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JP2009032569A - Structure and apparatus using the same - Google Patents

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JP2009032569A
JP2009032569A JP2007196215A JP2007196215A JP2009032569A JP 2009032569 A JP2009032569 A JP 2009032569A JP 2007196215 A JP2007196215 A JP 2007196215A JP 2007196215 A JP2007196215 A JP 2007196215A JP 2009032569 A JP2009032569 A JP 2009032569A
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憲次郎 福田
Yosuke Moriyama
陽介 森山
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Abstract

【課題】 一方側を自由端とした構造体において、被処理流体に対して良好に処理することができる構造体構造体及びこれを用いた装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】 本発明の構造体は、第1側部7と、第1側部7とは離間して配置される第2側部8と、第1電極3を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端1aであり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端1bである第1電極部1と、第2電極4を保持してなり、他方側が、第2側部8に固定された固定端2aであり、一方側が、第1側部7側に向かって延在する自由端である第2電極部2とを備え、第1電極部1と第2電極部2とは、間に空間9を介して対向するように配置されるとともに、第2側部8内部の第1電極部1の他方側に対向する領域には、第2電極4に電気的に接続された補助電極11を備えている。
【選択図】 図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure body capable of satisfactorily treating a fluid to be treated in a structure body having one end as a free end, and an apparatus using the same.
Means for Solving the Problems The structure of the present invention holds the first side portion 7, the second side portion 8 that is spaced apart from the first side portion 7, and the first electrode 3. The first electrode portion 1 is a fixed end 1a fixed to the first side portion and the other side is a free end 1b extending toward the second side portion, and the second electrode 4 The second electrode portion 2 is a fixed end 2a fixed to the second side portion 8 on the other side and a free end extending toward the first side portion 7 side on the other side. The first electrode part 1 and the second electrode part 2 are arranged so as to face each other with a space 9 therebetween, and face the other side of the first electrode part 1 inside the second side part 8. In the region, an auxiliary electrode 11 electrically connected to the second electrode 4 is provided.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、一酸化炭素(CO)や窒素酸化物(NOx)、硫黄酸化物(SOx)の酸化性成分及び炭化水素(HC)等を含む被処理流体を効率良く処理できる構造体に関するものである。また、この構造体を用いた装置に関するものである。   The present invention relates to a structure capable of efficiently treating a fluid to be treated containing an oxidizing component of carbon monoxide (CO), nitrogen oxide (NOx), sulfur oxide (SOx) and hydrocarbon (HC). is there. The present invention also relates to an apparatus using this structure.

一般家庭で使用されている湯沸かし器の不完全燃焼時に排出されるCOガスやディーゼルエンジン、ガソリンエンジンからの排ガス、或いは焼却炉から出される排ガス等の被処理流体中には、CO、カーボン、SOF(Soluble Organic Fraction)、高分子有機化合物、硫酸ミスト等のPM、NOxやSOxの酸化性成分、HC等が含まれている。このようなPMや酸化性成分、HC等の排出を抑制する方法として、プラズマ反応を利用してCOやPM等を浄化するという技術が提案されている。   CO, carbon, SOF (COF, carbon, SOF ( Soluble Organic Fraction), high molecular organic compounds, PM such as sulfuric acid mist, NOx and SOx oxidizing components, HC and the like are included. As a method for suppressing such emission of PM, oxidizing components, HC, etc., a technique of purifying CO, PM, etc. using a plasma reaction has been proposed.

このようなプラズマ反応により被処理流体を浄化するための装置は、一対の電極を一定の距離だけ離間して対向させた構造を有している。そして、プラズマ反応による浄化は、対向する一対の電極間に高電圧を印加させてプラズマ場を発生させ、このプラズマ場内に上述した被処理流体を通過させることにより、被処理流体を分解させるものである。なお、一対の電極は、それぞれ絶縁体により覆われており、この絶縁体の端部を側壁部が支持している。   An apparatus for purifying a fluid to be processed by such a plasma reaction has a structure in which a pair of electrodes are opposed to each other by a certain distance. The purification by plasma reaction is to decompose a fluid to be treated by applying a high voltage between a pair of opposing electrodes to generate a plasma field and passing the fluid to be treated in the plasma field. is there. Each of the pair of electrodes is covered with an insulator, and the side walls support the end portions of the insulator.

なお、このような構造体には、処理装置の稼動した際の熱等の熱応力により絶縁体や側壁部が破損、すなわち構造体が破損してプラズマ反応の低下を抑制してしまうことを抑制するため、絶縁体の一方側を側壁部に固定された固定端とし、絶縁体の他方側を側壁部に固定されない自由端としたものが提案されている。
特開2004−92589号公報 特開2005−93107号公報 特開2005−113706号公報
It should be noted that in such a structure, it is possible to prevent the insulator and the side wall portion from being damaged by thermal stress such as heat when the processing apparatus is operated, that is, the structure is damaged and suppresses the decrease in plasma reaction Therefore, there has been proposed one in which one side of the insulator is a fixed end fixed to the side wall and the other side of the insulator is a free end not fixed to the side wall.
JP 2004-92589 A Japanese Patent Laying-Open No. 2005-93107 JP-A-2005-113706

しかしながら、絶縁体の一方側を自由端とした構造体においては、この構造体の自由端側の絶縁体と側壁部との間には、空間が形成される。この絶縁体の自由端側と側壁部との間の空間を通過する被処理流体は、第1電極と第2電極との間のプラズマ場を通過しないため、第1電極と第2電極との間を通過する被処理流体と比較して、良好にプラズマ反応されないことが懸念される。   However, in a structure in which one side of the insulator is a free end, a space is formed between the insulator on the free end side of the structure and the side wall portion. Since the fluid to be processed that passes through the space between the free end side of the insulator and the side wall does not pass through the plasma field between the first electrode and the second electrode, the fluid between the first electrode and the second electrode There is a concern that the plasma reaction is not satisfactorily compared with the fluid to be processed that passes between them.

本発明は、上記想定に鑑み案出されたもので、その目的は、一方側を自由端とした構造体において、被処理流体に対して良好に処理することができる構造体及びこれを用いた装置を提供することにある。   The present invention has been devised in view of the above assumption, and an object of the present invention is to use a structure that can be satisfactorily processed with respect to a fluid to be processed in a structure having one side as a free end. To provide an apparatus.

本発明の構造体は、第1側部と、該第1側部とは離間して配置される第2側部と、平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、前記第1側部に固定された固定端であり、他方側が、前記第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、前記第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部とを備え、前記第1電極部の主面と第2電極部の主面とは、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、前記第2側部内部の前記第1電極部の他方側に対向する領域には、補助電極を備えている。   The structure of the present invention includes a first side portion, a second side portion that is spaced apart from the first side portion, and a flat plate-like first electrode, one side of which is the first side. It is a fixed end fixed to the side part, and the other side holds a first electrode part that is a free end extending toward the second side part side and a flat plate-like second electrode, and the other side is And a second electrode part that is a fixed end fixed to the second side part, and one side of which is a free end extending toward the first side part side, and the main surface of the first electrode part And the main surface of the second electrode portion are arranged so as to face each other with a space therebetween, and an auxiliary electrode is provided in a region facing the other side of the first electrode portion inside the second side portion. It has.

また、好ましくは、前記第1電極部の他方側と前記補助電極との間隔は、前記第1電極部と前記第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短い。   Preferably, the distance between the other side of the first electrode part and the auxiliary electrode is substantially the same or shorter than the distance between the first electrode part and the second electrode part.

また、好ましくは、前記補助電極は、前記第1電極部が振動可能な方向における該第1電極部の幅よりも、前記方向における幅が大きい。   Preferably, the auxiliary electrode has a width in the direction larger than a width of the first electrode part in a direction in which the first electrode part can vibrate.

また、好ましくは、前記補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備えている。   Preferably, the auxiliary electrode includes a conductor filled in a through hole formed inside the second side portion or a conductor deposited on the inner peripheral surface of the through hole.

本発明の装置は、本発明の構造体と、前記構造体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、前記第1電極と前記補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えている。   The apparatus of the present invention is connected to the structure of the present invention, the first electrode and the second electrode of the structure, and an AC voltage or a DC voltage or a voltage between the first electrode and the second electrode A DC pulse voltage is applied, and a voltage application unit for applying an AC voltage, a DC voltage, or a DC pulse voltage between the first electrode and the auxiliary electrode is provided.

