JP2003313260A

JP2003313260A - 放射線硬化型樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム

Info

Publication number: JP2003313260A
Application number: JP2002125759A
Authority: JP
Inventors: Noriko Kiyoyanagi; 典子清柳; Yuichiro Matsuo; 雄一朗松尾
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 2002-04-26
Filing date: 2002-04-26
Publication date: 2003-11-06

Abstract

(57)【要約】【課題】硬化速度が良好で、耐擦傷性、密着性、透明性
が良好な高屈折率の膜を得られる放射線硬化型樹脂組成
物およびその硬化皮膜を有するフィルムを得ること。【解決手段】エチレン性不飽和基を有し、アミン変性さ
れた樹脂（Ａ）、分子内に三個以上のエチレン性不飽和
基を有する樹脂（Ｂ）、一次粒径が１〜２００ナノメー
トルで、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）を含有し、
好ましい態様においては、その硬化膜の屈折率が１．６
以上である放射線硬化型樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は高屈折率の放射線硬
化型樹脂組成物およびそれから得られる硬化皮膜を有す
るフィルムに関する。更に詳しくは、硬化性および密着
性に優れ、透明性の良好な高屈折層を形成するための放
射線硬化型樹脂組成物と、それを用いて得られる反射防
止性の良好なフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、プラスチックは自動車業界、家電
業界、電気電子業界を始めとして種々の産業界で大量に
使われている。このようにプラスチックが大量に使われ
ている理由はその加工性、透明性等に加えて、軽量、安
価、光学特性に優れる等の理由による。

【０００３】近年、放射線硬化型のアクリル系ハードコ
ート剤が開発され、実用に供されるようになった。放射
線硬化型ハードコート剤は、紫外線等の放射線を照射す
ることによって速やかに硬化して硬い皮膜を形成するた
めに、加工処理スピードが速く、またハードネス、耐摩
耗性等に優れた性能を持ち、トータルコスト的に安価に
なるので、今やハードコート分野の主流に成っている。
特にポリエステルフイルム等のプラスチックフィルムの
連続加工には適している。プラスチックフィルムとして
は、ポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィル
ム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、塩
化ビニルフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、
ポリエーテルスルフォンフィルム等があるが、これらの
うち、ポリエステルフィルムは種々の優れた特徴から最
も広く使用されているフィルムの一種である。即ち、ポ
リエステルフィルムは、ガラスの飛散防止フィルム、あ
るいは自動車の遮光フィルム、又、電子材料的にはタッ
チパネル、液晶ディスプレイ、ＣＲＴフラットテレビあ
るいは冷蔵庫等家電製品のハウジングの鉄板にラミネー
トして化粧性を向上するために、更にはホワイトボード
の表面のフィルム等として広く用いられている。これら
の用途においては、何れもその表面が傷つかないように
するためにハードコート層を設ける必要がある。

【０００４】ハードコート剤をコーティングしたフィル
ムを表面に設けたＣＲＴ、ＬＣＤなどの表示体では、フ
ィルム面が平滑になるため、反射により表示体画面が見
難くなり、目が疲れやすいと言う問題が生ずるため、用
途によっては、表面反射防止能のあるハードコート処理
が必要である。表面反射防止の方法としては、放射線硬
化型樹脂中に無機フィラーや有機系微粒子のフィラーを
分散させたものをフィルム上にコーティングし、表面に
凹凸をつけて反射を防止する方法（ＡＧ処理）、フィル
ム上に高屈折率層、低屈折率層の順に多層構造を設け、
屈折率の差で映り込み、反射を防止する方法（ＡＲ処
理）、又は上記２つの方法を組み合わせたＡＧ／ＡＲ処
理法等がある。

