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JP2012008684A - Memory module and semiconductor memory device - Google Patents

Memory module and semiconductor memory device Download PDF

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JP2012008684A
JP2012008684A JP2010142437A JP2010142437A JP2012008684A JP 2012008684 A JP2012008684 A JP 2012008684A JP 2010142437 A JP2010142437 A JP 2010142437A JP 2010142437 A JP2010142437 A JP 2010142437A JP 2012008684 A JP2012008684 A JP 2012008684A
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Japan
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control signal
capacity
semiconductor memory
memory module
wiring
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Application number
JP2010142437A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumiyuki Osanai
文由紀 長内
Toshio Kanno
利夫 管野
Atsushi Hiraishi
厚 平石
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Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a memory module for preventing malfunction due to the mismatching of the timing of an address signal and a control signal.SOLUTION: A memory module includes: a plurality of semiconductor memory devices divided into a plurality of ranks as units for inputting/outputting data; address signal wiring to which the semiconductor memory devices in all the ranks are serially connected as wiring for supplying an address signal input from the outside to the semiconductor memory devices; control signal wiring to which the semiconductor memory devices are serially connected by rank units as wiring for supplying a control signal input from the outside to the semiconductor memory devices; and a capacity part installed in association with each of the semiconductor memory devices connected to the control signal wiring, and equipped with a capacity which is equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (the number of ranks minus 1).

Description

本発明はメモリモジュール及び該メモリモジュールに搭載される半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a memory module and a semiconductor memory device mounted on the memory module.

近年のパーソナルコンピュータやワークステーションサーバコンピュータ等の情報処理装置では、CPUによる処理の高速化や処理ビット数の増大に伴って膨大なデータの処理が要求され、必要となる主記憶装置の記憶容量も増大している。そのため、情報処理装置の主記憶装置には、SIMM(Single Inline Memory Module)、DIMM(Dual Inline Memory Module)、あるいはMCP(Multi Chip Package)等のメモリモジュールが用いられる。   In recent information processing devices such as personal computers and workstation server computers, processing of enormous data is required as the processing speed by the CPU and the number of processing bits increase, and the required storage capacity of the main storage device is also required. It is increasing. Therefore, a memory module such as a single inline memory module (SIMM), a dual inline memory module (DIMM), or a multi chip package (MCP) is used as the main storage device of the information processing apparatus.

このメモリモジュールのデータ転送速度や信頼性等を向上させる技術として、メモリモジュールとメモリコントローラとを双方向のシリアルインターフェイスで接続し、メモリ制御用のコマンドやデータの転送を可能にするAMB(Advanced Memory Buffer)が知られている。例えば、特許文献1には、メモリモジュールの入出力端子とメモリモジュールに搭載された各半導体記憶装置に対する制御信号用の配線(以下、制御信号配線と称す)やアドレス信号用の配線(以下、アドレス信号配線と称す)との間に上記AMBに対応するバッファを備え、メモリモジュールの入出力端子とデータバス用の配線との間に直列・並列変換を行うコンバータを備えた構成が記載されている。   As a technology for improving the data transfer speed and reliability of the memory module, the memory module and the memory controller are connected by a bi-directional serial interface, and an AMB (Advanced Memory) that enables the transfer of memory control commands and data. Buffer) is known. For example, Patent Document 1 discloses a control signal wiring (hereinafter referred to as a control signal wiring) and an address signal wiring (hereinafter referred to as an address) for each of the semiconductor memory devices mounted on the memory module. A configuration is described in which a buffer corresponding to the AMB is provided between the input and output terminals of the memory module and a converter that performs serial / parallel conversion between the input and output terminals of the memory module and the data bus wiring. .

国際公開第99/00734号パンフレットWO99 / 00734 pamphlet

メモリモジュールでは、搭載された複数の半導体記憶装置に対して、ランクと呼ばれる単位でデータが入出力される。例えば4ランクのメモリモジュールでは、搭載された全半導体記憶装置が4つのランクに区分けされ、該ランク単位でメモリコントローラによりデータの書き込み・読み出しが制御される。メモリコントローラは、チップセレクト信号を用いて、データの書き込み・読み出しを行うランクの半導体記憶装置を指定し、該指定した半導体記憶装置に対して所要のコマンドを出力する。すなわち、メモリモジュールに搭載された各半導体記憶装置にはランク単位で制御信号が供給される。ここで、メモリモジュール内では、指定されたランク以外の半導体記憶装置は動作しないため、アドレスバスやデータバスを全ランクで共用することで、メモリモジュールの基板(モジュール基板)に形成する配線数を低減している。   In the memory module, data is input / output in units called ranks with respect to a plurality of mounted semiconductor memory devices. For example, in a four-rank memory module, all mounted semiconductor memory devices are divided into four ranks, and data writing / reading is controlled by the memory controller in units of the rank. The memory controller uses a chip select signal to designate a rank semiconductor memory device to which data is written / read, and outputs a required command to the designated semiconductor memory device. That is, a control signal is supplied in rank units to each semiconductor memory device mounted on the memory module. Here, since the semiconductor memory devices other than the designated rank do not operate in the memory module, the number of wirings formed on the memory module substrate (module substrate) can be reduced by sharing the address bus and the data bus with all ranks. Reduced.

ところで、AMB技術を採用したメモリモジュールでは、アドレス信号及び制御信号に対応してそれぞれAMB用のバッファが設けられる。上述したようにアドレス信号配線は全ランクで共用されるため、図10(a)に示すようにアドレス信号配線1には全ランクの半導体記憶装置が縦列接続される。図10(a)に示す例では、半導体記憶装置としてDRAMが用いられ、負荷となるDRAMの数(DRAM負荷数)は20である。一方、制御信号はランク単位で供給されるため、図10(b)に示すように制御信号配線2には制御対象のランクの半導体記憶装置のみが縦列接続される。図10(b)に示す例では、負荷となるDRAMの数(DRAM負荷数)は5である。なお、図10(a)に示すR0〜R3はランク0〜3を意味し、図10(b)に示すR0はランク0を意味する。また、図10(a)、(b)に示すBufferはAMB用のバッファであり、Rttは信号の反射を低減するための終端抵抗である。図10(a)、(b)は、ランクR0〜R3として用いられる4つのメモリチップ(DRAMチップ)が1つのパッケージに収容されたDRAM0〜4が、モジュール基板に搭載されたメモリモジュールを例示している。   By the way, in the memory module adopting the AMB technique, an AMB buffer is provided corresponding to each of the address signal and the control signal. As described above, since address signal wiring is shared by all ranks, semiconductor memory devices of all ranks are cascade-connected to address signal wiring 1 as shown in FIG. In the example shown in FIG. 10A, a DRAM is used as the semiconductor memory device, and the number of DRAMs serving as loads (the number of DRAM loads) is 20. On the other hand, since the control signal is supplied in units of ranks, only the semiconductor memory devices of the rank to be controlled are connected in cascade to the control signal wiring 2 as shown in FIG. In the example shown in FIG. 10B, the number of DRAMs that serve as loads (the number of DRAM loads) is five. In addition, R0 to R3 shown in FIG. 10 (a) means ranks 0 to 3, and R0 shown in FIG. 10 (b) means rank 0. Also, Buffer shown in FIGS. 10A and 10B is an AMB buffer, and Rtt is a termination resistor for reducing signal reflection. 10A and 10B illustrate a memory module in which DRAM 0 to 4 in which four memory chips (DRAM chips) used as ranks R0 to R3 are housed in one package are mounted on a module substrate. ing.

