JP2003295778A

JP2003295778A - プラズマディスプレイパネル用フィルタ及びこのフィルタを備えた表示装置

Info

Publication number: JP2003295778A
Application number: JP2002103703A
Authority: JP
Inventors: Shinji Saito; 伸二斉藤; Kazuhiro Hasegawa; 和寛長谷川
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 2002-04-05
Filing date: 2002-04-05
Publication date: 2003-10-15

Abstract

(57)【要約】【課題】透明性の高い電磁波シールド性プラスチック
板を、接着剤を用いることなく簡易に作製することがで
きる電磁波シールド性プラスチック板の製造方法その製
造方法を提供する。【解決手段】透明基板、その上に設けられた電磁波を
遮断するための導電層及び導電層上に設けられた透明保
護フィルムからなるプラズマディスプレイパネル用フィ
ルタであって、該透明保護フィルムの表面にハードコー
ト層が設けられたことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル用フィルタ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）から放出される電磁波及び熱線を
シールドすることができるプラズマディスプレイパネル
用フィルタ、ならびにプラズマディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディスプレイといえば、陰極線管
（ＣＲＴ：ＣａｔｈｏｄｅＲａｙＴｕｂｅ）表示装置
が主流であったが、近年に至り薄型ディスプレイ（ＦＰ
Ｄ：ＦｒａｔＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）が開発さ
れ製品化されている。ＦＰＤとしては、薄型、軽量、低
消費電力等の機能を生かして液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌ
ｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙ）が広く
用いられ、市場を拡大しているが、薄型でしかも大画面
に有利なプラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ
ＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ）も注目されている。

【０００３】例えばＤＣ型のプラズマディスプレイは、
２枚のガラス板間に隔成した多数の表示セル内の螢光体
を選択的に放電発光させるものであり、フロントガラス
とリヤガラス間に隔壁、表示セル、補助セル等が配置さ
れ、各表示セルの内壁には赤色螢光体、緑色螢光体、青
色螢光体が膜状に設けられたの基本構造を有する。そし
て、陰極、表示陽極、補助陽極に印加された電圧による
放電でこれらの螢光体が発光し、画像を表示する。

【０００４】このため、ＰＤＰの前面からは、電圧印
加、放電、発光等により数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁
波の発生を避けることができない。このＰＤＰから発生
する電磁波によって人体や他の電子機器に与える影響が
懸念されており、ＰＤＰの前面には通常電磁波シールド
性フィルタが取り付けられている。電磁波の漏洩を防止
するために、金網のような導電性メッシュ材を透明基板
（アクリル板等）の間に介在させた一体化されたものが
一般に用いられる。

【０００５】特開平１１−７４６８３号公報には、この
ような従来の電磁波シールド性光透過窓材の特性や施工
性を改善するものとして、２枚の透明基板の間に導電性
メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化して
なる電磁波シールド性光透過窓材であるプラズマディス
プレイパネル用フィルタが提案されている。

【０００６】このようなプラズマディスプレイパネル用
フィルタであれば、良好な電磁波シールド性を有し、か
つ光透過性で鮮明な画像を得ることができ、また、導電
性メッシュが介在することにより破損時の透明基板の飛
散も防止される。

【０００７】また、このようなプラズマディスプレイパ
ネル用フィルタにあっては、リモコンの誤作動等を防止
する目的で近赤外線カット性能が重要な要求特性とされ
ている。特に、最近では、ＰＤＰの輝度の向上に伴っ
て、近赤外線の発生量も多くなっていることから、より
一層高度な近赤外線カット性能が必要とされている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記プラズマディスプ
レイパネル用フィルタの製造中、製造後において、プラ
ズマディスプレイパネル用フィルタの表面（露出した側
の透明フィルム表面）が傷付く場合があり、得られるフ
ィルタの商品価値の低下、また製造中に傷が付かなくて
もその後に傷が付くことがあり、耐久性の低下が問題と
なっている。

【０００９】従って、本発明は、電磁波シールド性を有
し、耐擦傷性に優れたプラズマディスプレイパネル用フ
ィルタを提供することを目的とする。

【００１０】本発明は、特に電磁波シールド性を有し、
耐擦傷性に優れ、さらに近赤外線カット性、電磁波シー
ルド性或いは反射防止性にも優れたプラズマディスプレ
イパネル用フィルタを提供することを目的とする。

【００１１】また、本発明は電磁波シールド性を有し、
耐擦傷性に優れたプラズマディスプレイパネル用フィル
タを備えた表示素子を提供することを目的とする。

【００１２】

【発明を解決するための手段】本発明は、透明基板、そ
の上に設けられた電磁波を遮断するための導電層及び導
電層上に設けられた透明保護フィルムからなるプラズマ
ディスプレイパネル用フィルタであって、該透明保護フ
ィルムの表面にハードコート層が設けられたことを特徴
とするプラズマディスプレイパネル用フィルタ；及び透
明基板、その一方の表面に設けられた電磁波を遮断する
ための導電層及び導電層上に設けられた透明保護フィル
ム、そして透明基板の他方の表面に設けられた近赤外線
カットフィルムからなるプラズマディスプレイパネル用
フィルタであって、該透明保護フィルムの表面にハード
コート層が設けられたことを特徴とするプラズマディス
プレイパネル用フィルタ；にある。

【００１３】上記フィルタにおいて、透明保護フィルム
がポリエチレンテレフタレートフィルムであることが、
取扱いが容易であり、経済的に有利であるので好まし
い。またハードコート層が近赤外線を吸収する色素を含
有することが好ましい。これにより透明性をほとんど低
下させずに近赤外線カット機能を大幅に向上させること
ができる。また、ハードコート層が電磁波を遮断するた
めの導電性微粒子を含有することが好ましい。これによ
り透明性をほとんど低下させずに電磁波シールド機能を
大幅に向上させることができる。

【００１４】また、ハードコート層が、該ハードコート
層より屈折率が低い低屈折率薄層を介して透明保護フィ
ルム上に設けられていることが好ましい。即ち、低屈折
率薄層とハードコート層の組み合わせにより反射防止層
を形成しており、ハードコート層が反射防止層の一部を
形成している。

