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JP2011069615A - Probe card and method for manufacturing the same - Google Patents

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JP2011069615A JP2008007686A JP2008007686A JP2011069615A JP 2011069615 A JP2011069615 A JP 2011069615A JP 2008007686 A JP2008007686 A JP 2008007686A JP 2008007686 A JP2008007686 A JP 2008007686A JP 2011069615 A JP2011069615 A JP 2011069615A
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Shinji Murata
眞司 村田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe card which enables to use probe pins in the shape of a horizontal type cantilever on the occasion of performing continuity inspection of an integrated circuit having a plurality of electrodes arranged in grid disposition, and a method for manufacturing the same. <P>SOLUTION: In this probe card 1, a plurality of probe pins 3 contacting respectively with the electrodes 11 arranged in the grid disposition on the integrated circuit 10 are provided on a wiring board 2. The probe pins 3 in a plurality are formed respectively in the shape of the horizontal type cantilever and disposed aslant to both of two-dimensional directions (direction X and direction Y) in the grid disposition of the electrodes 11. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、プローブカードおよびその製造方法に係り、特に、BGA(ボール・グリッド・アレイ)型IC(集積回路)のボール型電極またはLGA(ランド・グリッド・アレイ)型ICのランド型電極などの集積回路にグリッド配置された複数の電極に複数のプローブピンをそれぞれ接触させて導通検査する際に好適に利用できるプローブカードおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a probe card and a method for manufacturing the same, and more particularly to a ball-type electrode of a BGA (ball grid array) type IC (integrated circuit) or a land-type electrode of an LGA (land grid array) type IC. The present invention relates to a probe card that can be suitably used when a plurality of probe pins are brought into contact with a plurality of electrodes arranged in a grid on an integrated circuit to conduct a continuity test, and a method of manufacturing the same.

従来のプローブカード101においては、その一例として、図16および図17に示すように、水平型カンチレバー形状のプローブピン103が配線板102に配置されている。水平型カンチレバー形状のプローブピン103は、その延在方向103LDへの長さを長くすることによってその変位量および弾性応力を大きく設定することができるので、複数の電極111がペリフェラル配置された集積回路110の導通検査に適していた。   In the conventional probe card 101, as an example, a horizontal cantilever-shaped probe pin 103 is arranged on a wiring board 102 as shown in FIGS. Since the horizontal cantilever-shaped probe pin 103 can be set to have a large displacement and elastic stress by increasing its length in the extending direction 103LD, an integrated circuit in which a plurality of electrodes 111 are arranged in a peripheral manner. It was suitable for 110 continuity tests.

特表2000−512437号公報JP 2000-512437 A

しかしながら、図18および図19に示すように、複数の電極111がグリッド配置されている場合は電極111のピッチ間距離が50μm〜150μmと極めて小さく設定されてしまう。したがって、グリッド配置された電極111にプローブピン103を接触させようとしてもプローブピン103の延在方向103LDへの長さを電極111のピッチ間距離以上に長く設定することができず、プローブピン103の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することができなかった。このことから、複数の電極111がグリッド配置された集積回路110を導通検査する際、プローブカード101に水平型カンチレバー形状のプローブピン103を使用することができないという問題があった。   However, as shown in FIGS. 18 and 19, when a plurality of electrodes 111 are arranged in a grid, the pitch distance between the electrodes 111 is set to an extremely small value of 50 μm to 150 μm. Therefore, even if the probe pins 103 are to be brought into contact with the grid-arranged electrodes 111, the length of the probe pins 103 in the extending direction 103LD cannot be set longer than the distance between the pitches of the electrodes 111. The amount of displacement and the elastic stress could not be freely set to desired values. For this reason, there is a problem in that the horizontal cantilever-shaped probe pin 103 cannot be used for the probe card 101 when conducting the continuity test on the integrated circuit 110 in which the plurality of electrodes 111 are arranged in a grid.

そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、複数の電極がグリッド配置された集積回路を導通検査する際に水平型カンチレバー形状のプローブピンを使用することができるプローブカードおよびその製造方法を提供することを本発明の目的としている。   Accordingly, the present invention has been made in view of these points, and a probe card capable of using a horizontal cantilever-shaped probe pin when conducting an continuity test on an integrated circuit in which a plurality of electrodes are arranged in a grid, and a probe card thereof It is an object of the present invention to provide a manufacturing method.

前述した目的を達成するため、本発明のプローブカードは、その第1の態様として、集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンと、複数のプローブピンを配置する配線板とを備えており、複数のプローブピンは、その一端が電極との接触端となる自由端であってその他端が配線板に固定される固定端である水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されているとともに、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向に対してプローブピンを傾斜させて配置されていることを特徴としている。   In order to achieve the above-described object, a probe card according to the present invention has, as a first aspect thereof, a plurality of probe pins that respectively contact a plurality of electrodes arranged in a grid on an integrated circuit, and a wiring board on which the plurality of probe pins are arranged. The plurality of probe pins are each formed in a horizontal cantilever shape in which one end is a free end that is a contact end with the electrode and the other end is a fixed end that is fixed to the wiring board. In addition, the probe pins are arranged to be inclined with respect to both directions in the two-dimensional direction in the grid arrangement of the plurality of electrodes.

本発明の第1の態様のプローブカードによれば、プローブピンを傾斜させずに配置した場合と比較してプローブピンの延在方向への長さを長く設定することができるので、プローブピンの変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することができる。   According to the probe card of the first aspect of the present invention, the length of the probe pin in the extending direction can be set longer than the case where the probe pin is arranged without being inclined. The amount of displacement and the elastic stress can be freely set to desired values.

本発明の第2の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   The probe card according to the second aspect of the present invention is the probe card according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are arranged in parallel in the two-dimensional direction in the grid arrangement of the plurality of electrodes. The first arrangement pattern is arranged on the wiring board.

本発明の第2の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card of the second aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval between the probe pins constant, so that the probe pins can be kept from contacting each other while being kept in contact with each other. The length in the extending direction can be set longer.

本発明の第3の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   A probe card according to a third aspect of the present invention is the probe card according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are mirror surfaces in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. It is characterized in that it is arranged on the wiring board with a second arrangement pattern in which a plurality of probe pins are arranged in parallel in the other direction while being symmetrically arranged alternately.

本発明の第3の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card of the third aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval of each probe pin constant, so that the probe pins can be kept from contacting each other while being kept in contact with each other. The length in the extending direction can be set longer.

