JP2012018991A - 面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光の利用効率を低下させることのない面発光レーザモジュールを提供する。
【解決手段】基板上に面発光レーザが形成されている面発光レーザ素子１０と、前記面発光レーザ素子を設置するためのパッケージ８０と、前記面発光レーザの出射側に設けられたアパーチャ部７３と、を有し、前記アパーチャ部は、前記面発光レーザの光が通過する開口部と、前記開口部が設けられていない領域に形成された受光素子７２と、を有しており、前記開口部は、長方形状に形成されているものであることを特徴とする面発光レーザモジュール。
【選択図】図１２

Description

本発明は、面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置に関する。

昨今、多色画像形成装置においては、より高精細な画像品質が求められている。このため、高速化が年々進み、オンデマンドプリンティングシステムとして簡易印刷に用いられるようになりつつある。具体的には、面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting LASER）を２次元的に配列した構成の２次元アレイ素子を用いることにより、感光体上での副走査間隔を記録密度の１／ｎにすることができ、単位画素をｎ×ｍの複数ドットのマトリクス構成を形成することができる。また、複数の光ビームで同時に走査を行なうことができる。

通常、光書き込みに用いられる半導体レーザは、ＡＰＣ（Automatic Power Control）制御を行なうため、半導体レーザの発光量をモニタすることが必要となる。端面発光レーザでは、光の出射端とは反対側の端面から出射される光を受光することにより、光量をモニタすることができるが、面発光レーザでは、出射面と反対側の面には光は出射されないため、端面発光レーザと同様の方法では光量をモニタすることができない。従って、面発光レーザでは、出射された光の一部を分岐して、光量のモニタを行なう様々な方法が検討されており、開示されている。

例えば、特許文献１では、面発光レーザの出射面側にビームスピリッタを配置し、面発光レーザから出射される光をビームスピリッタにより分岐し、モニタ光として光検出器により検出する方法が開示されている。

また、特許文献２では、面発光レーザの出斜面側に、ミラーにより形成されたアパーチャを設け、アパーチャを通過する光とアパーチャに設けられたミラーにより反射される光とに分離し、アパーチャに設けられたミラーにより反射された光を受光素子により検出し、モニタする方法が開示されている。

更に、特許文献３及び４では、面発光レーザのパッケージの出射窓の外側に、受光素子を配置してレーザ光の周辺光を受光し光量モニタを行なう方法が開示されている。

しかしながら、特許文献１に記載されている方法は、使用される光をビームスプリッタにより分岐する方法であるため光利用効率が低下してしまい、また、ビームスプリッタは高価であるため、コストアップにつながるといった問題点を有している。

また、特許文献２に記載されている方法では、特殊な光学部品を必要とする場合や、受光素子に光を入射させるための光学部品を必要とし、コストアップにつながるとともに、大型化するといった問題点を有している。

また、特許文献３及び４に記載されている方法では、光ビームを所望の形状にするために、別途アパーチャを設けることが必要となり、コストアップにつながってしまう。

以上より、本発明は、上記に鑑みなされたものであり、低コストで、使用される光の利用効率を低下させることなく光量モニタすることのできる面発光レーザモジュールを提供することを目的とするものであり、更には、信頼性が高く、高品質な画像を形成することのできる光走査装置及び画像形成装置を提供することを目的とするものである。

本発明は、基板上に面発光レーザが形成されている面発光レーザ素子と、前記面発光レーザ素子を設置するためのパッケージと、前記面発光レーザの出射側に設けられたアパーチャ部と、を有し、前記アパーチャ部は、前記面発光レーザの光が通過する開口部と、前記開口部が設けられていない領域に形成された受光素子と、を有しており、前記開口部は、長方形状に形成されているものであることを特徴とする。

また、本発明は、前記受光素子は、２以上に分割されていることを特徴とする。

また、本発明は、２以上に分割された前記受光素子における差信号または差信号と和信号を算出するための演算回路を有していることを特徴とする。

また、本発明は、前記面発光レーザ素子と、前記アパーチャ部とを調整するための位置調整部を有することを特徴とする。

また、本発明は、前記受光素子は下部電極と半導体層と上部電極とが積層形成された構造のものであることを特徴とする。

また、本発明は、前記面発光レーザモジュールは光走査のための光源として用いられるものであって、前記開口部は、主走査方向、または、副走査方向のいずれか一方が長手方向となるものであることを特徴とする。

また、本発明は、前記アパーチャ部は、前記開口部が形成された光を透過しない基板の一方の面に前記受光素子が形成されており、前記一方の面は前記面発光レーザ素子に対向する面であることを特徴とする。

また、本発明は、前記アパーチャ部は、透明な基板上に前記受光素子が形成されており、前記受光素子の形成されていない領域により、前記開口部が形成されるものであることを特徴とする。

また、本発明は、前記下部電極及び前記上部電極のいずれか一方、また、前記下部電極及び前記上部電極の双方は、金属材料により形成されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記金属材料はクロムであることを特徴とする。

また、本発明は、前記アパーチャ部は、前記面発光レーザ素子の出射面に対して傾いた角度で設置されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記面発光レーザ素子には、前記面発光レーザがアレイ状に複数形成されているものであることを特徴とする。

また、本発明は、光によって被走査面を走査する光走査装置であって、前記記載の面発光レーザモジュールを有する光源と、前記光源からの光を偏向する光偏向部と、前記光偏向部により偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と、を有することを特徴とする。

また、本発明は、像担持体と、前記像担持体に対して画像情報に応じて変調された光を走査する前記記載の光走査装置と、を有することを特徴とする。

また、本発明は、前記像担持体は複数であって、前記画像情報は、多色のカラー情報であることを特徴とする。

本発明によれば、低コストで、使用される光の利用効率を低下させることなく光量モニタすることのできる面発光レーザモジュールを提供することができ、更には、信頼性が高く、高品質な画像を形成することのできる光走査装置及び画像形成装置が提供することができる。