また、好ましくは、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、前記第1電極部の主面と前記第2電極部の主面とが対向する第1の空間内、及び前記第1電極部の他方側と前記補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。   Preferably, the main surface of the first electrode portion and the main surface of the second electrode portion are applied by applying an AC voltage, a DC voltage, or a DC pulse voltage between the first electrode and the second electrode. Plasma is generated in the first space facing each other and in the second space facing the other side of the first electrode portion and the auxiliary electrode, and at least one of the first or second space is generated. Then, the fluid to be processed is introduced into the tank.

また、好ましくは、前記被処理流体が酸素であり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。   Preferably, the fluid to be treated is oxygen, and ozone is generated by flowing oxygen into at least one of the first or second space.

また、好ましくは、前記被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、前記空間から排出される被処理ガスを、前記空間から流出させる第2の流路とをさらに備えている。   Preferably, the fluid to be treated is exhaust gas from a furnace or an internal combustion engine, and the first flow path for flowing the exhaust gas into at least one of the first or second space and the exhaust from the space. And a second flow path for allowing the gas to be processed to flow out of the space.

本発明の構造体は、第1側部と、第1側部とは離間して配置される第2側部と、平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端であり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部とを備え、第1電極部と第2電極部とは、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、第2側部内部の第1電極部の他方側に対向する領域には、補助電極を備えている。これにより、第1電極部の他方側を自由端とした際にできる第1電極と補助電極との間の空間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第1電極部の他方側を自由端として構造体の破損を抑制することができるとともに、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に処理できる。   The structure of the present invention includes a first side portion, a second side portion that is spaced apart from the first side portion, and a flat plate-like first electrode, and one side is the first side portion. A fixed end fixed to the first electrode portion, the other side being a free end extending toward the second side portion side, and a flat plate-like second electrode, the other side being the first end A fixed end fixed to two side portions, one side including a second electrode portion that is a free end extending toward the first side portion side, the first electrode portion and the second electrode portion, An auxiliary electrode is provided in a region facing the other side of the first electrode portion inside the second side portion while being arranged to face each other with a space therebetween. As a result, a plasma field can also be generated in the space between the first electrode and the auxiliary electrode that is formed when the other side of the first electrode portion is the free end. Therefore, it is possible to suppress the breakage of the structure using the other side of the first electrode part as a free end, and the fluid to be processed that passes through the space between the free end side and the second side part of the first electrode part. Can be processed satisfactorily.

また、好ましくは、第1電極部の他方側と補助電極との間隔は、第1電極部と第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短いことから、第1電極と補助電極との間においても、第1電極と第2電極との間の空間と同様にプラズマ場を発生させることができるので、第1電極と補助電極との間にてプラズマ場が大きく低下することを抑制することができ、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に反応、分解することができる。   Preferably, the distance between the other side of the first electrode part and the auxiliary electrode is substantially the same as or shorter than the distance between the first electrode part and the second electrode part. Since the plasma field can be generated between the first electrode and the auxiliary electrode as well as the space between the first electrode and the second electrode, the plasma field is greatly reduced between the first electrode and the auxiliary electrode. It is possible to prevent the fluid to be processed that passes through the space between the free end side and the second side portion of the first electrode portion, and to satisfactorily react and decompose.

また、好ましくは、補助電極は、第1電極部が振動可能な方向における第1電極部の幅よりも、方向における幅が大きいことから、振動等により第1電極部が振動可能な方向に振動したとしても、補助電極が第1電極に対向するので、第1電極と補助電極との間にプラズマ場を発生させ、第1電極部の自由端側と第2側部との間の空間内を通過する被処理流体を良好に処理できる。   Preferably, the auxiliary electrode vibrates in a direction in which the first electrode portion can vibrate due to vibration or the like because the width in the direction is larger than the width of the first electrode portion in the direction in which the first electrode portion can vibrate. Even if it does, since an auxiliary electrode opposes the 1st electrode, a plasma field is generated between the 1st electrode and the auxiliary electrode, and in the space between the free end side of the 1st electrode part and the 2nd side part The to-be-processed fluid which passes through can be processed satisfactorily.

また、好ましくは、補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備えていることから、これらの導体と第1電極とによりプラズマ場を発生させることができるようになる。   Preferably, the auxiliary electrode includes a conductor filled in a through hole formed inside the second side portion or a conductor deposited on the inner peripheral surface of the through hole. And the first electrode can generate a plasma field.

本発明の装置は、本発明の構造体と、構造体の第1電極と第2電極とに接続され、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、第1電極と補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えている。これにより、第1電極と第2電極との間および第1電極と補助電極との間にプラズマ場を発生させることができる。   The device of the present invention is connected to the structure of the present invention, the first electrode and the second electrode of the structure, and an AC voltage, a DC voltage or a DC pulse voltage is applied between the first electrode and the second electrode. In addition, a voltage application unit for applying an AC voltage, a DC voltage, or a DC pulse voltage is provided between the first electrode and the auxiliary electrode. Thereby, a plasma field can be generated between the first electrode and the second electrode and between the first electrode and the auxiliary electrode.

また、好ましくは、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、第1電極部と第2電極部とが対向する第1の空間内、及び第1電極部の他方側と補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。これにより、第1電極と第2の電極との間の第1の空間内および第2の空間内を流れる被処理流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。   Preferably, by applying an AC voltage, a DC voltage or a DC pulse voltage between the first electrode and the second electrode, the first electrode portion and the second electrode portion are opposed to each other in the first space, In addition, plasma is generated in the second space where the other side of the first electrode portion and the auxiliary electrode face each other, and the fluid to be processed is caused to flow into at least one of the first or second space. Thereby, a plasma reaction can be satisfactorily performed with respect to the fluid to be processed flowing in the first space and the second space between the first electrode and the second electrode.

また、好ましくは、被処理流体が酸素であり、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。これにより、プラズマ反応により酸素をオゾンに変化させることができるオゾン発生器となる。   Preferably, the fluid to be treated is oxygen, and ozone is generated by flowing oxygen into at least one of the first and second spaces. Thereby, it becomes an ozone generator which can change oxygen into ozone by a plasma reaction.

また、好ましくは、被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、排ガスを流入させる第1の流路と、第1或いは第2の空間から排出される被処理ガスを、前記第1或いは第2の空間から流出させる第2の流路とをさらに備えている。これにより、第1の流路を介して排ガスを構造体の第1或いは第2の空間に良好に流入させることができる。したがって構造体において排ガスをプラズマ反応により良好に浄化した被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路を介して放出させることができる。   Preferably, the fluid to be treated is exhaust gas from a furnace or an internal combustion engine, and the first flow path for allowing the exhaust gas to flow into at least one of the first or second space and the first or second space. And a second flow path for letting the gas to be processed discharged from the first or second space outflow. Thereby, exhaust gas can be favorably flowed into the 1st or 2nd space of a structure via the 1st channel. Therefore, it is possible to obtain a gas to be treated in which the exhaust gas is well purified by the plasma reaction in the structure. Then, the gas to be processed can be released through the second flow path.

本発明の構造体について図を用いて説明する。図1(a)は、本発明の構造体の一例を示す平面図である。図1(b)は、図1(a)のA方向から見た側面図である。図2(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図2(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図2(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。図3は、図1における構造体の斜視図の一例である。これらの図において、1は第1電極部、2は第2電極部、3は第1電極、4は第2電極、5は第1絶縁部、6は第2絶縁部、7は第1側部、8は第2側部、9,9’,9’’は空間、10は外部端子、11は補助電極である。   The structure of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig.1 (a) is a top view which shows an example of the structure of this invention. FIG.1 (b) is the side view seen from the A direction of Fig.1 (a). FIG. 2A is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line C-C ′ of FIG. FIG. 2C is a cross-sectional view taken along line D-D ′ of FIG. FIG. 3 is an example of a perspective view of the structure in FIG. In these drawings, 1 is a first electrode portion, 2 is a second electrode portion, 3 is a first electrode, 4 is a second electrode, 5 is a first insulating portion, 6 is a second insulating portion, and 7 is a first side. , 8 is the second side, 9, 9 ′, 9 ″ are spaces, 10 is an external terminal, and 11 is an auxiliary electrode.

