JP2008068155A

JP2008068155A - Excimer light irradiation equipment

Info

Publication number: JP2008068155A
Application number: JP2006246405A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Endo; 真一遠藤; Hiroshi Koyanagi; 博小柳
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 2006-09-12
Filing date: 2006-09-12
Publication date: 2008-03-27
Also published as: TW200814185A; CN101199923A; CN101199923B; KR20080024062A

Abstract

【課題】この発明が解決しようとする課題は、エキシマ光を利用した液晶パネル用ガラス基板等の洗浄装置において、効率の良い洗浄を行い、大型基板に対しても洗浄ムラを少なくすることのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のエキシマ光照射装置は、複数のエキシマランプを並列配置したランプハウス内に少なくとも窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出するブロー管を備え、該ブロー管と該エキシマランプ上面部分と該ランプハウスの仕切壁とで囲まれる第一の置換空間と、該ブロー管と該エキシマランプ下面部分と搬送される基板とで囲まれる第二の置換空間を備え、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することによって該第一の置換空間を形成することを特徴とする。
【選択図】図１
A problem to be solved by the present invention is that cleaning can be performed efficiently in a cleaning apparatus for glass substrates for liquid crystal panels using excimer light, and cleaning unevenness can be reduced even for large substrates. The object is to provide an excimer light irradiation device.
An excimer light irradiation apparatus according to the present invention includes a blow tube that ejects a gas containing at least an inert gas such as nitrogen into a lamp house in which a plurality of excimer lamps are arranged in parallel, and the blow tube and the excimer lamp. A first replacement space surrounded by the upper surface portion and the partition wall of the lamp house, and a second replacement space surrounded by the blow tube, the lower surface portion of the excimer lamp, and the substrate to be conveyed; The first replacement space is formed by ejecting an inert gas toward the first replacement space.
[Selection] Figure 1

Description

この発明はエキシマ光照射装置に関する。特に、半導体や液晶基板の製造工程において基板の洗浄等に利用されるエキシマランプ装置であって、該洗浄時の雰囲気を作る構造に特徴をもつエキシマ光照射装置に関する。 The present invention relates to an excimer light irradiation apparatus. In particular, the present invention relates to an excimer lamp apparatus used for cleaning a substrate or the like in a manufacturing process of a semiconductor or a liquid crystal substrate, which is characterized by a structure that creates an atmosphere during the cleaning.

最近の半導体や液晶基板の製造工程において、シリコンウエーハやガラス基板の表面に付着した有機化合物等の汚れを除去する方法として、紫外線を用いたドライ洗浄方法が広く利用されている。特に、エキシマランプから放射される真空紫外線を用いたオゾン等の活性酸素による洗浄方法において、より効率良く短時間で洗浄する洗浄装置が種々提案されている。従来のこのような技術としては、例えば、特開２００１−１３７８００号公報などが知られている。 In recent manufacturing processes of semiconductors and liquid crystal substrates, a dry cleaning method using ultraviolet rays is widely used as a method for removing dirt such as organic compounds adhering to the surfaces of silicon wafers and glass substrates. In particular, in a cleaning method using active oxygen such as ozone using vacuum ultraviolet rays radiated from an excimer lamp, various cleaning apparatuses that perform cleaning more efficiently and in a short time have been proposed. As such a conventional technique, for example, JP-A-2001-137800 is known.

該公報によれば、基板の表面を洗浄する基板処理装置であって、窒素ガス雰囲気となったランプハウス内に、複数本のエキシマランプが配置され、ローラーコンベアによって該ランプハウス内に搬送された基板に該エキシマランプから放射される紫外線を照射すると共に、オゾン等の活性酸素により有機物を分解し、揮発物質に変換して除去することが記載されている。 According to the publication, a substrate processing apparatus for cleaning the surface of a substrate, wherein a plurality of excimer lamps are arranged in a lamp house having a nitrogen gas atmosphere, and are conveyed into the lamp house by a roller conveyor. The document describes that a substrate is irradiated with ultraviolet rays emitted from the excimer lamp, and an organic substance is decomposed by active oxygen such as ozone, converted into a volatile substance and removed.

しかしながら、このような基板処理装置において、処理を行う基板を該基板処理装置に搬入する場合、搬入する入口部で酸素を巻き込み処理ムラを起こすといった問題があった。また、該入口部と該出口部とで雰囲気ガス内の酸素濃度がバラツキ、全体としても均一な処理ができないといった問題があった。更には、液晶ガラス基板等の処理対象物である該基板が大型化することに伴って、平板状の該窓ガラスを利用すること自体が大きな問題となってきた。これは、大型化に伴って取り扱いが煩雑になる、ガラスの自重で撓みが発生する、撓み防止に厚みを厚くすると吸収により照度低下が発生する、装置に対して窓ガラス自身のコストが非常に大きくなる、等といったものである。 However, in such a substrate processing apparatus, when a substrate to be processed is carried into the substrate processing apparatus, there is a problem that oxygen is involved at the inlet portion to carry in and processing unevenness occurs. In addition, there is a problem that the oxygen concentration in the atmospheric gas varies between the inlet and the outlet, and uniform processing cannot be performed as a whole. Furthermore, as the substrate, which is an object to be processed such as a liquid crystal glass substrate, becomes larger, the use of the flat window glass itself has become a big problem. This is because the handling becomes complicated as the size increases, the glass is bent due to its own weight, and if the thickness is increased to prevent bending, the illuminance decreases due to absorption. Such as getting bigger.

このような問題に鑑み、エキシマランプを利用したエキシマ光照射装置において、窓ガラスを利用しない装置も開発が進められている。このような技術としては、例えば、特開２００１−１１３１６３号公報や、特開２００６−１３４９８３号公報等が知られている。該特開２００１−１１３１６３号公報によれば、被処理物である基板面に紫外線を照射して処理する紫外光照射装置において、大気中で該基板を保持する支持台と、１７５ｎｍ以下の波長の光を放射する光源と、該基板面上方の大気中の空間に不活性ガスを流入させる不活性ガス流入手段を備えた装置が記載されている。また、特開２００６−１３４９８３号公報によれば、エキシマランプから放射されたエキシマ光を被処理物に照射する装置であって、複数本並列配置された該エキシマランプの間に不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス流通部が形成された装置が記載されている。以下に従来のエキシマ光照射装置の概略を示す。 In view of such a problem, an excimer light irradiation apparatus using an excimer lamp has also been developed for an apparatus that does not use a window glass. As such a technique, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-113163 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-134983 are known. According to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-113163, in an ultraviolet light irradiation apparatus that performs processing by irradiating a substrate surface, which is an object to be processed, with an ultraviolet light, a support base that holds the substrate in the atmosphere and a wavelength of 175 nm or less. An apparatus is described that includes a light source that emits light and an inert gas inflow means for allowing an inert gas to flow into a space in the atmosphere above the substrate surface. Further, according to Japanese Patent Laid-Open No. 2006-134983, an apparatus for irradiating an object to be processed with excimer light emitted from an excimer lamp, and an inert gas is ejected between the plurality of excimer lamps arranged in parallel. An apparatus in which an inert gas circulation portion having a jet port is formed is described. The outline of the conventional excimer light irradiation apparatus is shown below.

図８に示すのは、従来のエキシマ光照射装置の概略図である。エキシマ光照射装置１０１には、ランプハウス１０３内に並列配置された円筒状のエキシマランプ１０２が複数本配置されている。該ランプハウス１０３には、上板１１１と側板１１２が設けられ、該ランプハウス１０３の下方はガラス窓を持たない開口した構成を採っている。該ランプハウス１０３内に配置された該エキシマランプ１０２の間には不活性ガスを噴出する噴出口１０５を具備した不活性ガス流通部１０４が配置されている。また、該エキシマ光照射装置１０１の下方には、基板１１５が輸送され、該エキシマランプ１０２から放射されるエキシマ光によって洗浄処理される。また、該エキシマ光照射装置１０１のランプハウス１０３内に設けられた該不活性ガス流通部１０４には、不活性ガスとして、窒素ガスが流されている。該窒素ガスは該噴出口１０５から該エキシマ光照射装置１０１下方に噴出し、該基板１１５に吹き付けられる。該エキシマ光照射装置１０１の下方で該基板１１５の周辺は、該噴出口１０５から吹き付けられる窒素ガスによって真空紫外域の光が透過できる酸素濃度の低い置換空間が形成される。 FIG. 8 is a schematic diagram of a conventional excimer light irradiation apparatus. In the excimer light irradiation device 101, a plurality of cylindrical excimer lamps 102 arranged in parallel in the lamp house 103 are arranged. The lamp house 103 is provided with an upper plate 111 and a side plate 112, and the lower portion of the lamp house 103 has an open configuration without a glass window. Between the excimer lamps 102 arranged in the lamp house 103, an inert gas circulation part 104 having a jet outlet 105 for jetting inert gas is arranged. Further, the substrate 115 is transported below the excimer light irradiation apparatus 101 and cleaned by excimer light emitted from the excimer lamp 102. In addition, nitrogen gas is supplied as an inert gas to the inert gas circulation unit 104 provided in the lamp house 103 of the excimer light irradiation apparatus 101. The nitrogen gas is ejected from the ejection port 105 to the lower side of the excimer light irradiation apparatus 101 and blown to the substrate 115. Below the excimer light irradiation apparatus 101, a substitution space having a low oxygen concentration is formed around the substrate 115 so that light in the vacuum ultraviolet region can be transmitted by nitrogen gas blown from the jet port 105.