第１の実施の形態における面発光レーザモジュールの構成図 第１の実施の形態における面発光レーザモジュールの説明図 アパーチャ部の構造図 受光素子の構造図（１） 受光素子の構造図（２） 受光素子の構造図（３） 受光素子の構造図（４） アパーチャ部の位置合せの説明図（１） アパーチャ部の位置合せの説明図（２） アパーチャ部の位置合せの治具の説明図 面発光レーザアレイの場合のアパーチャ部の位置合せの説明図 第１の実施の形態における面発光レーザモジュールの構造図 第１の実施の形態における他の面発光レーザモジュールの構造図（１） 第１の実施の形態における他の面発光レーザモジュールの構造図（２） 第１の実施の形態における面発光レーザアレイの構成図 第２の実施の形態におけるレーザプリンタの構成図 第２の実施の形態における光走査装置の構成図 第３の実施の形態におけるカラープリンタの構成図

本発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。

〔第１の実施の形態〕
第１の実施の形態における面発光レーザモジュールについて説明する。本実施の形態における面発光レーザモジュールは、面発光レーザ素子１０と、アパーチャ部２０を有している。アパーチャ部２０はレーザ光を通過する開口部２１が形成されたアパーチャ本体部２２を有しており、アパーチャ本体部２２において面発光レーザ素子１０が設けられている側の面には、受光素子２３が形成されている。受光素子２３は開口部２１には形成されていないため、開口部２１を通過する光は遮られることがない。このため、受光素子２３はアパーチャ部２０により遮られる光のみを受光することができ、開口部２１を通過する光の光量を低減させることはない。尚、必要に応じて面発光レーザ素子１０とアパーチャ部２０との間には、カップリングレンズ（不図示）が設けられる場合がある。

また、受光素子２３は、硬化性樹脂等の樹脂材料によりアパーチャ本体部２２に接着されており、受光素子２３により受光された光は、電極端子２４より出力モニタ信号として出力され書き込み制御部３０に入力される。書き込み制御部３０では、受光素子２３により計測された面発光レーザ素子１０における光ビーム強度と予め定められている基準値等とを比較して、面発光レーザ素子１０における面発光レーザの出力が所定の値となるように、電流制御が行なわれる。即ち、書き込み制御部３０からの書込信号により面発光レーザ素子１０の制御が行なわれる。受光素子２３により計測された光ビーム強度は、次回の計測まで保存され、面発光レーザ素子１０より出射される光ビーム強度を一定に保つことができる。

次に、図２に基づき面発光レーザ素子について説明する。図２（ａ）に示される本実施の形態における面発光モジュール１００は、面発光レーザ素子１０がパッケージ８０に設置されおり、面発光レーザ素子１０に対向する側には、図２（ａ）には不図示のアパーチャ部２０が設けられている。また、面発光レーザ素子１０は、面発光レーザアレイを有しており、例えば、図２（ｂ）に示されるように、面発光レーザ素子１０のチップ上には、複数の面発光レーザの発光領域１１が所定の位置に配列されている。尚、図２（ｂ）は、面発光レーザ素子１０表面の一部を拡大したものである。このように面発光レーザ素子１０が、面発光レーザアレイを有している場合には、各々の面発光レーザの発光領域１１の座標位置が各々異なるため、予め書き込み制御部３０に面発光レーザアレイの配置に対応した補正量のテーブルを有しており、このテーブルを用いることにより異なる面発光レーザの発光領域１１同士においても、略同一の出射光量となるように書き込み制御部３０により制御することができる。

（アパーチャ部）
次に、図３に基づき本実施の形態における面発光レーザモジュールに用いられるアパーチャ部について説明する。図３（ａ）は、図１に示す構造の受光素子２３を用いたアパーチャ部３０である。アパーチャ部２０は、副走査方向に長く伸びる長方形状の開口部２１を有している。面発光レーザ素子１０の面発光レーザにより照射された光スポット４０の光のうち、開口部２１の領域の光は通過するが、開口部２１の形成されていない領域、即ち、受光素子２３の設けられている領域には、光スポット４０の光が照射されるため、光量検出を行なうことができる。尚、受光素子２３はアパーチャ部２０の開口部２１近傍に形成されており、アパーチャ部２０の周辺部分には形成されていない。また、受光素子２３により検出された光量に対応する電気信号は端子部２４より出力される。

図３（ｂ）は、図３（ａ）とは受光素子の形状が異なるものである。具体的には、受光素子２３ａが、アパーチャ部２０ａにおいて面発光レーザ素子１０が配置される面の開口部２１を除いた領域の略全面形成されているものである。

図３（ｃ）は、受光素子が分割されている形状のものである。具体的には、アパーチャ部２０ｂには、光スポット４０が照射される領域に、受光素子２３ｂが２つに分割されて形成されている。尚、受光素子は、２以上に分割されていてもよく、また、四角形以外の形状、例えば、多角形や円形等の形状であってもよい。

また、図３（ｄ）に示すように、アパーチャ部２０ｃに形成される開口部２１ｃは、主走査方向に長く伸びる長方形状の開口部であってもよく、この場合、受光素子２３ｃは開口部２１ｃの形状に対応した開口を有する形状により形成される。

尚、アパーチャ部２０に形成される開口部２１は、副走査方向に長く伸びた長方形状の場合と、主走査方向に長く伸びた長方形状の場合とがある。このような形状で形成しているのは、開口部２１を通過する光ビーム形状を一定にすることにより、光ビーム形状のバラツキや変動を抑えるとともに、副走査方向または主走査方向に高精細で高密度な書き込みを行なうことができるようにするためであり、これにより、後述する感光体上において、高品質な書き込みを安定的に行なうことができる。

