”) set on the surface. When forming a plurality of grooves, after forming the
切り込み深さが制御手段10によって調整された状態で複数のラインLに対して順次切削ブレード30が切り込み、図5に示すように、所望深さZ1の加工溝9が順次形成されていくが、誤差などにより、形成された加工溝の深さが必ずしも所望の深さになっているとは限らない。また、切削ブレード30の刃先に摩耗が生じた場合は、形成された加工溝の深さが、予定していた深さよりも浅くなる。
With the cutting depth adjusted by the control means 10, the
そこで、図4に示した1本のラインL1を切削し終わってそのラインL1に加工溝9が形成された後、次に加工するラインL2の切削開始位置に切削ブレード30を位置づけるまでの間に、ラインL1に形成された加工溝9の断面形状を、ワークWのX方向の外周側面側から撮像手段8によって撮像する。そして、撮像により取得された画像情報は、制御手段10に転送され、メモリ等の記憶素子に記憶される。撮像手段8は、撮像手段移動部7によって駆動されてY方向に移動可能であるため、例えば隣り合うラインLの間隔を予め制御手段10に記憶させておき、その間隔ずつ撮像手段8がY方向にインデックス送りされるように制御手段10が撮像手段移動部7を制御するようにすれば、形成された加工溝を順次撮像することができる。
Therefore, after the cutting of the one line L1 shown in FIG. 4 and the formation of the
制御手段10は、各ラインについて取得された加工溝の画像情報から、画像処理により個々に加工溝の深さ(切削ブレード30の切り込み量)を求めたり、隣り合う加工溝の深さの差を求めたりすることにより、切削ブレード30のZ方向の摩耗量を算出する。そして、切削ブレード30が摩耗してその半径が徐々に小さくなっていく場合には、Z方向移動部5a、5bの駆動時に、その摩耗量の分だけ多く切削ブレード30の位置を降下させて切り込み深さを深くすることにより、図6に示すように、加工溝が所望の深さZ1で形成されるように制御する。かかる切削ブレード30の切り込み深さの調整は、1本のラインを切削して次のラインの切削開始位置に切削ブレード30を位置付けるまでの間に行うことができ、これによって生産性を低下させるのを防ぐことができる。かりに、1本のラインを切削後、次のラインの切削までに、加工溝の深さの撮像及び算出並びにその深さの値に基づく切り込み深さの制御の処理が間に合わないことがあったとしても、かかる処理が間に合う何本か後のラインの切削時に切り込み深さを補正できればよい。すなわち、加工溝の断面形状から取得したワークへの実際の切り込み量に基づいて、後に加工するラインへの切り込み量を制御できればよい。
The control means 10 obtains the depth of the machining groove (cutting amount of the cutting blade 30) individually by image processing from the image information of the machining groove acquired for each line, or calculates the difference between the depths of adjacent machining grooves. The amount of wear of the
図1に示した切削加工装置1は、2つの切削加工手段3a、3bを有しているため、2つの切削ブレード30を別々のラインに作用させることにより、一度の切削送りでラインを2本ずつ切削することができる。本実施形態のように、撮像手段8を1つのみ備えている場合は、片方の切削ブレードによる加工によって形成された加工溝の深さを求め、その深さに基づき、両方の切削ブレードの摩耗量が同じであろうとの推測の下で、両方の切削ブレードのZ方向の位置を調整することができる。また、2つの切削ブレードによって形成された加工溝を両方とも1つの撮像手段8によって撮像し、個々の切削ブレードによって形成された加工溝の深さを個別に求めてそれぞれの切削ブレードの摩耗量を求め、2つの切削ブレードのZ方向の位置を個別に調整することもできる。
Since the cutting apparatus 1 shown in FIG. 1 has two cutting means 3a and 3b, two lines are formed by one cutting feed by causing two cutting
本発明の別の実施形態である図7に示す切削加工装置11は、2つの撮像手段8a、8bと、撮像手段8a、8bをそれぞれ独立してY方向に移動させる撮像手段移動部7a、7bとを備えている。撮像手段移動部7a、7bは、Y方向の回転軸を有するボールスクリュー70a、70bと、ボールスクリュー70a、70bにそれぞれ連結されたパルスモータ72a、72bと、ボールスクリュー70a、70bにそれぞれ螺合した移動基台73a、73bとを備えている。移動基台73a、73bには、撮像手段8a、8bがそれぞれ固定されている。また、撮像手段移動部7a、7bは、両方に共通の一対のガイドレール71を備えている。撮像手段移動部7a、7bは、パルスモータ72a、72bがボールスクリュー70a、70bを回動させることにより移動基台73a、73をそれぞれY方向に移動させ、これによってガイドレール71にガイドされて撮像手段80、81がY方向に移動する構成となっている。なお、切削加工装置11は、撮像手段8a、8b及び撮像手段移動部7a、7b以外の部位については図1に示した切削装置1と同様に構成されるため、切削装置1と同様に構成される部位については切削装置1と共通の符号を付し、詳細な説明は省略することとする。
The cutting
図7の切削加工装置11のように、2つの撮像手段8a、8bを有している場合は、2つの切削ブレード30による加工によって形成された2つの加工溝を撮像手段8a、8bが個別に撮像し、それぞれの加工溝の深さを計測することができる。例えば、図8に示すように、ウェーハWの一方の端部のラインL1と他方の端部のラインL7とを一度のX方向の切削送りによって最初に切削して加工溝90、91をそれぞれ形成した後、次に加工するラインL2、L6の切削開始位置に2つの切削ブレード30を位置づけるまでの間に、ラインL1に形成された加工溝90の断面形状を撮像手段8aがワークWのX方向の外周側面側から撮像し、ラインL7に形成された加工溝91の断面形状を撮像手段8bがワークWのX方向の外周側面側から撮像する。そして、撮像により取得された2つの画像情報は、制御手段10に転送され、メモリ等の記憶素子に記憶される。
In the case of having two imaging means 8a and 8b as in the
