JP2004241379A - Plasma display member and plasma display, as well as manufacturing method of plasma display member - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
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Abstract
Description
本発明はプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイ部材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a plasma display member and a method for manufacturing a plasma display member.
プラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」とする)は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、OA機器および広報表示装置などの分野に利用されている。また、高品位テレビジョン、ホームシアター用途への進展が非常に期待されている。 2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter, referred to as “PDPs”) are used in fields such as OA equipment and public information display devices because they can perform high-speed display and can be easily made larger than liquid crystal panels. . In addition, progress to high-definition television and home theater applications is highly expected.
PDPは、前面側基板と背面側基板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、放電空間内に封入されている放電ガスから発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照射することにより表示を行うものである。放電ガスとしてXe−Ne混合ガスを用いた場合、147nm、172nmといった非常に波長が短い紫外線が発生している。また、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁(障壁、リブともいう)が設けられている。隔壁の形状は、一般にはおよそ幅20〜120μm、高さ50〜250μmのストライプ状や格子状のものなどがある。 The PDP generates a plasma discharge between an anode and a cathode facing each other in a discharge space provided between a front substrate and a rear substrate, and emits ultraviolet rays generated from a discharge gas sealed in the discharge space. The display is performed by irradiating a phosphor provided in the discharge space. When a mixed gas of Xe and Ne is used as the discharge gas, ultraviolet rays having a very short wavelength such as 147 nm and 172 nm are generated. Further, partition walls (also referred to as barriers or ribs) are provided in order to suppress the spread of the discharge to a certain area, perform display in a specified cell, and secure a uniform discharge space. The shape of the partition wall generally has a stripe shape or a lattice shape having a width of about 20 to 120 μm and a height of about 50 to 250 μm.
AC型PDPは、一般に、図1に示すような構造をしている。すなわち前面側基板に透明電極、バス電極、透明誘電体層、保護膜が形成されている。1つの透明電極とバス電極は積層され電気的に導通している。この1つの透明電極およびバス電極(スキャン電極)とその隣に位置する透明電極とバス電極(サスティン電極)に電圧を印加することで、これらの透明電極間の(放電)ギャップから放電を開始し、保護膜表面での面放電が維持されて表示発光動作を行っている。また、精細度、隣接セルとの放電干渉といったことから、放電電極間をあまり大きくとることができないので、微少領域での放電になりやすく、しかも面放電であるので紫外線の発生効率の高い陽光柱は生成されず、放電モードは負グローに制約され、紫外線生成効率が低い、すなわち、発光効率も低くなりやすい。特に、ハイビジョン用途など高精細PDPにおいては、放電部位と隔壁、蛍光体の距離が相対的に短くなり、イオンや電子などの荷電粒子が拡散しやすいため、より一層放電がシュリンクしやすい。さらに、放電形態が面放電であるので、発生した紫外線は蛍光体が形成されていない前面側基板の方向にも照射しており、ほとんどが前面側基板で吸収されてしまっており表示に利用されていない。 An AC type PDP generally has a structure as shown in FIG. That is, a transparent electrode, a bus electrode, a transparent dielectric layer, and a protective film are formed on the front substrate. One transparent electrode and the bus electrode are laminated and electrically connected. By applying a voltage to the one transparent electrode and the bus electrode (scan electrode) and the adjacent transparent electrode and bus electrode (sustain electrode), a discharge is started from a (discharge) gap between these transparent electrodes. In addition, the display light emission operation is performed while the surface discharge on the surface of the protective film is maintained. Also, due to the definition and the interference of discharge with adjacent cells, the distance between the discharge electrodes cannot be made too large, so that the discharge is likely to occur in a very small area. Is not generated, the discharge mode is limited by negative glow, and the ultraviolet ray generation efficiency is low, that is, the luminous efficiency tends to be low. In particular, in a high-definition PDP such as a high-vision application, the distance between the discharge site, the partition wall, and the phosphor becomes relatively short, and charged particles such as ions and electrons are easily diffused, so that the discharge is more likely to shrink. Furthermore, since the discharge mode is a surface discharge, the generated ultraviolet light is also radiated toward the front substrate where no phosphor is formed, and most of the ultraviolet light is absorbed by the front substrate and used for display. Not.
前面側基板には表示画素を選択するアドレス時の電荷蓄積機能や、蛍光体発光の透過機能も必要とされる。そのため、厚み20〜50μmの透明な誘電体層が形成される。誘電体層の可視光透過率は70〜80%程度であり、蛍光体からの可視発光の一部が吸収され、全てが表示として利用されず、ロスが生じている。また、発光の透過性という観点では、透明電極(ITOなど)としては、決して満足するものではない。また、放電領域が透明電極付近に限定されるため、効率的に紫外線を発生させることが難しかった。
さらに、前面側基板は作製プロセスが多く、歩留まり低下、ひいてはコストの上昇の要因となっていた。
以上述べたように、PDPの主な課題は高発光効率化および低コスト化であった。
The front substrate also needs a charge storage function at the time of address selection of a display pixel and a transmission function of phosphor emission. Therefore, a transparent dielectric layer having a thickness of 20 to 50 μm is formed. The visible light transmittance of the dielectric layer is about 70 to 80%, a part of visible light emitted from the phosphor is absorbed, and not all of the visible light is used as a display, resulting in loss. In addition, from the viewpoint of light transmission, the transparent electrode (such as ITO) is not always satisfactory. Further, since the discharge region is limited to the vicinity of the transparent electrode, it has been difficult to efficiently generate ultraviolet rays.
Further, the front-side substrate has many manufacturing processes, which causes a decrease in yield and an increase in cost.
As described above, the main problems of the PDP are high luminous efficiency and low cost.
発光効率を向上させるために、例えばメタル隔壁を用いる技術が提案されている(特許文献1または2参照)。これは、対向放電とすることで放電路を長くし、絶縁したひとつ、または複数のシート状金属板の積み重ねで隔壁を形成することで、陽光柱形成時の荷電粒子の隔壁拡散を抑制させて放電効率を大きくするといったものである。しかし、構造がより複雑化するだけでなく、前面側基板、背面側基板、メタル隔壁の3層構成となり、部材数、作成プロセスが増加し低コスト化には課題が多かった。
In order to improve luminous efficiency, for example, a technique using a metal partition has been proposed (see
他に厚膜セラミックシートを用いたPDPが提案されている(例えば、非特許文献1)。これは、隔壁に相当する部分を格子状の厚膜セラミックシート化し、蛍光体を形成した背面板と前面板で厚膜セラミックシートを挟む3層構造としたものである。厚膜セラミックシート内に表示電極やアドレス電極を形成し、対向放電とすることで発光効率の向上を狙うものである。しかし、画素3mm程度の大画面(300型付近)を目指しており、プロセス上厚膜セラミックシートの高精細化には困難がある。また、背面基板、厚膜セラミックシート、前面側基板の位置合わせに精度が必要であり、歩留まり低下、コストの上昇を招く。さらに、電極ギャップ(=放電ギャップ)が長いために放電開始電圧が高くなり、これまで以上の高耐圧ICが必要となり駆動回路のコストが上昇してしまう。 Another PDP using a thick-film ceramic sheet has been proposed (for example, Non-Patent Document 1). This is a three-layer structure in which a portion corresponding to a partition is formed into a lattice-shaped thick film ceramic sheet, and a thick plate ceramic sheet is sandwiched between a back plate and a front plate on which phosphors are formed. A display electrode and an address electrode are formed in a thick-film ceramic sheet, and a counter discharge is performed to improve luminous efficiency. However, a large screen (around 300 type) with a pixel size of about 3 mm is aimed at, and it is difficult to increase the definition of a thick ceramic sheet due to the process. In addition, precision is required for positioning the rear substrate, the thick film ceramic sheet, and the front substrate, resulting in a decrease in yield and an increase in cost. Furthermore, since the electrode gap (= discharge gap) is long, the discharge starting voltage increases, and a higher breakdown voltage IC is required, which increases the cost of the drive circuit.
すなわち、現在製品化されている従来構造のPDPや上記のこれまで提案されているPDPでは、高精細、高発光効率、低コストの全てを満足することは困難であった。
そこで本発明は、上記従来技術の問題点に着目し、高精細かつ高発光効率なPDP部材ならびにPDPを低コストで製造し提供することにある。 Therefore, the present invention is directed to manufacturing and providing a PDP member and a PDP with high definition and high luminous efficiency at low cost, focusing on the problems of the above-described conventional technology.
上記課題を解決するために本発明は以下の構成を有する。すなわち本発明は、複数の電極、隔壁、蛍光体を有したプラズマディスプレイ部材であって、一部の電極が隔壁の表面および/または内部に配してあることを特徴とするプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイである。
また、その電極が、主電極と主電極から互いに向き合う方向に張り出した補助電極を有することを特徴とするプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイである。
さらに、複数の電極、隔壁、蛍光体を有したプラズマディスプレイ部材の製造方法であって、隔壁の表面および/または内部に電極を配する工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイ部材の製造方法である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has the following configurations. That is, the present invention relates to a plasma display member having a plurality of electrodes, partition walls, and phosphors, wherein a part of the electrodes is arranged on the surface and / or inside of the partition wall. It is a display.
Further, the plasma display member and the plasma display are characterized in that the electrode has a main electrode and an auxiliary electrode projecting from the main electrode in a direction facing each other.
Further, the present invention provides a method for manufacturing a plasma display member having a plurality of electrodes, partition walls, and phosphors, the method including a step of disposing electrodes on the surface and / or inside the partition wall. is there.
本発明によれば、高発光効率かつ低コストなPDP部材とPDPの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a PDP member and a method of manufacturing a PDP which have high luminous efficiency and low cost.
発明者らは、プラズマディスプレイを高発光効率化すると同時に低コスト化も可能なプラズマディスプレイ部材のパネル構造について鋭意検討を行った結果、従来の前面板や背面板の構造とは大きく異なり、以下に述べる新規な構造によって達成されることを見出した。 The present inventors have conducted intensive studies on the panel structure of a plasma display member capable of increasing the luminous efficiency and reducing the cost of the plasma display, and as a result, the structure is significantly different from the structure of the conventional front plate and back plate. It has been found that this is achieved by the novel structure described.
本発明のプラズマディスプレイ(PDP)部材は、複数の電極、隔壁、蛍光体を有したPDP部材であって、一部の電極が隔壁の表面および/または内部に配してあることを特徴とするPDP部材であることが重要である。図3に本発明のPDP部材の構造例を示す(蛍光体は省略)。本図では、隔壁の内部に電極を形成した場合を示したが、隔壁の側面、頂部などに形成してもよい。電極を隔壁の側面や頂部に形成した場合、絶縁破壊の回避や放電の安定性といった点から、AC方式で駆動する際は電極表面を絶縁性の材料で被覆することが好ましく、DC方式で駆動する際は、電流制限のための抵抗を挿入する方がよい。 A plasma display (PDP) member of the present invention is a PDP member having a plurality of electrodes, partition walls, and phosphors, wherein some of the electrodes are arranged on the surface and / or inside the partition walls. It is important that the member is a PDP member. FIG. 3 shows a structural example of the PDP member of the present invention (phosphor is omitted). In this drawing, the case where the electrode is formed inside the partition is shown, but the electrode may be formed on the side surface, the top or the like of the partition. When the electrode is formed on the side surface or the top of the partition wall, it is preferable to cover the electrode surface with an insulating material when driving by the AC method, and to drive by the DC method from the viewpoint of avoiding dielectric breakdown and stability of discharge. In this case, it is better to insert a resistor for limiting the current.