尚、本願明細書においては、図３におけるアパーチャ部２０、２０ａ、２０ｂ、２０ｃについては、アパーチャ部２０を代表として説明する場合があり、開口部２１、２１ｃについては、開口部２１を代表として説明する場合があり、受光素子２３、２３ａ、２３ｂ、２３ｃについては、受光素子２３を代表として説明する場合がある。

また、上述したようにアパーチャ部２０における受光素子２３形成方法は、アパーチャ本体部２２の表面に硬化性樹脂や接着剤を塗布し受光素子２３を貼り付ける方法、ネジ等により固定する方法があるが、これ以外にも、アパーチャ本体部２２の表面に直接受光素子２３を成膜することにより形成する方法がある。

（受光素子）
次に、アパーチャ部において受光素子を直接成膜することにより形成する方法について説明する。ステンレス等からなる基板を用いたアパーチャ部の作製方法としては、例えば、最初にステンレス等からなる基板に開口部２１を形成し、受光素子を形成する方法と、ステンレス等からなる基板上に受光素子を形成した後、開口部２１を形成する方法等がある。以下、これらの場合における受光素子の形成方法について、図４及び図５に基づき説明する。

アパーチャ部における受光素子は、図４（ａ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にＣｒ（クロム）からなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）層５２を形成し、ｎ型ａ−Ｓｉ層５２上の一部に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる上部電極５９を形成した構造のものである。

また、図４（ｂ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ層５２及びｐ型ａ−Ｓｉ層５３を積層形成し、ｐ型ａ−Ｓｉ層５３上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図４（ｃ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にクロムからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ層５２、ｉ型Ｓｉ層５４及びｐ型ａ−Ｓｉ層５３を積層形成し、ｐ型ａ−Ｓｉ層５３上の一部に、ＳｎＯ_２（酸化錫）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

尚、ｎ型ａ−Ｓｉ層５２、ｐ型ａ−Ｓｉ層５３及びｉ型ａ−Ｓｉ層５４は、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）により形成されており、原料ガスとしてＳｉＨ_４を用いて、必要に応じてｎ型またはｐ型となる不純物がドープされている。

下部電極５１及び上部電極５９は、Ｃｒ、ＩＴＯ、Ａｕ、ＳｎＯ_２以外にも、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等の他の導電性金属材料または導電性金属酸化物材料を用いてもよい。また、下部電極５１及び上部電極５９は、真空蒸着やスパッタリング等の方法により形成することができる。

また、基板５０は、ステンレス以外にもＮｉ（ニッケル）等の金属材料や耐熱性セラミックス、耐熱性プラスチック等を用いてもよく、表面に酸化膜形成等の表面処理を行なってもよい。

また、図５（ａ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｐ型ｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）層５５及びｎ＋型ｐ−Ｓｉ層５６を積層形成し、ｎ＋型ｐ−Ｓｉ層５６上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図５（ｂ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｐ型ｃ−Ｓｉ（単結晶シリコン）層５７及びｎ＋型ｃ−Ｓｉ層５８を積層形成し、ｎ＋型ｃ−Ｓｉ層５８上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図５（ｃ）に示すように、ステンレスからなる基板５０上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上に、ｎ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６１、ｎ型ｃ−Ｓｉ層６２及びｐ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６３を積層形成し、ｐ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６３上の一部に、ＳｎＯ_２（酸化錫）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

更に、アパーチャ部は面発光レーザ１０からの光を透過する透明な基板７１を用いた構造のものであってもよい。具体的には、このようなアパーチャ部の形成方法としては、例えば、ガラス等の透明な基板７１上に開口部２１となる領域にメタル等からなるマスクを設置し、受光素子を形成した後、メタル等からなるマスクを除去することにより開口部２１を形成する方法と、ガラス等の透明な基板７１上に、受光素子を形成した後、フォトレジストを塗布し、露光装置による露光、現像を行なうことにより、開口部２１となる領域に開口を有するレジストパターンを形成し、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）等により、レジストパターンの形成されていない領域の受光素子を除去することにより開口部２１を形成する方法等がある。以下、これらの場合における受光素子の形成方法について、図６及び図７に基づき説明する。

例えば、アパーチャ部における受光素子は、図６（ａ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にＣｒ（クロム）からなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）層５２を形成し、ｎ型ａ−Ｓｉ層５２上の一部に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる上部電極５９を形成した構造のものである。

また、図６（ｂ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ層５２及びｐ型ａ−Ｓｉ層５３を積層形成し、ｐ型ａ−Ｓｉ層５３上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図６（ｃ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にクロムからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｎ型ａ−Ｓｉ層５２、ｉ型Ｓｉ層５４及びｐ型ａ−Ｓｉ層５３を積層形成し、ｐ型ａ−Ｓｉ層５３上の一部に、ＳｎＯ_２（酸化錫）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、透明な基板７１は、ガラス以外にも透明な無機材料または有機材料を用いてもよい。

また、図７（ａ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｐ型ｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）層５５及びｎ＋型ｐ−Ｓｉ層５６を積層形成し、ｎ＋型ｐ−Ｓｉ層５６上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図７（ｂ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上にｐ型ｃ−Ｓｉ（単結晶シリコン）層５７及びｎ＋型ｃ−Ｓｉ層５８を積層形成し、ｎ＋ｃ−Ｓｉ層５８上の一部に、Ａｕ（金）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

また、図７（ｃ）に示すように、ガラスからなる透明な基板７１上にＣｒからなる下部電極５１を形成し、下部電極５１上に、ｎ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６１、ｎ型ｃ−Ｓｉ層６２及びｐ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６３を積層形成し、ｐ型またはｉ型ａ−Ｓｉ層６３上の一部に、ＳｎＯ_２（酸化錫）からなる上部電極５９を形成した構造のものでもよい。

図６及び図７に示すアパーチャ部では、透明な基板７１を用いているため、受光素子が形成されている領域では光が透過することがないように、下部電極５１及び上部電極５９のどちらか一方、または、双方が光を透過しない材料により形成されている。具体的には、このような材料としては、金属材料が好ましく、更には、遮光するための材料としてよく用いられているＣｒが、より好ましい。これにより受光素子が形成された領域では光が遮られ、受光素子が形成されていない領域がレーザ光を透過する開口部２１となる。

