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JP2008032414A - マイクロチップ - Google Patents

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JP2008032414A
JP2008032414A JP2006203079A JP2006203079A JP2008032414A JP 2008032414 A JP2008032414 A JP 2008032414A JP 2006203079 A JP2006203079 A JP 2006203079A JP 2006203079 A JP2006203079 A JP 2006203079A JP 2008032414 A JP2008032414 A JP 2008032414A
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JP
Japan
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substrate
microchip
upper substrate
lower substrate
repellent film
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Pending
Application number
JP2006203079A
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English (en)
Inventor
Tetsuhiro Nakamura
中村  哲浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Citizen Holdings Co Ltd
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Publication date
Application filed by Citizen Holdings Co Ltd filed Critical Citizen Holdings Co Ltd
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Abstract

【課題】従来のマイクロチップでは、スパッタリング装置や反応性イオンエッチング装置などの非常に高価な装置を用いる必要があり、安価なマイクロチップを作成することが困難であった。
【解決手段】本発明のマイクロチップは、試料注入穴と試料排出穴を設けた上基板と少なくとも流路部分を開口した撥水膜を設けた下基板とを重ね合わせ、基板保持材により重ね合わせた上基板と下基板を固定した構造としており、このことにより、非常に簡便な構造で高価な装置などを使用せずに十分な実用性を有するマイクロチップを得ることが可能となる。
【選択図】図1

