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JP2009032569A - 構造体およびこれを用いた装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 一方側を自由端とした構造体において、被処理流体に対して良好に処理することができる構造体構造体及びこれを用いた装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】 本発明の構造体は、第1側部7と、第1側部7とは離間して配置される第2側部8と、第1電極3を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端1aであり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端1bである第1電極部1と、第2電極4を保持してなり、他方側が、第2側部8に固定された固定端2aであり、一方側が、第1側部7側に向かって延在する自由端である第2電極部2とを備え、第1電極部1と第2電極部2とは、間に空間9を介して対向するように配置されるとともに、第2側部8内部の第1電極部1の他方側に対向する領域には、第2電極4に電気的に接続された補助電極11を備えている。
【選択図】 図2

Description

本発明は、一酸化炭素(CO)や窒素酸化物(NOx)、硫黄酸化物(SOx)の酸化性成分及び炭化水素(HC)等を含む被処理流体を効率良く処理できる構造体に関するものである。また、この構造体を用いた装置に関するものである。
一般家庭で使用されている湯沸かし器の不完全燃焼時に排出されるCOガスやディーゼルエンジン、ガソリンエンジンからの排ガス、或いは焼却炉から出される排ガス等の被処理流体中には、CO、カーボン、SOF(Soluble Organic Fraction)、高分子有機化合物、硫酸ミスト等のPM、NOxやSOxの酸化性成分、HC等が含まれている。このようなPMや酸化性成分、HC等の排出を抑制する方法として、プラズマ反応を利用してCOやPM等を浄化するという技術が提案されている。
このようなプラズマ反応により被処理流体を浄化するための装置は、一対の電極を一定の距離だけ離間して対向させた構造を有している。そして、プラズマ反応による浄化は、対向する一対の電極間に高電圧を印加させてプラズマ場を発生させ、このプラズマ場内に上述した被処理流体を通過させることにより、被処理流体を分解させるものである。なお、一対の電極は、それぞれ絶縁体により覆われており、この絶縁体の端部を側壁部が支持している。
なお、このような構造体には、処理装置の稼動した際の熱等の熱応力により絶縁体や側壁部が破損、すなわち構造体が破損してプラズマ反応の低下を抑制してしまうことを抑制するため、絶縁体の一方側を側壁部に固定された固定端とし、絶縁体の他方側を側壁部に固定されない自由端としたものが提案されている。
特開2004−92589号公報 特開2005−93107号公報 特開2005−113706号公報
しかしながら、絶縁体の一方側を自由端とした構造体においては、この構造体の自由端側の絶縁体と側壁部との間には、空間が形成される。この絶縁体の自由端側と側壁部との間の空間を通過する被処理流体は、第1電極と第2電極との間のプラズマ場を通過しないため、第1電極と第2電極との間を通過する被処理流体と比較して、良好にプラズマ反応されないことが懸念される。
本発明は、上記想定に鑑み案出されたもので、その目的は、一方側を自由端とした構造体において、被処理流体に対して良好に処理することができる構造体及びこれを用いた装置を提供することにある。
本発明の構造体は、第1側部と、該第1側部とは離間して配置される第2側部と、平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、前記第1側部に固定された固定端であり、他方側が、前記第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、前記第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部とを備え、前記第1電極部の主面と第2電極部の主面とは、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、前記第2側部内部の前記第1電極部の他方側に対向する領域には、補助電極を備えている。
また、好ましくは、前記第1電極部の他方側と前記補助電極との間隔は、前記第1電極部と前記第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短い。
また、好ましくは、前記補助電極は、前記第1電極部が振動可能な方向における該第1電極部の幅よりも、前記方向における幅が大きい。
また、好ましくは、前記補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備えている。
本発明の装置は、本発明の構造体と、前記構造体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、前記第1電極と前記補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えている。
また、好ましくは、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、前記第1電極部の主面と前記第2電極部の主面とが対向する第1の空間内、及び前記第1電極部の他方側と前記補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。
また、好ましくは、前記被処理流体が酸素であり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。
また、好ましくは、前記被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、前記空間から排出される被処理ガスを、前記空間から流出させる第2の流路とをさらに備えている。