撮像手段8a、8bは、撮像手段移動部7a、7bによって駆動されてそれぞれ独立してY方向に移動可能であるため、例えば隣り合うラインLの間隔を予め制御手段10に記憶させておき、その間隔ずつ撮像手段8a、8bが近づく方向にインデックス送りされるように撮像手段移動部7a、7bを制御手段10が制御するようにすれば、形成された加工溝を順次2本ずつ撮像することができる。なお、2つの切削ブレード30を最初にウェーハWの中央部に位置させて中央付近のラインを2本切削し、その後、互いの切削ブレードが離れる方向にインデックス送りしながら切削を行う場合は、その動きにあわせて撮像手段8a、8bも互いが離れる方向にインデックス送りすればよい。また、一方の切削ブレードをウェーハWの端部のラインに位置付け、他方の切削ブレードをウェーハWの中央部に位置付けた状態から切削を開始する場合は、2つの切削ブレードを同方向にインデックス送りしながら切削を行うため、撮像手段8a、8bもその動きにあわせて同方向にインデックス送りしながら加工溝の撮像を行えばよい。
Since the imaging means 8a and 8b are driven by the imaging means moving
制御手段10は、各ラインについて取得された加工溝の画像情報から、2つの切削ブレード30のZ方向の摩耗量を個別に算出する。そして、個別の摩耗量に応じて、Z方向移動部5a、5bが、2つの切削ブレード30のZ方向の位置を個別に制御し、加工溝が所望の深さとなるようにする。このようにして2つの切削ブレード30のZ方向の位置を個別に制御できるようにすることにより、2つの切削ブレード30が個々に深さの異なる加工溝を形成していく場合においても、切り込み深さを高精度に制御することができる。なお、かかる切削ブレード30の切り込み深さの調整は、生産性低下防止の観点から、1本のラインを切削して次のラインの切削開始位置に切削ブレード30を位置付けるまでの間に行うことが望ましいが、かりに、1本のラインを切削後、次のラインの切削までに、加工溝の深さの撮像及び算出並びにその深さの値に基づく切り込み深さの制御の処理が間に合わないことがあった場合は、かかる処理が間に合う何本か後のラインの切削時に切り込み深さを補正できればよい。すなわち、加工溝の断面形状から取得したワークへの実際の切り込み量に基づいて、後に加工するラインへの切り込み量を制御できればよい。
The control means 10 individually calculates the wear amount in the Z direction of the two
保持手段近傍のサブテーブルに保持されたダミーウェーハに溝を形成してその溝の深さを測定する従来の方法では、2つのテーブルの間にZ方向の位置誤差が生じ、その誤差に起因して形成する溝の深さにも誤差が生じることがあったが、本発明では、保持手段2に保持された実際のワークに形成された加工溝を撮像して切削ブレード30の切り込み深さを調整することにより、従来のように2つのテーブルを使用することによる誤差が生じることがなく、加工溝の深さを高精度に制御することができる。
In the conventional method in which a groove is formed in a dummy wafer held on a sub-table near the holding means and the depth of the groove is measured, a positional error in the Z direction occurs between the two tables. In some cases, an error may occur in the depth of the groove to be formed. However, in the present invention, the cutting depth of the
以上説明した2つの実施形態では、保持手段2をX方向に移動させる移動基台43に撮像手段8、8a、8b及び撮像手段移動部7、7a、7bを配設した構成としたが、撮像手段8、8a、8b及び撮像手段移動部7、7a、7bは、他の位置に配設されていてもよい。たとえば、Y方向移動部6a、6bを構成する移動基台63に撮像手段8、8a、8bを配設した場合は、撮像手段8、8a、8bと切削加工手段3a、3bとが連動するため、切削ブレード30と撮像手段8、8a、8bとのY方向の位置が合致するように予め調整しておけば、撮像手段移動部7、7a、7bがなくても順次加工溝を撮像することができる。
In the two embodiments described above, the imaging means 8, 8a, 8b and the imaging means moving
また、撮像手段8、8a、8b及び撮像手段移動部7、7a、7bは、使用しないときには保持手段2の移動の邪魔にならないところに退避させておき、必要なときだけ撮像可能な位置に移動する構成としてもよい。
The imaging means 8, 8a, 8b and the imaging means moving
1:切削加工装置
2:保持手段
20:保持テーブル 200:吸引部 21:回転支持部 22:クランプ部
3a、3b:切削加工手段
30:切削ブレード 31:スピンドル 32:ナット
33:切削水供給ノズル 33a:切削水 33b:ミスト
4:X方向移動部
40:ボールスクリュー 41:ガイドレール 42:モータ 43:移動基台
5a、5b:Z方向移動部
50:ボールスクリュー 51:ガイドレール 52:パルスモータ 53:昇降基台
6a、6b:Y方向移動部
60:ボールスクリュー 61:ガイドレール 62:パルスモータ 63:移動基台
7、7a、7b:撮像手段移動部
70、70a、70b:ボールスクリュー 71:ガイドレール
72、72a、72b:パルスモータ 73、73a、73b:移動基台
8、8a、8b:撮像手段
9、90、91:加工溝
10:制御手段
W:ウェーハ L、L1〜L7:分割予定ライン
1: Cutting device 2: Holding means 20: Holding table 200: Suction part 21: Rotating support part 22: Clamping
Claims (2)
該保持手段に保持されたワークを該分割予定ラインに沿って切削する切削ブレードと、該切削ブレードを回転させるスピンドルと、該切削ブレードをワークの厚み方向に移動させる移動部とを備えた切削加工手段と、
該移動部の移動量を制御して該切削ブレードのワークへの切り込み量を調整する制御手段と、
を有する切削加工装置であって、
該分割予定ラインに形成された加工溝の断面形状をワークの外周側面側から撮像する撮像手段を有し、
該制御手段は、該撮像手段で撮像した該加工溝の断面形状から取得した該ワークへの該切削ブレードの切り込み量に基づいて、後に加工する分割予定ラインへの切り込み量を制御する
切削加工装置。 Holding means for holding the workpiece with the planned dividing line on the surface;
Cutting process comprising: a cutting blade that cuts the work held by the holding means along the division line, a spindle that rotates the cutting blade, and a moving unit that moves the cutting blade in the thickness direction of the work. Means,
