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JP2010235600A5 - - Google Patents

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で表されるヒドロキシフルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得、さらに一般式[7]
前記一般式[2]において、Aはアンモニウムイオンを表し、Rは炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式有機基、炭素数3〜20の脂環式有機基と直鎖状のアルキレン基からなる有機基、炭素数3〜30の単環式もしくは多環式ラクトン、あるいは炭素数6〜20のアリール基を表す。(ここで、該アルキル基、脂環式有機基、脂環式有機基と直鎖状のアルキレン基からなる有機基、単環式もしくは多環式ラクトン及びアリール基上の水素原子の一部または全てはフッ素、ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシ基で置換されていても良い。また、該アルキル基、脂環式有機基もしくは脂環式有機基と直鎖状のアルキレン基からなる有機基を構成する同一炭素上の2つの水素原子は1つの酸素原子で置換されケト基となっていても良い。ただし、Rとして、その構造内に、非共役不飽和部位(二重結合または三重結合)を有するものは除く。Xは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6の含フッ素アルキル基からなる群より選ばれた基を表す。nは、1〜8の整数を表す。)
で示されるアンモニウムイオンは具体的に、アンモニウムイオン(NH )、メチルアンモニウムイオン(MeNH )、ジメチルアンモニウムイオン(MeNH )、トリメチルアンモニウムイオン(MeNH)、エチルアンモニウムイオン(EtNH )、ジエチルアンモニウムイオン(EtNH )、トリエチルアンモニウムイオン(EtNH)、n−プロピルアンモニウムイオン(n−PrNH )、ジ−n−プロピルアンモニウムイオン(n−PrNH )、トリ−n−プロピルアンモニウムイオン(n−PrNH)、i−プロピルアンモニウムイオン(i−PrNH )、ジ−i−プロピルアンモニウムイオン(i−PrNH )、トリ−i−プロピルアンモニウムイオン(i−Pr NH)、n−ブチルアンモニウムイオン(n−BuNH )、ジ−n−ブチルアンモニウムイオン(n−BuNH )、トリ−n−ブチルアンモニウムイオン(n−BuNH)、sec−ブチルアンモニウムイオ(sec−BuNH )、ジ−sec−ブチルアンモニウムイオン(sec−BuNH )、トリ−sec−ブチルアンモニウムイオン(sec−BuNH)、tert−ブチルアンモニウムイオン(t−BuNH )、ジ−tert−ブチルアンモニウムイオン(t−BuNH )、トリ−tert−ブチルアンモニウムイオン(t−BuNH)、ジイソプロピルエチルアンモニウム(−PrEtNH)、フェニルアンモニウムイオン(PhNH )、ジフェニルアンモニウムイオン(PhNH )、トリフェニルアンモニウムイオン(PhNH)、テトラメチルアンモニウムイオン(Me)、テトラエチルアンモニウムイオン(Et)、トリメチルエチルアンモニウムイオン(MeEtN)、テトラ−n−プロピルアンモニウムイオン(n−Pr)、テトラ−i−プロピルアンモニウムイオン(i−Pr)、テトラ−n−ブチルアンモニウムイオン(n−Bu)、もしくは下記の構造を有するイオンが例示できる。
具体的には、トリメチルアンモニウムイオン(MeNH)、トリエチルアンモニウムイオン(EtNH)、トリ−n−プロピルアンモニウムイオン(n−PrNH)、トリ−i−プロピルアンモニウムイオン(i−Pr NH)、トリ−n−ブチルアンモニウムイオン(n−BuNH)、トリ−sec−ブチルアンモニウムイオン(sec−BuNH)、トリ−tert−ブチルアンモニウムイオン(t−BuNH)、ジイソプロピルエチルアンモニウム(n−PrEtNH)、トリフェニルアンモニウムイオン(PhNH)、もしくは下記の構造を有するイオンが例示できる。