このように本発明のPDPおよびPDP部材は、図1に示した従来のPDPの構造、すなわち、表示電極が形成された前面板と隔壁が形成された背面板からなる3面放電型の構造とは全く異なっており、隔壁の表面および/または内部に表示電極が形成されているという新しい構造である。 As described above, the PDP and the PDP member of the present invention have the same structure as the conventional PDP shown in FIG. 1, that is, a three-surface discharge type structure including a front plate on which display electrodes are formed and a rear plate on which partition walls are formed. Is a new structure in which a display electrode is formed on the surface and / or inside of the partition.
隔壁表面または/および内部に形成した電極は、表示(維持)電極としても用いることができるし、種火放電用のプライミング電極やアドレス電極としても用いることができる。隔壁の表面または/および内部に形成した電極を表示(維持)電極として用いた場合について、以下に説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。 The electrode formed on the surface and / or inside of the partition wall can be used as a display (sustain) electrode, and can also be used as a priming electrode and an address electrode for pilot discharge. The case where an electrode formed on the surface and / or inside the partition is used as a display (sustain) electrode will be described below. However, the present invention is not limited to this.
本発明のPDPは面放電型ではなく対向放電型となる。そのため、面放電型と比較して電極の電極間ギャップを大きくするこが可能で、放電路を長くとることができる。すなわち、陽光柱の生成確率が高くなり、紫外線発生効率、発光効率を高くすることができる。また、これまでの対向放電型PDPの多くは前面基板と背面基板間の対向放電であり、放電路長(=電極間ギャップ)を大きくするためには、より高い隔壁を形成する必要があり、アスペクト比が大きくなり加工精度、歩留まりといった点から現実的ではなかった。また、前面側基板と背面側基板の対向放電でアドレスを行う場合、電極間ギャップが長くなり過ぎ、アドレス電圧が高くなり高耐圧ICが必要になりコストが増加してしまう問題もある。このため、対向放電型での電極間ギャップは100〜150μm程度であった。 The PDP of the present invention is not of the surface discharge type but of the opposed discharge type. Therefore, the gap between the electrodes can be increased as compared with the surface discharge type, and the discharge path can be lengthened. That is, the generation probability of the positive column is increased, and the efficiency of generating ultraviolet light and the efficiency of emitting light can be increased. Further, most of the conventional counter discharge type PDPs are counter discharges between the front substrate and the rear substrate, and in order to increase the discharge path length (= gap between electrodes), it is necessary to form a higher partition wall. The aspect ratio became large and it was not realistic in terms of processing accuracy and yield. In addition, when addressing is performed by facing discharge between the front substrate and the rear substrate, the gap between the electrodes becomes too long, the address voltage becomes high, and a high breakdown voltage IC is required. Therefore, the gap between the electrodes in the opposed discharge type was about 100 to 150 μm.
本発明の構造における電極間ギャップは、放電セルの間隔と同程度にすることができる。例えば、42インチのVGAクラスで0.5mm程度、XGAクラスで0.3mm程度である。したがって隔壁を高くすることなく、従来の対向放電型に比べて電極間ギャップを2〜3倍以上に長くすることが可能である。また、従来の面放電型と比べても、電極間ギャップは3〜5倍程度にもなる。すなわち、放電のモードが陽光柱により近くなり、紫外線発生効率を高く、すなわち発光効率を高くすることができる。さらに対向放電となるので、前面側基板への紫外線損失や隔壁への荷電粒子の損失が低下するので、こういった観点からも発光効率が高くなる。 The gap between the electrodes in the structure of the present invention can be substantially equal to the interval between the discharge cells. For example, it is about 0.5 mm for a 42-inch VGA class and about 0.3 mm for an XGA class. Therefore, the gap between the electrodes can be made two to three times or more longer than that of the conventional opposed discharge type without making the partition wall high. In addition, the gap between the electrodes is about 3 to 5 times that of the conventional surface discharge type. That is, the mode of discharge becomes closer to the positive column, and the efficiency of generating ultraviolet light can be increased, that is, the emission efficiency can be increased. Further, since the opposing discharge is caused, the loss of ultraviolet rays to the front substrate and the loss of charged particles to the partition walls are reduced, so that the luminous efficiency is increased from such a viewpoint.
また、従来の前面側基板と背面側基板間の対向放電型では、電極間ギャップ、隔壁高さ、放電空間体積を独立に変えることはできなかったが、本発明の構造では、電極間ギャップを一定にしたまま、隔壁高さを高くすることで放電空間を広くできるので、放電開始電圧を変化させることなく、紫外線発生効率を大きくしたり荷電粒子の拡散損失を少なくするセル設計の自由度が増す。 Also, in the conventional opposed discharge type between the front substrate and the rear substrate, the electrode gap, partition height, and discharge space volume could not be independently changed, but in the structure of the present invention, the electrode gap was reduced. The discharge space can be widened by increasing the height of the partition walls while keeping the height constant.Therefore, without changing the firing voltage, the degree of freedom in cell design to increase the UV generation efficiency and reduce the diffusion loss of charged particles is increased. Increase.
さらに、電極を前面側基板に形成する必要がなくなるので、透明誘電体層、透明電極層が不要となり、20〜30%ロスしていた蛍光体発光が有効に表示光として利用できるようになる。さらに、これらを形成しなくて済むので、前面側基板の作成工程が大幅に低減できる。また、前面側基板にはバス電極も不要となるので、1画素の開口率も大きくすることができる。さらに、これまでバス電極に照射された蛍光体からの発光はほとんどが吸収されて表示は利用されていなかったが、これを有効に利用できるようになるので高輝度化できる。 Further, since it is not necessary to form an electrode on the front substrate, a transparent dielectric layer and a transparent electrode layer are not required, and the phosphor emission, which has been lost by 20 to 30%, can be effectively used as display light. Furthermore, since these do not need to be formed, the number of steps for forming the front substrate can be greatly reduced. Further, the bus electrode is not required on the front substrate, so that the aperture ratio of one pixel can be increased. Further, the light emitted from the phosphor irradiated on the bus electrode has been mostly absorbed so far, and the display has not been used. However, since the display can be used effectively, the brightness can be increased.
本発明の前面側基板として究極的には、ガラス基板のみでも可能であるが、ガラス基板表面の耐スパッタ性を向上する目的でガラス基板上に保護膜(例えば、MgO膜)を形成したり、明室コントラストを向上させる目的でブラックストライプやブラックマトリックスを形成してもよい。また、表示セルのアドレス電圧やマージンを改善する目的で、前面側にアドレス電極を形成することもできる。 Ultimately, a glass substrate alone is possible as the front substrate of the present invention, but a protective film (for example, an MgO film) is formed on the glass substrate for the purpose of improving the sputter resistance of the glass substrate surface, A black stripe or a black matrix may be formed for the purpose of improving the bright room contrast. Further, for the purpose of improving the address voltage and margin of the display cell, an address electrode can be formed on the front surface side.
さらに、これまでの前面側基板での構造や作成プロセスでは作成することが難しかった機能付与も容易となりやすかったり、材料、プロセス的な自由度が広がる。例えば、放電で発生する紫外線をより一層有効に利用する紫外線反射層を形成したり、蛍光体からの発光光をパネルの外に取り出しやすくするための光学薄膜層を形成するなどである。これまでは、透明誘電体層が形成される場合、その厚みや屈折率などの光学的因子から決定されるのではなく、絶縁耐圧、誘電率といった電気的な観点や、焼成温度と熱軟化特性といったプロセス性とのバランスで決定されていた。しかし、本発明では、これらの制約が無くなるので、屈折率および光学的膜厚といった観点で材料設計が可能となる。 Further, it is easy to provide functions which are difficult to produce by the structure and the production process on the front side substrate, and the degree of freedom in materials and processes is widened. For example, there is a method of forming an ultraviolet reflective layer that more effectively utilizes ultraviolet rays generated by electric discharge, and a method of forming an optical thin film layer for facilitating extraction of light emitted from a phosphor out of a panel. Until now, when a transparent dielectric layer was formed, it was not determined by optical factors such as its thickness or refractive index, but rather from an electrical viewpoint such as dielectric strength and dielectric constant, as well as firing temperature and thermal softening characteristics. It was determined in balance with processability. However, in the present invention, since these restrictions are eliminated, material design becomes possible in terms of the refractive index and the optical film thickness.
また、前面側基板を作成する焼成や蒸着といった高温プロセスが不要となるので、使用するガラスなどの基板を薄くすることも可能となり、パネルの重量を軽減することも可能と考えられる。 Further, since a high-temperature process such as baking or vapor deposition for forming the front substrate is not required, it is possible to reduce the thickness of the substrate such as glass to be used, and it is also possible to reduce the weight of the panel.
また、さらに隔壁形状として格子状、ワッフル構造、ミアンダ構造と言った複雑な構造を採用した際、前面側基板と背面側基板の封着・張り合わせ工程では位置精度の高いステージやCCDカメラを搭載した装置が必要である。なぜならば、前面側基板に形成された電極は、隔壁とは別々の基板上に形成されるからである。さらに、パネル化の最終工程での加工ミスは非常に大きな生産ロスに繋がるので、低コスト化の妨げになっている。本発明のPDP部材では、ひとつの基板上に隔壁、および隔壁の表面および/または内部に配してある電極が形成されるのが好ましい。より好ましくは、基板上にアドレス電極、隔壁、および隔壁の表面および/または内部に配してある電極、蛍光体を形成することが好ましい。なぜならば、複雑なセル構造の場合でも、1つの基板上に電極と隔壁を形成するので封着、張り合わせ工程での歩留まりを向上することができる。さらに、高い張り合わせ精度が必要ないので、張り合わせ工程が簡便かつ低コストの装置を用いて可能である。また、1枚の基板上に主要なパターンを作り込めるので、画素、すなわち放電セルのユニフォーミティーが高くなり、大型基板内での場所による放電開始電圧、アドレス電圧などの差が生じにくく、電圧マージンが広くなるので電圧設定を低めに設定できたり、信頼性が向上するといったメリットもある。 In addition, when a complicated structure such as a lattice shape, a waffle structure, and a meander structure was adopted as the partition shape, a stage and a CCD camera with high positional accuracy were mounted in the sealing and bonding process of the front substrate and the rear substrate. Equipment is required. This is because the electrodes formed on the front substrate are formed on a substrate separate from the partition walls. Further, a processing error in the final step of paneling leads to a very large production loss, which hinders cost reduction. In the PDP member of the present invention, it is preferable that a partition and an electrode disposed on the surface and / or inside of the partition are formed on one substrate. More preferably, it is preferable to form an address electrode, a partition, an electrode and a phosphor disposed on the surface and / or inside the partition on the substrate. Because, even in the case of a complicated cell structure, the electrodes and the partition are formed on one substrate, so that the yield in the sealing and bonding steps can be improved. Further, since high bonding accuracy is not required, the bonding step can be performed using a simple and low-cost apparatus. In addition, since a main pattern can be formed on one substrate, uniformity of pixels, that is, discharge cells is increased, and a difference in a discharge starting voltage, an address voltage, and the like depending on a location in a large substrate is hardly generated. As a result, there are advantages that the voltage setting can be set lower and the reliability is improved.
