JP2004230660A - 液滴吐出ヘッド、吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】カラーフィルタの光学透過特性、液晶装置のカラー表示特性、ＥＬ発光面の発光特性などといった電気光学部材の電気光学特性を平面的に均一にできる吐出装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタを製造するインクジェット装置に、複数のノズル２７を列状に設けてノズル列２８を構成するインクジェットヘッド２２を直線状に並べて配設する。マザー基板１２に異なるノズル２７からフィルタエレメント材料を、複数のノズル２７によって４回重ねて吐出し、１個のフィルタエレメント３を所定の膜厚に形成する。複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【選択図】 図１
【解決手段】カラーフィルタを製造するインクジェット装置に、複数のノズル２７を列状に設けてノズル列２８を構成するインクジェットヘッド２２を直線状に並べて配設する。マザー基板１２に異なるノズル２７からフィルタエレメント材料を、複数のノズル２７によって４回重ねて吐出し、１個のフィルタエレメント３を所定の膜厚に形成する。複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、流動性を有した液状体を吐出する液滴吐出ヘッドに関する。また、本発明は、流動性を有した液状体を吐出する吐出方法およびその装置に関する。
そして、本発明は、液晶装置、ＥＬ装置、電気泳動装置、電子放出装置およびＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：プラズマディスプレイパネル）装置などの電気光学装置、この電気光学装置を製造する電気光学素装置の製造方法およびその製造装置に関する。また、本発明は、電気光学装置に用いられるカラーフィルタ、このカラーフィルタを製造する製造方法およびその製造装置に関する。さらに、本発明は、電気光学部材、半導体装置、光学部材、試薬検査部材などの基材を有するデバイス、この基材を有したデバイスを製造する製造方法およびその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータなどといった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置（以下ＥＬ（ｅｌｅｃｔｏｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置という）などといった電気光学装置である表示装置が広く用いられている。また、最近では、表示装置によってフルカラー表示することが多くなっている。この液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって表示される。そして、カラーフィルタは、例えば、ガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のフィルタエレメントをいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によるフルカラー表示は、例えばガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のＥＬ発光層をいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成する。そして、これらの電極に印加する電圧を絵素ピクセル毎に制御することにより、これら絵素ピクセルを希望の色で発光させてフルカラー表示する。
【０００４】
従来、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂなどの各色のフィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ装置のＲ、Ｇ、Ｂなどの各色の絵素ピクセルをパターニングする場合、フォトリソグラフィー法を用いることが知られている。しかしながら、このフォトリソグラフィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色の材料あるいはフォトレジストなどを多量に消費するので、コストが高くなるなどといった問題がある。
【０００５】
この問題を解決するために、液滴を吐出するインクジェット法によってフィルタエレメント材料やＥＬ発光材料などをドット状に吐出することにより、ドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００６】
ここで、インクジェット法によってドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法について説明する。図５２（ａ）において、ガラス、プラスチックなどによって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図５２（ｂ）に示すように、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する場合について考える。この場合には、例えば図５２（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列してなるノズル列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図５２（ｂ）の矢印Ａ１および矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図５２では２回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００７】
このフィルタエレメント３０３は、上述したように、Ｒ、Ｇ、Ｂなどの各色をいわゆるストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などといった適宜の配列形態で配列することによって形成されるものである。このことから、図５２（ｂ）に示すインクジェットヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ、Ｇ、Ｂの単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ、Ｇ、Ｂの３色分だけあらかじめ設けておく。そして、これらのインクジェットヘッド３０６を順次に用いて１つのマザーボード３０１上にＲ、Ｇ、Ｂなどの３色配列を形成する。
【０００８】
【特許文献１】
特開平２−１７３７０３号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、インクジェットヘッド３０６に関しては、一般に、ノズル列３０５を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツキがある。これは、例えば図５３（ａ）に示すように、ノズル列３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ないというようなインク吐出特性Ｑを有する。
【００１０】
従って、図５２（ｂ）に示すようにして、インクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント３０３を形成したとき、図５３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド３０６の端部に対応する位置Ｐ１または中央部Ｐ２、あるいはＰ１およびＰ２の両方に濃度の濃いスジが形成されてしまう。このため、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるという問題がある。
【００１１】
一方、マザーボード３０１に複数のパネル領域３０２を形成する場合、インクジェットヘッドの主走査方向に対して幅方向となるマザーボード３０１の幅寸法略全域にインクジェットヘッドが位置するように長手状のインクジェットヘッドを用いることにより、効率よくフィルタエレメント３０３を形成することが考えられる。しかしながら、パネル領域３０２の大きさに対応して異なる大きさのマザーボード３０１を用いる場合には、その都度異なるインクジェットヘッドが必要となり、コストが増大する問題がある。
【００１２】
本発明は、このような問題点に鑑みて、被吐出物に対して吐出されて被吐出物上に塗布された液状体の量が均一化するようにされた液滴吐出ヘッド、吐出方法およびその装置、また基板や基材上に塗布された液状体が均一化するように吐出されて特性が均一になるように形成された電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明の液滴吐出ヘッドは、液状体を吐出する複数のノズルの設けられた面が被吐出物に対して相対的に移動されて前記ノズルから前記被吐出物上に前記液状体を吐出させるための液滴吐出ヘッドであって、この液滴吐出ヘッドを前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する方向に向けた状態において、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用されるノズルは、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に複数の開口が位置されるように配置されたことを特徴とする。