Description

本発明は、マイクロチップに関するものである。
近年、マイクロスケール・トータル・アナリシス・システムズ(μTAS)またはラブ・オン・チップ(Lab−on−chip)などの名称で知られるように、基板内にマイクロチャネルや反応容器およびポートなどの微細構造を設け、微細構造内で物質の化学反応、合成、精製、抽出、生成および分析など各種の操作を行うように構成されたマイクロデバイスが提案され、一部実用化されている。このような目的のために制作された、基板内にマイクロチャネル、ポートおよび反応容器などの微細構造を有する構造物は総称して「マイクロチップ」または「マイクロ流体デバイス」と呼ばれる。マイクロチップは遺伝子解析、臨床診断、薬物スクリーニングなどの化学、生化学、薬学、医学、獣医学分野のみならず、化学工業、環境計測などの幅広い用途に使用できる。常用サイズ同種の装置に比べて、マイクロチップは(1)サンプルおよび試薬の使用量が著しく少ない、(2)分析時間が短い、(3)感度が高い、(4)現場に携帯し、その場で分析できる、および(5)使い捨てできるなどの利点を有する。
従来のマイクロチップの構造について図9を用いて説明する。従来のマイクロチップは微細流路11および微細流路11に連通し、かつ、大気に解放したポート12が形成されたポリジメチルシロキサンであるPDMS基板10aと、PDMS基板10aの微細流路11形成面に接着された対面基板13とからなるマイクロチップにおいて、対面基板13の貼り合わせ面には酸化シリコン14が形成されており、対面基板13が酸化シリコン14を介してPDMS基板10と接着されている。
PDMS基板10aは鋳型によりPDMS樹脂を成型し、微細流路11とポート12を形成したものを用いており、対面基板13はポリカーボネート板にスパッタリング法により酸化シリコン14を形成したものを用いている。
PDMS基板10aと対面基板13を反応性イオンエッチング装置内で酸素プラズマにより各貼り合わせ面の表面改質処理を行った後、PDMS基板10aと対面基板13とを反応性イオンエッチング装置から取り出し、PDMS基板10aの微細流路形成面と対面基板13のシリコン酸化膜14面とを貼り合わせマイクロチップが完成する。
特開2005−257283号公報(図1)
前述したマイクロチップには以下に記載するような問題点がある。
従来のマイクロチップでは、スパッタリング装置や反応性イオンエッチング装置などの非常に高価な装置を用いる必要があり、安価なマイクロチップを作成することが困難であった。
また、従来のマイクロチップではPDMS基板と対面基板が恒久的に接着されてしまうため一度試料が流れた流路を洗浄して再利用することが非常に困難である。すなわち、使い捨てを前提として使用しなくてはならなかった。
本発明は、非常に簡便な構造で、かつ、安価で生産性が良好なマイクロチップを提供す
ることを目的としている。
上記の目的を達成するために、本発明におけるマイクロチップは、下記記載の構成を採用する。
本発明のマイクロチップは、試料注入穴と試料排出穴を設けた上基板と、少なくとも流路部分が開口している撥水膜を設けた下基板とを重ね合わせ、基板保持材により重ね合わせた上基板と下基板を固定していることを特徴としている。
本発明のマイクロチップは、試料注入穴と試料排出穴と少なくとも流路部分が開口している撥水膜を設けた上基板と、下基板とを重ね合わせ、基板保持材により重ね合わせた上基板と下基板を固定していることを特徴としている。
本発明のマイクロチップは、試料注入穴と試料排出穴を設け、少なくとも流路部分を開口した撥水膜を設けた上基板と、少なくとも流路部分が開口した撥水膜を設けた下基板とを重ね合わせ、基板保持材により重ね合わせた上基板と下基板を固定していることを特徴としている。
本発明のマイクロチップは、上基板と下基板を固定する基板保持材が、上基板と下基板の間に配置していることが好ましい。
本発明のマイクロチップは、試料注入穴と試料排出穴を設けた上基板と流路となる部分以外に撥水膜を設けた下基板とを重ね合わせ、基板保持材により重ね合わせた上基板と下基板を固定している構造となっている。
このような構造の場合、上基板と下基板とは完全に密着した状態にはならないが、試料注入穴から注入された液体の流通路を撥水膜のパターンにより制御することが可能であり、上基板と下基板が密着した状態でなくとも液体が流通するための穴が物理的に形成されたものと同様の効果を得ることができる。
このことにより、非常に簡便な構造で高価な装置などを使用せずに十分な実用性を有するマイクロチップを得ることが可能となる。
以下図面を用いて本発明の最適な実施形態におけるマイクロチップについて説明する。
(第一の実施形態)
図1に本発明の第一の実施形態におけるマイクロチップの断面図を示す。図1に示すように、試料注入穴4と試料排出穴5を設けた上基板1と流路10となる部分以外に撥水膜3を設けた下基板2とを重ね合わせ、基板保持材6により重ね合わせた上基板1と下基板2を固定している構造となっている。
このような構造の場合、上基板1と下基板2とは完全に密着した状態にはならないが、試料注入穴4から注入された液体の流通路を撥水膜3のパターンにより制御することが可能であり、上基板1と下基板2が密着した状態でなくとも液体が流通するための穴が物理的に形成されたものと同様の効果を得ることができる。
このことにより、非常に簡便な構造で高価な装置などを使用せずに十分な実用性を有するマイクロチップを得ることが可能となる。
次に、第一の実施形態におけるマイクロチップの製造方法について図1から図4を用いて説明する。まず、図2に示すように厚さ1mm程度のアクリル板に試料注入穴4と試料排出穴5を切削加工により形成し、上基板1を作成する。
本実施形態では上基板1としてアクリル板を使用したが、特に制限されるものではなく、加工性、コストなどを考慮し適当なものを使用する。
図3は撥水膜3を形成した下基板2を示す斜視図である。下基板2の一方の面に液体の流通路となる部分を除いて撥水膜3を形成する。撥水膜3の形成方法は撥水性の粒子と接着バインダーが混合されたものをスプレー塗布し、その際、メタルマスクを使用することで任意のパターンに形成する。