本発明の構造体は、第1側部と、第1側部とは離間して配置される第2側部と、平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端であり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部とを備え、第1電極部と第2電極部とは、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、第2側部内部の第1電極部の他方側に対向する領域には、補助電極を備えている。これにより、第1電極部の他方側を自由端とした際にできる第1電極と補助電極との間の空間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第1電極部の他方側を自由端として構造体の破損を抑制することができるとともに、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に処理できる。
また、好ましくは、第1電極部の他方側と補助電極との間隔は、第1電極部と第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短いことから、第1電極と補助電極との間においても、第1電極と第2電極との間の空間と同様にプラズマ場を発生させることができるので、第1電極と補助電極との間にてプラズマ場が大きく低下することを抑制することができ、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に反応、分解することができる。
また、好ましくは、補助電極は、第1電極部が振動可能な方向における第1電極部の幅よりも、方向における幅が大きいことから、振動等により第1電極部が振動可能な方向に振動したとしても、補助電極が第1電極に対向するので、第1電極と補助電極との間にプラズマ場を発生させ、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に処理できる。
また、好ましくは、補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備えていることから、これらの導体と第1電極とによりプラズマ場を発生させることができるようになる。
本発明の装置は、本発明の構造体と、構造体の第1電極と第2電極とに接続され、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、第1電極と補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えている。これにより、第1電極と第2電極との間および第1電極と補助電極との間にプラズマ場を発生させることができる。
また、好ましくは、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、第1電極部と第2電極部とが対向する第1の空間内、及び第1電極部の他方側と補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。これにより、第1電極と第2の電極との間の第1の空間内および第2の空間内を流れる被処理流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。
また、好ましくは、被処理流体が酸素であり、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。これにより、プラズマ反応により酸素をオゾンに変化させることができるオゾン発生器となる。
また、好ましくは、被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、排ガスを流入させる第1の流路と、第1或いは第2の空間から排出される被処理ガスを、前記第1或いは第2の空間から流出させる第2の流路とをさらに備えている。これにより、第1の流路を介して排ガスを構造体の第1或いは第2の空間に良好に流入させることができる。したがって構造体において排ガスをプラズマ反応により良好に浄化した被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路を介して放出させることができる。
本発明の構造体について図を用いて説明する。図1(a)は、本発明の構造体の一例を示す平面図である。図1(b)は、図1(a)のA方向から見た側面図である。図2(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図2(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図2(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。図3は、図1における構造体の斜視図の一例である。これらの図において、1は第1電極部、2は第2電極部、3は第1電極、4は第2電極、5は第1絶縁部、6は第2絶縁部、7は第1側部、8は第2側部、9,9’,9’’は空間、10は外部端子、11は補助電極である。
本発明の構造体は、第1側部7と、第1側部7とは離間して配置される第2側部8と、平板状の第1電極3を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端1aであり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端1bである第1電極部1と、平板状の第2電極4を保持してなり、他方側が、第2側部8に固定された固定端2aであり、一方側が、第1側部7側に向かって延在する自由端2bである第2電極部2とを備えている。そして、第1電極部1と第2電極部2とは、間に空間(第1の空間9)を介して対向するように配置される。また、第2側部8は、その内部の第1電極部1の他方側に対向する領域に、補助電極11を備えている。
そして、第1電極部1は、第1電極3及び第1電極3を保持する第1絶縁部5を備え、第2電極部2は、第2電極4及び第2電極4を保持する第2絶縁部6を備えている。
第1絶縁部5、第2絶縁部6、第1側部7、第2側部8は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、コーディエライト等の電気絶縁材料から成る。また、第1絶縁部5、第2絶縁部6、第1側部7、第2側部8は、それぞれ例えば、耐熱ガラスからなっていてもよい。そして、第1絶縁部5と、第2絶縁部6と、第1側部7と、第2側部8とにより、被処理流体が通過する第1の空間9が形成されている。