【００１４】
この発明では、被吐出物に対して相対的に移動される方向に対して斜めに交差する方向に向けた状態において、液状体を吐出する複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して液状体の吐出に使用されるノズルを、相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に複数開口するように配置する。この構成により、被吐出物上に描画されるドット状のピッチに対応して傾斜されても、相対的な移動方向に沿った直線上に複数開口するノズルが位置する対応した例えば所定のノズル板を選択して用いるのみでノズル本体が共用され、描画に対応して全体をそれぞれ製造する必要がなく、コストが低減する。
【００１５】
（２）本発明の吐出装置は、上記液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、この保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、前記被吐出物に対して相対的に移動させる移動手段とを具備したことを特徴する。
【００１６】
この発明では、上記例えば部品を共用できる液滴吐出ヘッドを保持する保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、移動手段により液滴吐出ヘッドが被吐出物に対して相対的に移動させる。この構成により、描画コストが低減する。
【００１７】
（３）本発明の吐出装置は、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドの前記ノズルが設けられた面を被吐出物に対向させて前記液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、前記液滴吐出ヘッドは、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用される少なくとも２つ以上のノズルが、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に保持されたことを特徴とする。
【００１８】
この発明では、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドを、ノズルが設けられた面が被吐出物に対向させて保持手段に保持し、保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を移動手段により相対的に移動させる。そして、液滴吐出ヘッドは、複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して液状体の吐出に使用される少なくとも２つ以上のノズルが相対的に移動させる方向に沿って仮想される直線上に位置するように保持手段に保持させる。この構成により、異なる２つ以上のノズルから重ねて液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００１９】
（４）本発明の吐出装置は、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドを被吐出物に対向させて複数個並べて配置する保持手段と、この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、前記複数の液滴吐出ヘッドは、これら液滴吐出ヘッドのうちの少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける前記液状体の吐出に使用されるノズルの少なくとも一部同士が、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に配置されたことを特徴とする。
【００２０】
この発明では、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドを、ノズルが設けられた面が被吐出物に対向させて複数個並べて保持手段に配置し、保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を移動手段により相対的に移動させる。そして、複数の液滴吐出ヘッドは、少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける液体の吐出に使用されるノズルの少なくとも一部同士が、相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように保持手段に配置する。この構成により、異なる２つ以上のノズルから重ねて液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２１】
そして、本発明では、液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが複数列に配列されて設けられたことが好ましい。この構成により、異なる２つ以上のノズルから液状体を吐出する構成が容易に得られ、またノズルの配列領域を広く設定することが可能となり、広い範囲に液状体が吐出され、吐出効率が向上するとともに、特別に長手状のインクジェットヘッドを形成する必要がなく、汎用性が向上する。
【００２２】
また、本発明では、液滴吐出ヘッドは、ノズルの配列方向が前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する状態で保持手段に保持されたことが好ましい。この構成により、ノズルの配設方向が相対的な移動方向に対して傾斜した状態となり、液状体の吐出される間隔であるピッチがノズル間のピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみで、被吐出物の表面にドット状に液状体を吐出する際の所望のドット間ピッチに容易に対応可能で、ドット間ピッチに対応してインクジェットヘッドを形成する必要がなく、汎用性が向上する。
【００２３】
さらに、本発明では、少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドのそれぞれは、他の液滴吐出ヘッドと、前記相対的に移動される方向において部分的に重なるように配置されたことが好ましい。この構成により、隣合うインクジェットヘッドが干渉せずにインクジェットヘッド間で液状体が吐出されない領域を生じることがなく、連続的な液状体の良好な吐出が得られる。
【００２４】
また、本発明では、前記液滴吐出ヘッドにおいて配列されたノズルのうちの端部付近の所定領域分のノズルを非吐出ノズルとして設定し、複数の前記液滴吐出ヘッドは、前記液滴吐出ヘッドの複数のノズルが前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する所定の方向に配列される状態で、前記相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って複数列に並べて配置され、前記複数列の液滴吐出ヘッドのうちの１つの列内の前記液滴吐出ヘッドにおける非吐出ノズルが、前記相対的に移動される方向に配置される他の列内の液滴吐出ヘッドにおいて液状体を吐出する吐出ノズルと、前記相対的に移動される方向において仮想される直線上に位置するように配置されたことが好ましい。この構成により、液滴吐出ヘッドの吐出量にばらつきを生じやすい端部付近のノズルを非吐出ノズルとしてこの非吐出ノズルが相対的に移動される方向に、他の列の液状体を吐出する吐出ノズルを配置させるので、液滴吐出ノズルのノズル間での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２５】
そして、この発明では、前記液滴吐出ヘッドのノズルは複数列に配列され、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態と、一の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルが位置する状態とが存在するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置されたことが好ましい。この構成により、相対的に移動される方向に沿った仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルが位置する場合には他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態とし、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルおよび吐出ノズルが位置する場合には他の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルおよび吐出ノズルが位置する状態で複数の液滴吐出ヘッドを配置する。この構成により、複数の液滴吐出ヘッド間での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２６】