【０００５】

【発明が解決使用とする課題】ＡＲ処理の材料として高
屈折率層を得るための形成材料としては例えば特開平８
−９４８０６号公報にあるように、芳香環を含む樹脂、
Ｆ以外のハロゲン元素例えばＢｒ、Ｉ、Ｃｌなどを含む
樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐなどの原子を含む樹脂など高屈折率の
樹脂を用いる方法や、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂、Ｓｂ
₂Ｏ₃などの高屈折率微粒子を用いる方法などが提案され
ている。しかしながらそれらの膜の形成方法は複雑であ
り、使用する樹脂の種類や硬化剤の種類によっては安定
性や硬化性が十分でない場合もあった。また、高屈折の
微粒子を用いる紫外線硬化型の高屈折率の塗料も、各種
提案されている。一般的には屈折率の高い微粒子を用い
たほうが添加量によって膜の屈折率を調整しやすく好ま
しいが、例えば酸化チタン等をはじめとする金属微粒子
は紫外線を吸収するため、これらを含有する紫外線硬化
型の塗料を硬化させる際に硬化不良を起こしやすいなど
の問題がある。また、酸化チタンは白色インク顔料とし
て用いられていることから明かなようにその隠蔽性か
ら、光学用途などに用いる場合には特に十分な微粒子化
処理が必要であり、また保存安定性、塗工適性が優れて
いないと透明で高屈折率の膜が得られず、十分な実用性
を得るのは難しかった。したがって市場では硬化性が良
好で透明性が優れた膜を得易い材料が求められている。
さらに１μｍ未満の膜厚では、酸素阻害による硬化速度
の低下もあり、硬化不良やそれに伴う膜物性の低下で、
耐擦傷性や密着が不十分になるという問題もある。

【０００６】本発明は、上記の欠点を改善し、硬化速度
が良好で、耐擦傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率
の膜が得られる放射線硬化型樹脂組成物およびその硬化
皮膜を有するフィルムを提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題
を解決するために鋭意検討の結果、特定の組成を有する
放射線硬化型樹脂組成物が前記課題を解決するものであ
ることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、
（１）エチレン性不飽和基を有し、アミン変性された樹
脂（Ａ）、分子内に３個以上のエチレン性不飽和基を有
する樹脂（Ｂ）及び一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）を含有すること
を特徴とする放射線硬化型樹脂組成物、（２）その硬化
皮膜の屈折率が１．６以上である（１）の放射線硬化型
樹脂組成物、（３）一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）が酸化チタン又
は酸化チタンである（１）又は（２）に記載の放射線硬
化型樹脂組成物、（４）分子内にエチレン性不飽和基お
よびアルキレンオキサイド基を有するモノマー（ａ）と
無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とを共重合した
ポリマー（Ｄ）を含有する（１）乃至（３）に記載の放
射線硬化型樹脂組成物、（５）ポリマー（Ｄ）が下記一
般式（１）

【０００８】

【化２】

【０００９】（式（１）中ＡＯはアルキレンオキサイド
基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２５のアルキル
基を表す。ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ及
びｃは、ｎが前記の条件を満たす範囲で、任意の順序で
且つ任意の数存在しているものとする。）で示されるポ
リマーである（４）に記載の放射線硬化型樹脂組成物、
（６）基材フィルム上に（１）乃至（５）のいずれか一
項に記載の放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を設けて
なる硬化皮膜つきフィルム、に関する。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明を詳細に説明する。本発明
において使用するエチレン性不飽和基を有し、アミン変
性された樹脂（Ａ）としては、例えばＥｂｅｃｒｙｌ
ＥＢＥ３６００、ＥＢＥ３７０３（何れもＵＣＢ社製）
などのアミン変性エポキシ（メタ）アクリレートや、ラ
ロマーＰＯ８３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８
６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９４６（何れもＢＡＳＦ社
製）などのアミン変性オリゴエーテル（メタ）アクリレ
ートや、ＥｂｅｃｒｙｌＥＢ８０、ラロマーＬＲ８８
２８（ＢＡＳＦ社製）などのアミン変性したポリエステ
ル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの樹脂
（Ａ）は適宜使用されるが、放射線硬化型樹脂組成物の
硬化性および膜の透明性を考慮するとアミン変性オリゴ
エーテル（メタ）アクリレートがより好ましい。このア
ミン変性オリゴエーテルアクリレート樹脂の具体例とし
てはアルキレンオキシド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレートのアミン変性物等があげられる。樹脂
（Ａ）の含有量は、得られる膜の透明性および硬化性を
考慮すると、組成物の固形分全体量を１００重量部とし
たとき１０〜７０重量部の範囲であり、好ましくは、２
０〜６０重量部である。

