JP2012204164A - 有機ｅｌ表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】コストを抑えつつ低消費電力化が可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の下部電極１２上に正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂを塗布法を用いて形成する。青色有機ＥＬ素子１０Ｂに対向する領域を除く正孔輸送層１４Ｂ上に塗布法または蒸着法を用いて黄色発光層１４Ｃを形成したのち、黄色発光層１４Ｃ上の全面に青色発光層１４Ｄ，電子輸送層１４Ｅおよび電子注入層１４Ｆを蒸着法により形成する。電子注入層１４Ｆ上に上部電極１５、保護層１６および封止用基板１７を形成する。封止用基板１７上に各色の有機ＥＬ素子に対応する色のフィルタを有するカラーフィルタ１８を設け色分割する。
【選択図】図３

Description

本発明は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機ＥＬ表示装置およびその製造方法に関する。

情報通信産業の発達が加速するにつれて、高度な性能を有する表示素子が要求されている。その中で、次世代表示素子として注目されている有機ＥＬ素子は自発発光型表示素子として視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく応答時間が速いという長所がある。

この有機ＥＬ素子を用いた表示装置のフルカラー化には、白色発光を呈する有機ＥＬ素子を光源とし、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）に塗り分けられたカラーフィルタを介して発光するフィルタ方式、青色有機ＥＬ素子を光源として色変換層（ＣＣＭ）を用いる方式または、赤色発光素子，緑色発光素子および青色発光素子を基板上に並列に配置する３色独立発光方式等がある。

中でも、フィルタ方式はメタルマスク等を用いて色ごとに発光層を塗り分ける必要がなく生産性が高いことから注目されているが、カラーフィルタを介しているため光の利用効率が低く、それに伴い消費電力が増加するという問題があった。

消費電力を低減する方法としては、例えば特許文献１または特許文献２において、白色発光素子に加えて赤色発光素子，緑色発光素子および青色発光素子を備えた有機ＥＬ表示装置が報告されている。この表示装置では、光の利用効率の高い白色発光素子を用いて白色および階調色を表示し、赤色，緑色または青色を必要とする場合にのみ各色の発光素子を用いることで発光効率を向上させ、消費電力を低減している。

一方、３色独立発光方式は、色ごとに材料および素子構成などを最適化することができるため消費電力および色再現性の面では優れている。しかしながら、３色独立発光方式では、各色の色再現性を向上させると発光効率が低下するという問題があった。これは、人間の視感度に原因がある。人間の視覚は色ごとに視感度が異なり、５５５ｎｍ付近の波長が最も視感度が高く、５５５ｎｍからずれるに従い視感度は低くなる。このため各色、特にピーク波長が５５５ｎｍから離れている赤色および青色の発光効率は低い。

このため、例えば特許文献３では、赤色，緑色および青色に加えて、赤と緑の中間色（黄色）を追加した４色駆動する有機ＥＬ表示装置が提案されている。非特許文献１に記載されているように、一般的にテレビで出現する色は、白色が最も出現頻度が高く、次いで青色と黄色とを結ぶ黒体輻射のラインに近い部分の頻度が高い。特許文献３では、視感度が高く発光効率の高い黄色を用いて黒体輻射ラインの色を表現することによって色域を保持すると共に、有機ＥＬ表示装置全体の発光効率を高めている。

米国特許出願第２００２／０１８６２１４号公報 特開２００４−３１１４４０号公報 特開２００７−９５４４４号公報

ＩＳＳＮ−Ｌ １８８３−２４９０／１７／１３５３

しかしながら、フィルタ方式では、広い色域を再現するためには濃いカラーフィルタによって色を分割する必要があり、３原色や中間色を表現する場合には光の利用効率が低下し、また、消費電力が大幅に増大するという問題があった。また、３色独立発光方式では赤色発光層，緑色発光層および青色発光層をそれぞれ塗り分ける必要があり、特許文献３のように４色駆動する場合には、上記３色に加え黄色発光層の塗り分け工程が追加される。従って材料費および製造コストが増加すると共に、工程数の増加による生産性の低下という問題があった。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、コストを抑えつつ低消費電力化が可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することにある。

本発明による有機ＥＬ表示装置は、以下の（Ａ）〜（Ｆ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）基板に、青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた第１電極
（Ｂ）第１電極上の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する正孔注入・輸送層
（Ｃ）正孔注入・輸送層上の、前記青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域に設けられたその他の色の第２有機発光層
（Ｄ）正孔注入・輸送層および第２有機発光層上の全面に設けられた青色の第１有機発光層
（Ｅ）第１有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層
（Ｆ）電子注入・輸送層上に設けられた第２電極
（Ｇ）第２電極上に設けられると共に、第２有機ＥＬ素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタ

本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｇ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板に複数の第１電極を青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程
（Ｂ）第１電極の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層を塗付または蒸着により形成する工程
（Ｃ）正孔注入・輸送層上の、青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域上にその他の色の第２有機発光層を塗布または蒸着により形成する工程
（Ｄ）正孔注入・輸送層および第２有機発光層上に青色の第１有機発光層を蒸着法により形成する工程
（Ｅ）第１有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層を蒸着法により形成する工程
（Ｆ）電子注入・輸送層の全面に第２電極を形成する工程
（Ｇ）第２電極上に設けられると共に、その他の色の第２有機ＥＬ素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを形成する工程

本発明の有機ＥＬ表示装置およびその製造方法では、正孔注入・輸送層上の、青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域上に、その他の色の第２有機発光層を設け、正孔注入・輸送層およびその他の色の第２有機発光層上の全面に青色の第１有機発光層を設け、単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを設けることにより、有機ＥＬ表示装置の製造工程が簡略化される。

本発明の有機ＥＬ表示装置およびその製造方法によれば、正孔注入・輸送層上の、青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域上に、その他の色の第２有機発光層を設け、正孔注入・輸送層およびその他の色の第２有機発光層上の全面に青色の第１有機発光層を設け、この第１有機発光層の上方に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを設けるようにしたので、色ごとの発光層の塗りわけ工程が削減され、有機ＥＬ表示装置の製造工程が簡略化される。これにより、消費電力を抑えつつ、生産性を向上することが可能となる。