また、本発明では、前記複数のノズルは、前記相対的に移動される方向に対して直交する方向におけるノズルの開口の配列ピッチが、前記相対的に移動される方向と直交する方向における前記被吐出物上の吐出予定位置のピッチが略同一または略整数倍になるように配列されたことが好ましい。この構成により、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型など、所定の規則性を有した構成の描画が容易となる。また、同一とすることにより、例えば同一の規格品のインクジェットヘッドを用いて、広い範囲に液状体を吐出させることが可能となるなど、特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を用いることでコストの低減が図れる。さらに、例えばインクジェットヘッドを配列する配設方向の数を適宜設定することにより、液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性が向上する。また、１種類のインクジェットヘッドでも、液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、構成が簡略化し、製造性が向上し、コストも低減する。
【００２７】
さらに、本発明では、液滴吐出ヘッドにおける前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置する異なるノズルからは、被吐出物の所定の同一個所に対してぞれぞれ吐出されるように制御されたことが好ましい。このことにより、それぞれの箇所での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２８】
（５）本発明では、吐出する液状体としてＥＬ発光材料を含有する液状体を、被吐出物としての基板上に吐出させてＥＬ発光層を形成する電気光学装置を製造することに好都合である。
【００２９】
（６）本発明では、吐出する液状体としてカラーフィルタ材料を含有する液状体を、被吐出物として液晶を挟持する一対の基板のうちの一方の基板上に吐出させて電気光学装置であるカラーフィルタを製造することに好都合である。
【００３０】
（７）本発明では、流動性を有する液状体を被吐出物である基材上に吐出して所定の層を形成する基材を有するデバイスを製造することに好都合である。
【００３１】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その１）
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法およびその製造装置の基本的な方法および構成について説明する。まず、それらの製造方法および製造装置を説明するのに先立って、それらの製造方法などを用いて製造されるカラーフィルタについて説明する。図６（ａ）は、カラーフィルタの一実施の形態の平面構造を模式的に示している。また、図７（ｄ）は、図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面構造を示している。
【００３２】
本実施の形態のカラーフィルタ１は、ガラス、プラスチックなどによって形成された方形状の基板２の表面に、複数のフィルタエレメント３をドットパターン状、本実施の形態ではドットマトリックス状に形成している。さらに、カラーフィルタ１は、図７（ｄ）に示すように、フィルタエレメント３の上に保護膜４を積層することによって形成されている。なお、図６（ａ）は、保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に示している。
【００３３】
フィルタエレメント３は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６によって区画されてドットマトリックス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色材によって形成され、それらの各色のフィルタエレメント３が所定の配列に並べられている。この配列としては、例えば、図８（ａ）に示すいわゆるストライプ配列、図８（ｂ）に示すいわゆるモザイク配列、図８（ｃ）に示すいわゆるデルタ配列などが知られている。なお、本発明における「隔壁」は「バンク」の意味も含まれている言葉として使われ、基板から見てほぼ垂直な角度の側面や概ね９０度以上や未満の角度を持った側面を有する基板から見て凸になる部分を指すものとする。
【００３４】
そして、ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配列である。また、モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタエレメント３がＲ、Ｇ、Ｂの３色となる配色である。さらに、デルタ配列は、フィルタエレメント３の配置を段違いにし、任意の隣接する３つのフィルタエレメント３がＲ、Ｇ、Ｂの３色となる配色である。
【００３５】
カラーフィルタ１の大きさは、例えば、約４．５７ｃｍ（１．８インチ）である。また、１個のフィルタエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。そして、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００３６】
本実施の形態のカラーフィルタ１をフルカラー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとして１つの画素を形成し、１画素内のＲ、Ｇ、Ｂのいずれか１つまたはそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラックマスクとして作用する。
【００３７】
上記のカラーフィルタ１は、例えば、図６（ｂ）に示すような基板である大面積のマザー基板１２から切り出される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成する。そして、それらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断用の溝を形成し、それらの溝に沿ってマザー基板１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が形成される。
【００３８】
以下、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１を製造する製造方法およびその製造装置について説明する。
図７は、カラーフィルタ１の製造方法を工程順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領域、すなわちフィルタエレメント形成領域である。この隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント形成領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３９】
隔壁６は、フィルタエレメント形成領域７に供給される液状体としてのフィルタエレメント材料１３の流動を阻止する機能およびブラックマスクの機能を併せて有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
【００４０】
隔壁６の形成後、図７（ｂ）に示すように、フィルタエレメント材料１３の液滴８を各フィルタエレメント形成領域７に供給することにより、各フィルタエレメント形成領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図７（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材料を示している。なお、本発明においては、「液滴」を「インク」とも呼称することとする。
【００４１】
各フィルタエレメント形成領域７に所定量のフィルタエレメント材料１３が充填されると、ヒータによってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィルタエレメント材料１３の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図７（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタ１として十分な膜厚が得られるまで、フィルタエレメント材料１３の液滴８の供給とその液滴８の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタエレメント材料１３の固形分のみが残留して膜化し、これにより、希望する各色のフィルタエレメント３が形成される。
【００４２】
以上により、フィルタエレメント３が形成された後、それらのフィルタエレメント３を完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、またはインクジェット法などといった適宜の手法を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタエレメント３などの保護およびカラーフィルタ１の表面の平坦化のために形成される。
【００４３】
図９は、図７（ｂ）に示したフィルタエレメント材料１３の供給処理を行うための液滴吐出装置の一実施の形態を示している。この液滴吐出装置１６は、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料１３をインクの液滴８として、マザー基板１２（図６（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料１３およびＢ色のフィルタエレメント材料１３のための液滴吐出装置１６もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図８のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。