これらの中でも特に、トリメチルアンモニウムイオン(MeNH)、トリエチルアンモニウムイオン(EtNH)、ジイソプロピルエチルアンモニウム(−PrEtNH)が好ましい。
反応終了後、抽出、再結晶等の通常の手段により、一般式[10]で表されるフルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得ることができる。また、必要によりカラムクロマトグラフィー、再結晶等により精製することもできる。
本工程は、第工程における、一般式[7]で表されるカルボン酸類およびカルボン酸ハライド類の代わりに一般式[11]で表されるカルボン酸類およびカルボン酸ハライド類を使用し、一般式[8]で表されるカルボン酸無水物類の代わりに一般式[12]で表されるカルボン酸無水物類を使用する以外は第工程と同様の方法を用い、対応するブロモフルオロアルコールから一般式[1]で表されるカルボン酸ブロモフルオロアルキルエステルを製造することができる。
[実施例1−1]
[安息香酸 6−ブロモ−5,5,6,6−テトラフルオロヘキサンの製造](前工程:エステル化工程1)
2Lの反応器に、実施例1−3と同様の方法で得られたトリエチルアンモニウム 1,1,2,2−テトラフルオロ−6−ベンゾイルオキシヘキサン−1−スルホナート20.0g(純度98%、42.7mmol)、水 50mL、48%水酸化ナトリウム水溶液 10g(120mmol/2.8当量)を加え、室温で2時間攪拌した。その後、37%塩酸水溶液 15g(152mmol/3.6当量)を加え室温で1時間攪拌し、ジイソプロピルエーテル 30mLで2回洗浄し、得られた水層を溶媒留去することで目的とする1,1,2,2−テトラフルオロ−6−ヒドロキシヘキサンスルホン酸ナトリウム 14.9gを得た。このとき純度は75%、収率は95%であった。
[トリフェニルスルホニウム 1,1,2,2−テトラフルオロ−6−ヒドロキシヘキサンスルホナートの物性]
1H NMR(測定溶媒:重ジメチルスルホキシド,基準物質:テトラメチルシラン);δ=7.90(m,15H),4.43(s,1H),3.37(m,2H),2.15(m,2H),1.47(m,4H)
19F NMR(測定溶媒:重ジメチルスルホキシド,基準物質:トリクロロフルオロメタン);δ=−111.9(s,2F)、−117.3(s,2F)
[実施例3−3]
[トリフェニルスルホニウム 1,1,2,2−テトラフルオロ−6−メタクロイルオキシヘキサンスルホナートの製造](第5工程:エステル化工程2)
温度計、コンデンサー、滴下ロートを備えたガラスのフラスコに比較例1−2で得られた、純度39%の1,1,2,2−テトラフルオロ−6−シクロヘキシルカルボニルオキシヘキサン−1−スルフィン酸ナトリウム 10.0g(10.5mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物を触媒量及び水10mlを投入し撹拌した。その後、氷浴にて30%過酸化水素水2.4g(21.0mmol)を滴下した。滴下終了後、室温にて1時間撹拌を継続し、19F NMRにて反応終了を確認した。反応液を濃縮後、ジイソプロピルエーテル10mlで洗浄した。続いてろ過し、得られた固体を乾燥後、白色固体として1,1,2,2−テトラフルオロ−6−シクロヘキシルカルボニルオキシヘキサン−1−スルホン酸ナトリウム 9.1g(収率90%、純度40%)が得られた。このとき、7%のシクロヘキサンカルボン酸 6−ブロモ−5,5,6,6−テトラフルオロフルオロヘキサンが副生していた。

Claims (1)

  1. 請求項乃至請求項9の何れかにおいて、酸化反応後に得られたフルオロアルカンスルホン酸アンモニウム塩の粗体を、有機溶媒で抽出し、その有機溶媒からなる層を、水で洗浄して精製することを特徴とする、請求項乃至請求項9の何れかに記載の方法。
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