【００１１】分子内に３個以上のエチレン性不飽和基を
有する樹脂（Ｂ）としては、例えばトリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタ
ントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
ポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパンポリエトキシポリプロポキシト
リ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクロイル
オキシエチル］イソシアヌレート、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポ
リエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールポリプロポキシテトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロイルオキ
シエチル］イソシアヌレート等が挙げられる。樹脂
（Ｂ）の含有量は、得られる膜の硬化性および硬度を考
慮すると、組成物の固形分全体量を１００重量部とした
とき１０〜７０重量部の範囲であり、好ましくは２０〜
６０重量部である。

【００１２】一次粒径が１〜２００ナノメートルで、そ
の屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）としては、例えば
酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化インジウムスズ、酸化アンチモン、酸化セレン、酸
化イットリウムなどの微粒子が挙げられ，分散溶媒を含
有しない微粉末や溶媒に分散させたコロイド溶液として
用いることができる。また、これらを１種または２種以
上を混合して用いることが出来る。好ましいものは酸化
チタン又はこれを含む微粒子である。分散溶媒としては
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−
ブタノールなどのアルコール類、エチレングリコールな
どの多価アルコール類およびその誘導体、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
ジメチルジメチルアセトアミドなどのケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレ
ンなどの非極性溶媒、２−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどのアクリレート類その他一
般の有機溶媒が使用できる。分散溶媒の量は通常微粒子
１００重量部に対して１００〜２０００重量部である。
また、必要に応じて分散剤として、ポリカルボン酸系の
分散剤やシランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤、変性シリコーンオイル等のシリコーン系分散剤
や有機共重合体系の分散剤などの公知のものを併用する
ことも可能である。一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、その屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）の含有量は
得られる膜の屈折率を考慮すると組成物の固形分全体量
を１００重量部としたとき５〜８０重量部の範囲であ
り、好ましくは、１０〜７０重量部である。

【００１３】本発明において、分子内にエチレン性不飽
和基およびアルキレンオキサイドを有するモノマー
（ａ）と無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とが共
重合したポリマー（Ｄ）は、必要により使用されるが、
ポリマー（Ｄ）としては以下のものを用いることが出来
る。分子内にエチレン性不飽和基およびアルキレンオキ
サイド基を有するモノマー（ａ）としては、分子内に例
えばビニル基、プロペニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などのエチレン性不飽和基を有し、さらにエ
チレンオキサイド基やプロピレンオキサイド基を有する
化合物であればどのようなものでも良い。これらのモノ
マー（ａ）と無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）と
を共重合させてポリマー（Ｄ）を得る。このようなポリ
マー（Ｄ）は例えば次のように表示することが出来る。