本発明の第4の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   The probe card according to a fourth aspect of the present invention is the probe card according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are extended in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. It is characterized in that it is arranged on the wiring board with a third arrangement pattern in which a plurality of probe pins are arranged in mirror symmetry or in parallel in the other directions while being arranged in parallel with the existing directions facing each other.

本発明の第4の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card of the fourth aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval of the probe pins constant, so that the probe pins can be kept from contacting each other while being kept in contact with each other. The length in the extending direction can be set longer.

また、前述した目的を達成するため、本発明のプローブカードの製造方法は、その第1の態様として、集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンを配線板に配置してなるとともに、複数のプローブピンは、その一端が電極との接触端となる自由端となりその他端が配線板に固定される固定端となる水平型カンチレバーであるプローブカードの製造方法であって、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の一方向に対して平行に横たえる柱状レジスト型を一方向の配列にあわせて配線板に形成する工程Aと、柱状レジスト型の延在方向に対して傾斜させた方向に延在するプローブピンを柱状レジスト型の表面に薄膜形成する工程Bと、工程Bの終了後に柱状レジスト型を除去する工程Cとを経て形成されていることを特徴としている。ここで、薄膜形成とは、めっき形成、スパッタ形成その他の薄膜技術を用いる形成を言う。   In order to achieve the above-described object, the probe card manufacturing method according to the present invention includes, as a first aspect thereof, a plurality of probe pins that respectively contact a plurality of electrodes arranged in a grid on an integrated circuit. In addition, the plurality of probe pins is a method of manufacturing a probe card that is a horizontal cantilever whose one end is a free end that is a contact end with an electrode and the other end is a fixed end that is fixed to a wiring board. The plurality of probe pins include a step A of forming a columnar resist mold that lies parallel to one direction in a two-dimensional direction in a grid arrangement of a plurality of electrodes on the wiring board in accordance with the arrangement in one direction; Step B in which a probe pin extending in a direction inclined with respect to the extending direction is formed into a thin film on the surface of the columnar resist mold, and the columnar resist mold is removed after Step B is completed. It is characterized in that it is formed through a step C of. Here, thin film formation refers to formation using plating, sputtering, or other thin film technology.

本発明の第1の態様のプローブカードの製造方法によれば、所定の位置および方向に横たえて柱状レジスト型を配置することにより、従来の薄膜生成技術を使用して本発明のプローブピンを形成することができる。また、プローブピンをスパッタ形成すれば、プローブピンおよびプローブカードの小型化に寄与する。   According to the probe card manufacturing method of the first aspect of the present invention, the probe pin of the present invention is formed using the conventional thin film generation technique by laying the columnar resist mold in a predetermined position and direction. can do. Moreover, if the probe pins are formed by sputtering, it contributes to miniaturization of the probe pins and the probe card.

本発明の第2の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   The probe card manufacturing method of the second aspect of the present invention is the probe card manufacturing method of the first aspect, wherein the plurality of probe pins are a plurality of probe pins in both two-dimensional directions in a grid arrangement of a plurality of electrodes. Are arranged on the wiring board with a second arrangement pattern arranged in parallel with each other.

本発明の第2の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card manufacturing method of the second aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval of each probe pin constant, so that contact between the probe pins is avoided. The length in the extending direction can be set long.

本発明の第3の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   The probe card manufacturing method according to the third aspect of the present invention is the probe card manufacturing method according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. A plurality of probe pins are arranged alternately with mirror symmetry, and are arranged on the wiring board with a first arrangement pattern in which a plurality of probe pins are arranged in parallel in the other direction.

本発明の第3の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card manufacturing method of the third aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement intervals of the probe pins constant, so that contact between the probe pins is avoided. The length in the extending direction can be set long.

本発明の第4の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。   A probe card manufacturing method according to a fourth aspect of the present invention is the probe card manufacturing method according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. It is arranged on the wiring board with a third arrangement pattern in which the plurality of probe pins are arranged in parallel with the extending directions facing each other, and in the other directions, the plurality of probe pins are arranged in mirror symmetry or in parallel. It is a feature.

本発明の第4の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。   According to the probe card manufacturing method of the fourth aspect of the present invention, the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval of each probe pin constant, so that contact between the probe pins is avoided. The length in the extending direction can be set long.

本発明の第5の態様のプローブカードの製造方法は、第1から第4のいずれか1の態様のプローブカードの製造方法において、柱状レジスト型における延在方向と直交する縦断面は、かまぼこ形状であることを特徴としている。ここで、かまぼこ形状とは、半円形、半楕円形、その他の閉じた曲線を半分に切断した形状を言う。   The probe card manufacturing method according to the fifth aspect of the present invention is the probe card manufacturing method according to any one of the first to fourth aspects, wherein the longitudinal section perpendicular to the extending direction of the columnar resist mold has a kamaboko shape. It is characterized by being. Here, the kamaboko shape means a semicircular shape, a semi-elliptical shape, or a shape obtained by cutting other closed curves in half.

本発明の第5の態様のプローブカードの製造方法によれば、縦断面を矩形にするよりも柱状レジスト型を容易に形成することができる。また、プローブピンの形状が直交部分を湾曲形状にした横L字形状になるので、プローブピンが応力集中により破壊するのを抑制することができる。   According to the probe card manufacturing method of the fifth aspect of the present invention, the columnar resist mold can be formed more easily than making the longitudinal section rectangular. In addition, since the shape of the probe pin is a horizontal L shape in which the orthogonal portion is curved, it is possible to suppress the probe pin from being broken due to stress concentration.

本発明のプローブカードおよびその製造方法によれば、プローブピンの変位量および弾性応力を大きく設定することができるので、複数の電極がグリッド配置された集積回路の導通検査に水平型カンチレバー形状のプローブピンを使用することができるという効果を奏する。   According to the probe card and the manufacturing method thereof of the present invention, the displacement amount and elastic stress of the probe pin can be set large, so that a horizontal cantilever-shaped probe is used for continuity inspection of an integrated circuit in which a plurality of electrodes are arranged in a grid. There is an effect that a pin can be used.

以下、本発明のプローブカードをその3つの実施形態により説明する。   Hereinafter, the probe card of the present invention will be described with reference to its three embodiments.

はじめに、第1の実施形態のプローブカード1Aを説明する。   First, the probe card 1A of the first embodiment will be described.