したがって、アドレス信号配線1と制御信号配線2とでは、各々の配線長がほぼ同一であっても負荷容量が異なり、接続されるDRAM負荷数に応じて信号の伝搬遅延時間に差が生じる。特に、縦列接続されたDRAMのうち、上記AMB用のバッファからより遠い位置で接続される後段のDRAMほど、アドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差が大きくなる。   Therefore, the address signal wiring 1 and the control signal wiring 2 have different load capacities even if the wiring lengths are almost the same, and a difference occurs in the signal propagation delay time depending on the number of connected DRAM loads. In particular, among the cascaded DRAMs, the difference in the propagation delay time between the address signal and the control signal becomes larger as the subsequent DRAM connected at a position farther from the AMB buffer.

例えば、図11に示すように、バッファに最も近いDRAM0に対するアドレス信号の伝搬遅延時間Ta0と制御信号の伝搬遅延時間Tb0の差と、バッファから最も遠いDRAM4に対するアドレス信号の伝搬遅延時間Ta4と制御信号の伝搬遅延時間Tb4の差とを比べると、Ta0とTb0の差よりもTa4とTb4の差が非常に大きいことが分かる。この伝搬遅延時間の差は、メモリモジュールに搭載される各DRAMが高速化するほど、その動作に大きく影響するため、メモリモジュールのさらなる高速化を目指す場合に大きな問題となる。すなわち、半導体記憶装置が高速化するほど、伝搬遅延時間の差に伴ってタイミングマージンが低下するため、アドレス信号と制御信号のタイミングの不一致に起因する誤動作の可能性が高くなる。   For example, as shown in FIG. 11, the difference between the propagation delay time Ta0 of the address signal for the DRAM 0 closest to the buffer and the propagation delay time Tb0 of the control signal, the propagation delay time Ta4 of the address signal for the DRAM 4 furthest from the buffer, and the control signal When the difference in propagation delay time Tb4 is compared, it can be seen that the difference between Ta4 and Tb4 is much larger than the difference between Ta0 and Tb0. This difference in propagation delay time becomes a serious problem when aiming at further speeding up of the memory module because the operation of the DRAM increases as the speed of each DRAM mounted on the memory module increases. That is, as the speed of the semiconductor memory device increases, the timing margin decreases with the difference in the propagation delay time, so that the possibility of malfunction due to the timing mismatch between the address signal and the control signal increases.

誤動作を防止するために、例えば最も遅れて到着する信号の伝搬遅延時間を考慮して、ランク毎に各半導体記憶装置の動作タイミングを決定する手法も考えられる。しかしながら、そのような手法は、半導体記憶装置としてクロックに同期して動作するSDRAM(Synchronous DRAM)等を用いると、1クロック周期〜数クロック周期の期間で動作を停止させる必要があり、高速化に逆行することになるため、採用し難い。   In order to prevent malfunction, for example, a method of determining the operation timing of each semiconductor memory device for each rank in consideration of the propagation delay time of the signal that arrives the latest can be considered. However, in such a technique, when an SDRAM (Synchronous DRAM) or the like that operates in synchronization with a clock is used as a semiconductor memory device, it is necessary to stop the operation in a period of one clock cycle to several clock cycles. It will be retrograde and difficult to adopt.

本発明のメモリモジュールは、データを入出力する単位である複数のランクに区分けされた複数の半導体記憶装置と、
全ランクの前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力されたアドレス信号を該半導体記憶装置に供給するための配線であるアドレス信号配線と、
前記ランク単位で前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力された制御信号を該半導体記憶装置に供給するための配線である制御信号配線と、
前記制御信号配線と接続された各半導体記憶装置に対応して設けられた、前記半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量を持つ容量部と、
を有することを特徴とする。
A memory module of the present invention includes a plurality of semiconductor memory devices divided into a plurality of ranks, which are units for inputting and outputting data,
Address signal wiring that is a wiring for supplying an externally input address signal to the semiconductor memory device, in which the semiconductor memory devices of all ranks are connected in cascade;
Control signal wiring that is a wiring for supplying a control signal input from the outside to the semiconductor storage device, the semiconductor storage devices being connected in cascade in the rank unit;
A capacity unit provided corresponding to each semiconductor memory device connected to the control signal wiring and having a capacity equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (rank number-1);
It is characterized by having.

上記のようなメモリモジュールでは、アドレス信号配線の負荷容量と制御信号配線の負荷容量との差に等しい、半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量を持つ容量部が、各半導体記憶装置に対応して制御信号配線に設けられているため、制御信号の伝搬遅延時間が増大して、負荷容量の差に起因して発生するアドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減できる。   In the memory module as described above, a capacity unit having a capacity equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (rank number-1) equal to the difference between the load capacity of the address signal wiring and the load capacity of the control signal wiring However, since the control signal wiring is provided corresponding to each semiconductor memory device, the propagation delay time of the control signal increases and the propagation delay time of the address signal and the control signal generated due to the difference in load capacitance Can be reduced.

本発明によれば、アドレス信号と制御信号のタイミングの不一致に起因する誤動作を防止できるメモリモジュールが得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a memory module that can prevent a malfunction caused by a mismatch in timing between an address signal and a control signal.

本発明のメモリモジュールの第1の実施の形態の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one structural example of 1st Embodiment of the memory module of this invention. 図1に示した容量パッドの配置例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of arrangement | positioning of the capacity | capacitance pad shown in FIG. 図1に示した容量パッドの配置例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of arrangement | positioning of the capacity | capacitance pad shown in FIG. 図1に示した容量パッドの配置例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of arrangement | positioning of the capacity | capacitance pad shown in FIG. 本発明のメモリモジュールの第2の実施の形態の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one structural example of 2nd Embodiment of the memory module of this invention. 半導体記憶装置の一構成例を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a configuration example of a semiconductor memory device. 本発明の半導体記憶装置が備える容量アレイ回路の一構成例を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a configuration example of a capacitor array circuit included in a semiconductor memory device of the present invention. 本発明のメモリモジュールの第3の実施の形態の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one structural example of 3rd Embodiment of the memory module of this invention. 図7に示した容量アレイ回路の設定例を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a setting example of the capacitor array circuit illustrated in FIG. 7. 背景技術のメモリモジュールにおけるDRAMの接続例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a connection of DRAM in the memory module of background art. 図10に示した配線における信号の伝搬遅延時間を示すグラフである。11 is a graph showing signal propagation delay time in the wiring shown in FIG. 10.