本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す図である。 図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。 図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。 図１に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。 図４に示した製造方法を工程順に表す断面図である。 図５に続く工程を表す断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。 図７に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。 本発明の第３の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す図である。 図９に示した表示領域の構成を表す断面図である。 本発明の第４の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。 上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。 上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。 適用例３の外観を表す斜視図である。 適用例４の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。
１．第１の実施の形態
（３サブピクセルからなる有機ＥＬ表示装置）
２．第２の実施の形態
（第１有機発光層と第２有機発光層との間に接続層を有する有機ＥＬ表示装置）
３．第３の実施の形態
（４サブピクセルからなる有機ＥＬ表示装置）
４．第４の実施の形態
（第１有機発光層と第２有機発光層との間に接続層を有する有機ＥＬ表示装置）

（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１の構成を表したものである。この有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、後述する複数の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。

表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極１２の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。

画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。

また、表示領域１１０には、上述したように、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。ここで赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、黄色を発生する発光層からの光がカラーフィルタ１８（赤色フィルタおよび緑色フィルタ）を通過することにより、赤および緑の発光色を示す。

図３は図１に示した表示領域１１０の断面構成を表したものである。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１２（第１電極）、隔壁１３、後述する発光層１４Ｃ（黄色発光層１４ＣＹ，青色発光層１４ＣＢ）を含む有機層１４および陰極としての上部電極１５（上部電極）がこの順に積層された構成を有している。

このような赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、保護層１６により被覆され、更にこの保護層１６上に熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を間にしてガラスなどよりなる封止用基板１７が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。

基板１１は、その一主面側に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂが配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ)などのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。

下部電極１２は、基板１１上に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。下部電極１２は、例えば、積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、モリブデン（Ｍｏ），クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、下部電極１２は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、下部電極１２が陽極として使われる場合には、下部電極１２は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層１４Ａを設けることによって下部電極１２として使用することが可能である。

隔壁１３は、下部電極１２と上部電極１５との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものである。隔壁１３の材料としては、例えば、ＳｉＯ₂等の無機絶縁材料の他、ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール，ポジ型感光性ポリイミドなどの感光性樹脂が挙げられる。隔壁１３には、発光領域に対応して開口が設けられている。なお、有機層１４ないし上部電極１５は、開口だけでなく隔壁１３の上にも設けられていてもよいが、発光が生じるのは隔壁１３の開口だけである。また、本実施の形態では、隔壁１３は１種類の材料からなる単層構造としたが、隔壁１３を複数の材料をからなる積層構造としてもよい。また、隔壁１３を形成することなく下部電極１２のみをパターニングし、正孔注入層１４Ａ以降の有機層１４を共通層として設けてもよい。

有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの有機層１４は、例えば、下部電極１２の側から順に、正孔注入層１４Ａ，正孔輸送層１４Ｂ，黄色発光層１４Ｃ，青色発光層１４Ｄ、電子輸送層１４Ｅおよび電子注入層１４Ｆを積層した構成を有する。この有機層１４のうち、黄色発光層１４Ｃを除く層１４Ａ，１４Ｂおよび１４Ｄ〜１４Ｆは各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの共通層として設けられており、黄色発光層１４Ｃは青色有機ＥＬ素子１０Ｂを除く赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ上に設けられている。

正孔注入層１４Ａは、黄色発光層１４Ｃおよび青色発光層１４Ｄへの正孔の注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層１４Ａの厚みは、例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。

正孔注入層１４Ａの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボンなどが挙げられる。

正孔注入層１４Ａに用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５０００〜３０万の範囲であればよく、特に１万〜２０万程度が好ましい。また、２０００〜５０００程度のオリゴマーを用いてもよいが、Ｍｗが５０００未満では正孔輸送層以後の層を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまう虞がある。また３０万を超えると材料がゲル化し、成膜が困難になる虞がある。

正孔注入層１４Ａの構成材料として用いられる典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。この他、エイチ・シー・スタルク製Nafion(商標)で市販されているポリマー、または商品名Liquion(商標)で溶解形態で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース（商標）や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）などがある。

赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１４Ｂは、黄色発光層１４Ｃおよび青色発光層１４Ｄへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１４Ｂの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。

正孔輸送層１４Ｂを構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロールなどを用いることができる。

更に好ましくは、それぞれ上下に接する正孔注入層１４Ａおよび黄色発光層１４Ｃとの密着性が良好であり、有機溶媒に可溶な性質を有する式（１）で表わされる高分子材料が挙げられる。

（Ａ１〜Ａ４は、芳香族炭化水素基またはその誘導体が１〜１０個結合した基、あるいは複素環基またはその誘導体が１〜１５個結合した基である。ｎおよびｍは０〜１００００の整数であり、ｎ＋ｍは１０〜２００００の整数である。）

また、ｎ部およびｍ部の配列順序は任意であり、例えばランダム重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体のいずれであってもよい。更に、ｎおよびｍは５〜５０００の整数であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０００の整数である。また、ｎ＋ｍは１０〜１００００の整数であることが好ましく、より好ましくは２０〜６０００の整数である。

更に、式（１）で表わされる化合物におけるＡ１〜Ａ４が示す芳香族炭化水素基の具体例としては、例えばベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、あるいはこれらの誘導体、またはフェニレンビニレン誘導体、スチリル誘導体等が挙げられる。複素環基の具体例としては、例えばチオフェン、ピリジン、ピロール、カルバゾール、あるいはこれらの誘導体が挙げられる。

また、式（１）で表わされる化合物におけるＡ１〜Ａ４が置換基を有する場合、この置換基は、例えば炭素数１〜１２の直鎖あるいは分岐のアルキル基、アルケニル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ビニル基、アリル基等であることが好ましい。

