JP2002273868A - 材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、ｅｌ装置の製造装置及び製造方法、並びにそれら方法により製造される電子機器 - Google Patents
材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、ｅｌ装置の製造装置及び製造方法、並びにそれら方法により製造される電子機器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタのフィルタエレメントやＥＬ
装置の絵素ピクセル等といったパターンを形成するため
のインクジェットヘッド部分の走査時間を短縮化する。 【解決手段】 基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造装置である。この装置は、複数のノズル２７が並ん
で成るノズル列２８を有する複数のヘッド部２０と、ヘ
ッド部２０へフィルタエレメント材料を供給するインク
供給装置と、ヘッド部２０を並べて支持するキャリッジ
２５と、キャリッジ２５をＸ方向へ主走査移動させる主
走査駆動装置と、キャリッジ２５をＹ方向へ副走査移動
させる副走査駆動装置とを有する。キャリッジ２５は複
数のヘッド部２０を個々に面内傾斜角度θの傾斜状態で
支持する。
装置の絵素ピクセル等といったパターンを形成するため
のインクジェットヘッド部分の走査時間を短縮化する。 【解決手段】 基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造装置である。この装置は、複数のノズル２７が並ん
で成るノズル列２８を有する複数のヘッド部２０と、ヘ
ッド部２０へフィルタエレメント材料を供給するインク
供給装置と、ヘッド部２０を並べて支持するキャリッジ
２５と、キャリッジ２５をＸ方向へ主走査移動させる主
走査駆動装置と、キャリッジ２５をＹ方向へ副走査移動
させる副走査駆動装置とを有する。キャリッジ２５は複
数のヘッド部２０を個々に面内傾斜角度θの傾斜状態で
支持する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に材料を吐
出する材料の吐出装置、及び材料の吐出方法に関する。
より具体的には、液晶装置等といった光学装置に用いら
れるカラーフィルタを製造する製造装置及び製造方法に
関する。また、本発明は、カラーフィルタを有する液晶
装置の製造装置及び製造方法に関する。また、本発明
は、ＥＬ発光層を用いて表示を行うＥＬ装置の製造装置
及び製造方法に関する。また、それら方法を用いて製造
される電子機器に関する。
出する材料の吐出装置、及び材料の吐出方法に関する。
より具体的には、液晶装置等といった光学装置に用いら
れるカラーフィルタを製造する製造装置及び製造方法に
関する。また、本発明は、カラーフィルタを有する液晶
装置の製造装置及び製造方法に関する。また、本発明
は、ＥＬ発光層を用いて表示を行うＥＬ装置の製造装置
及び製造方法に関する。また、それら方法を用いて製造
される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
等といった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロル
ミネッセンス装置（以下ＥＬ装置という）等といった表
示装置が広く用いられている。また最近では、表示装置
によってフルカラー表示を行うことが多くなっている。
液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によ
って変調される光をカラーフィルタに通すことによって
行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラス
チック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ
（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色フィルタ
エレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク
配列等といった所定の配列で並べることによって形成さ
れる。
等といった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロル
ミネッセンス装置（以下ＥＬ装置という）等といった表
示装置が広く用いられている。また最近では、表示装置
によってフルカラー表示を行うことが多くなっている。
液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によ
って変調される光をカラーフィルタに通すことによって
行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラス
チック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ
（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色フィルタ
エレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク
配列等といった所定の配列で並べることによって形成さ
れる。
【０００３】また、ＥＬ装置によってフルカラー表示を
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、電極を配列し、その上に例
えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色
ＥＬ発光層を所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を
電極に印加する電圧を制御することによって希望の色を
発光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、電極を配列し、その上に例
えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色
ＥＬ発光層を所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を
電極に印加する電圧を制御することによって希望の色を
発光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
【０００４】従来、カラーフィルタのＲ，Ｇ，Ｂ等の各
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ
装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ
装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
【０００５】この問題を解消するため、インクジェット
法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやＥＬ
発光層等を形成する方法が提案された。
法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやＥＬ
発光層等を形成する方法が提案された。
【０００６】例えば、図２２（ａ）において、ガラス、
プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわ
ゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネ
ル領域３０２の内部領域に、図２２（ｂ）に示すよう
に、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３
０３をインクジェット法に基づいて形成する場合を考え
る。この場合には、例えば図２２（ｃ）に示すように、
複数のノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３０
５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２２
（ｂ）に矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパ
ネル領域３０２に関して複数回（図２２（ｂ）では２
回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノ
ズルから選択的にインクすなわちフィルタエレメント材
料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメン
ト３０３を形成する。
プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわ
ゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネ
ル領域３０２の内部領域に、図２２（ｂ）に示すよう
に、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３
０３をインクジェット法に基づいて形成する場合を考え
る。この場合には、例えば図２２（ｃ）に示すように、
複数のノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３０
５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２２
（ｂ）に矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパ
ネル領域３０２に関して複数回（図２２（ｂ）では２
回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノ
ズルから選択的にインクすなわちフィルタエレメント材
料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメン
ト３０３を形成する。
【０００７】フィルタエレメント３０３はＲ，Ｇ，Ｂ等
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図２２（ｂ）に示すインクジェッ
トヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ，Ｇ，Ｂの
単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，
Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード
３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図２２（ｂ）に示すインクジェッ
トヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ，Ｇ，Ｂの
単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，
Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード
３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
【０００８】ところで、通常のインクジェットヘッド３
０６に設けられるノズル数は１６０〜１８０程度であ
る。また、通常のマザーボード３０１はそのインクジェ
ットヘッド３０６よりも大きな面積を有している。従っ
て、インクジェットヘッド３０６を用いてマザーボード
３０１の表面にフィルタエレメント３０３を形成する際
には、インクジェットヘッド３０６をマザーボード３０
１に対して相対的に副走査移動させながらインクジェッ
トヘッド３０６でマザーボード３０１を複数回主走査移
動させて各主走査中にインク吐出を行って描画を行うこ
とが必要となる。
０６に設けられるノズル数は１６０〜１８０程度であ
る。また、通常のマザーボード３０１はそのインクジェ
ットヘッド３０６よりも大きな面積を有している。従っ
て、インクジェットヘッド３０６を用いてマザーボード
３０１の表面にフィルタエレメント３０３を形成する際
には、インクジェットヘッド３０６をマザーボード３０
１に対して相対的に副走査移動させながらインクジェッ
トヘッド３０６でマザーボード３０１を複数回主走査移
動させて各主走査中にインク吐出を行って描画を行うこ
とが必要となる。
【０００９】しかしながら、このような方法では、マザ
ーボード３０１に対するインクジェットヘッド３０６の
走査回数が多くて描画時間、すなわちカラーフィルタの
製造時間が長くかかるという問題があった。この問題を
解消するため、本出願人は特願平１１−２７９７５２号
において、複数のヘッド部を支持部材によって直線状に
並べて支持することにより、実質的なノズル数を多くす
るという発明を提案した。
ーボード３０１に対するインクジェットヘッド３０６の
走査回数が多くて描画時間、すなわちカラーフィルタの
製造時間が長くかかるという問題があった。この問題を
解消するため、本出願人は特願平１１−２７９７５２号
において、複数のヘッド部を支持部材によって直線状に
並べて支持することにより、実質的なノズル数を多くす
るという発明を提案した。
【００１０】この方法を用いれば、例えば図２３（ａ）
に示すように、複数例えば６個のヘッド部３０６を支持
部材３０７によって直線状に支持し、この支持部材３０
７を副走査方向Ｙへ副走査移動させながら、矢印Ａ１、
Ａ２、……のように主走査を複数回行って各主走査の際
に各ノズル３０４から選択的にインクを吐出する。この
方法によれば、１回の主走査で広い領域にインクを供給
できるので、確かにカラーフィルタの製造時間を短縮化
できる。
に示すように、複数例えば６個のヘッド部３０６を支持
部材３０７によって直線状に支持し、この支持部材３０
７を副走査方向Ｙへ副走査移動させながら、矢印Ａ１、
Ａ２、……のように主走査を複数回行って各主走査の際
に各ノズル３０４から選択的にインクを吐出する。この
方法によれば、１回の主走査で広い領域にインクを供給
できるので、確かにカラーフィルタの製造時間を短縮化
できる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図２３
（ａ）に示す従来の方法においては、各ヘッド部３０６
が副走査方向Ｙと平行に配置されて一直線状のノズル列
が形成されるので、複数のノズル間の間隔、すなわちノ
ズル間ピッチはマザーボード３０１側のフィルタエレメ
ント３０３間の間隔、すなわちエレメント間ピッチと同
じであることが必要であった。しかしながら、ノズル間
ピッチがエレメント間ピッチと等しくなるようにインク
ジェットヘッドを形成することは非常に難しかった。
（ａ）に示す従来の方法においては、各ヘッド部３０６
が副走査方向Ｙと平行に配置されて一直線状のノズル列
が形成されるので、複数のノズル間の間隔、すなわちノ
ズル間ピッチはマザーボード３０１側のフィルタエレメ
ント３０３間の間隔、すなわちエレメント間ピッチと同
じであることが必要であった。しかしながら、ノズル間
ピッチがエレメント間ピッチと等しくなるようにインク
ジェットヘッドを形成することは非常に難しかった。
【００１２】この問題を解消するため、図２３（ｂ）に
示すように、支持部材３０７を副走査方向Ｙに対して角
度θをもって傾斜させることによってヘッド部３０６の
ノズル間ピッチとマザーボード３０１内のエレメント間
ピッチとを一致させる方法が考えられる。しかしなが
ら、この場合には、一列に並んだヘッド部３０６によっ
て構成されるノズル列が主走査方向Ｘに寸法Ｚをもって
ずれることになり、インク吐出のための主走査時間がそ
のずれ量分だけ長くなるという問題が発生する。特に、
図２３（ｂ）に示すような６連構造のヘッドユニットを
用いる場合にはノズル列が長くなるので上記のずれ寸法
も長くなり、よって、主走査時間をより一層長くしなけ
ればならないという問題が発生する。
示すように、支持部材３０７を副走査方向Ｙに対して角
度θをもって傾斜させることによってヘッド部３０６の
ノズル間ピッチとマザーボード３０１内のエレメント間
ピッチとを一致させる方法が考えられる。しかしなが
ら、この場合には、一列に並んだヘッド部３０６によっ
て構成されるノズル列が主走査方向Ｘに寸法Ｚをもって
ずれることになり、インク吐出のための主走査時間がそ
のずれ量分だけ長くなるという問題が発生する。特に、
図２３（ｂ）に示すような６連構造のヘッドユニットを
用いる場合にはノズル列が長くなるので上記のずれ寸法
も長くなり、よって、主走査時間をより一層長くしなけ
ればならないという問題が発生する。
【００１３】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、カラーフィルタのフィルタエレメントや
ＥＬ装置の絵素ピクセル等といったパターンを形成する
ためのインクジェットヘッド部分の走査時間を短縮化す
ることを目的とする。
ものであって、カラーフィルタのフィルタエレメントや
ＥＬ装置の絵素ピクセル等といったパターンを形成する
ためのインクジェットヘッド部分の走査時間を短縮化す
ることを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係る材料の吐出装置は、対象物上に材料を
吐出する材料の吐出装置において、複数のノズルを配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記複数のヘッ
ドを支持する支持機構と、前記対象物及び前記支持機構
のうちいずれか一方を他方に対して走査する機構と、を
有し、前記走査の方向に対して前記ノズル列が傾斜して
いることを特徴とする。より具体的には、前記複数のヘ
ッドを、前記支持機構の長手方向に対して傾斜して支持
する。尚、ここでいう「走査」とは主走査方向、又は主
走査方向と交差する副走査方向のいずれか一方、又は双
方を示すものである。
め、本発明に係る材料の吐出装置は、対象物上に材料を
吐出する材料の吐出装置において、複数のノズルを配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記複数のヘッ
ドを支持する支持機構と、前記対象物及び前記支持機構
のうちいずれか一方を他方に対して走査する機構と、を
有し、前記走査の方向に対して前記ノズル列が傾斜して
いることを特徴とする。より具体的には、前記複数のヘ
ッドを、前記支持機構の長手方向に対して傾斜して支持
する。尚、ここでいう「走査」とは主走査方向、又は主
走査方向と交差する副走査方向のいずれか一方、又は双
方を示すものである。
【００１５】この本発明の材料の吐出装置によれば、複
数のヘッドを支持した支持手段によって基板を走査し、
それら複数のヘッド部から材料を吐出することができ、
それ故、１個のヘッド部を用いて対象物を走査する場合
に比べて、走査時間を短縮できる。
数のヘッドを支持した支持手段によって基板を走査し、
それら複数のヘッド部から材料を吐出することができ、
それ故、１個のヘッド部を用いて対象物を走査する場合
に比べて、走査時間を短縮できる。
【００１６】本発明にあっては、前記ノズル列のノズル
間ピッチは、前記複数のヘッドにおいて実質的に等し
く、前記ノズル列の傾斜角度の大きさは、前記複数のヘ
ッドにおいて実質的に等しいと好ましい。こうすること
により、吐出物が対象物上に規則的に吐出できるように
なり、規則的なパターンを描くための制御が容易になる
からである。
間ピッチは、前記複数のヘッドにおいて実質的に等し
く、前記ノズル列の傾斜角度の大きさは、前記複数のヘ
ッドにおいて実質的に等しいと好ましい。こうすること
により、吐出物が対象物上に規則的に吐出できるように
なり、規則的なパターンを描くための制御が容易になる
からである。
【００１７】また、各ヘッド部は傾斜状態で走査を行う
ので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピッ
チを対象物上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。
ので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピッ
チを対象物上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。
【００１８】さらに、支持手段の全体を傾斜させるので
はなくて個々のヘッド部を傾斜させるので、基板に近い
側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は支持
手段の全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ
故、支持手段によって基板を走査する時間を短縮でき
る。
はなくて個々のヘッド部を傾斜させるので、基板に近い
側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は支持
手段の全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ
故、支持手段によって基板を走査する時間を短縮でき
る。
【００１９】また、本発明の材料の吐出装置は、対象物
上に材料を吐出する材料の吐出装置において、複数のノ
ズルを配列したノズル列を有する複数のヘッドと、前記
複数のヘッドを支持する支持機構と、前記対象物及び前
記支持機構のうちいずれか一方を他方に対して走査する
機構と、少なくとも１つの前記ノズル列と前記走査の方
向とのなす角度を制御する機構と、を具備することを特
徴とする。そして好ましくは前記ノズル列間の間隔を制
御する機構を更に備える。
上に材料を吐出する材料の吐出装置において、複数のノ
ズルを配列したノズル列を有する複数のヘッドと、前記
複数のヘッドを支持する支持機構と、前記対象物及び前
記支持機構のうちいずれか一方を他方に対して走査する
機構と、少なくとも１つの前記ノズル列と前記走査の方
向とのなす角度を制御する機構と、を具備することを特
徴とする。そして好ましくは前記ノズル列間の間隔を制
御する機構を更に備える。
【００２０】この構成の材料の吐出装置によれば、上記
ノズル列角度制御機構によってノズル列を傾斜状態に設
定することにより、前述の材料の吐出装置によってもた
らされる効果と同じ効果を得ることができる更には、こ
の材料の吐出装置によれば、ノズル列角度制御機構の働
きにより１つの支持機構に支持された各ヘッド部を異な
ったエレメント間ピッチに容易に一致させることができ
る。しかもその場合、ノズル列間隔制御機構の働きによ
り、１つのノズル列とそれに隣り合うのノズル列との間
隔をそれらのノズル列が一定のノズル間ピッチで連続す
るように正確に調節できる。
ノズル列角度制御機構によってノズル列を傾斜状態に設
定することにより、前述の材料の吐出装置によってもた
らされる効果と同じ効果を得ることができる更には、こ
の材料の吐出装置によれば、ノズル列角度制御機構の働
きにより１つの支持機構に支持された各ヘッド部を異な
ったエレメント間ピッチに容易に一致させることができ
る。しかもその場合、ノズル列間隔制御機構の働きによ
り、１つのノズル列とそれに隣り合うのノズル列との間
隔をそれらのノズル列が一定のノズル間ピッチで連続す
るように正確に調節できる。
【００２１】なお、ノズル列角度制御機構及びノズル列
間隔制御機構は特別な構造のものに限定されることな
く、上記機能を達成可能な任意の構造によって達成でき
る。例えば、ノズル列角度制御機構は次のように、すな
わち、各ヘッド部を支持機構に面内回転可能に取り付
け、それらのヘッド部をパルスモータやサーボモータ等
といった回転角度制御が可能な動力源に直接に又は動力
伝達機構等を介して間接に接続することによって構成で
きる。この構成によれば、上記動力源の出力角度値を制
御することによって各ノズル列の傾斜角度を希望の値に
調節でき、さらにその調節後の上記動力源の出力軸をロ
ック状態に保持することにより各ノズル列の傾斜角度を
希望の値に固定保持できる。
間隔制御機構は特別な構造のものに限定されることな
く、上記機能を達成可能な任意の構造によって達成でき
る。例えば、ノズル列角度制御機構は次のように、すな
わち、各ヘッド部を支持機構に面内回転可能に取り付
け、それらのヘッド部をパルスモータやサーボモータ等
といった回転角度制御が可能な動力源に直接に又は動力
伝達機構等を介して間接に接続することによって構成で
きる。この構成によれば、上記動力源の出力角度値を制
御することによって各ノズル列の傾斜角度を希望の値に
調節でき、さらにその調節後の上記動力源の出力軸をロ
ック状態に保持することにより各ノズル列の傾斜角度を
希望の値に固定保持できる。
【００２２】また、上記ノズル列間隔制御機構も特別な
構造のものに限定されることなく、上記機能を達成可能
な任意の構造によって達成できる。例えば、各ヘッド部
の上記面内回転の中心部を支持部材にスライド移動可能
に取り付け、それらのヘッド部を往復スライド移動駆動
手段に接続することによって構成できる。そして、この
往復スライド移動駆動手段は、例えば、パルスモータや
サーボモータ等といった回転角度制御が可能な回転機器
を動力源とするスライド駆動装置や、リニアモータ等と
いった直動駆動源を用いて構成されるスライド駆動装置
によって構成できる。
構造のものに限定されることなく、上記機能を達成可能
な任意の構造によって達成できる。例えば、各ヘッド部
の上記面内回転の中心部を支持部材にスライド移動可能
に取り付け、それらのヘッド部を往復スライド移動駆動
手段に接続することによって構成できる。そして、この
往復スライド移動駆動手段は、例えば、パルスモータや
サーボモータ等といった回転角度制御が可能な回転機器
を動力源とするスライド駆動装置や、リニアモータ等と
いった直動駆動源を用いて構成されるスライド駆動装置
によって構成できる。
【００２３】尚、ノズル列と走査の方向とのなす角度を
制御する機構は、ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しくなるように制御できると好ましい。
制御する機構は、ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しくなるように制御できると好ましい。
【００２４】本発明に係る材料の吐出方法は、対象物上
に材料を吐出する材料の吐出方法において、複数のノズ
ルを配列したノズル列を有する複数のヘッド、及び前記
複数のヘッドを支持する支持機構の一方を他方に対して
走査する工程、及び前記対象物に前記材料を吐出する工
程を有してなり、少なくとも１つの前記ノズル列が、前
記走査の方向に対して傾斜していることを特徴とする。
この場合にあって、前記対象物及び前記支持部材のうち
いずれか一方は、他方に対して主走査方向、又は主走査
方向と交差する副走査方向、或いはその両方に走査され
る。
に材料を吐出する材料の吐出方法において、複数のノズ
ルを配列したノズル列を有する複数のヘッド、及び前記
複数のヘッドを支持する支持機構の一方を他方に対して
走査する工程、及び前記対象物に前記材料を吐出する工
程を有してなり、少なくとも１つの前記ノズル列が、前
記走査の方向に対して傾斜していることを特徴とする。
この場合にあって、前記対象物及び前記支持部材のうち
いずれか一方は、他方に対して主走査方向、又は主走査
方向と交差する副走査方向、或いはその両方に走査され
る。
