JP2005275380A - 染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター - Google Patents

Abstract

【課題】
本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高いスペクトル再現性、高い耐光性、耐熱性を示し、且つ、５μｍ以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供する。
【解決手段】
樹脂（Ａ）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を４０〜９５重量％の割合で含有する染料混合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物。樹脂（Ａ）が、ポリビニルフェノール又はその共重合体である。４００〜７００ｎｍの波長領域において、７０％以上の透過率を示す領域と１０％以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示す。
【選択図】 なし

Description

本願発明は染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターに関する。

電荷結合素子（ＣＣＤ）または液晶表示素子（ＬＣＤ）等の撮像素子用カラーフィルターは、主に、微細なパターン形成ができることにより高精細なカラーフィルターを作製することが可能であることから、色素を添加したフォトレジストによりパターンを形成する方法を用いて作製されている。この方法では、色素と高分子樹脂とを含むレジスト組成物を用いて、それを基板上に塗布製膜した後、着色層をフォトリソグラフィー法でパターニング、現像することで一つの着色パターンを形成し、各色毎にこの工程を繰り返し行い、カラーフィルターを作製する。

その際、着色剤として用いられる色素には、一般的に耐熱性や耐光安定性に優れる顔料が用いられ、顔料を分散させたレジストが提案されている。例えば、酸により硬化し得る樹脂系材料と、光酸発生剤と、顔料とを含有してなることを特徴とする感光性着色樹脂組成物が開示されている。そこには樹脂系材料がフェノールを含む樹脂とＮ−メチロール構造を持つ架橋剤が開示されている。（例えば、特許文献１）
しかしながら、顔料は顔料自体が数十ｎｍ〜数百ｎｍ前後の粒子径を有する粒子を含んでいるため、それ自体が異物となったり、分散が安定せず凝集を起こす問題があった。そのため、高解像度が要求されるＣＣＤ用カラーフィルターの作成が困難な状況となってきている。

これに対して、色素として染料を用いた場合、染料は有機溶剤に対して可溶であることから均一なレジスト組成物が得られる。そのため、顔料を分散させたレジスト組成物に比べて微細なパターンを形成することが可能である。例えば、酸により硬化し得る樹脂、架橋剤、光酸発生剤、染料及び溶剤を含有してなるネガ型レジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献２）。
特開平４−１６３５５２号公報 特開平６−５１５１４号公報

カラーフィルターの薄膜化がさらに進んだ場合、所定の色スペクトルを発現させるためにはレジスト組成物中の染料濃度を高める必要がある。本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高いスペクトル再現性、高い耐光性、耐熱性を示し、且つ、５μｍ以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供することである。

本願発明は第１観点として、樹脂（Ａ）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を４０〜９５重量％の割合で含有する染料混合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物、
第２観点として、樹脂（Ａ）が、ポリビニルフェノール又はその共重合体である第１観点に記載のレジスト組成物、
第３観点として、４００〜７００ｎｍの波長領域において、７０％以上の透過率を示す領域と１０％以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示し、且つ２００℃以上の温度を経ても透過率変化が５％以内である第１観点又は第２観点に記載のレジスト組成物、
第４観点として、染料混合物（Ｄ）を全固形分中に５５〜９５重量％含有するものである第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第５観点として、染料混合物（Ｄ）を全固形分中に５５〜９０重量％含有するものである第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第６観点として、光酸発生剤が式１：

（但し、Ｒは有機基を示す。）の部分構造を有する化合物である第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第７観点として、樹脂（Ａ）がネガ型特性を有するものである第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第８観点として、樹脂（Ａ）がポジ型特性を有するものである第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第９観点として、第１観点乃至第８観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物を、基板上に塗布し、乾燥、露光、そして現像する工程を含むカラーフィルターの製造方法、
第１０観点として、第９観点の方法で製造されたカラーフィルターを含む液晶表示装置、
第１１観点として、第９観点の方法で製造されたカラーフィルターを含むＬＥＤ表示装置、及び
第１２観点として、第９観点の方法で製造されたカラーフィルターを含む固体撮像素子である。

本願発明は、カラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度をレジスト組成物の全固形分中で５５重量％以上に高めることが可能であり、そして耐熱性、耐光性を向上させることができる。これは染料とフェノール樹脂との相互作用により、高い耐熱性と耐光性を向上できる。さらに高いアルカリ現像性を示す樹脂とアルカリ現像性を示す染料と組み合わせることにより、所望の分光スペクトルを発現でき、耐熱性、耐光性に優れ、高い解像性を示すカラーフィルターを作成できる。

本願発明において、レジスト組成物中での染料濃度を高めることでカラーフィルターを作成した際に、その薄膜化が可能である。カラーフィルターの膜厚を０．３〜１．５μｍに設定するには、レジスト組成物中での染料濃度が５５重量％以上必要である。該染料分子を含有したレジスト組成物及びそれから製造されたカラーフィルターは、その染料分子に起因して４００〜７００ｎｍの波長領域において、７０％以上の透過率を示す領域と１０％以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示す。染料濃度が低濃度でこの透過率の値を示す場合は、単位体積当たりの染料分子の数が少なくてすむが、耐熱性や耐光性が十分に確保できない。また、染料濃度が高濃度でこの透過率を示す場合は、所望の光学特性を得る上で単位体積当たりの染料分子の数が多くなり、解像度や密着性が十分に確保できない。従って、可視光域（波長４００〜７５０ｎｍ）、特には４００〜７００ｎｍにおいて、７０％以上の透過率を示す領域と１０％以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示す染料を、当該レジスト組成物の全固形分中に５５〜９５重量％、好ましくは５５〜９０重量％含有するものである。全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を４０〜９５重量％の割合で含有する染料混合物（Ｄ）と、ポリビニルフェノール又はその共重合体である樹脂（Ａ）との組み合わせにより相溶性が向上し上記条件を達成できるものと考えられる。