次に本発明について図面を用いて説明する。
(第1の実施の形態)
図1は本発明のメモリモジュールの第1の実施の形態の一構成例を示すブロック図であり、図2〜4は図1に示した容量パッドの配置例を示す模式図である。図1(a)はアドレス信号配線に対して負荷容量Cdieを備えた20台のDRAM(全ランク)が縦列接続された様子を示し、図1(b)は制御信号配線に対して負荷容量Cdieを備えた5台のDRAM(1ランク分)が縦列接続された様子を示している。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing an example of the configuration of the first embodiment of the memory module of the present invention, and FIGS. 2 to 4 are schematic views showing examples of the arrangement of the capacitor pads shown in FIG. FIG. 1A shows a state in which 20 DRAMs (all ranks) having a load capacitance Cdie are connected in series with address signal wiring, and FIG. 1B shows a load capacitance Cdie with respect to control signal wiring. 5 shows a state where five DRAMs (for one rank) are connected in cascade.

図1(b)に示すように、第1の実施の形態のメモリモジュールは、制御信号配線2に複数の容量パッド(Pad)10を接続し、該容量パッド10と該容量パッドPadが形成された配線層と隣接するプレーン層(例えば、Vddプレーン(Plane))間の寄生容量C_padにより制御信号の伝搬遅延時間を増大させ、アドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減する例である。容量パッド10は、例えばモジュール基板に搭載される各DRAMに対応して、該DRAMの近傍にて、制御信号配線2にそれぞれ接続される。   As shown in FIG. 1B, in the memory module of the first embodiment, a plurality of capacitance pads (Pad) 10 are connected to the control signal wiring 2, and the capacitance pad 10 and the capacitance pad Pad are formed. In this example, the propagation delay time of the control signal is increased by the parasitic capacitance C_pad between the adjacent wiring layer and the adjacent plane layer (for example, the Vdd plane (Plane)), and the difference between the propagation delay time of the address signal and the control signal is reduced. . The capacitor pad 10 is connected to the control signal wiring 2 in the vicinity of the DRAM, for example, corresponding to each DRAM mounted on the module substrate.

寄生容量C_padの値は、容量パッド10の面積で調整可能であり、例えば図1(a)、(b)に示す4ランク構成のメモリモジュールの場合、上述したようにDRAM1台当たりの負荷容量をCdieとすると、C_pad=3×Cdieに設定すればよい。すなわち、アドレス信号配線1の負荷容量と制御信号配線2の負荷容量とが一致するように、(ランク数−1)×Cdieに等しい容量C_padを持つ容量パッド10を、各DRAMに対応して制御信号配線2にそれぞれ接続すればよい。   The value of the parasitic capacitance C_pad can be adjusted by the area of the capacitance pad 10. For example, in the case of the memory module having a 4-rank configuration shown in FIGS. 1A and 1B, the load capacity per DRAM is set as described above. If Cdie, C_pad = 3 × Cdie may be set. In other words, the capacity pad 10 having the capacity C_pad equal to (rank number−1) × Cdie is controlled corresponding to each DRAM so that the load capacity of the address signal wiring 1 and the load capacity of the control signal wiring 2 match. What is necessary is just to connect to the signal wiring 2, respectively.

なお、図1(a)では、1つのアドレス信号配線1に対して全ランクのDRAMが接続された様子を示しているが、実際のメモリモジュールには複数のアドレス信号配線1が存在し、各アドレス信号配線1に全ランクのDRAMがそれぞれ接続されている。また、図1(b)では、1つの制御信号配線2に対してランク単位でDRAMが接続された様子を示しているが、実際のメモリモジュールには複数の制御信号配線2が存在し、各制御信号配線2にランク単位でDRAMがそれぞれ接続されている。さらに、図1(a)、(b)では、ランクR0〜R3として用いられる4つのDRAMチップが1つのパッケージに収容されたDRAM0〜4が、モジュール基板に搭載されたメモリモジュールを例示している。このことは、以下の第2の実施の形態及び第3の実施の形態においても同様である。   FIG. 1A shows a state in which DRAMs of all ranks are connected to one address signal wiring 1, but there are a plurality of address signal wirings 1 in an actual memory module. DRAMs of all ranks are connected to the address signal wiring 1. FIG. 1B shows a state in which DRAMs are connected to one control signal line 2 in units of ranks. However, an actual memory module has a plurality of control signal lines 2, DRAMs are connected to the control signal wiring 2 in rank units. Further, in FIGS. 1A and 1B, DRAM 0 to 4 in which four DRAM chips used as ranks R0 to R3 are accommodated in one package exemplify a memory module mounted on a module substrate. . The same applies to the following second and third embodiments.

図2〜図4に示すように、モジュール基板は、多層基板であり、DRAM等が搭載される表面層(Layer1)と、制御信号配線が形成される配線層(Layer2)と、電源Vddを供給するためのVddプレーン層(Layer3)とを備えている。   As shown in FIGS. 2 to 4, the module substrate is a multilayer substrate, and supplies a surface layer (Layer 1) on which DRAM or the like is mounted, a wiring layer (Layer 2) on which control signal wiring is formed, and a power supply Vdd. A Vdd plane layer (Layer 3).

図2は、DRAMが接続されるDRAM搭載パッド20の近傍で、制御信号配線2上に1つの容量パッド(Pad)10が配置される例を示している。ここで、該容量パッド10の長さをa1とし、幅をb1とし、配線層(Layer2)とVddプレーン層(Layer3)間の距離をhとしたとき、寄生容量C_padは、εr×ε0×((a1×b1)/h)で求めることができる。なお、ε0は真空の誘電率、εrは配線層(Layer2)とVddプレーン層(Layer3)間の媒質の比誘電率である。例えば、a1=6.78mm、b1=1mm、h=0.08mm、εr=4(ガラスエポキシ)とした場合、寄生容量C_padは、C_pad=4×8.854×10-12×((6.78×10-3×1×10-3)/0.08×10-3)=3pFとなる。 FIG. 2 shows an example in which one capacitor pad (Pad) 10 is arranged on the control signal wiring 2 in the vicinity of the DRAM mounting pad 20 to which the DRAM is connected. Here, when the length of the capacitor pad 10 is a1, the width is b1, and the distance between the wiring layer (Layer 2) and the Vdd plane layer (Layer 3) is h, the parasitic capacitance C_pad is εr × ε0 × ( (A1 × b1) / h). Note that ε0 is the dielectric constant of vacuum, and εr is the relative dielectric constant of the medium between the wiring layer (Layer 2) and the Vdd plane layer (Layer 3). For example, when a1 = 6.78 mm, b1 = 1 mm, h = 0.08 mm, and εr = 4 (glass epoxy), the parasitic capacitance C_pad is C_pad = 4 × 8.854 × 10 −12 × ((6. 78 × 10 −3 × 1 × 10 −3 ) /0.08×10 −3 ) = 3 pF.