しかしながら、窒素ガスを該基板１１５に吹き付ける従来の技術では、不活性ガスを使用する量が大量になり、製造コストが高くなるばかりか、液晶ガラス基板等を搬送時、該基板の先端部と中央と後端部とで酸素濃度にばらつきが生じ、処理ムラが発生するといった問題がある。また、図８に示した従来の装置では、該不活性ガス流通部の上方の空間が窒素ガス等で置換されることがないので、基板面上に吹き付ける窒素ガスに巻き込まれる酸素濃度に大きなバラツキが生じ、酸素濃度のバラツキに対応した大きな処理ムラが発生するといった問題もあった。 However, in the conventional technique in which nitrogen gas is blown onto the substrate 115, the amount of the inert gas used becomes large and the manufacturing cost is increased. There is a problem in that the oxygen concentration varies between the rear end portion and the rear end portion, and processing unevenness occurs. Further, in the conventional apparatus shown in FIG. 8, since the space above the inert gas circulation portion is not replaced with nitrogen gas or the like, the oxygen concentration involved in the nitrogen gas blown on the substrate surface varies greatly. As a result, there is a problem that large processing unevenness corresponding to variation in oxygen concentration occurs.

特開２００１−１３７８００号JP 2001-137800 A 特開２００１−１１３１６３号JP 2001-113163 A 特開２００６−１３４９８３号JP 2006-134983 A

この発明が解決しようとする課題は、エキシマ光を利用した液晶パネル用ガラス基板等の洗浄装置において、大面積の板状ガラス窓を配置しない装置であっても、窒素置換時のガス使用量を少なくすることを可能としたエキシマ光照射装置を提供することにある。更には、大型基板に対しても洗浄ムラを少なくすることのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is that the amount of gas used at the time of nitrogen substitution is reduced even in a cleaning device such as a glass substrate for a liquid crystal panel using excimer light, in which a large glass plate window is not arranged. An object of the present invention is to provide an excimer light irradiation device that can be reduced. Furthermore, it is providing the excimer light irradiation apparatus which can reduce washing | cleaning nonuniformity also with respect to a large sized substrate.

本発明のエキシマ光照射装置は、搬送される基板に対してエキシマ光を照射するエキシマ光照射装置であって、ランプハウス内に略棒状のエキシマランプが複数本並列配置されており、基板を送る搬送手段を有し、前記ランプハウスには、隔壁部材が設けられ、該隔壁部材と各々の該エキシマランプとの間に狭窄部が形成されており、該ランプハウス内の該狭窄部より該エキシマランプ上方に第一の置換空間を形成し、該狭窄部より該エキシマランプ下方である基板側に第二の置換空間を形成し、該第一の置換空間側に不活性ガスを含むガスを噴出する噴出口が設けられていることを特徴とする。 The excimer light irradiation apparatus according to the present invention is an excimer light irradiation apparatus that irradiates a substrate to be transported with excimer light, and a plurality of substantially rod-shaped excimer lamps are arranged in parallel in a lamp house to send the substrate. A partition member is provided in the lamp house, and a constriction is formed between the partition member and each of the excimer lamps, and the excimer is formed from the constriction in the lamp house. A first replacement space is formed above the lamp, a second replacement space is formed on the substrate side below the excimer lamp from the constricted portion, and a gas containing an inert gas is ejected to the first replacement space side. A spout is provided.

また、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成に加えて、前記隔壁部材は、不活性ガスを含むガスを流通するブロー管を兼ねており、該ブロー管にはガスを噴出する噴出口が該ブロー管の長手方向に間隔を持って設けられていることを特徴とする Further, in the excimer light irradiation device of the present invention, in addition to the above-described configuration, the partition member also serves as a blow pipe through which a gas containing an inert gas is circulated, and a jet outlet for ejecting the gas to the blow pipe Are provided at intervals in the longitudinal direction of the blow tube

更に、前記ランプハウスは、該エキシマランプの両側に配置された前記ブロー管の各々の側壁と、その間に配置されるエキシマランプの外壁の上面部分と、該エキシマランプ上方に配置されたランプハウス内の仕切壁と、により形成される第一の置換空間、及び、前記ブロー管の一つの下壁と、その両側に配置されるエキシマランプの外壁の下面部分と、搬送される基板と、により形成される第二の置換空間、を有し、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することを特徴とする。 Further, the lamp house includes a side wall of each of the blow tubes disposed on both sides of the excimer lamp, an upper surface portion of an outer wall of the excimer lamp disposed therebetween, and an interior of the lamp house disposed above the excimer lamp. A partition wall, a first replacement space formed by, and a lower wall of one of the blow tubes, a lower surface portion of an outer wall of an excimer lamp disposed on both sides thereof, and a substrate to be transported A second replacement space, and an inert gas is ejected from the blow pipe toward the first replacement space.

また、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成において、前記第一の置換空間は、その体積が、前記第二の置換空間の体積よりも大きいことを特徴とする。 Moreover, the excimer light irradiation apparatus of the present invention is characterized in that, in the above-described configuration, the volume of the first replacement space is larger than the volume of the second replacement space.

更には、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成において、前記第一の置換空間は、該ランプハウス内に配置された該エキシマランプ毎に形成されており、個々の置換空間に流れるガスの流量が異なることを特徴とする。 Further, in the excimer light irradiation apparatus of the present invention, in the configuration described above, the first replacement space is formed for each of the excimer lamps arranged in the lamp house, and the gas flowing in each replacement space It is characterized by the different flow rates.

また、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成において、前記第一の置換空間は、同空間に流れるガスの流量が、該ランプハウスの中央付近に比べて、該ランプハウスの外側に近い方が多いことを特徴とする。 In the excimer light irradiation apparatus of the present invention, in the configuration described above, the first replacement space has a gas flow rate closer to the outside of the lamp house than in the vicinity of the center of the lamp house. It is characterized by more.

更には、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成において、前記第一の置換空間は、同空間に流れるガスの流量が、該第二の置換空間が形成されるまでは規定量より少なく、処理基板の搬送により、該第二の置換空間が形成されると予め設定された規定量が流れることを特徴とする。 Furthermore, the excimer light irradiation apparatus of the present invention is the above-described configuration, wherein the flow rate of the gas flowing in the first replacement space is less than a predetermined amount until the second replacement space is formed. When the second replacement space is formed by transporting the processing substrate, a predetermined amount set in advance flows.

また、本発明のエキシマ光照射装置は、前記の構成において、前記第一の置換空間は、処理基板の搬送により、該第二の置換空間の形成、あるいは、消失をセンサーによって検知し、該第二の置換空間の形成、あるいは、消失に合わせて該第一の置換空間に流れるガスの流量を制御することを特徴とする。 Further, the excimer light irradiation apparatus of the present invention has the above-described configuration, wherein the first replacement space detects the formation or disappearance of the second replacement space by a sensor by conveying a processing substrate, and the first replacement space The flow rate of the gas flowing through the first replacement space is controlled in accordance with the formation or disappearance of the second replacement space.

本発明のエキシマ光照射装置は、ランプハウス内に設けられた隔壁部材によって、該ランプハウス内に設けられたエキシマランプと該隔壁部材との間に狭窄部を形成することにより、該ランプハウス内の空間を第一の置換空間と第二の置換空間とに二分している。これにより、基板側の第二の置換空間が該基板の搬出により大気にされても、該第一の置換空間に酸素が混入することがなく、次に該基板が搬入された場合に該第二の置換空間のみ置換すれば処理ができる。また、該第二の置換空間への置換はランプハウス内の空間を２分することで、実質的な容積が少なくなり速やかに行われ、処理スピードが上がるので、置換に用いる窒素などのガス使用量を少なくできる。更に、第一の置換空間側に不活性ガスを含むガスの噴出口が設けられているので、該第一の置換空間の酸素の巻き込みや逆流を確実に抑制でき、基板の処理時に安定した酸素濃度を実現できる。これにより処理ムラを低減できるといった効果がある。 The excimer light irradiation device according to the present invention includes a partition member provided in the lamp house to form a constricted portion between the excimer lamp provided in the lamp house and the partition member. Is divided into a first substitution space and a second substitution space. Thus, even if the second substitution space on the substrate side is brought into the atmosphere by carrying out the substrate, oxygen is not mixed into the first substitution space, and the second substitution space is moved into the first substitution space when the substrate is carried in next time. If only two replacement spaces are replaced, processing can be performed. In addition, the replacement to the second replacement space is performed by dividing the space in the lamp house into two parts, the substantial volume is reduced and the processing speed is increased, so that a gas such as nitrogen used for the replacement is used. The amount can be reduced. Furthermore, since the gas outlet containing the inert gas is provided on the first substitution space side, oxygen entrainment and backflow in the first substitution space can be reliably suppressed, and stable oxygen during the processing of the substrate. Concentration can be realized. Thereby, there is an effect that processing unevenness can be reduced.