【００１５】上記導電層が、一般に導電性メッシュ（金
属繊維メッシュ、金属被覆有機繊維メッシュ）、又はメ
ッシュパターン状の金属層（エッチングメッシュ）、金
属含有樹脂層（導電印刷メッシュ）若しくは該金属含有
樹脂層と金属層との積層体であり、メッシュパターン状
の金属層、金属含有樹脂層又は該金属含有樹脂層と金属
層との積層体であることが好ましい。

【００１６】さらに本発明は、プラズマディスプレイパ
ネル用フィルタを備えた表示装置にもある。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレイパ
ネル用フィルタ（ＰＤＰ用フィルタ）について、図面を
参照して詳細に説明する。図１に、本発明のプラズマデ
ィスプレイパネル用フィルタの基本構造の１例の断面図
を示す。

【００１８】図１のＰＤＰ用フィルタは、透明基板１
２、その上に電磁波を遮断するための導電層１３が、そ
して導電層上に透明保護フィルム１８が設けられ、さら
にフィルム上にハードコート層１９が設けられている。
透明基板１１と導電層１２との間、透明保護フィルム１
８と導電層１２との間は、一般に接着用中間膜（接着樹
脂層）により貼り付けられている。

【００１９】図２に、本発明のプラズマディスプレイパ
ネル用フィルタの好適な構造の１例の断面図を示す。図
２のＰＤＰ用フィルタは、上側の透明保護フィルム２
８、導電層として導電性メッシュ２３、透明基板２２及
び最裏層の近赤外線カットフィルム２５が、接着剤とな
る接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂ及び粘着剤（粘着膜）２
４Ｃを用いて積層させて一体化したもので、さらに透明
保護フィルム２８の表面にハードコート層２９が設けら
れている。なお、この実施の形態にあっては、この積層
体の端面とそれに近接する表裏の縁部とを導電性粘着テ
ープ２７（粘着層２７Ｂ及び金属箔２７Ａからなる）で
覆っている。

【００２０】プラズマディスプレイパネル用フィルタの
製造中、製造後において、プラズマディスプレイパネル
用フィルタの表面（露出した側の透明基板表面）が傷付
く場合があり、得られるフィルタの商品価値の低下、ま
た製造中に傷が付かなくてもその後に傷が付く場合があ
り、耐久性の低下が問題であるが、本発明のフィルタ
は、プラズマディスプレイパネルに貼り付ける側とは反
対の表面、通常、導電層上の透明保護フィルム上にハー
ドコート層が設けられているため、このような問題を回
避することができる（なおフィルム上に、反射防止層が
設けられている場合はその表面は硬いので通常ハードコ
ート層の必要はない）。また、本発明のハードコート層
として、近赤外線を吸収する色素を含有するハードコー
ト層を用いることができ、この場合、透明性をほとんど
低下させずに近赤外線カット機能を大幅に向上させるこ
とができる。また、ハードコート層が電磁波を遮断する
ための導電性微粒子を含有することもでき、これにより
透明性をほとんど低下させずに電磁波シールド機能を大
幅に向上させることができる。さらに、ハードコート層
を、該ハードコート層より屈折率が低い低屈折率透明薄
層を介して透明保護フィルム上に設けることにより、低
屈折率透明層とハードコート層とからなる反射防止層を
形成することとなるので、ハードコート層が反射防止層
の一部を担うこともでき、極めて有利である。

【００２１】本発明において、透明基板１２、２２の構
成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリ
ル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セ
ルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金
属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリ
ウレタン、セロファン等を挙げることができ、ガラス、
ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。

【００２２】透明基板１２，２２の厚さは、一般に０．
１〜１０ｍｍの範囲であり、１〜４ｍｍの範囲が好まし
い。

【００２３】なお、透明基板１２，２２の周縁部にアク
リル樹脂等をベースとする黒枠塗装が設けられてもよ
い。

【００２４】透明基板１２，２２には、金属薄膜又は透
明導電性膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高め
るようにしてもよい。

【００２５】透明保護フィルム１８，２８としては、Ｐ
ＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等のフィルムが好ましく、その厚
さは、一般に１０〜５００μｍ、２５〜２５０μｍが好
ましい。

【００２６】本発明では、透明保護フィルム１８，２８
上にハードコート層が設けられる。この際、上記透明保
護フィルム上に下記低屈折率透明膜を形成し、より高屈
折率を有するハードコート層を設けることにより、反射
防止膜を形成することができる。ハードコート層の下の
積層膜は、例えば、下記（１）〜（５）のような（積
層）構造の積層膜を形成したものが挙げられる。

【００２７】（１）透明基板よりも屈折率の低い透明膜
を一層積層したもの、（２）高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜を１層ずつ合計２層に積層したもの、（３）高屈
折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交互に合計４層
積層したもの、（４）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜
／低屈折率透明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層した
もの、（５）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各
層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率
透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又は
ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ_２、Ｓｎ
Ｏ_２、ＺｒＯ等の屈折率１．６以上の薄膜、好ましくは
透明導電性の薄膜を形成することができる。高屈折率透
明膜は、これらの微粒子をアクリルやポリエステルのバ
インダーに分散させた薄膜でもよい。また、低屈折率透
明膜としてはＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等の屈折
率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成する
ことができる。低屈折率透明膜としては、シリコン系、
フッ素系の有機材料からなる薄膜も好適である。これら
の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるた
め、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが４層
構造の場合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が
５〜５０ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎ
ｍ、第３層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第
４層（低屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚
で形成される。

【００２８】本発明においては、透明保護フィルム上に
シリコン系、フッ素系の有機材料からなる薄膜（低屈折
率透明膜）を塗布等で形成し、この上にハードコート層
（好ましくはＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎ
Ｏ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｚ
ｒＯ等の微粒子を含むもの）を形成し、ハードコート層
が反射防止膜の一部を形成するようにすることが好まし
い。

【００２９】近赤外線カットフィルム２５は、ベースフ
ィルムの表面に、色素等を含む近赤外線カット層が形成
されたものであるか、或いは色素等を含有するフィルム
である。色素の例としては、シアニン系色素、スクアリ
リウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン
系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素を挙げるこ
とができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色
素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて
使用することができる。

【００３０】特に好ましい近赤外線カットフィルム２５
は、ベースフィルムの表面に、ジイモニウム系化合物と
特定の銅錯体及び／又は銅化合物とを含む近赤外線カッ
ト層が形成されたものであり、この近赤外線カット層は
ベースポリマーにジイモニウム系化合物と銅錯体及び／
又は銅化合物とを分散させ、適当な溶剤で希釈して濃度
調整したコーティング液を透明基材フィルム１の表面に
コーティングし、コーティング膜を乾燥させることによ
り形成することができる。