図3は、制御信号配線2上に複数の容量パッド(Pad)11を配置した例を示している。また、図4は、制御信号配線2と並列に複数の容量パッド(Pad)12を接続した例を示している。図3及び図4は、図2に示した容量パッド10の寄生容量Cpadを10個の容量パッド11,12で実現する構成例を示している。   FIG. 3 shows an example in which a plurality of capacitance pads (pads) 11 are arranged on the control signal wiring 2. FIG. 4 shows an example in which a plurality of capacitance pads (pads) 12 are connected in parallel with the control signal wiring 2. 3 and 4 show a configuration example in which the parasitic capacitance Cpad of the capacitance pad 10 shown in FIG.

例えば寄生容量Cpadを10個の容量パッド11で実現する場合、各容量パッド11の容量はC_pad/10に設定すればよい。図4に示す容量パッド12についても同様である。   For example, when the parasitic capacitance Cpad is realized by ten capacitance pads 11, the capacitance of each capacitance pad 11 may be set to C_pad / 10. The same applies to the capacitor pad 12 shown in FIG.

例えば、各容量パッド11の長さをa2とし、幅をb2とし、配線層(Layer2)とVddプレーン層(Layer3)間の距離をhとし、a2=1.36mm、b2=0.5mm、h=0.08mm、εr=4(ガラスエポキシ)である場合、容量パッド11の寄生容量C_pad2は、C_pad2=4×8.854×10-12×((1.36×10-3×0.5×10-3)/0.08×10-3)=0.3pFとなる。 For example, the length of each capacitor pad 11 is a2, the width is b2, the distance between the wiring layer (Layer 2) and the Vdd plane layer (Layer 3) is h, a2 = 1.36 mm, b2 = 0.5 mm, h = 0.08 mm and εr = 4 (glass epoxy), the parasitic capacitance C_pad2 of the capacitance pad 11 is C_pad2 = 4 × 8.854 × 10 −12 × ((1.36 × 10 −3 × 0.5). × 10 −3 ) /0.08×10 −3 ) = 0.3 pF.

図3及び図4に示す構成では、1つの容量パッド11(または12)の面積を図2に示した容量パッド10よりも小さくすることが可能であり、図2に示した構成に比べて容量パッドを配置するための設計自由度が向上する。なお、図4に示す複数の容量パッド12に代えて、図2に示した1つの容量パッド10を制御信号配線2と並列に接続してもよい。   3 and FIG. 4, the area of one capacitor pad 11 (or 12) can be made smaller than that of the capacitor pad 10 shown in FIG. 2, and the capacitance is larger than that shown in FIG. The degree of freedom in design for arranging pads is improved. Note that one capacitor pad 10 shown in FIG. 2 may be connected in parallel with the control signal wiring 2 instead of the plurality of capacitor pads 12 shown in FIG.

本実施形態のメモリモジュールによれば、アドレス信号配線1の負荷容量と制御信号配線2の負荷容量との差に等しい、半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量を持つ容量パッドが、各半導体記憶装置に対応して制御信号配線2に設けられているため、制御信号の伝搬遅延時間が増大して、負荷容量の差に起因して発生するアドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減できる。したがって、アドレス信号と制御信号のタイミングマージンが向上し、アドレス信号と制御信号のタイミングの不一致に起因する誤動作が防止される。
(第2の実施の形態)
図5は本発明のメモリモジュールの第2の実施の形態の一構成例を示すブロック図である。図5(a)はアドレス信号配線1に対して負荷容量Cdieを備えた20台のDRAM(全ランク)が縦列接続された様子を示し、図5(b)は制御信号配線2に対して負荷容量Cdieを備えた5台のDRAM(1ランク分)が縦列接続された様子を示している。
According to the memory module of this embodiment, the capacity equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (rank number-1) equal to the difference between the load capacity of the address signal wiring 1 and the load capacity of the control signal wiring 2 Since the control signal wiring 2 corresponding to each semiconductor memory device is provided in the control signal wiring 2, the propagation delay time of the control signal is increased, and the address signal generated due to the difference in load capacitance and the control are controlled. The difference in signal propagation delay time can be reduced. Therefore, the timing margin between the address signal and the control signal is improved, and malfunction caused by the mismatch between the timing of the address signal and the control signal is prevented.
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration example of the second embodiment of the memory module of the present invention. FIG. 5A shows a state in which 20 DRAMs (all ranks) having a load capacitance Cdie are connected in cascade to the address signal wiring 1, and FIG. 5B shows a load on the control signal wiring 2. 5 shows a state in which five DRAMs (for one rank) having a capacity Cdie are connected in cascade.

図5(b)に示すように、第2の実施の形態のメモリモジュールは、制御信号配線2と電源Vdd間にチップコンデンサ(容量部)30を挿入し、該チップコンデンサ30の容量Ccapにより制御信号の伝搬遅延時間を増大させ、アドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減する例である。チップコンデンサ30は、モジュール基板に搭載された各DRAM近傍において、制御信号配線2と電源ライン間にそれぞれ挿入すればよい。   As shown in FIG. 5B, in the memory module of the second embodiment, a chip capacitor (capacitance unit) 30 is inserted between the control signal wiring 2 and the power supply Vdd, and controlled by the capacitance Ccap of the chip capacitor 30. In this example, the propagation delay time of the signal is increased, and the difference between the propagation delay times of the address signal and the control signal is reduced. The chip capacitor 30 may be inserted between the control signal wiring 2 and the power supply line in the vicinity of each DRAM mounted on the module substrate.