【００２５】前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しいと好ましい。
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しいと好ましい。
【００２６】また、少なくとも１つの前記ノズル列と前
記走査の方向とのなす角度を制御する工程を更に具備し
てもよいし、前記複数のノズル列間の間隔を制御する工
程を具備してもよい。
記走査の方向とのなす角度を制御する工程を更に具備し
てもよいし、前記複数のノズル列間の間隔を制御する工
程を具備してもよい。
【００２７】上述してきた材料の吐出装置、及び材料の
吐出方法は、例えば、基板にフィルタ材料を吐出するカ
ラーフィルタの製造装置、及びカラーフィルタの製造方
法、並びに基板にＥＬ発光材料を吐出するＥＬ装置の製
造装置、及び製造方法等に利用することができるが、も
ちろんこれらに限られることなく多種多様な技術的応用
範囲が考えられる。特に、上記材料の吐出方法を含む製
造方法を用いて製造された部品は、携帯電話機、携帯型
コンピュータ等といった電子機器に用いられる。
吐出方法は、例えば、基板にフィルタ材料を吐出するカ
ラーフィルタの製造装置、及びカラーフィルタの製造方
法、並びに基板にＥＬ発光材料を吐出するＥＬ装置の製
造装置、及び製造方法等に利用することができるが、も
ちろんこれらに限られることなく多種多様な技術的応用
範囲が考えられる。特に、上記材料の吐出方法を含む製
造方法を用いて製造された部品は、携帯電話機、携帯型
コンピュータ等といった電子機器に用いられる。
【００２８】また、本発明に係るのカラーフィルタの製
造装置は、複数のノズルが配列されたノズル列を有する
複数のヘッドと、前記複数のヘッド部を支持する支持機
構とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜
状態で支持してなることを特徴とする。
造装置は、複数のノズルが配列されたノズル列を有する
複数のヘッドと、前記複数のヘッド部を支持する支持機
構とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜
状態で支持してなることを特徴とする。
【００２９】上記構成において、フィルタとしては、例
えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色や、Ｃ
（シアン）、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）の３原色
等といった各色色材が考えられる。
えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色や、Ｃ
（シアン）、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）の３原色
等といった各色色材が考えられる。
【００３０】このカラーフィルタの製造装置によれば、
複数のヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走
査する間にそれら複数のヘッド部からフィルタ材料を吐
出することができ、それ故、１個のヘッド部を用いて基
板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短縮でき
る。
複数のヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走
査する間にそれら複数のヘッド部からフィルタ材料を吐
出することができ、それ故、１個のヘッド部を用いて基
板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短縮でき
る。
【００３１】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
【００３２】なお、上記構成のカラーフィルタの製造装
置において、前記支持手段は前記ヘッド部を固定状態で
支持することができるし、あるいは、傾斜角度及び／又
はヘッド部間距離を変更可能に支持することもできる。
置において、前記支持手段は前記ヘッド部を固定状態で
支持することができるし、あるいは、傾斜角度及び／又
はヘッド部間距離を変更可能に支持することもできる。
【００３３】また、上記構成のカラーフィルタの製造装
置において、前記複数のヘッドに属するノズル列のノズ
ル間ピッチは実質的に等しく、さらに、前記ノズル列の
傾斜角度の大きさも実質的に等しいと好ましい。こうす
れば、希望する位置へフィルタ材料供給することに関す
る制御を容易に行うことが可能となる。
置において、前記複数のヘッドに属するノズル列のノズ
ル間ピッチは実質的に等しく、さらに、前記ノズル列の
傾斜角度の大きさも実質的に等しいと好ましい。こうす
れば、希望する位置へフィルタ材料供給することに関す
る制御を容易に行うことが可能となる。
【００３４】なお、複数のノズル列は傾斜角度の大きさ
が等しければ良く、傾斜方向はプラス・マイナス間で異
なっても良い。また、ここで及びこれ以降、「実質的
に」とは、製造上の誤差等によってわずかな違いが生じ
る場合でも作用的には大きな違いは生じない場合を含む
意味である。
が等しければ良く、傾斜方向はプラス・マイナス間で異
なっても良い。また、ここで及びこれ以降、「実質的
に」とは、製造上の誤差等によってわずかな違いが生じ
る場合でも作用的には大きな違いは生じない場合を含む
意味である。
【００３５】また、本発明に係るカラーフィルタの製造
装置は、複数のノズルが配列するノズル列を有する複数
のヘッドと、前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構
と、前記複数のヘッドを支持する支持機構と、該支持機
構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を副
走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の傾
斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数の
ノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構とを
有することを特徴とする。
装置は、複数のノズルが配列するノズル列を有する複数
のヘッドと、前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構
と、前記複数のヘッドを支持する支持機構と、該支持機
構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を副
走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の傾
斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数の
ノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構とを
有することを特徴とする。
【００３６】この構成のカラーフィルタの製造装置によ
れば、上記ノズル列角度制御機構によって複数のノズル
列の各々を傾斜状態に設定することにより、前述のカラ
ーフィルタの製造装置によってもたらされる効果と同じ
効果を得ることができる。
れば、上記ノズル列角度制御機構によって複数のノズル
列の各々を傾斜状態に設定することにより、前述のカラ
ーフィルタの製造装置によってもたらされる効果と同じ
効果を得ることができる。
【００３７】また、上記第２のカラーフィルタの製造装
置によれば、ノズル列角度制御機構の働きにより１つの
支持手段に支持された各ヘッド部を異なったエレメント
間ピッチに容易に一致させることができる。しかもその
場合、ノズル列間隔制御機構の働きにより、１つのノズ
ル列とそれに隣り合うのノズル列との間隔をそれらのノ
ズル列が一定のノズル間ピッチで連続するように正確に
調節できる。
置によれば、ノズル列角度制御機構の働きにより１つの
支持手段に支持された各ヘッド部を異なったエレメント
間ピッチに容易に一致させることができる。しかもその
場合、ノズル列間隔制御機構の働きにより、１つのノズ
ル列とそれに隣り合うのノズル列との間隔をそれらのノ
ズル列が一定のノズル間ピッチで連続するように正確に
調節できる。
【００３８】なお、ノズル列角度制御機構、ノズル列間
隔制御機構、及びノズル列間隔制御機構は特別な構造の
ものに限定されることなく、上記機能を達成可能な任意
の構造によって達成できる。例えば、前述の材料の吐出
装置において説明した物などが利用できる。
隔制御機構、及びノズル列間隔制御機構は特別な構造の
ものに限定されることなく、上記機能を達成可能な任意
の構造によって達成できる。例えば、前述の材料の吐出
装置において説明した物などが利用できる。
【００３９】上記カラーフィルタの製造装置において、
前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチ、
及びノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しいこと
が望ましい。
前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチ、
及びノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しいこと
が望ましい。
【００４０】次に、本発明に係るカラーフィルタの製造
方法は、カラーフィルタの製造方法において、複数のノ
ズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主走査方向
へ移動させながら、前記複数のノズルからフィルタ材料
を吐出して前記基板に前記フィルタエレメントを形成す
る工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられてお
り、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とする。
方法は、カラーフィルタの製造方法において、複数のノ
ズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主走査方向
へ移動させながら、前記複数のノズルからフィルタ材料
を吐出して前記基板に前記フィルタエレメントを形成す
る工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられてお
り、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とする。
【００４１】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からフィルタ材料を
吐出できるので、１個のヘッド部だけを用いて基板表面
を走査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
同時に主走査移動させて各ヘッド部からフィルタ材料を
吐出できるので、１個のヘッド部だけを用いて基板表面
を走査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
【００４２】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は１列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間を
短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は１列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間を
短縮できる。
【００４３】なお、上記構成のカラーフィルタの製造方
法において、前記複数のヘッドにおいて、前記ノズル列
のノズル間ピッチは実質的に等しく、且つノズル列の傾
斜角度の大きさは実質的に等しいと好ましい。
法において、前記複数のヘッドにおいて、前記ノズル列
のノズル間ピッチは実質的に等しく、且つノズル列の傾
斜角度の大きさは実質的に等しいと好ましい。
【００４４】次に、本発明に係る液晶装置の製造装置
は、液晶装置の製造装置において、複数のノズルが配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記ヘッドにフ
ィルタ材料を供給する機構と、前記複数のヘッドを支持
する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走
査機構と、前記支持機構を副走査移動させる副走査機構
とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状
態で支持してなることを特徴とする。
は、液晶装置の製造装置において、複数のノズルが配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記ヘッドにフ
ィルタ材料を供給する機構と、前記複数のヘッドを支持
する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走
査機構と、前記支持機構を副走査移動させる副走査機構
とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状
態で支持してなることを特徴とする。
【００４５】この液晶装置の製造装置によれば、複数の
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちフィルタ
エレメント材料を吐出することができ、それ故、１個の
ヘッド部だけを用いて基板表面を走査する場合に比べ
て、走査時間を短縮できる。
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちフィルタ
エレメント材料を吐出することができ、それ故、１個の
ヘッド部だけを用いて基板表面を走査する場合に比べ
て、走査時間を短縮できる。
【００４６】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
【００４７】次に、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
フィルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメ
ントを形成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて
設けられており、且つ傾斜状態で配置されてなることを
特徴とする。
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
フィルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメ
ントを形成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて
設けられており、且つ傾斜状態で配置されてなることを
特徴とする。
【００４８】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクを吐出で
きるので、１個のヘッド部だけを用いて基板表面を走査
する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクを吐出で
きるので、１個のヘッド部だけを用いて基板表面を走査
する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
【００４９】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は１列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間従
って液晶装置の製造時間を短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は１列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間従
って液晶装置の製造時間を短縮できる。
【００５０】次に、本発明に係るＥＬ装置の製造装置
は、複数のノズルが配列したノズル列を有する複数のヘ
ッドと、前記ヘッドにＥＬ発光材料を供給する機構と、
前記複数のヘッドを並べて支持する支持機構と、該支持
機構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を
副走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の
傾斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数
のノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構と
を有することを特徴とする。
は、複数のノズルが配列したノズル列を有する複数のヘ
ッドと、前記ヘッドにＥＬ発光材料を供給する機構と、
前記複数のヘッドを並べて支持する支持機構と、該支持
機構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を
副走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の
傾斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数
のノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構と
を有することを特徴とする。
【００５１】このＥＬ装置の製造装置によれば、複数の
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちＥＬ発光
材料を吐出することができ、それ故、１個のヘッド部だ
けを用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間
を短縮できる。
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちＥＬ発光
材料を吐出することができ、それ故、１個のヘッド部だ
けを用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間
を短縮できる。
【００５２】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、支持手段の全体
を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾斜させる
ので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズル
までの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合に比べて
小さくなり、それ故、支持手段によって基板を走査する
時間を短縮できる。これにより、Ｅｌ装置の製造時間を
短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、支持手段の全体
を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾斜させる
ので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズル
までの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合に比べて
小さくなり、それ故、支持手段によって基板を走査する
時間を短縮できる。これにより、Ｅｌ装置の製造時間を
短縮できる。
【００５３】次に、本発明に係るＥＬ装置の製造方法
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
ＥＬ発光材料を吐出して前記基板に前記ＥＬ発光層を形
成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられ
ており、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とす
る。
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
ＥＬ発光材料を吐出して前記基板に前記ＥＬ発光層を形
成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられ
ており、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とす
る。
【００５４】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクすなわち
ＥＬ発光材料を吐出できるので、１個のヘッド部だけを
用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短
縮できる。
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクすなわち
ＥＬ発光材料を吐出できるので、１個のヘッド部だけを
用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短
縮できる。
【００５５】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、複数のヘッド部
を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるのではなく
てそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、基板に近
い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は１
列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ故、
複数のノズル列によって基板を走査する時間を短縮でき
る。これにより、ＥＬ装置の製造時間を短縮できる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、複数のヘッド部
を１列に並べた状態でその１列を傾斜させるのではなく
てそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、基板に近
い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は１
列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ故、
複数のノズル列によって基板を走査する時間を短縮でき
る。これにより、ＥＬ装置の製造時間を短縮できる。
【００５６】
【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、カラーフ
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図６（ａ）は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図７（ｄ）は図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩ
Ｉ線に従った断面構造を示している。
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図６（ａ）は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図７（ｄ）は図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩ
Ｉ線に従った断面構造を示している。
【００５７】本実施形態のカラーフィルタ１は、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２
の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン
状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、さ
らに図７（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層
することによって形成されている。なお、図６（ａ）は
保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的
に示している。つまり本実施形態では、インクジェット
によって形成される色パターンとしてフィルタエレメン
ト３が例示されている。
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２
の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン
状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、さ
らに図７（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層
することによって形成されている。なお、図６（ａ）は
保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的
に示している。つまり本実施形態では、インクジェット
によって形成される色パターンとしてフィルタエレメン
ト３が例示されている。
【００５８】フィルタエレメント３は、透光性のない樹
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６に
よって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の
方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。
また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の
色材によって形成され、それらの各色フィルタエレメン
ト３が所定の配列に並べられている。この配列として
は、例えば、図８（ａ）に示すストライプ配列、図８
（ｂ）に示すモザイク配列、図８（ｃ）に示すデルタ配
列等が知られている。
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６に
よって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の
方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。
また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の
色材によって形成され、それらの各色フィルタエレメン
ト３が所定の配列に並べられている。この配列として
は、例えば、図８（ａ）に示すストライプ配列、図８
（ｂ）に示すモザイク配列、図８（ｃ）に示すデルタ配
列等が知られている。
【００５９】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，
Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配
色である。
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，
Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配
色である。
【００６０】図６において、カラーフィルタ１の大きさ
は、例えば、１．８インチである。また、１個のフィル
タエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００
μｍである。また、各フィルタエレメント３の間の間
隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍ
である。
は、例えば、１．８インチである。また、１個のフィル
タエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００
μｍである。また、各フィルタエレメント３の間の間
隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍ
である。
【００６１】本実施形態のカラーフィルタ１をフルカラ
ー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットと
して１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいず
れか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラッ
クマスクとして作用する。
ー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットと
して１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいず
れか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラッ
クマスクとして作用する。
【００６２】上記のカラーフィルタ１は、例えば、図６
（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表
面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が
形成される。
（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表
面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が
形成される。
【００６３】以下、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
【００６４】図７はカラーフィルタ１の製造方法を工程
順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント形成領域である。この
隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント形
成領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例え
ば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント形成領域である。この
隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント形
成領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例え
ば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００６５】隔壁６は、フィルタエレメント形成領域７
に供給されるインクすなわちフィルタエレメント材料の
流動を阻止する機能及びブラックマスクの機能を併せて
有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例え
ばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必
要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
に供給されるインクすなわちフィルタエレメント材料の
流動を阻止する機能及びブラックマスクの機能を併せて
有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例え
ばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必
要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
【００６６】隔壁６の形成後、図７（ｂ）に示すよう
に、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィルタエレ
メント形成領域７に供給することにより、各フィルタエ
レメント形成領域７をフィルタエレメント材料１３で埋
める。図７（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色
を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３Ｇは
Ｇ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、
そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレ
メント材料を示している。
に、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィルタエレ
メント形成領域７に供給することにより、各フィルタエ
レメント形成領域７をフィルタエレメント材料１３で埋
める。図７（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色
を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３Ｇは
Ｇ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、
そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレ
メント材料を示している。
【００６７】各フィルタエレメント形成領域７に所定量
のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによ
ってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フ
ィルタエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発に
より、図７（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料
１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい
場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られる
まで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴
の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最
終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して
膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント
３が形成される。
のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによ
ってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フ
ィルタエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発に
より、図７（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料
１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい
場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られる
まで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴
の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最
終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して
膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント
３が形成される。
【００６８】以上によりフィルタエレメント３が形成さ
れた後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法又はインクジェット法等といった適宜の手法を
用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタ
エレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の平
坦化のために形成される。
れた後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法又はインクジェット法等といった適宜の手法を
用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタ
エレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の平
坦化のために形成される。
【００６９】図９は、カラーフィルタの製造装置を構成
する１つの構成要素機器であって、図７（ｂ）に示した
フィルタエレメント材料の供給処理を行うためのインク
ジェット装置の一実施形態を示している。このインクジ
ェット装置１６はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色
のフィルタエレメント材料をインクの液滴として、マザ
ー基板１２（図６（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形
成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装
置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフ
ィルタエレメント材料のためのインクジェット装置もそ
れぞれに用意されるが、それらの構造は図９のものと同
じにすることができるので、それらについての説明は省
略する。
する１つの構成要素機器であって、図７（ｂ）に示した
フィルタエレメント材料の供給処理を行うためのインク
ジェット装置の一実施形態を示している。このインクジ
ェット装置１６はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色
のフィルタエレメント材料をインクの液滴として、マザ
ー基板１２（図６（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形
成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装
置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフ
ィルタエレメント材料のためのインクジェット装置もそ
れぞれに用意されるが、それらの構造は図９のものと同
じにすることができるので、それらについての説明は省
略する。
【００７０】図９において、インクジェット装置１６
は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット
２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御
する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２
２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆
動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板
１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、
マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジ
ェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２
４とを有する。
は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット
２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御
する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２
２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆
動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板
１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、
マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジ
ェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２
４とを有する。
【００７１】ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装
置１８、主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２
１の各装置はベース９の上に設置される。また、それら
の各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
置１８、主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２
１の各装置はベース９の上に設置される。また、それら
の各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
【００７２】インクジェットヘッド２２は、例えば図２
に示すように、複数、本実施形態では６個のヘッド部２
０と、それらのヘッド部２０を並べて支持する支持手段
としてのキャリッジ２５とを有する。キャリッジ２５
は、ヘッド部２０を支持すべき位置にヘッド部２０より
も少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部２０は
それらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤その他
の締結手段によって固定される。また、キャリッジ２５
に対するヘッド部２０の位置が正確に決められる場合に
は、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入によ
ってヘッド部２０を固定しても良い。
に示すように、複数、本実施形態では６個のヘッド部２
０と、それらのヘッド部２０を並べて支持する支持手段
としてのキャリッジ２５とを有する。キャリッジ２５
は、ヘッド部２０を支持すべき位置にヘッド部２０より
も少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部２０は
それらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤その他
の締結手段によって固定される。また、キャリッジ２５
に対するヘッド部２０の位置が正確に決められる場合に
は、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入によ
ってヘッド部２０を固定しても良い。
【００７３】ヘッド部２０は、例えば図１１に示すよう
に、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成
されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば
１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍで
あり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍ
である。図６（ａ）及び図６（ｂ）においてカラーフィ
ルタ１及びマザー基板１２に対する主走査方向Ｘ及びそ
れに直交する副走査方向Ｙは図１１において図示の通り
に設定される。
に、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成
されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば
１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍで
あり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍ
である。図６（ａ）及び図６（ｂ）においてカラーフィ
ルタ１及びマザー基板１２に対する主走査方向Ｘ及びそ
れに直交する副走査方向Ｙは図１１において図示の通り
に設定される。
【００７４】図２において、各ヘッド部２０は、それら
が有するノズル列２８の延在方向Ｋ０がキャリッジ２５
の長手方向の中心軸線Ｋ１に対して角度θで傾斜するよ
うに、そのキャリッジ２５に取り付けられている。ま
た、インクジェットヘッド２２は、図１に示すように、
そのキャリッジ２５の中心軸線Ｋ１が主走査方向Ｘと交
差する方向、本実施形態では直角方向へ延びるように位
置設定される。つまり、各ノズル列２８は主走査方向に
対して直角である副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜す
る状態に位置設定される。
が有するノズル列２８の延在方向Ｋ０がキャリッジ２５
の長手方向の中心軸線Ｋ１に対して角度θで傾斜するよ
うに、そのキャリッジ２５に取り付けられている。ま
た、インクジェットヘッド２２は、図１に示すように、
そのキャリッジ２５の中心軸線Ｋ１が主走査方向Ｘと交
差する方向、本実施形態では直角方向へ延びるように位
置設定される。つまり、各ノズル列２８は主走査方向に
対して直角である副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜す
る状態に位置設定される。
【００７５】インクジェットヘッド２２はＸ方向へ平行
移動することによりマザー基板１２を主走査するが、こ
の主走査の間にインクとしてのフィルタエレメント材料
を各ヘッド部２０内の複数のノズル２７から選択的に吐
出することにより、マザー基板１２内の所定位置にフィ
ルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェッ
トヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離、例えばノズル
列２８の副走査方向Ｙ成分の長さの６個分の長さ若しく
はそれよりも短い又はそれよりも長い長さだけ平行移動
することにより、インクジェットヘッド２２による主走
査位置を所定の間隔でずらせることができる。
移動することによりマザー基板１２を主走査するが、こ
の主走査の間にインクとしてのフィルタエレメント材料
を各ヘッド部２０内の複数のノズル２７から選択的に吐
出することにより、マザー基板１２内の所定位置にフィ
ルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェッ
トヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離、例えばノズル
列２８の副走査方向Ｙ成分の長さの６個分の長さ若しく
はそれよりも短い又はそれよりも長い長さだけ平行移動
することにより、インクジェットヘッド２２による主走
査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００７６】個々のヘッド部２０は、例えば、図１３
（ａ）及び図１３（ｂ）に示す内部構造を有する。具体
的には、ヘッド部２０は、例えばステンレス製のノズル
プレート２９と、それに対向する振動板３１と、それら
を互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズ
ルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２
によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成され
る。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介
して互いに連通している。
（ａ）及び図１３（ｂ）に示す内部構造を有する。具体
的には、ヘッド部２０は、例えばステンレス製のノズル
プレート２９と、それに対向する振動板３１と、それら
を互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズ
ルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２
によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成され
る。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介
して互いに連通している。
【００７７】振動板３１の適所にはインク供給孔３６が
形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂの
うちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍを
インク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を
通ってインク室３３に充満する。
形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂの
うちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍを
インク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を
通ってインク室３３に充満する。
【００７８】ノズルプレート２９には、インク室３３か
らフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するた
めのノズル２７が設けられている。また、振動板３１の
インク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３
に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。
このインク加圧体３９は、図１３（ｂ）に示すように、
圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及
び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２
ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室
３３へ流入する。
らフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するた
めのノズル２７が設けられている。また、振動板３１の
インク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３
に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。
このインク加圧体３９は、図１３（ｂ）に示すように、
圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及
び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２
ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室
３３へ流入する。
【００７９】次に、圧電素子４１への通電を解除する
と、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧
力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図６
（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴
８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、
液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止す
るために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
と、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧
力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図６
（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴
８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、
液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止す
るために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
【００８０】図１０において、ヘッド位置制御装置１７
は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモー
タ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、イン
クジェットヘッド２２を主走査方向Ｘと平行な軸線回り
に揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェッ
トヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８
とを有する。
は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモー
タ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、イン
クジェットヘッド２２を主走査方向Ｘと平行な軸線回り
に揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェッ
トヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８
とを有する。
【００８１】図９に示した基板位置制御装置１８は、図
１０において、マザー基板１２を載せるテーブル４９
と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させる
θモータ５１とを有する。また、図９に示した主走査駆
動装置１９は、図１０に示すように、主走査方向Ｘへ延
びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモー
タを内蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は
内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５
２に沿って主走査方向へ平行移動する。
１０において、マザー基板１２を載せるテーブル４９
と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させる
θモータ５１とを有する。また、図９に示した主走査駆
動装置１９は、図１０に示すように、主走査方向Ｘへ延
びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモー
タを内蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は
内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５
２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００８２】また、図９に示した副走査駆動装置２１
は、図１０に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイド
レール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵し
たスライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリ
ニアモータが作動するときにガイドレール５４に沿って
副走査方向Ｙへ平行移動する。
は、図１０に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイド
レール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵し
たスライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリ
ニアモータが作動するときにガイドレール５４に沿って
副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００８３】スライダ５３やスライダ５６内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジ
ェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジ
ェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
【００８４】図９に示した基板供給装置２３は、マザー
基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２
を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台
５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を
中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２
に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の
先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着
パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着
できる。
基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２
を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台
５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を
中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２
に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の
先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着
パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着
できる。
【００８５】図９において、主走査駆動装置１９によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２
の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置
に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設
される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド
２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はイン
クジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１１参
照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置７６は
インクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズ
ル２７の乾燥を防止するための装置である。
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２
の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置
に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設
される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド
２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はイン
クジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１１参
照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置７６は
インクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズ
ル２７の乾燥を防止するための装置である。
【００８６】インクジェットヘッド２２の近傍には、そ
のインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設
けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８
２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
のインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設
けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８
２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
【００８７】図９に示したコントロール装置２４は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装
置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図１４に示すように、演算処理を行う
ＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有す
る。
ロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装
置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図１４に示すように、演算処理を行う
ＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有す
る。
【００８８】図９に示したヘッド位置制御装置１７、基
板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動
装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電
素子４１（図１３（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回
路７２の各機器は、図１４において、入出力インターフ
ェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続され
る。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプ
レイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキ
ャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース
７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動
装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電
素子４１（図１３（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回
路７２の各機器は、図１４において、入出力インターフ
ェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続され
る。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプ
レイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキ
ャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース
７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００８９】メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Me
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体
メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図８に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現する
ためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図６
参照）内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図１０における副走査方向Ｙへのマ
ザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体
メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図８に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現する
ためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図６
参照）内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図１０における副走査方向Ｙへのマ
ザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
【００９０】ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶された
プログラムソフトに従って、マザー基板１２の表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図９参
照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
プログラムソフトに従って、マザー基板１２の表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図９参
照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
【００９１】描画演算部を詳しく分割すれば、インクジ
ェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２
２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を
副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
ェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２
２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を
副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
【００９２】なお、本実施形態では、上記の各機能をＣ
ＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
ＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
【００９３】以下、上記構成から成るインクジェット装
置１６の動作を図１５に示すフローチャートに基づいて
説明する。
置１６の動作を図１５に示すフローチャートに基づいて
説明する。
【００９４】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。
ジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。
【００９５】次に、重量測定タイミングが到来すれば
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図１０のヘッドユニット２
６を主走査駆動装置１９によって図９の電子天秤７８の
所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐
出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する
（ステップＳ４）。そして、個々のノズル２７のインク
吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子
４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図１０のヘッドユニット２
６を主走査駆動装置１９によって図９の電子天秤７８の
所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐
出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する
（ステップＳ４）。そして、個々のノズル２７のインク
吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子
４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００９６】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。
【００９７】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップＳ９において、図９の基板供給装置２３を作動させ
てマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６
４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム
６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２を
テーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に
予め設けてある位置決めピン５０（図１０参照）に押し
付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２
の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によって
マザー基板１２をテーブル４９に固定することが望まし
い。
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップＳ９において、図９の基板供給装置２３を作動させ
てマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６
４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム
６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２を
テーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に
予め設けてある位置決めピン５０（図１０参照）に押し
付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２
の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によって
マザー基板１２をテーブル４９に固定することが望まし
い。
【００９８】次に、図９の基板用カメラ８２によってマ
ザー基板１２を観察しながら、図１０のθモータ５１の
出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル
４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を
位置決めする（ステップＳ１０）。次に、図９のヘッド
用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらイ
ンクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を
演算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走
査駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動さ
せてインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動す
る（ステップＳ１２）。
ザー基板１２を観察しながら、図１０のθモータ５１の
出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル
４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を
位置決めする（ステップＳ１０）。次に、図９のヘッド
用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらイ
ンクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を
演算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走
査駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動さ
せてインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動す
る（ステップＳ１２）。
【００９９】このとき、インクジェットヘッド２２は、
図１に示すように、そのキャリッジ２５の中心軸線Ｋ１
が主走査方向Ｘと直角の方向となるようにセットされ
る。このため、ノズル列２８がインクジェットヘッド２
２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設
される。これは、通常のインクジェット装置の場合に
は、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッ
チと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタ
エレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッ
チとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を
主走査方向Ｘへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副
走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に
等しくなるようにするための措置である。
図１に示すように、そのキャリッジ２５の中心軸線Ｋ１
が主走査方向Ｘと直角の方向となるようにセットされ
る。このため、ノズル列２８がインクジェットヘッド２
２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設
される。これは、通常のインクジェット装置の場合に
は、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッ
チと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタ
エレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッ
チとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を
主走査方向Ｘへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副
走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に
等しくなるようにするための措置である。
【０１００】図１５のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２が描画開始位置に置かれると、その後、図１
５のステップＳ１３でＸ方向への主走査が開始され、同
時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１０の
主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２
２が図１の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移
動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメ
ント形成領域７に対応するノズル２７が到達したときに
そのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント
材料が吐出されて該領域７が埋められてフィルタエレメ
ント３が形成される。
ヘッド２２が描画開始位置に置かれると、その後、図１
５のステップＳ１３でＸ方向への主走査が開始され、同
時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１０の
主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２
２が図１の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移
動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメ
ント形成領域７に対応するノズル２７が到達したときに
そのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント
材料が吐出されて該領域７が埋められてフィルタエレメ
ント３が形成される。
【０１０１】インクジェットヘッド２２は、マザー基板
１２に対する１回の主走査が終了すると（ステップＳ１
４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置へ復帰する（ステ
ップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２
２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方
向Ｙへ予め決められた副走査量、例えば６個のノズル列
２８の合計の長さの副走査方向Ｙ成分だけ移動する（ス
テップＳ１６）。そして次に、主走査及びインク吐出が
繰り返して行われてフィルタエレメント形成領域７がフ
ィルタエレメント材料によって埋められてフィルタエレ
メント３が形成される（ステップＳ１３）。
１２に対する１回の主走査が終了すると（ステップＳ１
４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置へ復帰する（ステ
ップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２
２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方
向Ｙへ予め決められた副走査量、例えば６個のノズル列
２８の合計の長さの副走査方向Ｙ成分だけ移動する（ス
テップＳ１６）。そして次に、主走査及びインク吐出が