本発明のPDP部材においては、電極が、主電極と主電極から互いに向き合う方向に張り出した補助電極を有することが好ましい。これにより、放電開始電圧を下げ、安定な放電を行うことができる。放電開始電圧は、パッシェンの法則(Vf=f(p・d)、Vf:放電開始電圧、p:放電ガス圧、d:電極間距離)により決定される。Vfはp・dの積に対して極小を示す。電極を隔壁の表面および/または内部に配する場合、前述の通り面放電に比べて電極間距離が長くなり、放電開始電圧が高くなってしまうが、例えば図4に示すように、主電極から互いに向き合う方向に張り出した補助電極を設けることで、放電開始電圧を低くすることができる。なぜならば、補助電極を設けることで、表示電極間隔で部分的に距離を小さくできるので、この補助電極間ギャップ(放電ギャップ)で放電が生じやすくなり、これをトリガーとして主電極間隔の広い放電に繋がる。 In the PDP member of the present invention, it is preferable that the electrode has a main electrode and an auxiliary electrode projecting from the main electrode in a direction facing each other. This makes it possible to lower the discharge starting voltage and perform stable discharge. The discharge start voltage is determined by Paschen's law (Vf = f (pd), Vf: discharge start voltage, p: discharge gas pressure, d: distance between electrodes). Vf shows a minimum with respect to the product of p · d. When the electrodes are arranged on the surface and / or inside of the partition wall, as described above, the distance between the electrodes is longer than in the case of the surface discharge, and the firing voltage is increased. For example, as shown in FIG. By providing the auxiliary electrodes projecting in the directions facing each other, the discharge starting voltage can be reduced. This is because, by providing the auxiliary electrode, the distance can be partially reduced in the interval between the display electrodes, so that a discharge easily occurs in the gap (discharge gap) between the auxiliary electrodes, and this is used as a trigger to generate a discharge with a wide interval between the main electrodes. Connect.
放電開始電圧の低減効果、放電の安定性から、補助電極間ギャップは、50〜800μmであることが好ましい。より好ましく、60〜300μmである。さらにより好ましく、70〜150μmである。補助電極間ギャップが50μmよりも小さい場合、電極間ギャップでの絶縁破壊が生じやすくなる。また、800μmよりも大きい場合、放電開始電圧の低減効果が得にくくなる。 The gap between the auxiliary electrodes is preferably 50 to 800 μm from the viewpoint of the effect of reducing the firing voltage and the stability of the discharge. More preferably, it is 60 to 300 μm. Even more preferably, it is 70 to 150 μm. If the gap between the auxiliary electrodes is smaller than 50 μm, dielectric breakdown in the gap between the electrodes is likely to occur. On the other hand, if it is larger than 800 μm, it is difficult to obtain the effect of reducing the firing voltage.
主電極間ギャップは、作成する放電セルの大きさによるが100〜1000μmであることが好ましい。より好ましくは、150〜650μmである。100μmよりも小さい場合、放電空間が狭くなり過ぎて安定した放電が出来なくなる。1000μmよりも大きい場合、放電開始電圧が実用上大きく成りすぎるからである。 The gap between the main electrodes depends on the size of the discharge cell to be formed, but is preferably 100 to 1000 μm. More preferably, it is 150 to 650 μm. If it is smaller than 100 μm, the discharge space becomes too narrow and stable discharge cannot be performed. If it is larger than 1000 μm, the discharge starting voltage becomes too large for practical use.
また、図4には単純なスリットを入れた構造の補助電極を示してあるが、片側にテーパーしてもよい。すなわち、隣接する放電セル側をテーパーすることによって、隣接の非放電セル(非表示セル)の誤放電を抑えることができる。また、電極間間隔の加工精度の均一性といった点からは、平行なスリット形状が好ましい。 FIG. 4 shows an auxiliary electrode having a simple slit structure, but may be tapered to one side. That is, erroneous discharge of an adjacent non-discharge cell (non-display cell) can be suppressed by tapering the adjacent discharge cell side. Further, a parallel slit shape is preferable from the viewpoint of uniformity of the processing accuracy of the interval between the electrodes.
AC型PDPの場合、電極は絶縁性の材料で被覆することが必要であるが、補助電極を設けた場合、この補助電極を主電極と同様に隔壁の内部に埋め込むか、隔壁の表面に形成し、後で絶縁性の材料で被覆することがよい。補助電極、主電極を隔壁の表面および/または内部に配する場合、隔壁形状は、ストライプ状ではなく、格子状、ワッフル状が好ましい。より好ましくは格子状の隔壁である。なぜならば、水平方向の画素を仕切る隔壁(主隔壁)の表面および/または内部に補助電極の大部分を形成し、垂直方向の画素を仕切るための隔壁(補助隔壁)の表面および/または内部に主電極の大部分を形成すれば、よいからである。ここで、大部分とは、その電極の50%以上を意味する。 In the case of an AC type PDP, it is necessary to cover the electrode with an insulating material. However, when an auxiliary electrode is provided, the auxiliary electrode is buried inside the partition like the main electrode or formed on the surface of the partition. Then, it is preferable to coat later with an insulating material. When arranging the auxiliary electrode and the main electrode on the surface and / or inside of the partition, the partition shape is preferably not a stripe shape but a lattice shape and a waffle shape. More preferably, it is a grid-like partition. This is because most of the auxiliary electrode is formed on the surface and / or inside the partition (main partition) that partitions the pixels in the horizontal direction, and on the surface and / or inside the partition (auxiliary partition) for partitioning the pixels in the vertical direction. This is because it is sufficient to form most of the main electrode. Here, most means 50% or more of the electrode.
また、図3、図4では主電極および補助電極の断面が、高さ(厚み)方向に比べて幅方向に長い場合(図5)を示したが、放電領域をさらに広くするために、図6のようにその断面が幅方向に比べて高さ(厚み)方向が長い電極形状とするのがよい。 FIGS. 3 and 4 show the case where the cross section of the main electrode and the auxiliary electrode is longer in the width direction than in the height (thickness) direction (FIG. 5). As shown in FIG. 6, it is preferable to use an electrode whose cross section is longer in the height (thickness) direction than in the width direction.
“ALIS”方式のPDPを除き、その他のAC型PDPの場合、垂直方向のセルは放電(表示)セルと非放電(非表示)セルが交互に配置している。放電セルと非放電セルの電極間隔を同じにすると両セルとも放電してしまう。そこで、放電セルの透明電極間間隔を隣接の非放電セルのそれよりも短くしてある。本発明のPDPにおいても同様に、放電(表示)セルと非放電(非表示)におけるそれぞれの電極間隔を異なるようにして、表示セルのみを放電させ、垂直方向の隣接セルが放電しないような構造とすることができる。
また、補助電極を設けた場合、隣接セルへの放電干渉を少なくできるので、放電(表示)セルと非放電(非表示)セルの電極間隔の差を小さく、すなわち放電(表示)セルを大きくできる。したがって、1画素あたりの開口率が大きくなり高輝度化できる。
Except for the “ALIS” type PDP, in the case of other AC type PDPs, vertical (discharge) cells and non-discharge (non-display) cells are alternately arranged. If the electrode interval between the discharge cell and the non-discharge cell is the same, both cells are discharged. Therefore, the interval between the transparent electrodes of the discharge cells is made shorter than that of the adjacent non-discharge cells. Similarly, in the PDP of the present invention, the structure is such that only the display cells are discharged and the adjacent cells in the vertical direction are not discharged by making the respective electrode intervals different between the discharge (display) cell and the non-discharge (non-display). It can be.
In addition, when the auxiliary electrode is provided, the interference between discharges in adjacent cells can be reduced, so that the difference in electrode spacing between discharge (display) cells and non-discharge (non-display) cells can be reduced, that is, discharge (display) cells can be enlarged. . Therefore, the aperture ratio per pixel is increased, and high luminance can be achieved.
電極は隔壁の内部および片側面にのみに配されることが好ましい。片側面とは、放電(表示)する放電空間に面している面を指し、隔壁の頂部、底部以外の面である。例えば、図7のようにすることができる。なぜならば、隣接の非放電(非表示)セルへの放電干渉を抑制したり、放電開始電圧を低減できるからである。片側面にある電極は、主電極、補助電極対のいずれか、または双方でもよい。放電開始電圧の低減という観点では、補助電極の一部が片側面に形成されていることが好ましい。 The electrodes are preferably provided only on the inside and one side of the partition. The one side surface refers to a surface facing a discharge space for discharging (displaying), and is a surface other than the top and bottom of the partition. For example, it can be as shown in FIG. This is because discharge interference with adjacent non-discharge (non-display) cells can be suppressed, and the discharge start voltage can be reduced. The electrode on one side may be either the main electrode, the auxiliary electrode pair, or both. From the viewpoint of reducing the firing voltage, a part of the auxiliary electrode is preferably formed on one side.
また、隔壁が反射率の異なる2層以上の複数層で構成されるのが好ましい。反射率の高い層は、隔壁内や背面基板側にこれまで漏れていた蛍光体から発生する可視光を、表示面側に反射させ有効利用することによって、発光効率を上げることができる。ここで、反射率とは、可視領域での全光線(直進線分+拡散成分)反射率を指す。
反射率の差は大きければ大きいほどよいが、40%以上あることが好ましい。より好ましくは50%以上である。さらにより好ましくは60%以上である。例えば、上層が反射率5%、下層が60%(反射率の差が55%)などである。
Further, it is preferable that the partition wall is composed of two or more layers having different reflectances. The layer having a high reflectivity can increase the luminous efficiency by reflecting visible light generated from the phosphor leaked to the inside of the partition wall or the back substrate side to the display surface side and effectively utilizing the visible light. Here, the reflectance refers to the reflectance of all light rays (straight line segments + diffusion components) in the visible region.
The greater the difference in reflectance, the better, but it is preferably 40% or more. It is more preferably at least 50%. Even more preferably, it is 60% or more. For example, the upper layer has a reflectance of 5%, and the lower layer has a reflectance of 60% (the difference in reflectance is 55%).
反射率の低い層が表示面側にあるのが好ましい。反射率の低い層があることによって、表示面側から入射する外光を吸収し、コントラストを向上させることができる。また、外光の反射防止フィルターを可視光の透過率のよいものに変えることができ発光効率を向上させることができる。 It is preferable that a layer having a low reflectance is provided on the display surface side. The presence of the layer having a low reflectance can absorb external light incident from the display surface side and improve the contrast. Further, the anti-reflection filter for external light can be changed to a filter having a high visible light transmittance, so that luminous efficiency can be improved.
表示画素内部にある表示電極対の一部あるいは全てが、ガラス軟化点400〜650℃のガラス(低軟化点ガラス)で覆われているのが好ましい。400〜650℃のガラスを用いることによって、緻密性がよく、気泡の少ない層で電極を覆うことができる。これにより絶縁破壊を少なくし、安定な放電を行うことができる。ガラス軟化点が400℃より低いと有機物の分解前にガラスが軟化するため逆に気泡を形成する要因となる。650℃より高いと焼結不足となりやすく絶縁破壊が起こりやすくなる。 It is preferable that a part or all of the display electrode pair inside the display pixel is covered with glass having a glass softening point of 400 to 650 ° C (glass having a low softening point). By using glass at 400 to 650 ° C., the electrode can be covered with a layer having high density and few bubbles. Thereby, dielectric breakdown can be reduced and stable discharge can be performed. If the glass softening point is lower than 400 ° C., the glass is softened before the decomposition of the organic matter, which is a factor for forming bubbles. If it is higher than 650 ° C., sintering tends to be insufficient, and dielectric breakdown tends to occur.