式（１）に示した化合物の具体例としては、例えば以下の式（１−１）〜式（１−３）に示した化合物、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）−ｃｏ−（４，４'−（Ｎ−（４−ｓｅｃ−ブチルフェニル））ジフェニルアミン）］（ＴＦＢ，式（１−１））、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）−ａｌｔ−ｃｏ−（Ｎ，Ｎ'−ビス｛４−ブチルフェニル｝−ベンジジンＮ，Ｎ'−｛１，４−ジフェニレン｝）］（式（１−２））、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）］（ＰＦＯ，式（１−３））が好ましいが、この限りではない。

また、正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂを抵抗加熱に代表される蒸着法により形成する際には、例えば、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−-テトラシアノ−２，３，５，６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）等を用いることが好ましいが、この限りではない。

黄色発光層１４Ｃでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。黄色発光層１４Ｃの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１００ｎｍである。黄色発光層１４Ｃは、５００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下のいずれかの領域に少なくとも１つのピーク波長を有する少なくとも１種類の発光材料により構成されている。

黄色発光層１４Ｃは、詳細は後述するが、例えばインクジェット等の塗付法により形成する。その際、高分子材料および低分子材料を例えばトルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）、ブサイドクメン(１，２，４−トリメチルベンゼン)、ジハイドロベンゾフラン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、１−メチルナフタレン、ｐ−アニシルアルコール、ジメチルナフタレン、３-メチルビフェニル、４−メチルビフェニル、３−イソプロピルビフェニル、モノイソプロピルナフタレンなどの有機溶媒に少なくとも1種類以上使って溶解し、この混合溶液を用いて形成する。

黄色発光層１４Ｃを構成する発光材料としては、例えば下記式（２）〜式（４）に示したりん光性ホスト材料および蛍光性ホスト材料が挙げられる。

（Ｚ１は含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ１は２価の芳香族環基が１ないし４個結合した基、具体的には１〜４個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ５およびＡ６は、芳香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基、またはその誘導体である。但し、Ａ５およびＡ６は互いに結合して環状構造を形成してもよい。）

（Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立に水素原子、１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数１〜６個の炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数６〜１２個の芳香族炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体である。）

（Ｒ４〜Ｒ９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数２０以下のアルキル基、アルケニル基、カルボニル基を有する基、カルボニルエステル基を有する基、アルコキシル基を有する基、シアノ基を有する基、ニトロ基を有する基、あるいはそれらの誘導体、炭素数３０以下のシリル基を有する基、アリール基を有する基、複素環基を有する基、アミノ基を有する基あるいはそれらの誘導体である。）

式（２）に示した化合物の具体例としては、以下の式（２−１）〜式（２−９６）などの化合物が挙げられる。

式（３）に示した化合物の具体例としては、以下の式（３−１）〜式（３−５）などの化合物が挙げられる。

式（４）で表わされる化合物におけるＲ４〜Ｒ９が示すアリール基を有する基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、フルオレニル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ナフタセニル基、２−ナフタセニル基、９−ナフタセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、１−クリセニル基、６−クリセニル基、２−フルオランテニル基、３−フルオランテニル基、２−ビフェニルイル基、３−ビフェニルイル基、４−ビフェニルイル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基等が挙げられる。

また、Ｒ４〜Ｒ９が示す複素環基を有する基としては、ヘテロ原子として酸素原子（Ｏ）、窒素原子（Ｎ）、硫黄原子（Ｓ）を含有する５員環または６員環の芳香環基であり、炭素数２〜２０の縮合多環芳香環基が挙げられる。このような複素環基としては、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、キノキサリル基、イミダゾピリジル基、ベンゾチアゾール基が挙げられる。代表的なものとしては，１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、ピラジニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、３−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、６−イソインドリル基、７−イソインドリル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、３−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、６−イソベンゾフラニル基、７−イソベンゾフラニル基、キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、１−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−カルバゾリル基、１−フェナンスリジニル基、２−フェナンスリジニル基、３−フェナンスリジニル基、４−フェナンスリジニル基、６−フェナンスリジニル基、７−フェナンスリジニル基、８−フェナンスリジニル基、９−フェナンスリジニル基、１０−フェナンスリジニル基、１−アクリジニル基、２−アクリジニル基、３−アクリジニル基、４−アクリジニル基、９−アクリジニル基、などが挙げられる。

Ｒ４〜Ｒ９が示すアミノ基を有する基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基などのいずれでもよい。これらは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素基および／または１〜４個の芳香環基を有することが好ましい。このような基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ビスビフェニリルアミノ基、ジナフチルアミノ基が挙げられる。なお、上記置換基は２以上の置換基からなる縮合環を形成していてもよく、さらにその誘導体でもよい。

式（４）に示した化合物の具体例としては、以下の式（４−１）〜式（４−５１）などの化合物が挙げられる。

また、ドーパントとしてりん光性金属錯体化合物、具体的には、中心金属には周期表７〜１１族から選ばれる金属、例えばベリリウム（Ｂｅ），ホウ素（Ｂ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），マグネシウム（Ｍｇ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），パラジウム（Ｐｄ），白金（Ｐｔ），アルミニウム（Ａｌ），ガドリニウム（Ｇａ），イットリウム（Ｙ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），ロジウム（Ｒｈ），オスミウム（Ｏｓ），イリジウム（Ｉｒ）等を用いることが好ましい。更に具体的には、式（５−１）〜式（５−２９）に表わされる化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、上記ドーパントは１種あるいは２種以上用いてもよい。また、中心金属が異なるドーパントを組み合わせてもよい。

また、上記低分子材料の他、特に黄色光を発する材料としては、三重項状態を経てりん光を発するBis(2-2'-benzothienyl)-pyridinato-N,C3）Iridium(acetylacetonate)（式（６−１）、以下ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）と略記する）およびがBis(8-hydroxyquinolato)zinc（式（６−２））挙げられる。また、緑色発光で代表的なTris(2-phenylpyridine) iridium（式（６−３）、以下Ｉｒ（ｐｐｙ）３と略記する）に黄色の発光材を添加し黄色光を合成する等の発光方法も挙げられるが、この限りではない。