チップコンデンサ30の容量Ccapの値は、図5(a)、(b)に示す4ランク構成のメモリモジュールの場合、DRAM1台当たりの負荷容量をCdieとすると、第1の実施の形態と同様に、Ccap=3×Cdieに設定すればよい。すなわち、アドレス信号配線1の負荷容量と制御信号配線2の負荷容量とが一致するように、(ランク数−1)×Cdieに等しい容量Ccapのチップコンデンサ30を、各DRAMに対応して制御信号配線2にそれぞれ接続すればよい。   The value of the capacitance Ccap of the chip capacitor 30 is the same as in the first embodiment, assuming that the load capacity per DRAM is Cdie in the case of the memory module having the 4-rank configuration shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). , Ccap = 3 × Cdie. That is, a chip capacitor 30 having a capacity Ccap equal to (rank number−1) × Cdie is set in correspondence with each DRAM so that the load capacity of the address signal wiring 1 and the load capacity of the control signal wiring 2 coincide with each other. What is necessary is just to connect to the wiring 2, respectively.

本実施形態のメモリモジュールによれば、制御信号配線2の負荷容量とアドレス信号配線1の負荷容量との差に等しい、半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量のチップコンデンサ30を各半導体記憶装置に対応して制御信号配線2に接続することで、第1の実施の形態のメモリモジュールと同様に、制御信号の伝搬遅延時間が増大して、負荷容量の差に起因して発生するアドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減できる。したがって、アドレス信号と制御信号のタイミングマージンが向上し、アドレス信号と制御信号のタイミングの不一致に起因する誤動作が防止される。
(第3の実施の形態)
上述した第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、モジュール基板上の制御信号配線2に容量パッド10(11、12)やチップコンデンサ30等の容量部を接続することで、アドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減する手法を示した。
According to the memory module of this embodiment, the capacity equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (rank number −1), which is equal to the difference between the load capacity of the control signal line 2 and the load capacity of the address signal line 1. By connecting the chip capacitor 30 to the control signal wiring 2 corresponding to each semiconductor memory device, the propagation delay time of the control signal increases as in the memory module of the first embodiment, and the load capacitance It is possible to reduce the difference in propagation delay time between the address signal and the control signal generated due to the difference. Therefore, the timing margin between the address signal and the control signal is improved, and malfunction caused by the mismatch between the timing of the address signal and the control signal is prevented.
(Third embodiment)
In the first embodiment and the second embodiment described above, an address signal is obtained by connecting a capacitor portion such as the capacitor pads 10 (11, 12) and the chip capacitor 30 to the control signal wiring 2 on the module substrate. And a technique to reduce the difference of propagation delay time of control signal is presented.

第3の実施の形態のメモリモジュールは、モジュール基板に搭載される各半導体記憶装置内に、上記伝搬遅延時間の差を調整するための容量部を設ける例である。   The memory module according to the third embodiment is an example in which a capacitor for adjusting the difference in the propagation delay time is provided in each semiconductor memory device mounted on the module substrate.

まず、モジュール基板に搭載される半導体記憶装置について図面を用いて簡単に説明する。   First, a semiconductor memory device mounted on a module substrate will be briefly described with reference to the drawings.

図6は半導体記憶装置の一構成例を示すブロック図である。なお、図6はSDRAM(Synchronous DRAM)の一構成例を示している。   FIG. 6 is a block diagram showing a configuration example of the semiconductor memory device. FIG. 6 shows a configuration example of an SDRAM (Synchronous DRAM).

図6に示すように、半導体記憶装置100は、データを格納するための複数のメモリセルから構成されるメモリセルアレイ101と、メモリセルに格納されたデータを読み出すための複数のセンスアンプ102と、データの書き込み/読み出しを行うメモリセルにアクセスするためのアドレス信号をデコードするロウデコーダ103及びカラムデコーダ104と、メモリセルに書き込むデータ及びメモリセルから読み出されたデータを一時的に保持するラッチ回路105と、ロウデコーダ103に供給するロウアドレスを一時的に保持するロウアドレスバッファ106と、カラムデコーダ104に供給するカラムアドレスを一時的に保持するカラムアドレスバッファ107と、半導体記憶装置100を各種動作モードに設定するために外部から供給される制御コマンドをデコードするコマンドデコーダ108と、アドレス信号Addressを用いて設定される、CASレイテンシー(Latency)、バースト長、バーストタイプ等のモード設定情報を保持するモードレジスタ109と、メモリセルアレイ101に対するデータの書き込み動作及びメモリセルアレイ101からのデータの読み出し動作を制御するデータ制御回路110と、モードレジスタ109の出力信号にしたがって、ロウアドレスバッファ106、カラムアドレスバッファ107、ロウデコーダ103、カラムデコーダ104、センスアンプ102、データ制御回路110等の動作を制御する制御回路111と、外部から供給されるクロック信号CK、/CK及びCKE(CK Enable)を用いて半導体記憶装置100内部の各回路が動作するためのクロックを生成するクロック生成回路112と、外部から供給されるデータを受信してラッチ回路105へ供給すると共に、ラッチ回路105から出力されたデータを外部へ送出するデータ入出力バッファ113と、外部から供給されるデータをデータ入出力バッファ113で受信するためのタイミング信号、データ入出力バッファ113から外部へデータを出力するためのタイミング信号を生成するDLL(Digital Locked Loop)回路114とを有する構成である。なお、図6は、8バンク(Bank0〜7)のメモリセルアレイ101を備える半導体記憶装置100の構成例を示している。図6に示す半導体記憶装置100には、例えば周知のリフレッシュ動作を制御する回路やバースト動作を制御する回路等、所要の機能を実現するための回路をさらに備えていてもよい。メモリモジュールに搭載される半導体記憶装置は、図6に示した構成に限定されるものではなく、周知のどのような半導体記憶装置であってもよい。   As shown in FIG. 6, the semiconductor memory device 100 includes a memory cell array 101 including a plurality of memory cells for storing data, a plurality of sense amplifiers 102 for reading data stored in the memory cells, A row decoder 103 and a column decoder 104 for decoding an address signal for accessing a memory cell for writing / reading data, and a latch circuit for temporarily holding data to be written to the memory cell and data read from the memory cell 105, a row address buffer 106 that temporarily holds a row address supplied to the row decoder 103, a column address buffer 107 that temporarily holds a column address supplied to the column decoder 104, and the semiconductor memory device 100. External to set mode A command decoder 108 that decodes a supplied control command, a mode register 109 that holds mode setting information such as CAS latency, burst length, and burst type, which is set by using an address signal Address, and a memory cell array 101 In accordance with the data control circuit 110 that controls the data write operation and the data read operation from the memory cell array 101, and the output signal of the mode register 109, the row address buffer 106, the column address buffer 107, the row decoder 103, and the column decoder 104 , The control circuit 111 for controlling the operation of the sense amplifier 102, the data control circuit 110, and the like, and the clock signals CK, / CK and CKE (CK Enable) supplied from the outside. A clock generation circuit 112 that generates a clock for operating each circuit in the body storage device 100, and data supplied from the outside are received and supplied to the latch circuit 105, and the data output from the latch circuit 105 is also received. A data input / output buffer 113 to be transmitted to the outside, a timing signal for receiving data supplied from the outside by the data input / output buffer 113, and a timing signal for outputting data from the data input / output buffer 113 to the outside are generated. And a DLL (Digital Locked Loop) circuit 114. FIG. 6 shows a configuration example of the semiconductor memory device 100 including the memory cell array 101 of 8 banks (Banks 0 to 7). The semiconductor memory device 100 shown in FIG. 6 may further include a circuit for realizing a required function such as a well-known circuit for controlling a refresh operation or a circuit for controlling a burst operation. The semiconductor memory device mounted on the memory module is not limited to the configuration shown in FIG. 6 and may be any known semiconductor memory device.