第1電極3および第2電極4は、例えば、タングステンやモリブデン、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズ等の導電材料からなり、空間9内にプラズマ場を発生させるための一対の電極である。第1電極3および第2電極4は、第1絶縁部5や第2絶縁部6の表面または内部に形成される。そして、第1電極3および第2電極4は、互いに一定の距離だけ離間して対向するように配設されている。なお、第1電極3および第2電極4は、構造体の外表面、例えば第1側部7或いは第2側部8の外表面に形成された後述する外部端子10に電気的に接続される。
尚、第1電極3および第2電極4の材料は、第1絶縁部5等がセラミックスからなり、これらを構成するための生セラミックス成形体とともに同時焼成される場合には、タングステンやモリブデン、銅、銀が好適に用いられる。また、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズは、スパッタリングやCVD法等の薄膜手法により第1電極3および第2電極4を形成する場合に好適に用いられる。そして、本発明の構造体を、プラズマ発光を利用した発光装置として用いる場合には、酸化インジウムスズが、光透過性を有する点から好ましい。
第1電極部1あるいは第2電極部2は、例えば、平板状の2層の絶縁層と、この絶縁層間に挟まれた平板状の第1電極3あるいは第2電極4から構成されている。ここで、第1絶縁部5の主面や第2絶縁部6の主面は、凹凸が多数形成されたものであってもよいし、また一方方向に延在する溝が周期的に多数形成された形状でもよい。例えば、延在方向に直交する方向の断面形状が波状であればよい。
そして、互いに向かい合う主面同士が上記のような構成をとることにより、互いの第1および第2絶縁部5,6の主面間の距離が、該主面上の領域によってばらつくことから、たとえば、第1および第2電極部1,2間に様々な強度の誘電体バリア放電を同時に生じさせる場合や、効率よく誘電体バリア放電を生じさせる場合に好ましい。
さらに、構造体は、第1絶縁部5の端部が第1側部7に固定され、第2絶縁部6の端部が第2側部8に固定される。これにより、第1電極部1は、その一方側が第1側部7に固定された固定端1aとなり、他方側が第2側部8側に向かって延在する自由端1bとなる。また、第2電極部2は、その他方側が第2側部8に固定された固定端2aとなり、一方側が第1側部7側に向かって延在する自由端2bとなる。ここで、図1〜3において、固定端1a,2aとなる領域を破線にて示しており、他の図においても固定端1a,2aとなる領域を同様に破線にて示すこととする。なお、この第1絶縁部5と第1側部7とを固定したものを、以下、第1電極用パーツということがある。同様に、第2絶縁部6と第2側部8とを固定したものを、以下、第2電極用パーツということがある。
そして、構造体は、第1電極部1の主面と第2電極部2の主面との間に空間9が、第1電極部1と第2側部8との間に第2の空間9’が、第2電極部2と第1側部7との間に第3の空間9’’がそれぞれ形成されるように、前述の第1電極用パーツと、第2電極用パーツが所定位置に保持される。具体的な保持手段としては、たとえば、第1電極用パーツの第1側部7の下面と、第2電極用パーツの第2側部8の下面とを一体の固定用部材で固定すればよい。或いは、例えば、図17に示すように、固定用部材として、第1側部7、第2側部8を、例えば上下方向から弾性力でもって挟持する挟持体14が採用可能である。
なお、第1電極3および第2電極4は、図2に示すように、第1絶縁部5および第2絶縁部6の内部に形成しているとよい。これにより、第1電極3および第2電極4が空間9内を通過するオゾンや排ガス等の被処理流体に直接接触しにくくなる。従って、第1電極3および第2電極4が空間9を通過する被処理流体により腐食することが抑制できる。従ってプラズマ場の強度の低下を抑制することができるため好ましい。また、電極の表面が絶縁体によって覆われていることから、良好に誘電体バリア放電を発生させることができる。そして、第1絶縁部5、第2絶縁部6が、例えばコージェライトの焼結体からなる場合は、それぞれの絶縁部の表面から第1電極3或いは第2電極4までの最短距離が100μm以上となる位置に形成しておくことが好ましい。
また、第1電極3や第2電極4が第1絶縁部5および第2絶縁部6の表面に形成される場合には、これら電極の露出する表面には、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。特に第1電極3および第2電極4が、排ガス等の被処理流体に直接曝される場合は特に好ましい。
また、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を単層で被着しておいても構わない。例えば、ニッケル層を形成せずにめっきにより形成された金めっき層や焼結により得られた金メタライズ層の単層だけを被着している場合には、熱によりニッケルが金層内部の粒界に沿って、金層の表面まで拡散してしまうことがない。従って領域ごとのニッケルの拡散のバラツキが生じにくいため、各領域における導電特性にばらつきが生じにくくできる。このため、構造体を高温下の環境にて使用する場合は、第1電極3および第2電極4の露出する表面に金層のみを0.1〜10μm程度被着させておくとよい。
また、外部端子10が、構造体の外表面、例えば、第1側部7および第2側部8の外表面に形成されている。外部端子10は、例えば、タングステンやモリブデン、銅、銀等の導電材料からなり、外部電源から第1電極3および第2電極4に電圧を印加するための導電路として機能する。外部端子10は、第1電極3および第2電極4のそれぞれに電気的に接続されている。外部端子10は、第1電極3および第2電極4と同様の手法により作製できる。また、外部端子10の露出する表面には、第1電極3および第2電極4の場合と同様に、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。