なお、黄色発光層１４Ｃを構成する材料としては上記式（２−１）〜式（２−９６），式（３−１）〜式（３−５），式（４−１）〜式（４−５１），式（５−１）〜式（５−２９）および式（６−１）〜式（６−３）に示したりん光性および蛍光性の低分子材料に限らない。例えば、高分子材料にりん光発光性の低分子材料が添加された混合材料により構成されていてもよい。この他、例えば下記の式（８）に示したポリビニルカルバゾール（ｎは１０以上５０００以下の整数）および式（６−１）〜式（６−３）に示したりん光性低分子材料を混合して用いてもよい。また、りん光発光性の発光ユニットを含有したりん光発光性の高分子材料を用いて構成されていてもよい。具体的には、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体等の発光性高分子が挙げられる。なお、ここで用いられる高分子材料は共役系高分子だけに限らず、ペンダント形の非共役系高分子および色素混合型の非共役系高分子を含み、近年開発が進められている、コアと呼ばれる中心分子と、コアを覆うように配されたデンドロンと呼ばれる側鎖とから構成されるデンドリマー型の高分子発光材料であってもよい。また、発光部位に関しては、一重項励起子から発光するもの、三重項励起子から発光するもの、あるいはその両者から発光するものがあるが、本実施の形態の黄色発光層１４Ｃでは、三重項励起子から発光するものを用いることが望ましい。

また、黄色発光層１４Ｃは塗付法に限らず、蒸着法やレーザ転写等に代表される熱転写法を用いて形成してもよい。蒸着法や熱転写法によって形成する際の黄色発光層１４Ｃの材料としては、例えば式（２−１）〜式（２−９６），式（３−１）〜式（３−５），式（４−１）〜式（４−５１），式（５−１）〜式（５−２９）および式（６−１）〜式（６−３）に示したりん光性および蛍光性の低分子材料のうち、分子量２０００以下のものを選択して用いることが好ましい。分子量２０００以上の低分子材料では、蒸着および転写時に、より高エネルギーの加熱が必要となるため材料が変性する虞がある。具体的には、黄色発光層１４Ｃに対応する領域に開口部を有する、例えばストライプ状のマスクを形成したのち、黄色発光層１４Ｃを蒸着により成膜する。なお、熱転写法を用いて形成する場合には、従来用いられている熱転写法を用いることができる。具体的には、例えば転写材料層が形成された転写用基板と、あらかじめ黄色発光層１４Ｃおよび青色有機ＥＬ素子１４Ｄの正孔輸送層１４Ｂまでが形成された被転写基板とを対向配置し、光照射する。これにより、転写パターンに応じた黄色発光層１４Ｃが形成される。

青色発光層１４Ｄでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。青色発光層１４Ｄの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば２ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。

青色発光層１４Ｄは低分子材料から形成され、少なくともホスト材料とゲスト材料の２種類の材料から構成されている。ホスト材料としては、具体的には、例えば上記式（４−１）〜式（４−５１）に記載の化合物が挙げられる。

ゲスト材料としては、発光効率が高い材料、例えば低分子蛍光材料またはりん光色素あるいは金属錯体などの有機発光材料が挙げられる。より具体的には、ピーク波長が約４００ｎｍ〜４９０ｎｍの範囲内に有する化合物である。このような化合物としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体などの有機物質が用いられる。なかでも、アミノナフタレン誘導体、アミノアントラセン誘導体、アミノクリセン誘導体、アミノピレン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体から選択されることが好ましい。

電子輸送層１４Ｅは、黄色発光層１４Ｃおよび青色発光層１４Ｄへの電子輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層１４Ｄの全面に共通層として設けられている。電子輸送層１４Ｅの厚みは素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。

電子輸送層１４Ｅの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ３）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、Ｃ６０、アクリジン、スチルベン、１，１０−フェナントロリンまたはそれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。

また、電子輸送層１４Ｅに用いる有機材料は１種類だけでなく、複数種類を混合または積層して用いてもよい。更にまた、上記化合物は後述する電子注入層１４Ｆに用いてもよい。

電子注入層１４Ｆは、電子注入効率を高めるためのものであり、電子輸送層１４Ｅの全面に共通層として設けられている。電子注入層１４Ｆの材料としては、例えばリチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（ＬｉＯ₂）や、セシウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ₂ＣＯ₃）、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、電子注入層１４Ｆは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用してもよい。更に、上記電子輸送層１４Ｅの材料として挙げた有機材料を用いてもよい。

上部電極１５は、例えば、厚みが２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、金属導電膜により構成されている。具体的には、Ａｌ，Ｍｇ，ＣａまたはＮａの合金が挙げられる。中でも、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが望ましい。また、上部電極１５の材料は、ＡｌとＬｉとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）でもよい。

更に、上部電極１５は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、上部電極１５は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層１４と隔壁１３とによって、下部電極１２と絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの共通電極として用いられる。

保護層１６は、例えば厚みが２〜３μｍであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）,アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）,アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ_1-xＮ_x）、アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。

封止用基板１７は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの上部電極１５の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂを封止するものである。光を封止基板の上方から取り出すトップエミッション方式では、封止用基板１７は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板１７には、例えば、カラーフィルタ１８およびブラックマトリクスとしての遮光膜（図示せず）が設けられており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。なお、光を下部電極から取り出すボトムエミッション方式では、封止基板４０の下に同様にカラーフィルタ１８を形成する。

カラーフィルタ１８は赤色フィルタ１８Ｒ，緑色フィルタ１８Ｇおよび青色フィルタ１８Ｂを有しており、それぞれ赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂに対応して順に配置されている。赤色フィルタ４０Ｒ，緑色フィルタ４０Ｇおよび青色フィルタ４０Ｂは、例えばそれぞれ矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ４０Ｒ，緑色フィルタ４０Ｇおよび青色フィルタ４０Ｂは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。

更に、カラーフィルタ１８における透過率の高い波長範囲と、共振器構造ＭＣ１から取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとは一致している。これにより、封止用基板１７から入射する外光のうち、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λに等しい波長を有するもののみがカラーフィルタ１８を透過し、その他の波長の外光が各色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに侵入することが防止される。