【００３１】上記近赤外線吸収剤として用いるジイモニ
ウム系化合物としては、下記一般式(I)又は(II)で表さ
れるものが挙げられる。

【００３２】

【化１】

【００３３】なお、上記(I)、(II)式中、Ｒ^１、Ｒ^２、
Ｒ^３、Ｒ^４は、水素、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基又は芳香族系の官能基を表し、Ｘ⁻は１価の負イ
オン、Ｙ^２−は２価の負イオンを表す。

【００３４】Ｘ⁻としてはＩ⁻、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｆ⁻
等のハロゲンイオン、ＮＯ_３ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、
ＣｌＯ_４ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻等の無機酸イオン、ＣＨ_３ＣＯ
Ｏ⁻、ＣＦ_３ＣＯＯ⁻、安息香酸イオン等の有機カルボ
ン酸イオン、ＣＨ_３ＳＯ_３ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ベンゼ
ンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン等の
有機スルホン酸イオン等が挙げることができる。また、
Ｙ^２−としてはスルホン酸基を２個有する芳香族ジスル
ホン酸イオンが好ましく、例えばナフタレン−１，５−
ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸（Ｈ
酸のアミノ基にベンゾイル基が結合したもの）、ｐ−ク
ロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、ク
ロルＨ酸（Ｈ酸のアミノ基が塩素原子に置換したも
の）、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホ
ナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニル
Ｒ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフト
ール−４，８−ジスルホン酸等のナフタレンジスルホン
酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’−ジアミノスチル
ベン−２，２’−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、
ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチ
ルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２−オ
キシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジス
ルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−
ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミ
ノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メ
チル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジス
ルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−ス
ルホ）アニリノ−３−スルホン酸等のイオンが挙げられ
る。より好ましい２価の有機陰イオンはナフタレンジス
ルホン酸イオンであり、さらに好ましい２価の有機陰イ
オンとしては、例えば下記一般式(III)で表されるイオ
ンが挙げることができる。

【００３５】

【化２】

【００３６】上記(III)式中、Ｒ^５，Ｒ^６は、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルキル
アミノ基、アミノ基、−ＮＨＣＯＲ^７、−ＮＨＳＯ_２Ｒ
^７、−ＯＳＯ_２Ｒ^７（ここで、Ｒ^７は、置換もしくは未
置換のアリール基又は置換もしくは未置換のアルキル基
を表す）又はアセチル基を表す。

【００３７】このようなジイモニウム系化合物の好適な
ものとしては、下記一般式(IV)で表されるものが挙げら
れる。

【００３８】

【化３】

【００３９】上記(IV)式中、Ｒは炭素数１〜８のアルキ
ル基、好ましくはｎ−ブチル基であり、Ｘ⁻としては好
ましくはＢＦ_４ ⁻，ＰＦ_６ ⁻，ＣｌＯ_４ ⁻，ＳｂＦ_６ ⁻
である。

【００４０】具体的なジイモニウム系化合物としては、
下記構造式(V)で表されるものを挙げることができる。

【００４１】

【化４】

【００４２】また、前記構造（Ａ）を有する銅錯体とし
ては、１，２−ベンゼンチオール銅錯体系化合物を挙げ
ることができ、具体的には下記構造式(VI)で表されるビ
ス（４−ｔ−ブチル−１，２−ジチオフェノレート）銅
−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、下記構造式（VI
I）で表される４−モルホリノスルホニル−１，２−ベ
ンゼンジチオール銅錯体を挙げることができる。

【００４３】

【化５】

【００４４】また、前記構造（Ｂ）を有する銅化合物と
しては、下記構造式(VIII)で表されるジメチルジチオカ
ルバミン酸銅を挙げることができる。

【００４５】

【化６】

【００４６】これらジイモニウム系化合物及び銅錯体及
び／又は銅化合物は、いずれも市販品を用いることが好
ましい。

【００４７】本発明において、近赤外線カット層中のジ
イモニウム系化合物の含有量は、少な過ぎると近赤外線
カット効果が不足し、多過ぎると可視光透過性が悪くな
ることから、ジイモニウム系化合物はベースポリマー１
００質量部に対して０．００１〜１００質量部、特に
０．０１〜５０質量部、とりわけ０．１〜１０質量部と
するのが好ましい。

【００４８】また、近赤外線カット層中の銅錯体及び／
又は銅化合物は、少な過ぎると耐熱性、耐湿性等の耐久
性向上効果が不足し、多過ぎると近赤外線カット層が着
色して近赤外線カットフィルムの外観が悪くなるため、
銅錯体及び／又は銅化合物はジイモニウム系化合物１０
０質量部に対して０．０１〜１００質量部、特に０．１
〜５０質量部、とりわけ０．５〜３０質量部とするのが
好ましい。

【００４９】なお、近赤外線カット層のベースポリマー
としては、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコー
ン樹脂、フェノール樹脂、（メタ）アクリル酸エステル
の単独重合体或いは共重合体（即ちアクリル樹脂）等を
挙げることができ、アクリル樹脂又はポリエステル樹脂
を用いることが好ましい。

【００５０】一方、ベースフィルムとしては、特に限定
されるものではないが、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂（ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂）、
ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂
のフィルムを用いることができ、特に透明性、耐環境性
などの観点から、ポリエステル樹脂フィルムを用いるこ
とが好ましい。

【００５１】なお、ベースフィルムは、得られる電磁波
シールド性フィルタの厚さを過度に厚くすることなく、
取り扱い性、耐久性を確保する上で、１０μｍ〜１ｍｍ
の範囲の厚さとするのが好ましい。また、このベースフ
ィルム上に形成される近赤外線カット層の厚さは、近赤
外線カット性及び可視光透過性の面から通常の場合、
０．５〜５０μｍの範囲である。

【００５２】本発明のＰＤＰ用フィルタでは、近赤外線
カットフィルムは、ベースフィルムに、２層以上の近赤
外線カット層、好ましくは２種以上の近赤外線吸収剤の
層で構成した層を設けても良く、この場合には、近赤外
の幅広い波長域において著しく良好な近赤外線カット性
能を得ることができ、有利である。