例えば、PbO−B2O3系の低軟化点ガラスを好ましく用いることが出来る。
焼成時の形状保持性からガラス以外に、SiO2、TiO2、Al2O3、高軟化点ガラス(何加点700℃以上)の材料をフィラー成分として含んでもよい。フィラーの含有量は、低軟化点ガラスの軟化点た被覆層の厚み、焼成温度にもよるが、好ましくは低軟化点ガラス100重量部に対してフィラー1〜40重量部である。より好ましくは2〜15重量部である。
For example, PbO-B 2 O 3 based low-softening point glass can be preferably used.
In addition to glass from the viewpoint of shape retention during firing, a material such as SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , or a glass having a high softening point (any additional point of 700 ° C. or more) may be included as a filler component. The content of the filler depends on the thickness of the coating layer having the softening point of the low softening point glass and the firing temperature, but is preferably 1 to 40 parts by weight of the filler with respect to 100 parts by weight of the low softening point glass. More preferably, it is 2 to 15 parts by weight.
隔壁表面の一部あるいは全てが絶縁性の材料で被覆されているのが好ましい。絶縁性の材料で被覆することで、電極の絶縁破壊を抑制しやすくでき、より信頼性の高いPDPを作製できるからである。絶縁性の材料で被覆しないと、表示電極の絶縁破壊が生じやすい傾向にあり、過電流による駆動回路の破壊が起こりやすくなる傾向にある。 It is preferable that a part or all of the partition wall surface is coated with an insulating material. By coating with an insulating material, it is possible to easily suppress the dielectric breakdown of the electrode, and to manufacture a more reliable PDP. Unless covered with an insulating material, the display electrode tends to cause dielectric breakdown, and the drive circuit tends to break due to overcurrent.
絶縁性の材料としては、MgO、MgGd2O4、BaGd2O4、Sr0.6Ca0.4Gd2O4、Ba0.6Sr0.4Gd2O4、SiO2、TiO2、Al2O3、前述の低軟化点ガラスの群から選ばれる少なくとも1種以上を含むのが好ましい。
As the insulating material, MgO, MgGd 2 O 4, BaGd 2
また、蛍光体の一部あるいは全てが絶縁性の材料で被覆されていることが好ましい。放電による蛍光体の輝度低下、色度変化などを少なくできるのでより長寿命なディスプレイを提供できるからである。絶縁性の材料としては、上述の材料を用いることができる。好ましくはMgOを70%以上含むことである。さらに好ましくはMgOを90%以上含むことである。MgOは放電による耐スパッタ性に優れると同時に2次電子放出係数が高いので、放電開始電圧を低くしたり放電の安定性を高めることが出来るからである。さらに、できるだけPDPの励起紫外線の透過性が良好である材料が好ましい。例えば、MgF2、CaF2、BaF2などのフッ化物などが挙げられる。好ましくは、MgOとMgF2の混合材料が好ましく用いることができる。 Further, it is preferable that part or all of the phosphor is coated with an insulating material. This is because it is possible to reduce a decrease in luminance and a change in chromaticity of the phosphor due to the discharge, thereby providing a display having a longer life. The above-described materials can be used as the insulating material. Preferably, it contains 70% or more of MgO. More preferably, it contains 90% or more of MgO. This is because MgO is excellent in spatter resistance due to discharge and has a high secondary electron emission coefficient, so that the firing voltage can be lowered and the stability of discharge can be increased. Further, a material that has as good a transmittance of the excitation ultraviolet light of the PDP as possible is preferable. For example, fluorides such as MgF 2 , CaF 2 , and BaF 2 can be used. Preferably, a mixed material of MgO and MgF 2 can be preferably used.
次に、本発明のプラズマディスプレイ用部材ならびプラズマディスプレイの作製手順を図4を用いて説明する。ここではAC型プラズマディスプレイを例にその作成手順を説明するが、必ずしもこの構造には限定されない。 Next, a manufacturing procedure of the plasma display member and the plasma display of the present invention will be described with reference to FIG. Here, an AC type plasma display will be described as an example of a manufacturing procedure, but the present invention is not necessarily limited to this structure.
最初にPDP部材の作製方法を説明する。
本発明のPDP用部材としての基板としては、ソーダガラスの他にPDP用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“PD200”や日本電気硝子社製の“PP8”を用いることができる。
First, a method for manufacturing a PDP member will be described.
As the substrate as the PDP member of the present invention, "PD200" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. or "PP8" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., which is a heat-resistant glass for PDP, can be used in addition to soda glass.
ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を放電セルのピッチにてストライプ状に形成する。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、通常400〜600℃に加熱・焼成して電極パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属を蒸着した後に、レジストを塗布し、レジストをフォトマスクを用いてパターン露光・現像した後にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることができる。
さらに、放電の安定化のためにアドレス電極層の上に誘電体層を設けても良い。
Address electrodes are formed on a glass substrate in stripes at a pitch of the discharge cells using a metal such as silver, aluminum, chromium, or nickel. As a method of forming, a method of pattern-printing a metal paste containing these metal powders and an organic binder as main components by screen printing, or applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder, It is possible to use a photosensitive paste method in which pattern exposure is performed using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a developing step, and the electrode pattern is formed by heating and baking usually at 400 to 600 ° C. In addition, after depositing a metal such as chromium or aluminum on a glass substrate, a resist is applied, the resist is subjected to pattern exposure and development using a photomask, and then an etching method is used to remove an unnecessary portion of the metal by etching. Can be.
Further, a dielectric layer may be provided on the address electrode layer for stabilizing discharge.
アドレス電極を形成したガラス基板上に、隔壁、隔壁の表面および/または内部に表示電極対を配する工程について説明する。
まず、アドレス電極を形成した基板上に、電極を形成する高さまでの下層の隔壁を形成する。隔壁の作製方法としては、サンドブラスト法、型転写法、フォトリソグラフィー法等が挙げられる。本発明に使用する隔壁の材料としては特に限定されず、公知の材料が適用できる。隔壁形状としては、特に限定されないが、補助電極を形成する場合、格子状であることが好ましい。
The step of arranging the display electrode pairs on the partition wall and the surface and / or inside of the partition wall on the glass substrate on which the address electrode is formed will be described.
First, a lower partition wall is formed on the substrate on which the address electrodes are formed up to the height at which the electrodes are formed. Examples of a method for forming the partition include a sand blast method, a mold transfer method, and a photolithography method. The material of the partition used in the present invention is not particularly limited, and a known material can be applied. The partition shape is not particularly limited, but is preferably a grid shape when forming the auxiliary electrode.
次に電極を下層の隔壁の上に形成する。電極の作製方法としてはアドレス電極の作製方法で述べた方法と同様な公知材料・方法を用いることができる。隔壁の表面に電極を形成する場合は、後述の絶縁性材料の被覆工程や蛍光体の形成を行うが、隔壁の内部に電極を形成する場合は続いて、下層の隔壁の上に形成された電極の上にさらに上層の隔壁を形成する。 Next, an electrode is formed on the lower partition. As a manufacturing method of the electrode, a known material and method similar to the method described in the manufacturing method of the address electrode can be used. In the case of forming an electrode on the surface of the partition, a coating step of an insulating material and formation of a phosphor described below are performed, but in the case of forming an electrode inside the partition, the electrode is subsequently formed on the lower partition. An upper partition is further formed on the electrode.
このように下層の隔壁、電極、上層の隔壁の順に形成することで電極を隔壁の内部に形成することができる。アスペクト比の高い隔壁を形成する場合の加工精度、均一性といった点から隔壁の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましい。また、電極、特に補助電極の電極間間隔の均一性の高さから、電極の作製方法としても、同様にフォトリソグラフィー法が好適である。 By forming the lower partition, the electrode, and the upper partition in this order, the electrode can be formed inside the partition. A photolithography method is preferred as a method for forming the partition walls in terms of processing accuracy and uniformity when forming a partition wall having a high aspect ratio. In addition, the photolithography method is also suitable as a method for manufacturing an electrode because of the high uniformity of the interval between the electrodes, particularly the auxiliary electrodes.
フォトリソグラフィー法による隔壁の形成方法を説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。隔壁は公知の感光性ガラスペーストを用いて形成させることができる。感光性ガラスペーストは、例えば感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも1種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤等の添加成分と、低融点ガラスと、フィラーとして高融点ガラスを少なくとも各1種類ずつ含む。これら各種成分を所定の組成になるよう調合した後、3本ローラーや混練機で均質に混合分散し、感光性ガラスペーストを作製することができる。 A method for forming a partition by photolithography will be described, but the present invention is not limited to this. The partition can be formed using a known photosensitive glass paste. The photosensitive glass paste contains, for example, a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer, and further, if necessary, a binder, a photopolymerization initiator, an ultraviolet light absorber, Additives such as sensitizers, sensitization aids, polymerization inhibitors, plasticizers, thickeners, antioxidants, dispersants, organic or inorganic suspending agents and leveling agents, low melting glass, and fillers At least one type of high melting point glass is included. After these various components are blended so as to have a predetermined composition, the mixture is uniformly mixed and dispersed with a three-roller or a kneader to produce a photosensitive glass paste.
ペースト粘度は、ガラス粉末、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤等の添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は2000〜200000cps(センチポイズ)である。例えば、基板への塗布をスリットダイコーター法やスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合は、200〜5000cpsが好ましい。 The paste viscosity is appropriately adjusted by the addition ratio of a glass powder, a thickener, an organic solvent, a plasticizer, a suspending agent, and the like, and the range is 2000 to 20000 cps (centipoise). For example, when the coating on the substrate is performed by a spin coating method other than the slit die coater method or the screen printing method, 200 to 5000 cps is preferable.
ガラス、セラミックス、ポリマー製フィルム等からなる基板上に、作製した感光性ガラスペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度によって調整できる。 On the substrate made of glass, ceramics, polymer film, or the like, the prepared photosensitive glass paste is applied over the entire surface or partially applied. As a coating method, a method such as screen printing, a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. The coating thickness can be adjusted by the number of coatings, the mesh of the screen, and the viscosity of the paste.
ここで、ペーストを基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理を行うことができる。
塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は、通常のフォトリソグラフィー法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光等で直接描画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板等の基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
Here, when applying the paste on the substrate, surface treatment of the substrate can be performed in order to increase the adhesion between the substrate and the coating film.
After the application, exposure is performed using an exposure device. The exposure is generally performed by a mask exposure using a photomask, as is performed by a normal photolithography method. As the mask to be used, either a negative type or a positive type is selected depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with a red or blue laser beam or the like without using a photomask may be used. As the exposure device, a stepper exposure device, a proximity exposure device, or the like can be used. In the case of performing a large-area exposure, after applying a photosensitive paste on a substrate such as a glass substrate, and performing the exposure while transporting, it is possible to expose a large area with an exposure machine having a small exposure area. it can.
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して現像を行うが、この場合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行う。
隔壁パターンを含む基板の焼成工程は焼成炉により行う。焼成雰囲気や温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気下で焼成する。焼成温度は400〜610℃で行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。また、以上の工程中に乾燥、予備反応の目的で、50〜300℃加熱工程を導入してもよい。
After the exposure, development is carried out by utilizing the difference in solubility between the photosensitive portion and the non-photosensitive portion in the developing solution.
The step of firing the substrate including the partition pattern is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. The firing temperature is 400 to 610 ° C. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used. In addition, a heating step of 50 to 300 ° C. may be introduced during the above steps for the purpose of drying and preliminary reaction.