染料混合物（Ｄ）がレジスト組成物中で全固形分に対して５５〜９５重量％にも及ぶ高い含有率を維持することができる原因として、染料混合物（Ｄ）が全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する形で４０〜９５重量％の割合で有しているためである。この割合が４０重量％未満では染料混合物の溶解性が悪く好ましくない。また９５重量％を越える場合は該染料分子の結晶性が高くなりレジスト組成物中に染料分子が結晶として析出して、それが異物の原因になるので好ましくない。

赤、緑、青等の染料は、各染料が吸収を示す特定領域（透過率が１０％以下の領域）と吸収を示さない領域（透過率が７０％以上の領域）を有しているものであり、吸収を示さない領域は他の染料の吸収を阻害するものであっては好ましくない。各染料が本来、吸収を示さない領域に吸収を持つ場合は、その染料の耐熱性や耐光性が不十分な場合である。本願発明に使用される上記染料は、吸収を示す特定領域で透過率が１０％以下であり、吸収を示さない領域では透過率が７０％以上であり、目的とする分光スペクトルを発現し、鮮明なカラーフィルターが得られる。

本願発明ではレジスト組成物の樹脂（Ａ）を選択することにより、ネガ型、又はポジ型で使用することができる。

以下、ネガ型レジスト組成物について説明する。

ネガ型レジスト組成物に使用される樹脂（Ａ）は、熱若しくは光照射により発生する酸、又は熱若しくは光照射により発生する塩基により硬化する樹脂、熱又は光照射により架橋する感光性樹脂であり、該樹脂中の未露光部の塗膜が現像液により除去できるものであれば特に限定されない。

樹脂（Ａ）としては、ポリビニルフェノール及びその共重合体があげられる。

共重合モノマーとしてはアクリル系モノマーがあげられる。
（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。

エチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、およびそれらの酸無水物やハーフエステルが用いられる。これらのなかでは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートが好ましい。

ポリビニルフェノール、ポリビニルフェノールと上記アクリル系モノマーとの共重合体は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、ビニルフェノールと上記アクリル系モノマー１種とを共重合して用いることや、ビニルフェノールと上記アクリル系モノマー２種類以上との組み合わせからなる共重合体を用いることが可能である。

共重合に用いる他化合物としては、アクリル酸誘導体、アクリロニトリル、メタクリロ二トリル、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン誘導体が挙げられる。これらのなかではスチレンが好ましい。

ポリビニルフェノール又はその共重合体、即ちポリヒドロキシスチレン又はポリヒドロキシスチレン誘導体は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、単独で、又は２種類以上の共重合体を組み合わせて用いる事が出来る。

ネガ型レジスト組成物において、樹脂（Ａ）を用いた際に使用する光開始剤（Ｂ）の中で、光酸発生剤としては、光照射により直接もしくは間接的に酸を発生するものであれば特に限定されない。具体例としては、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩、鉄アレーン錯体などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。具体的には、例えばジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレートが挙げられる。

また式（２）〜式（６８）に挙げられる光酸発生剤も使用する事が出来る。

光酸発生剤は式（１）の部分構造を有する化合物が上げられる。式（１）中でＲは、有機基であり、例えば置換又は未置換の脂肪族及び芳香族の炭化水素基が上げられ、芳香族系の炭化水素基としてフェニル基、トリル基、ベンジル基、ナフチル基等が好ましく用いられる。例えば式（６６）〜式（６８）の化合物を使用したレジスト化合物は、より鮮明なレジストパターンが得られる。

光酸発生剤は一例でありこれらの化合物に限定されるものではない。

光酸発生剤は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。また、その導入量は、樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して１〜３００重量部、好ましくは２〜１００重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンが得られ難く、また３００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、酸発生剤の導入量は樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して１〜３００重量部であることが好ましい。

光塩基発生剤としては、光照射により直接もしくは間接的に塩基を発生するものであれば特に限定されない。例えば、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、および以下の式（６９）〜式（７１）の構造の化合物が挙げられる。ここでＲ_１、Ｒ_２及びＲ_３はそれぞれ、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のフェニル基を示す。

これら光塩基発生剤は光酸発生剤と同様に、単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。またその導入量は、上記と同様の理由で、樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して１〜３００重量部、好ましくは２〜１００重量部であることが好ましい。

さらに光増感剤として、従来から公知の光増感剤を用いることができる。例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ぺリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系が挙げられる。これらは、単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。

ネガ型レジスト組成物において、樹脂（Ａ）に用いられる架橋性化合物（Ｃ）としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋形成基を有する化合物を使用することができる。

例えば、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

この架橋性化合物（Ｃ）は例えば、アミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体又はグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体及びベンゾグアナミン誘導体は二量体又は三量体として存在することも可能である。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。

このようなメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）や、サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイアナミド社製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリル等、パウダーリンク１１７４のようなメトキシメチロール化グリコールウリル等が挙げられる。

また、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するベンゼンまたはフェノール性化合物、例えば１，３，５−トリス（メトキシメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメチル）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメチル）ベンゼン、２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等が挙げられる。

また、エポキシ基、イソシアネート基を含み、架橋形成基を有する化合物も使用できる。具体例としては、例えばビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノール等が挙げられる。