図1〜図3は、第1の実施形態のプローブカード1Aを示している。第1の実施形態のプローブカード1Aは、図1に示すように、配線板2および複数のプローブピン3を備えている。配線板2はプローブカード1Aに用いられる一般的なものであり、その表面2aにプローブピン3と導通するビア、接続電極などの配線2bがプローブピン3ごとに設けられている。   1 to 3 show a probe card 1A of the first embodiment. A probe card 1A according to the first embodiment includes a wiring board 2 and a plurality of probe pins 3 as shown in FIG. The wiring board 2 is a general one used for the probe card 1A, and a wiring 2b such as a via and a connection electrode that is electrically connected to the probe pin 3 is provided for each probe pin 3 on the surface 2a.

複数のプローブピン3は、BGA型ICのボール型電極またはLGA型ICのランド型電極などに代表されるような、集積回路10にグリッド配置された複数の電極11にそれぞれ接触するものである。具体的には、複数のプローブピン3は、図2に示すように、その一端が電極11との接触端となる自由端3fであってその他端が配線板2に固定される固定端3rである水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されている。   The plurality of probe pins 3 are respectively in contact with a plurality of electrodes 11 arranged in a grid on the integrated circuit 10 such as a ball type electrode of a BGA type IC or a land type electrode of an LGA type IC. Specifically, as shown in FIG. 2, the plurality of probe pins 3 is a free end 3 f whose one end is a contact end with the electrode 11 and the other end is a fixed end 3 r fixed to the wiring board 2. Each is formed in a certain horizontal cantilever shape.

このプローブピン3の幅および厚みは30μm、その延在方向3LDの長さは700μm程度である。第1の実施形態においては、電極11のピッチ間距離が150μm程度に設定されているので、これらプローブピン3のピッチ間距離も同様に150μm程度に設定されている。また、プローブピン3の材質はNi−P系合金、Cu系合金、W(タングステン)系合金などの弾性および導電性に優れた金属材料を用いることが好ましい。   The probe pin 3 has a width and thickness of 30 μm, and its extending direction 3LD has a length of about 700 μm. In the first embodiment, since the distance between the pitches of the electrodes 11 is set to about 150 μm, the distance between the pitches of these probe pins 3 is also set to about 150 μm. The probe pin 3 is preferably made of a metal material having excellent elasticity and conductivity, such as a Ni-P alloy, a Cu alloy, and a W (tungsten) alloy.

図1に示したプローブピン3の細部を詳細に説明すると、図2および図3に示すように、プローブピン3における横L字形の直交部分は湾曲形成面3pによって形成されている。この湾曲形成面3pはプローブピン3の延在方向3LDと直交せずにY方向に傾いて形成されている。   The details of the probe pin 3 shown in FIG. 1 will be described in detail. As shown in FIGS. 2 and 3, the transverse L-shaped orthogonal portion of the probe pin 3 is formed by a curved surface 3p. The curved surface 3p is formed to be inclined in the Y direction without being orthogonal to the extending direction 3LD of the probe pin 3.

一般的には、湾曲形成面3pはプローブピン3の延在方向3LDと直交しており、そのために一般的なプローブピン3は集積回路10の電極11によって押下されるとプローブピン3がねじれずに下方にそのまま湾曲する。しかし、第1の実施形態のプローブピン3は後述するその製造方法に特徴があるために湾曲形成面3pが傾いた形状になっている。そのため、第1の実施形態のプローブピン3が集積回路10の電極11によって押下されると、プローブピン3がその延在方向3LDを回転軸としてわずかにねじれながら下方に湾曲する。ただし、このねじれはわずかなものであるため、プローブピン3が電極11から離間するまでには至らず、そのことにより特段の不都合は発生しない。   In general, the curved surface 3p is orthogonal to the extending direction 3LD of the probe pin 3, so that when the general probe pin 3 is pressed by the electrode 11 of the integrated circuit 10, the probe pin 3 does not twist. Curved downward as it is. However, since the probe pin 3 of the first embodiment is characterized by its manufacturing method to be described later, the curved surface 3p is inclined. Therefore, when the probe pin 3 of the first embodiment is pushed down by the electrode 11 of the integrated circuit 10, the probe pin 3 is bent downward while slightly twisting with the extending direction 3LD as the rotation axis. However, since this twist is slight, the probe pin 3 does not reach the electrode 11 so that no particular inconvenience occurs.

また、複数のプローブピン3は、図1に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の両方向に対してプローブピン3を傾斜させて配置されている。プローブピン3の傾斜角については、図1のように整合されていてもよいし、されていなくてもよい。プローブピン3の傾斜角が一定のパターンをもって整合されていれば、その整合されたプローブピン3の配置が特徴となり得る。   Further, as shown in FIG. 1, the plurality of probe pins 3 are arranged such that the probe pins 3 are inclined with respect to both two-dimensional directions (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11. . The inclination angle of the probe pin 3 may or may not be aligned as shown in FIG. If the tilt angles of the probe pins 3 are aligned with a certain pattern, the alignment of the aligned probe pins 3 can be a feature.

第1の実施形態の特徴として、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の両方向において、複数のプローブピン3を相互に平行にして配線板2に配置されている。説明の都合上、このような配置を第1の配置パターンと称すると、図1に示した第1の配置パターンにおいては、複数のプローブピン3がX方向から時計回りにそれぞれ60度程度傾斜して相互に平行に配置されている。   As a feature of the first embodiment, a plurality of probe pins 3 are arranged on the wiring board 2 in parallel with each other in both two-dimensional directions (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11. . For convenience of explanation, such an arrangement is referred to as a first arrangement pattern. In the first arrangement pattern shown in FIG. 1, the plurality of probe pins 3 are inclined about 60 degrees clockwise from the X direction. Are arranged parallel to each other.

次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法を説明する。第1の実施形態のプローブカード1Aの配線板2に配置されるプローブピン3は、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。   Next, a method for manufacturing the probe card 1A of the first embodiment will be described. The probe pins 3 arranged on the wiring board 2 of the probe card 1A of the first embodiment are mainly composed of three processes A (columnar resist mold forming process), process B (probe pin forming process) and process C (columnar resist). It is manufactured through a mold removal step.