次に、フォトリソグラフィー法で表示電極対を形成する方法を説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。表示電極対は、公知の感光性電極ペーストを用いて形成させることができる。感光性電極ペーストとして、例えばAu、Ni、Ag、Pd、Pt、Al、Crなどの導電性の金属粉末および感光性有機成分を主成分とするペーストを用いることにより電極形成のための薄膜パターンを形成することができる。 Next, a method of forming a display electrode pair by photolithography will be described, but the present invention is not limited to this. The display electrode pair can be formed using a known photosensitive electrode paste. As a photosensitive electrode paste, for example, a conductive metal powder such as Au, Ni, Ag, Pd, Pt, Al, and Cr and a paste containing a photosensitive organic component as a main component are used to form a thin film pattern for electrode formation. Can be formed.
感光性金属ペーストを下層の隔壁上に一括塗布した後、所望のパターンを得るためのマスクを介して活性光線を照射する。活性光線の照射には、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で現像処理を行う。
次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
After the photosensitive metal paste is applied on the lower partition walls at a time, actinic rays are irradiated through a mask for obtaining a desired pattern. For irradiation with actinic rays, a proximity exposure machine or the like can be used. In the case of performing exposure in a large area, a large area can be exposed by an exposure machine having a small exposure area by applying a photosensitive paste on a substrate and then performing exposure while transporting the photosensitive paste.
After the exposure, development processing is performed by an immersion method, a spray method, a brush method, or the like, utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion in a developing solution.
Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere such as air, nitrogen, or hydrogen. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used.
下層の隔壁、表示電極対、上層の隔壁を形成する各工程において、その都度焼成を行ってもよいが、さらなる低コスト化のために上層の隔壁を形成した後に最後に一括で焼成したり、下層の隔壁を一度焼成しておき、電極、上層の隔壁を一括で焼成したり、アドレス電極と隔壁を一括で焼成してもよい。
電極と隔壁を一括で焼成する場合、断線、亀裂の抑制のために、電極を形成後に熱によりキュアすることが好ましい。キュアする条件としては、140〜300℃の温度範囲で3〜30分の時間範囲が好ましい。より好ましくは、150〜250℃の温度範囲で5〜30分の時間範囲である。ここでいうキュアとは、約120℃以下で行われる単なる乾燥を含まない。キュアには熱風乾燥機やIR乾燥機を用いることができる。また、隔壁や電極を形成するペーストには、できるだけ焼成応力の少ないものを用いた方がよい。焼成応力を低減するためにウレタン化合物を添加することができる。
In each step of forming the lower partition, the display electrode pair, and the upper partition, baking may be performed each time, but after forming the upper partition for further cost reduction, the final baking is performed, The lower partition may be fired once, and the electrode and the upper partition may be fired collectively, or the address electrode and the partition may be fired collectively.
When the electrode and the partition are fired at one time, it is preferable to cure by heat after forming the electrode in order to suppress disconnection and cracks. The curing condition is preferably a temperature range of 140 to 300 ° C. and a time range of 3 to 30 minutes. More preferably, it is a time range of 5 to 30 minutes at a temperature range of 150 to 250 ° C. Here, the curing does not include mere drying performed at about 120 ° C. or lower. For curing, a hot air dryer or an IR dryer can be used. Further, it is preferable to use a paste having as small a firing stress as possible as the paste for forming the partition walls and the electrodes. A urethane compound can be added to reduce the firing stress.
ウレタン化合物として、例えば、下記一般式(1)で示される化合物が挙げられる。
R1−(R4−R3)n−R4−R2 (1)
(R1およびR2はエチレン性不飽和基を含む置換基、水素、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびヒドロキシアラルキル基からなる群から選ばれたものであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。R3はアルキレンオキサイド基またはアルキレンオキサイドオリゴマー、R4はウレタン結合を含む有機基である。nは1〜10の自然数)
このようなウレタン化合物は、エチレンオキサイド単位を含むことが好ましい。より好ましくは、一般式(1)中、R3がエチレンオキサイド単位(以下、EOと示す)とプロピレンオキサイド単位(以下、POと示す)を含むオリゴマーであることであり、かつ、該オリゴマー中のEO含有量が8〜70重量%の範囲内であることである。EO含有量が70重量%以下であることにより、柔軟性がさらに向上し、焼成応力を小さくできるため、欠陥を効果的に抑制できる。さらに、熱分解性が向上し、隔壁形成後の焼成工程において、焼成残渣が発生しにくくなる。また、EO含有量が8%以上であることにより、他の有機成分との相溶性が向上する。
Examples of the urethane compound include a compound represented by the following general formula (1).
R 1- (R 4 -R 3 ) n -R 4 -R 2 (1)
(R 1 and R 2 are each selected from the group consisting of a substituent containing an ethylenically unsaturated group, hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group and a hydroxyaralkyl group, and R 3 is an alkylene oxide group or an alkylene oxide oligomer, R 4 is an organic group containing a urethane bond, and n is a natural number of 1 to 10.)
Such a urethane compound preferably contains an ethylene oxide unit. More preferably, in the general formula (1), R 3 is an oligomer containing an ethylene oxide unit (hereinafter, referred to as EO) and a propylene oxide unit (hereinafter, referred to as PO), and The EO content is in the range of 8 to 70% by weight. When the EO content is 70% by weight or less, flexibility can be further improved and firing stress can be reduced, so that defects can be effectively suppressed. Further, the thermal decomposability is improved, and a firing residue is less likely to be generated in a firing step after formation of the partition walls. When the EO content is 8% or more, the compatibility with other organic components is improved.
また、ウレタン化合物が炭素−炭素二重結合を有することも好ましい。ウレタン化合物の炭素−炭素二重結合が他の架橋剤の炭素−炭素二重結合と反応して架橋体の中に含有されることにより、さらに重合収縮を抑制することができる。 It is also preferable that the urethane compound has a carbon-carbon double bond. When the carbon-carbon double bond of the urethane compound reacts with the carbon-carbon double bond of another crosslinking agent and is contained in the crosslinked product, polymerization shrinkage can be further suppressed.
本発明で好ましく用いられるウレタン化合物の具体例としては、UA−2235PE(分子量18000,EO含有率20%)、UA−3238PE(分子量19000,EO含有率10%)、UA−3348PE(分子量22000,EO含有率15%)、UA−5348PE(分子量39000,EO含有率23%)(以上、新中村化学(株)製)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物は混合して用いてもよい。
ウレタン化合物の含有量は、ペースト中の0.1〜20重量%であることが好ましい。含有量を0.1重量%以上とすることで、適切なはがれ抑制の効果が得られる。20重量%を超えると、有機成分と無機微粒子の分散性が低下し、欠陥のが生じやすくなる。
Specific examples of the urethane compound preferably used in the present invention include UA-2235PE (molecular weight 18,000,
The content of the urethane compound is preferably 0.1 to 20% by weight in the paste. When the content is 0.1% by weight or more, an effect of appropriately controlling peeling can be obtained. If the content exceeds 20% by weight, the dispersibility of the organic component and the inorganic fine particles decreases, and defects tend to occur.
このように下層の隔壁、電極、上層の隔壁を順次形成する場合を説明したが、下層の隔壁を形成するための隔壁ペーストを塗布・乾燥した後露光し、現像せずに続けて電極を塗布、乾燥、キュア、現像により形成し(隔壁ペーストと比較して電極ペーストは現像時間が非常に早いので、隔壁ペーストの現像がほとんど進まないうちに、表示電極対を形成できる)、さらに続けて上層の隔壁を形成するための隔壁ペーストを塗布・乾燥し、上層と下層の隔壁を一括でパターン形成(サンドブラスト法の場合では研磨砂により切削作業を、フォトリソグラフィー法の場合では現像作業を指す)を行ってもよい。 As described above, the case where the lower partition, the electrode, and the upper partition are sequentially formed is described. However, the partition paste for forming the lower partition is applied, dried, exposed, and then the electrode is continuously applied without development. , Drying, curing, and development (the electrode paste has a much faster development time than the barrier rib paste, so the display electrode pair can be formed before the development of the barrier rib paste progresses). Apply and dry the barrier rib paste to form the barrier ribs, and pattern the upper and lower barrier ribs collectively (in the case of the sandblasting method, the cutting operation is performed using abrasive sand; in the case of the photolithography method, the developing operation is performed). May go.
上層の隔壁を形成した後に、パネル化後の真空排気の効率をよくするために、前面側基板とのクリアランスを確保するための隔壁をさらに設けてもよい。このクリアランス用隔壁もまた、上層と下層とともに一括してパターン形成を行ってもよい。 After the upper partition is formed, a partition for securing a clearance from the front-side substrate may be further provided in order to improve the efficiency of evacuation after paneling. This clearance partition may also be patterned together with the upper and lower layers.
次に、隔壁の表面に電極を形成した場合や隔壁片側面に電極を形成した場合では、放電空間に晒される電極の表面を絶縁性の材料で被覆してもよい。被覆の方法は特に限定されず公知の方法が適用できる。例えば、薄膜状態での膜の均一性の観点からはスパッタ法、真空蒸着法が好適である。低コストといった観点からは絶縁性の材料とバインダーを含む絶縁性ペーストを塗布する、スクリーン印刷法、ディスペンサー法、感光性ペースト法が好ましい。被覆層の厚みは特に限定されないが、0.5〜50μmが好ましい。より好ましくは、2〜20μmである。0.5μmよりも薄い場合は電気的絶縁の機能が発現しにくいからである。また、50μmよりも厚い場合は、放電セルの放電空間が狭く成りすぎて輝度が低下する傾向にあるからである。
例えば、低軟化点ガラスで被覆する場合、低軟化点ガラスフリット、有機バインダー(エチルセルロース系やアクリル系樹脂など)、溶媒(例えば、テルピネオールなど)を3本ロールで混練したペーストを用いることが出来る。各組成は、被覆層の厚み、塗布条件などにより適宜調整できる。
Next, in the case where an electrode is formed on the surface of the partition wall or the electrode is formed on one side surface of the partition wall, the surface of the electrode exposed to the discharge space may be covered with an insulating material. The coating method is not particularly limited, and a known method can be applied. For example, from the viewpoint of film uniformity in a thin film state, a sputtering method and a vacuum evaporation method are preferable. From the viewpoint of low cost, a screen printing method, a dispenser method, and a photosensitive paste method in which an insulating paste containing an insulating material and a binder is applied are preferable. The thickness of the coating layer is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 50 μm. More preferably, it is 2 to 20 μm. If the thickness is smaller than 0.5 μm, the function of electrical insulation is hardly exhibited. On the other hand, when the thickness is larger than 50 μm, the discharge space of the discharge cell becomes too narrow, and the luminance tends to decrease.
For example, in the case of coating with a low softening point glass, a paste obtained by kneading a low softening point glass frit, an organic binder (e.g., ethylcellulose or acrylic resin), and a solvent (e.g., terpineol) with three rolls can be used. Each composition can be appropriately adjusted depending on the thickness of the coating layer, application conditions, and the like.