そして、外部電源の電源端子が、圧接や接合等の手段により外部端子10に電気的に接続される。この外部端子10を通して第1電極3と第2電極4とに電圧を印加することにより第1電極3と第2電極4との対向領域(平面視で第1電極3と第2電極4とが重畳する領域)にプラズマ場を発生させることができる。そして、構造体の第1の空間9内を通過する被処理流体は、第1電極3と第2電極4との間の対向領域内のプラズマ場を通過することにより分解されて浄化される。例えば、NO(窒素酸化物)は、下記の反応(1)および(2)により分解して、NおよびOが生成されて浄化される。
2NO → 2NO+O・・・・・・・・・・(1)
2NO+O → N+2O・・・・・・・・・(2)
なお、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させるために、直流電圧あるいは交流電圧もしくは直流パルス電圧が印加される。例えば、ディーゼルエンジンの排ガス中のPM等の酸化成分等の被処理流体を反応させて分解する構造体において、印加される交流電圧およびその周波数は、例えば、1kV〜100kV、10MHz〜100MHzが好ましい。また、直流パルス電圧を印加する場合は、電圧が2kV〜50kV、周波数が10MHz〜1000MHzであることが好ましい。
そして、本発明において、第2側部8内部の第1電極部1の他方側に対向する領域には、補助電極11を備えている。なお、補助電極11は、例えばタングステンやモリブデン、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズ等の導電材料からなり、上述の第2電極4および外部端子10に電気的に接続されている。このことから、第1電極部1の他方側を自由端1bとした際に、第1電極3と補助電極11との間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。このように第1電極部1の他方側を自由端1bとしたことから、第1絶縁部5に応力が印加されても、この第1絶縁部5に亀裂が入る等といった破損を抑制することができる。また、第1電極部1の自由端1b側と第2側部8との間の空間(第2の空間9’)内を通過する被処理流体に対しても良好にプラズマ場内を通過させることができ、被処理流体の処理ができることとなる。
また、第1電極部1の他方側と補助電極11との間隔は、第1電極部1と第2電極部2との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短いことが好ましい。このことから、第1電極3と補助電極11との間においても、第1電極3と第2電極4との間と同様なプラズマ場をより確実に発生させることができる。従って、第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に反応、分解することができる。
このとき、第1電極3の端部が、第2の空間9’に露出せずに、第1絶縁部5に覆われており、また補助電極11が、第2の空間9’に露出せずに、第2側部8の内部にある場合は、良好に誘電体バリア放電を発生させることができる。
また、図4〜図6に示すように、第2側部8は、第1電極部1の他方側端部に対向する領域、即ち、第2の空間9’に望む領域における内側面が、第1電極部1と第2側部8との間の空間9’の幅等、必要に応じて他の領域における内側面とは平面視で位置が異なるようにしても構わない。具体的には、図4〜図6においては、第1電極部1の他方側端部に対向する領域における第2側部8の内側面が他の領域の内側面よりも構造体の一方側に突出している。なお、図4(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)のE方向から見た側面図である。図5(a)は、図4(a)のF−F’線における断面図である。図5(b)は、図4(b)のG−G’線における断面図である。図5(c)は、図4(b)のH−H’線における断面図である。図6は、図4における構造体の斜視図の一例である。
また、図7〜図12に示すように、第1電極部1の自由端1bが第2側部8の一部と平面視において重なるようにしてもよい。具体的には、第1電極部1の自由端1bを、第2側部8の一部に重なるように第1電極部1の自由端1bを突出させた形状としてもよい。図7(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、図7(b)は、図7(a)のI方向から見た側面図である。図8(a)は、図7(a)のJ−J’線における断面図である。図8(b)は、図7(b)のK−K’線における断面図である。図8(c)は、図7(b)のL−L’線における断面図である。図9は、図7における構造体の斜視図の一例である。また、図10(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図である。図10(b)は、図10(a)のM方向から見た側面図である。図11(a)は、図10(a)のN−N’線における断面図である。図11(b)は、図10(b)のO−O’線における断面図である。図11(c)は、図10(b)のP−P’線における断面図である。図12は、図10における構造体の斜視図の一例である。これらにより、第1電極部1が振動等により撓んだ際、第1電極部1が一定の撓みをした際に、第2側部8に接することとなるので、第1電極部1が撓みすぎることを抑制することができる。
このような構造体は、第2側部8の内側面に段差を形成しておき、第1電極部1の自由端1bが平面視で第2側部8の段差と一部が重なるようにしておくことにより形成することができる。また、図10〜図12に示すように、第2側部8の内側面に段差を形成するとともに、自由端1bにおける第1電極部1の厚みを他の部位よりも薄くしておいても構わない。
また、図13に示すように、補助電極11は、第1電極部が振動可能な方向における第1電極部の幅よりも、この方向における幅が大きいことが好ましい。なお、振動可能な方向とは、例えば、図13に示すような、第1電極部1の自由端1bの振動可能な方向(図13では上下方向)を示す。なお、図13は、本発明の構造体の実施の形態の図1〜図3とは別の一例を示す断面図である。図13(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図13(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図13(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。このことから、振動等により第1電極部1が振動可能な方向に振動したとしても、第1電極3と補助電極11とが対向することとなるので、第1電極3と補助電極11との間にプラズマ場を良好に発生させることができ、第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に処理できる。