【００５３】２層以上の近赤外線カットフィルムは、次
のような構成をとることができる。

【００５４】ベースフィルム上に近赤外線カット層
を形成した近赤外線カットフィルムと、ベースフィルム
上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィル
ム５Ｂとの併用；ベースフィルムの一方の面に近赤外線カット層を形
成し、他方の面にも近赤外線カット層を形成した近赤外
線カットフィルム；ベースフィルム上に近赤外線カット層と近赤外線カ
ット層とを積層形成した近赤外線カットフィルム；ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近
赤外線カットフィルム；上記〜のいずれか２以上の組み合わせ。

【００５５】上記〜の構成において、近赤外線カッ
ト層のうちの一方をジイモニウム系化合物と銅錯体及び
／又は銅化合物とを含む層とし、他方をこれとは異なる
層とするのが好ましい。

【００５６】また、上記の構成において、近赤外線カ
ット層をジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化
合物とを含む層とし、必要に応じて更に異なる近赤外線
吸収剤を配合するのが好ましい。

【００５７】なお、上記の近赤外線カットフィルムのう
ちでも、フィルムが１枚であり、且つ近赤外線カット層
が外面に露出しないところから又はのものが好適で
ある。

【００５８】なお、本発明において、ジイモニウム系化
合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層以外の近赤
外線カット層として、次のようなものを１種又は２種以
上を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことな
く、良好な近赤外線カット性能（例えば８５０〜１２５
０ｎｍなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を
十分に吸収する性能）を得られるので好ましい。（ａ）厚さ１００〜５０００ÅのＩＴＯのコーティン
グ層、（ｂ）厚さ１００〜１００００ÅのＩＴＯと銀
の交互積層体によるコーティング層、（ｃ）厚さ０．
５〜５０μｍのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材
料を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコー
ティング層、（ｄ）厚さ１０〜１００００μｍの２価
の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明のベースポリマ
ーを用いて膜としたコーティング層、（ｅ）厚さ０．
５〜５０μｍの有機色素系コーティング層。

【００５９】本発明においては、例えば近赤外線カット
フィルム上に、更に透明導電性フィルムを積層してもよ
い。この透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分
散させた樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電
性層を形成したものを用いることができる。

【００６０】本発明の導電層（導電性メッシュ）１３，
２３、即ち透明基板１２、２２と透明保護フィルム１
８，２８との間に介在させる導電層１３，２３として
は、一般に金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりな
るものを用いるが、本発明では、光透過性の向上、モア
レ現象の防止を図る上で、例えば、線径１μｍ〜１ｍ
ｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。この導電性
メッシュにおいて、線径が１ｍｍを超えると開口率が下
がるか、電磁波シールド性が下がり、両立させることが
できない。１μｍ未満ではメッシュとしての強度が下が
り、取り扱いが非常に難しくなる。また、開口率は９５
％を超えるとメッシュとして形状を維持することが難し
く、４０％未満では光透過性が低く、ディスプレイから
の光線量が低減される。さらに線径は１０〜５００μ
ｍ、開口率は５０〜９０％であることが好ましい。

【００６１】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。

【００６２】導電性メッシュ１３，２３を構成する金属
繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、一般に、
銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タ
ングステン、錫、鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれ
らの合金、好ましくは銅、ニッケル、ステンレス、アル
ミニウムが用いられる。

【００６３】金属被覆有機繊維の有機材料としては、一
般に、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラ
ミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。

【００６４】本発明においては、特に、上記開口率及び
線径を維持する上で、メッシュ形状の維持に優れた金属
被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが好ま
しい。

【００６５】電磁波シールド材料としては、上記の導電
性メッシュの代わりに、エッチングメッシュ又は導電印
刷メッシュを用いることもできる。

【００６６】エッチングメッシュとしては、金属膜をフ
ォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル
状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いる
ことができる。この金属膜としては、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの透明基板上
に、銅、アルミ、ステンレス、クロムなどの金属膜を、
蒸着やスパッタリングにより形成したもの、又はこれら
の金属箔を接着剤によって透明基板に貼り合わせたもの
を用いることができる。この接着剤としては、エポキシ
系、ウレタン系、ＥＶＡ系などが好ましい。

【００６７】これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒
色の印刷を施しておくことが好ましい。フォトリソグラ
フィーの手法を用いることで、導電部分の形状や線径な
どを自由に設計することができるため、前記導電メッシ
ュに比較して開口率を高くすることができる。

【００６８】導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アル
ミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電
粒子を、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、メラニン
系、セルロース系、アクリル系等の樹脂のバインダーに
混合したものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スク
リーン印刷などにより、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等の透
明基板上に格子状等のパターンで印刷したものを用いる
ことができる。

【００６９】上記のような印刷した導電層をさらに低い
抵抗値にして、電磁波シールド効果を高めたい場合に
は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。こ
の場合、導電層の厚さを、低い値に抑えることができ
る。

【００７０】メッキ処理に使用される材料としては、
銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を挙げる
ことができる。これらは単独で使用しても、２種以上の
合金として使用しても良い。メッキ処理としては、通常
の液相メッキ（電解メッキ、無電解メッキ等）により一
般に行われる。

【００７１】メッキ層の厚さは、一般に０．１〜１０μ
ｍの範囲、２〜５μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満で
は、電磁波シールド効果付与が充分でなく、１０μｍを
超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が
太くなる傾向になる。

【００７２】更に、電磁波シールド材料としては透明導
電膜をコートした透明導電フィルムを用いることもでき
る。

【００７３】フィルム中に分散させる導電性粒子として
は、導電性を有するものであればよく特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げることができる。
(i) カーボン粒子ないし粉末、(ii) ニッケル、インジ
ウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、
銀、プラチナ、アルミ、銅、チタン、コバルト、鉛等の
金属又は合金或いはこれらの導電性酸化物の粒子ないし
粉末、(iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチ
ック粒子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティ
ング層を形成したもの、(iv) ＩＴＯと銀の交互積層体
これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、
０．５ｍｍ以下であることが好ましい。導電性粒子の粒
径は０．０１〜０．５ｍｍの範囲が好ましい。

【００７４】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する質量割合で０．１〜５０質量
％、特に０．１〜２０質量％、とりわけ０．５〜２０質
量％程度とするのが好ましい。

【００７５】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。

【００７６】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤ等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが０．０１μｍ未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、５μｍを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。