【００１４】

【化３】

【００１５】（式（１）中ＡＯはアルキレンオキサイド
基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１〜２５のアルキ
ル基を表す。ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ
及びｃは、ｎが前記の条件を満たす範囲で、任意の順序
で且つ任意の数存在しているものとする。）式（１）において、ＡＯはエチレンオキサイドやプロピ
レンオキサイド、その両方をランダムに結合した構造を
表す。本発明の放射線硬化型樹脂組成物においては溶剤
を含有せしめるのが好ましいが、溶剤が用いられた場合
はその種類により、ＡＯは適宜選択される。例えば、ア
ルコール系溶媒を用いる場合はエチレンオキサイドが好
ましいが、それ以外の場合はプロピレンオキサイドまた
はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドをランダ
ムにつなげた構造がより好ましい。ＡＯ部分の分子量は
１００〜１００００が好ましく、３００〜４０００がよ
り好ましい。Ｒは水素原子または炭素数１〜２５アルキ
ル基を表すが、本発明の用途では水素または炭素数１〜
８のアルキル基が好ましい。ポリマー（Ｄ）の溶解性
や、本発明の放射線硬化型樹脂組成物の安定性等を考慮
すると、ポリマー（Ｄ）の分子量は通常７００〜１００
０００であり、好ましくは５０００〜５００００であ
る。またポリマー（Ｄ）におけるａ、ｂ及びｃの共重合
の割合は、ポリマー（Ｄ）を構成する単量体のモル数を
１００とすると、エチレン性不飽和基およびアルキレン
オキサイドを有するモノマー（ａ）が１０〜９０、無水
マレイン酸（ｂ）が１０〜９０、スチレン（ｃ）が０〜
１０であることが好ましい。これらのポリマー（Ｄ）を
使用する場合、その含有量は、放射線硬化型樹脂組成物
の膜の硬化性および透明性を考慮すると組成物の固形分
全体量を１００重量部としたとき０．５〜１０重量部の
範囲であり、好ましくは、１〜７重量部である。

【００１６】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、電子
線で硬化させる場合は光重合開始剤を使用しなくてもよ
いが、紫外線で硬化させる場合は光重合開始剤を使用
し、更に必要に応じ、光重合促進剤を併用する。使用し
うる光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、ベンゾインエーテル、クロロアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフ
ェノン、α−アミノアセトフェノン、ベンジルメチルケ
タール、チオキサントン、α−アシルオキシムエステ
ル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステ
ル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カ
ンファーキノン、ベンジル、ミヒラーケトンなどが挙げ
られる。

【００１７】併用しうる光重合促進剤としてＮ−メチル
ジエタノールアミン、トリエタノールアモン、ジエタノ
ールアミン、Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエ
ステル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｐ−アミノベンゾニトリル
等のアミン系化合物や、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
のリン化合物、ヘキサクロロエタン等の塩素化合物など
が挙げられるが、これらのものは、単独あるいは２種以
上組み合わせて使用することができる。これらの重合開
始剤および促進剤の配合割合は、組成物の全重量に対し
て、それぞれ、好ましくは０．１〜１５重量％、より好
ましくは０．５〜１０％重量である。

【００１８】また、本発明の放射線硬化型樹脂組成物は
必要に応じて水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール類、エチレン
グリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トなどの多価アルコール類及びその誘導体、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルアセトアミドなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレン
などの非極性溶媒、２−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート，４−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどのアクリレート類及びその
他一般有機溶剤類で希釈使用できるが、エチレン性不飽
和基を有し、アミン変性された樹脂（Ａ）、分子内に３
個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂（Ｂ）、ポリ
マー（Ｄ）を溶解するものであればどのようなものでも
よく、また使用する基材フィルムに合わせて選定でき
る。例えばトリアセチルセルロースフィルムや、ポリカ
ーボネートフィルム等を用いる場合は基材を侵さないト
ルエンやアルコール系溶剤などを使用することがより好
ましい。希釈剤の量は、通常放射線硬化型樹脂組成物１
００重量部に対し通常２０〜１００００重量部である。

【００１９】また、本発明の放射線硬化型樹脂組成物に
は前記の各成分に加え、必要によりレベリング剤、消泡
剤を添加することもできる。更に、紫外線吸収剤、光安
定剤、無機、有機各種フィラー、ポリマー等を添加し、
機能性を付与することも可能である。

【００２０】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、上記
の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）、必要により（Ｄ）および溶
剤を混合することにより得られる。又、必要により、各
成分を混合した後ボールミル、ロールミル、サンドミ
ル、ディゾルバー、ホモミキサー等それ自体公知の分散
機により分散化処理することも出来る。