更には、該隔壁部材がブロー管を兼ね、該ブロー管に形成されている噴出口が該ブロー管の長手方向に間隔を持って設けられているので、該エキシマランプのランプ軸方向に対して均一なガス流量を提供できる。また、置換用のガスの噴出方向を基板側ではなく、例えば、隣接する該ブロー管の方向である側面方向に向けることにより、置換用の不活性ガスを緩やかに流しても置換が必要な空間を十分に置換することができる。また、該噴出口の設ける位置を該側面方向に取れば、該第一の置換空間内に残留する酸素を早期に排出でき、該エキシマ光照射装置の立ち上げ時の時間短縮も図れる。 Further, since the partition member also serves as a blow tube, and the jet outlets formed in the blow tube are provided at intervals in the longitudinal direction of the blow tube, the partition member is arranged with respect to the lamp axis direction of the excimer lamp. A uniform gas flow rate can be provided. Further, the direction in which the replacement gas is blown is directed not to the substrate side but to the side surface direction that is the direction of the adjacent blow pipe, for example, so that a space that needs to be replaced even if the replacement inert gas flows gently Can be fully substituted. Further, if the position at which the ejection port is provided is taken in the lateral direction, oxygen remaining in the first replacement space can be discharged quickly, and the time required for starting up the excimer light irradiation apparatus can be shortened.

本発明のエキシマ光照射装置は、ランプハウス内の空間が第一の置換空間と第二の置換空間に分けられ、第一の置換空間は略閉鎖的に仕切られた空間になっており、基板の有無にかかわらずブロー管から第一の置換空間に向かって噴出されるガスによって置換され、第二の置換空間は第一の置換空間からあふれ出たガスによって置換される構成になっている。そのため、該基板の搬送時にエキシマランプと該基板との間に洗浄に適した雰囲気を速やかに作り出すことができ、洗浄効果を向上させるとともに、洗浄ムラを低減できるといった効果がある。 In the excimer light irradiation device of the present invention, the space in the lamp house is divided into a first replacement space and a second replacement space, and the first replacement space is a substantially partitioned space, Regardless of the presence or absence of this, it is substituted by the gas ejected from the blow tube toward the first substitution space, and the second substitution space is substituted by the gas overflowing from the first substitution space. Therefore, it is possible to quickly create an atmosphere suitable for cleaning between the excimer lamp and the substrate during transport of the substrate, thereby improving the cleaning effect and reducing cleaning unevenness.

更には、該第一の置換空間の体積が第二の置換空間の体積より大きく設定されている。これにより、基板の搬送の有無（第二の置換空間が形成されているか否か）にかかわらず、第一の置換空間が安定して存在できる。また、該第二の置換空間側から見れば、該第一の置換空間の体積より該第二の置換空間の体積の方が非常に小さくなっている。これにより、該基板が搬入されてから短時間で第二の置換空間を置換し洗浄に適した雰囲気を作ることができるので、例えば、窒素ガス等の置換ガスの使用量を非常に少なく抑えることができるといった効果がある。 Furthermore, the volume of the first replacement space is set larger than the volume of the second replacement space. Thereby, the first replacement space can exist stably regardless of whether or not the substrate is transported (whether or not the second replacement space is formed). Further, when viewed from the second replacement space side, the volume of the second replacement space is much smaller than the volume of the first replacement space. As a result, the second replacement space can be replaced in a short time after the substrate is carried in, and an atmosphere suitable for cleaning can be created. For example, the amount of replacement gas such as nitrogen gas used can be kept extremely low. There is an effect that can be.

また、被照射物である基板により、閉じた空間が形成され、該空間が第二の置換空間と成るので、ランプとの間を仕切る窓部として大きな平板ガラスを用いなくても該基板へエキシマランプからの光を到達させることができ、洗浄効果を上げることができる。更には、該エキシマランプの外周を覆うように保護管を設け、該保護管と該エキシマランプの間の空間を不活性ガスで置換すれば、該ブロー管から流れる不活性ガスに反応性ガスを添加した場合でも、該エキシマランプの外表面に配置する網状電極やミラーの劣化を抑制し該エキシマランプから放射される真空紫外光を該基板に効率良く照射することができるといった利点がある。 In addition, a closed space is formed by the substrate that is the object to be irradiated, and this space becomes the second replacement space. Therefore, an excimer can be applied to the substrate without using a large flat glass as a window portion for partitioning from the lamp. The light from the lamp can be reached, and the cleaning effect can be increased. Furthermore, if a protective tube is provided so as to cover the outer periphery of the excimer lamp, and the space between the protective tube and the excimer lamp is replaced with an inert gas, reactive gas is supplied to the inert gas flowing from the blow tube. Even when it is added, there is an advantage that the substrate can be efficiently irradiated with vacuum ultraviolet light emitted from the excimer lamp while suppressing the deterioration of the mesh electrode or mirror disposed on the outer surface of the excimer lamp.

また、該第一の置換空間が該エキシマランプ毎に形成されているので、ガスを置換する場合に迅速に置換できる。更には、個々の置換空間に流れるガスの流量が異なることにより、処理する基板上での酸素濃度分布を調整でき、ムラの無い均一な処理が可能となる。 Further, since the first replacement space is formed for each excimer lamp, the replacement can be quickly performed when replacing the gas. Furthermore, since the flow rate of the gas flowing in each replacement space is different, the oxygen concentration distribution on the substrate to be processed can be adjusted, and uniform processing without unevenness becomes possible.

更には、該第一の置換空間に流れるガス流量が該ランプハウスの中央付近より、該ランプハウスの外側に近い方が多くなっていることにより、外部からの酸素の混入を抑制できる。特に、該基板搬送時には、該基板の移動に伴う酸素の巻き込み等が発生するが、搬入口側の方がガスの流量が多いので、酸素の巻き込みが有っても、迅速に排出できる。これにより、該第二の置換空間が設定された酸素濃度で迅速に形成される、といった利点がある。 Furthermore, since the gas flow rate flowing through the first replacement space is greater near the outside of the lamp house than near the center of the lamp house, it is possible to suppress the entry of oxygen from the outside. In particular, when the substrate is transported, oxygen entrainment accompanying the movement of the substrate occurs. However, since the gas flow rate is larger on the carry-in side, it can be quickly discharged even if oxygen is entrained. As a result, there is an advantage that the second replacement space is formed quickly with the set oxygen concentration.

また、基板が搬送されるまでは、該基板の処理時に比べて比較的に少ないガス流量で該第一の置換空間に酸素が侵入するのを抑制し、該基板が搬入されると予め設定された規定量のガスを流すことによって、該第二の置換空間に予定された酸素濃度を確保することができ、ムラが無く均一で、且つ迅速に処理ができる、といった利点がある。また、第２の置換空間を形成するのに使用するガスの使用量が低減できるといった利点もある。 Further, until the substrate is transferred, oxygen is prevented from entering the first substitution space with a relatively small gas flow rate as compared with the processing of the substrate, and is preset when the substrate is loaded. By flowing a specified amount of gas, there is an advantage that a predetermined oxygen concentration can be secured in the second replacement space, and there is no unevenness, and the processing can be performed quickly and uniformly. There is also an advantage that the amount of gas used to form the second replacement space can be reduced.

更には、該基板の搬送されるタイミングをセンサーにより検知し、該第二の置換空間の形成、消失に伴って、該第一の置換空間に流れるガスの流量を制御する。これにより、ガスの使用量を最適化し、且つ、均一な処理を実現できる。 Furthermore, the timing at which the substrate is transported is detected by a sensor, and the flow rate of the gas flowing through the first replacement space is controlled as the second replacement space is formed and disappeared. Thereby, the usage-amount of gas can be optimized and a uniform process can be implement | achieved.

本発明のエキシマ光照射装置は、複数のエキシマランプを並列配置したランプハウス内に少なくとも窒素ガスを含むガスを噴出するブロー管を備え、該ブロー管と該エキシマランプ上面部分と該ランプハウスの仕切壁とで囲まれる第一の置換空間と、該ブロー管と該エキシマランプ下面部分と搬送される基板とで囲まれる第二の置換空間を備え、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することによって該第一の置換空間を形成するものである。また、該第一の置換空間の体積より該第二の置換空間の体積を小さくすることにより、該基板側の雰囲気を窒素等で置換する場合に効率良く置換することができ、該基板の処理を短時間で効率的に行うことができるといったものである。 An excimer light irradiation apparatus of the present invention includes a blow tube that ejects a gas containing at least nitrogen gas into a lamp house in which a plurality of excimer lamps are arranged in parallel, and the blow tube, an upper surface portion of the excimer lamp, and a partition of the lamp house A first replacement space surrounded by a wall, and a second replacement space surrounded by the blow tube, the lower surface portion of the excimer lamp, and the substrate to be transported, from the blow tube toward the first replacement space. The first replacement space is formed by ejecting an inert gas. In addition, by making the volume of the second replacement space smaller than the volume of the first replacement space, it is possible to efficiently replace the atmosphere on the substrate side with nitrogen or the like. Can be efficiently performed in a short time.