これらの架橋性化合物（Ｃ）は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事もできる。また、その導入量は樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して１〜３００重量部、好ましくは２０〜２００の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンが得られにくく、また３００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、架橋剤の導入量は樹脂成分１００重量部に対して１〜３００重量部であることが好ましい。

本願発明のネガ型レジスト組成物に用いられる染料成分は、カラーフィルターとして望ましいスペクトルを有し、かつ溶剤にそのまま溶解するか、あるいは染料を変性した形で溶解するものを用いることができる。これらの染料としては、酸性染料、油溶性染料、分散染料、反応性染料、直接染料等が挙げられる。例えば、アゾ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、メロシアニン系染料、スチルベン系染料、ジフェニルメタン系染料、トリフェニルメタン系染料、フルオラン系染料、スピロピラン系染料、フタロシアニン系染料、インジゴ系染料、フルギド系染料、ニッケル錯体系染料、及びアズレン系染料が挙げられる。具体的には、カラーインデックス番号で以下のものが挙げられる。Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ２、３、７、１２、１３、１４、１６、１８、１９、２１、２５、２５：１、２７、２８、２９、３０、３３、３４、３６、４２、４３、４４、４７、５６、６２、７２、７３、７７、７９、８１、８２、８３、８３：１、８８、８９、９０、９３、９４、９６、９８、１０４、１０７、１１４、１１６、１１７、１２４、１３０、１３１、１３３、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１５７、１６０：１、１６１、１６２、１６３、１６７、１６９、１７２、１７４、１７５、１７６、１７９、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８６、１８７、１８９、１９０、１９１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Orange１、２、３、４、５、７、１１、１４、２０、２３、２５、３１、４０：１、４１、４５、５４、５６、５８、６０、６２、６３、７０、７５、７７、８０、８１、８６、９９、１０２、１０３、１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１１、１１２、１１３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Red１、２、３、４、８、１６、１７、１８、１９、２３、２４、２５、２６、２７、３０、３３、３５、４１、４３、４５、４８、４９、５２、６８、６９、７２、７３、８３：１、８４：１、８９、９０、９０：１、９１、９２、１０６、１０９、１１０、１１８、１１９、１２２、１２４、１２５、１２７、１３０、１３２、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６０、１６１、１６４、１６４：１、１６５、１６６、１６８、１６９、１７２、１７５、１７９、１８０、１８１、１８２、１９５、１９６、１９７、１９８、２０７、２０８、２１０、２１２、２１４、２１５、２１８、２２２、２２３、２２５、２２７、２２９、２３０、２３３、２３４、２３５、２３６、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、２４３、２４４、２４５、２４７、２４８、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Violet２、８、９、１１、１３、１４、２１、２１：１、２６、３１、３６、３７、３８、４５、４６、４７、４８、４ｍ９、５０、５１、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Blue２、３、４、５、７、１８、２５、２６、３５、３６、３７、３８、４３、４４、４５、４８、５１、５８、５９、５９：１、６３、６４、６７、６８、６９、７０、７８、７９、８３、９４、９７、９８、１００、１０１、１０２、１０４、１０５、１１１、１１２、１２２、１２４、１２８、１２９、１３２、１３６、１３７、１３８、１３９、１４３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Green１、３、４、５、７、２８、２９、３２、３３、３４、３５、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Brown１、３、４、５、１２、２０、２２、２８、３８、４１、４２、４３、４４、５２、５３、５９、６０、６１、６２、６３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Black３、５、５：２、７、１３、２２、２２：１、２６、２７、２８、２９、３４、３５、４３、４５、４６、４８、４９、５０、C．I．Acid Red ６、１１、２６、６０、８８、１１１、１８６、２１５、Ｃ．Ｉ．Acid Green ２５、２７、C．I．Acid Blue ２２、２５、４０、７８、９２、１１３、１２９、１６７、２３０、Ｃ．Ｉ．Acid Yellow １７、２３、２５、３６、３８、４２、４４、７２、７８、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｒｅｄ １、２、１３、１４、２２、２７、２９、３９、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｇｒｅｅｎ ３、４、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ３、９、４１、６６、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｖｉｏｌｅｔ １、３、１８、３９、６６、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｙｅｌｌｏｗ １１、２３、２５、２８、４１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ４、２３、３１、７５、７６、７９、８０、８１、８３、８４、１４９、２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ２６、２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ７１、７８、９８、１０６、１０８、１９２、２０１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２６、２７、２８、３３、４４、５０、８６、１４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ２６、２９、３４、３７、７２、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ Ｒｅｄ ５、６、７、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ Ｇｒｅｅｎ ２、３、６、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ Ｂｌｕｅ ２、３、７、９、１３、１５、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ Ｖｉｏｌｅｔ ２、３、４、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ Ｙｅｌｌｏｗ ４、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｒｅｄ １３、２１、２３、２８、２９、４８、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｇｒｅｅｎ ３、５、８、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｂｌｕｅ ６、１４、２６、３０、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｖｉｏｌｅｔ １、３、９、１３、１５、１６、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２、１２、２０、３３、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｏｒａｎｇｅ ２、５、１１、１５、１８、２０、Ｃ．Ｉ．Ａｚｏｉｃ Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ ２、３、４、５、７、８、９、１０、１１、１３、３２、３７、４１、４８、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｒｅｄ ８、２２、４６、１２０、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｂｌｕｅ １、２、７、１９、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｖｉｏｌｅｔ ２、４、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｙｅｌｌｏｗ １、２、４、１４、１６、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｏｒａｎｇｅ １、４、７、１３、１６、２０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｒｅｄ ４、１１、５４、５５、５８、６５、７３、１２７、１２９、１４１、１９６、２１０、２２９、３５４、３５６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌｕｅ ３、２４、７９、８２、８７、１０６、１２５、１６５、１８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｖｉｏｌｅｔ １、６、１２、２６、２７、２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｙｅｌｌｏｗ ３、４、５、７、２３、３３、４２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｏｒａｎｇｅ １３、２９、３０。これらの染料は、ホトリソグラフィー特性や所望の分光特性を発現させるために、全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を４０〜９５重量％の割合で含有する染料混合物が好ましい。ＲＧＢを出現させる為の各染料混合物は、４０〜９５重量％の割合でスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩を含有し、残部の５〜６０重量％は該染料分子に由来する不純物や上記に挙げられた他の染料を含有しているものである。