【００２１】本発明のフィルムは、基材フィルム上に本
発明の前記樹脂組成物の乾燥後の膜厚が０．０５〜３０
μｍ、好ましくは０．１〜２０μｍ、用途によっては
０．１〜１μｍになるように塗布し、乾燥後放射線を照
射して硬化膜を形成させることにより得ることができ
る。フィルム基材としては、例えばポリエステル、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリアクリレート、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルス
ルフォン等から得られるフイルムがあげられる。フィル
ムはシート状のものであっても良い。また、上記のフィ
ルム上にハードコート層を設けた基材を用いても良い。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、前記基材フィルム
上にハードコート層を設ける目的で使用されるが、好ま
しい用途においては、本発明の放射線硬化型樹脂組成物
により基材フィルム上にハードコート層を設け、更にそ
の上層に低屈折率の膜を設け、反射防止性の硬化皮膜
（ハードコート層）つきのフィルムを調製する。この場
合において、得られるフィルムの反射防止効果を考慮す
ると、本発明の放射線硬化型樹脂組成物の硬化膜の屈折
率は少なくとも１．６以上であることが好ましい。反射
防止効果を考慮すると、本発明の放射線硬化型樹脂組成
物の硬化膜の上に設ける低屈折率の膜との屈折率との差
が、０．１以上であるのが好ましく、それに応じて本発
明の放射線硬化型樹脂組成物の屈折率を調整するのが好
ましい。

【００２２】本発明の放射線硬化型樹脂組成物の塗布方
法としては、例えばバーコーター塗工、メイヤーバー塗
工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア
塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷
などが挙げられる。この際、使用するフィルムは柄や易
接着層を設けたものであっても良い。

【００２３】照射する放射線としては、例えば紫外線や
電子線があげられる。紫外線により硬化させる場合、光
源としてキセノンランプ、高圧水銀灯、メタルハライド
ランプ等を備えた紫外線照射装置が使用され、必要に応
じて光量、光源の配置などが調整されるが、高圧水銀灯
を使用する場合、８０〜１２０Ｗ／ｃｍの光量を有した
ランプ１灯に対して搬送速度５〜６０ｍ／分で硬化させ
るのが好ましい。一方、電子線により硬化させる場合、
１００〜５００ｅＶのエネルギーを有する電子線加速装
置の使用が好ましい。

【００２４】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、薄膜
でも厚膜でも酸素阻害あるいは微粒子による紫外線吸収
による硬化不良やそれに伴う膜物性の低下をおこさず、
硬化速度が良好で、又鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性、透
明性が良好な高屈折率の膜を得られる。また、反射防止
用の高屈折膜としての応用にも適している。従って本発
明の放射線硬化型樹脂組成物を用いて基材フィルム上に
硬化皮膜を設けることにより得られた本発明のフィルム
はプラスチック光学部品、タッチパネル、フラットディ
スプレイ、フィルム液晶素子等、反射防止を必要とする
分野に好適である。

【００２５】

【実施例】次に、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明がこれらに限定されるものではない。
尚、実施例において、部は重量部を意味する。

【００２６】実施例１ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬
（株）製カヤラッドＤＰＨＡ）を９部、エチレン性不飽
和基を有し、アミン変性されたアクリレート（ＢＡＳＦ
（株）製ラロマーＬＲ８８６９）を８部、イルガキュア
ー１８４（チバスペシャルティケミカルズ製）を１部、
イルガキュアー９０７（チバスペシャルティケミカルズ
製）を０．５部、酸化チタン／酸化ジルコニア／酸化ス
ズの複合微粒子のメタノール分散液（固形分３０重量
％、日産化学工業（株）製ＨＩＴ−３０Ｍ）７０部
メチルエチルケトン２０部を混合し、本発明の放射線硬
化型樹脂組成物を得た。これを必要な膜厚に合わせてメ
チルイソブチルケトンで希釈し、バーコーターを用いて
１８８μｍの易接着処理ＰＥＴ（ポリエステル）フィル
ム基材に塗工し、８０℃の乾燥機中に１分間放置後、空
気雰囲気下で８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯１０ｃｍの距離
から１０ｍ／分のコンベアースピードで紫外線を照射
し、硬化皮膜（約１０μｍおよび１μｍ）を有する本発
明のフィルムを得た。