【００４４】
図９において、液滴吐出装置１６は、液滴吐出ヘッドの一例としてプリンタなどで用いられるインクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動手段としての主走査駆動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走査駆動手段としての副走査駆動装置２１と、マザー基板１２を液滴吐出装置１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３と、そして液滴吐出装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２４とを有する。
【００４５】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
【００４６】
インクジェットヘッド２２は、例えば図１１に示すように、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。図６（ａ）および図６（ｂ）において、カラーフィルタ１およびマザー基板１２に対する主走査方向Ｘおよびそれに直交する副走査方向Ｙは図１０において図示の通りに設定される。
【００４７】
インクジェットヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向へ延びるように位置設定され、この主走査方向Ｘへ相対的に平行移動する間に、インクとしてのフィルタエレメント材料１３を複数のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２（図６（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント材料１３を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ相対的に平行移動することにより、インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００４８】
インクジェットヘッド２２は、例えば、図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４９】
振動板３１の適所にはインク供給孔３６が形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７が接続される。このインク供給装置３７はＲ、Ｇ、Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍをインク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレメント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通ってインク室３３に充満する。
【００５０】
ノズルプレート２９には、インク室３３からフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３３を形成する面の裏面には、このインク室３３に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。このインク加圧体３９は、図１３（ｂ）に示すように、圧電素子４１ならびにこれを挟持する一対の電極４２ａおよび４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａおよび４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室３３へ流入する。
【００５１】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、この圧電素子４１と振動板３１とは共に元の形状へ戻る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るため、インク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図６（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まりなどを防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥インク層４３が設けられる。
【００５２】
図１０において、ヘッド位置制御装置１７は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモータ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、インクジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェットヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８とを有する。
【００５３】
図９に示した基板位置制御装置１８は、図１０において、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモータ５１とを有する。また、図９に示した主走査駆動装置１９は、図１０に示すように、主走査方向Ｘへ延びるＸガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したＸスライダ５３とを有する。Ｘスライダ５３は内蔵するリニアモータが作動するときにＸガイドレール５２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００５４】
また、図９に示した副走査駆動装置２１は、図１０に示すように、副走査方向Ｙへ延びるＹガイドレール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したＹスライダ５６とを有する。Ｙスライダ５６は内蔵するリニアモータが作動するときにＹガイドレール５４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５５】
Ｘスライダ５３やＹスライダ５６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、Ｘスライダ５３に支持されたインクジェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４９の副走査方向Ｙ上の位置などを高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【００５６】
図９に示した基板供給装置２３は、マザー基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、床、地面などといった設置面に置かれる基台５９と、基台５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド６４は空気吸引などによってマザー基板１２を吸着できる。
【００５７】
図９において、主走査駆動装置１９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置に、キャッピング装置７６およびクリーニング装置７７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はインクジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１１参照）から吐出されるインクの液滴８の重量をノズル毎に測定する機器である。そして、キャッピング装置７６はインクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７（図１１参照）の乾燥を防止するための装置である。
インクジェットヘッド２２の近傍には、そのインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８２がマザー基板１２を撮影できる位置に配設される。
【００５８】
図９に示したコントロール装置２４は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置６７としてのキーボードと、表示装置としてのＣＲＴ（Ｃａｔ ｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）ディスプレイ６８とを有する。上記プロセッサは、図１５に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）６９と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。
【００５９】
図９に示したヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装置２１、およびインクジェットヘッド２２内の圧電素子４１（図１３（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路７２の各機器は、図１５において、入出力インターフェース７３およびバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ＣＲＴディスプレイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７およびキャッピング装置７６の各機器も、入出力インターフェース７３およびバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００６０】