【００７７】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ、
アクリル板、ＰＣ、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げること
ができる。

【００７８】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、１μｍ〜５ｍｍの範囲である。

【００７９】導電性メッシュ１３、２３としては、縁部
が透明基板１２、２２の縁部からはみ出て、透明基板２
の縁部に沿って折り返すことができるように、透明基板
１２、２２よりも面積の大きいものを用いてもよい。

【００８０】前記のように、透明保護フィルム１８、２
８の上には、本発明の特徴的部分であるハードコート層
１９，２９が設けられている。

【００８１】本発明のハードコート層１９，２９を形成
するための硬化性樹脂は、一般に紫外線硬化性樹脂であ
り、この紫外線硬化性樹脂としては、公知の紫外線硬化
性樹脂（重合性オリゴマー、多官能性モノマー、単官能
性モノマー、光重合開始剤、添加剤等を含む）を使用す
ることができる。

【００８２】このような紫外線硬化性樹脂は、例えばエ
チレン性二重結合を複数有するウレタンオリゴマー、ポ
リエステルオリゴマー又はエポキシオリゴマー等の重合
性オリゴマー、さらに多官能性モノマー、必要により単
官能性モノマーを主成分として構成される。

【００８３】多官能性モノマー及び単官能性モノマーと
しては、アクリロイル基含有化合物、メタクリロイル基
含有化合物及び／又はエポキシ基含有化合物等を挙げる
ことができる。

【００８４】使用するアクリロイル基含有化合物及びメ
タクリロイル基含有化合物としては、一般にアクリル酸
あるいはメタクリル酸誘導体であり、例えばアクリル酸
あるいはメタクリル酸のエステルやアミドを挙げること
ができる。エステル残基の例としては、メチル、エチ
ル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等の直鎖状のアル
キル基、シクロヘキシル基、テトラヒドルフルフリル
基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒ
ドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプオ
ピル基を挙げることができる。また、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコー
ルとアクリル酸あるいはメタクリル酸のエステル（例、
ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ））を
挙げることができる。

【００８５】アミドの例としては、ジアセトンアクリル
アミドを挙げることができる。

【００８６】エポキシ含有化合物としては、トリグリシ
ジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、アリ
ルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジル
エーテル、フェニルグリシジルエーテル、フェノール
（エチレンオキシ）_５グリシジルエーテル、ｐ−ｔ−ブ
チルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシ
ジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、グリシ
ジルメタクリレート、ブチルグリシジルエーテルを挙げ
ることができる。

【００８７】樹脂は、前記のようにオリゴマー、必要に
より反応性稀釈剤（多官能性モノマー、単官能性モノマ
ー）、光重合開始剤から一般に構成される。光重合開始
剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾ
イルメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサ
クロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ
−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、
１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−
ジアザ−１，９−ベンズアンスロン；アセトフェノン、
アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン
系化合物、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メ
チルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４,
４’−ジメトキシベンゾフェノン、４,４’−ジアミノ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン、カルバゾール、キサントン、１,１−ジメトキシ
デオキシベンゾイン、３,３’−ジメチル−４−メトキ
シベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、ジエチル
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２
−クロロチオキサントン、１−（４−ドデシルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、トリフェニ
ルアミン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキシベン
ゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルフォスフィン
オキシド、ビスアシルフォスフィンオキシド、ベンジル
ジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、フルオレノン、フルオレン、ベ
ンズアルデヒド、ミヒラーケトン、２−ベンジル−２−
ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−
ブタン−１−オン、３−メチルアセトフェノン、３,
３’,４,４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）等が挙げることがで
き、さらにＢＴＴＢと色素増感剤、例えばキサンテン、
チオキサンテン、クマリン、ケトクマリン等との組み合
わせ等を挙げることができる。これらのうち、特にベン
ジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキ
シベンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルフォス
フィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン
が好ましい。

【００８８】これらは単独で、又は２種以上組み合わせ
て使用することができる。オリゴマー、反応性稀釈剤及
び開始剤は、それぞれ一種用いても良く、二種以上組み
合わせて用いてもよい。反応性稀釈剤の含有量は、紫外
線硬化性樹脂（全体）１００質量部に対して０．１〜７
０質量部が一般的であり、０．５〜５０質量部が好まし
い。光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂１００
質量部に対して５質量部以下が好ましい。

【００８９】本発明の紫外線硬化性樹脂は、さらに微粒
子シリカ及び／又は変性微粒子シリカを含んでいても良
いし、またシリコーン重合体を含むことができる。好ま
しくはシリコーンを側鎖にもつグラフト共重合体であ
り、さらに好ましくはシリコーンを側鎖にもつアクリル
系グラフト共重合体である。

【００９０】上記紫外線硬化性樹脂には、また必要に応
じて各種添加剤を添加することができるが、これらの添
加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安
定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止
剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、
可塑剤、滑剤、溶媒、無機系充填材、有機系充填材、フ
ィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を挙げることがで
きる。

【００９１】本発明のハードコート層は、近赤外線を吸
収する色素を含有することが好ましい。これにより透明
性をほとんど低下させずに近赤外線カット機能を大幅に
向上させることができる。また、ハードコート層が電磁
波を遮断するための導電性微粒子を含有することが好ま
しい。これにより透明性をほとんど低下させずに電磁波
シールド機能を大幅に向上させることができる。

【００９２】色素を含有させる場合、前記近赤外線カッ
トフィルムにおいて記載した色素を適宜使用することが
できる。含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、
０．０１〜３質量部が好ましく、特に０．０５〜１質量
部が好ましい。

【００９３】導電性微粒子を含有させる場合、前記導電
性メッシュにおいてフィルム中に分散させる導電性粒子
として記載した微粒子を適宜使用することができる。含
有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、０．０１〜
３質量部が好ましく、特に０．０５〜１質量部が好まし
い。

【００９４】また前述のように、ハードコート層を反射
防止膜の一部として使用する場合は、そのままでも機能
する場合はあるが、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又
はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ
_２、ＺｒＯ等の微粒子を含むハードコート層を形成する
ことが好ましい。

【００９５】上記のように近赤外線カット機能或いは電
磁波遮断機能、さらには反射防止層の一部としての機
能、を付与することにより、ＰＤＰ用フィルタをハード
コート層以外は同様に製造し、ハードコート層の形成の
際に上記機能を調整することができるので、ハードコー
ト層の形成が耐傷性の向上にだけでなく、製造されるフ
ィルタの特性調整に利用でき、極めて有利である。