本発明の構造体は、第1側部7と、第1側部7とは離間して配置される第2側部8と、平板状の第1電極3を保持してなり、一方側が、第1側部に固定された固定端1aであり、他方側が、第2側部側に向かって延在する自由端1bである第1電極部1と、平板状の第2電極4を保持してなり、他方側が、第2側部8に固定された固定端2aであり、一方側が、第1側部7側に向かって延在する自由端2bである第2電極部2とを備えている。そして、第1電極部1と第2電極部2とは、間に空間(第1の空間9)を介して対向するように配置される。また、第2側部8は、その内部の第1電極部1の他方側に対向する領域に、補助電極11を備えている。   The structure of the present invention is configured to hold the first side portion 7, the second side portion 8 that is spaced apart from the first side portion 7, and the flat plate-like first electrode 3, and one side is A fixed end 1a fixed to the first side portion, and the other side holds the first electrode portion 1 which is a free end 1b extending toward the second side portion side and the flat plate-like second electrode 4. And the other side is a fixed end 2 a fixed to the second side portion 8, and the one side includes a second electrode portion 2 that is a free end 2 b extending toward the first side portion 7 side. Yes. And the 1st electrode part 1 and the 2nd electrode part 2 are arrange | positioned so that it may oppose through the space (1st space 9) in between. Further, the second side portion 8 includes an auxiliary electrode 11 in a region facing the other side of the first electrode portion 1 therein.

そして、第1電極部1は、第1電極3及び第1電極3を保持する第1絶縁部5を備え、第2電極部2は、第2電極4及び第2電極4を保持する第2絶縁部6を備えている。   The first electrode unit 1 includes a first insulating unit 5 that holds the first electrode 3 and the first electrode 3, and the second electrode unit 2 includes a second electrode 4 that holds the second electrode 4 and the second electrode 4. An insulating part 6 is provided.

第1絶縁部5、第2絶縁部6、第1側部7、第2側部8は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、コーディエライト等の電気絶縁材料から成る。また、第1絶縁部5、第2絶縁部6、第1側部7、第2側部8は、それぞれ例えば、耐熱ガラスからなっていてもよい。そして、第1絶縁部5と、第2絶縁部6と、第1側部7と、第2側部8とにより、被処理流体が通過する第1の空間9が形成されている。   The first insulating portion 5, the second insulating portion 6, the first side portion 7, and the second side portion 8 are, for example, an aluminum oxide sintered body, a mullite sintered body, an aluminum nitride sintered body, and a silicon carbide material. It consists of an electrically insulating material such as a sintered body or cordierite. Moreover, the 1st insulating part 5, the 2nd insulating part 6, the 1st side part 7, and the 2nd side part 8 may each consist of heat resistant glass, for example. The first insulating part 5, the second insulating part 6, the first side part 7, and the second side part 8 form a first space 9 through which the fluid to be processed passes.

第1電極3および第2電極4は、例えば、タングステンやモリブデン、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズ等の導電材料からなり、空間9内にプラズマ場を発生させるための一対の電極である。第1電極3および第2電極4は、第1絶縁部5や第2絶縁部6の表面または内部に形成される。そして、第1電極3および第2電極4は、互いに一定の距離だけ離間して対向するように配設されている。なお、第1電極3および第2電極4は、構造体の外表面、例えば第1側部7或いは第2側部8の外表面に形成された後述する外部端子10に電気的に接続される。   The first electrode 3 and the second electrode 4 are made of a conductive material such as tungsten, molybdenum, copper, silver, aluminum, nickel, and indium tin oxide, and are a pair of electrodes for generating a plasma field in the space 9. is there. The first electrode 3 and the second electrode 4 are formed on the surface or inside of the first insulating portion 5 and the second insulating portion 6. The first electrode 3 and the second electrode 4 are disposed so as to face each other with a certain distance therebetween. The first electrode 3 and the second electrode 4 are electrically connected to an external terminal 10 to be described later formed on the outer surface of the structure, for example, the outer surface of the first side portion 7 or the second side portion 8. .

尚、第1電極3および第2電極4の材料は、第1絶縁部5等がセラミックスからなり、これらを構成するための生セラミックス成形体とともに同時焼成される場合には、タングステンやモリブデン、銅、銀が好適に用いられる。また、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズは、スパッタリングやCVD法等の薄膜手法により第1電極3および第2電極4を形成する場合に好適に用いられる。そして、本発明の構造体を、プラズマ発光を利用した発光装置として用いる場合には、酸化インジウムスズが、光透過性を有する点から好ましい。   The first electrode 3 and the second electrode 4 are made of tungsten, molybdenum, copper, etc., when the first insulating portion 5 and the like are made of ceramics and are simultaneously fired together with a green ceramic molded body for constituting them. Silver is preferably used. Copper, silver, aluminum, nickel, and indium tin oxide are preferably used when the first electrode 3 and the second electrode 4 are formed by a thin film technique such as sputtering or CVD. And when using the structure of this invention as a light-emitting device using plasma light emission, indium tin oxide is preferable from the point which has a light transmittance.

第1電極部1あるいは第2電極部2は、例えば、平板状の2層の絶縁層と、この絶縁層間に挟まれた平板状の第1電極3あるいは第2電極4から構成されている。ここで、第1絶縁部5の主面や第2絶縁部6の主面は、凹凸が多数形成されたものであってもよいし、また一方方向に延在する溝が周期的に多数形成された形状でもよい。例えば、延在方向に直交する方向の断面形状が波状であればよい。   The first electrode part 1 or the second electrode part 2 is composed of, for example, two flat insulating layers and a flat first electrode 3 or second electrode 4 sandwiched between the insulating layers. Here, the main surface of the first insulating portion 5 and the main surface of the second insulating portion 6 may be formed with a large number of irregularities, and a plurality of grooves extending in one direction are periodically formed. It may be a shaped shape. For example, the cross-sectional shape in the direction orthogonal to the extending direction may be a wave shape.

そして、互いに向かい合う主面同士が上記のような構成をとることにより、互いの第1および第2絶縁部5,6の主面間の距離が、該主面上の領域によってばらつくことから、たとえば、第1および第2電極部1,2間に様々な強度の誘電体バリア放電を同時に生じさせる場合や、効率よく誘電体バリア放電を生じさせる場合に好ましい。   Since the principal surfaces facing each other have the above-described configuration, the distance between the principal surfaces of the first and second insulating portions 5 and 6 varies depending on the region on the principal surface. It is preferable when dielectric barrier discharges of various strengths are simultaneously generated between the first and second electrode portions 1 and 2 or when dielectric barrier discharges are efficiently generated.

さらに、構造体は、第1絶縁部5の端部が第1側部7に固定され、第2絶縁部6の端部が第2側部8に固定される。これにより、第1電極部1は、その一方側が第1側部7に固定された固定端1aとなり、他方側が第2側部8側に向かって延在する自由端1bとなる。また、第2電極部2は、その他方側が第2側部8に固定された固定端2aとなり、一方側が第1側部7側に向かって延在する自由端2bとなる。ここで、図1〜3において、固定端1a,2aとなる領域を破線にて示しており、他の図においても固定端1a,2aとなる領域を同様に破線にて示すこととする。なお、この第1絶縁部5と第1側部7とを固定したものを、以下、第1電極用パーツということがある。同様に、第2絶縁部6と第2側部8とを固定したものを、以下、第2電極用パーツということがある。   Further, in the structure, the end portion of the first insulating portion 5 is fixed to the first side portion 7, and the end portion of the second insulating portion 6 is fixed to the second side portion 8. Thereby, the 1st electrode part 1 turns into the fixed end 1a fixed to the 1st side part 7, and the other side becomes the free end 1b extended toward the 2nd side part 8 side. Further, the second electrode portion 2 has a fixed end 2a fixed on the second side portion 8 on the other side, and a free end 2b extending on the first side portion 7 side on one side. Here, in FIGS. 1-3, the area | region used as the fixed ends 1a and 2a is shown with the broken line, and the area | region used as the fixed ends 1a and 2a is similarly shown with a broken line also in another figure. In addition, what fixed this 1st insulating part 5 and the 1st side part 7 may be hereafter called the part for 1st electrodes. Similarly, what fixed the 2nd insulating part 6 and the 2nd side part 8 may be hereafter called 2nd electrode parts.