繰り返して行われてフィルタエレメント形成領域７がフ
ィルタエレメント材料によって埋められてフィルタエレ
メント３が形成される（ステップＳ１３）。
【０１０２】以上のようなインクジェットヘッド２２に
よるフィルタエレメント３の描画作業がマザー基板１２
の全領域に対して完了すると（ステップＳ１７でＹＥ
Ｓ）、ステップＳ１８でマザー基板１２を基板供給装置
２３によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマ
ザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータ
によって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ
１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２
に対するＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色に関するインク吐着作
業を繰り返して行う。
よるフィルタエレメント３の描画作業がマザー基板１２
の全領域に対して完了すると（ステップＳ１７でＹＥ
Ｓ）、ステップＳ１８でマザー基板１２を基板供給装置
２３によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマ
ザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータ
によって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ
１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２
に対するＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色に関するインク吐着作
業を繰り返して行う。
【０１０３】オペレータから作業終了の指示があると
（ステップＳ１９でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図９におい
てインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の
所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってイ
ンクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施
す（ステップＳ２０）。
（ステップＳ１９でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図９におい
てインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の
所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってイ
ンクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施
す（ステップＳ２０）。
【０１０４】以上により、カラーフィルタを構成する
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，
Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパター
ニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例
えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂの
ドット配列を有するカラーフィルタ１（図６（ａ））が
複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマ
ザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断する
ことにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出さ
れる。
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，
Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパター
ニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例
えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂの
ドット配列を有するカラーフィルタ１（図６（ａ））が
複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマ
ザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断する
ことにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出さ
れる。
【０１０５】なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカ
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ１の表面にはさらに電極や配向膜等がさらに積層され
ることになる。そのような場合、電極や配向膜等を積層
する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィル
タ１を切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程
が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マ
ザー基板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直
ぐにマザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極
形成や配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した
後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ１の表面にはさらに電極や配向膜等がさらに積層され
ることになる。そのような場合、電極や配向膜等を積層
する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィル
タ１を切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程
が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マ
ザー基板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直
ぐにマザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極
形成や配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した
後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
【０１０６】以上のように本実施形態に係るカラーフィ
ルタの製造方法及び製造装置によれば、図１に示すよう
に、複数のヘッド部２０を支持した支持手段としてのキ
ャリッジ２５によって基板１２を主走査する間にそれら
複数のヘッド部２０のノズル列２８からインクを吐出す
るので、１個のヘッド部だけを用いて基板１２の表面を
走査する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
ルタの製造方法及び製造装置によれば、図１に示すよう
に、複数のヘッド部２０を支持した支持手段としてのキ
ャリッジ２５によって基板１２を主走査する間にそれら
複数のヘッド部２０のノズル列２８からインクを吐出す
るので、１個のヘッド部だけを用いて基板１２の表面を
走査する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
【０１０７】また、各ヘッド部２０は副走査方向Ｙに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のフィルタエレメント形成領域７の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のフィルタエレメント形成領域７の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
【０１０８】なお、本実施形態ではヘッド部２０がキャ
リッジ２５に固定されるので、傾斜角度θは１個のキャ
リッジ２５に対して１種類である。従って、基板１２側
のエレメント間ピッチが変化する場合には、そのエレメ
ント間ピッチに対応した傾斜角度θを実現できる他のキ
ャリッジ２５を用いる必要がある。
リッジ２５に固定されるので、傾斜角度θは１個のキャ
リッジ２５に対して１種類である。従って、基板１２側
のエレメント間ピッチが変化する場合には、そのエレメ
ント間ピッチに対応した傾斜角度θを実現できる他のキ
ャリッジ２５を用いる必要がある。
【０１０９】さらに、本実施形態では、キャリッジ２５
の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部２０を
傾斜させるので、基板１２に近い側のノズル２７と基板
１２から遠い側のノズル２７までの距離Ｔはキャリッジ
２５の全体を傾斜させる場合に比べて著しく小さくな
り、それ故、インクジェットヘッド２２によって基板１
２を走査する時間を著しく短縮できる。これにより、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部２０を
傾斜させるので、基板１２に近い側のノズル２７と基板
１２から遠い側のノズル２７までの距離Ｔはキャリッジ
２５の全体を傾斜させる場合に比べて著しく小さくな
り、それ故、インクジェットヘッド２２によって基板１
２を走査する時間を著しく短縮できる。これにより、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
【０１１０】なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１１１】本第1実施形態においては、隔壁６として
透光性のない樹脂材料を用いたが、隔壁６として透光性
の樹脂材料を用いることも、もちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途、遮光性の
金属膜又は樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としても良い。
透光性のない樹脂材料を用いたが、隔壁６として透光性
の樹脂材料を用いることも、もちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途、遮光性の
金属膜又は樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としても良い。
【０１１２】また、本第1実施形態においては、フィル
タエレメントとしてＲ，Ｇ，Ｂを用いたが、Ｒ，Ｇ，Ｂ
に限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マ
ゼンタ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。そ
の場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメント材
料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有するフィルタエレメン
ト材料を用いれば良い。
タエレメントとしてＲ，Ｇ，Ｂを用いたが、Ｒ，Ｇ，Ｂ
に限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マ
ゼンタ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。そ
の場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメント材
料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有するフィルタエレメン
ト材料を用いれば良い。
【０１１３】（第２実施形態）図３は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
【０１１４】本実施形態によって実施される概略の工程
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図９に示した装置と機構的
には同じである。
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図９に示した装置と機構的
には同じである。
【０１１５】本実施形態が図１に示した先の実施形態と
異なる点は、キャリッジ２５によるヘッド部２０の支持
構造に改変を加えたことである。具体的には、図４にお
いて、個々のヘッド部２０をキャリッジ２５に対してヘ
ッド部２０の中心軸線Ｋ２を中心として矢印Ｎのように
回転可能、すなわち面内回転可能に支持する。また、個
々のヘッド部２０をキャリッジ２５に対して矢印Ｐで示
すようにスライド移動、すなわち面内平行移動可能に支
持する。また、キャリッジ２５にノズル列角度制御装置
８３及びノズル列間隔制御装置８４を付設する。
異なる点は、キャリッジ２５によるヘッド部２０の支持
構造に改変を加えたことである。具体的には、図４にお
いて、個々のヘッド部２０をキャリッジ２５に対してヘ
ッド部２０の中心軸線Ｋ２を中心として矢印Ｎのように
回転可能、すなわち面内回転可能に支持する。また、個
々のヘッド部２０をキャリッジ２５に対して矢印Ｐで示
すようにスライド移動、すなわち面内平行移動可能に支
持する。また、キャリッジ２５にノズル列角度制御装置
８３及びノズル列間隔制御装置８４を付設する。
【０１１６】ノズル列角度制御装置８３は、複数のノズ
ル列２８の面内傾斜角度θを個別に又は一括に制御する
ものである。このノズル列角度制御装置８３は任意の構
造によって構成できるが、例えば、ケーシング２５に矢
印Ｎのように面内回転可能に取り付けられたヘッド部２
０をパルスモータやサーボモータ等といった回転角度制
御が可能な動力源に直接に又は動力伝達機構等を介して
間接に接続することによって構成できる。この構成によ
れば、上記動力源の出力角度値を制御することによって
各ノズル列２０の傾斜角度θを希望の値に調節でき、さ
らにその調節後の上記動力源の出力軸をロック状態に保
持することにより各ノズル列２０の傾斜角度θを希望の
値に固定保持できる。
ル列２８の面内傾斜角度θを個別に又は一括に制御する
ものである。このノズル列角度制御装置８３は任意の構
造によって構成できるが、例えば、ケーシング２５に矢
印Ｎのように面内回転可能に取り付けられたヘッド部２
０をパルスモータやサーボモータ等といった回転角度制
御が可能な動力源に直接に又は動力伝達機構等を介して
間接に接続することによって構成できる。この構成によ
れば、上記動力源の出力角度値を制御することによって
各ノズル列２０の傾斜角度θを希望の値に調節でき、さ
らにその調節後の上記動力源の出力軸をロック状態に保
持することにより各ノズル列２０の傾斜角度θを希望の
値に固定保持できる。
【０１１７】また、ノズル列間隔制御装置８４は、複数
のノズル列２０の間隔を個々の間隔ごとに個別に又は一
括に制御するものである。このノズル列間隔制御装置８
４は任意の構造によって構成できるが、例えば、矢印Ｐ
のようにケーシング２５にスライド移動可能に取り付け
られたヘッド部２０をパルスモータやサーボモータ等と
いった回転角度制御が可能な回転機器を動力源とするス
ライド駆動装置や、リニアモータ等といった直動駆動源
を用いて構成されるスライド駆動装置等に接続すること
によって構成できる。
のノズル列２０の間隔を個々の間隔ごとに個別に又は一
括に制御するものである。このノズル列間隔制御装置８
４は任意の構造によって構成できるが、例えば、矢印Ｐ
のようにケーシング２５にスライド移動可能に取り付け
られたヘッド部２０をパルスモータやサーボモータ等と
いった回転角度制御が可能な回転機器を動力源とするス
ライド駆動装置や、リニアモータ等といった直動駆動源
を用いて構成されるスライド駆動装置等に接続すること
によって構成できる。
【０１１８】本実施形態によれば、図４のノズル列角度
制御装置８３を作動させて図３においてヘッド部２０を
矢印Ｎのように面内回転させることにより、ヘッド部２
０の面内傾斜角度θを調節して、ノズル列２８のノズル
間ピッチを基板１２上のフィルタエレメント形成領域７
のエレメント間ピッチに一致させる。そしてさらに、図
４のノズル列間隔制御装置８４を作動させて図３におい
てヘッド部２０の間の間隔を調節して、互いに隣り合う
ノズル列２８の端部同士のノズル間距離を基板１２側の
エレメント間ピッチに一致させる。
制御装置８３を作動させて図３においてヘッド部２０を
矢印Ｎのように面内回転させることにより、ヘッド部２
０の面内傾斜角度θを調節して、ノズル列２８のノズル
間ピッチを基板１２上のフィルタエレメント形成領域７
のエレメント間ピッチに一致させる。そしてさらに、図
４のノズル列間隔制御装置８４を作動させて図３におい
てヘッド部２０の間の間隔を調節して、互いに隣り合う
ノズル列２８の端部同士のノズル間距離を基板１２側の
エレメント間ピッチに一致させる。
【０１１９】以上により、６個のノズル列２８をエレメ
ント間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続し
た長いノズル列に形成することができる。このように、
本実施形態によれば、１個のインクジェットヘッド２２
内のノズル間ピッチを適宜に調節することにより、エレ
メント間ピッチの異なるパターンを基板１２上に描画で
きる。
ント間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続し
た長いノズル列に形成することができる。このように、
本実施形態によれば、１個のインクジェットヘッド２２
内のノズル間ピッチを適宜に調節することにより、エレ
メント間ピッチの異なるパターンを基板１２上に描画で
きる。
【０１２０】（第３実施形態）図５は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造装置及び製造方法の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
ラーフィルタの製造装置及び製造方法の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１
２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレ
メント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
【０１２１】本実施形態によって実施される概略の工程
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図９に示した装置と機構的
には同じである。
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図９に示した装置と機構的
には同じである。
【０１２２】本実施形態が図１及び図３に示した先の実
施形態と異なる点は、ノズル列２８の傾斜角度θが各ノ
ズル列２８間で大きさは同じであるが傾斜方向がプラス
・マイナス間で交互に変化することである。この方法に
よっても、６個のノズル列２８を基板１２側のエレメン
ト間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続した
長いノズル列に形成することができる。
施形態と異なる点は、ノズル列２８の傾斜角度θが各ノ
ズル列２８間で大きさは同じであるが傾斜方向がプラス
・マイナス間で交互に変化することである。この方法に
よっても、６個のノズル列２８を基板１２側のエレメン
ト間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続した
長いノズル列に形成することができる。
【０１２３】なお、本実施形態に関しても、図１に示し
たようにノズル列２８が固定される構造にすることもで
きるし、あるいは、図３に示したようにノズル列２８の
傾斜角度θ及びノズル列間距離が調節可能な構造にする
こともできる。
たようにノズル列２８が固定される構造にすることもで
きるし、あるいは、図３に示したようにノズル列２８の
傾斜角度θ及びノズル列間距離が調節可能な構造にする
こともできる。
【０１２４】（第４実施形態）図１２は、本発明で用い
るヘッド部２０の改変例を示している。ここに示すヘッ
ド部２０が図１１に示したヘッド部２０と異なる点は、
ノズル列２８を主走査方向Ｘに沿って２列設けたことで
ある。これにより、同じ主走査ラインに載った２つのノ
ズル２７によって１つのフィルタエレメント形成領域７
にフィルタエレメント材料を供給することができる。
るヘッド部２０の改変例を示している。ここに示すヘッ
ド部２０が図１１に示したヘッド部２０と異なる点は、
ノズル列２８を主走査方向Ｘに沿って２列設けたことで
ある。これにより、同じ主走査ラインに載った２つのノ
ズル２７によって１つのフィルタエレメント形成領域７
にフィルタエレメント材料を供給することができる。
【０１２５】なお、本実施形態においてインクジェット
ヘッド２２の中心軸線Ｋ０は副走査方向Ｙに対して面内
傾斜角度θで傾斜しているので、２段のノズル列２８内
のノズル２７はキャリッジ２５の中心軸線Ｋ０に直角の
方向に並ぶのではなく、主走査方向Ｘに載るようにキャ
リッジ２５から見れば互いにずれて配列されることが望
ましい。
ヘッド２２の中心軸線Ｋ０は副走査方向Ｙに対して面内
傾斜角度θで傾斜しているので、２段のノズル列２８内
のノズル２７はキャリッジ２５の中心軸線Ｋ０に直角の
方向に並ぶのではなく、主走査方向Ｘに載るようにキャ
リッジ２５から見れば互いにずれて配列されることが望
ましい。
【０１２６】（第５実施形態）図１６は、本発明で用い
るヘッド部２０のさらに他の改変例を示している。この
ヘッド部２０が図１１に示すヘッド部２０と異なる点
は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色イン
クを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出する
ノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のヘッ
ド部２０に形成し、それら３種類のそれぞれに図１３
（ａ）及び図１３（ｂ）に示したインク吐出系を設け、
Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲイン
ク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応
するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続
し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系
にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
るヘッド部２０のさらに他の改変例を示している。この
ヘッド部２０が図１１に示すヘッド部２０と異なる点
は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色イン
クを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出する
ノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のヘッ
ド部２０に形成し、それら３種類のそれぞれに図１３
（ａ）及び図１３（ｂ）に示したインク吐出系を設け、
Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲイン
ク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応
するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続
し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系
にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１２７】本実施形態によって実施される概略の工程
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図９に示した装
置と同じである。
は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図９に示した装
置と同じである。
【０１２８】図１１に示した実施形態では、ヘッド部２
０に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったの
で、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタを形成する
際には図２等に示したインクジェットヘッド２２がＲ，
Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていなければな
らなかった。これに対し、図１６に示す構造のヘッド部
２０を使用する場合には、複数個のヘッド部２０を備え
たインクジェットヘッド２２のＸ方向への１回の主走査
によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付
着させることができるので、インクジェットヘッド２２
は１つだけ準備しておけば足りる。
０に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったの
で、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタを形成する
際には図２等に示したインクジェットヘッド２２がＲ，
Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていなければな
らなかった。これに対し、図１６に示す構造のヘッド部
２０を使用する場合には、複数個のヘッド部２０を備え
たインクジェットヘッド２２のＸ方向への１回の主走査
によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付
着させることができるので、インクジェットヘッド２２
は１つだけ準備しておけば足りる。
【０１２９】（第６実施形態）図１７は、本発明に係る
液晶装置の製造装置を用いた製造方法の一実施形態を示
している。また、図１８はその製造方法によって製造さ