【００９６】尚、ハードコート層形成材料として、紫外
線硬化性樹脂の代わりに熱硬化性樹脂を用いても良く、
その場合、反応性アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂等を利用することができ。前記紫外線硬化性樹脂
も使用することもできる。またメチルクロロシランを熱
硬化させたポリヒドロキシシランも用いることができ
る。

【００９７】紫外線硬化性樹脂を用いてハードコート層
を形成する場合、紫外線硬化性樹脂をそのまま、又は有
機溶剤で適当な濃度に稀釈して、得られた溶液を適当な
塗布機（コーター）で適当な透明保護フィルム又は反射
防止フィルム１８，２８上に塗布し、必要により乾燥し
た後、直接又は剥離シートを介して（真空脱気後）ＵＶ
ランプにて紫外線を数秒〜数分間照射し、ハードコート
層を形成することができる。ＵＶランプとしては、高圧
水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドラン
プ等使用することができる。

【００９８】熱硬化性樹脂を用いてハードコート層を形
成する場合、熱硬化性樹脂の有機溶剤溶液を、適当な塗
布機（コーター）で適当な上記フィルム上に塗布し、必
要により剥離シートを設け、ラミネータ等にて脱気後、
熱硬化、熱圧着を行う。剥離シートを用いない場合は、
加熱、圧着前に、６０秒程度乾燥して塗布層の溶剤を蒸
発させ表面が粘着しない程度に乾燥させるとが好まし
い。剥離シートを使用する場合も、少し乾燥して剥離シ
ートを設けることが好ましい。

【００９９】ハードコート層の層厚は、１層の場合０．
１〜２０μｍ（特に１〜１５μｍ）が好ましく、多層の
場合も合計でこれらの範囲にあることが好ましい。

【０１００】ハードコート層を有する透明保護フィルム
１８，２８、導電性メッシュ１３，２３及び透明基板１
２、２２を接着する接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂを構成
する接着樹脂としては、透明で弾性のあるもの、例え
ば、通常、合せガラス用接着剤として用いられているも
のが好ましい。特に、透明基板１２，２２よりも前面側
に配置される接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂとして、飛散
防止能の高い弾性膜を用いると効果的である。

【０１０１】このような弾性を有する膜の樹脂として
は、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アク
リル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル
共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合
体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重
合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボ
キシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メ
タ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン
系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）ア
クリル」は「アクリル又はメタクリル」を表す）。その
他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができる
が、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝
撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合
せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【０１０２】接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂの厚さは、一
般に１０〜１０００μｍの範囲が好ましい。また、近赤
外線カットフィルム２５は粘着剤２４Ｃを用いて透明基
板２に積層するのが好ましい。近赤外線カットフィルム
２５は熱に弱く加熱架橋温度（１３０〜１５０℃）に耐
えられないためである。尚、低温架橋型ＥＶＡ（架橋温
度７０〜１３０℃程度）であればこの近赤外線カットフ
ィルム２５の透明基板１２，２２への接着に使用するこ
とができる。

【０１０３】なお、接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂ，粘着
剤２４Ｃは、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老
化防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、ま
た、フィルタ自体の色合いを調整するために染料、顔料
などの着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸
カルシウム等の充填剤を適量配合してもよい。

【０１０４】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【０１０５】この接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添
加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレン
ダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜
法により所定の形状にシート成形することにより製造さ
れる。成膜に際しては、一般にブロッキング防止、透明
基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与
される。

【０１０６】このようなＥＶＡ樹脂以外にも、前記の通
りＰＶＢ樹脂も好適に用いることができる。このＰＶＢ
樹脂は、ポリビニルアセタール単位が７０〜９５質量
％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５質量％で、平均重合
度が２００〜３０００、好ましくは３００〜２５００で
あるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可塑剤を含む樹脂組
成物として使用される。

【０１０７】その他の透明接着剤として、粘着剤（感圧
接着剤）も好適に使用され、アクリル系、ＳＢＳ、ＳＥ
ＢＳ等の熱可塑性エラストマー系などが好適に用いられ
る。これらの粘着剤には、タッキファイヤー、紫外線吸
収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等
を適宜添加することができる。粘着剤は予め、反射防止
フィルムや近赤外線カットフィルムの接着面に５〜１０
０μｍの厚みでコーティング又は貼り合わせておき、そ
れを透明基板や他のフィルムに貼り合わせることができ
る（ＥＶＡが熱に弱いため）。

【０１０８】本発明のＰＤＰ用フィルタを作製する際、
通常、導電性粘着テープ２７は、２枚重ね状に用いられ
ている。外側のテープ２７は、透明基板２２、導電性メ
ッシュ２３及び近赤外線カットフィルム２５の積層体の
全周において、端面の全体に付着すると共に、この積層
体の表裏の角縁を回り込み、反射防止フィルム２８の端
縁部と近赤外線カット層フィルム２５の端縁部の双方に
も付着している。内側のテープ２７は、この導電性メッ
シュ２３の端縁部と、近赤外線カットフィルム２５の端
縁部と、これらの間の積層体側周面とにそれぞれ付着し
ている。

【０１０９】導電性粘着テープ２７としては、一般に、
図２に示すように金属箔２７Ａの一方の面に、導電性粒
子を分散させた粘着層２７Ｂを設けたものであって、こ
の粘着層２７Ｂには、アクリル系、ゴム系、シリコン系
粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配
合したものを用いることができる。

【０１１０】粘着層２７Ｂに分散させる導電性粒子とし
ては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを
使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の
金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミ
ック粉体等を使用することができる。また、その形状に
ついても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペ
レット状等の任意の形状をとることができる。

【０１１１】この導電性粒子の配合量は、粘着層７Ｂを
構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であること
が好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍ
の範囲が好ましい。このように、配合量及び粒径を規定
することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な
導電性を得ることができる。

【０１１２】導電性粘着テープ２７の基材となる金属箔
２７Ａとしては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ス
テンレス等の箔を用いることができ、その厚さは一般
に、１〜１００μｍの範囲である。

【０１１３】粘着層２７Ｂは、この金属箔２７Ａに、前
記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合した
ものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコータ
ー、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコ
ーター等により塗布することにより容易に形成すること
ができる。