なお、カラーフィルタ１８はここでは赤色フィルタ１８Ｒ，緑色フィルタ１８Ｇおよび青色フィルタ１８Ｂを有するようにしたが、青色フィルタ１８Ｂを形成せず青色発光層１６ＣＢからの発光光をそのまま用いてもよい。

遮光膜（図示せず）は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ₂Ｏ₃）とを交互に積層したものが挙げられる。

この有機ＥＬ表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。

図４は、この有機ＥＬ表示装置１の製造方法の流れを表したものであり、図５および図６は図４に示した製造方法を工程順に表したものである。まず、上述した材料よりなる基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜（図示せず）を設ける。

（下部電極１２を形成する工程）
次いで、基板１１の全面に例えばＩＴＯよりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、図５（Ａ）に示したように、下部電極１２を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０１）。その際、下部電極１２を、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通させる。

（隔壁１３を形成する工程）
続いて、同じく図５（Ａ）に示したように、下部電極１２上および平坦化絶縁膜（図示せず）上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、Ｓ
ｉＯ₂等の無機絶縁材料を成膜し、隔壁１３を形成する。

隔壁１３を形成したのち、基板１１の下部電極１２および隔壁１３を形成した側の表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板１１を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ₂プラズマ処理）を行う（ステップＳ１０３）。

（正孔注入層１４Ａを形成する工程）
プラズマ処理を行ったのち、図５（Ｂ）に示したように、上部隔壁１３Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１４Ａを形成する（ステップＳ１０４）。この正孔注入層１４Ａは、スピンコート法やスリット印刷および液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１３Ｂに囲まれた領域に正孔注入層１４Ａの形成材料を選択的に配してもよく、その場合は液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式や、グラビア印刷・フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いることが好ましい。

具体的には、正孔注入層１４Ａの形成材料であるポリアニリンやポリチオフェン等の溶液または分散液を下部電極１２の露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔注入層１４Ａを形成する。

熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。ポリアニリンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いる場合、大気雰囲気、もしくは酸素雰囲気が好ましい。酸素による導電性高分子の酸化により、導電性が発現しやすくなるためである。

加熱温度は、１５０℃〜３００℃が好ましく、さらに好ましくは１８０℃〜２５０℃である。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。この乾燥後の膜厚みは、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。さらに好ましくは、８ｎｍ〜５０ｎｍである。

（正孔輸送層１４Ｂを形成する工程）
正孔注入層１４Ａを形成したのち、図５（Ｃ）に示したように、正孔注入層１４Ａの上に、上述した高分子材料を含む正孔輸送層１４Ｂを形成する（ステップＳ１０５）。この正孔輸送層１４Ｂは、スピンコート法やスリット印刷および液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１３Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１４ＢＲ，１６ＢＧの形成材料を選択的に配してもよく、その場合は液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式や、グラビア印刷，フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いることが好ましい。

具体的には、例えばスリット印刷方式により、正孔輸送層１４Ｂの形成材料である高分子ポリマーおよび低分子材料の混合溶液または分散液を正孔注入層１４Ａの露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔輸送層１４Ｂを形成する。

熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ₂）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発行効率や寿命が低下する虞がある。また、０．１ｐｐｍ未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。

また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。また、−８０℃未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を−８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。

加熱温度は、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１５０℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１４Ａ形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ〜１５０ｎｍであればより好ましい。

（黄色発光層１４Ｃを形成する工程）
正孔輸送層１４Ｂを形成したのち、図５（Ｄ）に示したように、黄色発光層１４Ｃを形成する（ステップＳ１０６）。黄色発光層１４Ｃの形成方法としては、例えばスピンコート法や液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、隔壁１３に囲まれた領域に黄色発光層１４Ｃの形成材料を選択的に配する場合には、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。具体的には、例えばインクジェット方式により、赤黄色発光層１４Ｃの形成材料であるりん光性ホスト材料にりん光性ドーパントを、例えば1重量％になるように、キシレンとシクロヘキシルベンゼンを２：８に混合した溶媒に溶解した混合溶液または分散液を正孔輸送層１４Ｂの露出面上に配する。その後、上記黄色発光層１４Ｃの正孔輸送層１４Ｂを形成する工程で説明した熱処理（乾燥処理）と同様の方法および条件の熱処理を行うことにより、黄色発光層１４Ｃを形成する。また、有版の印刷方式として、グラビア印刷・フレキソ印刷等で選択的に印刷する方法を用いて形成してもよい。

なお、黄色発光層１４Ｃは蒸着法によって形成してもよく、その際には、真空蒸着装置内に移動したのち、例えば蒸着速度０．１〜２Å／ｓで成膜する。

（青色発光層１４Ｄ，電子輸送層１４Ｅ，電子注入層１４Ｆおよび上部電極１５を形成する工程）
黄色発光層１４Ｃを形成したのち、図６（Ａ）に示したように、正孔輸送層１４Ｂおよび黄色発光層１４Ｃの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる青色発光層１４Ｄを形成する（ステップＳ１０７）。続いて、図６（Ｂ）に示したように、青色発光層１４Ｄの全面に蒸着法により電子輸送層１４Ｅ，電子注入層１４Ｆおよび上部電極１５を形成する（ステップＳ１０８，Ｓ１０９，Ｓ１１０）。

上部電極１５を形成したのち、図６（Ｃ）に示したように、保護層１６、封止用基板１７およびカラーフィルタ１８を形成する。具体的には、まず保護層１６を下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やＣＶＤ法により形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層１６を形成する場合には、ＣＶＤ法によって２〜３μｍの膜厚に形成する。この際、有機層１４の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層１６の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。

青色発光層１４Ｄ，電子輸送層１４Ｅ，電子注入層１４Ｆ，上部電極１５および保護層１６は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、青色発光層１４Ｄ，電子輸送層１４Ｅ，電子注入層１４Ｆ，上部電極１５および保護層１６の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層１４の劣化が防止される。

なお、下部電極１２と同一工程で補助電極（図示せず）を形成した場合、補助電極の上部にベタ膜で形成された有機層１４を、上部電極１５を形成する前にレーザアブレーションなどの手法によって除去してもよい。これにより上部電極１５を補助電極に直接接続させることが可能となり、接触性が向上する。