第１の実施例として、本発明のエキシマ光照射装置を図１に示す。図１―ａ）は、複数本並列配置された略棒状エキシマランプ２の管軸方向に対して直交する面で切断したエキシマ光照射装置１の概略断面図である。該エキシマ光照射装置１には、エキシマランプ２がランプハウス３内に複数本並列配置されている。該ランプハウス３内には、仕切壁４が設けられ、該仕切壁４には窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出するブロー管５が複数本並列配置され、該ブロー管の間に該エキシマランプ２が配置されている。また、各々の該ブロー管５と該エキシマランプ２との間には狭窄部８を形成するように該ランプハウス３内に配置している。該仕切壁４の上方には、冷却ブロック６が設けられ、該冷却ブロック６内には冷却流体を流通する冷却流体流通路６ａが配置されており、該冷却ブロック６の上方には、該エキシマランプ２に給電する高周波高電圧を発生する電装部７が設けられている。また、該エキシマランプ２の下方には、被処理物である基板１０を搬送する搬送系としてローラーコンベヤ１１を用い、該基板１０として、例えば、液晶パネル用のガラス基板等を該エキシマ光照射装置１内に搬送できるようにしている。
また、該ブロー管５には窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出する噴出口９が長手方向にほぼ等しい間隔をもって複数個配置されており、該ブロー管５の側壁５ａ上に配置され、該ブロー管５から第一の置換空間に向けてガスを噴出できるようになっている。更には、該ブロー管５にはガス導入口４２が設けられ、該ガス導入口４２から制御弁７４を介して、ガス供給源に接続されている。 As a first embodiment, an excimer light irradiation apparatus of the present invention is shown in FIG. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of the excimer light irradiation apparatus 1 cut along a plane orthogonal to the tube axis direction of a plurality of substantially rod-shaped excimer lamps 2 arranged in parallel. In the excimer light irradiation apparatus 1, a plurality of excimer lamps 2 are arranged in parallel in a lamp house 3. A partition wall 4 is provided in the lamp house 3, and a plurality of blow pipes 5 for injecting a gas containing an inert gas such as nitrogen are arranged in parallel on the partition wall 4. Excimer lamp 2 is arranged. Moreover, it arrange | positions in this lamp house 3 so that the narrow part 8 may be formed between each of these said blow pipes 5 and this excimer lamp 2. FIG. A cooling block 6 is provided above the partition wall 4, and a cooling fluid flow passage 6 a for circulating a cooling fluid is disposed in the cooling block 6. The excimer is disposed above the cooling block 6. An electrical component 7 that generates a high-frequency high voltage for supplying power to the lamp 2 is provided. Further, below the excimer lamp 2, a roller conveyor 11 is used as a transport system for transporting the substrate 10 to be processed. As the substrate 10, for example, a glass substrate for a liquid crystal panel is used as the excimer light irradiation device. It can be transported within 1.
The blow pipe 5 is provided with a plurality of jet outlets 9 for ejecting a gas containing an inert gas such as nitrogen at substantially equal intervals in the longitudinal direction, and is arranged on the side wall 5a of the blow pipe 5. Gas can be ejected from the blow tube 5 toward the first replacement space. Further, the blow pipe 5 is provided with a gas inlet 42, and is connected to a gas supply source from the gas inlet 42 via a control valve 74.

また、該エキシマ光照射装置１は、第一の置換空間１３と第二の置換空間１４とを有している。図１−ｂ）には、該第一の置換空間１３と該第二の置換空間１４について説明するために、該第一の置換空間１３と該第二の置換空間１４の部分のみ模式的に拡大した拡大図を示す。該第一の置換空間１３は、互いに対向する該ブロー管５の側壁５ａと、該エキシマランプ２の上面部分２ａと、該ランプハウス３の仕切壁４とで囲まれる部分から成る空間であり、該ブロー管５と該エキシマランプ２との間の狭窄部８は、該ブロー管５と該エキシマランプ２を最短距離で横切る仮想線で区切られているものとする。一方、第二の置換空間１４は、該ブロー管５の下壁５ｂと、その両側に配置されているエキシマランプ２の下面部分２ｂと搬送される基板１０とで囲まれる部分から成る空間であり、該ブロー管５と該エキシマランプ２との間の狭窄部８は、該ブロー管５と該エキシマランプ２を最短距離で横切る仮想線で区切られており、該エキシマランプ２と該基板１０との間の隙間は、該エキシマランプ２の下面部分２ｂと該基板１０を最短距離で結ぶ仮想線１５で区切られているものとする。本発明では、該第二の置換空間１４の体積は、該第一の置換空間１３の体積より小さくなっている。尚、ここでの体積とは、図１−ｂ）に示した断面図での面積に該エキシマランプ２の管軸方向の長さ（不図示の側面仕切り板までの長さ）を乗じ求めるものとする。 The excimer light irradiation apparatus 1 includes a first replacement space 13 and a second replacement space 14. FIG. 1B schematically shows only the first replacement space 13 and the second replacement space 14 in order to describe the first replacement space 13 and the second replacement space 14. An enlarged view is shown. The first replacement space 13 is a space composed of a portion surrounded by the side wall 5a of the blow tube 5 facing each other, the upper surface portion 2a of the excimer lamp 2, and the partition wall 4 of the lamp house 3. It is assumed that the narrowed portion 8 between the blow tube 5 and the excimer lamp 2 is separated by a virtual line that crosses the blow tube 5 and the excimer lamp 2 at the shortest distance. On the other hand, the second replacement space 14 is a space composed of a portion surrounded by the lower wall 5b of the blow tube 5, the lower surface portion 2b of the excimer lamp 2 disposed on both sides thereof, and the substrate 10 to be transported. The constriction 8 between the blow tube 5 and the excimer lamp 2 is delimited by a virtual line that crosses the blow tube 5 and the excimer lamp 2 at the shortest distance, and the excimer lamp 2 and the substrate 10 are separated from each other. It is assumed that the gap between is separated by a virtual line 15 that connects the lower surface portion 2b of the excimer lamp 2 and the substrate 10 with the shortest distance. In the present invention, the volume of the second replacement space 14 is smaller than the volume of the first replacement space 13. The volume here is obtained by multiplying the area in the cross-sectional view shown in FIG. 1-b) by the length in the tube axis direction of the excimer lamp 2 (the length to the side partition plate not shown). And

このような構成を取ることで、該エキシマランプ２と該基板１０との間に洗浄に適した雰囲気を作り出すことができ、洗浄効果を向上させるとともに、洗浄ムラを低減できるといった効果がある。特に、該第一の置換空間の体積より第二の置換空間の体積の方を非常に小さくすることで、該基板１０が搬入されてから短時間で第二の置換空間を置換し洗浄に適した雰囲気を作ることができるので、例えば、窒素ガス等の置換ガスの使用量を非常に少なく抑えることができるといった効果もある。 By adopting such a configuration, it is possible to create an atmosphere suitable for cleaning between the excimer lamp 2 and the substrate 10, improving the cleaning effect and reducing cleaning unevenness. In particular, by making the volume of the second replacement space much smaller than the volume of the first replacement space, the second replacement space is replaced in a short time after the substrate 10 is loaded, and is suitable for cleaning. For example, there is an effect that the amount of replacement gas such as nitrogen gas used can be reduced to a very low level.

次に、図２として、第1の実施例に示した該エキシマ光照射装置１に具備されているエキシマランプ２について示す。図２は、該エキシマランプ２の管軸方向に沿って切断した管軸方向断面図であって、該エキシマランプ２は、発光管部２１と外管部２２と口金部２３とから成っている。該発光管部２１は、石英ガラスからなるバルブ部２４と、該バルブ部２４の外周に配置された網状電極２５と、該網状電極２５と対になる内部電極２６と、該バルブ部２４内に該内部電極２６を囲う様に配置された石英ガラスから成る内部管２７と、から構成されている。更に、該バルブ部２４内にはエキシマ発光用ガスとして、例えばキセノンガスが封入されている。該内部電極２６は、端部が給電ピン２８に接続されており、該給電ピン２８の他端はモリブデンから成る金属箔２９に接続され、該バルブ部２４の両端でピンチシールされている。また、該金属箔２９の他端は外部リード３０に接続され、外部から該内部電極２６に高周波高電圧を供給している。該内部電極２６と対を成す該網状電極２５は、該口金部２３に配置された給電部３１により接地されている。 Next, FIG. 2 shows an excimer lamp 2 provided in the excimer light irradiation apparatus 1 shown in the first embodiment. FIG. 2 is a sectional view in the tube axis direction cut along the tube axis direction of the excimer lamp 2, and the excimer lamp 2 includes an arc tube portion 21, an outer tube portion 22, and a base portion 23. . The arc tube portion 21 includes a bulb portion 24 made of quartz glass, a mesh electrode 25 disposed on the outer periphery of the bulb portion 24, an internal electrode 26 paired with the mesh electrode 25, and the bulb portion 24. And an inner tube 27 made of quartz glass disposed so as to surround the inner electrode 26. Further, for example, xenon gas is sealed in the bulb portion 24 as an excimer light emission gas. The internal electrode 26 has an end connected to a power supply pin 28, the other end of the power supply pin 28 is connected to a metal foil 29 made of molybdenum, and is pinch-sealed at both ends of the valve portion 24. The other end of the metal foil 29 is connected to the external lead 30 to supply a high frequency high voltage to the internal electrode 26 from the outside. The mesh electrode 25, which forms a pair with the internal electrode 26, is grounded by a power feeding part 31 disposed in the base part 23.