そして、構造体は、第1電極部1の主面と第2電極部2の主面との間に空間9が、第1電極部1と第2側部8との間に第2の空間9’が、第2電極部2と第1側部7との間に第3の空間9’’がそれぞれ形成されるように、前述の第1電極用パーツと、第2電極用パーツが所定位置に保持される。具体的な保持手段としては、たとえば、第1電極用パーツの第1側部7の下面と、第2電極用パーツの第2側部8の下面とを一体の固定用部材で固定すればよい。或いは、例えば、図17に示すように、固定用部材として、第1側部7、第2側部8を、例えば上下方向から弾性力でもって挟持する挟持体14が採用可能である。   The structure includes a space 9 between the main surface of the first electrode portion 1 and the main surface of the second electrode portion 2, and a second space between the first electrode portion 1 and the second side portion 8. 9 ′ has a predetermined first electrode part and a second electrode part so that a third space 9 ″ is formed between the second electrode part 2 and the first side part 7, respectively. Held in position. As specific holding means, for example, the lower surface of the first side part 7 of the first electrode part and the lower surface of the second side part 8 of the second electrode part may be fixed by an integral fixing member. . Alternatively, for example, as shown in FIG. 17, as the fixing member, a sandwiching body 14 that sandwiches the first side portion 7 and the second side portion 8 with, for example, an elastic force from the vertical direction can be employed.

なお、第1電極3および第2電極4は、図2に示すように、第1絶縁部5および第2絶縁部6の内部に形成しているとよい。これにより、第1電極3および第2電極4が空間9内を通過するオゾンや排ガス等の被処理流体に直接接触しにくくなる。従って、第1電極3および第2電極4が空間9を通過する被処理流体により腐食することが抑制できる。従ってプラズマ場の強度の低下を抑制することができるため好ましい。また、電極の表面が絶縁体によって覆われていることから、良好に誘電体バリア放電を発生させることができる。そして、第1絶縁部5、第2絶縁部6が、例えばコージェライトの焼結体からなる場合は、それぞれの絶縁部の表面から第1電極3或いは第2電極4までの最短距離が100μm以上となる位置に形成しておくことが好ましい。   In addition, the 1st electrode 3 and the 2nd electrode 4 are good to form in the inside of the 1st insulating part 5 and the 2nd insulating part 6, as shown in FIG. Thereby, it becomes difficult for the first electrode 3 and the second electrode 4 to directly contact the fluid to be treated such as ozone or exhaust gas passing through the space 9. Therefore, it can suppress that the 1st electrode 3 and the 2nd electrode 4 corrode by the to-be-processed fluid which passes the space 9. FIG. Therefore, it is preferable because a decrease in the intensity of the plasma field can be suppressed. In addition, since the surface of the electrode is covered with an insulator, dielectric barrier discharge can be generated satisfactorily. And when the 1st insulating part 5 and the 2nd insulating part 6 consist of a sintered body of cordierite, for example, the shortest distance from the surface of each insulating part to the 1st electrode 3 or the 2nd electrode 4 is 100 micrometers or more. It is preferable to form in the position which becomes.

また、第1電極3や第2電極4が第1絶縁部5および第2絶縁部6の表面に形成される場合には、これら電極の露出する表面には、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。特に第1電極3および第2電極4が、排ガス等の被処理流体に直接曝される場合は特に好ましい。   Further, when the first electrode 3 and the second electrode 4 are formed on the surfaces of the first insulating portion 5 and the second insulating portion 6, the exposed surfaces of these electrodes are resistant to corrosion such as nickel and gold. It is preferable to deposit an excellent metal. In particular, it is particularly preferable when the first electrode 3 and the second electrode 4 are directly exposed to a fluid to be treated such as exhaust gas.

また、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を単層で被着しておいても構わない。例えば、ニッケル層を形成せずにめっきにより形成された金めっき層や焼結により得られた金メタライズ層の単層だけを被着している場合には、熱によりニッケルが金層内部の粒界に沿って、金層の表面まで拡散してしまうことがない。従って領域ごとのニッケルの拡散のバラツキが生じにくいため、各領域における導電特性にばらつきが生じにくくできる。このため、構造体を高温下の環境にて使用する場合は、第1電極3および第2電極4の露出する表面に金層のみを0.1〜10μm程度被着させておくとよい。   Further, a metal having excellent corrosion resistance such as nickel or gold may be deposited in a single layer. For example, when only a single layer of a gold plating layer formed by plating without forming a nickel layer or a gold metallization layer obtained by sintering is applied, nickel is heated by the particles inside the gold layer. It does not diffuse to the surface of the gold layer along the boundary. Accordingly, variation in nickel diffusion from region to region is unlikely to occur, so that variation in conductive characteristics in each region can be prevented. For this reason, when the structure is used in a high-temperature environment, it is preferable to deposit only a gold layer on the exposed surfaces of the first electrode 3 and the second electrode 4 to about 0.1 to 10 μm.

また、外部端子10が、構造体の外表面、例えば、第1側部7および第2側部8の外表面に形成されている。外部端子10は、例えば、タングステンやモリブデン、銅、銀等の導電材料からなり、外部電源から第1電極3および第2電極4に電圧を印加するための導電路として機能する。外部端子10は、第1電極3および第2電極4のそれぞれに電気的に接続されている。外部端子10は、第1電極3および第2電極4と同様の手法により作製できる。また、外部端子10の露出する表面には、第1電極3および第2電極4の場合と同様に、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。   The external terminals 10 are formed on the outer surface of the structure, for example, the outer surfaces of the first side portion 7 and the second side portion 8. The external terminal 10 is made of, for example, a conductive material such as tungsten, molybdenum, copper, or silver, and functions as a conductive path for applying a voltage to the first electrode 3 and the second electrode 4 from an external power source. The external terminal 10 is electrically connected to each of the first electrode 3 and the second electrode 4. The external terminal 10 can be produced by the same method as the first electrode 3 and the second electrode 4. Further, as in the case of the first electrode 3 and the second electrode 4, it is preferable to deposit a metal having excellent corrosion resistance such as nickel or gold on the exposed surface of the external terminal 10.

そして、外部電源の電源端子が、圧接や接合等の手段により外部端子10に電気的に接続される。この外部端子10を通して第1電極3と第2電極4とに電圧を印加することにより第1電極3と第2電極4との対向領域(平面視で第1電極3と第2電極4とが重畳する領域)にプラズマ場を発生させることができる。そして、構造体の第1の空間9内を通過する被処理流体は、第1電極3と第2電極4との間の対向領域内のプラズマ場を通過することにより分解されて浄化される。例えば、NO(窒素酸化物)は、下記の反応(1)および(2)により分解して、NおよびOが生成されて浄化される。 Then, the power supply terminal of the external power supply is electrically connected to the external terminal 10 by means such as pressure welding or bonding. By applying a voltage to the first electrode 3 and the second electrode 4 through the external terminal 10, the opposing region between the first electrode 3 and the second electrode 4 (the first electrode 3 and the second electrode 4 are seen in plan view). A plasma field can be generated in the overlapping region. Then, the fluid to be processed that passes through the first space 9 of the structure is decomposed and purified by passing through the plasma field in the facing region between the first electrode 3 and the second electrode 4. For example, NO X (nitrogen oxide) is decomposed by the following reactions (1) and (2), and N 2 and O 2 are generated and purified.

2NO → 2NO+O・・・・・・・・・・(1)
2NO+O → N+2O・・・・・・・・・(2)
なお、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させるために、直流電圧あるいは交流電圧もしくは直流パルス電圧が印加される。例えば、ディーゼルエンジンの排ガス中のPM等の酸化成分等の被処理流体を反応させて分解する構造体において、印加される交流電圧およびその周波数は、例えば、1kV〜100kV、10MHz〜100MHzが好ましい。また、直流パルス電圧を印加する場合は、電圧が2kV〜50kV、周波数が10MHz〜1000MHzであることが好ましい。
2NO 2 → 2NO + O 2 (1)
2NO + O 2 → N 2 + 2O 2 (2)
In order to generate a plasma field between the first electrode 3 and the second electrode 4, a DC voltage, an AC voltage, or a DC pulse voltage is applied. For example, in a structure that reacts and decomposes a fluid to be treated such as an oxidizing component such as PM in exhaust gas of a diesel engine, the applied AC voltage and its frequency are preferably 1 kV to 100 kV, 10 MHz to 100 MHz, for example. Moreover, when applying a direct current pulse voltage, it is preferable that a voltage is 2 kV-50 kV and a frequency is 10 MHz-1000 MHz.