保護層１６を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる封止用基板１７に、上述した材料よりなる遮光膜を形成する。続いて、封止用基板１７に赤色フィルタ１８Ｒ（の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタ１８Ｒを形成する。続いて、赤色フィルタ１８Ｒと同様にして、緑色フィルタ１８Ｇおよび青色フィルタ１８Ｂを順次形成する。

そののち、保護層１６の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして封止用基板１７を貼り合わせる。以上により図１ないし図３に示した有機ＥＬ表示装置１が完成する。

この有機ＥＬ表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１２および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１５，カラーフィルタ１８および封止用基板１７を透過して取り出される。

従来の有機ＥＬ表示装置では、前述のように、白色光を用いたフィルタ方式や３色（あるいは４色）独立発光方式等によってフルカラー化がなされていた。しかしながら、フィルタ方式ではカラーフィルタを介することによる光の利用効率が低下し、消費電力が増大するという問題があった。また、発光層を有する有機層を複数積層し白色光を合成するスタック構造（タンデム構造）を有する有機ＥＬ表示装置では、発光効率が向上し、必要電流が低減される。しかしながら、タンデム構造では、複数の有機層は電荷発生層を介して積層されことにより、駆動電圧が上昇し、消費電力を十分低減することが難しいという問題があった。加えて、前述のように表示装置における出現頻度の高い色は白色および黒体輻射のラインに近い部分であるため、白色光を用いることは有用であると考えられるが、実際には色度点調整のために赤色発光素子，緑色発光素子および青色発光素子を駆動する必要があるため、消費電力は更に高くなるという問題があった。

また、３色（あるいは４色）独立発光方式では、色再現性と発光効率とがトレードオフの関係にあるという問題があった。これに対して、視感度が高く発光効率の高い黄色を用いることによって色域の保持と発光効率とを両立する方法が報告されている。しかし、３色独立方式では少なくとも各色の発光層の塗り分けが必要であるためフィルタ方式に比べて工程数が多い。また、色再現性を向上するために黄色発光層を追加する場合には、更に工程数が増加し、設備費および材料費が増大し生産性が大きく低下するという問題があった。

これに対して、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、正孔輸送層１４Ｂ上の、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの領域を除く領域上に黄色発光層１４Ｃを設け、赤色，緑色および青色を有するカラーフィルタによって発光色を色分割する。これにより、発光層の塗り分け工程が削減される。

このように本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの領域を除く正孔輸送層１４Ｂ上に黄色発光層１４Ｃを、正孔輸送層１４Ｂおよび黄色発光層１４Ｃ上の全面に青色発光層１６Ｄを設け、赤色，緑色および青色を有するカラーフィルタによって発光色を色分割するようにしたので、発光層の塗り分け工程が削減され、有機ＥＬ表示装置の製造工程が簡略化される。即ち、コストが抑えられ生産性が向上した省電力な有機ＥＬディスプレイを作製することが可能となる。

以下、第２〜第４の実施の形態について説明する。なお、第１の実施の形態と同一の構成要素については同一符号を付してその説明は省略する。

（第２の実施の形態）
図７は第２の実施の形態における有機ＥＬ表示装置２の表示領域の断面構成を表したものである。赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子２０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１２（第１電極）、隔壁１３、後述する発光層（黄色発光層２４Ｃ，青色発光層２４Ｄ）を含む有機層２４および陰極としての上部電極１５（第２電極）がこの順に積層された構成を有している。本実施の形態の有機ＥＬ表示装置２は、黄色発光層２４Ｃと青色発光層２４Ｄとの間に接続層２４Ｇを有することが上記第１の実施の形態と異なる。

接続層２４Ｇは、正孔輸送層２４Ｂおよび黄色発光層２４Ｃと、青色発光層２４Ｄとの界面を改善し、正孔の注入効率を高めると共に、黄色発光層２４Ｃで生じる励起子を閉じ込め、発光効率を高めるためのものである。接続層１６Ｄの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば２ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは５ｎｍ〜１５ｎｍである。

接続層２４Ｇを構成する材料としては、例えば、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。このような材料を用いることにより、正孔輸送層２４Ｂと、青色発光層２６Ｄとの界面の汚染および注入障壁が改善され、下部電極１２側から青色発光層２４Ｄへ供給される正孔の注入効率が向上する。具体的には、接続層２４Ｇの基底状態（Ｓ０Ｇ）と正孔輸送層２４Ｂの基底状態（Ｓ０Ｂ）とのエネルギー差を０．４ｅＶ以下とすることにより青色発光層２４Ｄへの正孔注入効率を保つことができる。

接続層２４Ｇを構成する具体的な材料としては、好ましくは、下記の式（８），（９）に示した低分子材料が挙げられる。

（Ａ７〜Ａ９は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。）

（Ｌ２は２価の芳香族環基が２ないし６個結合した基である。具体的には２〜６個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ１０〜Ａ１３は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が１〜１０個結合した基である。）

式（８）に示した化合物の具体例としては、以下の式（８−１）〜式（８−４８）などの化合物が挙げられる。

また、式（８）に示した化合物の中でも、ジベンゾフラン構造を有するアリール基およびカルバゾール構造を有するアリール基を含むアミン化合物を用いることが好ましい。これらアミン化合物は、一重項励起準位および三重項励起準位が大きく、青色発光層２４Ｄの電子を効果的にブロックすることが可能である。このため、発光効率が向上すると共に、正孔輸送層２４Ｂへの電子の注入が抑制されるため、寿命特性が向上する。更に、黄色発光層２４Ｃの三重励起子を高い三重励起子準位を閉じ込めて発光効率を向上することがすることができる。

ジベンゾフラン構造を有するアリール基およびカルバゾール構造を有するアリール基を含むアミン化合物の具体例としては、以下の式（８−４９）〜式（８−３２３）等の化合物が挙げられる。