情報記憶媒体７１としてのメモリは、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）などといった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体などといった外部記憶装置などを含む概念であり、機能的には、液滴吐出装置１６の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図８に示す各種のＲ、Ｇ、Ｂ配列を実現するためのＲ、Ｇ、Ｂの内の１色のマザー基板１２（図６参照）内における吐出位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、図１０における副走査方向Ｙへのマザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファイルなどとして機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【００６１】
ＣＰＵ６９は、情報記憶媒体７１であるメモリ内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板１２に表面の所定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料１３を吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図９参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、液滴吐出によってフィルタエレメント材料１３を描画するための演算を行う描画演算部とを有する。
【００６２】
描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動させてインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部などといった各種の機能演算部を有する。
【００６３】
なお、本実施の形態では、上記の各機能をＣＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵ６９を用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００６４】
以下、上記構成からなる液滴吐出装置１６の動作を図１６に示すフローチャートに基づいて説明する。
オペレータによる電源投入によって液滴吐出装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実現される。具体的には、ヘッドユニット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４などがあらかじめ決められた初期状態にセットされる。
【００６５】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、図１０のヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によって図８の電子天秤７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ステップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００６６】
この後、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所まで移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニングする（ステップＳ８）。
【００６７】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２およびＳ６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、図９の基板供給装置２３を作動させてマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的には、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６４によって吸引保持する。次に、昇降軸６１、第１アーム６２および第２アーム６３を移動させてマザー基板１２をテーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所にあらかじめ設けてある位置決めピン５０（図１０参照）に押し付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位置ズレを防止するため、空気吸引などの手段によってマザー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
【００６８】
次に、図９の基板用カメラ８２によってマザー基板１２を観察しながら、図１０のθモータ５１の出力軸を微小角度単位で回転させることにより、テーブル４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位置決めする（ステップＳ１０）。この後、図９のヘッド用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながら、インクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演算によって決定する（ステップＳ１１）。そして、主走査駆動装置１９および副走査駆動装置２１を適宜に作動させて、インクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２）。
【００６９】
このとき、インクジェットヘッド２２は、図１の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインクジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設される。これは、通常の液滴吐出装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッチとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に等しくなるようにするための措置である。
【００７０】
図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２が描画開始位置に置かれると、図１においてインクジェットヘッド２２は（ａ）位置に置かれる。その後、図１５のステップＳ１３で主走査方向Ｘへの主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１０の主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が図１の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメント形成領域７に対応するノズル２７が到達したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント材料が吐出される。
【００７１】
なお、このときのインク吐出量は、フィルタエレメント形成領域７の容積全部を埋める量ではなく、その全量の数分の１、本実施の形態では全量の１／４の量である。これは、後述するように、各フィルタエレメント形成領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋められるのではなく、数回のインク吐出の重ね吐出、本実施の形態では４回の重ね吐出によって容積全部を埋めることになっているからである。
【００７２】
インクジェットヘッド２２はマザー基板１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方向Ｙへあらかじめ決められた副走査量δ（本実施の形態ではこの距離をδという）だけ移動する（ステップＳ１６）。
【００７３】
本実施の形態では、ＣＰＵ６９は、図１において、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割する。本実施の形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズル２７からなる長さＬのノズル列２８を４つのグループに分割して考える。これにより、１つのノズルグループはノズル２７を１８０／４＝４５〔個〕を含む長さＬ／ｎすなわちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち（Ｌ／４）ｃｏｓθ、の整数倍に設定される。
【００７４】
従って、１ライン分の主走査が終了して初期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は、図１において副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置（ｂ）へ移動する。なお、副走査移動量δは、常に一定の大きさではなく、制御の必要に応じて変化する。また、図１では位置（ａ）から位置（ｋ）が主走査方向Ｘに関して少しずれて描かれているが、これは説明を分かり易くするための措置であり、実際には、位置（ａ）から位置（ｋ）までの各位置は主走査方向Ｘに関しては同じ位置である。