この染料混合物は全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の割合が４０重量％未満では、レジスト組成物中での溶解性が悪いので好ましくなく、また全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の割合が９５重量％を越える場合は、該染料分子の結晶性が高くなりレジスト組成物中で該染料分子の結晶化が起こりやすく、それらの結晶化した染料分子がレジスト組成物中で異物発生の原因になるので好ましくない。

式（７２）〜式（７３）はスルホン酸アミノエステルを示す。

溶解性の点で、式（７２）のスルホン酸アミノエステルの構造を分子内に有する染料が好ましい。

また、スルホン酸アンモニウムは、−ＳＯ_３ＮＲ_４であり、Ｒは水素原子又はアルキル基を示す。

代表的なスルホン酸アミノエステルや、スルホン酸アンモニウム塩の構造を分子内に有する染料成分としては以下に挙げられる。

Ｒは、炭素数１〜１２のアルキル基、もしくはフェニル基、ナフチル基などの芳香族を示す。

染料混合物（Ｄ）は、４００〜７００ｎｍの波長領域において、７０％以上の透過率を示す領域と、１０％以下の透過率を示す領域とを有する光学特性を示すものであり、そして２００℃以上の温度を経ても透過率変化が５％以内であり、本願発明のレジスト組成物及び、そのレジスト組成物から作成されたカラーフィルターにおいても同様の光学特性を示すものである。

本願発明のレジスト組成物は、基材に塗布後、５０〜１５０℃の温度で焼成し、露光、現像されるが、この焼成温度を２００〜２７０℃（２００℃では３０分、２７０℃では３０秒）の高温で焼成しても４００〜７００ｎｍの波長領域で７０％以上の透過率を示す部分の透過率の経時変化は高温焼成を行う前に比べて５％以内である。

ネガ型レジスト組成物では、染料混合物（Ｄ）の導入量は、樹脂（Ａ）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）および染料混合物（Ｄ）からなる固形分全体（１００％）に対して、５５〜９５重量％、好ましくは５５〜９０重量％の範囲で選ばれる。染料混合物の導入量が少ない場合、レジスト膜が薄膜化した際に所望の分光特性を発現することが困難となり、染料混合物の導入量が多い場合、レジスト組成物の保存安定性に劣る。

また、ポジ型レジスト組成物では、染料混合物（Ｄ）の導入量は、樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）および染料混合物（Ｄ）からなる固形分全体（１００％）に対して、５５〜９５重量％、好ましくは５５〜９０重量％の範囲で選ばれる。染料混合物の導入量が少ない場合、レジスト膜が薄膜化した際に所望の分光特性を発現することが困難となり、染料混合物の導入量が多い場合、レジスト組成物の解像度がでない。

本願発明のレジスト組成物に用いられる溶剤（Ｅ）は、例えばアセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどが挙げられる。これらは単独で、また２種類以上の組み合わせで使用することができる。

本発明のレジスト組成物において、樹脂（Ａ）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）および染料混合物（Ｄ）の含有割合、すなわち固形分濃度は、５〜５０重量％であり、好ましくは、１０〜３０重量％である。

この割合が５重量％未満である場合には、塗膜の膜厚が過小になり、ピンホールの発生や特性上問題となる。また、５０重量％を超える場合には、レジスト組成物の粘度が過大となり、塗膜の膜厚均一性が損なわれる。

本発明のレジスト組成物には、レジスト膜の塗れ性や平坦化性を高める目的で、界面活性剤を含有する事が出来る。このような界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。

より具体的には、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）製））、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（大日本インキ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等が挙げられる。
これらの界面活性剤の使用割合は、樹脂成分１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜２重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部である。界面活性剤の含有量が２重量部よりも多くなるとレジスト膜がムラになりやすく、０．０１重量部未満では、レジスト膜にストリエーションが発生しやすくなる。

また、現像後の基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を含有する事が出来る。このような密着促進剤の具体例としては、例えばトリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール類のシラザン類、ビニルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン類、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物や、１，１−ジメチレンウレア、１，３−ジメチルウレア等の尿素、またはチオ尿素化合物を挙げることができる。

これらの密着促進剤の使用割合は、樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して、通常、２０重量部以下、好ましくは０．０５〜１０重量部、特に好ましくは１〜１０重量部である。