れる液晶装置の一実施形態を示している。また、図１９
は図１８におけるＸ−Ｘ線に従った液晶装置の断面構造
を示している。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明
に先立って、まず、その製造方法によって製造される液
晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態
の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を
行う半透過反射方式の液晶装置である。
液晶装置の製造装置を用いた製造方法の一実施形態を示
している。また、図１８はその製造方法によって製造さ
れる液晶装置の一実施形態を示している。また、図１９
は図１８におけるＸ−Ｘ線に従った液晶装置の断面構造
を示している。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明
に先立って、まず、その製造方法によって製造される液
晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態
の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を
行う半透過反射方式の液晶装置である。
【０１３０】図１８において、液晶装置１０１は、液晶
パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Flexible Printed Circuit）１０４を液晶パネル
１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に照
明装置１０６をバックライトとして設けることによって
形成される。
パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Flexible Printed Circuit）１０４を液晶パネル
１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に照
明装置１０６をバックライトとして設けることによって
形成される。
【０１３１】液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で
含まれる。
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で
含まれる。
【０１３２】図１９において、第１基板１０７ａは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側
表面（図１９の上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１９の下
側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着され
る。
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側
表面（図１９の上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１８
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１９の下
側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着され
る。
【０１３３】図１８では第１電極１１４ａの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの
本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１
４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの
本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１
４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１３４】図１９において、第２基板１０７ｂは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側
表面（図１９の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が
形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１
１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ
状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１
１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面
（図１９の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によ
って装着される。
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側
表面（図１９の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が
形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１
１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ
状（図１８参照）に形成され、さらにその上に配向膜１
１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面
（図１９の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によ
って装着される。
【０１３５】図１８では、第２電極１１４ｂの配列を分
かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描
かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数
本が基材１１１ｂ上に形成される。
かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描
かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数
本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１３６】図１９において、第１基板１０７ａ、第２
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ
（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第
１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微
小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのス
ペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ
（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第
１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微
小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのス
ペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１３７】第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１９の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそ
れらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そして
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになっ
て１画素が構成される。
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１９の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそ
れらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そして
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになっ
て１画素が構成される。
【０１３８】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図１８及び
図１９において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図１８及び
図１９において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
【０１３９】図１９において、反射膜１１２はＡＰＣ合
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１
２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１９
の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１
２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１９
の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
【０１４０】第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂ
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
【０１４１】図１８において、第１基板１０７ａは第２
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基
板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し
部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し
配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材
１０９（図１９参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第
２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆
動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ
１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基
板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し
部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し
配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材
１０９（図１９参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第
２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆
動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ
１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１４２】本実施形態では、第１電極１１４ａから延
びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通す
る引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料である
ＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配
線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。
ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及び
Ｃｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ
１％から成る合金である。
びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通す
る引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料である
ＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配
線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。
ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及び
Ｃｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ
１％から成る合金である。
【０１４３】液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び液晶駆動用Ｉ
Ｃ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７
ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造に
おいては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バ
ンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続さ
れ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バン
プと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続され
る。
Ｃ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７
ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造に
おいては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バ
ンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続さ
れ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バン
プと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続され
る。
【０１４４】図１８において、ＦＰＣ１０４は、可撓性
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１４５】ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ
及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電
極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ
及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電
極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
【０１４６】図１８において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置１０６は、図１９に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
して機能する照明装置１０６は、図１９に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
【０１４７】ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持さ
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
【０１４８】ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１４９】本実施形態の液晶装置１０１は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図１９において、第２基板
１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で
反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持
する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌ
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図１９において、第２基板
１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で
反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持
する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌ
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
【０１５０】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
【０１５１】上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図
１７に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板
１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１
４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程であ
る。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
１７に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板
１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１
４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程であ
る。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
【０１５２】まず、第１基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０
２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知
の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１
１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工
程Ｐ２）。
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０
２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知
の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１
１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工
程Ｐ２）。
【０１５３】次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状
に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ
１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネ
ル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状
に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ
１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネ
ル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１５４】以上の第１基板形成工程とは別に、第２基
板形成工程（図１７の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１
１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの
形成工程は図７に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形
成は図９のインクジェット装置１６を用いて図１、図
２、図３、図４、図５等に示したインクジェットヘッド
の制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタ
の製造方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に
説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略す
る。
板形成工程（図１７の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１
１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの
形成工程は図７に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形
成は図９のインクジェット装置１６を用いて図１、図
２、図３、図４、図５等に示したインクジェットヘッド
の制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタ
の製造方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に
説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略す
る。
【０１５５】図７（ｄ）に示すようにマザー基板１２す
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわち
カラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され
（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１
１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１
１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル
１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわち
カラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され
（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１
１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１
１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル
１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１５６】以上により大面積のマザー第１基板及びマ
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
【０１５７】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図１８参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図１８参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１５８】その後、露出した液晶注入用開口１１０を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程２４において洗浄処理を受ける。
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程２４において洗浄処理を受ける。
【０１５９】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図１８に示すよう
に、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明
装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ
１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図１８に示すよう
に、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明
装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ
１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。
【０１６０】以上に説明した液晶装置の製造方法及び製
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、インクジェットヘ
ッドとして図１、図２、図３、図４又は図５等に示した
構造を採用して、複数のヘッド部２０を支持した支持手
段としてのキャリッジ２５によって基板１２を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部２０のノズル列２８からイ