工程Aにおいては、図4に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の一方向(Y方向)に、粘性が高いが流動性のあるレジスト液を連続的に塗布して硬化させる。これにより、配線板2の表面2aにおいてその一方向(Y方向)に対して平行に横たえる柱状レジスト型20をそれら電極11の一方向の配列(Y方向の配列)間隔と同様に形成する。この柱状レジスト型20における延在方向20LDと直交する縦断面の形状は、かまぼこ形(かまぼこ形とは、半円形、半楕円形、その他の閉じた曲線を半分に切断した形をいう。)、三角形、矩形などを選択することができる。第1の実施形態の柱状レジスト型20の縦断面は、図5に示すように、かまぼこ形状を採用している。プローブピン3は配線板2の配線2bと接続されるため、柱状レジスト型20の形成時においては、少なくとも配線板2の配線2bが一部露出するようにしておく。   In step A, as shown in FIG. 4, a highly viscous but fluid resist solution is applied in one direction (Y direction) in the two-dimensional direction (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11. Apply and cure continuously. Thereby, the columnar resist molds 20 that lie parallel to the one direction (Y direction) on the surface 2a of the wiring board 2 are formed in the same manner as the arrangement of the electrodes 11 in one direction (array in the Y direction). The shape of the longitudinal section perpendicular to the extending direction 20LD in the columnar resist mold 20 is a kamaboko shape (a kamaboko shape is a semicircular shape, a semielliptical shape, or a shape obtained by cutting other closed curves in half). A triangle, a rectangle, etc. can be selected. The vertical cross section of the columnar resist mold 20 of the first embodiment adopts a kamaboko shape as shown in FIG. Since the probe pin 3 is connected to the wiring 2b of the wiring board 2, at the time of forming the columnar resist mold 20, at least a part of the wiring 2b of the wiring board 2 is exposed.

工程Bにおいては、図6に示すように、柱状レジスト型20の延在方向(Y方向)20LDに対して傾斜させたプローブピン3を柱状レジスト型20の表面20aに薄膜形成する。前述の通り、プローブピン3の材質は、Ni−P系合金、Cu系合金、W(タングステン)系合金などの弾性および導電性に優れた金属材料が好ましい。プローブピン3の薄膜形成方法についてはスパッタやめっきなど種々の方法を選択することができる。   In step B, as shown in FIG. 6, the probe pin 3 inclined with respect to the extending direction (Y direction) 20 LD of the columnar resist mold 20 is formed as a thin film on the surface 20 a of the columnar resist mold 20. As described above, the probe pin 3 is preferably made of a metal material having excellent elasticity and conductivity, such as a Ni-P alloy, a Cu alloy, and a W (tungsten) alloy. Various methods such as sputtering and plating can be selected as a method for forming the thin film of the probe pin 3.

例えば、スパッタ法を選択する場合であれば、図6に示すように、配線板2の配線2bを始点として傾斜するプローブピン3の形状のパターンニングを柱状レジスト型20の表面20aに施す。また、めっき法を選択する場合、図7および図8に示すように、配線板2の表面2aおよび柱状レジスト型20の表面20aにCu系合金のシード膜23をスパッタ形成し、そのシード膜23の表面にレジスト膜21を形成してから、配線板2の配線2bを始点として傾斜するプローブピン3の形状に対応させたレジストパターン22をレジスト膜21にパターンニングする。そして、図9に示すように、レジストパターン22から露出したシード膜23の表面にNi−P系合金やCu系合金をめっきしてプローブピン3を薄膜形成する。なお、プローブピン3をめっき形成した場合には工程Cに移行する前にレジスト膜21の化学的除去およびイオンミリングによるシード膜23の物理的除去を行なっておく。   For example, when the sputtering method is selected, as shown in FIG. 6, patterning of the shape of the probe pin 3 that is inclined starting from the wiring 2 b of the wiring board 2 is performed on the surface 20 a of the columnar resist mold 20. When the plating method is selected, as shown in FIGS. 7 and 8, a Cu-based alloy seed film 23 is formed on the surface 2a of the wiring board 2 and the surface 20a of the columnar resist mold 20 by sputtering. After the resist film 21 is formed on the surface, a resist pattern 22 corresponding to the shape of the probe pin 3 inclined with the wiring 2b of the wiring board 2 as a starting point is patterned on the resist film 21. Then, as shown in FIG. 9, the probe pin 3 is formed into a thin film by plating the surface of the seed film 23 exposed from the resist pattern 22 with a Ni—P alloy or a Cu alloy. When the probe pin 3 is formed by plating, the resist film 21 is chemically removed and the seed film 23 is physically removed by ion milling before the process C is started.

工程Cにおいては、工程B(プローブピン形成工程)の終了後にレジスト除去剤を用いて柱状レジスト型20を化学的除去する。図3および図6に示すように、プローブピン3は除去した柱状レジスト型20に対して傾斜している。そのため、プローブピン3は横L字形の直交する部分を湾曲させて形成した形状であって、その湾曲形成面3pがプローブピン3の延在方向3LDと直交せずにY方向に傾いて形成される。以上の3つの工程を経てプローブカード1Aのプローブピン3が形成されている。   In step C, the columnar resist mold 20 is chemically removed using a resist remover after completion of step B (probe pin forming step). As shown in FIGS. 3 and 6, the probe pin 3 is inclined with respect to the removed columnar resist mold 20. Therefore, the probe pin 3 has a shape formed by bending an orthogonal portion of the horizontal L shape, and the curved surface 3p is formed to be inclined in the Y direction without being orthogonal to the extending direction 3LD of the probe pin 3. The The probe pin 3 of the probe card 1A is formed through the above three steps.

次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの作用を説明する。   Next, the operation of the probe card 1A of the first embodiment will be described.

第1の実施形態のプローブカード1Aにおいては、図1から図3に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、図18および図19に示すようなプローブピン103を傾斜させずに配置した場合と比較してプローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができるので、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。   In the probe card 1A of the first embodiment, as shown in FIGS. 1 to 3, the probe pin 3 is formed in a horizontal cantilever shape, and is inclined with respect to both the X direction and the Y direction. Has been. Therefore, the length of the probe pin 3 in the extending direction 3LD can be set longer than in the case where the probe pin 103 as shown in FIGS. It is easy to freely set the amount of displacement and the elastic stress to desired values.