本発明のレジスト組成物には、さらにレジスト組成物と混和性のある添加物類を加えることができる。例えば、耐光安定性を高める紫外線吸収剤や酸化防止剤、染料の析出を抑制する相溶化剤などが挙げられる。染料の析出を抑制する相溶化剤として、具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数12〜13）エーテル化合物、ポリオキシエチレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数13）エーテル化合物、ポリオキシエチレンセチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物、ポリオキシエチレンデシルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数11〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンセチルエーテル化合物等のアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルアミノエーテル化合物等のアルキルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイン酸アミドエーテル化合物、ラウリン酸ジエタノールアミド化合物、ステアリン酸ジエタノールアミド化合物、オレイン酸ジエタノールアミド化合物等のアルキルアミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテルホルムアミド縮合物、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンナフチルエーテル化合物等のアリルフェニルエーテル化合物、グリセリンモノラウレート化合物、グリセリンモノステアレート化合物、グリセリンモノオレート化合物、グリセリントリオレート化合物等のグリセリン脂肪酸エステル化合物、ソルビタンモノラウレート化合物、ソルビタンモノパルミテート化合物、ソルビタンモノステアレート化合物、ソルビタントリステアレート化合物、ソルビタンモノオレート化合物、ソルビタントリオレート化合物等のソルビタン酸エステル化合物、ポリオキシエチレンジラウレート化合物、ポリオキシエチレンラウレート化合物、ポリオキシエチレンステアレート化合物、ポリオキシエチレンジステアレート化合物、ポリオキシエチレンジオレート化合物、ポリオキシエチレンオレート化合物等の脂肪酸エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンヒマシ油エーテル化合物、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油エーテル化合物等の植物油エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート化合物、ポリオキシエチレンスルビタントリオレート化合物等のソルビタンエーテルエステル化合物、ポリオキシアルキレンブチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数14〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル化合物等のモノオール型ポリエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物等のジオール型ポリエーテル化合物、トリメチロールプロパントリス（ポリオキシアルキレン）エーテル化合物、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル化合物等のポリオール型ポリエーテル化合物、メチルラウレート化合物、メチルオレート化合物、イソプロピルミリステート化合物、ブチルステアレート化合物、オクチルパルミテート化合物、オクチルステアレート化合物、ラウリルオレート化合物、イソトリデシルステアレート化合物、オレイルオレート化合物、ジオレイルアジペート化合物、トリメチロールプロパントリデカノエート化合物、トリメチロールプロパントリラウレート化合物、ペンタエリスリトールジオレート化合物、ペンタエリスリトールモノステアレート化合物、ペンタエリスリトールジステアレート化合物等の脂肪酸アルキルエステル化合物、アルキルスルホネート化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホン酸化合物、分岐アルキルベンゼンスルホン酸化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルジフェニルエーテルジスルホネート化合物、モノイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、トリイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジブチルナフタレンスルホネート化合物、ジオクチルスルホサクシネート化合物等のスルホン酸型化合物、オレイン酸硫酸化油化合物、ヒマシ硫酸化化合物、オクチルサルフェート化合物、ラウリルサルフェート化合物、アルキルサルフェート化合物、アルキルエーテルサルフェート化合物等の硫酸エステル化合物、セルロース、セルロース誘導体、糖骨格高分子化合物が挙げられる。

これら相溶化剤の使用割合は、樹脂（Ａ）成分１００重量部に対して、０．００１〜２０重量部である。使用量が少ない場合は染料の析出を抑制することができず、多い場合は良好なパターン形状が得られにくくなる。しかしながら、相溶化剤がパターン形状を阻害しない場合は２０重量部以上使用できる。

次に本発明のカラーフィルター用染料含有ネガ型レジスト組成物を用いたカラーフィルター作成方法を説明する。

本発明のネガ型レジスト組成物を、スピンナー法などで所望のレジスト膜厚を得る回転数でシリコンウエハーやガラス基板上に塗布し、ソフトベーク（焼成）を行う。ソフトベークは溶剤を蒸発させれば良く、５０〜１５０℃の温度範囲で、３０秒〜１０分間で行うことが好ましい。その後、マスクを介して、露光量１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２程度で露光する。露光には、例えば水銀ランプ等の紫外線、遠紫外線、電子線、もしくはＸ線等が用いられる。露光後、ネガ型レジスト組成物を用いてパターンを形成する場合、加熱（ＰＥＢ（ポストエクスポージャーベーク））を行うことが好ましい。ＰＥＢにより、露光により発生した酸または塩基による架橋化がさらに進行し、より未露光部との現像溶液溶解度に対する差が広がり、解像コントラストが向上する。ＰＥＢは５０〜１５０℃の温度範囲で、３０秒から５分間行うのが好ましい。

次に、現像を行う。現像方法としては、特に制限はなく、パドル法、ディッピング法、スプレー法等の公知の方法により行うことができる。現像温度は２０℃〜３０℃の間が好ましく、現像液に１０秒〜１０分間浸漬することが好ましい。

現像液としては、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などを用いることができる。具体的には、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルアミン水溶液、ｎ−プロピルアミン水溶液、ジエチルアミン水溶液、ジ−ｎ−プロピルアミン水溶液、トリエチルアミン水溶液、メチルジエチルアミン水溶液、ジエタノールアミン水溶液、トリエタノールアミン水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、ケイ酸ナトリウム水溶液、メタケイ酸ナトリウム水溶液などが挙げられる。