上述した受光素子では、半導体材料としてＳｉを用いたものについて説明したが、これ以外の半導体材料としてＩｎＧａＡｓ系、ＧａＡｓ系等の化合物半導体材料を用いてもよい。但し、これらの化合物半導体材料は高価であることから、コスト面からはシリコンを用いることが好ましい。

（アパーチャ部の設置方法）
次に、アパーチャ部２０において受光素子が２以上に分割されている場合において、アパーチャ部２０の設置方法について説明する。受光素子が２以上に分割されている場合とは、例えば、図３（ｃ）に示すアパーチャ部２０ｂのように、受光素子２３ｂが受光素子２３ｂ１と受光素子２３ｂ２と２つに分割されている場合であり、以下、この場合における設置方法について説明する。尚、受光素子２３ｂ１及び受光素子２３ｂ２からは各々独立して受光量に応じた検出信号を取り出すことができ、受光素子２３ｂ１からの検出信号を検出信号Ａとし受光素子２３ｂ２からの検出信号を検出信号Ｂとし、検出信号Ａと検出信号Ｂとの差をとるための演算回路４１が設けられている。尚、演算回路４１は、書き込み制御部３０の内部等に設けられている。

図８（ａ）に示すように、アパーチャ部２０ｂの受光素子２３ｂに面発光レーザ素子から出射された光により光スポット４０が形成されている場合において、光スポットの中心が受光素子２３ｂ１側にずれて照射されている場合、検出信号Ａ−検出信号Ｂの値は、正となり光スポット４０の中心が、図面において左側にずれていることがわかる。また、図８（ｂ）に示すように、光スポットの中心が受光素子２３ｂ２側にずれて照射されている場合、検出信号Ａ−検出信号Ｂの値は、負となり光スポット４０の中心が図面において右側にずれていることがわかる。このため検出信号Ａ−検出信号Ｂの値が０となるように、面発光レーザに対するアパーチャ部２０ｂの位置を調節することにより、図８（ｃ）に示すように、光スポットの中心４０が受光素子２３ｂ１と受光素子２３ｂ２との間の中心の位置に合わせることができる。

図８は、図面において、受光素子２３ｂが左右に分割されているアパーチャ部２０ｂの場合であるが、図９（ａ）に示すように、図面において、受光素子２３ｄが受光素子２３ｄ１と受光素子２３ｄ２とに上下に分割されているアパーチャ部の場合についても、同様の方法により位置合せを行なうことができる。

また、図９（ｂ）に示すように、受光素子を受光素子２３ｅ１、受光素子２３ｅ２、受光素子２３ｅ３及び受光素子２３ｅ４と上下左右に４つに分割し、受光素子２３ｅ１、受光素子２３ｅ２、受光素子２３ｅ３及び受光素子２３ｅ４において検出された検出信号Ａ、検出信号Ｂ、検出信号Ｃ及び検出信号Ｄを用い演算回路４１において、相互の差をとることにより、光スポット４０の上下左右における位置合せを容易に行なうことができる。

このように、受光素子が分割されている場合には、演算回路４１において各々の受光素子における検出信号の差をとることにより、アパーチャ部２０と面発光レーザ１０との相対的な位置合せを容易に行なうことができ、高性能な面発光レーザモジュールを得ることができる。

次に、アパーチャ部の位置合せ方法について説明する。具体的には、一例として、図１０に示すように、アパーチャ部２０ｂの位置合せ方法としては、調整用治具３０１を用いる方法がある。調整用治具３０１には、板バネ３０２と調整ネジ３０３が設けられており、アパーチャ部２０ｂを板バネ３０２と調整ネジ３０３との間に設置し、面発光レーザ素子１０における面発光レーザを発光させた状態で、受光素子２３ｂ１からの検出信号と受光素子２３ｂ２からの検出信号との差が０になるように調整ネジ３０３を回すことにより位置合せを行なう。このようにして受光素子２３ｂ１からの検出信号と受光素子２３ｂ２からの検出信号との差が０となった位置で、硬化性樹脂等により不図示のパッケージ等に固定する。また、パッケージは上述した調整用治具３０１を備えているものであってもよく、この場合には、アパーチャ部２０ｂは調整用治具３０１に固定される。尚、この調整用治具３０１は、位置調整部に相当するものである。

次に、図１１に基づき、複数の面発光レーザを有する面発光レーザアレイが形成された面発光レーザ素子１０において、複数の受光素子が設けられているアパーチャ部の位置合せ方法について説明する。複数の受光素子が設けられたアパーチャ部としては、上述したように、例えば、図３（ｃ）に示すアパーチャ部２０ｂのように、受光素子２３ｂが受光素子２３ｂ１と受光素子２３ｂ２と２つ設けられている場合があり、以下、この場合について説明する。

面発光レーザ素子１０において複数の面発光レーザが副走査方向に沿って配列されており、アパーチャ部２０ｂにおける開口部２１は、これらの面発光レーザの配列に沿って、即ち、副走査方向に沿って長く伸びるように形成されている。この場合、所望の位置にアパーチャ部２０ｂが配置されていれば、図１１（ａ）に示すように、受光素子２３ｂ１と受光素子２３ｂ２との間の開口部２１の中心に沿って、複数の面発光レーザにより形成される光スポット４０ａ、４０ｂ及び４０ｃの中心が位置する。