具体例を挙げると、第1の実施形態のプローブピン3の延在方向3LDの長さは700μm程度であり、そのピッチ間距離が150μm程度に設定されているので、第1の実施形態のプローブピン3の自由端3fに0.05N(約5gf)程度の荷重が印加されると、その変位量は380μm程度になり、7.5GPaの応力を発生する。従来例においては、最大設定値である150μm以下の長さのプローブピン103の同荷重における最大変位量が5μm程度であり、その発生する応力が1.75GPaであった。この具体例からも、第1の実施形態のプローブピン3の変位量および弾性応力を自由に設定しやすくなったことがわかる。   As a specific example, the length of the extending direction 3LD of the probe pin 3 of the first embodiment is about 700 μm, and the distance between the pitches is set to about 150 μm. Therefore, the probe of the first embodiment When a load of about 0.05 N (about 5 gf) is applied to the free end 3 f of the pin 3, the amount of displacement becomes about 380 μm, and a stress of 7.5 GPa is generated. In the conventional example, the maximum displacement of the probe pin 103 having a length of 150 μm or less, which is the maximum setting value, under the same load is about 5 μm, and the generated stress is 1.75 GPa. From this specific example, it can be seen that the displacement amount and elastic stress of the probe pin 3 of the first embodiment can be easily set.

また、第1の実施形態のプローブピン3は、図1に示すように、第1の配置パターンをもって、配線板2に配置されている。第1の配置パターンとは、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向、つまりX方向およびY方向において複数のプローブピン3を相互に平行に配置させるパターンである。この第1の配置パターンを採用することにより、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちつつ、それらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。   Moreover, the probe pin 3 of 1st Embodiment is arrange | positioned at the wiring board 2 with a 1st arrangement pattern, as shown in FIG. The first arrangement pattern is a pattern in which a plurality of probe pins 3 are arranged in parallel with each other in both two-dimensional directions in the grid arrangement of the electrodes 11, that is, in the X direction and the Y direction. By adopting this first arrangement pattern, the probe pins 3 can be arranged while being inclined while keeping the arrangement intervals of the probe pins 3 constant, so that the probe pins 3 can be avoided from contacting each other. The length in the extending direction 3LD can be set long.

次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法の作用を説明する。   Next, the operation of the method for manufacturing the probe card 1A of the first embodiment will be described.

第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法においては、プローブピン3がY方向の電極11の配列にあわせて(つまり、所定の位置および方向に)横たえた柱状レジスト型20が配線板2に形成されており、その柱状レジスト型20の延在方向20LDに対して傾斜させながらプローブピン3が柱状レジスト型20の表面20aに薄膜形成されている。これにより、従来の薄膜生成技術を使用して第1の実施形態のプローブピン3を形成することができる。また、プローブピン3をスパッタ形成すれば、プローブピン3およびプローブカード1の小型化に寄与することができる。   In the method of manufacturing the probe card 1A of the first embodiment, the columnar resist mold 20 in which the probe pins 3 are laid in accordance with the arrangement of the electrodes 11 in the Y direction (that is, in a predetermined position and direction) is formed on the wiring board 2. The probe pin 3 is formed as a thin film on the surface 20 a of the columnar resist mold 20 while being inclined with respect to the extending direction 20 LD of the columnar resist mold 20. Thereby, the probe pin 3 of 1st Embodiment can be formed using the conventional thin film production | generation technique. Further, if the probe pins 3 are formed by sputtering, the probe pins 3 and the probe card 1 can be reduced in size.

また、この柱状レジスト型20の縦断面の形状は、かまぼこ形に形成されている。レジスト液の粘性を利用すればその縦断面を矩形にするよりもかまぼこ形にするほうが容易である。つまり、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることにより、柱状レジスト型20の成形性を向上させることができる。また、横L字形状のプローブピン3について直交部分を直交面によって形成せずに、湾曲湾曲面3pによて形状することができるので、プローブピン3が応力集中により破壊するのを抑制することができる。   Further, the shape of the longitudinal section of the columnar resist mold 20 is formed in a kamaboko shape. If the viscosity of the resist solution is used, it is easier to make a kamaboko shape than a rectangular cross section. That is, the formability of the columnar resist mold 20 can be improved by making the shape of the vertical cross section of the columnar resist mold 20 a kamaboko shape. Further, since the orthogonal L portion of the horizontal L-shaped probe pin 3 can be formed by the curved curved surface 3p without forming the orthogonal portion by the orthogonal surface, the probe pin 3 is prevented from being broken due to stress concentration. Can do.

次に、第2の実施形態のプローブカード1Bを説明する。   Next, a probe card 1B of the second embodiment will be described.

第2の実施形態のプローブカード1Bは、第1の実施形態と同様のプローブピン3および配線板2を備えており、図10に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向(X方向およびY方向)に対して傾斜させて複数のプローブピン3が配置されている。第1の実施形態との相違点は、プローブピン3の配置パターンが第1の配置パターンでなく、第2の配置パターンになっていることである。   The probe card 1B of the second embodiment includes the probe pins 3 and the wiring board 2 similar to those of the first embodiment, and as shown in FIG. 10, the two-dimensional direction in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11 is provided. A plurality of probe pins 3 are arranged to be inclined with respect to both directions (X direction and Y direction). The difference from the first embodiment is that the arrangement pattern of the probe pins 3 is not the first arrangement pattern but the second arrangement pattern.

第2の配置パターンは、図10に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)のいずれか一方向(Y方向)において、複数のプローブピン3を鏡面対称にしてからそれらをその一方向(Y方向)の電極11に対して交互に配置させるパターンである。また、第2の配置パターンは、2次元方向(X方向およびY方向)の他方向(X方向)において、複数のプローブピン3を相互に平行に配置させるパターンである。   As shown in FIG. 10, in the second arrangement pattern, the plurality of probe pins 3 are mirror-finished in any one direction (Y direction) of the two-dimensional direction (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11. This is a pattern in which they are arranged alternately with respect to the electrodes 11 in one direction (Y direction) after being symmetric. The second arrangement pattern is a pattern in which a plurality of probe pins 3 are arranged in parallel to each other in the other direction (X direction) of the two-dimensional direction (X direction and Y direction).

第2の実施形態のプローブカード1Bの製造方法は以下の通りである。第1の実施形態と同様、第2の実施形態のプローブカード1Bは、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。第1の実施形態との相違点は、工程Bにおいて、柱状レジスト型20の表面20aに施される薄膜形成のパターニングが異なる点にある。   The manufacturing method of the probe card 1B of the second embodiment is as follows. Similar to the first embodiment, the probe card 1B according to the second embodiment mainly includes three processes A (columnar resist mold forming process), process B (probe pin forming process), and process C (columnar resist mold removing process). ) Is manufactured through. The difference from the first embodiment is that in step B, the patterning for forming a thin film applied to the surface 20a of the columnar resist mold 20 is different.