樹脂成分除去のための焼成は、使用する樹脂が十分に脱バインダーする温度で行うのがよい。樹脂にセルロース系樹脂を用いた場合では、例えば450〜650℃である。アクリル系樹脂を用いた場合では、430〜650℃である。焼成温度が低すぎると樹脂成分が残存しやすく、高すぎるとガラス基板に歪みが導入され割れが生じてしまう。 The baking for removing the resin component is preferably performed at a temperature at which the resin to be used is sufficiently debindered. In the case where a cellulosic resin is used as the resin, the temperature is, for example, 450 to 650 ° C. When an acrylic resin is used, the temperature is 430 to 650 ° C. If the firing temperature is too low, the resin component tends to remain, while if it is too high, strain is introduced into the glass substrate and cracks occur.
アドレス電極、隔壁、表示電極対を形成したガラス基板上に、蛍光体ペーストを用いて蛍光体を形成する。感光性蛍光体ペーストを用いたフォトリソグラフィー法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法等によって形成できる。蛍光体の厚みも特に限定されるものではないが、10〜30μm、より好ましくは15〜25μmである。 蛍光体粉末は特に限定されないが、発光強度、色度、色バランス、寿命などの観点から、以下の蛍光体が好適である。青色は2価のユーロピウムを賦活したアルミン酸塩蛍光体(例えば、BaMgAl10O17:Eu)やCaMgSi2O6である。緑色では、パネル輝度の点からZn2SiO4:Mn、YBO3:Tb、BaMg2Al14O24:Eu,Mn、BaAl12O19:Mn、BaMgAl14O23:Mnが好適である。さらに好ましくはZn2SiO4:Mnである。赤色では、同様に(Y、Gd)BO3:Eu、Y2O3:Eu、YPVO:Eu、YVO4:Euが好ましい。さらに好ましくは(Y、Gd)BO3:Euである。
A phosphor is formed using a phosphor paste on a glass substrate on which address electrodes, partition walls, and display electrode pairs are formed. It can be formed by a photolithography method using a photosensitive phosphor paste, a dispenser method, a screen printing method, or the like. Although the thickness of the phosphor is not particularly limited, it is 10 to 30 μm, and more preferably 15 to 25 μm. The phosphor powder is not particularly limited, but the following phosphors are preferred from the viewpoints of emission intensity, chromaticity, color balance, life, and the like. Blue is an aluminate phosphor activated with divalent europium (for example, BaMgAl 10 O 17 : Eu) or CaMgSi 2 O 6 . The green, Zn 2 SiO terms of panel intensity 4: Mn, YBO 3: Tb ,
蛍光体を形成した後に、絶縁性の材料で蛍光体の一部あるいは全てを被覆してもよい。被覆の方法などは、前述の隔壁の被覆のところで記したものと同様であるが、蛍光体を被覆する層の焼成温度は、蛍光体の劣化を最小限にするために550℃以下であることが好ましい。より好ましくは510℃以下である。 After forming the phosphor, part or all of the phosphor may be covered with an insulating material. The coating method and the like are the same as those described above for the coating of the partition walls, but the firing temperature of the layer for coating the phosphor should be 550 ° C. or less to minimize the deterioration of the phosphor. Is preferred. More preferably, it is 510 ° C or lower.
次にプラズマディスプレイの製造方法について説明する。
本発明のPDP用部材とガラス基板を封着後、2枚の基板間隔に形成された空間を加熱しながら真空排気を行った後に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入して封止する。放電電圧と輝度の両面からはXe5〜10%−Ne bal.混合ガスが好ましい。紫外線の発生効率を大きくするために、さらにXeを30%程度まで高くしてもよい。
Next, a method for manufacturing a plasma display will be described.
After sealing the PDP member of the present invention and the glass substrate, the space formed between the two substrates is evacuated while heating, and then a discharge gas composed of helium, neon, xenon or the like is filled. And seal. A mixed gas of Xe5 to 10% -Ne bal. Is preferable from both sides of the discharge voltage and the luminance. Xe may be further increased to about 30% in order to increase the generation efficiency of ultraviolet rays.
最後に、駆動回路を装着し、エージングを行いPDPを作製できる。
ここで、本発明のPDP用部材とガラス基板を用いてPDPを作製する例を示したが、ガラス基板の耐スパッタ性を向上させるためにMgO膜を形成したガラス基板、明室コントラストを向上させるためにブラックストライプやブラックマトリックスを形成したガラス基板と本発明のPDP部材を封着してプラズマディスプレイを作製してもよい。
Finally, a driving circuit is mounted, and aging is performed to produce a PDP.
Here, an example of manufacturing a PDP using the PDP member of the present invention and a glass substrate has been described. However, in order to improve the spatter resistance of the glass substrate, a glass substrate on which an MgO film is formed, and a bright room contrast is improved. For this purpose, a plasma display may be manufactured by sealing a glass substrate on which a black stripe or a black matrix is formed and the PDP member of the present invention.
以下、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。まず、電極の絶縁性評価方法、相対発光効率の測定法について、具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples. However, the present invention is not limited to this. First, a method for evaluating the insulating property of the electrode and a method for measuring the relative luminous efficiency will be specifically described.
(電極の絶縁性評価方法)
封着して放電ガスを封入したPDPの電極に絶縁耐圧測定装置(菊水電子工業株式会社製、“TOS9201”)を用いて60Hzの電圧を徐々に印加していき、絶縁破壊が1セル以上生じた電圧を測定した。絶縁破壊電圧は高ければ高いほどよいが、2kV以上あれば優れており、実用上は1kV以上であれば問題ない。
(Evaluation method of electrode insulation)
A voltage of 60 Hz was gradually applied to the electrodes of the sealed PDP filled with discharge gas using a dielectric strength measuring device (“TOS9201”, manufactured by Kikusui Electronics Co., Ltd.). The measured voltage was measured. The higher the dielectric breakdown voltage, the better, but it is better if it is 2 kV or more, and practically no problem if it is 1 kV or more.
(相対発光効率の測定)
発光効率は次のように求めた。まず、作製したPDPの輝度B(cd/m2)を色彩計ミノルタ製“CS−1000”を用いて測定した。この時のPDPに印加されている電力W(W)をデジタルパワーメータ(横河電機株式会社製、2532)を用いて求めた。そして次式より発光効率ηを求めた。
η=πB・S/W
ただし、Sは作製したPDPの表示部の面積(m2)である。
比較例1の発光効率を100とした時の発光効率を相対発光効率とした。
(Measurement of relative luminous efficiency)
Luminous efficiency was determined as follows. First, the luminance B (cd / m 2 ) of the produced PDP was measured using a colorimeter “CS-1000” manufactured by Minolta. The power W (W) applied to the PDP at this time was determined using a digital power meter (2532, manufactured by Yokogawa Electric Corporation). Then, the luminous efficiency η was obtained from the following equation.
η = πB · S / W
Here, S is the area (m 2 ) of the display portion of the manufactured PDP.
The luminous efficiency when the luminous efficiency of Comparative Example 1 was set to 100 was defined as relative luminous efficiency.
(実施例1)
プラズマディスプレイを以下の手順にて作製した。まず、旭硝子社製“PD200”ガラス基板(13インチ)上に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりアドレス電極パターンを形成した。アドレス電極の幅は150μm、ピッチ360μm、焼成後の厚みは4μmとした。次いで、アドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスクリーン印刷法により20μmの厚みで形成した。しかる後、あらかじめ作製しておいた感光性ガラスペーストをスリットダイコータを用いてアドレス電極パターンおよび誘電体層が形成されたガラス基板上に均一に塗布した。塗布膜厚みは、焼成後に50μmになるように調整した。その後、80℃で1時間保持して乾燥した。
続いて、ネガ型クロムマスクを用いて、上面から超高圧水銀灯で紫外線露光した。
(Example 1)
A plasma display was manufactured according to the following procedure. First, an address electrode pattern was formed on a "PD200" glass substrate (13 inches) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. by a photolithography method using a photosensitive silver paste. The width of the address electrode was 150 μm, the pitch was 360 μm, and the thickness after firing was 4 μm. Next, a dielectric layer having a thickness of 20 μm was formed on the glass substrate on which the address electrodes were formed by a screen printing method. Thereafter, a photosensitive glass paste prepared in advance was uniformly applied on a glass substrate on which an address electrode pattern and a dielectric layer were formed using a slit die coater. The thickness of the coating film was adjusted to 50 μm after firing. Then, it was kept at 80 ° C. for 1 hour and dried.
Subsequently, ultraviolet light was exposed from above using a negative-type chrome mask from an upper surface using an ultrahigh-pressure mercury lamp.
次に、35℃に保持したモノエタノールアミンの0.3重量%水溶液により現像、水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去した後、590℃で焼成して主隔壁と補助隔壁からなる下層の隔壁部分の(格子状の)隔壁を形成した。主隔壁の幅は頂部60μm、底部120μm、ピッチは360μmとした。補助隔壁の幅は、頂部80μm、底部150μ、ピッチは1.08mm(放電セル幅:740μm、非放電セル幅:340μm)とした。 Next, development and washing with a 0.3% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C., washing with water are performed to remove a space portion that has not been photocured, and baking is performed at 590 ° C. to form a main partition and an auxiliary partition. A (lattice-like) partition wall of the lower partition part was formed. The width of the main partition was 60 μm at the top, 120 μm at the bottom, and the pitch was 360 μm. The width of the auxiliary partition was 80 μm at the top and 150 μm at the bottom, and the pitch was 1.08 mm (discharge cell width: 740 μm, non-discharge cell width: 340 μm).
感光性ガラスペーストの組成は次のものを用いた。ガラス粉末60重量部、バインダー(メタクリル酸メチルとメタクリル酸の共重合体(平均分子量25000、酸価102)10重量部、感光性モノマー(テトラプロピレングリコールジアクリレート)10重量部、光重合開始剤(チバガイギー社製、“イルガキュア”369)、γ−ブチロラクトン17重量部。ガラス粉末は、ガラス転移点495℃、軟化点530℃、熱膨張係数75×10-7/℃、密度2.54g/cm3なるものを用いた。
ペーストは、これらの成分からなる混合物を3本ローラー混練機で混練して作製した。
The composition of the photosensitive glass paste used was as follows. 60 parts by weight of glass powder, 10 parts by weight of a binder (copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (average molecular weight 25,000, acid value 102), 10 parts by weight of a photosensitive monomer (tetrapropylene glycol diacrylate), photopolymerization initiator ( "Irgacure" 369, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., 17 parts by weight of γ-butyrolactone The glass powder has a glass transition point of 495 ° C., a softening point of 530 ° C., a coefficient of thermal expansion of 75 × 10 −7 / ° C., and a density of 2.54 g / cm 3. Was used.
The paste was prepared by kneading a mixture of these components with a three-roller kneader.
続いて主隔壁と補助隔壁の下層部分の上に、感光性銀ペーストを印刷した。乾燥後にネガ型クロムマスクを用いて、上面から超高圧水銀灯で紫外線露光した。35℃に保持したモノエタノールアミンの0.3重量%水溶液により現像、水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去した後、590℃で焼成して表示(維持)電極パターンを形成した。表示電極パターンは格子状隔壁の補助隔壁となる隔壁上にストライプ状の主表示電極パターンを、また主隔壁となる隔壁上には一対の主表示電極からギャップ100μmで互いに向き合うように張り出した補助電極パターンとなるように形成した。 Subsequently, a photosensitive silver paste was printed on the lower part of the main partition and the auxiliary partition. After drying, the film was exposed to ultraviolet light from an upper surface using a negative-type chrome mask with an ultra-high pressure mercury lamp. After developing and washing with a 0.3% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. and washing with water to remove a space portion that was not photocured, the resultant was fired at 590 ° C. to form a display (sustain) electrode pattern. The display electrode pattern has a stripe-shaped main display electrode pattern on a partition serving as an auxiliary partition of the lattice partition, and auxiliary electrodes projecting from a pair of main display electrodes on a partition serving as the main partition so as to face each other with a gap of 100 μm. It was formed to have a pattern.