例えば、上述のような補助電極11の具体例として、第2側部8の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体11aを備えたものが挙げられる。なお、図13(b)において、平面視において補助電極11と導体11aとが重なる領域を点線にて示している。
また、このような補助電極11の具体例として、図14、図15に示すように、第2側部8の内部に形成されたスルーホールの内周面に被着された導体11aを備えたものが挙げられる。なお、図14、図15は、本発明の構造体の実施の形態の図1〜図3とは別の一例を示す断面図である。図14(a)および図15(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図14(b)および図15(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図14(c)および図15(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。なお、図14(b)、図15(b)においても、平面視において補助電極11と導体11aとが重なる領域を点線にて示している。
そして、第2側部8は、内部に形成されたスルーホール内に充填された導体11a或いはスルーホールの内周面に被着された導体11aを備えていることから、これらの導体11aと第1電極3とによりプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第1電極部1と第2側部8との間の空間9’を流れる被処理流体を良好に処理できる。
なお、図15に示すように、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’に沿って、第2側部8の内部にスルーホールを形成し、このスルーホールの内周面に導体11aを形成しておいても構わない。この場合、スルーホールの内周面に被着された導体11aにより、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’の広領域にわたって、第1電極3と補助導体11aとの対向が容易となる。また、スルーホール内に導体11aを充填する場合と比較して、第2側部8内部のスルーホールへの充填ばらつきによる導体11aの断線や焼成時の導体11aや第2側部8のクラック等が起こりにくく、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’に沿って広領域にわたって第2側部8内部に形成しやすい。
また、図16に示すように、空間9が上下方向に複数並列に形成されていても構わない。なお、図16は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す断面図である。このように、空間9を上下方向に複数形成する場合、第1電極部1と第2電極部2とは、交互に対向して上下方向に配設される。これにより、それぞれの第1の空間9内でプラズマ場を発生させることができる。したがって、それぞれの第1の空間9内を通過する被処理流体を良好に処理できる。なお、それぞれの第1電極部1の他方側に対向する領域に位置する第2側部8内部に、第2電極4および外部端子10に電気的に接続された補助電極11をそれぞれ形成しておくことで、それぞれの第2の空間9’内においても、プラズマ場を発生させることができ、それぞれの第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に処理できる。
なお、補助電極11は、図1〜図16において示すように、第1側部7内部の第2電極部2の一方側の端部に対向する領域にも形成しておいても構わない。この場合、第2電極部2、第1側部7、補助電極11は、第2側部8に補助電極11を形成した場合と同様な構造を用いることができる。これにより、上述と同様に、第2電極部2の一方側を自由端2bとした際に、第2電極4と補助電極11との間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第2電極部2の一方側を自由端2bとして構造体の破損を抑制することができるとともに、第2電極部2の自由端2b側と第1側部7との間の空間(第3の空間9’’)内を通過する被処理流体を良好に処理できる。
本発明の装置は、図17に例示的に示すように、上述の構造体と、構造体の第1電極3と第2電極4とに接続され、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、第1電極3と補助電極11との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部15とを備えている。これにより、第1電極3と第2電極4との間および第1電極3と補助電極11との間にプラズマ場を発生させることができる。
また、上述の場合において、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、第1電極部1と第2電極部2とが対向する第1の空間9内、及び第1電極部1の他方側と補助電極11とが対向する第2の空間9’内にプラズマを発生させるとともに、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。これにより、第1電極3と第2の電極4との間の第1の空間9内および第2の空間9’内を流れる被処理流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。なお、第1側部7内部の第2電極部2の一方側に対向する領域に補助電極11が形成されている場合、第2電極4と補助電極11との間にプラズマ場を発生させてもよく、第2電極部2の一方側と補助電極11とが対向する第3の空間9’’に被処理流体を流してもよい。