式（９）に示した化合物の具体例としては、以下の式（９−１）〜式（９−４５）などの化合物が挙げられる。

また、式（２−１）〜式（２−９６）に示したりん光ホスト材料の他に、上記式（２）の一般式で表わされる下記の式（２−９７）〜式（２−１６６）などの化合物も用いることができる。なお、ここでＬ１に結合する含窒素炭化水素基として、例えばカルバゾール基やインドール基を有する化合物を挙げたがこれに限らない。例えばイミダゾール基を用いてもよい。

図８は有機ＥＬ表示装置２の製造方法の流れを表したものであり、具体的には以下のように製造することができる。

（接続層２４Ｇを形成する工程）
黄色発光層２４Ｃを形成したのち、正孔輸送層２４Ｂおよび黄色発光層２４Ｃ上の全面に、例えば蒸着速度０．１〜２Å／ｓにて、上述した材料よりなる接続層２４Ｇを形成する（ステップＳ２０１）。

本実施の形態の有機ＥＬ表示装置２では、正孔輸送層２４Ｂと青色発光層２４Ｄとの間に接続層２４Ｇを設けることにより、青色発光層２４Ｄへの下部電極１２側から供給される正孔の注入効率が向上する。また、黄色発光層２４Ｃと青色発光層２４Ｄとの間に接続層２４Ｇを設けることにより、黄色発光層２４Ｃをりん光材料により構成した場合における三重項励起子の青色発光層２４Ｄへの拡散を防ぐことができ、高効率なりん光発光が得られる。これにより、第１の実施の形態の効果に加えて、更に発光効率が向上するという効果を奏する。

（第３の実施の形態）
図９は第３の実施の形態における有機ＥＬ表示装置３の構成を表すものである。図１０は有機ＥＬ表示装置３の表示領域の断面構成を表したものである。本実施の形態の有機ＥＬ表示装置３は、赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ，青色有機ＥＬ素子３０Ｂに加え黄色発光素子３０Ｙを追加し、４サブピクセルとした点が上記第１の実施の形態と異なる。赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ，青色有機ＥＬ素子３０Ｂ、黄色有機ＥＬ素子３０Ｙは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１２（第１電極）、隔壁１３、発光層（黄色発光層３４Ｃ，青色発光層３４Ｅ）を含む有機層３４および陰極としての上部電極１５（第２電極）がこの順に積層された構成を有している。また、上部電極１５上には上記第１および第２の実施の形態と同様に保護層１６、封止用基板１７およびカラーフィルタ３８が設けられている。このカラーフィルタ３８は、赤色フィルタ３８Ｒ，緑色フィルタ３８Ｇ，青色フィルタ３８Ｂおよび黄色フィルタ３８Ｙを有し、それぞれ赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ，青色有機ＥＬ素子３０Ｂおよび黄色有機ＥＬ素子３０Ｙに対応して順に配置されている。

本実施の形態の有機ＥＬ表示装置３では、赤色有機ＥＬ素子３０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子３０Ｇ，青色有機ＥＬ素子３０Ｂに加え黄色発光素子３０Ｙを加えるようにした。前述の白色について出現頻度が高い青色と黄色を結ぶ黒体輻射のラインに近い部分（具体的には肌色付近）のほとんどは青色と黄色の２色で表現することができる。即ち、上記第１の実施の形態の効果に加えて、前述の赤色，緑色，青色および白色の４色を用いた有機ＥＬ表示装置のように、黒体輻射のラインに近い部分の表現のために４色の有機ＥＬ素子を用いる必要がないため、より消費電力が低減するという効果を奏する。また、青色および黄色の発光効率は高いため、更に低消費電力化が可能となる。即ち、コストの低減と消費電力の大幅な低減とを両立することが可能となる。

（第４の実施の形態）
図１１は、第４の実施の形態における有機ＥＬ表示装置４の表示領域の断面構成を表したものである。本実施の形態の有機ＥＬ表示装置４は、赤色有機ＥＬ素子４０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子４０Ｇ，青色有機ＥＬ素子４０Ｂおよび黄色発光素子４０Ｙは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１２（第１電極）、隔壁１３、発光層（黄色発光層４４Ｃ，青色発光層４４Ｄ）を含む有機層４４および陰極としての上部電極１５（第２電極）がこの順に積層された構成を有している。本実施の形態の有機ＥＬ表示装置４は、黄色発光層４４Ｃと青色発光層４４Ｄとの間に接続層４４Ｇを有することが上記第３の実施の形態と異なる。

本実施の形態の接続層４４Ｇは、第２の実施の形態において記載した接続層２４Ｇと同様に、青色発光層４４Ｄへの正孔の注入効率を高めるためのものである。接続層４４Ｇの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば２ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは５ｎｍ〜１５ｎｍである。また、接続層４４Ｇを構成する材料も、接続層２４Ｇと同様の材料を用いることができる。

本実施の形態の有機ＥＬ表示装置４では、正孔輸送層４４Ｂと青色発光層４４Ｄとの間に接続層４４Ｇを設けることにより、青色発光層４６Ｄへの下部電極１２側から供給される正孔の注入効率が向上する。また、黄色発光層４４Ｃと青色発光層４４Ｄとの間に接続層４４Ｇを設けることにより、黄色発光層４４Ｃをりん光材料により構成した場合における三重項励起子の青色発光層４４Ｄへの拡散を防ぐことができ、高効率なりん光発光が得られる。これにより、第３の実施の形態の効果に加えて、発光効率が更に向上するという効果を奏する。

（モジュールおよび適用例）
以下、上記第１〜第４の実施の形態で説明した有機ＥＬ表示装置１〜４の適用例について説明する。上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。

（モジュール）
上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４は、例えば、図１２に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、保護層１６および封止用基板１７から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。

（適用例１）
図１３は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１〜４により構成されている。

（適用例２）
図１４は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１〜４により構成されている。

（適用例３）
図１５は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１〜４により構成されている。

（適用例４）
図１６は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１〜４により構成されている。

（適用例５）
図１７は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置１〜４が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１〜４により構成されている。