ところで、図１１（ｂ）に示すように、アパーチャ部２０ｂが面発光レーザ素子１０に対して回転ズレを生じている場合、検出信号Ａと検出信号Ｂとの差をとり、Ａ−Ｂ＝０となるように調節しただけでは、回転ズレを解消することはできない。即ち、光スポット４０ａでは、受光素子２３ｂ１よりも受光素子２３ｂ２における検出信号が多く、Ａ−Ｂ＜０となり、光スポット４０ｃでは、受光素子２３ｂ１よりも受光素子２３ｂ２における検出信号が少ないため、Ａ−Ｂ＞０となるが、光スポット４０ａにおける検出信号と光スポット４０ｃにおける検出信号とが相殺されるため、回転ずれが生じている場合においても、全体としてＡ−Ｂ＝０となるからである。

この場合、演算回路４１において検出信号Ａと検出信号Ｂとの和をとることにより、回転ズレを調節することが可能である。具体的には、Ａ＋Ｂが最小となるように、アパーチャ部２０ｂを矢印Ｒに示す方向に回転させることにより、回転ズレを解消させることができる。

（面発光レーザモジュール）
次に、本実施の形態における面発光モジュールについて説明する。本実施の形態における面発光レーザモジュールは、面発光レーザ素子１０と受光素子の形成されたアパーチャ部とを有している。

図１２に基づき本実施の形態における面発光レーザモジュールについて説明する。図１２（ａ）は、本実施の形態における面発光レーザモジュールの断面図であり、図１２（ｂ）は、アパーチャ部の上面図である。

この面発光レーザモジュールは、セラミックス等からなる凹部の形成されたパッケージ８０と、面発光レーザ素子１０と、ガラスからなる透明な基板７１に受光素子７２が形成されたアパーチャ部７０を有している。受光素子７２形成されている領域のアパーチャ部７０の構造は、図６または図７に示す構造のものである。また、パッケージ８０には凹部が設けられており凹部の底面８０ａには面発光レーザ素子１０が設置されている。面発光レーザ素子１０における面発光レーザの光の出射方向にはカバーガラスを兼ねたアパーチャ部７０が設置されている。アパーチャ部７０は、ガラス等からなる透明な基板７１上の所定の領域に受光素子７２が形成されており、受光素子７２の形成されていない領域が面発光レーザの光が通過する開口部７３となる。

アパーチャ部７０は、受光素子７２と面発光レーザ素子１０とが対向するように設置されており、開口部７３は、略長方形状に形成されており、副走査方向が開口部７３の長手方向となるように設置されている。また、受光素子７２からは電極端子７４が引出されており、はんだバンプ８１を介してパッケージ８０と接続され、ワイヤによりパッケージ８０内部に配線されている。よって、受光素子７２により検出された信号はワイヤ及びパッケージ８０の外側に設けられた端子を介しパッケージ８０の外側に出力される。

パッケージ８０を構成する材料は、セラミックス以外にもプラスチックを用いてもよく、ガラスからなる透明な基板７１の表面には、基板７１からの表面反射を防止し、面発光レーザの戻り光による特性の低下を防止するため、表面にＡＲコート（Anti Reflection Coat）がされていることが好ましい。また、電極端子７４からの配線はフレキシブル基板等を用いてもよい。

また、本実施の形態における面発光レーザモジュールは、図１３に示す構造のものであってもよい。図１３（ａ）は、本実施の形態における面発光レーザモジュールの断面図であり、図１３（ｂ）は、アパーチャ部の上面図である。

この面発光レーザモジュールは、セラミックス等からなる凹部の形成されたパッケージ８０と、面発光レーザ素子１０と、基板５０に受光素子７２が形成されたアパーチャ部７５を有している。受光素子７２形成されている領域のアパーチャ部７５の構造は、図４または図５に示す構造のものである。

アパーチャ部７５が、受光素子７２と面発光レーザ素子１０とが対向するように設置されている。アパーチャ部７５は、面発光レーザからの光が通過する開口部７７が設けられており、開口部７７を除く基板５０上の所定の領域に受光素子７２が形成されている。開口部７７は、略長方形状に形成されており、副走査方向が開口部７７の長手方向となるように設置されている。また、面発光レーザ素子１０が設けられている側と反対側の基板５０の表面には、開口部７７を覆うように透明なカバーガラス７８が設けられている。更に、受光素子７２からは電極端子７４が引出されており、はんだバンプ８１を介してパッケージ８０と接続され、ワイヤによりパッケージ８０内部に配線されている。よって、受光素子７２により検出された信号はワイヤ及びパッケージ８０の外側に設けられた端子を介しパッケージ８０の外側に出力される。

更に、本実施の形態における面発光レーザモジュールは、図１４に示す構造のものであってもよい。図１４（ａ）は、本実施の形態における面発光レーザモジュールの断面図であり、図１４（ｂ）は、アパーチャ部の上面図である。

この面発光レーザモジュールは、セラミックス等からなる凹部の形成されたパッケージ８０と、面発光レーザ素子１０と、パッケージ８０の上面に設置されるメタルキャップ８２と、メタルキャップ８２の面発光レーザの光が出射される側に設置されたガラスからなる透明な基板７１ａに受光素子７２が形成されたアパーチャ部７０ａを有している。アパーチャ部７０ａは、図６または図７に示す構造のものであり、メタルキャップ８２とアパーチャ部７０ａとは低融点ガラスにより接合されている。また、パッケージ８０のメタルキャップ８２と接続される側、即ち、面発光レーザ素子１０の設けられている側にはシーム溶接用のリング８３が設けられており、メタルキャップ８２はシーム溶接用のリング８３との間でシーム溶接されることにより接合される。アパーチャ部７０ａに設けられた電極端子７４はメタルキャップ８２の内部に設けられたフレキシブルケーブル８４の一方の側の端子とはんだ付けされており、他方の側の端子は、はんだバンプ８１を介してパッケージ８０と接続され、ワイヤによりパッケージ８０内部に配線されている。よって、受光素子７２により検出された信号はワイヤ及びパッケージ８０の外側に設けられた端子を介しパッケージ８０の外側に出力される。