そして、本発明において、第2側部8内部の第1電極部1の他方側に対向する領域には、補助電極11を備えている。なお、補助電極11は、例えばタングステンやモリブデン、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、酸化インジウムスズ等の導電材料からなり、上述の第2電極4および外部端子10に電気的に接続されている。このことから、第1電極部1の他方側を自由端1bとした際に、第1電極3と補助電極11との間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。このように第1電極部1の他方側を自由端1bとしたことから、第1絶縁部5に応力が印加されても、この第1絶縁部5に亀裂が入る等といった破損を抑制することができる。また、第1電極部1の自由端1b側と第2側部8との間の空間(第2の空間9’)内を通過する被処理流体に対しても良好にプラズマ場内を通過させることができ、被処理流体の処理ができることとなる。   In the present invention, an auxiliary electrode 11 is provided in a region facing the other side of the first electrode portion 1 inside the second side portion 8. The auxiliary electrode 11 is made of a conductive material such as tungsten, molybdenum, copper, silver, aluminum, nickel, or indium tin oxide, and is electrically connected to the second electrode 4 and the external terminal 10 described above. Therefore, when the other side of the first electrode portion 1 is the free end 1b, a plasma field can also be generated between the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11. Thus, since the other side of the first electrode portion 1 is the free end 1b, even if stress is applied to the first insulating portion 5, damage such as cracks in the first insulating portion 5 is suppressed. Can do. In addition, the fluid to be processed that passes through the space between the free end 1b side of the first electrode portion 1 and the second side portion 8 (second space 9 ′) can be satisfactorily passed through the plasma field. Thus, the fluid to be processed can be processed.

また、第1電極部1の他方側と補助電極11との間隔は、第1電極部1と第2電極部2との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短いことが好ましい。このことから、第1電極3と補助電極11との間においても、第1電極3と第2電極4との間と同様なプラズマ場をより確実に発生させることができる。従って、第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に反応、分解することができる。   The distance between the other side of the first electrode part 1 and the auxiliary electrode 11 is preferably substantially the same as or shorter than the distance between the first electrode part 1 and the second electrode part 2. Thus, a plasma field similar to that between the first electrode 3 and the second electrode 4 can be generated more reliably between the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11. Therefore, it is possible to satisfactorily react and decompose the fluid to be processed that passes through the second space 9 '.

このとき、第1電極3の端部が、第2の空間9’に露出せずに、第1絶縁部5に覆われており、また補助電極11が、第2の空間9’に露出せずに、第2側部8の内部にある場合は、良好に誘電体バリア放電を発生させることができる。   At this time, the end portion of the first electrode 3 is not exposed to the second space 9 ′ but is covered with the first insulating portion 5, and the auxiliary electrode 11 is exposed to the second space 9 ′. Instead, the dielectric barrier discharge can be generated satisfactorily when it is inside the second side portion 8.

また、図4〜図6に示すように、第2側部8は、第1電極部1の他方側端部に対向する領域、即ち、第2の空間9’に望む領域における内側面が、第1電極部1と第2側部8との間の空間9’の幅等、必要に応じて他の領域における内側面とは平面視で位置が異なるようにしても構わない。具体的には、図4〜図6においては、第1電極部1の他方側端部に対向する領域における第2側部8の内側面が他の領域の内側面よりも構造体の一方側に突出している。なお、図4(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)のE方向から見た側面図である。図5(a)は、図4(a)のF−F’線における断面図である。図5(b)は、図4(b)のG−G’線における断面図である。図5(c)は、図4(b)のH−H’線における断面図である。図6は、図4における構造体の斜視図の一例である。   As shown in FIGS. 4 to 6, the second side portion 8 has a region facing the other end portion of the first electrode portion 1, that is, an inner side surface in a region desired in the second space 9 ′. If necessary, the position of the space 9 ′ between the first electrode portion 1 and the second side portion 8 may be different from the inner surface in other regions in plan view. Specifically, in FIGS. 4 to 6, the inner side surface of the second side portion 8 in the region facing the other end portion of the first electrode portion 1 is on one side of the structure than the inner side surface of the other region. Protruding. 4A is a plan view showing an example of an embodiment of the structure of the present invention, and FIG. 4B is a side view seen from the direction E of FIG. 4A. FIG. 5A is a cross-sectional view taken along line F-F ′ of FIG. FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line G-G ′ in FIG. FIG. 5C is a cross-sectional view taken along the line H-H ′ of FIG. 6 is an example of a perspective view of the structure in FIG.

また、図7〜図12に示すように、第1電極部1の自由端1bが第2側部8の一部と平面視において重なるようにしてもよい。具体的には、第1電極部1の自由端1bを、第2側部8の一部に重なるように第1電極部1の自由端1bを突出させた形状としてもよい。図7(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、図7(b)は、図7(a)のI方向から見た側面図である。図8(a)は、図7(a)のJ−J’線における断面図である。図8(b)は、図7(b)のK−K’線における断面図である。図8(c)は、図7(b)のL−L’線における断面図である。図9は、図7における構造体の斜視図の一例である。また、図10(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図である。図10(b)は、図10(a)のM方向から見た側面図である。図11(a)は、図10(a)のN−N’線における断面図である。図11(b)は、図10(b)のO−O’線における断面図である。図11(c)は、図10(b)のP−P’線における断面図である。図12は、図10における構造体の斜視図の一例である。これらにより、第1電極部1が振動等により撓んだ際、第1電極部1が一定の撓みをした際に、第2側部8に接することとなるので、第1電極部1が撓みすぎることを抑制することができる。   Moreover, as shown in FIGS. 7 to 12, the free end 1 b of the first electrode portion 1 may overlap with a part of the second side portion 8 in plan view. Specifically, the free end 1 b of the first electrode portion 1 may be shaped such that the free end 1 b of the first electrode portion 1 protrudes so as to overlap a part of the second side portion 8. Fig.7 (a) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention, FIG.7 (b) is the side view seen from the I direction of Fig.7 (a). FIG. 8A is a cross-sectional view taken along line J-J ′ of FIG. FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line K-K ′ of FIG. FIG. 8C is a cross-sectional view taken along line L-L ′ of FIG. FIG. 9 is an example of a perspective view of the structure in FIG. Moreover, Fig.10 (a) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention. FIG.10 (b) is the side view seen from the M direction of Fig.10 (a). FIG. 11A is a cross-sectional view taken along line N-N ′ of FIG. FIG.11 (b) is sectional drawing in the O-O 'line | wire of FIG.10 (b). FIG.11 (c) is sectional drawing in the P-P 'line | wire of FIG.10 (b). FIG. 12 is an example of a perspective view of the structure in FIG. Accordingly, when the first electrode portion 1 is bent due to vibration or the like, the first electrode portion 1 is in contact with the second side portion 8 when the first electrode portion 1 is bent to a certain degree. Too much can be suppressed.

このような構造体は、第2側部8の内側面に段差を形成しておき、第1電極部1の自由端1bが平面視で第2側部8の段差と一部が重なるようにしておくことにより形成することができる。また、図10〜図12に示すように、第2側部8の内側面に段差を形成するとともに、自由端1bにおける第1電極部1の厚みを他の部位よりも薄くしておいても構わない。   In such a structure, a step is formed on the inner side surface of the second side portion 8 so that the free end 1b of the first electrode portion 1 partially overlaps the step of the second side portion 8 in plan view. Can be formed. Further, as shown in FIGS. 10 to 12, a step may be formed on the inner surface of the second side portion 8 and the thickness of the first electrode portion 1 at the free end 1 b may be made thinner than other portions. I do not care.

また、図13に示すように、補助電極11は、第1電極部が振動可能な方向における第1電極部の幅よりも、この方向における幅が大きいことが好ましい。なお、振動可能な方向とは、例えば、図13に示すような、第1電極部1の自由端1bの振動可能な方向(図13では上下方向)を示す。なお、図13は、本発明の構造体の実施の形態の図1〜図3とは別の一例を示す断面図である。図13(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図13(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図13(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。このことから、振動等により第1電極部1が振動可能な方向に振動したとしても、第1電極3と補助電極11とが対向することとなるので、第1電極3と補助電極11との間にプラズマ場を良好に発生させることができ、第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に処理できる。   As shown in FIG. 13, the auxiliary electrode 11 preferably has a width in this direction larger than the width of the first electrode in the direction in which the first electrode can vibrate. In addition, the direction which can vibrate shows the direction (up-down direction in FIG. 13) which can vibrate the free end 1b of the 1st electrode part 1 as shown in FIG. 13, for example. FIG. 13 is a cross-sectional view showing an example different from FIGS. 1 to 3 of the embodiment of the structure of the present invention. FIG. 13A is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of FIG. FIG. 13B is a cross-sectional view taken along line C-C ′ of FIG. FIG. 13C is a cross-sectional view taken along line D-D ′ of FIG. From this, even if the first electrode portion 1 vibrates in a vibration-capable direction due to vibration or the like, the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11 face each other. A plasma field can be generated in the meantime, and the fluid to be processed that passes through the second space 9 ′ can be processed satisfactorily.