【００７５】
位置（ｂ）へ副走査移動したインクジェットヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動およびインク吐出を繰り返して実行する。さらにその後、インクジェットヘッド２２は、位置（ｃ）〜（ｋ）のように副走査移動を繰り返しながら主走査移動およびインク吐出を繰り返し（ステップＳ１３〜ステップＳ１６）、こにより、マザー基板１２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着処理が完了する。
【００７６】
本実施の形態では、ノズル列２８を４つのグループに分割して副走査量δを決定したので、上記のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査および副走査が終了すると、各フィルタエレメント形成領域７は４個のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量のインクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給される。
【００７７】
このインク重ね吐出の様子を詳しく示すと図１（Ａ）に示す通りである。図１（Ａ）において“ａ”〜“ｋ”は、“ａ”位置から“ｋ”位置の各位置にあるインクジェットヘッド２２のノズル列２８によってマザー基板１２の表面に重ねて付着されたインク層すなわちフィルタエレメント材料層７９を示している。例えば、“ａ”位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ａ”層のインク層が形成され、“ｂ”位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ｂ”層のインク層が形成され、以下、“ｃ”位置、“ｄ”位置、………の各位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ｃ”、“ｄ”、………の各インク層が形成される。
【００７８】
つまり、本実施の形態では、ノズル列２８内の４個のノズルグループがマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１の同じ部分を４回重ねて主走査してインクを吐出し、合計の膜厚Ｔが希望の膜厚になるようになっている。また、図１の“ａ”位置および“ｂ”位置にあるノズル列２８の主走査によって図１（Ａ）におけるフィルタエレメント材料層７９の第１層が形成され、“ｃ”、“ｄ”、“ｅ”の各位置におけるノズル列２８の主走査によって第２層が形成され、“ｆ”、“ｇ”、“ｈ”の各位置にあるノズル列２８の主走査によって第３層が形成され、そして、“ｉ”、“ｊ”、“ｋ”の各位置にあるノズル列２８の主走査によって第４層が形成され、これにより、フィルタエレメント材料層７９の全体が形成されている。
【００７９】
なお、第１層、第２層、第３層および第４層というのはノズル列２８の主走査毎のインク吐出回数を便宜的に表示するための呼び方であり、実際には、各層は物理的に区分されているわけではなく、全体として均一な１層のフィルタエレメント材料層７９が形成されるものである。
【００８０】
また、図１に示す実施の形態では、ノズル列２８は“ａ”位置から“ｋ”位置へと順次に副走査移動して行く際、各位置におけるノズル列２８が他の位置におけるノズル列２８と副走査方向Ｙに関して重なることがなく、しかし各位置間のノズル列２８が副走査方向Ｙに関して互いに連続するように副走査移動が実行される。従って、フィルタエレメント材料層７９の第１層〜第４層の各層は層厚が均一である。
【００８１】
また、第１層を形成する“ａ”位置および“ｂ”位置のノズル列２８の境界線は、第２層を形成する“ｃ”位置、“ｄ”位置および“ｅ”位置のノズル列の境界線と重ならないように、インクジェットヘッド２２の副走査移動量δが設定されている。同様に、第２層と第３層との間の境界線および第３層と第４層との間の境界線も互いに重ならないように設定されている。仮に、各層間でノズル列２８の境界線が副走査方向、すなわち図１（Ａ）の左右方向へずれることなく重なってしまうと、その境界線部分に縞が形成されてしまうおそれがあるが、本実施の形態のように各層間で境界線をずらせるように制御すれば、縞の発生もなく、しかも均一な厚さのフィルタエレメント材料層７９を形成することができる。
【００８２】
また、本実施の形態では、ノズル列２８をノズルグループ単位で副走査移動させながら主走査移動を繰り返してインクの重ね吐出によって所定の膜厚Ｔのフィルタエレメント材料層７９を形成するのに先立って、まず、図１の“ａ”位置および“ｂ”位置にノズル列２８を置いて、すなわちノズル列２８を重ねることなく、しかし連続されて、順次にインク吐出を行うことにより、とにかく最初に、カラーフィルタ形成領域１１の全面に均一で薄い厚さのフィルタエレメント材料層７９を形成するようにしている。
【００８３】
一般的に、マザー基板１２の表面は乾いた状態にあって濡れ性が低いので、インクの着きが悪い傾向があり、よって、マザー基板１２の表面に多量のインクをいきなり局所的に吐出すると、インクを良好に付着させることができなくなったり、インク濃度の分布が不均一になったりするおそれがある。これに対し、本実施の形態のように、最初にカラーフィルタ形成領域１１の全体にできるだけ境界線を形成することなく薄く一様にインクを供給して該領域１１の全面を均一な厚さの濡れ状態に設定しておけば、その後に行われる重ね塗りにおいてインクの重ね境界部分に先立った境界線が残ることを防止できる。
【００８４】
以上により、図６のマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２は副走査駆動装置２１によって駆動されて、次列のカラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送される（ステップＳ１９）。そして、当該列のカラーフィルタ形成領域１１に対して主走査、副走査およびインク吐出を繰り返してフィルタエレメント形成領域７内にフィルタエレメントを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
【００８５】
その後、マザー基板１２内の全てのカラーフィルタ形成領域１１に関してＲ、Ｇ、Ｂの１色、例えばＲの１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１２を基板供給装置２３によって、または別の搬送機器によって、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲの１色に関するインク吐着作業を繰り返して行う。
【００８６】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図９においてインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってインクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ２２）。
【００８７】
以上により、カラーフィルタ１を構成するＲ、Ｇ、Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についてのパターニングが終了する。その後、マザー基板１２をＲ、Ｇ、Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料１３Ｇとする液滴吐出装置１６へ搬送してＧ色のパターニングを行う。さらに、最終的にＲ、Ｇ、Ｂの第３色、例えばＢ色をフィルタエレメント材料１３Ｂとする液滴吐出装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、ストライプ配列などといった希望のＲ、Ｇ、Ｂのドット配列を有するカラーフィルタ１（図６（ａ））が複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマザー基板１２をカラーフィルタ形成領域１１毎に切断することにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出される。
【００８８】
なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィルタ１の表面にはさらに電極や配向膜などが積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜などを積層する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を切り出してしまうと、その後の電極などの形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や配向膜形成などといった必要な付加工程か終了した後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
【００８９】
以上のように、本実施の形態に係るカラーフィルタ１の製造方法および製造装置によれば、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、本実施の形態では４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタ１の光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【００９０】