ンクを吐出するので、１個のヘッド部だけを用いて基板
１２の表面を走査する場合に比べて走査時間を短縮で
き、従って、カラーフィルタの製造時間を短縮できる。
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、インクジェットヘ
ッドとして図１、図２、図３、図４又は図５等に示した
構造を採用して、複数のヘッド部２０を支持した支持手
段としてのキャリッジ２５によって基板１２を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部２０のノズル列２８からイ
ンクを吐出するので、１個のヘッド部だけを用いて基板
１２の表面を走査する場合に比べて走査時間を短縮で
き、従って、カラーフィルタの製造時間を短縮できる。
【０１６１】また、各ヘッド部２０は副走査方向Ｙに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のフィルタエレメント形成領域７の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のフィルタエレメント形成領域７の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
【０１６２】また、キャリッジ２５の全体を傾斜させる
のではなくて個々のヘッド部２０を傾斜させるので、基
板１２に近い側のノズル２７と基板１２から遠い側のノ
ズル２７までの距離Ｔはキャリッジ２５の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド２２によって基板１２を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時
間を短縮できる。
のではなくて個々のヘッド部２０を傾斜させるので、基
板１２に近い側のノズル２７と基板１２から遠い側のノ
ズル２７までの距離Ｔはキャリッジ２５の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド２２によって基板１２を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時
間を短縮できる。
【０１６３】なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１６４】（第８実施形態）図２０は、本発明に係る
ＥＬ装置の製造装置を用いて行われる製造方法の一実施
形態を示している。また、図２１はその製造方法の主要
工程及び最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示
している。図２１（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１
は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画
素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格
子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層２
２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列等と
いった所定配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色
発光層２０３Ｇ及びＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部
の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極２１３を形
成することによって形成される。
ＥＬ装置の製造装置を用いて行われる製造方法の一実施
形態を示している。また、図２１はその製造方法の主要
工程及び最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示
している。図２１（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１
は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画
素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格
子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層２
２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列等と
いった所定配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色
発光層２０３Ｇ及びＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部
の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極２１３を形
成することによって形成される。
【０１６５】上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film
Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transi
stor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１
３は単一な面電極として形成される。
Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transi
stor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１
３は単一な面電極として形成される。
【０１６６】各画素電極２０２と各対向電極２１３とに
よって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
よって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１６７】上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２０に
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５
１及び図２１（a）のように、透明基板２０４の表面に
ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、酸
化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を
用いることができる。
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５
１及び図２１（a）のように、透明基板２０４の表面に
ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、酸
化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を
用いることができる。
【０１６８】次に、工程Ｐ５２及び図２０（a）に示す
ように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素樹脂化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
ように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素樹脂化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
【０１６９】次に、正孔注入層用インクを塗布する直前
に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
【０１７０】次に、工程Ｐ５４及び図２１（ａ）に示す
ように、正孔注入層用インクを図９のインクジェット装
置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素
電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３、
図４又は図５に示した方法を用いた。その塗布後、真空
（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除
去し（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホット
プレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インク
と相溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５
６）。膜厚は４０ｎｍであった。
ように、正孔注入層用インクを図９のインクジェット装
置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素
電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図１、図２、図３、
図４又は図５に示した方法を用いた。その塗布後、真空
（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除
去し（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホット
プレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インク
と相溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５
６）。膜厚は４０ｎｍであった。
【０１７１】次に、工程Ｐ５７及び図２１（ｂ）に示す
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２
０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク
及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図９のインクジェット装置１６のインクジ
ェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図１、図２、図３、図４又は図５に示
した方法に従った。インクジェット方式によれば、微細
なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができ
る。また、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変え
ることにより膜厚を変えることが可能である。
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２
０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク
及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図９のインクジェット装置１６のインクジ
ェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図１、図２、図３、図４又は図５に示
した方法に従った。インクジェット方式によれば、微細
なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができ
る。また、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変え
ることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１７２】発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒ
ｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工
程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の
熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色
発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０
ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
ｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工
程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の
熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色
発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０
ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
【０１７３】なお、発光層を形成する前に正孔注入層２
２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２
２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２
２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１７４】次に、工程Ｐ６０及び図２１（ｃ）に示す
ように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色
発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２
２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの
３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及び
Ｇ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの
膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光
層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しな
い。
ように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色
発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２
２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの
３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及び
Ｇ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの
膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光
層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しな
い。
【０１７５】以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２
０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２
０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
【０１７６】その後、工程Ｐ６１及び図２１（ｄ）に示
すように、対向電極２１３を形成することにより、目標
とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそ
れが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａ
ｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
すように、対向電極２１３を形成することにより、目標
とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそ
れが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａ
ｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
【０１７７】以上に説明したＥＬ装置の製造方法及び製
造装置によれば、インクジェットヘッドとして図１、図
２、図３、図４又は図５等に示した構造を採用して、複
数のヘッド部２０を支持した支持手段としてのキャリッ
ジ２５によって基板１２を主走査する間にそれら複数の
ヘッド部２０のノズル列２８からインクを吐出するの
で、１個のヘッド部だけを用いて基板１２の表面を走査
する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、ＥＬ装
置の製造時間を短縮できる。
造装置によれば、インクジェットヘッドとして図１、図
２、図３、図４又は図５等に示した構造を採用して、複
数のヘッド部２０を支持した支持手段としてのキャリッ
ジ２５によって基板１２を主走査する間にそれら複数の
ヘッド部２０のノズル列２８からインクを吐出するの
で、１個のヘッド部だけを用いて基板１２の表面を走査
する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、ＥＬ装
置の製造時間を短縮できる。
【０１７８】また、各ヘッド部２０は副走査方向Ｙに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のＥＬ絵素ピクセル形成領域７の間の間隔、すな
わちエレメント間ピッチに一致させることができる。こ
のようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何
学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに関
して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
２０に属する複数のノズル２７のノズル間ピッチを基板
１２上のＥＬ絵素ピクセル形成領域７の間の間隔、すな
わちエレメント間ピッチに一致させることができる。こ
のようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何
学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方向Ｙに関
して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
【０１７９】また、キャリッジ２５の全体を傾斜させる
のではなくて個々のヘッド部２０を傾斜させるので、基
板１２に近い側のノズル２７と基板１２から遠い側のノ
ズル２７までの距離Ｔはキャリッジ２５の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド２２によって基板１２を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、ＥＬ装置の製造時間を短
縮できる。 なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よって絵素ピクセル３を形成するので、フォトリソグラ
フィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も
無く、また、材料を浪費することも無い。
のではなくて個々のヘッド部２０を傾斜させるので、基
板１２に近い側のノズル２７と基板１２から遠い側のノ
ズル２７までの距離Ｔはキャリッジ２５の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド２２によって基板１２を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、ＥＬ装置の製造時間を短
縮できる。 なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出に
よって絵素ピクセル３を形成するので、フォトリソグラ
フィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も
無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１８０】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
【０１８１】例えば、以上に説明した実施形態では、図
１に示すようにインクジェットヘッド２２の中に６個の
ヘッド部２０を設けたが、ヘッド部２０の数はより少な
く又はより多くすることができる。
１に示すようにインクジェットヘッド２２の中に６個の
ヘッド部２０を設けたが、ヘッド部２０の数はより少な
く又はより多くすることができる。
【０１８２】また、図１等に示した実施形態では、マザ
ー基板１２の中に複数列のカラーフィルタ形成領域１１
が設定される場合を例示したが、マザー基板１２の中に
１列のカラーフィルタ形成領域１１が設定される場合に
も本発明を適用できる。また、マザー基板１２とほぼ同
じ大きさの又はそれよりもかなり小さい１個のカラーフ
ィルタ形成領域１１だけがそのマザー基板１２の中に設
定される場合にも本発明を適用できる。
ー基板１２の中に複数列のカラーフィルタ形成領域１１
が設定される場合を例示したが、マザー基板１２の中に
１列のカラーフィルタ形成領域１１が設定される場合に
も本発明を適用できる。また、マザー基板１２とほぼ同
じ大きさの又はそれよりもかなり小さい１個のカラーフ
ィルタ形成領域１１だけがそのマザー基板１２の中に設
定される場合にも本発明を適用できる。
【０１８３】また、図９及び図１０に示したカラーフィ
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２をＸ方
向へ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を副走査
駆動装置２１によってＹ方向へ移動させることによりイ
ンクジェットヘッド２２によって基板１２を副走査する
ことにしたが、これとは逆に、基板１２のＹ方向への移
動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２
のＸ方向への移動によって副走査を実行することもでき
る。
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２をＸ方
向へ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を副走査
駆動装置２１によってＹ方向へ移動させることによりイ
ンクジェットヘッド２２によって基板１２を副走査する
ことにしたが、これとは逆に、基板１２のＹ方向への移
動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２
のＸ方向への移動によって副走査を実行することもでき
る。
【０１８４】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。
【０１８５】また、上記実施形態では、主走査方向と副
走査方向とが直交する最も一般的な構成についてのみ例
示したが、主走査方向と副走査方向との関係は直交関係
には限られず、任意の角度で交差していればよい。
走査方向とが直交する最も一般的な構成についてのみ例
示したが、主走査方向と副走査方向との関係は直交関係
には限られず、任意の角度で交差していればよい。
【０１８６】吐出させる材料としては、基板等の対象物
上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば
上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガ
ラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又
は半導体材料がその一例として挙げられる。
上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば
上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガ
ラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又
は半導体材料がその一例として挙げられる。
【０１８７】また、上記実施形態では、カラーフィルタ
の製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造
装置、ＥＬ装置の製造方法及び製造装置、を例として説
明してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、
対象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用い
ることが可能である。
の製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造
装置、ＥＬ装置の製造方法及び製造装置、を例として説
明してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、
対象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用い
ることが可能である。
【０１８８】例えば、各種半導体素子（薄膜トランジス
タ、薄膜ダイオード等）、各種配線パターン、及び絶縁
膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。
タ、薄膜ダイオード等）、各種配線パターン、及び絶縁
膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。
【０１８９】ヘッドから吐出させる材料としては、基板
等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であ
り、例えば上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他に
も、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘
電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられ
る。
等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であ