例えば、上述のような補助電極11の具体例として、第2側部8の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体11aを備えたものが挙げられる。なお、図13(b)において、平面視において補助電極11と導体11aとが重なる領域を点線にて示している。   For example, a specific example of the auxiliary electrode 11 as described above may include a conductor 11 a filled in a through hole formed in the second side portion 8. In FIG. 13B, a region where the auxiliary electrode 11 and the conductor 11a overlap in a plan view is indicated by a dotted line.

また、このような補助電極11の具体例として、図14、図15に示すように、第2側部8の内部に形成されたスルーホールの内周面に被着された導体11aを備えたものが挙げられる。なお、図14、図15は、本発明の構造体の実施の形態の図1〜図3とは別の一例を示す断面図である。図14(a)および図15(a)は、図1(a)のB−B’線における断面図である。図14(b)および図15(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図である。図14(c)および図15(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。なお、図14(b)、図15(b)においても、平面視において補助電極11と導体11aとが重なる領域を点線にて示している。   As a specific example of such an auxiliary electrode 11, as shown in FIGS. 14 and 15, a conductor 11 a attached to the inner peripheral surface of a through hole formed inside the second side portion 8 is provided. Things. 14 and 15 are cross-sectional views showing another example of the structure according to the embodiment of the present invention different from those shown in FIGS. 14A and 15A are cross-sectional views taken along line B-B ′ of FIG. 14B and 15B are cross-sectional views taken along line C-C ′ of FIG. FIGS. 14C and 15C are cross-sectional views taken along the line D-D ′ of FIG. 14B and 15B, a region where the auxiliary electrode 11 and the conductor 11a overlap in a plan view is indicated by a dotted line.

そして、第2側部8は、内部に形成されたスルーホール内に充填された導体11a或いはスルーホールの内周面に被着された導体11aを備えていることから、これらの導体11aと第1電極3とによりプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第1電極部1と第2側部8との間の空間9’を流れる被処理流体を良好に処理できる。   The second side portion 8 includes a conductor 11a filled in a through hole formed inside or a conductor 11a deposited on the inner peripheral surface of the through hole. A plasma field can be generated by one electrode 3. Therefore, the fluid to be processed flowing in the space 9 ′ between the first electrode portion 1 and the second side portion 8 can be satisfactorily processed.

なお、図15に示すように、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’に沿って、第2側部8の内部にスルーホールを形成し、このスルーホールの内周面に導体11aを形成しておいても構わない。この場合、スルーホールの内周面に被着された導体11aにより、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’の広領域にわたって、第1電極3と補助導体11aとの対向が容易となる。また、スルーホール内に導体11aを充填する場合と比較して、第2側部8内部のスルーホールへの充填ばらつきによる導体11aの断線や焼成時の導体11aや第2側部8のクラック等が起こりにくく、第1電極部1と第2側部8との間の第2の空間9’に沿って広領域にわたって第2側部8内部に形成しやすい。   As shown in FIG. 15, a through hole is formed in the second side portion 8 along the second space 9 ′ between the first electrode portion 1 and the second side portion 8. The conductor 11a may be formed on the inner peripheral surface of the hole. In this case, the first electrode 3 and the auxiliary are spread over a wide area of the second space 9 ′ between the first electrode portion 1 and the second side portion 8 by the conductor 11 a attached to the inner peripheral surface of the through hole. Facing the conductor 11a is facilitated. Further, as compared with the case where the conductor 11a is filled in the through hole, the conductor 11a is disconnected due to the filling variation in the through hole inside the second side portion 8, the crack of the conductor 11a or the second side portion 8 at the time of firing, etc. Is less likely to occur and is easily formed in the second side portion 8 over a wide area along the second space 9 ′ between the first electrode portion 1 and the second side portion 8.

また、図16に示すように、空間9が上下方向に複数並列に形成されていても構わない。なお、図16は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す断面図である。このように、空間9を上下方向に複数形成する場合、第1電極部1と第2電極部2とは、交互に対向して上下方向に配設される。これにより、それぞれの第1の空間9内でプラズマ場を発生させることができる。したがって、それぞれの第1の空間9内を通過する被処理流体を良好に処理できる。なお、それぞれの第1電極部1の他方側に対向する領域に位置する第2側部8内部に、第2電極4および外部端子10に電気的に接続された補助電極11をそれぞれ形成しておくことで、それぞれの第2の空間9’内においても、プラズマ場を発生させることができ、それぞれの第2の空間9’内を通過する被処理流体を良好に処理できる。   Further, as shown in FIG. 16, a plurality of spaces 9 may be formed in parallel in the vertical direction. FIG. 16 is a cross-sectional view showing an example of the embodiment of the structure of the present invention. As described above, when a plurality of spaces 9 are formed in the vertical direction, the first electrode portions 1 and the second electrode portions 2 are alternately arranged in the vertical direction so as to face each other. Thereby, a plasma field can be generated in each first space 9. Therefore, it is possible to satisfactorily process the fluid to be processed that passes through the first spaces 9. An auxiliary electrode 11 electrically connected to the second electrode 4 and the external terminal 10 is formed inside the second side portion 8 located in a region facing the other side of each first electrode portion 1. Thus, a plasma field can be generated in each second space 9 ′, and the fluid to be processed that passes through each second space 9 ′ can be processed satisfactorily.

なお、補助電極11は、図1〜図16において示すように、第1側部7内部の第2電極部2の一方側の端部に対向する領域にも形成しておいても構わない。この場合、第2電極部2、第1側部7、補助電極11は、第2側部8に補助電極11を形成した場合と同様な構造を用いることができる。これにより、上述と同様に、第2電極部2の一方側を自由端2bとした際に、第2電極4と補助電極11との間にもプラズマ場を発生させることができるようになる。従って、第2電極部2の一方側を自由端2bとして構造体の破損を抑制することができるとともに、第2電極部2の自由端2b側と第1側部7との間の空間(第3の空間9’’)内を通過する被処理流体を良好に処理できる。   As shown in FIGS. 1 to 16, the auxiliary electrode 11 may also be formed in a region facing the one end portion of the second electrode portion 2 inside the first side portion 7. In this case, the second electrode part 2, the first side part 7, and the auxiliary electrode 11 can use the same structure as that when the auxiliary electrode 11 is formed on the second side part 8. As a result, as described above, when one side of the second electrode portion 2 is the free end 2b, a plasma field can be generated between the second electrode 4 and the auxiliary electrode 11. Accordingly, the one end of the second electrode portion 2 can be used as the free end 2b to prevent damage to the structure, and the space between the free end 2b side of the second electrode portion 2 and the first side portion 7 (the first side 7). The fluid to be processed that passes through the third space 9 ″) can be satisfactorily processed.

本発明の装置は、図17に例示的に示すように、上述の構造体と、構造体の第1電極3と第2電極4とに接続され、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、第1電極3と補助電極11との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部15とを備えている。これにより、第1電極3と第2電極4との間および第1電極3と補助電極11との間にプラズマ場を発生させることができる。   As exemplarily shown in FIG. 17, the device of the present invention is connected to the above-described structure, and the first electrode 3 and the second electrode 4 of the structure, and the first electrode 3 and the second electrode 4 are connected to each other. A voltage application unit 15 for applying an AC voltage, a DC voltage, or a DC pulse voltage between the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11 is provided between the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11. Yes. Thereby, a plasma field can be generated between the first electrode 3 and the second electrode 4 and between the first electrode 3 and the auxiliary electrode 11.

また、上述の場合において、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、第1電極部1と第2電極部2とが対向する第1の空間9内、及び第1電極部1の他方側と補助電極11とが対向する第2の空間9’内にプラズマを発生させるとともに、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる。これにより、第1電極3と第2の電極4との間の第1の空間9内および第2の空間9’内を流れる被処理流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。なお、第1側部7内部の第2電極部2の一方側に対向する領域に補助電極11が形成されている場合、第2電極4と補助電極11との間にプラズマ場を発生させてもよく、第2電極部2の一方側と補助電極11とが対向する第3の空間9’’に被処理流体を流してもよい。   In the above-described case, the first electrode portion 1 and the second electrode portion 2 face each other by applying an AC voltage, a DC voltage, or a DC pulse voltage between the first electrode 3 and the second electrode 4. Plasma is generated in the first space 9 and in the second space 9 ′ where the other side of the first electrode portion 1 and the auxiliary electrode 11 face each other, and the plasma is generated in the first or second space 9, 9 ′. A fluid to be processed is caused to flow into at least one of them. Thereby, a plasma reaction can be satisfactorily performed with respect to the fluid to be processed flowing in the first space 9 and the second space 9 ′ between the first electrode 3 and the second electrode 4. When the auxiliary electrode 11 is formed in a region facing the one side of the second electrode part 2 inside the first side part 7, a plasma field is generated between the second electrode 4 and the auxiliary electrode 11. Alternatively, the fluid to be treated may flow through the third space 9 ″ where the one side of the second electrode portion 2 and the auxiliary electrode 11 face each other.