本実施形態の半導体記憶装置は、以下に示す容量アレイ回路をさらに備えた構成である。   The semiconductor memory device of this embodiment has a configuration further including a capacitor array circuit shown below.

図7は本発明の半導体記憶装置が備える容量アレイ回路の一構成例を示すブロック図であり、図8は本発明のメモリモジュールの第3の実施の形態の一構成例を示すブロック図である。図9は図7に示した容量アレイ回路の設定例を示す模式図である。なお、図8(a)はアドレス信号配線1に対して負荷容量Cdieを備えた20台のDRAM(全ランク)が縦列接続された様子を示し、図8(b)は制御信号配線2に対して負荷容量Cdieを備えた5台のDRAM(1ランク分)が縦列接続された様子を示している。   FIG. 7 is a block diagram showing a configuration example of a capacitor array circuit included in the semiconductor memory device of the present invention, and FIG. 8 is a block diagram showing a configuration example of the third embodiment of the memory module of the present invention. . FIG. 9 is a schematic diagram showing a setting example of the capacitor array circuit shown in FIG. 8A shows a state in which 20 DRAMs (all ranks) having a load capacitance Cdie are connected in series to the address signal wiring 1, and FIG. 8B shows the control signal wiring 2. 5 shows a state where five DRAMs (for one rank) having a load capacity Cdie are connected in cascade.

図7に示すように、容量アレイ回路40は、容量値が異なる複数の第1容量部41、第2容量部42及び第3容量部43と、第1容量部41〜第3容量部43と半導体記憶装置が備える制御信号用の入出力パッド50とを接続または切断するためのスイッチ部となる複数のAF(Anti-Fuse)回路60とを備えた構成である。図7は、容量が1pFの3つの第1容量部411〜413、容量が0.2pFの3つの第2容量部421〜423、容量が0.1pFの3つの第3容量部431〜433を備えた例を示している。第1容量部411〜413は直列に接続され、第2容量部421〜423は直列に接続され、第3容量部431〜433は直列に接続されている。また、直列に接続された第1容量部411〜413と、直列に接続された第2容量部421〜423と、直列に接続された第3容量部431〜433とは、並列に接続されている。 As shown in FIG. 7, the capacitor array circuit 40 includes a plurality of first capacitor units 41, second capacitor units 42 and third capacitor units 43 having different capacitance values, and first capacitor units 41 to third capacitor units 43. The semiconductor memory device includes a plurality of AF (Anti-Fuse) circuits 60 serving as a switch unit for connecting or disconnecting the control signal input / output pad 50. FIG. 7 shows three first capacitor portions 41 1 to 41 3 having a capacitance of 1 pF, three second capacitor portions 42 1 to 42 3 having a capacitance of 0.2 pF, and three third capacitor portions having a capacitance of 0.1 pF. It shows an example in which a 43 1 to 43 3. The first capacitor units 41 1 to 41 3 are connected in series, the second capacitor units 42 1 to 42 3 are connected in series, and the third capacitor units 43 1 to 43 3 are connected in series. Also, a first capacitor portion 41 1-41 3 connected in series, a second capacitor portion 42 1-42 3 connected in series, the third capacitor 43 1-43 3 connected in series Connected in parallel.

第1容量部41〜第3容量部43は、例えばトランジスタやダイオード等の拡散層の寄生容量で実現すればよい。通常、半導体記憶装置の入出力パッドにはESD(Electro-Static Discharge)保護回路が接続されているため、例えば第1容量部41〜第3容量部43として、該ESD保護回路と同一の回路を形成し、該回路が備えるトランジスタ等の拡散層の寄生容量を利用すればよい。ESD保護回路は、例えば特開2004−063754号公報に記載された回路で実現できる。   What is necessary is just to implement | achieve the 1st capacity | capacitance part 41-the 3rd capacity | capacitance part 43 with the parasitic capacitance of diffusion layers, such as a transistor and a diode, for example. Usually, since an ESD (Electro-Static Discharge) protection circuit is connected to the input / output pad of the semiconductor memory device, for example, the same circuit as the ESD protection circuit is used as the first capacitor 41 to the third capacitor 43, for example. The parasitic capacitance of the diffusion layer such as a transistor formed and formed in the circuit may be used. The ESD protection circuit can be realized by, for example, a circuit described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-063754.

AF回路60は、例えばアンチヒューズ素子を用いて形成すればよい。アンチヒューズ素子は、通常は開放状態にあり、高電圧を印加することで短絡する素子である。アンチヒューズ素子の開放/短絡は、例えば半導体記憶装置のテスト用の制御信号であるDFT信号を用いて制御すればよい。DFT信号は半導体記憶装置がモジュール基板に搭載されている状態でも入出力パッド50等から入力することが可能であり、上記モードレジスタ109へ所定のコードを入力することで半導体記憶装置をテストモードへ移行させた後、DFT信号を用いてAF回路60の開放/短絡を設定すればよい。AF回路60は、例えば特開2003−317496号公報に記載された構成で実現できる。   The AF circuit 60 may be formed using an antifuse element, for example. The antifuse element is an element that is normally in an open state and short-circuited when a high voltage is applied. The open / short circuit of the antifuse element may be controlled using, for example, a DFT signal that is a control signal for testing the semiconductor memory device. The DFT signal can be input from the input / output pad 50 or the like even when the semiconductor memory device is mounted on the module substrate. By inputting a predetermined code to the mode register 109, the semiconductor memory device is put into the test mode. After the transition, the open / short circuit of the AF circuit 60 may be set using the DFT signal. The AF circuit 60 can be realized by a configuration described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-317496.