さらに、現像液には未露光部の除去性を高めるために、界面活性剤を添加することが好ましい。具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数12〜13）エーテル化合物、ポリオキシエチレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数13）エーテル化合物、ポリオキシエチレンセチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物、ポリオキシエチレンデシルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数11〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンセチルエーテル化合物等のアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルアミノエーテル化合物等のアルキルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイン酸アミドエーテル化合物、ラウリン酸ジエタノールアミド化合物、ステアリン酸ジエタノールアミド化合物、オレイン酸ジエタノールアミド化合物等のアルキルアミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテルホルムアミド縮合物、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンナフチルエーテル化合物等のアリルフェニルエーテル化合物、グリセリンモノラウレート化合物、グリセリンモノステアレート化合物、グリセリンモノオレート化合物、グリセリントリオレート化合物等のグリセリン脂肪酸エステル化合物、ソルビタンモノラウレート化合物、ソルビタンモノパルミテート化合物、ソルビタンモノステアレート化合物、ソルビタントリステアレート化合物、ソルビタンモノオレート化合物、ソルビタントリオレート化合物等のソルビタン酸エステル化合物、ポリオキシエチレンジラウレート化合物、ポリオキシエチレンラウレート化合物、ポリオキシエチレンステアレート化合物、ポリオキシエチレンジステアレート化合物、ポリオキシエチレンジオレート化合物、ポリオキシエチレンオレート化合物等の脂肪酸エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンヒマシ油エーテル化合物、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油エーテル化合物等の植物油エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート化合物、ポリオキシエチレンスルビタントリオレート化合物等のソルビタンエーテルエステル化合物、ポリオキシアルキレンブチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数14〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル化合物等のモノオール型ポリエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物等のジオール型ポリエーテル化合物、トリメチロールプロパントリス（ポリオキシアルキレン）エーテル化合物、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル化合物等のポリオール型ポリエーテル化合物、メチルラウレート化合物、メチルオレート化合物、イソプロピルミリステート化合物、ブチルステアレート化合物、オクチルパルミテート化合物、オクチルステアレート化合物、ラウリルオレート化合物、イソトリデシルステアレート化合物、オレイルオレート化合物、ジオレイルアジペート化合物、トリメチロールプロパントリデカノエート化合物、トリメチロールプロパントリラウレート化合物、ペンタエリスリトールジオレート化合物、ペンタエリスリトールモノステアレート化合物、ペンタエリスリトールジステアレート化合物等の脂肪酸アルキルエステル化合物、アルキルスルホネート化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホン酸化合物、分岐アルキルベンゼンスルホン酸化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルジフェニルエーテルジスルホネート化合物、モノイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、トリイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジブチルナフタレンスルホネート化合物、ジオクチルスルホサクシネート化合物等のスルホン酸型化合物、オレイン酸硫酸化油化合物、ヒマシ硫酸化化合物、オクチルサルフェート化合物、ラウリルサルフェート化合物、アルキルサルフェート化合物、アルキルエーテルサルフェート化合物等の硫酸エステル化合物が挙げられる。アルカリ現像液の好ましい濃度は、アルカリ成分が０．００１〜１０重量％、界面活性剤成分が０．００１〜１０重量％である。アルカリ成分が高すぎると現像性能力が強すぎ、ネガ型では未露光部まで浸透してしまいパターン表面の荒れが起こりやすく、低すぎると現像性能力が得られない。また、界面活性剤成分が高すぎると泡立ちやすくて現像ムラが発生しやすくなり、低すぎると現像性能力が得られない。

現像後、水あるいは一般有機溶剤でリンスすることが好ましい。その後、乾燥することでパターンが形成される。本願発明のネガ型レジスト組成物を用いた場合には、露光部が硬化し未露光部が溶解するネガ型のパターンが形成される
以上の一連の工程を、各色およびパターンを替え、必要な数だけ繰り返すことで必要な色数が組み合わされた着色パターンを得ることができる。また、パターン形成後、またはパターン中に残存する重合あるいは縮合可能な官能基を完全に反応させるために、加熱（ポストベーク）を行っても良い。ポストベークは各色のパターンを形成する毎に行っても、すべての着色パターンを形成した後に行っても良く、１５０〜５００℃の温度範囲で、３０分〜２時間行うのが好ましい。

（染料含有ネガ型レジスト組成物の調整）
樹脂Ａ１：ＶＰ８０００（日本曹達（株）製）、成分は、ポリビニルフェノールである。重量平均分子量８０００（ポリスチレン換算）
樹脂Ａ２：マルカーリンカーＣＨＭ（ビニルフェノール／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル＝５０重量部／５０重量部の重合体）（丸善石油化学社製）重量平均分子量１００００（ポリスチレン換算）
樹脂Ａ３：（ビニルフェノール／ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート＝７０重量部／２０重量部／１０重量部の重合体、重量平均分子量６０００（ポリスチレン換算）
樹脂Ａ４：ビニルフェノール／スチレン＝８０重量部／２０重量部の重合体、重量平均分子量９０００（ポリスチレン換算）
樹脂Ａ５：（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール＝５０重量部／５０重量部の重合体、重量平均分子量８０００）
樹脂Ａ６：（メチルメタクリレート）／（ヒドロキシエチルメタクリレート）／（メタクリル酸）／（ベンジルメタクリレート）＝２０重量部／２０重量部／１５重量部／４５重量部の重合体、重量平均分子量９０００（ポリスチレン換算）、分散度２．０
光酸発生剤Ｂ１：チバスペシャリティーケミカルズ社製（式８０）

光酸発生剤Ｂ２：みどり化学社製（式８１）

光酸発生剤Ｂ３：みどり化学社製ＴＡＺ１０７（式８２）

光酸発生剤Ｂ４：みどり化学社製ＴＡＺ１１０（式８３）

架橋性化合物Ｃ１：サイメル３０３（ヘキサメトキシメチルメラミン）
架橋性化合物Ｃ２：パウダーリンク１１７４（メトキシメチロール化グリコールウリル）
染料Ｄ１：式（８４）