具体的には、本発明の装置は、被処理流体が酸素であり、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。これにより、プラズマ反応により良好に酸素をオゾンに変化させることができる。このような装置は、例えば、オゾン発生器として使用することができる。   Specifically, in the apparatus of the present invention, the fluid to be treated is oxygen, and ozone is generated by flowing oxygen into at least one of the first or second space 9, 9 '. Thereby, oxygen can be favorably changed to ozone by a plasma reaction. Such an apparatus can be used, for example, as an ozone generator.

或いは、図18に例示的に示すように、被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、第1或いは第2の空間9、9’の少なくとも一方に、排ガスを流入させる第1の流路12と、第1或いは第2の空間9、9’から排出される被処理ガスを、第1或いは第2の空間9、9’から流出させる第2の流路13とをさらに備えている。これにより、第1の流路12を介して排ガスを構造体の空間9、9’、9’’に良好に流入させることができる。したがって、構造体において排ガスを、プラズマ反応により良好に浄化した被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路を介して放出させることができる。   Alternatively, as exemplarily shown in FIG. 18, the fluid to be treated is exhaust gas from a furnace or an internal combustion engine, and first exhaust gas is introduced into at least one of the first or second space 9, 9 ′. It further includes a flow path 12 and a second flow path 13 for flowing the gas to be processed discharged from the first or second space 9, 9 'out of the first or second space 9, 9'. Yes. Thereby, the exhaust gas can be satisfactorily flowed into the spaces 9, 9 ′, 9 ″ of the structure through the first flow path 12. Therefore, the exhaust gas in the structure can be a gas to be treated that is well purified by the plasma reaction. Then, the gas to be processed can be released through the second flow path.

次に本発明の構造体の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the structure of this invention is demonstrated.

上述した第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツは、以下の工程を経て作製される。 The parts for the first electrode part and the parts for the second electrode part described above are produced through the following steps.

即ち、第1絶縁部、第2絶縁部となる平板状の生セラミックス成形体の表面或いは、2枚の生セラミックス成形体の間に、後述するメタライズペーストを、例えば平板状に塗布する。また、第1側部、第2側部となる生セラミックス成形体の内部や表面にも必要に応じてメタライズペーストが塗布される。このような生セラミックス成形体として、例えば、従来周知のセラミックグリーンシート等を利用することができる。   That is, a metallized paste, which will be described later, is applied in a flat plate shape, for example, between the surface of a flat green ceramic molded body that becomes the first insulating portion and the second insulating portion, or between two green ceramic molded bodies. Moreover, a metallized paste is applied to the inside and the surface of the green ceramic molded body that will be the first side portion and the second side portion, if necessary. As such a raw ceramic molded body, for example, a conventionally known ceramic green sheet or the like can be used.

そして、生セラミックス成形体同士の接合、具体的には、第1電極部1と第1側部7、第2電極部2と第2側部8とが、互いのメタライズペーストが接合するように、一体化されて、焼成前の第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとなる成形物が得られる。   And the joining between the green ceramic molded bodies, specifically, the first electrode part 1 and the first side part 7 and the second electrode part 2 and the second side part 8 are joined with each other's metallized paste. Thus, a molded product that is integrated and becomes the first electrode part and the second electrode part before firing is obtained.

その後、第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとなる成形物を、それぞれ、高温で焼成することによって第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツが得られる。例えば、第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツが、酸化アルミニウム質焼結体からなる場合、1500〜1800℃程度の高温にて焼成することにより製作される。   Then, the 1st electrode part parts and the 2nd electrode part parts are obtained by baking the molding used as the 1st electrode part parts and the 2nd electrode part parts at high temperature, respectively. For example, when the first electrode part and the second electrode part are made of an aluminum oxide sintered body, they are manufactured by firing at a high temperature of about 1500 to 1800 ° C.

このとき、上述した第1電極3および第2電極4、外部端子10、補助電極11は、以下のように作製される。まず、タングステンやモリブデン、銅、銀等の金属粉末を含む従来周知のメタライズペーストを準備する。そして、スクリーン印刷法等の印刷手段を用いて、第1絶縁部5或いは第2絶縁部6となる生セラミックス成形体の所定の位置、或いは第1側部或いは第2側部となる生セラミックス成形体の所定位置に、第1電極3および第2電極4用、外部端子10用、補助電極11用のメタライズペーストを塗布する。その後、これらの生セラミックス成形体とメタライズペーストとを同時焼成することによって、第1電極3および第2電極4、補助電極11を第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツの表面あるいは内部に所定のパターンに形成することができる。また、スルーホール内の導体11a等は、生セラミックス成形体に貫通穴を形成し、その内部或いは、貫通穴内部に導体11a用のメタライズペーストを充填したり、貫通穴の内周面に塗布したりすることにより形成することができる。なお、これらのメタライズペーストは、有機バインダーや有機溶剤の量により生セラミックス成形体への印刷や貫通穴内部への充填等、それぞれの形成に適した粘度に調製される。   At this time, the first electrode 3 and the second electrode 4, the external terminal 10, and the auxiliary electrode 11 described above are manufactured as follows. First, a conventionally known metallized paste containing a metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, or silver is prepared. Then, using a printing means such as a screen printing method, a green ceramic molding that is a predetermined position of the green ceramic molded body that becomes the first insulating portion 5 or the second insulating portion 6, or a first side portion or a second side portion. A metallized paste for the first electrode 3 and the second electrode 4, the external terminal 10 and the auxiliary electrode 11 is applied to a predetermined position of the body. Thereafter, the green ceramic molded body and the metallized paste are fired at the same time, so that the first electrode 3 and the second electrode 4 and the auxiliary electrode 11 are formed on the surface or the inside of the first electrode part and the second electrode part. It can be formed in a predetermined pattern. In addition, the conductor 11a and the like in the through hole is formed by forming a through hole in the green ceramic molded body and filling the inside or inside of the through hole with a metallized paste for the conductor 11a, or applying it to the inner peripheral surface of the through hole. Can be formed. These metallized pastes are prepared to have a viscosity suitable for each formation such as printing on a green ceramic molded body and filling in through holes depending on the amount of organic binder and organic solvent.

そして、第1電極部用パーツと、第2電極部用パーツとを、第1電極部1の主面と第2電極部2の主面間に、第1の空間9が形成されるように、両者を配置する。このとき、第1電極部1の自由端1bと第2側部8の内側面とは一定の距離だけ離間しており、間に第2の空間9’が形成され、第2電極部2の自由端2bと第1側部7の内側面とは一定の距離だけ離間しており、間に第3の空間9’’が形成されるように配置される。   And the first space 9 is formed between the main surface of the first electrode part 1 and the main surface of the second electrode part 2 in the first electrode part part and the second electrode part part. Place both. At this time, the free end 1b of the first electrode part 1 and the inner side surface of the second side part 8 are separated by a certain distance, and a second space 9 ′ is formed between them. The free end 2b and the inner side surface of the first side portion 7 are spaced apart from each other by a certain distance, and are arranged such that a third space 9 '' is formed therebetween.

このとき第1電極部用パーツ、第2電極部用パーツとは、互いに固定部材を介して固定される。固定用部材としては、例えば、第1側部7、第2側部8を、弾性力でもって挟持する挟持体14が用いられ、挟持体の挟持部に、第1側部、第2側部をそれぞれはめ込んで、本発明の構造体が完成する。尚、挟持体は、例えば金属製の板状体に、従来周知の板金加工することで容易に作製できる。   At this time, the first electrode part and the second electrode part are fixed to each other via a fixing member. As the fixing member, for example, a sandwiching body 14 that sandwiches the first side portion 7 and the second side portion 8 with an elastic force is used. The sandwiching portion of the sandwiching body includes a first side portion and a second side portion. To complete the structure of the present invention. In addition, a clamping body can be easily produced, for example by carrying out conventionally well-known sheet metal processing to a metal plate-shaped body.