感光性銀ペーストは、バインダー樹脂12重量部、架橋剤6重量部、重合禁止剤3重量部とジプロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を50℃に加熱しながら溶解し、続いて、銀微粒子150重量部および低融点ガラス粉末5重量部)を添加し、混練機を用いて混練して作製した。バインダー樹脂は、アクリル系ポリマー(スチレン/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジルメタクリレートを付加反応したもの。重量平均分子量43000、酸価95)40%γ−ブチロラクトン溶液として用いた。架橋剤はトリメチロールプロパントリアクリレート(日本化薬(株)製、“TPA330”、3官能)を用いた。重合禁止剤は、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノンを用いた。銀粒子は平均粒子径1.5μm、比表面積0.80m2/gのものを用いた。低融点ガラスははガラス転移点460℃、軟化点495℃のものを用いた。 The photosensitive silver paste is prepared by dissolving 12 parts by weight of a binder resin, 6 parts by weight of a crosslinking agent, 3 parts by weight of a polymerization inhibitor and 20 parts by weight of dipropylene glycol monomethyl ether while heating to 50 ° C., and then 150 parts by weight of silver fine particles. And 5 parts by weight of a low melting glass powder) and kneaded using a kneader. The binder resin is an acrylic polymer (a styrene / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer obtained by the addition reaction of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to a carboxyl group. Weight average molecular weight 43000, acid value 95) 40% γ- Used as butyrolactone solution. As a cross-linking agent, trimethylolpropane triacrylate (“TPA330”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trifunctional) was used. As the polymerization inhibitor, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone was used. Silver particles having an average particle size of 1.5 μm and a specific surface area of 0.80 m 2 / g were used. The low melting point glass used had a glass transition point of 460 ° C. and a softening point of 495 ° C.
次に、アドレス電極パターン、誘電体、下層の隔壁、表示電極パターンが形成されたガラス基板上に感光性ガラスペースト1をスリットダイコータを用いて塗布・乾燥した。
続いて、ネガ型クロムマスクを用いて、上面から超高圧水銀灯で紫外線露光した。次に、35℃に保持したモノエタノールアミンの0.5重量%水溶液により現像、水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去した後、焼成して表示電極パターンが隔壁の内部に配されるように上層の隔壁を形成した。上層の隔壁の高さは、70μmとした。上層の隔壁は、下層の隔壁と同様に主隔壁と補助隔壁からなる格子状の隔壁パターンとした。さらに、感光性ガラスペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布した後、乾燥した。同様に露光現像を行い、主隔壁の上にのみ高さ10μmのストライプ上の隔壁パターンを形成して、パネル化時の真空排気コンダクタンスを向上させるようにした。
Next, the
Subsequently, ultraviolet light was exposed from above using a negative-type chrome mask from an upper surface using an ultrahigh-pressure mercury lamp. Next, after developing and washing with a 0.5% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. and washing with water to remove a space portion that has not been photocured, the display electrode pattern is disposed inside the partition wall by baking. The upper partition was formed as described above. The height of the upper partition wall was 70 μm. The upper partition wall was a grid-like partition pattern including a main partition wall and an auxiliary partition wall, similarly to the lower partition wall. Further, a photosensitive glass paste was applied using a screen printing method, and then dried. Exposure and development were performed in the same manner to form a barrier rib pattern on a stripe having a height of 10 μm only on the main barrier ribs, thereby improving the vacuum evacuation conductance when the panel was formed.
そして、蛍光体粉末と有機バインダーを含む蛍光体ペーストをディスペンサーを用いて厚さ20μmになるように塗布した後、500℃で焼成して蛍光体を形成した。このようにしてPDP部材を作製した。
次に、“PD200”ガラス基板上に、500nm厚のMgO膜を電子ビーム蒸着法により形成した。
Then, a phosphor paste containing a phosphor powder and an organic binder was applied to a thickness of 20 μm using a dispenser, and then fired at 500 ° C. to form a phosphor. Thus, a PDP member was manufactured.
Next, an MgO film having a thickness of 500 nm was formed on a “PD200” glass substrate by an electron beam evaporation method.
このように作製したPDP部材とMgO膜が形成されたガラス基板をPbOを主成分とする封着フリットペーストを用いて450℃で封着した。封着には高度な位置合わせ装置は不要で目視で合わせることができた。その後、封着したパネル内部を350℃に加熱しながら真空排気を行い、室温に冷却した後、Xe5%−Ne bal.の混合ガスの封入を行い、封止して10時間のエージング処理を行いPDPを完成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.8kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は150であった。
The PDP member and the glass substrate on which the MgO film was formed were sealed at 450 ° C. using a sealing frit paste containing PbO as a main component. A high-level alignment device was not required for the sealing, and the sealing could be performed visually. Thereafter, the inside of the sealed panel was evacuated while being heated to 350 ° C., cooled to room temperature, and then Xe5% -Ne bal. Was sealed, sealed, and subjected to an aging treatment for 10 hours to complete a PDP.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 1.8 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 150.
(実施例2)
蛍光体を形成した後に電子ビーム蒸着法にてMgO膜(厚み1μm)を形成した以外は、実施例1と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.9kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は162であった。
(Example 2)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 1, except that an MgO film (1 μm in thickness) was formed by electron beam evaporation after forming the phosphor.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 1.9 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 162.
(実施例3)
表示電極パターンを形成した後上層の隔壁は形成せずに、スクリーン印刷法でガラス軟化点458℃のPbO−B2O3系の低軟化点ガラスで表示電極を被覆したこと以外は、実施例1と同様にPDPを作成した。下層の隔壁の高さは80μm、低軟化点ガラスの被覆層の高さは40μmとした。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は143であった。
(Example 3)
Without the upper layer of the partition wall after forming the display electrode pattern formation, except that covering the display electrodes in PbO-B 2 O 3 -based low-softening point glass of the glass softening point 458 ° C. In the screen printing method, Example A PDP was prepared in the same manner as in No. 1. The height of the lower partition wall was 80 μm, and the height of the coating layer of the low softening point glass was 40 μm.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 143.
(実施例4)
蛍光体の形成後のMgO膜を形成しなかった以外は、実施例3と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は155であった。
(Example 4)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 3, except that the MgO film after forming the phosphor was not formed.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 155.
(実施例5)
表示電極パターンを形成した後上層の隔壁は形成せずに、電子ビーム蒸着法でSiO2膜で表示電極を被覆したこと以外は、実施例1と同様にPDPを作成した。下層の隔壁の高さは116μm、SiO2の被覆層の高さは3μmとした。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.1kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は153であった。
(Example 5)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 1, except that the upper electrode partition was not formed after the display electrode pattern was formed, and the display electrode was covered with a SiO 2 film by an electron beam evaporation method. The height of the lower partition wall was 116 μm, and the height of the SiO 2 coating layer was 3 μm.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.1 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 153.
(実施例6)
表示電極パターンの補助電極を、隔壁の片側面(放電セル側)にも形成し、スクリーン印刷法でガラス軟化点458℃のPbO−B2O3系の低軟化点ガラスで表示電極パターン全体を覆うように被覆した。さらに上層の隔壁を形成し、下層の隔壁高さ50μm、被覆層20μm、上層の隔壁高さ50μmとした。これら以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.0kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は192であった。
(Example 6)
An auxiliary electrode of the display electrode pattern, also formed on one side of the partition (discharge cell side), the entire display electrode pattern in PbO-B 2 O 3 -based low-softening point glass of the glass softening point 458 ° C. In the screen printing method Coated to cover. Further, an upper partition wall was formed, and the lower partition wall height was 50 μm, the coating layer was 20 μm, and the upper partition wall height was 50 μm. Except for these, a PDP was prepared in the same manner as in Example 2.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.0 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 192.
(実施例7)
蛍光体を形成した後に電子ビーム蒸着法にてMgO膜(厚み1μm)を形成しなかった以外は、実施例6と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.0kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は189であった。
(Example 7)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 6, except that an MgO film (1 μm thickness) was not formed by electron beam evaporation after forming the phosphor.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.0 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 189.
(実施例8)
補助電極パターンの電極間隔を120μmとした以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.4kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は153であった。
(Example 8)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 2, except that the electrode interval of the auxiliary electrode pattern was 120 μm.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.4 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 153.
(実施例9)
補助電極パターンの電極間隔を80μmとした以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は175であった。
(Example 9)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 2 except that the electrode interval of the auxiliary electrode pattern was 80 μm.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 175.
(実施例10)
放電ガスとしてXe10%−Ne bal.の混合ガスを用いたこと以外は実施例9と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は190であった。
(Example 10)
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 190.
(実施例11)
放電ガスとしてXe15%−Ne bal.の混合ガスを用いたこと以外は実施例9と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は200であった。
(実施例12)
補助隔壁の断面において高さが50μm、幅40μmの表示電極パターンとしたこと以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.8kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は190であった。
(実施例13)
補助隔壁の断面において高さが70μm、幅40μmの表示電極パターンとしたこと以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.8kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は195であった。
(実施例14)
補助電極を設けなかった以外は、実施例2と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.5kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は120であった。
(実施例15)
補助電極を設けず、補助隔壁の断面において高さが50μm、幅40μmの表示電極パターンとしたこと以外は、実施例12と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.5kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は128であった。
(実施例16)
下層の隔壁の形成に、感光性ガラスペースト1にフィラーとしてTiO2ナノ粒子(直径7nm)を5重量%添加したペーストを用い、また、上層の隔壁の形成に感光性ガラスペースト1に黒色顔料(Cu−Fe−Mnの複合酸化物)を3重量%添加したペーストを用いた以外は、実施例9と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.2kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は180であった。
(Example 11)
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 200.
(Example 12)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 2, except that the display electrode pattern had a height of 50 μm and a width of 40 μm in the cross section of the auxiliary partition wall.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 1.8 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 190.
(Example 13)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 2, except that the display electrode pattern had a height of 70 μm and a width of 40 μm in the cross section of the auxiliary partition wall.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 1.8 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 195.
(Example 14)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 2 except that no auxiliary electrode was provided.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.5 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 120.
(Example 15)
A PDP was prepared in the same manner as in Example 12, except that the auxiliary electrode was not provided and the display electrode pattern had a height of 50 μm and a width of 40 μm in the cross section of the auxiliary partition.
When the insulation properties of the display electrode were evaluated, the breakdown voltage was 2.5 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 128.
(Example 16)
For forming the lower partition, a paste obtained by adding 5% by weight of TiO 2 nanoparticles (diameter: 7 nm) as a filler to the
When the insulation properties of the display electrode were evaluated, the breakdown voltage was 2.2 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 180.
(実施例17)
画素ピッチを200μm、アドレス電極幅を90μm、ピッチ200μm、主隔壁幅を頂部45μm、底部70μm、ピッチ200μm、補助隔壁の幅を頂部60μm、底部120μm、ピッチは0.6mm(放電セル幅:320μm、非放電セル幅:280μm)とした以外は、実施例9と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.9kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は140であった。
(Example 17)
Pixel pitch: 200 μm, address electrode width: 90 μm, pitch: 200 μm, main partition width: top 45 μm, bottom 70 μm, pitch 200 μm, auxiliary partition width: top 60 μm, bottom 120 μm, pitch: 0.6 mm (discharge cell width: 320 μm, A PDP was prepared in the same manner as in Example 9, except that the non-discharge cell width was 280 μm.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 1.9 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 140.