染料Ｄ２：式（８５）

式（８５）の置換基は２〜４置換体の混合体である。
染料Ｄ３：式（８６）

染料Ｄ４：式（８７）

染料Ｄ５：式（８８）

式（８８）の置換基は２〜４置換体の混合体である。

実施例１
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ１）を１．０ｇ、染料（Ｄ１）を０．５３ｇ、染料（Ｄ２）を１．６ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．３ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．３ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを３．３０ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを７．７０ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。溶液の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行った。このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて２００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると３μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長５６０〜６９０ｎｍの領域で透過率１０％以下を示し、波長４２０〜４９０ｎｍでは７０％以上の透過率を示した。

そして、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、４５０ｎｍのトップピークの透過率変化は３％であった。

実施例１の染料Ｄ１と染料Ｄ２の混合染料を有する青色レジスト組成物は、その染料Ｄ２自体がスルホン酸アミノエステル置換体を９５％で含有し、５％のスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。従って、Ｄ１とＤ２からなる全染料中にスルホン酸アミノエステルの構造を有する染料分子を７６％含有する染料混合物であった。青色レジスト組成物としても、この染料Ｄ１とＤ２は十分に溶解し、また結晶化することなく異物の発生がないものである。

実施例２
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ２）を１．０ｇ、染料（Ｄ３）を２．７０ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４０ｇ、光酸発生剤（Ｂ４）を０．１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを４．００ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．００ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。溶液の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行った。このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて２００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると２μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長４００〜４６０ｎｍの領域で透過率１０％以下を示し、波長５００〜７００ｎｍでは７０％以上の透過率を示した。

そして、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、６００ｎｍのトップピークの透過率変化は４％であった。

実施例２の染料Ｄ３を有する黄色レジスト組成物は、その染料Ｄ３自体がスルホン酸アンモニウム置換体を９３％で含有し、７％のスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。従って、全染料中にスルホン酸アンモニウムの構造を有する染料分子を９３％含有する染料混合物であった。黄色レジスト組成物としても、この染料Ｄ３は十分に溶解し、また結晶化することなく異物の発生がないものである。

実施例３
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ３）を１．０ｇ、染料（Ｄ３）を１．０ｇ、染料（Ｄ４）を２．０ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．１ｇ、光酸発生剤（Ｂ２）を０．７ｇ、乳酸エチルを１６ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。溶液の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行った。このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて１００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると１μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長４００〜４３５ｎｍ及び６５０〜６９０ｎｍの領域で透過率１０％以下を示し、波長５００〜５５０ｎｍでは７０％以上の透過率を示した。

そして、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、５３０ｎｍのトップピークの透過率変化は２％であった。

実施例３の染料Ｄ３と染料Ｄ４を有する赤色レジスト組成物は、その染料Ｄ３自体がスルホン酸アンモニウム置換体を９３％で含有し、７％のスルホン酸及びスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。また、染料Ｄ４自体がスルホン酸アンモニウム置換体を９０％で含有し、１０％のスルホン酸及びスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウムを有するものであった。従って、Ｄ３とＤ４からなる全染料中にスルホン酸アンモニウムの構造を有する染料分子を９１％含有する染料混合物であった。

色レジスト組成物としても、この染料Ｄ３とＤ４は十分に溶解し、また結晶化することなく異物の発生がないものである。

実施例４
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ４）を１．０ｇ、染料（Ｄ１）を０．５３ｇ、染料（Ｄ５）を１．７ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４ｇ、架橋性化合物（Ｃ２）を０．１ｇ、光酸発生剤（Ｂ１）を０．３ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを６．３０ｇ及び乳酸エチルを６．３０ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。溶液の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行った。このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて４００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると３μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長５４０〜６４０ｎｍの領域で透過率１０％以下を示し、波長４３０〜４８０ｎｍでは７０％以上の透過率を示した。

そして、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、４５０ｎｍのトップピークの透過率変化は２％であった。

実施例４の染料Ｄ１と染料Ｄ５を有する青色レジスト組成物は、その染料Ｄ５自体がスルホン酸アミノエステル置換体を９２％で含有し、８％のスルホン酸及びスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。従って、Ｄ１とＤ５からなる全染料中にスルホン酸アミノエステルの構造を有する染料分子を７４％含有する染料混合物であった。

青色レジスト組成物としても、この染料Ｄ１とＤ５は十分に溶解し、また結晶化することなく異物の発生がないものである。

比較例１
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ５）を１．０ｇ、染料（Ｄ３）を１．０ｇ、染料（Ｄ２）を０．４ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．３ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．３ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを３．３０ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを７．７０ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。溶液の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行った。このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて２００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると３μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長５５０〜５７０ｎｍの領域で透過率１０％以下を示し、波長４１０〜４８０ｎｍでは７０％以上の透過率を示した。

しかし、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、４５０ｎｍのトップピークは４０％低下し、７０％以上の透過率を示す領域はなかった。

比較例２
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ１）を１．０ｇ、染料（Ｄ３）を２．７０ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４０ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを４．００ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．００ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。製造直後は、溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。

比較例２の染料Ｄ３を有する黄色レジスト組成物は、その染料Ｄ３の再結晶を繰り返すことにより、染料Ｄ３自体がスルホン酸アンモニウム置換体をほぼ１００％の割合で含有するものであった。従って、全染料中にスルホン酸アンモニウムの構造を有する染料分子が１００％含有する染料であった。黄色レジスト組成物中で、この染料Ｄ３は十分に溶解したが、３０日保存後、黄色レジスト組成物中で該Ｄ３の染料分子が結晶化によって異物の発生となった。この異物の発生により、このレジスト組成物を用いて得られたパターンは多数の空孔があり解像度は１０μｍ程度であった。