具体的には、本発明の装置は、被処理流体が酸素であり、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。これにより、プラズマ反応により良好に酸素をオゾンに変化させることができる。このような装置は、例えば、オゾン発生器として使用することができる。
或いは、図18に例示的に示すように、被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に、排ガスを流入させる第1の流路12と、第1或いは第2の空間9、9’から排出される被処理ガスを、第1或いは第2の空間9、9’から流出させる第2の流路13とをさらに備えている。これにより、第1の流路12を介して排ガスを構造体の空間9、9’、9’’に良好に流入させることができる。したがって、構造体において排ガスを、プラズマ反応により良好に浄化した被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路を介して放出させることができる。
次に本発明の構造体の製造方法について説明する。
上述した第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツは、以下の工程を経て作製される。
即ち、第1絶縁部、第2絶縁部となる平板状の生セラミックス成形体の表面或いは、2枚の生セラミックス成形体の間に、後述するメタライズペーストを、例えば平板状に塗布する。また、第1側部、第2側部となる生セラミックス成形体の内部や表面にも必要に応じてメタライズペーストが塗布される。このような生セラミックス成形体として、例えば、従来周知のセラミックグリーンシート等を利用することができる。
そして、生セラミックス成形体同士の接合、具体的には、第1電極部1と第1側部7、第2電極部2と第2側部8とが、互いのメタライズペーストが接合するように、一体化されて、焼成前の第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとなる成形物が得られる。
その後、第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとなる成形物を、それぞれ、高温で焼成することによって第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツが得られる。例えば、第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツが、酸化アルミニウム質焼結体からなる場合、1500〜1800℃程度の高温にて焼成することにより製作される。
このとき、上述した第1電極3および第2電極4、外部端子10、補助電極11は、以下のように作製される。まず、タングステンやモリブデン、銅、銀等の金属粉末を含む従来周知のメタライズペーストを準備する。そして、スクリーン印刷法等の印刷手段を用いて、第1絶縁部5或いは第2絶縁部6となる生セラミックス成形体の所定の位置、或いは第1側部或いは第2側部となる生セラミックス成形体の所定位置に、第1電極3および第2電極4用、外部端子10用、補助電極11用のメタライズペーストを塗布する。その後、これらの生セラミックス成形体とメタライズペーストとを同時焼成することによって、第1電極3および第2電極4、補助電極11を第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツの表面あるいは内部に所定のパターンに形成することができる。また、スルーホール内の導体11a等は、生セラミックス成形体に貫通穴を形成し、その内部或いは、貫通穴内部に導体11a用のメタライズペーストを充填したり、貫通穴の内周面に塗布したりすることにより形成することができる。なお、これらのメタライズペーストは、有機バインダーや有機溶剤の量により生セラミックス成形体への印刷や貫通穴内部への充填等、それぞれの形成に適した粘度に調製される。
そして、第1電極部用パーツと、第2電極部用パーツとを、第1電極部1の主面と第2電極部2の主面間に、第1の空間9が形成されるように、両者を配置する。このとき、第1電極部1の自由端1bと第2側部8の内側面とは一定の距離だけ離間しており、間に第2の空間9’が形成され、第2電極部2の自由端2bと第1側部7の内側面とは一定の距離だけ離間しており、間に第3の空間9’’が形成されるように配置される。
このとき第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとは、互いに固定部材を介して固定される。固定用部材としては、例えば、第1側部7、第2側部8を、弾性力でもって挟持する挟持体14が用いられ、挟持体の挟持部に、第1側部、第2側部をそれぞれはめ込んで、本発明の構造体が完成する。尚、挟持体は、例えば金属製の板状体に、従来周知の板金加工することで容易に作製できる。
なお、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上述においては、自動車、船舶、発電機等に使用されるエンジン等の排ガスの浄化等について説明を行っているが、その他の用途に使用される構造体に適用しても良い。例えば、消臭、ダイオキシンの分解、花粉の分解等に使用される空気洗浄機器等に搭載される構造体にも適用することができる。
(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のA方向から見た側面図である。 (a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のE方向から見た側面図である。 (a)は、図4(a)の構造体のF−F’線における断面図、(b)は、図4(b)のG−G’線における断面図、(c)は、図4(b)のH−H’線における断面図である。 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のI方向から見た側面図である。 (a)は、図7(a)の構造体のJ−J’線における断面図、(b)は、図7(b)のK−K’線における断面図、(c)は、図7(b)のL−L’線における断面図である。 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のM方向から見た側面図である。 (a)は、図10(a)の構造体のN−N’線における断面図、(b)は、図4(b)のO−O’線における断面図、(c)は、図1(b)のP−P’線における断面図である。 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す断面図である。 本発明の装置の実施の形態の一例を示す側面図である。 本発明の装置の実施の形態の一例を示す斜視図である。