【００２７】実施例２実施例１においてエチレン性不飽和基を有し、アミン変
性されたアクリレート（ＢＡＳＦ（株）製ラロマーＬ
Ｒ８８６９）のかわりに同じくアミン変性アクリレート
（ＢＡＳＦ（株）製ラロマーＰＯ９４Ｆ）を用いる以
外は実施例１と同様に本発明の放射線硬化型樹脂組成物
および硬化皮膜を有する本発明のフィルムを得た。

【００２８】実施例３実施例２において酸化チタン／酸化ジルコニア／酸化ス
ズ複合微粒子のメタノール分散液（固形分３０％、日産
化学工業（株）製ＨＩＴ−３０Ｍ）のかわりに酸化チ
タンの３０重量％メチルイソブチルケトン分散液（シー
アイ化成（株）製）を用い、メチルエチルケトン２０部
を混合しない以外は実施例２と同様に本発明の放射線硬
化型樹脂組成物および硬化皮膜を有する本発明のフィル
ムを得た。

【００２９】実施例４実施例３において、式１でＡＯ＝プロピレンオキサイ
ド、Ｒ＝ブチルの化合物（日本油脂（株）製マリアリ
ムＡＡＢ−０８５１）を４部さらに併用する以外は実施
例３と同様に本発明の放射線硬化型樹脂組成物および硬
化皮膜を有する本発明のフィルムを得た。

【００３０】実施例５実施例４の放射線硬化型樹脂組成物を用いて、易接着処
理ＰＥＴフィルム基材上に厚さが約０．１μｍの硬化皮
膜を形成した。さらにその上に、ＭｇＦ₂微粒子を含有
した紫外線硬化型低屈折コート剤（膜の屈折率１．３
９）を用いて約０．２μｍの膜を形成し反射防止フィル
ムを得た。セロファンテープで密着性を確認したが、良
好だった。また、得られたフィルムの反射率を測定し
た。測定は分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所製）
にて行い、５５０ｎｍ付近が極小値となるように調整し
た上で、全反射の値を測定したところ、０．７％だっ
た。また、実施例５での密着性および反射率の結果か
ら、反射防止用の高屈折膜として適していることが明か
である。

【００３１】比較例１ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬
（株）製カヤラッドＤＰＨＡ）を１７部、イルガキュア
ー１８４（チバスペシャルティケミカルズ製）を２部、
酸化チタンの３０重量％メチルイソブチルケトン分散液
（シーアイ化成（株））を混合し、比較用の放射線硬化
型樹脂組成物を得た。本発明の放射線硬化型樹脂組成物
の代わりに比較用の放射線硬化型樹脂組成物を用いる以
外は実施例１と同様に比較用の硬化皮膜を有するフィル
ムを得た。

【００３２】このようにして得られた本発明及び比較用
のフィルムを用い評価を行った結果を表１に示した。ま
た、評価基準は以下に述べるものを採用した。

【００３３】（１）硬化性硬化後の膜の硬化状態を指でさわって確認した。皮膜の
厚さ約１０μｍおよび１μｍの両方について実施）

【００３４】（２）鉛筆硬度測定硬化皮膜約１０μｍのものを用い、ＪＩＳＫ５４０
０に準じて、鉛筆引っかき試験機を用いて２Ｈの鉛筆引
っかき試験を測定した。

【００３５】（３）耐擦傷性硬化皮膜約１０μｍのものを用い、スチールウール＃０
０００上に２００ｇ／ｃｍ²の荷重をかけて１０往復さ
せ、傷の状況を目視で判定した。

【００３６】（４）密着性硬化皮膜約１０μｍのものを用い、ＪＩＳＫ５４０
０碁盤目試験に準じ、フィルムの表面の密着性の評価を
行った。判定は碁盤目１００個のうち残った個数にて評
価した。