比較例３
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ１）を１．０ｇ、染料（Ｄ２）を２．８０ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４０ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを４．００ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．００ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。製造直後は、溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。

比較例３の染料Ｄ２を有するレジスト組成物は、その染料Ｄ２の再結晶を繰り返すことにより、染料Ｄ２自体がスルホン酸アミノエステルをほぼ１００％の割合で含有するものであった。従って、全染料中にスルホン酸アミノエステルの構造を有する染料分子が１００％含有する染料であった。レジスト組成物中で、この染料Ｄ２は十分に溶解したが、３０日保存後、レジスト組成物中で該Ｄ２の染料分子が結晶化によって異物の発生となった。この異物の発生により、このレジスト組成物を用いて得られたパターンは多数の空孔があり解像度は１０μｍ程度であった。

比較例４
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ６）を１．０ｇ、染料（Ｄ１）を１．７６ｇ、染料（Ｄ３）を０．９５ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４０ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを４．００ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．００ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。製造直後は、溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。

比較例４の染料Ｄ１及びＤ３を有するレジスト組成物は、そのＤ３自体がスルホン酸アンモニウム置換体を９３％で含有し、７％のスルホン酸及びスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。
従って、Ｄ１とＤ３からなる全染料中にスルホン酸アンモニウムの構造を有する染料分子を３２．６％含有する染料混合物であった。
このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて１００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると１μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長５８０〜７００ｎｍでは７０％以上の透過率を示したが、波長４００〜４６０ｎｍの領域で透過率１５％を示した。
また、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、波長４００〜４６０ｎｍの領域の透過率は２５％以上となった。

比較例５
２０ｍｌサンプル管に、樹脂（Ａ６）を１．０ｇ、染料（Ｄ１）を１．８ｇ、染料（Ｄ２）を０．９５ｇ、架橋性化合物（Ｃ１）を０．４０ｇ、光酸発生剤（Ｂ３）を０．１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを４．００ｇ及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．００ｇ添加し、室温で攪拌した。界面活性剤として（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、レジスト組成物を得た。製造直後は、溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。

比較例５の染料Ｄ１及びＤ２を有するレジスト組成物は、その染料Ｄ２自体がスルホン酸アミノエステル置換体を９５％で含有し、５％のスルホン酸置換体とスルホン酸ナトリウム置換体を有するものであった。従って、Ｄ１とＤ２からなる全染料中にスルホン酸アミノエステルの構造を有する染料分子を３２．８％含有する染料混合物であった。
このレジスト組成物を４インチのシリコンウエハ上に１．０μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃で１分間ホットプレートにてコンタクトベークした。このウエハをアライナー露光機（キャノンＰＬＡ６００Ｓ）にて１００ｍJ/ｃｍ^２になるように露光し、露光後ベーク温度１４０℃で１分間の加熱を行った。これを界面活性剤入り現像液であるＰＳＣ現像液（ＢＳＩ社製、成分は界面活性剤入りテトラメチルアンモニウムヒドロキシド系）で８０秒間現像することによりパターンが得られた。これをＳＥＭ観察すると１μｍ角のパターンであった。光学特性は波長４００〜７００ｎｍにおいて、波長４３０〜４９０ｎｍでは７０％以上の透過率を示したが、波長５５０〜６５０ｎｍの領域で透過率２０％以上を示した。
また、２２０℃×３０分の耐熱性試験後、波長４５０ｎｍのトップピークが２０％低下し、さらに、波長５５０〜６５０ｎｍの領域の透過率は３０％以上となった。

本願発明で得られるレジスト組成物を基板上に塗布し、乾燥、露光、そして現像する工程を経てカラーフィルターが製造される。このカラーフィルターは、液晶表示装置、ＬＥＤ表示装置や、電荷結合素子（ＣＣＤ）等の固体撮像素子に応用可能である。

Claims (12)

1. 樹脂（Ａ）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（Ｂ）、架橋性化合物（Ｃ）、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を４０〜９５重量％の割合で含有する染料混合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物。
2. 樹脂（Ａ）が、ポリビニルフェノール又はその共重合体である請求項１に記載のレジスト組成物。
3. ４００〜７００ｎｍの波長領域において、７０％以上の透過率を示す領域と１０％以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示し、且つ２００℃以上の温度を経ても透過率変化が５％以内である請求項１又は請求項２に記載のレジスト組成物。
4. 染料混合物（Ｄ）を全固形分中に５５〜９５重量％含有するものである請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のレジスト組成物。
5. 染料混合物（Ｄ）を全固形分中に５５〜９０重量％含有するものである請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のレジスト組成物。
6. 光酸発生剤が式１：
   

   

   （但し、Ｒは有機基を示す。）の部分構造を有する化合物である請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のレジスト組成物。
7. 樹脂（Ａ）がネガ型特性を有するものである請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のレジスト組成物。
8. 樹脂（Ａ）がポジ型特性を有するものである請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のレジスト組成物。
9. 請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載のレジスト組成物を、基板上に塗布し、乾燥、露光、そして現像する工程を含むカラーフィルターの製造方法。
10. 請求項９の方法で製造されたカラーフィルターを含む液晶表示装置。
11. 請求項９の方法で製造されたカラーフィルターを含むＬＥＤ表示装置。
12. 請求項９の方法で製造されたカラーフィルターを含む固体撮像素子。