つまり、図11に示すように、工程Aにおいては、柱状レジスト型20をY方向に延在させて形成する。工程Bにおいては、Y方向に延在する柱状レジスト型20の同一表面20aにおいて、複数のプローブピン3を鏡面対称かつ交互に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。また、並列配置された複数の柱状レジスト型20においては、X方向において複数のプローブピン3を相互に平行に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。その後、工程Cにおいて柱状レジスト型20を化学的除去してプローブカード1Bのプローブピン3が形成される。   That is, as shown in FIG. 11, in step A, the columnar resist mold 20 is formed to extend in the Y direction. In the process B, patterning for forming a thin film is performed on the same surface 20a of the columnar resist mold 20 extending in the Y direction so that a plurality of probe pins 3 are arranged mirror-symmetrically and alternately. Further, in the plurality of columnar resist dies 20 arranged in parallel, patterning for forming a thin film is performed in which a plurality of probe pins 3 are arranged in parallel with each other in the X direction. Thereafter, in step C, the columnar resist mold 20 is chemically removed to form the probe pins 3 of the probe card 1B.

なお、工程Aにおいては、第1の実施形態と同様、柱状レジスト型20の縦断面がかまぼこ形に形成されていることが好ましい(図5を参照)。   In step A, it is preferable that the vertical cross section of the columnar resist mold 20 is formed in a kamaboko shape as in the first embodiment (see FIG. 5).

次に、第2の実施形態のプローブカード1Bの作用を説明する。   Next, the operation of the probe card 1B of the second embodiment will be described.

第2の実施形態のプローブカード1Bにおいては、第1の実施形態と同様、図10に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、プローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができるので、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。   In the probe card 1B of the second embodiment, as in the first embodiment, as shown in FIG. 10, the probe pin 3 is formed in a horizontal cantilever shape, and in both the X direction and the Y direction. It is inclined and arranged. Therefore, since the length of the probe pin 3 in the extending direction 3LD can be set long, it is easy to freely set the displacement amount and the elastic stress of the probe pin 3 to desired values.

また、第2の実施形態のプローブカード1Bにおいては、第1の実施形態とは異なり、図10に示すように、複数のプローブピン3が第2の配置パターンをもって配線板2に配置されている。そのため、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。   Also, in the probe card 1B of the second embodiment, unlike the first embodiment, as shown in FIG. 10, a plurality of probe pins 3 are arranged on the wiring board 2 with a second arrangement pattern. . For this reason, the probe pins 3 can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval between the probe pins 3 constant, so that the length of the probe pins 3 in the extending direction 3LD is increased while avoiding mutual contact of the probe pins 3. Can be set.

なお、図10だけを参照すると、1のプローブピン3の先端である自由端3fが隣位するプローブピン3の根元である固定端3rに近接しているようにも見受けられるが、これらは高さが異なるため、2次元方向(X方向およびY方向)の直交方向たるZ方向においては離間しており、それらが接触するおそれはない。   Referring only to FIG. 10, it can be seen that the free end 3 f that is the tip of one probe pin 3 is close to the fixed end 3 r that is the root of the adjacent probe pin 3. Since they are different from each other, they are separated in the Z direction, which is the orthogonal direction of the two-dimensional direction (X direction and Y direction), and there is no possibility of contact.

第2の実施形態のプローブカード1Bの製造方法の作用については、前述した第1の実施形態における製造方法の作用と同様である。また、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることによる作用も同様である。   About the effect | action of the manufacturing method of the probe card 1B of 2nd Embodiment, it is the same as that of the manufacturing method in 1st Embodiment mentioned above. The same effect is obtained by making the shape of the vertical cross section of the columnar resist mold 20 a kamaboko shape.

次に、第3の実施形態のプローブカード1Cを説明する。   Next, a probe card 1C according to the third embodiment will be described.

第3の実施形態のプローブカード1Cは、第1または第2の実施形態と同様のプローブピン3および配線板2を備えており、図12または図13に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向(X方向およびY方向)に対して傾斜させて複数のプローブピン3が配置されている。第1または第2の実施形態との相違点は、プローブピン3の配置パターンが第1または第2の配置パターンでなく、第3の配置パターンになっていることである。   The probe card 1C of the third embodiment includes probe pins 3 and a wiring board 2 similar to those of the first or second embodiment. As shown in FIG. 12 or FIG. 13, a grid of a plurality of electrodes 11 is provided. A plurality of probe pins 3 are arranged so as to be inclined with respect to both two-dimensional directions (X direction and Y direction) in the arrangement. The difference from the first or second embodiment is that the arrangement pattern of the probe pins 3 is not the first or second arrangement pattern but the third arrangement pattern.

第3の配置パターンは、図12または図13に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)のいずれか一方向(Y方向)において、複数のプローブピン3の延在方向3LDを対向させ(つまり、プローブピン3の固定端3rからその自由端3fに向かう方向を対向させ)、かつ、平行に配置させるパターンである。簡単に換言すると、複数のプローブピン3をすべて同一の傾斜角に傾斜させ、そのうちの一部(約半数)のプローブピン3を他のプローブピン3と対向させた後に対向させたプローブピン3をY方向に平行移動したような配置パターンである。また、第3の配置パターンは、2次元方向(X方向およびY方向)の他方向(X方向)において、複数のプローブピン3を平行(図12を参照)または鏡面対称(図13を参照)に配置させるパターンである。   As shown in FIG. 12 or FIG. 13, the third arrangement pattern includes a plurality of probe pins in one direction (Y direction) of the two-dimensional direction (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11. 3 extending directions 3LD are opposed (that is, the direction from the fixed end 3r of the probe pin 3 toward the free end 3f is opposed) and arranged in parallel. In other words, a plurality of probe pins 3 are all inclined at the same inclination angle, and a part (about half) of the probe pins 3 are made to face each other probe pin 3 and then the probe pins 3 made to face each other are arranged. It is an arrangement pattern that is translated in the Y direction. The third arrangement pattern is such that the probe pins 3 are parallel (see FIG. 12) or mirror-symmetrical (see FIG. 13) in the other direction (X direction) in the two-dimensional direction (X direction and Y direction). This is a pattern to be arranged.