Control means for controlling the amount of movement of the moving part to adjust the amount of cutting of the cutting blade into the workpiece;
A cutting device comprising:
Having imaging means for imaging the cross-sectional shape of the machining groove formed in the planned division line from the outer peripheral side surface of the workpiece;
The control means is a cutting device that controls a cutting amount into a division line to be processed later based on a cutting amount of the cutting blade into the workpiece acquired from a cross-sectional shape of the machining groove imaged by the imaging device. .
前記切削ブレードに切削水を供給する切削水ノズルを有し、
前記撮像手段は、前記ワークと該切削ブレードとの接触位置を基準として該切削水が飛散する方向の反対側の方向に設置される請求項1に記載の切削加工装置。 The cutting means is
A cutting water nozzle for supplying cutting water to the cutting blade;
2. The cutting apparatus according to claim 1, wherein the imaging unit is installed in a direction opposite to a direction in which the cutting water scatters with reference to a contact position between the workpiece and the cutting blade.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013149822A (en) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Disco Abrasive Syst Ltd | Edge trimming method |
| KR20150105915A (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-18 | 가부시기가이샤 디스코 | Processing method of plate-like object |
| KR20180136880A (en) * | 2017-06-15 | 2018-12-26 | 가부시기가이샤 디스코 | Cutting method of workpiece |
| JP2019036659A (en) * | 2017-08-18 | 2019-03-07 | 株式会社ディスコ | Cutting method |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178008A (en) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | 株式会社東京精密 | Dicing machine |
| JP2005085973A (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting equipment |
| JP2008112884A (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | Wafer processing method |
| JP2009278029A (en) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Dicing apparatus |
-
2010
- 2010-04-15 JP JP2010093874A patent/JP2011228331A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178008A (en) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | 株式会社東京精密 | Dicing machine |
| JP2005085973A (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting equipment |
| JP2008112884A (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | Wafer processing method |
| JP2009278029A (en) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Dicing apparatus |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013149822A (en) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Disco Abrasive Syst Ltd | Edge trimming method |
| KR20150105915A (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-18 | 가부시기가이샤 디스코 | Processing method of plate-like object |
| KR102154719B1 (en) | 2014-03-10 | 2020-09-10 | 가부시기가이샤 디스코 | Processing method of plate-like object |
| KR20180136880A (en) * | 2017-06-15 | 2018-12-26 | 가부시기가이샤 디스코 | Cutting method of workpiece |
| KR102460049B1 (en) | 2017-06-15 | 2022-10-27 | 가부시기가이샤 디스코 | Cutting method of workpiece |
| JP2019036659A (en) * | 2017-08-18 | 2019-03-07 | 株式会社ディスコ | Cutting method |
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