アパーチャ部７０ａは、カバーガラスを兼ねており、ガラス等からなる透明な基板７１ａ上の所定の領域に受光素子７２が形成されており、受光素子７２の形成されていない領域が面発光レーザの光が通過する開口部７３となる。開口部７３は、略長方形状に形成されており、副走査方向が開口部７３の長手方向となるように設置されている。

メタルキャップ８２は、金属以外の材料を用いることも可能である。例えば、セラミックスやプラスチック等の材料を用いてもよい。この場合、外部からの粉塵等が侵入しないもの、面発光レーザ素子１０が酸素や水分の影響により劣化しない材料を用いることが好ましく、更には、パッケージ８０との接合方法もシーム溶接以外の方法により接合される。

また、メタルキャップ８２に接合されるアパーチャ部７０ａは、面発光レーザ素子１０における面発光レーザからの光が透明な基板７１の表面等において反射し戻り光として再び面発光レーザに入射することがないように、面発光レーザの光の出射方向に垂直となる面に対し傾いて設置されている。

尚、上述したアパーチャ部７０、７０ａ、７５は、図３に示されるアパーチャ部２０、２０ａ、２０ｂ、２０ｃに対応した構造により形成されているものである。また、アパーチャ本体部２２が透明な基板により構成されている場合には、開口部２１は形成されることなく、受光素子２３が形成されていない領域が開口部２１に相当し、この領域においては透明な基板を介し光が透過する。

（面発光レーザアレイ）
次に、本実施の形態における面発光レーザモジュールにおいて、面発光レーザ素子が複数の面発光レーザにより形成された面発光レーザアレイを有している場合について説明する。この面発光レーザアレイは、面発光レーザが２次元的に複数形成されているものである。

図１５に基づき、面発光レーザアレイ２００について説明する。この面発光レーザアレイ２００は、複数（ここでは２１個）の面発光レーザに対応している発光部２１０が同一基板上に配置されている。尚、Ｘ軸方向は主走査対応方向であり、Ｙ軸方向は副走査対応方向である。複数の発光部２１０は、すべての発光部２１０をＹ軸方向に伸びる仮想線上に正射影したときに等間隔ｄ２となるように配置されている。このようにして、２１個の発光部２１０は２次元的に配列されている。尚、本明細書では、「発光部間隔」とは２つの発光部２１０の中心間距離を意味する。また、図１５では発光部２１０の数が２１個であるものを示しているが、発光部２１０の個数は、複数であればよく、例えば、発光部２１０が４０個のものであってもよい。

また、面発光レーザアレイ２００では、各発光部を副走査対応方向に延びる仮想線上に正射影したときの発光部間隔が等間隔ｄ２であるので、点灯のタイミングを調整することにより、後述する感光体ドラム上において副走査方向に等間隔で発光部が並んでいる場合と同様な構成と捉えることができる。

そして、例えば、上記間隔ｄ２を２．６５μｍ、後述する光走査装置の光学系の倍率を２倍とすれば、４８００ｄｐｉ（ドット／インチ）の高密度書込みができる。もちろん、主走査対応方向の発光部数を増加したり、副走査対応方向のピッチｄ１を狭くして間隔ｄ２を更に小さくした構成のアレイ配置としたり、光学系の倍率を下げる等を行えばより高密度化することが可能であり、より高品質の印刷が可能となる。なお、主走査方向の書き込み間隔は、発光部の点灯のタイミングで容易に制御できる。

ところで、本実施の形態における面発光レーザアレイ２００において、隣接する２つの発光部２１０の間の溝は、各発光部の電気的及び空間的分離のために、５μｍ以上であることが好ましい。あまり狭いと製造時のエッチングの制御が難しくなるからである。また、メサの大きさ（１辺の長さ）は１０μｍ以上であることが好ましい。あまり小さいと動作時に熱がこもり、特性が低下するおそれがあるからである。

また、上述した２次元的に面発光レーザが配列された面発光レーザアレイ２００に代えて、発光部２１０となる本実施の形態における面発光レーザを１次元配列した面発光レーザアレイを用いてもよい。

〔第２の実施の形態〕
次に、第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを用いた画像形成装置としてのレーザプリンタ１０００である。

図１６に基づき、本実施の形態におけるレーザプリンタ１０００について説明する。本実施の形態におけるレーザプリンタ１０００は、光走査装置１０１０、感光体ドラム１０３０、帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４、クリーニングユニット１０３５、トナーカートリッジ１０３６、給紙コロ１０３７、給紙トレイ１０３８、レジストローラ対１０３９、定着ローラ１０４１、排紙ローラ１０４２、排紙トレイ１０４３、通信制御装置１０５０、及び上記各部を統括的に制御するプリンタ制御装置１０６０等を備えている。なお、これらは、プリンタ筐体１０４４の中の所定位置に収容されている。

通信制御装置１０５０は、ネットワークなどを介した上位装置（例えばパソコン）との双方向の通信を制御する。

感光体ドラム１０３０は、円柱状の部材であり、その表面には感光層が形成されている。すなわち、感光体ドラム１０３０の表面が被走査面である。そして、感光体ドラム１０３０は、矢印Ｘで示す方向に回転するようになっている。

帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４及びクリーニングユニット１０３５は、それぞれ感光体ドラム１０３０の表面近傍に配置されている。そして、感光体ドラム１０３０の回転方向に沿って、帯電チャージャ１０３１→現像ローラ１０３２→転写チャージャ１０３３→除電ユニット１０３４→クリーニングユニット１０３５の順に配置されている。

帯電チャージャ１０３１は、感光体ドラム１０３０の表面を均一に帯電させる。

光走査装置１０１０は、帯電チャージャ１０３１で帯電された感光体ドラム１０３０の表面を、上位装置からの画像情報に基づいて変調された光束により走査し、感光体ドラム１０３０の表面に画像情報に対応した潜像を形成する。ここで形成された潜像は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って現像ローラ１０３２の方向に移動する。なお、この光走査装置１０１０の構成については後述する。