【０１１４】この粘着層２７Ｂの厚さは、一般に５〜１
００μｍの範囲である。

【０１１５】図２に示すＰＤＰ用フィルタの製造は、例
えば下記のように行うことができる。透明保護フィルム
２８と、導電性メッシュ２３と、透明基板２２と、近赤
外線カットフィルム２５と、接着用中間膜２４Ａ，２４
Ｂ、粘着剤２４Ｃ及び導電性粘着テープ２７を準備し、
透明保護フィルム２８、導電性メッシュ２３、透明基板
２２を各々の間に接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂを介在さ
せて積層し、接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂの硬化条件で
加圧下、加熱又は光照射して一体化する。次いで、粘着
剤２４Ｃにより近赤外線カットフィルム２５を貼り合わ
せる。必要に応じ導電性メッシュ２３の周縁のはみ出し
部分を折り返し、その後、導電性粘着テープ２７を積層
体の周囲に周回させて留め付け、用いた導電性粘着テー
プ２７の硬化方法等に従って、加熱圧着するなどして接
着固定する。

【０１１６】なお、接着用中間膜２４Ａ，２４Ｂの一部
又は全部の代わりに、粘着剤を用いても良い。

【０１１７】導電性粘着テープ２７に架橋型導電性粘着
テープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘
着層２７Ｂの粘着性を利用して積層体に貼り付け（この
仮り止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である）、
その後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線
照射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行っても
よい。なお、この加熱又は光照射を局部的に行うこと
で、架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させる
ようにすることもできる。

【０１１８】加熱接着は、一般的なヒートシーラーで容
易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架
橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に
入れ脱気後加熱する方法でもよく、接着はきわめて容易
に行うことができる。

【０１１９】この接着条件としては、熱架橋の場合は、
用いる架橋剤（有機過酸化物）の種類に依存するが、通
常７０〜１５０℃、好ましくは７０〜１３０℃で、通常
１０秒〜１２０分、好ましくは２０秒〜６０分である。

【０１２０】また、光架橋の場合、光源としては紫外〜
可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高
圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カ
ーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。
照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概に
は決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架
橋促進のために、予め４０〜１２０℃に加熱した後、こ
れに紫外線を照射してもよい。

【０１２１】また、接着時の加圧力についても適宜選定
され、通常５〜５０ｋｇ／ｃｍ^２、特に１０〜３０ｋｇ
／ｃｍ^２の加圧力とすることが好ましい。

【０１２２】このようにして導電性粘着テープ７を取り
付けたＰＤＰ用フィルタは、筐体に単にはめ込むのみで
極めて簡便かつ容易に組み込むことができる。また、導
電性メッシュ１３，２３の縁部をはみ出させて折り返し
た場合には、導電性粘着テープ２７を介して導電性メッ
シュ１３，２３と筐体との良好な導通をその周縁部にお
いて均一にとることができる。このため、良好な電磁波
シールド効果が得られると共に、近赤外線カットフィル
ム５の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られ
る。さらに、透明基板２が１枚のみ用いられているの
で、薄く軽量である。また、この透明基板の両側をフィ
ルム２８，２５で被装しているから、透明基板の割れが
防止されると共に、万一割れたときの透明基板の飛散が
防止される。

【０１２３】なお、図１、図２に示すＰＤＰ用フィルタ
は本発明のフィルタの一例であって、本発明はこれらに
限定されるものではない。例えば、近赤外線カットフィ
ルムと共に透明導電性フィルムを設けたものであっても
よい。また、透明基板１２，２２の板面に直接透明導電
性膜が形成されていてもよい。

【０１２４】本発明のＰＤＰ用フィルタの製造において
は、所望により防眩層等、他の層を設けるための工程を
さらに行っても良い。防眩層は、たとえば黒化処理、即
ち金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又
は暗色系インキの塗布、により形成することができる。

【０１２５】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルタを備えた表示装置は、フロントガラスとリヤガラ
ス間に隔壁、表示セル、補助セル等が配置され、各表示
セルの内壁には赤色螢光体、緑色螢光体、青色螢光体が
膜状に設けられたの基本構造を有し、このフロントガラ
スの表面に上記フィルタが貼付されたもので、図３にそ
の１例の概略断面図を示す。図３において、本発明のフ
ィルタ３０をプラズマディスプレイパネル４０のフロン
トガラス５０の前面に配置し、公知の手段で取り付け、
固定されている。

【０１２６】

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明する。

【０１２７】［実施例１］表面に銅箔が形成された厚さ
２００μｍのポリカーボネートフィルムの、銅箔の上に
フォトレジストを塗布し、乾燥後、メッシュパターン状
のマスクを介してレジスト層を露光し、現像し、次いで
エッチング処理を行った。これにより導電層（メッシュ
パターン金属層：厚さ１０μｍ、線幅１０μｍ、線のピ
ッチ：３００μｍ、開口率：９０％）を有するポリカー
ボネートフィルム（導電層を有する透明基板）を得た。

【０１２８】厚さ６０μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム（Ｔ６０、（株）東レ製）に、ハードコード
塗料（ＷＢＳ１、大日本インキ化学工業（株）製）をバ
ーコータで塗布し、乾燥後、紫外線照射（１ｋＷ／ｃｍ
ＵＶランプ、照射距離２０ｃｍ、照射時間３０秒）して
ハードコート（層厚５μｍ）を形成した。ハードコート
層付き透明保護フィルムを得た。

【０１２９】近赤外線カット層形成材料として、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェ
ニル）−ｐ−フェニレンジイモニムの６フッ化アンチモ
ン酸塩（商品名ＣＩＲ−１０８１、日本カーリット
（株）製）０．２５ｇ、ビス（４−ｔ−ブチル−１，２
−ジチオフェノレート）銅−テトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウム（商品名ＢＢＴ、住友精化（株）社製）及びポリ
エステル樹脂（テルベット８０Ｎ、旭化成工業（株）
製）７．５ｇを、ジクロロメタン１８．５ｇ、テトラヒ
ドロフラン３７ｇ及びトルエン３７ｇの混合溶剤に溶解
してコーティング液を調製した。このコーティング液を
幅２００ｍｍ、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルムにコーティングし、室温で乾燥して厚さ
５μｍの近赤外線カット層を形成した。こうして近赤外
線カットフィルムを得た。