該発光管部２１は、該内部電極２６と該網状電極２５との間に該バルブ部２４と該内部管２７との二つの誘電体を介して高周波高電圧を印加することにより、該バルブ部２４内部に封入されたキセノンガスがエキシマ放電し、エキシマ分子の生成、解離によりエキシマ光を発生するものである。また、外管部２２も石英ガラスで構成されており、該発光管部２１で発生した光（キセノンガスの場合であれば、波長１７２ｎｍの真空紫外光）が該外管部２２から外部へ放射される窓として機能している。また、該発光管部２１と該外管部２２との間に設けられた空間には、窒素ガスが満たされており、該発光管部２１から放射された真空紫外光が酸素の吸収を受け減衰することなく該外管部２２の外部へ放射される。 The arc tube portion 21 is configured to apply a high frequency high voltage between the internal electrode 26 and the mesh electrode 25 via two dielectrics of the bulb portion 24 and the internal tube 27, thereby The xenon gas sealed inside 24 excimer discharges, and excimer light is generated by generation and dissociation of excimer molecules. Further, the outer tube portion 22 is also made of quartz glass, and light generated in the arc tube portion 21 (in the case of xenon gas, vacuum ultraviolet light having a wavelength of 172 nm) is emitted from the outer tube portion 22 to the outside. Functioning as a window. Further, the space provided between the arc tube portion 21 and the outer tube portion 22 is filled with nitrogen gas, and the vacuum ultraviolet light emitted from the arc tube portion 21 receives oxygen absorption. The light is radiated to the outside of the outer tube portion 22 without being attenuated.

また、該発光管部２１、及び、該外管部２２の両端には、該口金部２３が設けられており、該発光管部２１と該外管部２２を保持している。該発光管部２１は、該口金部２３内の保持用ツバ部３２内に該網状電極２５の端部部分まで挿入され固定されている。更には、該口金部２３の中央には、給電線取り出し用穴３３が設けられ、該発光管部２１に給電する給電線３４を該給電線取り出し用穴３３から外部へ取り出している。更に、該外管部２２内に満たされている窒素ガスを流入、排出するガス流通口３５を設けている。 Further, the cap portions 23 are provided at both ends of the arc tube portion 21 and the outer tube portion 22 to hold the arc tube portion 21 and the outer tube portion 22. The arc tube portion 21 is inserted and fixed in the holding collar portion 32 in the base portion 23 up to the end portion of the mesh electrode 25. Further, a feeding wire extraction hole 33 is provided at the center of the base portion 23, and a feeding line 34 for feeding power to the arc tube portion 21 is taken out from the feeding line extraction hole 33 to the outside. Furthermore, a gas flow port 35 through which the nitrogen gas filled in the outer tube portion 22 flows in and out is provided.

このような構成のエキシマランプ２を該エキシマ光照射装置１に配置することで、大型の平板ガラス窓を配置しなくても、該エキシマランプ２から放射される真空紫外光を効率良く取り出すことができるといった利点がある。更には、該保護管の形状が円筒状であるので、該保護管の肉厚を薄くしても十分な機械的強度が得られ、該保護管の厚みにより照度低下を引き起こすこともなく、効率の良い照射装置が得られるといった利点がある。また、該保護管自身に掛かるコストは大型の平板ガラスに比べて非常に安価であるので、装置全体の価格を低く抑えられるといった利点もある。 By arranging the excimer lamp 2 having such a configuration in the excimer light irradiation apparatus 1, it is possible to efficiently extract vacuum ultraviolet light emitted from the excimer lamp 2 without arranging a large flat glass window. There is an advantage that can be done. Furthermore, since the shape of the protective tube is cylindrical, sufficient mechanical strength can be obtained even if the thickness of the protective tube is reduced, and the thickness of the protective tube does not cause a decrease in illuminance. There is an advantage that a good irradiation device can be obtained. In addition, the cost of the protective tube itself is much lower than that of a large flat glass, so there is an advantage that the price of the entire apparatus can be kept low.

次に、図３として、第1の実施例に示した該エキシマ光照射装置１に具備されているブロー管５について示す。図３−ａ）は、該ブロー管５の管軸方向に沿って切断した管軸方向の断面図であり、図３−ｂ）は、図３−ａ）における該管軸方向に直交する面で切断したＡ−Ａ断面の断面図である。図３−ａ）には、該ブロー管５の側壁５ａ上にガスを噴出する複数の小孔の噴出口９が設けられている。また、該ブロー管５の上面壁５ｃ側には、該ブロー管５にガスを供給するガス導入口４２が設けられている。図３−ｂ）では、該ブロー管５のＡ−Ａ断面が長方形と成っており、例えば、該上面壁５ｃ、及び該下壁５ｂの長さは２０ｍｍ、該側壁５ａの長さが３０ｍｍである。また、該側壁５ａに設けられた該噴出口９はΦ０．７ｍｍの円形であって、該噴出口９の中心から中心までの距離が１０ｍｍピッチで該側壁５ａに形成されている。例えば、該ブロー管５の全長が２ｍであれば、該噴出口９は一方の該側壁５ａ上に２００個形成されることになる。また、本実施例における該ブロー管５では、該ブロー管５の断面積ｓ（該側壁５ａの長さ×該下壁５ｂの長さ）が、該噴出口９の総面積（例えばφ０．７の面積×２００（個数））の２．５倍以上の大きさになっている。このような面積比を持つことにより、噴出されるガスの流速が該噴出口９各々で均一になる。 Next, FIG. 3 shows the blow tube 5 provided in the excimer light irradiation apparatus 1 shown in the first embodiment. 3A is a cross-sectional view in the tube axis direction cut along the tube axis direction of the blow tube 5, and FIG. 3-B) is a plane orthogonal to the tube axis direction in FIG. 3-A). It is sectional drawing of the AA cross section cut | disconnected by. In FIG. 3 a, a plurality of small-hole jet ports 9 for jetting gas are provided on the side wall 5 a of the blow pipe 5. A gas inlet 42 for supplying gas to the blow pipe 5 is provided on the upper wall 5 c side of the blow pipe 5. In FIG. 3-b), the AA cross section of the blow tube 5 is rectangular. For example, the length of the upper wall 5c and the lower wall 5b is 20 mm, and the length of the side wall 5a is 30 mm. is there. Further, the jet port 9 provided in the side wall 5a has a circular shape of Φ0.7 mm, and the distance from the center to the center of the jet port 9 is formed in the side wall 5a at a pitch of 10 mm. For example, if the overall length of the blow pipe 5 is 2 m, 200 jet outlets 9 are formed on one of the side walls 5a. Further, in the blow pipe 5 in this embodiment, the cross-sectional area s of the blow pipe 5 (the length of the side wall 5a × the length of the lower wall 5b) is the total area of the spout 9 (for example, φ0.7 ) (Area x 200 (number)) of 2.5 times or more. By having such an area ratio, the flow velocity of the jetted gas becomes uniform at each jetting port 9.

このような構成を採ることにより、該ブロー管５から噴出されるガスが該ブロー管５全体に亘って均一に噴出され、装置全体の雰囲気を均一に保つことができる。その結果、該エキシマ光照射装置１は、該基板１０を洗浄処理する場合に均一なガス雰囲気を保つことができ、ムラ無く洗浄処理ができる、といった効果がある。また、該第二の置換空間の体積を極力小さくすることにより、該基板の搬送時、短時間で処理雰囲気に置換ができ、外部からの酸素の巻き込みを十分に抑制することができるので、窒素等の不活性ガスの使用量を少なくすることができるとった利点もある。 By adopting such a configuration, the gas ejected from the blow tube 5 is uniformly ejected over the entire blow tube 5, and the atmosphere of the entire apparatus can be kept uniform. As a result, the excimer light irradiation apparatus 1 has an effect that a uniform gas atmosphere can be maintained when the substrate 10 is cleaned, and the cleaning process can be performed without unevenness. In addition, by reducing the volume of the second substitution space as much as possible, the substrate can be replaced with a treatment atmosphere in a short time when the substrate is transported, and oxygen entrainment from the outside can be sufficiently suppressed. There is also an advantage that the amount of inert gas used can be reduced.

例えば、本実施例の場合、第２の置換空間の体積は約１００ｃｍ^−３（容積として約１Ｌ）であり、該ブロー管から流れてくる窒素ガスの流量は２５Ｌ／分程度である。この場合、基板が搬送されてから、約２．４秒で置換が完了することとなる。また、置換完了時の残留酸素濃度は、２００ｐｐｍ程度と非常に低い値を実現している。通常、置換時の残留酸素濃度は１０００ｐｐｍ程度であれば十分であり、置換に要する時間を考慮しなければ、容積１Ｌに対して１３Ｌ／分程度のガス流量があれば残留酸素濃度１０００ｐｐｍ以下を実現できる。 For example, in the case of the present embodiment, the volume of the second replacement space is about 100 cm ⁻³ (about 1 L as a volume), and the flow rate of nitrogen gas flowing from the blow tube is about 25 L / min. In this case, the replacement is completed about 2.4 seconds after the substrate is transported. In addition, the residual oxygen concentration at the completion of the replacement realizes a very low value of about 200 ppm. Normally, a residual oxygen concentration of about 1000 ppm is sufficient at the time of replacement. If the time required for replacement is not taken into account, a residual oxygen concentration of 1000 ppm or less is realized if there is a gas flow rate of about 13 L / min for a volume of 1 L. it can.