(実施例18)
補助電極間の間隔を30μmとした以外は、実施例1と同様にPDPを作製した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は0.8kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、表示ムラがでやすかったが、ほとんどの部分で画像表示できた。相対発光効率は158であった。
(Example 18)
A PDP was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the interval between the auxiliary electrodes was set to 30 μm.
When the insulation properties of the display electrode were evaluated, the breakdown voltage was 0.8 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, display unevenness was easy to occur, but an image could be displayed in most parts. The relative luminous efficiency was 158.
(実施例19)
補助電極間ギャップを1100μmとなるようにセル設計を変更した以外は、実施例1と同様にPDPを作製した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は3.2kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、駆動電圧が高く、3ヶの駆動ICが故障した他、表示ムラがでやすかった。
(Example 19)
A PDP was produced in the same manner as in Example 1, except that the cell design was changed so that the gap between the auxiliary electrodes was 1100 μm.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 3.2 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, the driving voltage was high, three drive ICs failed, and display unevenness was likely to occur.
(実施例20)
主表示電極間ギャップを1100μmとした以外は、実施例1と同様にPDPを作製した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は1.8kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示ができた。相対発光効率は160であった。
(Example 20)
A PDP was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the gap between the main display electrodes was 1100 μm.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 1.8 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 160.
(比較例1)
旭硝子社製“PD200”ガラス基板(42インチ)上に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりアドレス電極パターンを形成した。アドレス電極の幅は、150μm、ピッチ360μm、焼成後の厚みは4μmとした。次いで、アドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスクリーン印刷法により20μmの厚みで形成した。しかる後、感光性ガラスペーストを作製し、アドレス電極パターン、誘電体層の形成されたガラス基板上に、スクリーン印刷法により均一に塗布および乾燥した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回以上繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。その後、80℃で1時間保持して乾燥した。
続いて、ネガ型クロムマスクを用いて、上面から超高圧水銀灯で紫外線露光した。
(Comparative Example 1)
An address electrode pattern was formed on a "PD200" glass substrate (42 inches) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. by a photolithography method using a photosensitive silver paste. The width of the address electrode was 150 μm, the pitch was 360 μm, and the thickness after firing was 4 μm. Next, a dielectric layer having a thickness of 20 μm was formed on the glass substrate on which the address electrodes were formed by a screen printing method. Thereafter, a photosensitive glass paste was prepared, and was uniformly applied and dried by a screen printing method on a glass substrate on which an address electrode pattern and a dielectric layer were formed. Coating and drying were repeated several times or more in order to avoid generation of pinholes and the like in the coating film, and the film thickness was adjusted. Then, it was kept at 80 ° C. for 1 hour and dried.
Subsequently, ultraviolet light was exposed from above using a negative-type chrome mask from an upper surface using an ultrahigh-pressure mercury lamp.
次に、35℃に保持したモノエタノールアミンの0.5重量%水溶液により現像、水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して背面板用ガラス基板上にストライプ状の隔壁ガラスパターンを形成した。隔壁の幅は頂部60μm、底部120μm、ピッチは360μmとした。
次に、蛍光体をディスペンサー法にて厚さ20μmに形成し、焼成して背面板を作製した。
Next, developing and washing with a 0.5% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C., washing with water, removing a space portion that has not been photocured, and forming a stripe-shaped partition wall glass pattern on the back plate glass substrate. Formed. The width of the partition wall was 60 μm at the top, 120 μm at the bottom, and the pitch was 360 μm.
Next, a phosphor was formed to a thickness of 20 μm by a dispenser method and fired to produce a back plate.
次に、“PD200”ガラス基板上に、フォトエッチング法によりITO電極(放電セルの電極間隔を100μm、非放電セルの電極間隔を340μm、ITO電極幅320μm)を形成した後、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりバス電極パターンを形成した。バス電極の厚みは6μm、幅は90μmとした。しかる後、透明誘電体層をスクリーン印刷法により30μmの厚みで形成した。さらに、500nm厚のMgO膜を電子ビーム蒸着法により形成して、前面板を得た。前面板の画素ピッチは1.08mmとした。 Next, after forming an ITO electrode (electrode interval of discharge cells is 100 μm, electrode interval of non-discharge cells is 340 μm, and ITO electrode width is 320 μm) on a “PD200” glass substrate by a photoetching method, a photosensitive silver paste is applied. A bus electrode pattern was formed by the used photolithography method. The bus electrode had a thickness of 6 μm and a width of 90 μm. Thereafter, a transparent dielectric layer was formed with a thickness of 30 μm by a screen printing method. Further, an MgO film having a thickness of 500 nm was formed by an electron beam evaporation method to obtain a front plate. The pixel pitch of the front plate was 1.08 mm.
このように作製した前面板と背面板をPbOを主成分とする封着フリットペーストを用いて450℃で封着した。その後、封着したパネル内部を350℃に加熱しながら真空排気を行い、室温に冷却した後、Xe5%−Ne bal.の混合ガスの封入を行い、封止して10時間のエージング処理を行いPDPを完成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.7kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は100であった。
The front plate and the rear plate thus manufactured were sealed at 450 ° C. using a sealing frit paste containing PbO as a main component. Thereafter, the inside of the sealed panel was evacuated while being heated to 350 ° C., cooled to room temperature, and then Xe5% -Ne bal. Was sealed, sealed, and subjected to an aging treatment for 10 hours to complete a PDP.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.7 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 100.
(比較例2)
背面板の画素ピッチを200μm、アドレス電極幅を90μm、隔壁幅を60μmとし、また前面板の画素ピッチを600μm、ITO電極幅を200μmとした以外は、比較例1と同様にPDPを作成した。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.3kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は73であった。
(Comparative Example 2)
A PDP was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the pixel pitch of the back plate was 200 μm, the address electrode width was 90 μm, the partition wall width was 60 μm, and the pixel pitch of the front plate was 600 μm and the ITO electrode width was 200 μm.
When the insulation properties of the display electrodes were evaluated, the breakdown voltage was 2.3 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was 73.
実施例1〜20および比較例1、2のパネルの構造、放電ガス、表示電極の絶縁性評価結果、相対発光効率を示す。実施例1〜16、18、20は、比較例1に比べて相対発光効率が高く、高発光高率なPDPである。特に、実施例6、7、10〜12は高発光効率なディスプレイである。また、実施例9、17と比較例1、2を比べると、実施例17は精細度が高くなった場合の発光効率の低下の程度が小さく、高精細でも高発光効率なPDPである。 The panel structures, discharge gas, insulation evaluation results of display electrodes, and relative luminous efficiencies of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 and 2 are shown. Examples 1 to 16, 18, and 20 are PDPs having higher relative luminous efficiency and higher luminous efficiency than Comparative Example 1. In particular, Examples 6, 7, and 10 to 12 are displays with high luminous efficiency. When Examples 9 and 17 are compared with Comparative Examples 1 and 2, Example 17 is a PDP having a small degree of decrease in luminous efficiency when the definition is increased, and having high luminous efficiency even at high definition.
(実施例21)
実施例9と同様にしてアドレス電極をパターンニングした後、200℃、30分間キュアを行った。次に焼成せずに、誘電体層、下層の隔壁、表示電極、上層の隔壁を続けて作成して、最後にこれらを一括で590℃、15分間の焼成を行った以外は、実施例9と同様にPDPを作成した。電極および隔壁の断線、亀裂は2箇所生じたが、ディプレイとして実用的には問題ないものであった。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.1kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は実施例と9と同様であった。
(Example 21)
After patterning the address electrodes in the same manner as in Example 9, curing was performed at 200 ° C. for 30 minutes. Example 9 was repeated except that a dielectric layer, a lower partition, a display electrode, and an upper partition were successively formed without baking, and finally, these were batch-baked at 590 ° C. for 15 minutes. A PDP was prepared in the same manner as described above. Although disconnection and cracking of the electrode and the partition wall occurred at two places, there was no practical problem as a display.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.1 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was the same as in Example and 9.
(実施例22)
下層の隔壁のパターンニングした後に、焼成せずに続けて表示電極、上層の隔壁を形成してこれらを一括で590℃、15分間の焼成を行った以外は、実施例9と同様にPDPを作成した。電極および隔壁の断線、亀裂は1箇所生じたが、ディプレイとして実用的には問題ないものであった。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.1kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は実施例と9と同様であった。
(Example 22)
After patterning the lower partition, a PDP was prepared in the same manner as in Example 9 except that the display electrode and the upper partition were successively formed without firing, and these were collectively fired at 590 ° C. for 15 minutes. Created. Although disconnection and cracking of the electrode and the partition wall occurred in one place, there was no practical problem as a display.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.1 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was the same as in Example and 9.
(実施例23)
隔壁の形成に感光性ガラスペーストを用いずに、ガラス粉末、フィラー、有機バインダー(エチルセルロースをテルピネオールで溶解した物)からなるガラスペーストを塗布・乾燥してサンドブラストすることで、隔壁のパターンニングを行い、さらに主隔壁の上にのみ焼成後に高さ10μmのストライプ状になるように同様のペーストをスクリーン印刷した。電極および隔壁の断線、亀裂は生じなかったが、形成したセルのユニフォーミティーが実施例9に比べて低く、放電電圧マージンが少し低かったが、実用上は問題ないレベルであった。
表示電極の絶縁性評価を行ったところ、絶縁破壊電圧は2.1kVであった。
同様にPDPを作製して駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は実施例と9と同様であった。
(Example 23)
Patterning of the partition is performed by applying and drying and sandblasting a glass paste composed of glass powder, a filler, and an organic binder (a substance obtained by dissolving ethyl cellulose with terpineol) without using a photosensitive glass paste for forming the partition. Further, the same paste was screen-printed only on the main partition walls so as to form a stripe having a height of 10 μm after firing. No disconnection or cracking of the electrodes and the partition walls occurred, but the uniformity of the formed cells was lower than in Example 9 and the discharge voltage margin was slightly lower, but at a level that was not problematic in practical use.
When the insulation property of the display electrode was evaluated, the breakdown voltage was 2.1 kV.
Similarly, when a PDP was manufactured and driven, an image could be displayed without any problem. The relative luminous efficiency was the same as in Example and 9.
1:前面板
2:ガラス基板
3:スキャン電極(透明電極)
4:サスティン電極(透明電極)
5:バス電極
6:透明誘電体層
7:MgO保護膜
8:背面板
9:ガラス基板
10:アドレス電極
11:誘電体層
12:隔壁層
13:赤色蛍光体
14:緑色蛍光体
15:青色蛍光体
16:放電セル
17:非放電セル
18:主隔壁
19:補助隔壁
20:主電極
21:補助電極
22:蛍光体
23:絶縁体層
1: Front plate 2: Glass substrate 3: Scan electrode (transparent electrode)
4: Sustain electrode (transparent electrode)
5: Bus electrode 6: Transparent dielectric layer 7: MgO protective film 8: Back plate 9: Glass substrate 10: Address electrode 11: Dielectric layer 12: Partition layer 13: Red phosphor 14: Green phosphor 15: Blue phosphor Body 16: discharge cell 17: non-discharge cell 18: main partition 19: auxiliary partition 20: main electrode 21: auxiliary electrode 22: phosphor 23: insulator layer
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