トナーカートリッジ１０３６にはトナーが格納されており、このトナーは現像ローラ１０３２に供給される。

現像ローラ１０３２は、感光体ドラム１０３０の表面に形成された潜像にトナーカートリッジ１０３６から供給されたトナーを付着させて画像情報を顕像化させる。ここでトナーが付着した潜像（以下では、便宜上「トナー像」ともいう）は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って転写チャージャ１０３３の方向に移動する。

給紙トレイ１０３８には記録紙１０４０が格納されている。この給紙トレイ１０３８の近傍には給紙コロ１０３７が配置されており、この給紙コロ１０３７は、記録紙１０４０を給紙トレイ１０３８から１枚づつ取り出し、レジストローラ対１０３９に搬送する。このレジストローラ対１０３９は、給紙コロ１０３７によって取り出された記録紙１０４０を一旦保持するとともに、この記録紙１０４０を感光体ドラム１０３０の回転に合わせて感光体ドラム１０３０と転写チャージャ１０３３との間隙に向けて送り出す。

転写チャージャ１０３３には、感光体ドラム１０３０の表面のトナーを電気的に記録紙１０４０に引きつけるために、トナーとは逆極性の電圧が印加されている。この電圧により、感光体ドラム１０３０の表面のトナー像が記録紙１０４０に転写される。ここで転写された記録紙１０４０は、定着ローラ１０４１に送られる。

定着ローラ１０４１では、熱と圧力とが記録紙１０４０に加えられ、これによってトナーが記録紙１０４０上に定着される。ここで定着された記録紙１０４０は、排紙ローラ１０４２を介して排紙トレイ１０４３に送られ、排紙トレイ１０４３上に順次スタックされる。

除電ユニット１０３４は、感光体ドラム１０３０の表面を除電する。

クリーニングユニット１０３５は、感光体ドラム１０３０の表面に残ったトナー（残留トナー）を除去する。残留トナーが除去された感光体ドラム１０３０の表面は、再度帯電チャージャ１０３１に対向する位置に戻る。

次に、図１７に基づき光走査装置１０１０について説明する。光走査装置１０１０は、光源ユニット１１００、不図示のカップリングレンズ及び開口板、シリンドリカルレンズ１１１３、ポリゴンミラー１１１４、ｆθレンズ１１１５、トロイダルレンズ１１１６、２つのミラー（１１１７、１１１８）、及び上記各部を統括的に制御する不図示の制御装置を備えている。尚、光源ユニット１１００は、第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを含む光源ユニット１１００が用いられている。

シリンドリカルレンズ１１１３は、光源ユニット１１００から出力された光を、ミラー１１１７を介してポリゴンミラー１１１４の偏向反射面近傍に集光する。

ポリゴンミラー１１１４は、高さの低い正六角柱状部材からなり、側面には６面の偏向反射面が形成されている。 そして、不図示の回転機構により、矢印Ｙに示す方向に一定の角速度で回転されている。

従って、光源ユニット１１００から出射され、シリンドリカルレンズ１１１３によってポリゴンミラー１１１４の偏向反射面近傍に集光された光は、ポリゴンミラー１１１４の回転により一定の角速度で偏向される。

ｆθレンズ１１１５は、ポリゴンミラー１１１４からの光の入射角に比例した像高をもち、ポリゴンミラー１１１４により一定の角速度で偏向される光の像面を、主走査方向に関して等速移動させる。トロイダルレンズ１１１６は、ｆθレンズ１１１５からの光をミラー１１１８を介して、感光体ドラム１０３０の表面に結像する。

トロイダルレンズ１１１６は、ｆθレンズ１１１５を介した光束の光路上に配置されている。そして、このトロイダルレンズ１１１６を介した光束が、感光体ドラム１０３０の表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー１１１４の回転に伴って感光体ドラム１０３０の長手方向に移動する。すなわち、感光体ドラム１０３０上を走査する。このときの光スポットの移動方向が「主走査方向」である。また、感光体ドラム１０３０の回転方向が「副走査方向」である。

ポリゴンミラー１１１４と感光体ドラム１０３０との間の光路上に配置される光学系は、走査光学系とも呼ばれている。本実施の形態では、走査光学系は、ｆθレンズ１１１５とトロイダルレンズ１１１６とから構成されている。なお、ｆθレンズ１１１５とトロイダルレンズ１１１６の間の光路上、及びトロイダルレンズ１１１６と感光体ドラム１０３０の間の光路上の少なくとも一方に、少なくとも１つの折り返しミラーが配置されてもよい。

本実施の形態におけるレーザプリンタ１０００では、第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを用いているため、レーザプリンタ１０００では書きこみドット密度が上昇しても印刷速度を落とすことなく印刷することができる。また、同じ書きこみドット密度の場合には印刷速度を更に速くすることができる。

また、この場合には、各発光部からの光束の偏光方向が安定して揃っているため、レーザプリンタ１０００では、高品質の画像を安定して形成することができる。

尚、本実施の形態における説明では、画像形成装置としてレーザプリンタ１０００の場合について説明したが、これに限定されるものではない。

例えば、レーザ光によって発色する媒体（例えば、用紙）に直接、レーザ光を照射する画像形成装置であってもよい。

また、像担持体として銀塩フィルムを用いた画像形成装置であっても良い。この場合には、光走査により銀塩フィルム上に潜像が形成され、この潜像は通常の銀塩写真プロセスにおける現像処理と同等の処理で可視化することができる。そして、通常の銀塩写真プロセスにおける焼付け処理と同等の処理で印画紙に転写することができる。このような画像形成装置は光製版装置や、ＣＴスキャン画像等を描画する光描画装置として実施できる。