図４は、本発明の第２の実施例として、他の該ブロー管の形状を示した断面図である。図４−ａ）に示すブロー管５１は、ガスを噴出するために設けられた噴出口の形状が該ブロー管５１の長手方向の端から各々噴出口９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄの順に穴径が小さくなっている。このような構成を採ることにより、該ブロー管５１から噴出されるガスの流量が該ブロー管５１の長手方向で異なり、該ブロー管５１の中央付近に比べて端部付近に噴出するガスの流量が多くなる。該ブロー管５１を本発明のエキシマ光照射装置に組み込むことで、該エキシマ光照射装置のランプハウスの該エキシマランプ管軸方向中央付近に比べて該ランプハウスの外側に近い方に流れるガスの流量が多くできる。これは、該エキシマ光照射装置の外部から巻き込まれる制御不能な酸素の混入を低滅できるといった利点がある。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing another shape of the blow tube as a second embodiment of the present invention. The blow pipe 51 shown in FIG. 4-a) has a diameter of a jet outlet provided for jetting a gas in the order of the jet outlets 9a, 9b, 9c, 9d from the longitudinal end of the blow pipe 51. Is getting smaller. By adopting such a configuration, the flow rate of the gas ejected from the blow tube 51 differs in the longitudinal direction of the blow tube 51, and the flow rate of the gas ejected near the end compared to the vicinity of the center of the blow tube 51. Will increase. By incorporating the blow tube 51 into the excimer light irradiation device of the present invention, the flow rate of gas flowing closer to the outside of the lamp house than the vicinity of the center of the excimer lamp tube axial direction of the lamp house of the excimer light irradiation device Can do a lot. This has the advantage that contamination of uncontrollable oxygen involved from the outside of the excimer light irradiation apparatus can be reduced.

図４−ｂ）に示すブロー管５２は、ガスを噴出するために設けられた噴出口の穴径は同じであるが、該ブロー管５２の長手方向の端部側から次第に配列間隔を変えて、該端部側は密に、中央部側は粗に配置した。具体的には、中央部から噴出口９Ａ、９Ｂ、９Ｃ、９Ｄと次第に穴と穴の間隔５３が狭くなっている。このような構成を採ることによっても、該ブロー管５２の中央付近に比べて端部付近に噴出するガスの流量を多くすることができる。該ブロー管５１の場合と同様に該ブロー管５２を本発明のエキシマ光照射装置に組み込むことで、該エキシマ光照射装置のランプハウスの該エキシマランプ管軸方向中央付近に比べて該ランプハウスの外側に近い方に流れるガスの流量が多くできる。これは、該エキシマ光照射装置の外部から巻き込まれる制御不能な酸素の混入を低滅できるといった利点がある。尚、噴出口の配列や穴径を任意の位置に配列することによって、所望の酸素濃度分布を持った処理空間を形成することもできる。 The blow pipe 52 shown in FIG. 4-b) has the same hole diameter at the jet outlet provided for jetting the gas, but the arrangement interval is gradually changed from the end side in the longitudinal direction of the blow pipe 52. The end side is densely arranged and the central side is roughly arranged. Specifically, the gap 53 between the holes gradually becomes narrower from the nozzles 9A, 9B, 9C, 9D from the center. Also by adopting such a configuration, it is possible to increase the flow rate of the gas ejected near the end portion as compared with the vicinity of the center of the blow tube 52. As in the case of the blow tube 51, the blow tube 52 is incorporated into the excimer light irradiation device of the present invention, so that the lamp house of the lamp house of the excimer light irradiation device is compared with the vicinity of the center in the axial direction of the excimer lamp tube. The flow rate of the gas that flows closer to the outside can be increased. This has the advantage that contamination of uncontrollable oxygen involved from the outside of the excimer light irradiation apparatus can be reduced. A processing space having a desired oxygen concentration distribution can also be formed by arranging the jet outlets and the hole diameters at arbitrary positions.

図５には、本発明の第３の実施例を示す。この第３の実施例では、該第一の置換空間に流すガス流量を該エキシマランプ毎に形成される各々の該第一の置換空間毎に異なる流量とする場合について示す。図５に示す該エキシマ光照射装置１は、３本のエキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃが並列配置された該エキシマ光照射装置１のランプハウス内を該装置上面方向から見た図である。また、該エキシマ光照射装置１以外にローラーコンベヤ１１が多数並び構成される搬送路と、該搬送路上に基板１０が矢印６３の方向に搬送されている状態を示したものである。該基板１０は、該エキシマ光照射装置1の搬送口６２Ａ側から搬入され、搬出口６２Ｂ側から搬出される。この搬送口６２Ａから搬出口６２Ｂまでの間に、エキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃが互いに並列配置され、各々のエキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃの両側面にはブロー管５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄが配置されている。例えば、エキシマランプ２Ａの両側面にはブロー管５Ａとブロー管５Ｂとが配置されており、各々のエキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃに対応した第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃが形成されている。尚、該第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃは、該エキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃの管軸方向に対して、側面仕切り板６１によって区切られており、該側面仕切り板６１と該ブロー管５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄ、と、該エキシマランプ２Ａ、２Ｂ、２Ｃで区切られる空間に窒素等の置換用ガスを流すことで構成されている。 FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, a case is shown in which the gas flow rate flowing through the first replacement space is different for each first replacement space formed for each excimer lamp. The excimer light irradiation apparatus 1 shown in FIG. 5 is a view of the inside of the lamp house of the excimer light irradiation apparatus 1 in which three excimer lamps 2A, 2B, and 2C are arranged in parallel, as viewed from the upper surface direction of the apparatus. In addition to the excimer light irradiation device 1, a transport path in which a large number of roller conveyors 11 are arranged and a state in which the substrate 10 is transported in the direction of an arrow 63 on the transport path are shown. The substrate 10 is carried in from the transfer port 62A side of the excimer light irradiation apparatus 1 and carried out from the carry-out port 62B side. Excimer lamps 2A, 2B, and 2C are arranged in parallel between transport port 62A and carry-out port 62B. Blow tubes 5A, 5B, 5C, and 5D are provided on both sides of each of excimer lamps 2A, 2B, and 2C. Has been placed. For example, a blow tube 5A and a blow tube 5B are arranged on both side surfaces of the excimer lamp 2A, and first replacement spaces 13A, 13B, 13C corresponding to the respective excimer lamps 2A, 2B, 2C are formed. Yes. The first replacement spaces 13A, 13B, and 13C are partitioned by a side partition plate 61 with respect to the tube axis direction of the excimer lamps 2A, 2B, and 2C. The side partition plate 61 and the blow tube 5A, 5B, 5C, and 5D, and a replacement gas such as nitrogen is allowed to flow through a space defined by the excimer lamps 2A, 2B, and 2C.

該第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃに流すガスの流量としては、基板１０の搬入口６２Ａ側（１３Ａ）は流量が多く、中央付近（１３Ｂ）では減少し、再び該基板１０の搬出口６２Ｂ側（１３Ｃ）では流量が多くなっている。本実施例においては、該ブロー管５Ａ内のガス圧を隣接するブロー管５Ｂよりも高くし、また対向するブロー管５Ｂの該第一の置換空間１３Ａ側の側壁５ａｂ上の噴出口（不図示）の穴径を他方の側壁５ａｃ上の噴出口（不図示）の穴径より大きくしている。これにより、該第一の置換空間１３Ａ側に流れるガス量が、隣接する第一の置換空間１３Ｂより多くなる。 As the flow rate of the gas flowing through the first replacement spaces 13A, 13B, and 13C, the flow rate is large on the carry-in port 62A side (13A) of the substrate 10 and decreases near the center (13B). On the 62B side (13C), the flow rate is increased. In the present embodiment, the gas pressure in the blow pipe 5A is made higher than that of the adjacent blow pipe 5B, and the jet port (not shown) on the side wall 5ab on the first replacement space 13A side of the opposed blow pipe 5B. ) Is larger than the hole diameter of the jet port (not shown) on the other side wall 5ac. As a result, the amount of gas flowing toward the first replacement space 13A is larger than that of the adjacent first replacement space 13B.

次に、該第一の置換空間１３Ｂは、該ブロー管５Ｂの側壁５ａｃ、該ブロー管５Ｃの側壁５ａｄの各々に設けられた噴出口（不図示）の穴径が隣接する第一の置換空間１３Ａや１３Ｃ側に設けられた穴径より小さいため、該第一の置換空間１３Ｂに流れるガスの流量が小さくなっている。更に、該第一の置換空間１３Ｃは、該第一の置換空間１３Ａの場合と同様にしている。即ち、該ブロー管５Ｃの該第一の置換空間１３Ｃ側の側壁５ａｅに設けられた噴出口（不図示）の穴径は側壁５ａｂと同様に大きくなっている。更に、該ブロー管５Ｄに設けられた噴出口の穴径は該ブロー管５Ａと同様であり、該ブロー管５Ｄにかけるガス圧も該ブロー管５Ａと同程度で、該ブロー管５Ｂ、５Ｃのガス圧より高圧になっている。このような構成により、第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃはランプハウス中央付近に比べて、該ランプハウスの外側に近い方がガスの流量が多くなっている。 Next, the first replacement space 13B is a first replacement space in which hole diameters of jet holes (not shown) provided in the side wall 5ac of the blow pipe 5B and the side wall 5ad of the blow pipe 5C are adjacent to each other. Since it is smaller than the hole diameter provided on the 13A or 13C side, the flow rate of the gas flowing into the first replacement space 13B is small. Further, the first replacement space 13C is the same as the case of the first replacement space 13A. That is, the hole diameter of the jet port (not shown) provided in the side wall 5ae on the first replacement space 13C side of the blow pipe 5C is large as in the side wall 5ab. Further, the hole diameter of the jet port provided in the blow pipe 5D is the same as that of the blow pipe 5A, and the gas pressure applied to the blow pipe 5D is similar to that of the blow pipe 5A. The pressure is higher than the gas pressure. With such a configuration, the first replacement spaces 13A, 13B, and 13C have a higher gas flow rate closer to the outside of the lamp house than near the center of the lamp house.