もちろん、本実施の形態の製造方法では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、また材料を浪費することもない。
【００９１】
ところで、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量の分布が不均一になることは図５３（ａ）に関連して説明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７が特にインク吐出量が多くなることも記述の通りである。このように、インク吐出量が他のノズル２７に比べて特に多いノズル２７を使用することは、インク吐膜すなわちフィルタエレメント３の膜厚を均一にすることに関して好ましくない。
従って、望ましくは、図１４に示すように、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残りの部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移動を行うことが良い。例えば、ノズル２７の数が１８０個である場合には、両端それぞれの１０個、合計で２０個のノズル２７からはインクを吐出しないように印加電圧などに条件付けをしておき、残りの中央部の１６０個を、例えば概念的に４個に分割して、１個あたり１６０／４＝４０〔個〕のノズルグループを考えればよい。
【００９２】
本実施の形態においては、隔壁６として透光性のない樹脂材料を用いたが、透光性の隔壁６として透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。この場合にあっては、フィルタエレメント３間に対応する位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下などに別途遮光性のＣｒなどの金属膜あるいは樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラックマスクを設けない構成としても良い。
【００９３】
また、本実施の形態においては、フィルタエレメント３としてＲ、Ｇ、Ｂを用いたが、もちろんＲ、Ｇ、Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料に代えて、Ｃ、Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料を用いればよい。
【００９４】
さらに、本実施の形態においては、隔壁６をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフィルタ１同様に、インクジェット法により隔壁６を形成することも可能である。
【００９５】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その２）
図２は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【００９６】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【００９７】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１５において情報記憶媒体７１であるメモリ内に格納したプログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的にはＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演算とに改変を加えたことである。
【００９８】
より具体的に説明すれば、図２において、インクジェットヘッド２２は主走査方向Ｘへの走査移動の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向への主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグループ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）へ移動した後、前回の主走査方向Ｘ１の反対方向Ｘ２へ走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離δだけずれた位置（ｂ’）へ戻るように制御される。なお、位置（ａ）から位置（ａ’）までの主走査の間および位置（ｂ）から位置（ｂ’）への主走査移動の間の両方の期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐出されることはもちろんである。
つまり、本実施の形態では、インクジェットヘッド２２の主走査および副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮できる。
【００９９】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その３）
図３は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１００】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【０１０１】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図３の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが等しい場合に有利な構造である。
【０１０２】
この実施の形態においても、インクジェットヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至るまで、主走査方向Ｘへの走査移動、初期位置への復帰移動および副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７から選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出する。これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内のフィルタエレメント形成領域７内へフィルタエレメント材料を付着させる。
【０１０３】
なお、本実施の形態では、ノズル列２８が副走査方向Ｙに対して平行に位置設定される。このことにより、副走査移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすなわちＬ／４と等しく設定される。
【０１０４】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その４）
図４は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０５】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【０１０６】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図４（ａ）に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点と、図２の実施の形態の場合と同様にインクジェットヘッド２２の主走査および副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われる点である。
【０１０７】
なお、図４に示す本実施の形態および図３に示す先の実施の形態では、主走査方向Ｘがノズル列２８に対して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１２に示すように主走査方向Ｘに沿って２列設けることにより、同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１つのフィルタエレメント形成領域７にフィルタエレメント材料１３を供給することができる。
【０１０８】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その５）
図５は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０９】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じである。
【０１１０】
図１に示した先の実施の形態では、ノズル列２８を重ねることなく連続するように副走査移動させることによりフィルタエレメント材料層７９の第１層をマザー基板１２の表面に均一な厚さで形成し、その第１層の上に同様に均一な厚さの第２層、第３層、第４層を順次に積層した。これに対し、図５に示す実施の形態では、第１層の形成の仕方は図１（Ａ）の場合と同じであるが、第２層〜第４層は均一な厚さの層を順次に重ねるのではなく、図５（Ａ）の左側から右側へ順に第２層、第３層および第４層を部分的な階段状に形成して行き、最終的にフィルタエレメント材料層７９を形成したことである。
【０１１１】