【００３７】（５）外観表面の透明性、白化、くもり等の状態を目視にて判定し
た。

【００３８】（６）屈折率硬化皮膜約１μｍのものを用い、得られたフィルムの反
射率を分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所製）で測
定し、その値から本発明の放射線硬化型樹脂組成物の硬
化皮膜の屈折率を計算で求めた。

【００３９】表１評価結果硬化性鉛筆硬度耐擦傷性密着性外観屈折率実施例１ ○ ○ ○ １００ ○ １．８０実施例２ ○ ○ ○ １００ ○ １．８６実施例３ ○ ○ ○ １００ ○ １．８５実施例４ ○ ○ ○ １００ ○ １．８３比較例１ ○ ○ ○ １００ △ １．７０

【００４０】表１から明らかなように、本発明の放射線
硬化型樹脂組成物は硬化速度が良好で、鉛筆硬度、耐擦
傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率の膜を与える。

【００４１】

【発明の効果】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、薄
膜でも厚膜でも酸素阻害あるいは微粒子の紫外線吸収に
よる硬化不良やそれに伴う膜物性の低下がおこらない。
耐擦傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率の膜を得ら
れるので、その硬化皮膜を有する本発明のフィルムはプ
ラスチック光学部品、タッチパネル、フラットディスプ
レイ、フィルム液晶素子等、反射防止を必要とする分野
に好適なフィルムである。

フロントページの続きＦターム(参考） 4F006 AA02 AA12 AA22 AA35 AA36 AA40 AB24 AB42 AB43 BA02 CA05 CA08 DA04 EA03 4F100 AA21 AA21B AA27 AA28 AH03B AK01A AK24B AK42 AL01B AT00A BA02 BA07 CA02B CA23B DE01B EH46 EJ54 EJ54B EJ86 GB41 GB90 JB14B JK12 JK16 JL11 JN01 JN18 JN18B YY00B 4J027 AB01 AB33 AC02 AC03 AC04 AC06 AC09 AE01 AE07 BA24 BA26 CA02 CA09 CA10 CA14 CB10 CC03 CC04 CC05 CC06 CD04 CD08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エチレン性不飽和基を有し、アミン変性さ
れた樹脂（Ａ）、分子内に３個以上のエチレン性不飽和
基を有する樹脂（Ｂ）及び一次粒径が１〜２００ナノメ
ートルで、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）を含有す
ることを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物
【請求項２】その硬化皮膜の屈折率が１．６以上である
請求項１の放射線硬化型樹脂組成物
【請求項３】一次粒径が１〜２００ナノメートルで、屈
折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）が酸化チタン又は酸化
チタンを含む微粒子である請求項１又は請求項２に記載
の放射線硬化型樹脂組成物
【請求項４】分子内にエチレン性不飽和基及びアルキレ
ンオキサイド基を有するモノマー（ａ）と無水マレイン
酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とを共重合したポリマー
（Ｄ）を含有する請求項１乃至請求項３に記載の放射線
硬化型樹脂組成物
【請求項５】ポリマー（Ｄ）が下記一般式（１）【化１】（式（１）中ＡＯはアルキレンオキサイド基を表し、Ｒ
は水素原子または炭素数１〜２５のアルキル基を表す。
ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ及びｃは、ｎ
が前記の条件を満たす範囲で、任意の順序で且つ任意の
数存在しているものとする。）で示されるポリマーであ
る請求項４に記載の放射線硬化型樹脂組成物
【請求項６】基材フィルム上に請求項１乃至請求項５の
いずれか一項に記載の放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮
膜を設けてなるフィルム