符号の説明
1・・・第1電極部
2・・・第2電極部
3・・・第1電極
4・・・第2電極
5・・・第1絶縁部
6・・・第2絶縁部
7・・・第1側部
8・・・第2側部
9・・・第1の空間
9’・・・第2の空間
9’’・・・第3の空間
10・・・配線導体
11・・・補助電極
11a・・・導体
12・・・第1の流路
13・・・第2の流路
14・・・挟持体
15・・・電圧印加部

Claims (8)

  1. 第1側部と、
    該第1側部とは離間して配置される第2側部と、
    平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、前記第1側部に固定された固定端であり、他方側が、前記第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、
    平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、前記第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部と、を備え、
    前記第1電極部の主面と第2電極部の主面とが、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、
    前記第2側部内部の前記第1電極部の他方側の端部に対向する領域には、補助電極を備える構造体。
  2. 前記第1電極部の他方側と前記補助電極との間隔は、前記第1電極部と前記第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短い請求項1に記載の構造体。
  3. 前記補助電極は、前記第1電極部が振動可能な方向における該第1電極部の幅よりも、前記方向における幅が大きい請求項1または請求項2に記載の構造体。
  4. 前記補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備える請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の構造体。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の構造体と、
    前記構造体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、
    前記第1電極と前記補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部と、を備えた装置。
  6. 前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、
    前記第1電極部の主面と前記第2電極部の主面とが対向する第1の空間内、及び前記第1電極部の他方側と前記補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、
    前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる請求項5に記載の装置。
  7. 前記被処理流体が酸素であり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させる請求項6に記載の装置。
  8. 前記被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、
    前記第1或いは第2の空間から排出される被処理ガスを、前記第1或いは第2の空間から流出させる第2の流路とをさらに備えた請求項6に記載の装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005005798A1 (ja) * 2003-07-10 2005-01-20 Ngk Insulators, Ltd. プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
WO2005027593A1 (ja) * 2003-09-12 2005-03-24 Ngk Insulators, Ltd. プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2005188424A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2006049367A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Hitachi Kokusai Electric Inc プラズマ処理装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005005798A1 (ja) * 2003-07-10 2005-01-20 Ngk Insulators, Ltd. プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
WO2005027593A1 (ja) * 2003-09-12 2005-03-24 Ngk Insulators, Ltd. プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2005188424A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2006049367A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Hitachi Kokusai Electric Inc プラズマ処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019199390A (ja) * 2018-05-18 2019-11-21 株式会社豊田中央研究所 オゾン発生装置
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