【０１３０】上記で得られた近赤外線カットフィルム、
ポリカーボネートフィルム及びハードコート層付き透明
保護フィルムを、この順で各間に接着用中間膜（エチレ
ン酢酸ビニル共重合体）を介して積層し、１００℃、６
０分間圧着し、本発明のＰＤＰ用フィルタを得た。

【０１３１】［実施例２］実施例１において、ハードコ
ード塗料として、実施例１のハードコート塗料に、１／
１０の量の近赤外線カット層形成材料を含有させたもの
を使用した以外同様にＰＤＰ用フィルタを作製した。

【０１３２】［実施例３］実施例１において、透明保護
フィルム上にフッ素系ポリマー含有塗布液を塗布、乾燥
し、膜厚５μｍの低屈折率透明膜を形成し、この上にハ
ードコード塗料として、実施例１のハードコート塗料に
ＩＴＯ微粒子（塗料固形分に対して５０質量％含有）を
含むものを用いて、ハードコート層を形成した以外同様
にＰＤＰ用フィルタを作製した。

【０１３３】［比較例１］実施例１において、ハードコ
ード層を設けなかった以外同様にＰＤＰ用フィルタを作
製した。

【０１３４】＜ＰＤＰ用フィルタの評価＞実施例１、２
及び３で得られたＰＤＰ用フィルタは、耐擦り傷性に優
れており、製造中に表面の傷の発生が見られなかった。
一方、比較例１で得られたＰＤＰ用フィルタは、実施例
１及び２で得られたものに比べて耐擦り傷性が劣ってお
り、製造中にフィルタ表面に若干の傷の発生が見られ
た。

【０１３５】さらに、実施例２で得られたＰＤＰ用フィ
ルタは、耐擦り傷性が低下することなく近赤外線カット
性においても向上していた。実施例３で得られたＰＤＰ
用フィルタは、耐擦り傷性が低下することなく、さらに
反射防止性が著しく向上していた。

【０１３６】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル用
フィルタにより、プラズマディスプレイパネル用フィル
タの製造中、製造後において、プラズマディスプレイパ
ネル用フィルタの表面（露出した側の透明基板表面）の
傷付きを防止することができ、得られるフィルタの商品
価値の向上を計ることができる。また製造中後の傷が付
機を防止することができ、耐久性に優れたＰＤＰ用フィ
ルタと言うことができる。また、本発明のハードコート
層として、近赤外線を吸収する色素を含有するハードコ
ート層を用いることができ、この場合、透明性をほとん
ど低下させずに近赤外線カット機能を大幅に向上させる
ことができる。またハードコート層が電磁波を遮断する
ための導電性微粒子を含有することもでき、これにより
透明性をほとんど低下させずに電磁波シールド機能を大
幅に向上させることができる。このように近赤外線カッ
ト機能、電磁波遮断機能を付与することにより、或いは
前記のように反射防止層の一部としての機能を付与する
ことにより、ＰＤＰ用フィルタをハードコート層以外は
同様に製造し、ハードコート層の形成の際に上記機能を
調整することができるので、ハードコート層の形成が耐
傷性の向上にだけでなく、製造されるフィルタの特性調
整に利用でき、極めて有利である。

【０１３７】このため、本発明のフィルタは、プラズマ
ディスプレーパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタとして好
適であることが明らかである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプラズマディスプレイパネル用フィル
タの基本構造を示す概略図である。

【図２】本発明のプラズマディスプレイパネル用フィル
タの好ましい構造の一例を示す概略図である。

【図３】本発明のフィルタを取り付けたプラズマディス
プレイパネルの表示装置の一例の概略断面図である。

【符合の説明】

１２，２２透明基板１３，２３電磁波を遮断するための導電層（導電性メ
ッシュ）１８，２８透明保護フィルム２４Ａ，２４Ｂ接着用中間膜２４Ｃ粘着剤２５近赤外線カットフィルム２７導電性粘着テープ１９，２９ハードコート層３０ＰＤＰ用フィルタ４０プラズマディスプレイパネル５０フロントガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｈ０４Ｎ 5/66 １０１Ａ５Ｇ４３５ 5/22 Ｈ０５Ｋ 9/00 ＶＨ０４Ｎ 5/66 １０１Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＨ０５Ｋ 9/00 ＺＦターム(参考） 2H048 CA04 CA12 CA24 2K009 AA05 AA06 AA07 AA09 AA15 CC03 CC06 CC09 CC14 CC26 CC34 EE03 4F100 AB01B AB17 AB33 AK01B AK42C AK45 AR00C AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D BA10E CA07D CA13D DC11B DE01D DG04B GB41 JD08B JD08D JD10E JG01B JG01D JK12D JN01A JN01C 5C058 AA11 AB05 BA33 5E321 AA04 BB21 BB25 BB32 BB41 GG05 GH01 5G435 AA07 AA16 BB06 GG33 HH03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板、その上に設けられた電磁波を
遮断するための導電層及び導電層上に設けられた透明保
護フィルムからなるプラズマディスプレイパネル用フィ
ルタであって、該透明保護フィルムの表面にハードコー
ト層が設けられたことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル用フィルタ。
【請求項２】透明基板、その一方の表面に設けられた
電磁波を遮断するための導電層及び導電層上に設けられ
た透明保護フィルム、そして透明基板の他方の表面に設
けられた近赤外線カットフィルムからなるプラズマディ
スプレイパネル用フィルタであって、該透明保護フィル
ムの表面にハードコート層が設けられたことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項３】ハードコート層が近赤外線を吸収する色
素を含有する請求項１又は２に記載のプラズマディスプ
レイパネル用フィルタ。
【請求項４】ハードコート層が電磁波を遮断するため
の導電性微粒子を含有する請求項１〜３のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項５】ハードコート層が、該ハードコート層よ
り屈折率が低い低屈折率透明層を介して透明保護フィル
ム上に設けられている請求項１〜４のいずれかに記載の
プラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項６】該透明保護フィルムがポリエチレンテレ
フタレートフィルムである請求項１〜５のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項７】導電層が、金属繊維メッシュ、金属被覆
有機繊維メッシュ、又はメッシュパターン状の金属層、
金属含有樹脂層若しくは該金属含有樹脂層と金属層との
積層体である１〜６のいずれかに記載のプラズマディス
プレイパネル用フィルタ。
【請求項８】１〜７のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイパネル用フィルタを備えた表示装置。