図7に示した容量アレイ回路40は、第1容量部41〜第3容量部43をそれぞれ3台備える構成であるため、第1容量部41〜第3容量部43毎にそれぞれ2ビットのDFT信号を用いれば、入出力パッド50に対する第1容量部41〜第3容量部43毎の接続数を制御できる。図7は、DFT[1:0]を用いて第1容量部411〜413の接続数を制御し、DFT[3:2]を用いて第2容量部421〜423の接続数を制御し、DFT[5:4]を用いて第3容量部431〜433の接続数を制御する例を示している。なお、容量アレイ回路40の構成は、図7に示した構成に限定されるものではなく、所定の容量を持つ複数の容量部と、各容量部に対応する複数のスイッチ部(AF回路)とを備え、外部からの制御信号により各容量部と制御信号用の入出力パッド50とを接続または切断できれば、どのような構成でもよい。 Since the capacitor array circuit 40 shown in FIG. 7 has a configuration including three first capacitor units 41 to third capacitor units 43, a 2-bit DFT is provided for each of the first capacitor units 41 to the third capacitor units 43. If the signal is used, the number of connections for each of the first capacitor unit 41 to the third capacitor unit 43 to the input / output pad 50 can be controlled. In FIG. 7, the number of connections of the first capacitor units 41 1 to 41 3 is controlled using DFT [1: 0], and the number of connections of the second capacitor units 42 1 to 42 3 using DFT [3: 2]. controls, DFT: it shows a third example of controlling the number of connection capacity portion 43 1-43 3 using [5 4]. The configuration of the capacitor array circuit 40 is not limited to the configuration shown in FIG. 7, and a plurality of capacitor units having a predetermined capacity and a plurality of switch units (AF circuits) corresponding to the capacitor units. And any configuration may be used as long as each capacitor unit and the control signal input / output pad 50 can be connected or disconnected by an external control signal.

本実施形態のメモリモジュールに搭載される半導体記憶装置は、制御信号用の入出力パッド50毎に上記容量アレイ回路40を備える。容量アレイ回路40の容量Caryは、図8(a)、(b)に示す4ランク構成のメモリモジュールの場合、半導体記憶装置(DRAM)1台当たりの負荷容量をCdieとすると、第1及び第2の実施の形態と同様に、Cary=3×Cdieになるように設定する。すなわち、アドレス信号配線の負荷容量と制御信号配線の負荷容量とが一致するように、各容量アレイ回路の容量Caryを(ランク数−1)×Cdieにそれぞれ設定すればよい。   The semiconductor memory device mounted on the memory module of this embodiment includes the capacitor array circuit 40 for each input / output pad 50 for control signals. In the case of the 4-rank configuration memory module shown in FIGS. 8A and 8B, the capacity Cary of the capacity array circuit 40 is the first and the first when the load capacity per semiconductor memory device (DRAM) is Cdie. Similarly to the second embodiment, Cary = 3 × Cdie is set. That is, the capacity Cary of each capacity array circuit may be set to (rank number−1) × Cdie so that the load capacity of the address signal wiring and the load capacity of the control signal wiring match.

図7に示す容量アレイ回路40は、容量アレイ回路40が備える各AF回路60の開放/短絡を設定することで、図9に示すように、容量Caryを、0pF〜3.9pFの範囲において0.1pF単位で設定できる。   The capacitance array circuit 40 shown in FIG. 7 sets the capacitance Cary to 0 in the range of 0 pF to 3.9 pF by setting the open / short circuit of each AF circuit 60 included in the capacitance array circuit 40, as shown in FIG. Can be set in units of 1 pF.

図7に示したように、通常、半導体記憶装置の入出力パッド50には、パッド自体の寄生容量C_pad、初段回路(例えば、上記コマンドデコーダ108)70が備えるトランジスタのゲート電極の容量C_gate、ESD保護回路80が備えるトランジスタの寄生容量C_esdが既に接続されていると考えられる。また、入出力パッド50と、初段回路70、ESD保護回路80及び容量アレイ回路40とを接続する内部配線90にも寄生容量C_wireがある。したがって、メモリモジュールに搭載する半導体記憶装置の入力容量(負荷容量)は、必ずしも同一であるとは限らず、またモジュール基板に形成されるアドレス信号配線1や制御信号配線2の寄生容量も、長さや太さが異なるために、必ずしも同一であるとは限らない。   As shown in FIG. 7, normally, the input / output pad 50 of the semiconductor memory device includes a parasitic capacitance C_pad of the pad itself, a capacitance C_gate of a gate electrode of a transistor included in the first stage circuit (for example, the command decoder 108) 70, ESD. It is considered that the parasitic capacitance C_esd of the transistor included in the protection circuit 80 is already connected. Further, the internal wiring 90 that connects the input / output pad 50 to the first stage circuit 70, the ESD protection circuit 80, and the capacitor array circuit 40 also has a parasitic capacitance C_wire. Accordingly, the input capacity (load capacity) of the semiconductor memory device mounted on the memory module is not necessarily the same, and the parasitic capacity of the address signal wiring 1 and the control signal wiring 2 formed on the module substrate is also long. Since the thicknesses are different, they are not necessarily the same.

本実施形態によれば、メモリモジュールに搭載する各半導体記憶装置に容量アレイ回路40を備え、各容量アレイ回路40の容量Caryを制御信号配線2とアドレス信号配線1との負荷容量の差に等しい容量((ランク数−1)×Cdie)に設定することで、第1及び第2の実施の形態と同様に、制御信号の伝搬遅延時間が増大して、負荷容量の差に起因して発生するアドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差を低減できる。さらに、容量アレイ回路40の容量Caryは、第1の実施の形態や第2の実施の形態よりも、アドレス信号と制御信号の伝搬遅延時間の差がより低減するように微調整できる。したがって、アドレス信号と制御信号のタイミングマージンがさらに向上し、アドレス信号と制御信号のタイミングの不一致に起因する誤動作が防止される。   According to the present embodiment, each semiconductor memory device mounted on the memory module includes the capacitor array circuit 40, and the capacitance Cary of each capacitor array circuit 40 is equal to the difference in load capacitance between the control signal wiring 2 and the address signal wiring 1. By setting the capacity ((rank number-1) × Cdie), the propagation delay time of the control signal increases as in the first and second embodiments, which is caused by the difference in load capacity. The difference in propagation delay time between the address signal to be controlled and the control signal can be reduced. Furthermore, the capacitance Cary of the capacitance array circuit 40 can be finely adjusted so that the difference between the propagation delay times of the address signal and the control signal is further reduced as compared with the first and second embodiments. Therefore, the timing margin between the address signal and the control signal is further improved, and a malfunction due to the timing mismatch between the address signal and the control signal is prevented.