図６には、本発明の第４の実施例として、該第一の置換空間１３と該第二の置換空間１４とに流れるガス流量を制御する機構を持った該エキシマ光照射装置１を示す。該エキシマ光照射装置１は、複数本並列配置されたエキシマランプ２と、該エキシマランプ２の両側面に並列配置されたブロー管５と、該エキシマランプ２から放射された光を基板１０側へ反射する機能を持った仕切壁４とが、ランプハウス３内に配置されている。本実施例においては、該ランプハウス３の一部のみ記載している。また、該基板１０を該エキシマ光照射装置１に搬入する搬送口６２Ａ側から、基板１０の一部が該エキシマ光照射装置１内にローラーコンベヤ１１により搬送されている。該ローラーコンベヤ１１の下方には光センサー７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃ、７１Ｄが順次配置されている。該光センサー７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃ、７１Ｄからの信号は信号処理部７２に接続されている。該信号処理部７２に入力された該光センサー７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃ、７１Ｄの信号は、制御信号出力部７３と接続され、該制御信号出力部７３から制御弁７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃ、７４Ｄに入力している。該制御弁７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃ、７４Ｄは、該ブロー管５に接続されて置換用ガスのガス流量とガス圧を制御し、該第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｄと、該第二の置換空間１４Ａ、１４Ｂ等を形成している。また、１４Ｃ、１４Ｄは、基板１０が搬送中のため第２の置換空間の形成前の状態であり、該基板１０の搬送に伴って第２の置換空間が形成される領域である。 FIG. 6 shows the excimer light irradiation apparatus 1 having a mechanism for controlling the flow rate of gas flowing in the first replacement space 13 and the second replacement space 14 as a fourth embodiment of the present invention. . The excimer light irradiation apparatus 1 includes a plurality of excimer lamps 2 arranged in parallel, blow tubes 5 arranged in parallel on both side surfaces of the excimer lamp 2, and light emitted from the excimer lamp 2 toward the substrate 10 side. A partition wall 4 having a reflecting function is arranged in the lamp house 3. In this embodiment, only a part of the lamp house 3 is shown. In addition, a part of the substrate 10 is transported into the excimer light irradiation device 1 by the roller conveyor 11 from the side of the transport port 62 </ b> A that carries the substrate 10 into the excimer light irradiation device 1. Below the roller conveyor 11, optical sensors 71A, 71B, 71C, 71D are sequentially arranged. Signals from the optical sensors 71A, 71B, 71C, 71D are connected to the signal processing unit 72. The signals of the optical sensors 71A, 71B, 71C, 71D input to the signal processing unit 72 are connected to the control signal output unit 73, and input from the control signal output unit 73 to the control valves 74A, 74B, 74C, 74D. is doing. The control valves 74A, 74B, 74C, 74D are connected to the blow pipe 5 to control the gas flow rate and gas pressure of the replacement gas, and the first replacement spaces 13A, 13B, 13C, 13D, Two replacement spaces 14A and 14B are formed. 14C and 14D are states before the formation of the second replacement space because the substrate 10 is being transported, and are regions where the second replacement space is formed as the substrate 10 is transported.

次に、ガス流量の制御について示す。最初は、該エキシマ光照射装置１内に、処理対象の基板が無い状態である。この時、該第一の置換空間１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｄの各々の空間には予め設定された基板処理時の規定量より少ない量の置換用ガスを流している。次に、該基板１０が該エキシマ光照射装置１内に搬入されると、該光センサー７１Ａにより、該基板１０が搬入されたことを検知し、検知信号が信号処理部７２に入力され、続いて制御信号出力部７３から矢印ＱとＲにガス流量を制御する信号が送られる。この制御信号を受けた制御弁７４Ａ、７４Ｂは、該第一の置換空間１３Ａに流れるガスの流量を予め設定された基板処理時の規定量まで流量を増加する。これによりごく短時間で、該第二の置換空間１４Ａが形成され、予め設定された該基板１０の処理に適した雰囲気が形成される。 Next, control of the gas flow rate will be described. Initially, there is no substrate to be processed in the excimer light irradiation apparatus 1. At this time, an amount of replacement gas smaller than a predetermined amount during substrate processing is supplied to each of the first replacement spaces 13A, 13B, 13C, and 13D. Next, when the substrate 10 is carried into the excimer light irradiation apparatus 1, the optical sensor 71A detects that the substrate 10 has been carried in, and a detection signal is input to the signal processing unit 72. Then, a signal for controlling the gas flow rate is sent from the control signal output unit 73 to the arrows Q and R. Upon receiving this control signal, the control valves 74A and 74B increase the flow rate of the gas flowing through the first replacement space 13A to a predetermined amount during substrate processing. Thus, the second replacement space 14A is formed in a very short time, and a preset atmosphere suitable for the processing of the substrate 10 is formed.

図６に示すように、該基板１０が該第二の置換空間１４Ｃの途中まで搬送された状態では、各空間におけるガスの流量は次のようになる。該第二の置換空間１４Ａ、１４Ｂは、予め設定された基板処理時の規定量のガスが流れている。該第二の置換空間１４Ｃでは、該光センサー７１Ｃが該基板１０の搬送を検知した直後であり、該第二の置換空間１４Ｃに流れるガス量は隣接している該第二の置換空間１４Ｂよりも少なく制御されている。また同様に、該第二の置換空間１４Ｄとなるべき空間では、該基板１０が搬送されていないので、該光センサー７１Ｄが該基板１０の搬入を検知するまで、第二の置換空間１４Ａ、１４Ｂより、少ない量の置換用ガスが流れている。 As shown in FIG. 6, in a state where the substrate 10 is transported partway through the second replacement space 14C, the gas flow rate in each space is as follows. In the second replacement spaces 14A and 14B, a predetermined amount of gas flowing during substrate processing flows in advance. In the second replacement space 14C, the optical sensor 71C is immediately after detecting the conveyance of the substrate 10, and the amount of gas flowing in the second replacement space 14C is larger than that of the adjacent second replacement space 14B. Less controlled. Similarly, since the substrate 10 is not transported in the space to be the second replacement space 14D, the second replacement spaces 14A, 14B are detected until the optical sensor 71D detects the loading of the substrate 10. A smaller amount of replacement gas is flowing.

このような制御機構をとることにより、第二の置換空間が形成されるまでは、規定量より少ない量のガスを流し、第一の置換空間の雰囲気を保持したまま、外部からの酸素等の混入を防止することができる。また、基板１０の搬入を検知して、ガスの流量を増加させ予め定められた処理に適した規定量のガスを流す。これに伴い、該第二の置換空間が形成され、処理に最も適した流量を流すことにより、該基板１０を効率的に処理することができる。また、該基板が搬出され、該第二の置換空間が消失すれば、再び規定量より少ないガスを流すことで外部からの酸素の混入を防ぎながら、待機し、次に処理する基板が搬入された際に短時間で処理雰囲気を形成できる。 By adopting such a control mechanism, until a second replacement space is formed, a smaller amount of gas is allowed to flow, and the atmosphere of the first replacement space is maintained and oxygen from the outside is maintained. Mixing can be prevented. Further, the loading of the substrate 10 is detected, and the gas flow rate is increased to flow a specified amount of gas suitable for a predetermined process. Accordingly, the second replacement space is formed, and the substrate 10 can be processed efficiently by flowing a flow rate most suitable for processing. Further, when the substrate is unloaded and the second replacement space disappears, the substrate to be processed next is loaded while waiting while preventing a mixture of oxygen from the outside by flowing a gas less than a predetermined amount again. In this case, a processing atmosphere can be formed in a short time.

図７には、本発明の第５の実施例を示す。第５の実施例であるエキシマ光照射装置８１は、エキシマランプ２のランプ管軸方向に対して直交する方向で切断した断面図として示している。ランプハウス３内には、隔壁部材８２が設けられ、複数本の該エキシマランプ２が並列配置され、各々の該エキシマランプ２と該隔壁部材８２との間には、狭窄部８３か形成されている。また、該エキシマランプ２の上方には冷却流体流通路６ａを具備した冷却ブロック６が設けられている。該冷却ブロック６の上方には電装部７が配置されている。また、該冷却ブロック６には該エキシマランプ２側の空間に不活性ガスを含むガスを噴出する噴出口８２があり、該噴出口８２は制御弁７４を介して接続されたガス供給源から窒素等のガスを噴出する。該エキシマランプ２の上方であって、該隔壁部材８２と該エキシマランプ２とで囲まれる空間が、第一の置換空間１３を形成している。また、該エキシマランプ２の下方であって、基板１０側の空間が第二の置換空間１４となる。該第二の置換空間１４は、該エキシマランプ２と該基板１０と該隔壁部材８２とで囲まれる空間であって、該狭窄部８３で該第一の置換空間と分けられている。 FIG. 7 shows a fifth embodiment of the present invention. The excimer light irradiation device 81 according to the fifth embodiment is shown as a cross-sectional view cut in a direction orthogonal to the lamp tube axial direction of the excimer lamp 2. A partition member 82 is provided in the lamp house 3, and a plurality of the excimer lamps 2 are arranged in parallel, and a constriction 83 is formed between each excimer lamp 2 and the partition member 82. Yes. A cooling block 6 having a cooling fluid flow passage 6 a is provided above the excimer lamp 2. An electrical component 7 is disposed above the cooling block 6. The cooling block 6 has a spout 82 for ejecting a gas containing an inert gas in the space on the excimer lamp 2 side. The spout 82 is supplied from a gas supply source connected through a control valve 74 with nitrogen. And so on. A space above the excimer lamp 2 and surrounded by the partition member 82 and the excimer lamp 2 forms a first replacement space 13. Further, a space below the excimer lamp 2 and on the substrate 10 side becomes a second replacement space 14. The second replacement space 14 is a space surrounded by the excimer lamp 2, the substrate 10, and the partition member 82, and is separated from the first replacement space by the narrowed portion 83.