この第3の実施形態のプローブカード1Cの製造方法は以下の通りである。第1または第2の実施形態と同様、第3の実施形態のプローブカード1Cは、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。第1または第2の実施形態との相違点は、工程Bにおいて、柱状レジスト型20の表面20aに施されるプローブピン3の薄膜形成におけるパターニングが異なる点にある。   The manufacturing method of the probe card 1C of the third embodiment is as follows. Similar to the first or second embodiment, the probe card 1C of the third embodiment mainly includes three processes A (columnar resist mold forming process), process B (probe pin forming process), and process C (columnar resist). It is manufactured through a mold removal step. The difference from the first or second embodiment is that in step B, the patterning in forming a thin film of the probe pin 3 applied to the surface 20a of the columnar resist mold 20 is different.

つまり、図14または図15に示すように、工程Aにおいては、柱状レジスト型20をY方向に延在させて形成する。工程Bにおいては、Y方向に延在する柱状レジスト型20の同一表面20aにおいて、複数のプローブピン3の延在方向3LDを対向させ(つまり、プローブピン3の固定端3rからその自由端3fに向かう方向を対向させ)、かつ、平行に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。また、並列配置された複数の柱状レジスト型20においては、X方向において複数のプローブピン3を相互に平行(図14を参照)または鏡面対称(図15を参照)に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。その後、工程Cにおいて柱状レジスト型20を化学的除去してプローブカード1Cのプローブピン3が形成される。   That is, as shown in FIG. 14 or FIG. 15, in step A, the columnar resist mold 20 is formed to extend in the Y direction. In step B, the extending direction 3LD of the plurality of probe pins 3 is made to face each other on the same surface 20a of the columnar resist mold 20 extending in the Y direction (that is, from the fixed end 3r of the probe pin 3 to its free end 3f). The thin film formation patterning is performed in such a manner that the facing directions are opposed to each other and arranged in parallel. Further, in the plurality of columnar resist dies 20 arranged in parallel, patterning for forming a thin film in which the plurality of probe pins 3 are arranged in parallel (see FIG. 14) or mirror-symmetric (see FIG. 15) in the X direction. To do. Thereafter, in step C, the columnar resist mold 20 is chemically removed to form the probe pin 3 of the probe card 1C.

なお、工程Aにおいては、第1または第2の実施形態と同様、柱状レジスト型20の縦断面がかまぼこ形に形成されていることが好ましい(図5を参照)。   In step A, it is preferable that the vertical cross section of the columnar resist mold 20 is formed in a semi-cylindrical shape as in the first or second embodiment (see FIG. 5).

次に、第3の実施形態のプローブカード1Cの作用を説明する。   Next, the operation of the probe card 1C of the third embodiment will be described.

第3の実施形態のプローブカード1Cにおいては、第1または第2の実施形態と同様、図12または図13に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、プローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができ、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。   In the probe card 1C of the third embodiment, as in the first or second embodiment, as shown in FIG. 12 or FIG. 13, the probe pin 3 is formed in a horizontal cantilever shape, It is arranged to be inclined with respect to both directions in the Y direction. Therefore, the length of the probe pin 3 in the extending direction 3LD can be set long, and the displacement amount and the elastic stress of the probe pin 3 can be easily set to desired values.

また、第3の実施形態のプローブカード1Cにおいては、第1または第2の実施形態とは異なり、図12または図13に示すように、複数のプローブピン3が第3の配置パターンをもって配線板2に配置されている。そのため、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。   Also, in the probe card 1C of the third embodiment, unlike the first or second embodiment, as shown in FIG. 12 or FIG. 13, a plurality of probe pins 3 have a third arrangement pattern and a wiring board. 2 is arranged. For this reason, the probe pins 3 can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval between the probe pins 3 constant, so that the length of the probe pins 3 in the extending direction 3LD is increased while avoiding mutual contact of the probe pins 3. Can be set.

なお、第2の実施形態と同様、図12または図13だけを参照すると、1のプローブピン3の先端である自由端3fが隣位するプローブピン3の根元である固定端3rに近接しているようにも見受けられるが、これらは高さが異なるため、2次元方向(X方向およびY方向)の直交方向たるZ方向においては離間しており、それらが接触するおそれはない。   Similarly to the second embodiment, referring only to FIG. 12 or FIG. 13, the free end 3 f that is the tip of one probe pin 3 is close to the fixed end 3 r that is the root of the adjacent probe pin 3. However, since they are different in height, they are separated in the Z direction, which is the orthogonal direction of the two-dimensional direction (X direction and Y direction), and there is no possibility of contact.

第3の実施形態のプローブカード1Cの製造方法の作用については、前述した第1または第2の実施形態における製造方法の作用と同様である。また、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることによる作用も同様である。   The operation of the method for manufacturing the probe card 1C of the third embodiment is the same as the operation of the manufacturing method in the first or second embodiment described above. The same effect is obtained by making the shape of the vertical cross section of the columnar resist mold 20 a kamaboko shape.

すなわち、第1から第3の実施形態のプローブカード1A〜Cおよびその製造方法によれば、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望する値に自由に設定することができるので、複数の電極11がグリッド配置された集積回路10の導通検査に水平型カンチレバー形状のプローブピン3を使用することができるという効果を奏する。   That is, according to the probe cards 1A to 1C of the first to third embodiments and the manufacturing method thereof, the displacement amount and the elastic stress of the probe pin 3 can be freely set to desired values. The horizontal cantilever-shaped probe pin 3 can be used for the continuity test of the integrated circuit 10 in which 11 is arranged in a grid.

なお、本発明は、前述した実施形態などに限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。   In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above etc., A various change is possible as needed.