なお、第1の実施の形態〜第3の実施の形態では、半導体記憶装置として、ランクR0〜R3として用いられる4つのメモリ(DRAM)チップが1つのパッケージに収容された構成例を示しているが、半導体記憶装置は、複数のチップを収容している必要はなく、メモリチップ毎に個別のパッケージに収容された構成でもよい。   In the first to third embodiments, a configuration example is shown in which four memory (DRAM) chips used as ranks R0 to R3 are accommodated in one package as a semiconductor memory device. However, the semiconductor memory device does not need to accommodate a plurality of chips, and may be configured to be accommodated in individual packages for each memory chip.

1 アドレス信号配線
2 制御信号配線
10、11、12 容量パッド
20 DRAM搭載パッド
30 チップコンデンサ
40 容量アレイ回路
41、411〜413 第1容量部
42、421〜423 第2容量部
43、431〜433 第3容量部
50 入出力パッド
60 AF回路
70 初段回路
80 ESD保護回路
90 内部配線
100 半導体記憶装置
101 メモリセルアレイ
102 センスアンプ
103 ロウデコーダ
104 カラムデコーダ
105 ラッチ回路
106 ロウアドレスバッファ
107 カラムアドレスバッファ
108 コマンドデコーダ
109 モードレジスタ
110 データ制御回路
111 制御回路
112 クロック生成回路
113 データ入出力バッファ
114 DLL回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Address signal wiring 2 Control signal wiring 10, 11, 12 Capacitance pad 20 DRAM mounting pad 30 Chip capacitor 40 Capacitance array circuit 41, 411-413 1st capacity | capacitance part 42, 421-423 2nd capacity | capacitance part 43, 431-433 1st 3 capacitor 50 input / output pad 60 AF circuit 70 first stage circuit 80 ESD protection circuit 90 internal wiring 100 semiconductor memory device 101 memory cell array 102 sense amplifier 103 row decoder 104 column decoder 105 latch circuit 106 row address buffer 107 column address buffer 108 command decoder 109 mode register 110 data control circuit 111 control circuit 112 clock generation circuit 113 data input / output buffer 114 DLL circuit

Claims (8)

データを入出力する単位である複数のランクに区分けされた複数の半導体記憶装置と、
全ランクの前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力されたアドレス信号を該半導体記憶装置に供給するための配線であるアドレス信号配線と、
前記ランク単位で前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力された制御信号を該半導体記憶装置に供給するための配線である制御信号配線と、
前記制御信号配線と接続された各半導体記憶装置に対応して設けられた、前記半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量を持つ容量部と、
を有することを特徴とするメモリモジュール。
A plurality of semiconductor memory devices divided into a plurality of ranks, which are units for inputting and outputting data;
Address signal wiring that is a wiring for supplying an externally input address signal to the semiconductor memory device, in which the semiconductor memory devices of all ranks are connected in cascade;
Control signal wiring that is a wiring for supplying a control signal input from the outside to the semiconductor storage device, the semiconductor storage devices being connected in cascade in the rank unit;
A capacity unit provided corresponding to each semiconductor memory device connected to the control signal wiring and having a capacity equal to the product of the input capacity of the semiconductor memory device and (rank number-1);
A memory module comprising:
前記容量部は、
前記制御信号配線上に配置されたパッドであることを特徴とする請求項1記載のメモリモジュール。
The capacity section is
The memory module according to claim 1, wherein the memory module is a pad arranged on the control signal wiring.
前記容量部は、
前記制御信号配線上に配置された複数のパッドであることを特徴とする請求項1記載のメモリモジュール。
The capacity section is
The memory module according to claim 1, wherein the memory module is a plurality of pads arranged on the control signal wiring.
前記容量部は、
前記制御信号配線と並列に接続されたパッドであることを特徴とする請求項1記載のメモリモジュール。
The capacity section is
2. The memory module according to claim 1, wherein the memory module is a pad connected in parallel with the control signal wiring.
前記容量部は、
前記制御信号配線と並列に接続された複数のパッドであることを特徴とする請求項1記載のメモリモジュール。
The capacity section is
2. The memory module according to claim 1, wherein the memory module is a plurality of pads connected in parallel with the control signal wiring.
前記容量部は、
チップコンデンサであることを特徴とする請求項1記載のメモリモジュール。
The capacity section is
2. The memory module according to claim 1, wherein the memory module is a chip capacitor.
所定の容量を備えた複数の容量部と、
外部から供給される信号にしたがって前記容量部と制御信号用の入出力パッドとを接続または切断する、各容量部に対応して設けられた複数のスイッチ部と、
を有することを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of capacity units having a predetermined capacity;
A plurality of switch units provided corresponding to each capacitor unit, which connects or disconnects the capacitor unit and the control signal input / output pad according to an externally supplied signal;
A semiconductor memory device comprising:
データを入出力する単位である複数のランクに区分けされた、請求項7記載の複数の半導体記憶装置と、
全ランクの前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力されたアドレス信号を該半導体記憶装置に供給するための配線であるアドレス信号配線と、
前記ランク単位で前記半導体記憶装置が縦列接続される、外部から入力された制御信号を該半導体記憶装置に供給するための配線である制御信号配線と、
を有し、
前記容量部の全容量が、
前記半導体記憶装置の入力容量と(ランク数−1)との積に等しい容量に設定されたことを特徴とするメモリモジュール。
The plurality of semiconductor memory devices according to claim 7, which are divided into a plurality of ranks, which are units for inputting and outputting data,
Address signal wiring that is a wiring for supplying an externally input address signal to the semiconductor memory device, in which the semiconductor memory devices of all ranks are connected in cascade;
Control signal wiring that is a wiring for supplying a control signal input from the outside to the semiconductor storage device, the semiconductor storage devices being connected in cascade in the rank unit;
Have
The total capacity of the capacity part is
A memory module having a capacity equal to a product of an input capacity of the semiconductor memory device and (rank number-1).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113178439A (en) * 2020-01-27 2021-07-27 瑞萨电子株式会社 Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001184297A (en) * 1999-12-27 2001-07-06 Toshiba Corp Computer system and electronic equipment and system circuit board
JP2004032759A (en) * 2003-06-18 2004-01-29 Nec Corp Delay adjustment circuit
JP2005217653A (en) * 2004-01-28 2005-08-11 Brother Ind Ltd Electronics
JP2007164599A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Elpida Memory Inc Memory module
JP2008277515A (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Elpida Memory Inc Semiconductor device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001184297A (en) * 1999-12-27 2001-07-06 Toshiba Corp Computer system and electronic equipment and system circuit board
JP2004032759A (en) * 2003-06-18 2004-01-29 Nec Corp Delay adjustment circuit
JP2005217653A (en) * 2004-01-28 2005-08-11 Brother Ind Ltd Electronics
JP2007164599A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Elpida Memory Inc Memory module
JP2008277515A (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Elpida Memory Inc Semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113178439A (en) * 2020-01-27 2021-07-27 瑞萨电子株式会社 Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips

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