本実施例におけるエキシマ光照射装置８１は、第一の置換空間１３内に不活性ガスを含むガス（この場合は窒素）を噴出する噴出口８４が設けられているので、第一の置換空間１３が最初に置換される。その後、該第一の置換空間１３内に充満した置換用のガス（窒素）が狭窄部８３を通って、第二の置換空間１４に流れてくる。この漏れ出したガスによって第二の置換空間１４が形成される。また、第二の置換空間１４は、基板１０がローラーコンベヤ１１によって搬入されることによって形成され、搬出されることによって消失する。この消失時に該第二の置換空間１４が形成される空間は大気に曝されるが、該狭窄部８３が第一の置換空間への酸素の逆流や巻き込みを抑制している。また、該基板１０が搬入されるまでの待機時には、該第一の置換空間１３に基板処理時より少ない量の置換用ガス（窒素）を流すことにより、該第一の置換空間１３を維持できる。 In the present embodiment, the excimer light irradiation device 81 is provided with the ejection port 84 for ejecting a gas containing inert gas (in this case, nitrogen) in the first substitution space 13. Are replaced first. Thereafter, the replacement gas (nitrogen) filled in the first replacement space 13 flows into the second replacement space 14 through the narrowed portion 83. The second replacement space 14 is formed by the leaked gas. The second replacement space 14 is formed when the substrate 10 is carried in by the roller conveyor 11 and disappears when the substrate 10 is carried out. The space in which the second replacement space 14 is formed at the time of disappearance is exposed to the atmosphere, but the constricted portion 83 suppresses the backflow and entrainment of oxygen into the first replacement space. Further, when waiting for the substrate 10 to be carried in, the first replacement space 13 can be maintained by flowing a smaller amount of replacement gas (nitrogen) through the first replacement space 13 than during substrate processing. .

この発明の第１の実施例を示す概略断面図。1 is a schematic sectional view showing a first embodiment of the present invention. この発明の第１の実施例に配置されたエキシマランプの形態を示す断面図。Sectional drawing which shows the form of the excimer lamp arrange | positioned at 1st Example of this invention. この発明の第１の実施例に配置されたブロー管の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows the form of the blow pipe arrange | positioned at 1st Example of this invention. この発明の第２の実施例におけるブロー管の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows the form of the blow pipe in 2nd Example of this invention. この発明の第３の実施例を示す概略図。Schematic which shows the 3rd Example of this invention. この発明の第４の実施例を示す概略図。Schematic which shows the 4th Example of this invention. この発明の第５の実施例を示す概略図。Schematic which shows 5th Example of this invention. 従来の基板処理装置を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the conventional substrate processing apparatus.

Explanation of symbols

１エキシマ光照射装置
２エキシマランプ
２ａ上面部分
２ｂ下面部分
２Ａエキシマランプ
２Ｂエキシマランプ
２Ｃエキシマランプ
３ランプハウス
４仕切壁
５ブロー管
５ａ側壁
５ａａ側壁
５ａｂ側壁
５ａｃ側壁
５ａｄ側壁
５ａｅ側壁
５ｂ下壁
５ｃ上面壁
５Ａブロー管
５Ｂブロー管
５Ｃブロー管
６冷却ブロック
６ａ冷却流体流通路
７電装部
８狭窄部
９噴出口
１０基板
１１ローラーコンベヤ
１３第一の置換空間
１４第二の置換空間
１５仮想線
２１発光管部
２２外管部
２３口金部
２４バルブ部
２５網状電極
２６内部電極
２７内部管
２８給電ピン
２９金属箔
３０外部リード
３１給電部
３２保持用ツバ部
３３給電線取り出し用穴
３４給電線
３５ガス流通口
４２ガス導入口
５１ブロー管
５２ブロー管
５３間隔
６１側面仕切り板
６２Ａ搬送口
６２Ｂ搬出口
６３矢印
７１Ａ光センサー
７１Ｂ光センサー
７１Ｃ光センサー
７１Ｄ光センサー
７２信号処理部
７３制御信号出力部
７４Ａ制御弁
７４Ｂ制御弁
７４Ｃ制御弁
７４Ｄ制御弁
８１エキシマ光照射装置
８２隔壁部材
８３狭窄部
８４噴出口
１０１エキシマ光照射装置
１０２エキシマランプ
１０３ランプハウス
１０４不活性ガス流通部
１０５噴出口
１１１上板
１１２側板
１１５基板

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Excimer light irradiation apparatus 2 Excimer lamp 2a Upper surface part 2b Lower surface part 2A Excimer lamp 2B Excimer lamp 2C Excimer lamp 3 Lamphouse 4 Partition wall 5 Blow pipe 5a Side wall 5aa Side wall 5ab Side wall 5ac Side wall 5ad Side wall 5ae Side wall 5c Lower wall 5c 5A Blow pipe 5B Blow pipe 5C Blow pipe 6 Cooling block 6a Cooling fluid flow path 7 Electrical section 8 Narrow section 9 Spout 10 Substrate 11 Roller conveyor 13 First replacement space 14 Second replacement space 15 Virtual line 21 Light emitting tube section 22 Outer tube portion 23 Base portion 24 Valve portion 25 Reticulated electrode 26 Internal electrode 27 Internal tube 28 Power supply pin 29 Metal foil 30 External lead 31 Power supply portion 32 Holding flange portion 33 Power supply wire takeout hole 34 Power supply line 35 Gas distribution port 42 Gas inlet 51 Blow pipe 5 Blow pipe 53 interval 61 Side partition plate 62A Transport port 62B Transport port 63 Arrow 71A Light sensor 71B Light sensor 71C Light sensor 71D Light sensor 72 Signal processing unit 73 Control signal output unit 74A Control valve 74B Control valve 74C Control valve 74D Control valve 81 Excimer light irradiation device 82 Partition member 83 Constriction portion 84 Jet port 101 Excimer light irradiation device 102 Excimer lamp 103 Lamp house 104 Inert gas flow part 105 Jet port 111 Upper plate 112 Side plate 115 Substrate

Claims

An excimer light irradiation apparatus for irradiating excimer light to a substrate to be conveyed,
A plurality of substantially rod-shaped excimer lamps are arranged in parallel in the lamp house, and have a conveying means for sending a substrate
The lamp house is provided with a partition member, and a constriction is formed between the partition member and each of the excimer lamps,
A first replacement space is formed above the excimer lamp from the constriction in the lamp house, and a second replacement space is formed on the substrate side below the excimer lamp from the constriction. An excimer light irradiation apparatus characterized in that a jet port for jetting a gas containing an inert gas is provided on the space side.

The partition member also serves as a blow pipe through which a gas containing an inert gas is circulated, and the blow pipe is provided with jet nozzles for ejecting gas at intervals in the longitudinal direction of the blow pipe. The excimer light irradiation apparatus according to claim 1.

The lamp house includes side walls of the blow tubes disposed on both sides of the excimer lamp, an upper surface portion of an outer wall of the excimer lamp disposed therebetween, and a partition in the lamp house disposed above the excimer lamp. A first replacement space formed by the wall, one lower wall of the blow tube, a lower surface portion of the outer wall of the excimer lamp disposed on both sides thereof, and a substrate to be conveyed. The excimer light irradiation apparatus according to claim 2, further comprising: a second replacement space, wherein an inert gas is ejected from the blow tube toward the first replacement space.

4. The excimer light irradiation apparatus according to claim 1, wherein a volume of the first replacement space is larger than a volume of the second replacement space. 5.

The first replacement space is formed for each of the excimer lamps arranged in the lamp house, and the flow rate of the gas flowing through each replacement space is different. Excimer light irradiation apparatus of description.

4. The first replacement space according to claim 1, wherein the flow rate of the gas flowing in the first replacement space is closer to the outside of the lamp house than in the vicinity of the center of the lamp house. Excimer light irradiation apparatus of description.

In the first replacement space, the flow rate of the gas flowing in the first space is less than a predetermined amount until the second replacement space is formed, and when the second replacement space is formed by transporting the substrate, The excimer light irradiation apparatus according to claim 1, wherein a predetermined amount set in advance flows.

In the first replacement space, the formation or disappearance of the second replacement space is detected by a sensor by transporting the substrate, and the first replacement space is formed in accordance with the formation or disappearance of the second replacement space. The excimer light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the flow rate of the gas flowing in the replacement space is controlled.