り、例えば上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他に
も、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘
電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられ
る。
【０１９０】また、上記実施形態では、簡便のため「イ
ンクジェットヘッド」と呼称してきたが、このインクジ
ェットヘッドから吐出される吐出物はインクには限定さ
れず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガラス前駆
体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、又は半導
体材料等様々であることはいうまでもない。上記実施形
態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ装置は、
例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子
機器の表示部に搭載することができる。
ンクジェットヘッド」と呼称してきたが、このインクジ
ェットヘッドから吐出される吐出物はインクには限定さ
れず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガラス前駆
体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、又は半導
体材料等様々であることはいうまでもない。上記実施形
態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ装置は、
例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子
機器の表示部に搭載することができる。
【０１９１】
【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタ、液晶装置
及びＥＬ装置のそれぞれの製造装置並びにそれらの製造
方法によれば、複数のヘッド部によって基板を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部からインクを吐出すること
ができ、それ故、１個のヘッド部を用いて基板表面を走
査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
及びＥＬ装置のそれぞれの製造装置並びにそれらの製造
方法によれば、複数のヘッド部によって基板を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部からインクを吐出すること
ができ、それ故、１個のヘッド部を用いて基板表面を走
査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
【０１９２】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントや絵素ピク
セルのエレメント間ピッチに一致させることができる。
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントや絵素ピク
セルのエレメント間ピッチに一致させることができる。
【０１９３】さらに、複数のヘッド部を支持する支持機
構の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持機構によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タや液晶装置やＥＬ装置等の製造時間を短縮できる。
構の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持機構によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タや液晶装置やＥＬ装置等の製造時間を短縮できる。
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の一実
施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的に
示す平面図である。
施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的に
示す平面図である。
【図２】図１のインクジェットヘッドの斜視図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の他の
実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的
に示す平面図である。
実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的
に示す平面図である。
【図４】図３のインクジェットヘッドの斜視図である。
【図５】本発明に係るカラーフィルタの製造装置のさら
に他の実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を
模式的に示す平面図である。
に他の実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を
模式的に示す平面図である。
【図６】（ａ）は本発明に係るカラーフィルタの一実施
形態を示す平面図であり、（ｂ）はその基礎となるマザ
ー基板の一実施形態を示す平面図である。
形態を示す平面図であり、（ｂ）はその基礎となるマザ
ー基板の一実施形態を示す平面図である。
【図７】図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面部
分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図
である。
分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図
である。
【図８】カラーフィルタにおけるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素
ピクセルの配列例を示す図である。
ピクセルの配列例を示す図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るＥＬ装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るＥＬ装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図１０】図９の装置の主要部を拡大して示す斜視図で
ある。
ある。
【図１１】図１のインクジェットヘッドに設けられるヘ
ッド部の１つを示す斜視図である。
ッド部の１つを示す斜視図である。
【図１２】ヘッド部の改変例を示す斜視図である。
【図１３】ヘッド部の内部構造を示す図であって、
（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−
Ｊ線に従った断面構造を示す。
（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−
Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１４】図９のインクジェット装置に用いられる電気
制御系を示すブロック図である。
制御系を示すブロック図である。
【図１５】図１４の制御系によって実行される制御の流
れを示すフローチャートである。
れを示すフローチャートである。
【図１６】ヘッド部のさらに他の改変例を示す斜視面図
である。
である。
【図１７】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
態を示す工程図である。
【図１８】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
【図１９】図１８におけるＸ−Ｘ線に従って液晶装置の
断面構造を示す断面図である。
断面構造を示す断面図である。
【図２０】本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
態を示す工程図である。
【図２１】図２０に示す工程図に対応するＥＬ装置の断
面図である。
面図である。
【図２２】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す図である。
す図である。
【図２３】従来のカラーフィルタの製造方法の他の例を
示す図である。
示す図である。
１ カラーフィルタ ２ 基板 ３ フィルタエレメント ４ 保護膜 ６ 隔壁 ７ フィルタエレメント形成領域 １１ カラーフィルタ形成領域 １２ マザー基板 １３ フィルタエレメント材料 １６ インクジェット装置 １７ ヘッド位置制御装置 １８ 基板位置制御装置 １９ 主走査駆動装置（主走査駆動手段） ２０ ヘッド部 ２１ 副走査駆動装置（副走査駆動手段） ２２ インクジェットヘッド ２５ キャリッジ（支持手段） ２６ ヘッドユニット ２７ ノズル ２８ ノズル列 ３７ インク供給装置（インク供給手段） ３９ インク加圧体 ４１ 圧電素子 ４９ テーブル ７６ キャッピング装置 ７７ クリーニング装置 ７８ 電子天秤 ８１ ヘッド用カメラ ８２ 基板用カメラ ８３ ノズル列角度制御装置（ノズル列角度
制御手段） ８４ ノズル列間隔制御装置（ノズル列間隔
制御手段） １０１ 液晶装置 １０２ 液晶パネル １０７ａ，１０７ｂ 基板 １１１ａ，１１１ｂ 基材 １１４ａ，１１４ｂ 電極 １１８ カラーフィルタ ２０１ ＥＬ装置 ２０２ 画素電極 ２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ 発光層 ２０４ 基板 ２０５ バンク ２１３ 対向電極 ２２０ 正孔注入層 Ｌ 液晶 Ｍ フィルタエレメント材料 Ｘ 主走査方向 Ｙ 副走査方向
制御手段） ８４ ノズル列間隔制御装置（ノズル列間隔
制御手段） １０１ 液晶装置 １０２ 液晶パネル １０７ａ，１０７ｂ 基板 １１１ａ，１１１ｂ 基材 １１４ａ，１１４ｂ 電極 １１８ カラーフィルタ ２０１ ＥＬ装置 ２０２ 画素電極 ２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ 発光層 ２０４ 基板 ２０５ バンク ２１３ 対向電極 ２２０ 正孔注入層 Ｌ 液晶 Ｍ フィルタエレメント材料 Ｘ 主走査方向 Ｙ 副走査方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木口 浩史 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 伊藤 達也 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 川瀬 智己 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 清水 政春 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 EC08 EC35 EC78 FA10 FB01 HA10 HA22 2H091 FA02Y FC29 LA12
Claims (26)
- 【請求項１】 対象物上に材料を吐出する材料の吐出装
置において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方を他方
に対して走査する機構と、 を有し、 前記走査の方向に対して前記ノズル列が傾斜しているこ
とを特徴とする材料の吐出装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の材料の吐出装置におい
て、 前記複数のヘッドは、前記支持機構の長手方向に対して
傾斜して支持されてなることを特徴とする材料の吐出装
置。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２に記載の材料の吐出
装置において、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方は、他
方に対して主走査方向、又は主走査方向と交差する副走
査方向に走査されることを特徴とする材料の吐出装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
の材料の吐出装置において、 前記ノズル列のノズル間ピッチは、前記複数のヘッドに
おいて実質的に等しく、 前記ノズル列の傾斜角度の大きさは、前記複数のヘッド
において実質的に等しいことを特徴とする材料の吐出装
置。 - 【請求項５】対象物上に材料を吐出する材料の吐出装置
において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方を他方
に対して走査する機構と、 少なくとも１つの前記ノズル列と前記走査の方向とのな
す角度を制御する機構と、を具備することを特徴とする
材料の吐出装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の材料の吐出装置におい
て、 前記複数のノズル列間の間隔を制御する機構を更に備え
たことを特徴とする材料の吐出装置。 - 【請求項７】 請求項５又は請求項６のいずれかに記載
の材料の吐出装置において、 前記ノズル列と前記走査の方向とのなす角度を制御する
機構は、 前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記ノズル列の傾
斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにおいて実質的に
等しくなるように制御することを特徴とする材料の吐出
装置。 - 【請求項８】 対象物上に材料を吐出する材料の吐出方
法において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッ
ド、及び前記複数のヘッドを支持する支持機構の一方を
他方に対して走査する工程、及び前記対象物に前記材料
を吐出する工程を有してなり、 少なくとも１つの前記ノズル列が、前記走査の方向に対
して傾斜していることを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項９】 請求項８に記載の材料の吐出方法におい
て、 前記対象物及び前記支持部材のうちいずれか一方は、他
方に対して主走査方向、又は主走査方向と交差する副走
査方向に走査されることを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１０】 請求項８乃至請求項１０のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記ノズル列の傾
斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにおいて実質的に
等しいことを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１１】 請求項８乃至請求項１０のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 少なくとも１つの前記ノズル列と前記走査の方向とのな
す角度を制御する工程を更に具備することを特徴とする
材料の吐出方法。 - 【請求項１２】 請求項８乃至請求項１１のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 前記複数のノズル列間の間隔を制御する工程を更に具備
することを特徴とする材料の吐出方法。 - 【請求項１３】 請求項１乃至請求項７のうちいずれか
に記載の吐出装置を備え、 前記対象物としての基板に前記材料としてのカラーフィ
ルタ材料を吐出することを特徴とするカラーフィルタの
製造装置。 - 【請求項１４】 請求項１乃至請求項７のうちいずれか
に記載の吐出装置を備え、 前記対象物としての基板に前記材料としてのＥＬ発光材
料を吐出することを特徴とするＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項１５】 請求項１０乃至請求項１２のうちいず
れかに記載の材料の吐出方法を含む製造方法を用いて製
造された部品を搭載した電子機器。 - 【請求項１６】 カラーフィルタの製造装置において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有する複数のヘッ
ドと、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッド部を支持する支持機構とを有し、 前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状態で支持し
てなることを特徴とするカラーフィルタの製造装置。 - 【請求項１７】 請求項１６において、前記支持機構は
前記ヘッドを固定状態で支持することを特徴とするカラ
ーフィルタの製造装置。 - 【請求項１８】 請求項１６又は請求項１７に記載のカ
ラーフィルタの製造装置において、 前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチは
実質的に等しく、さらに、前記ノズル列の傾斜角度の大
きさも実質的に等しいことを特徴とするカラーフィルタ
の製造装置。 - 【請求項１９】 カラーフィルタの製造装置において、 複数のノズルが配列するノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走査機構と、 前記支持手段を副走査移動させる副走査機構と、 前記複数のノズル列の傾斜角度を制御するノズル列角度
制御機構と、 前記複数のノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制
御機構とを有することを特徴とするカラーフィルタの製
造装置。 - 【請求項２０】 請求項１９に記載のカラーフィルタの
製造装置において、 前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチ、
及びノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しいこと
を特徴とするカラーフィルタの製造装置。 - 【請求項２１】 カラーフィルタの製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからフィ
ルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメント
を形成する工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。 - 【請求項２２】請求項２１に記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記ノズル列のノズル間ピッチは実質的に等しく、且
つ,前記ノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しい
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２３】 液晶装置の製造装置において、 複数のノズルが配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走査機構と、 前記支持機構を副走査移動させる副走査機構とを有し、 前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状態で支持し
てなることを特徴とする液晶装置の製造装置。 - 【請求項２４】 液晶装置の製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからフィ
ルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメント
を形成する工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とする液晶装置の製造方
法。 - 【請求項２５】 ＥＬ装置の製造装置において、複数の
ノズルが配列したノズル列を有する複数のヘッドと、前
記ヘッドにＥＬ発光材料を供給する機構と、前記複数の
ヘッドを並べて支持する支持機構と、該支持機構を主走
査移動させる主走査機構と、前記支持手段を副走査移動
させる副走査機構と、前記複数のノズル列の傾斜角度を
制御するノズル列角度制御機構と、前記複数のノズル列
間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構とを有するこ
とを特徴とするＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２６】ＥＬ装置の製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからＥＬ
発光材料を吐出して前記基板に前記ＥＬ発光層を形成す
る工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とするＥＬ装置の製造方
法
Priority Applications (12)
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|---|---|---|---|
| JP2001329824A JP3953776B2 (ja) | 2001-01-15 | 2001-10-26 | 材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、ｅｌ装置の製造装置及び製造方法 |
| TW090133317A TWI294055B (ja) | 2001-01-15 | 2001-12-31 | |
| DE60237937T DE60237937D1 (de) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Materialentladevorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern, Flüssigkristall- und elektrolumineszenten Vorrichtungen |
| DE60238568T DE60238568D1 (de) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Vorrichtung und Verfahren zur Materialentladung, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallvorrichtung, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer EL-Vorrichtung und anhand dieser Verfahren hergestellte elektronische Vorrichtungen |
| EP02250217A EP1225472B1 (en) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Material discharging apparatus and method for producing color filters, liquid crystal and electroluminescent devices |
| DE60238567T DE60238567D1 (de) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Vorrichtung und Verfahren zur Materialentladung, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallvorrichtung, Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer EL-Vorrichtung und anhand dieser Verfahren hergestellte elektronische Vorrichtungen |
| EP07075678A EP1852733B1 (en) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Material discharging apparatus and method for producing color filters, liquid crystal and electroluminescent devices |
| EP07075679A EP1852734B1 (en) | 2001-01-15 | 2002-01-11 | Material discharging apparatus and method for producing color filters, liquid crystal and electroluminescent devices |
| KR10-2002-0002009A KR100497019B1 (ko) | 2001-01-15 | 2002-01-14 | 재료의 토출 장치 및 토출 방법, 컬러 필터의 제조 장치및 제조 방법, 액정 장치의 제조 장치 및 제조 방법, ｅｌ장치의 제조 장치 및 제조 방법, 및 이들 방법에 의해제조되는 전자 기기 |
| US10/043,244 US7182815B2 (en) | 2001-01-15 | 2002-01-14 | Apparatus and method for producing color filters by discharging material |
| CNB021023425A CN1236918C (zh) | 2001-01-15 | 2002-01-15 | 材料的喷出装置和方法及滤色器等的制造装置和方法 |
| US11/370,894 US7901741B2 (en) | 2001-01-15 | 2006-03-09 | Apparatus and method for producing color filters by discharging material |
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Publications (2)
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|---|---|
| JP2002273868A true JP2002273868A (ja) | 2002-09-25 |
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| EP (3) | EP1225472B1 (ja) |
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| TW (1) | TWI294055B (ja) |
Cited By (31)
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