第1の実施形態のプローブカードを集積回路側から見た平面図The top view which looked at the probe card of a 1st embodiment from the integrated circuit side 図1の2−2矢視断面図2-2 sectional view of FIG. 図1の3−3矢視断面図3-3 arrow sectional view of FIG. 第1の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which formed the columnar resist type | mold on the wiring board of 1st Embodiment seeing from the integrated circuit side 図4の5−5矢視断面図4-5 arrow sectional view 図4の配線板にプローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which formed the thin film of the probe pin in the wiring board of FIG. 4 seeing from the integrated circuit side プローブピンをめっき形成する場合のレジスト膜およびレジストパターンの形成状態を集積回路側から見て示す平面図A plan view showing the formation state of the resist film and the resist pattern when the probe pin is formed by plating, as viewed from the integrated circuit side 図7の8−8矢視断面図8-8 cross-sectional view of FIG. 図8に示したレジストパターンの内部にプローブピンをめっき形成した状態を示す縦断面図FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a state in which probe pins are formed by plating inside the resist pattern shown in FIG. 第2の実施形態のプローブカードを集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the probe card of 2nd Embodiment seeing from the integrated circuit side 第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which formed the column-shaped resist type | mold on the wiring board of 2nd Embodiment, and formed the thin film of the probe pin from the integrated circuit side 第3の実施形態のプローブカードであってX方向のプローブピンを平行に配置したパターンを集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the pattern which is the probe card of 3rd Embodiment and which has arrange | positioned the probe pin of X direction in parallel seeing from the integrated circuit side 第3の実施形態のプローブカードであってX方向のプローブピンを鏡面対称にしてから配置したパターンを集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the pattern which is the probe card of 3rd Embodiment, and was arrange | positioned after making the probe pin of X direction mirror-symmetrical from the integrated circuit side 図12に示した第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which formed the column-shaped resist type | mold on the wiring board of 2nd Embodiment shown in FIG. 12, and formed the thin film of the probe pin from the integrated circuit side 図13に示した第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which formed the pillar-shaped resist type | mold on the wiring board of 2nd Embodiment shown in FIG. 13, and formed the thin film of the probe pin from the integrated circuit side 従来のプローブカードのプローブピンにペリフェラル配置された集積回路の複数の電極を接触させた状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which contacted the several electrode of the integrated circuit arranged peripherally with the probe pin of the conventional probe card seeing from the integrated circuit side 図16の17−17矢視断面図17-17 sectional view of FIG. 従来のプローブカードのプローブピンにグリッド配置された集積回路の複数の電極を接触させた状態を集積回路側から見て示す平面図The top view which shows the state which contacted the several electrode of the integrated circuit grid-arranged to the probe pin of the conventional probe card seeing from the integrated circuit side 図18の19−19矢視断面図19-19 cross-sectional view of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1A、1B、1C プローブカード
2 配線板
3 プローブピン
3LD (プローブピンの)延在方向
20 柱状レジスト型
20LD (柱状レジスト型の)延在方向
1A, 1B, 1C Probe card 2 Wiring board 3 Probe pin 3LD (Probe pin) extending direction 20 Columnar resist type 20LD (Columnar resist type) extending direction

Claims (9)

集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンと、
前記複数のプローブピンを配置する配線板と
を備えており、
前記複数のプローブピンは、その一端が前記電極との接触端となる自由端であってその他端が前記配線板に固定される固定端である水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されているとともに、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向に対して前記プローブピンを傾斜させて配置されている
ことを特徴とするプローブカード。
A plurality of probe pins that respectively contact a plurality of electrodes arranged in a grid on the integrated circuit;
A wiring board on which the plurality of probe pins are arranged;
The plurality of probe pins are each formed in a horizontal cantilever shape, one end of which is a free end that is a contact end with the electrode and the other end is a fixed end that is fixed to the wiring board. The probe pins are arranged so as to be inclined with respect to both two-dimensional directions in a grid arrangement of a plurality of electrodes.
A probe card characterized by that.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
The plurality of probe pins are arranged on the wiring board with a first arrangement pattern in which the plurality of probe pins are arranged in parallel in both two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. The probe card according to claim 1.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
The plurality of probe pins are alternately arranged with a plurality of probe pins in mirror symmetry in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes, and in parallel in the other directions. The probe card according to claim 1, wherein the probe card is arranged on the wiring board with a second arrangement pattern to be arranged.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
The plurality of probe pins are arranged in parallel while facing the extending direction of the plurality of probe pins in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes, and the plurality of probe pins in the other direction. 2. The probe card according to claim 1, wherein the probe card is arranged on the wiring board with a third arrangement pattern in which the two are arranged in mirror symmetry or in parallel.
集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンを配線板に配置してなるとともに、
前記複数のプローブピンは、その一端が前記電極との接触端となる自由端となりその他端が前記配線板に固定される固定端となる水平型カンチレバーであるプローブカードの製造方法であって、
前記複数のプローブピンは、
前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の一方向に対して平行に横たえる柱状レジスト型を前記一方向の配列にあわせて前記配線板に形成する工程Aと、
前記柱状レジスト型の延在方向に対して傾斜させた方向に延在する前記プローブピンを前記柱状レジスト型の表面に薄膜形成する工程Bと、
前記工程Bの終了後に前記柱状レジスト型を除去する工程Cとを経て形成されている
ことを特徴とするプローブカードの製造方法。
A plurality of probe pins that respectively contact a plurality of electrodes arranged in a grid on the integrated circuit are arranged on the wiring board, and
The plurality of probe pins is a method of manufacturing a probe card that is a horizontal cantilever whose one end is a free end that is a contact end with the electrode and the other end is a fixed end that is fixed to the wiring board,
The plurality of probe pins are:
Forming a columnar resist mold that lies parallel to one direction in a two-dimensional direction in the grid arrangement of the plurality of electrodes on the wiring board in accordance with the arrangement in the one direction;
Forming a thin film on the surface of the columnar resist mold, the probe pin extending in a direction inclined with respect to the extending direction of the columnar resist mold; and
A method of manufacturing a probe card, comprising: a step C after removing the columnar resist mold after the step B.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
The plurality of probe pins are arranged on the wiring board with a first arrangement pattern in which the plurality of probe pins are arranged in parallel in both two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. A method for manufacturing a probe card according to claim 5.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
The plurality of probe pins are alternately arranged with a plurality of probe pins in mirror symmetry in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes, and in parallel in the other directions. The probe card manufacturing method according to claim 5, wherein the probe card is arranged on the wiring board with a second arrangement pattern to be arranged.
前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
The plurality of probe pins are arranged in parallel while facing the extending direction of the plurality of probe pins in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes, and the plurality of probe pins in the other direction. The probe card manufacturing method according to claim 5, wherein the wiring board is arranged with a third arrangement pattern in which are arranged in mirror symmetry or parallel to each other.
前記柱状レジスト型における延在方向と直交する縦断面は、かまぼこ形状である
ことを特徴とする請求項5から請求項8のいずれか1項に記載のプローブカードの製造方法。
The method for manufacturing a probe card according to any one of claims 5 to 8, wherein a vertical cross section perpendicular to the extending direction in the columnar resist mold has a kamaboko shape.
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