以上、上記第１〜第４の実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。

例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。

また、上記実施の形態では、例えば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｙ等の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、正孔注入層１４Ａ上に正孔輸送層１４Ｂを形成せず、直接発光層１６Ｃを塗布方式により形成してもよい。

更に、上記実施の形態では、例えば、電子輸送層１６Ｇを１種類の材料からなる単層として形成したが、これに限らず、例えば２種類以上の材料からなる混合層、または異なる材料からなる層を積層した多層構造としてもよい。

また、上記第２の実施の形態では赤色フィルタ２８Ｒ，緑色フィルタ２８Ｇおよび青色フィルタ２８Ｂの３色を有するカラーフィルタ１８を用いていたが、実施の形態１において記載したように、青色発光素子２０Ｂ用の青色フィルタ２８Ｂは設けなくてもよい。同様に、上記第３および第４の実施の形態では、赤色フィルタ３８Ｒ（４８Ｒ），緑色フィルタ３８Ｇ（４８Ｇ），青色フィルタ３８Ｂ（４８Ｂ）および黄色フィルタ３８Ｙ（４８Ｙ）のうち、青色フィルタ３８Ｂ（４８Ｂ）および黄色フィルタ３８Ｙ（４８Ｙ）を設けず、黄色発光層３４Ｃ（４４Ｃ）および青色発光層３４Ｄ（４４Ｄ）の発光光をそのまま用いてもよい。

更に、基板１１上における赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（２０Ｒ，３０Ｒ，４０Ｒ），緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ（２０Ｇ，３０Ｇ，４０Ｇ），青色有機ＥＬ素子１０Ｂ（２０Ｂ，３０Ｂ，４０Ｂ）（および黄色有機ＥＬ素子３０Ｙ，４０Ｙ）の配置は特に問わない。例えば上記実施の形態のように青，赤，緑および黄色有機ＥＬ素子を並列に配置したが、赤，緑，黄色有機ＥＬ素子を並列に形成した下方あるいは上方に、赤，緑，黄色有機ＥＬ素子の長軸方向と直交するように青色有機ＥＬ素子を配置するようにしてもよい。

更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリックス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリックス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリックス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。

１，２，３，４…有機ＥＬ表示装置、１０Ｒ，２０Ｒ，３０Ｒ，４０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、１０Ｇ，２０Ｇ，３０Ｇ，４０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、１０Ｂ，２０Ｂ，３０Ｂ，４０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、３０Ｙ，４０Ｙ…黄色有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…下部電極、１３…隔壁、１４，２４，３４，４４…有機層、１４Ａ，２４Ａ，３４Ａ，４４Ａ…正孔注入層、１４Ｂ，２４Ｂ，３４Ｂ，４４Ｂ…正孔輸送層、１４Ｃ，２４Ｃ，３４Ｃ，４４Ｃ…黄色発光層、１４Ｄ，２４Ｄ，３４Ｄ，４４Ｄ…青色発光層、１６Ｅ，２４Ｅ，３４Ｅ，４４Ｅ…電子輸送層、１４Ｆ，２４Ｆ，３４Ｆ，４４Ｆ…電子注入層、２４Ｇ，４４Ｇ…接続層、１５…上部電極、１６…保護層、１７…封止用基板、１８，２８，３８，４８…カラーフィルタ

Claims (14)

1. 基板に、青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた第１電極と、
   前記第１電極上の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する正孔注入・輸送層と、
   前記正孔注入・輸送層上の、前記青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域に設けられたその他の色の第２有機発光層と、
   前記正孔注入・輸送層および前記第２有機発光層上の全面に設けられた青色の第１有機発光層と、
   前記第１有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層と、
   前記電子注入・輸送層上に設けられた第２電極と、
   前記第２電極上に設けられると共に、前記第２有機ＥＬ素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタと
   を備えた有機ＥＬ表示装置。
2. 前記正孔注入・輸送層および前記第２有機発光層と前記第１有機発光層との間に接続層を有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
3. 前記接続層は低分子材料を含む、請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 前記第２有機発光層は５００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下のいずれかの領域に少なくとも１つのピーク波長を有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
5. 前記カラーフィルタを設けることにより前記第２有機発光層の発光色から２色以上の光を取り出す、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
6. 前記第２有機ＥＬ素子の発光色を前記カラーフィルタにより２分割することにより形成された２つのサブピクセルと、前記第１有機ＥＬ素子よりなる青色のサブピクセルとから１画素が構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
7. 前記第２有機ＥＬ素子の発光色を前記カラーフィルタにより３分割することにより形成された３つのサブピクセルと、前記第１有機ＥＬ素子よりなる青色のサブピクセルとから１画素が構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
8. 前記正孔注入・輸送層は、前記第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の下部電極上
   に共通層として全面に設けられている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
9. 基板に複数の第１電極を青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程と、
   前記第１電極の全面に設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層を塗付または蒸着により形成する工程と、
   前記正孔注入・輸送層上の、前記青色の第１有機ＥＬ素子に対向する領域を除く領域上にその他の色の第２有機発光層を塗布または蒸着により形成する工程と、
   前記正孔注入・輸送層および前記第２有機発光層上に青色の第１有機発光層を蒸着法により形成する工程と、
   前記第１有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層を蒸着法により形成する工程と、
   前記電子注入・輸送層の全面に第２電極を形成する工程と
   前記第２電極上に設けられると共に、前記その他の色の第２有機ＥＬ素子上の少なくとも一部に単色あるいは複数色を有するカラーフィルタを形成する工程と
   を含む有機ＥＬ表示装置の製造方法。
10. 前記正孔注入・輸送層および前記第２有機発光層と前記第１有機発光層との間に、蒸着により接続層を形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
11. 前記塗布は、吐出方式によって直接描画するスピンコート法、インクジェット法またはノズルコート法、スリットコート法、マイクロシリンジのいずれかである、請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
12. 前記塗布は、版を用いる凸版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷のいずれかである、請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
13. 前記塗布は、有機ＥＬ材料を噴霧したのち、高精細のマスクで塗分けを行う噴霧方式である、請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
14. 前記第２有機発光層を、メタルマスク法またはレーザ転写法により形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。

Images