〔第３の実施の形態〕
次に、第３の実施の形態について説明する。第３の実施の形態は、複数の感光体ドラムを備えるカラープリンタ２０００である。

図１８に基づき、本実施の形態におけるカラープリンタ２０００について説明する。本実施の形態におけるカラープリンタ２０００は、４色（ブラック、シアン、マゼンタ、イエロー）を重ね合わせてフルカラーの画像を形成するタンデム方式の多色カラープリンタであり、ブラック用の「感光体ドラムＫ１、帯電装置Ｋ２、現像装置Ｋ４、クリーニングユニットＫ５、及び転写装置Ｋ６」と、シアン用の「感光体ドラムＣ１、帯電装置Ｃ２、現像装置Ｃ４、クリーニングユニットＣ５、及び転写装置Ｃ６」と、マゼンタ用の「感光体ドラムＭ１、帯電装置Ｍ２、現像装置Ｍ４、クリーニングユニットＭ５、及び転写装置Ｍ６」と、イエロー用の「感光体ドラムＹ１、帯電装置Ｙ２、現像装置Ｙ４、クリーニングユニットＹ５、及び転写装置Ｙ６」と、光走査装置２０１０と、転写ベルト２０８０と、定着ユニット２０３０などを備えている。

各感光体ドラムは、図１８において示される矢印の方向に回転し、各感光体ドラムの周囲には、回転順にそれぞれ帯電装置、現像装置、転写装置、クリーニングユニットが配置されている。各帯電装置は、対応する感光体ドラムの表面を均一に帯電する。帯電装置によって帯電された各感光体ドラム表面に光走査装置２０１０により光が照射され、各感光体ドラムに潜像が形成されるようになっている。そして、対応する現像装置により各感光体ドラム表面にトナー像が形成される。さらに、対応する転写装置により、転写ベルト２０８０上の記録紙に各色のトナー像が転写され、最終的に定着ユニット２０３０により記録紙に画像が定着される。

光走査装置２０１０は、第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを含む光源ユニットを、各々の色毎に有しており、第２の実施の形態において説明した光走査装置１０１０と同様の効果を得ることができる。また、カラープリンタ２０００は、この光走査装置２０１０を備えているため、第２の実施の形態におけるレーザプリンタ１０００と同様の効果を得ることができる。

ところで、カラープリンタ２０００では、各部品の製造誤差や位置誤差等によって色ずれが発生する場合がある。このような場合であっても、光走査装置２０１０の各光源が第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを含む光源ユニットにより形成されているため、点灯させる発光部を選択することで色ずれを低減することができる。

よって、本実施の形態におけるカラープリンタ２０００では、第１の実施の形態における面発光レーザモジュールを用いているため、高品質の画像を形成することができる。

以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。

１０ 面発光レーザ素子
１１ 発光領域
２０ アパーチャ部
２１ 開口部
２２ アパーチャ本体部
２３ 受光素子
２４ 電極端子
３０ 書き込み制御部
４０ 光スポット
４１ 演算回路
８０ パッケージ
１００ 面発光レーザモジュール
１０００ レーザプリンタ（画像形成装置）
１０１０ 光走査装置
２０００ カラープリンタ（画像形成装置）

特開平８−３３０６６１号公報 特開２００７−２９８５６３号公報 特開平１０−３０３５１３号公報 特開平６−３０９６８５号公報

Claims (15)

1. 基板上に面発光レーザが形成されている面発光レーザ素子と、
   前記面発光レーザ素子を設置するためのパッケージと、
   前記面発光レーザの出射側に設けられたアパーチャ部と、
   を有し、前記アパーチャ部は、前記面発光レーザの光が通過する開口部と、前記開口部が設けられていない領域に形成された受光素子と、を有しており、
   前記開口部は、長方形状に形成されているものであることを特徴とする面発光レーザモジュール。
2. 前記受光素子は、２以上に分割されていることを特徴とする請求項１に記載の面発光レーザモジュール。
3. ２以上に分割された前記受光素子における差信号または差信号と和信号を算出するための演算回路を有していることを特徴とする請求項２に記載の面発光レーザモジュール。
4. 前記面発光レーザ素子と、前記アパーチャ部とを調整するための位置調整部を有することを特徴とする請求項２または３に記載の面発光レーザモジュール。
5. 前記受光素子は下部電極と半導体層と上部電極とが積層形成された構造のものであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
6. 前記面発光レーザモジュールは光走査のための光源として用いられるものであって、
   前記開口部は、主走査方向、または、副走査方向のいずれか一方が長手方向となるものであることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
7. 前記アパーチャ部は、前記開口部が形成された光を透過しない基板の一方の面に前記受光素子が形成されており、
   前記一方の面は前記面発光レーザ素子に対向する面であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
8. 前記アパーチャ部は、透明な基板上に前記受光素子が形成されており、
   前記受光素子の形成されていない領域により、前記開口部が形成されるものであることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
9. 前記下部電極及び前記上部電極のいずれか一方、また、前記下部電極及び前記上部電極の双方は、金属材料により形成されていることを特徴とする請求項８に記載の面発光レーザモジュール。
10. 前記金属材料はクロムであることを特徴とする請求項９に記載の面発光レーザモジュール。
11. 前記アパーチャ部は、前記面発光レーザ素子の出射面に対して傾いた角度で設置されていることを特徴とする請求項８から１０のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
12. 前記面発光レーザ素子には、前記面発光レーザがアレイ状に複数形成されているものであることを特徴とする請求項１から１１のいずれかに記載の面発光レーザモジュール。
13. 光によって被走査面を走査する光走査装置であって、
    請求項１から１２のいずれかに記載の面発光レーザモジュールを有する光源と、
    前記光源からの光を偏向する光偏向部と、
    前記光偏向部により偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と、
    を有することを特徴とする光走査装置。
14. 像担持体と、
    前記像担持体に対して画像情報に応じて変調された光を走査する請求項１３に記載の光走査装置と、
    を有することを特徴とする画像形成装置。
15. 前記像担持体は複数であって、前記画像情報は、多色のカラー情報であることを特徴とする請求項１４に記載の画像形成装置。

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