撥水膜3のパターン形状は少なくとも流路部分が開口していれば良く、目的、用途により適当な形状に形成してあればよい。
下基板2の材質は本実施形態ではアクリル板を使用したが、特に制限されるものではなく、加工性、コストなどを考慮し適当なものを使用する。
上基板1と下基板2の撥水膜3を形成した面とを重ね合わせ、基板保持材6により上基板1と下基板2を図4に示すように固定する。このとき上基板1と下基板2の外形を合わせるだけで試料注入穴4および試料排出穴5と下基板2の撥水膜3が形成されていない部分の位置あわせが行えるようにしておくと作業が容易に行える。
本実施形態では基板保持材6として粘着テープを用いて上基板1と下基板2の固定を行った。以上の方法により図1に示すマイクロチップが完成する。
(第二の実施形態)
次に第二の実施形態の構造について説明する。図5は第二の実施形態におけるマイクロチップの断面図を示す。図5に示すように、試料注入穴4と試料排出穴5を設けた上基板1と流路となる部分および基板保持材6を配置する部分以外に撥水膜3を設けた下基板2とを重ね合わせ、上基板1と下基板2の間に基板保持材6を配置することにより重ね合わせた上基板1と下基板2を固定している構造となっている。
この構造とすることで第一の実施形態と同様の効果が得られるマイクロチップを得ることができる。
次に、第二の実施形態におけるマイクロチップの製造方法について図2および図5から図7を用いて説明する。まず、第一の実施形態と同様に図2に示すように厚さ1mm程度のアクリル板に試料注入穴4と試料排出穴5を切削加工により形成し、上基板1を作成する。
本実施形態では上基板1としてアクリル板を使用したが、特に制限されるものではなく、加工性、コストなどを考慮し適当なものを使用する。
図6は撥水膜3を形成した下基板2を示す斜視図である。下基板2の一方の面に液体の流通路となる部分および基板保持材6を配置する部分を除いて撥水膜3を形成する。撥水膜3の形成方法は第一の実施形態と同様に撥水性の粒子と接着バインダーが混合されたものをスプレー塗布し、その際、メタルマスクを使用することで任意のパターンに形成する。
下基板2の材質は本実施形態ではアクリル板を使用したが、特に制限されるものではなく、加工性、コストなどを考慮し適当なものを使用する。
次に、図7に示すように下基板2上に基板保持材6を配置する。このとき使用する基板保持材6は液状の接着剤やフィルム状の粘着材を用いるが、特に制限は無い。
本実施形態では上基板1と下基板2とを重ね合わせて基板保持材6で固定した後に上基板1と下基板2を歪ませるような応力を発生させないように硬化後に柔らかい常温硬化型のシリコーン系の接着剤を使用した。
基板保持材6を配置する位置については、図7に示すように下基板2の外周部に沿って配置する方法や、図8に示すように上基板1と下基板2を固定するのに必要な部分にだけ配置する方法などが考えられるが、特に限定されるものではない。
撥水膜3を形成した下基板2上に基板保持材6を配置した後、上基板1と重ね合わせ、基板保持材6として使用したシリコーン系接着剤が硬化することで上基板1と下基板2が固定され図5に示すような第二の実施形態におけるマイクロチップを得ることができる。
このとき上基板1と下基板2の外形を合わせるだけで試料注入穴4および試料排出穴5と下基板2の撥水膜3が形成されていない部分の位置あわせが行えるようにしておくと作業が容易に行える。
試料注入穴4と試料排出穴5を形成する位置は、上基板1側に必ず設ける必要はなく、下基板2に設けていても第一、第二の実施形態に記載したマイクロチップと同様の効果が得られる。
また、撥水膜3を形成する位置についても、下基板2側に必ず設ける必要はなく、上基板1側に設けても問題はなく、上基板1と下基板2の両方に設けていても第一、第二の実施形態に記載したマイクロチップと同様の効果が得られる。
本発明の第一の実施形態におけるマイクロチップを示す断面図である。 本発明の第一の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 本発明の第一の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 本発明の第一の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 本発明の第二の実施形態におけるマイクロチップを示す断面図である。 本発明の第二の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 本発明の第二の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 本発明の第二の実施形態におけるマイクロチップの製造工程を示す斜視図である。 従来例におけるマイクロチップを示す断面図である。
符号の説明
1 上基板
2 下基板
3 撥水膜
4 試料注入穴
5 試料排出穴
6 基板保持材
10 流路
10a PDMS基板
11 微細流路
12 ポート
13 対面基板
14 酸化シリコン

Claims (3)

  1. 試料注入穴と試料排出穴とを有する上基板と、少なくとも流路部分が開口している撥水膜を有する下基板とを重ね合わせ、基板保持材により前記上基板と前記下基板とを固定するマイクロチップ。
  2. 前記基板保持材が、前記上基板と前記下基板との間に配置されることを特徴とする請求項1に記載のマイクロチップ。
  3. 前記上基板には、少なくとも流路部分が開口している撥水膜を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のマイクロチップ。
JP2006203079A 2006-07-26 2006-07-26 マイクロチップ Pending JP2008032414A (ja)

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