なお、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上述においては、自動車、船舶、発電機等に使用されるエンジン等の排ガスの浄化等について説明を行っているが、その他の用途に使用される構造体に適用しても良い。例えば、消臭、ダイオキシンの分解、花粉の分解等に使用される空気洗浄機器等に搭載される構造体にも適用することができる。   The present invention can be variously modified without departing from the gist of the present invention. For example, in the above description, purification of exhaust gas such as engines used in automobiles, ships, generators, and the like has been described, but the present invention may be applied to structures used for other purposes. For example, the present invention can be applied to a structure mounted on an air cleaning device used for deodorization, decomposition of dioxins, decomposition of pollen, or the like.

(a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のA方向から見た側面図である。(A) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention, (b) is the side view seen from the A direction of (a). (a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図である。1A is a cross-sectional view taken along line BB ′ of the structure of FIG. 1A, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. 1B, and FIG. It is sectional drawing in the DD 'line of (b). 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of embodiment of the structure of this invention. (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のE方向から見た側面図である。(A) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention, (b) is the side view seen from E direction of (a). (a)は、図4(a)の構造体のF−F’線における断面図、(b)は、図4(b)のG−G’線における断面図、(c)は、図4(b)のH−H’線における断面図である。(A) is sectional drawing in the FF 'line of the structure of Fig.4 (a), (b) is sectional drawing in the GG' line of FIG.4 (b), (c) is FIG.4. It is sectional drawing in the HH 'line of (b). 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of embodiment of the structure of this invention. (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のI方向から見た側面図である。(A) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention, (b) is the side view seen from the I direction of (a). (a)は、図7(a)の構造体のJ−J’線における断面図、(b)は、図7(b)のK−K’線における断面図、(c)は、図7(b)のL−L’線における断面図である。(A) is sectional drawing in the JJ 'line of the structure of Fig.7 (a), (b) is sectional drawing in the KK' line of FIG.7 (b), (c) is FIG. It is sectional drawing in the LL 'line of (b). 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of embodiment of the structure of this invention. (a)は、本発明の構造体の実施の形態の一例を示す平面図であり、(b)は、(a)のM方向から見た側面図である。(A) is a top view which shows an example of embodiment of the structure of this invention, (b) is the side view seen from the M direction of (a). (a)は、図10(a)の構造体のN−N’線における断面図、(b)は、図4(b)のO−O’線における断面図、(c)は、図1(b)のP−P’線における断面図である。10A is a cross-sectional view taken along line NN ′ of the structure in FIG. 10A, FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line OO ′ in FIG. 4B, and FIG. It is sectional drawing in the PP 'line of (b). 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of embodiment of the structure of this invention. 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。It is sectional drawing which shows an example of another embodiment of the structure of this invention, (a) is sectional drawing in the BB 'line | wire of the structure of Fig.1 (a), (b) is FIG. A cross-sectional view taken along line CC ′ in FIG. 5B corresponds to a cross-sectional view taken along line DD ′ in FIG. 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。It is sectional drawing which shows an example of another embodiment of the structure of this invention, (a) is sectional drawing in the BB 'line | wire of the structure of Fig.1 (a), (b) is FIG. A cross-sectional view taken along line CC ′ in FIG. 5B corresponds to a cross-sectional view taken along line DD ′ in FIG. 本発明の構造体の別の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は、図1(a)の構造体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図に相当する。It is sectional drawing which shows an example of another embodiment of the structure of this invention, (a) is sectional drawing in the BB 'line | wire of the structure of Fig.1 (a), (b) is FIG. A cross-sectional view taken along line CC ′ in FIG. 5B corresponds to a cross-sectional view taken along line DD ′ in FIG. 本発明の構造体の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the structure of this invention. 本発明の装置の実施の形態の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of embodiment of the apparatus of this invention. 本発明の装置の実施の形態の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of embodiment of the apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・第1電極部
2・・・第2電極部
3・・・第1電極
4・・・第2電極
5・・・第1絶縁部
6・・・第2絶縁部
7・・・第1側部
8・・・第2側部
9・・・第1の空間
9’・・・第2の空間
9’’・・・第3の空間
10・・・配線導体
11・・・補助電極
11a・・・導体
12・・・第1の流路
13・・・第2の流路
14・・・挟持体
15・・・電圧印加部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st electrode part 2 ... 2nd electrode part 3 ... 1st electrode 4 ... 2nd electrode 5 ... 1st insulation part 6 ... 2nd insulation part 7 ... 1st side 8 ... 2nd side 9 ... 1st space 9 '... 2nd space 9''... 3rd space 10 ... Wiring conductor 11 ... Auxiliary Electrode 11a... Conductor 12... First flow path 13... Second flow path 14.

Claims (8)

第1側部と、
該第1側部とは離間して配置される第2側部と、
平板状の第1電極を保持してなり、一方側が、前記第1側部に固定された固定端であり、他方側が、前記第2側部側に向かって延在する自由端である第1電極部と、
平板状の第2電極を保持してなり、他方側が、前記第2側部に固定された固定端であり、一方側が、前記第1側部側に向かって延在する自由端である第2電極部と、を備え、
前記第1電極部の主面と第2電極部の主面とが、間に空間を介して対向するように配置されるとともに、
前記第2側部内部の前記第1電極部の他方側の端部に対向する領域には、補助電極を備える構造体。
A first side;
A second side portion spaced apart from the first side portion;
A first electrode having a flat plate-like first electrode, one side being a fixed end fixed to the first side portion, and the other side being a free end extending toward the second side portion side. An electrode part;
A second electrode having a flat second electrode, the other side being a fixed end fixed to the second side portion, and the one side being a free end extending toward the first side portion side. An electrode part,
The main surface of the first electrode part and the main surface of the second electrode part are arranged so as to face each other with a space therebetween,
A structure provided with an auxiliary electrode in a region facing the other end portion of the first electrode portion inside the second side portion.
前記第1電極部の他方側と前記補助電極との間隔は、前記第1電極部と前記第2電極部との間隔と比べて、実質的に同じか、或いは短い請求項1に記載の構造体。   The structure according to claim 1, wherein a distance between the other side of the first electrode part and the auxiliary electrode is substantially the same or shorter than a distance between the first electrode part and the second electrode part. body. 前記補助電極は、前記第1電極部が振動可能な方向における該第1電極部の幅よりも、前記方向における幅が大きい請求項1または請求項2に記載の構造体。   The structure according to claim 1, wherein the auxiliary electrode has a width in the direction larger than a width of the first electrode portion in a direction in which the first electrode portion can vibrate. 前記補助電極は、第2側部の内部に形成されたスルーホール内に充填された導体或いはスルーホールの内周面に被着された導体を備える請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の構造体。   4. The auxiliary electrode includes a conductor filled in a through hole formed inside the second side portion or a conductor deposited on an inner peripheral surface of the through hole. 5. Structure. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の構造体と、
前記構造体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するとともに、
前記第1電極と前記補助電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部と、を備えた装置。
A structure according to any one of claims 1 to 4,
Connected to the first electrode and the second electrode of the structure, and applying an AC voltage, a DC voltage or a DC pulse voltage between the first electrode and the second electrode;
A voltage application unit for applying an alternating voltage, a direct current voltage, or a direct current pulse voltage between the first electrode and the auxiliary electrode;
前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、
前記第1電極部の主面と前記第2電極部の主面とが対向する第1の空間内、及び前記第1電極部の他方側と前記補助電極とが対向する第2の空間内にプラズマを発生させるとともに、
前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、被処理流体を流入させる請求項5に記載の装置。
By applying an AC voltage, a DC voltage or a DC pulse voltage between the first electrode and the second electrode,
In a first space where the main surface of the first electrode portion and the main surface of the second electrode portion face each other, and in a second space where the other side of the first electrode portion and the auxiliary electrode face each other. While generating plasma,
The apparatus according to claim 5, wherein a fluid to be processed is caused to flow into at least one of the first and second spaces.
前記被処理流体が酸素であり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させる請求項6に記載の装置。   The apparatus according to claim 6, wherein the fluid to be treated is oxygen, and ozone is generated by flowing oxygen into at least one of the first and second spaces. 前記被処理流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記第1或いは第2の空間の少なくとも一方に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、
前記第1或いは第2の空間から排出される被処理ガスを、前記第1或いは第2の空間から流出させる第2の流路とをさらに備えた請求項6に記載の装置。
The fluid to be treated is exhaust gas from a furnace or an internal combustion engine, and a first flow path for flowing the exhaust gas into at least one of the first or second space;
The apparatus according to claim 6, further comprising a second flow path for allowing the gas to be processed discharged from the first or second space to flow out of the first or second space.
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