図５に示す実施の形態では、第１層〜第４層までの各層におけるノズル列２８の境界線が各層間で重なっているので、この境界部に濃度の濃い縞が現れることがあるかもしれない。しかしながら、この実施の形態でも最初の工程では、カラーフィルタ形成領域１１の全面に均一な厚さの第１層を形成することにより濡れ性を向上させた上で、それ以降の第２層〜第４層の積層を行うようにしたので、厚さが均一な第１層を全面的にムラなく一様に形成することなく、いきなり第１層〜第４層を左側から階段状に形成する場合に比べて、濃度ムラのない、また毛境界部に縞が形成され難いカラーフィルタ１を形成できる。
【０１１２】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その６）
図１７は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２Ａを示している。このインクジェットヘッド２２Ａが図１０に示すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッド２２Ａに形成している。それら３種類のそれぞれに図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示したインク吐出系を設け、Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲインク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１１３】
本実施の形態によって実施される概略の工程は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８Ｒ、２８Ｇ、２８Ｂを形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それらのノズルグループ毎にインクジェットヘッド２２Ａを副走査移動量δで副走査移動させることも図１の場合と同じである。
【０１１４】
図１に示した実施の形態では、インクジェットヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったので、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色によってカラーフィルタ１を形成する際には図９に示したインクジェットヘッド２２がＲ、Ｇ、Ｂの３色それぞれについて準備されていなければならない。これに対し、図１７に示す構造のインクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、インクジェットヘッド２２Ａの主走査方向Ｘへの１回の主走査によってＲ、Ｇ、Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付着させることができるので、インクジェットヘッド２２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズル列２８間隔をマザー基板１２のフィルタエレメント形成領域７のピッチに合わせることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の同時打ちが可能となる。
【０１１５】
（カラーフィルタを用いた電気光学装置の製造方法および製造装置に関する説明）
図１８は、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶装置の製造方法の一実施の形態を示している。また、図１９はその製造方法によって製造される液晶装置の一実施の形態を示している。また、図２０は図１９におけるＩＸ−ＩＸ線に従った液晶装置の断面構造を示している。液晶装置の製造方法およびその製造装置の説明に先立って、まず、その製造方法によって製造される液晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施の形態の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装置である。
【０１１６】
図１９において、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１０３ａおよび液晶駆動用ＩＣ１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）１０４を液晶パネル１０２に接続する。さらに、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２の裏面側に照明装置１０６をバックライトとして設けることによって形成される。
【０１１７】
液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０８は、例えば、スクリーン印刷などによってエポキシ系樹脂を第１基板１０７ａまたは第２基板１０７ｂの内側表面に環状付着されることによって形成される。また、シール材１０８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって球状または円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で含まれる。
【０１１８】
図２０において、第１基板１０７ａは透明なガラスや、透明なプラスチックなどによって形成された板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側表面（図２０の上側表面）には反射膜１１２が形成され、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１９参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形成される。また、基材１１１ａの外側表面（図２０の下側表面）には偏光板１１７ａが貼着などによって装着される。
【０１１９】
図１９では第１電極１１４ａの配列を分かり易くするために、それらのストライプ間隔を実際より大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１２０】
図２０において、第２基板１０７ｂは透明なガラスや、透明なプラスチックなどによって形成された板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側表面（図２０の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１９参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面（図２０の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着などによって装着される。
【０１２１】
図１９では、第２電極１１４ｂの配列を分かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１２２】
図２０において、第１基板１０７ａ、第２基板１０７ｂおよびシール材１０８によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶Ｌが封入されている。第１基板１０７ａまたは第２基板１０７ｂの内側表面には微小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのスペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１２３】
第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂとは互いに直交関係に配設され、それらの交差点は図１９の矢印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そして、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などのパターンで配列させることによって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそれらＲ、Ｇ、Ｂの各１つずつに対応しており、そしてＲ、Ｇ、Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになって１画素が構成される。
【０１２４】
ドット・マトリクス状に配列される複数の絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させることにより、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に文字、数字などといった像が表示される。このようにして像が表示される領域が有効画素領域であり、図１９および図２０において矢印Ｖによって表示される平面的な矩形領域が有効表示領域となっている。
【０１２５】
図２０において、反射膜１１２はＡＰＣ合金、Ａｌ（アルミニウム）などといった光反射特性材料によって形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂの交点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図２０の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マトリクス状に配設されている。
第１電極１１４ａおよび第２電極１１４ｂは、例えば、透明導電材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）によって形成される。また、配向膜１１６ａ，１１６ｂは、ポリイミド系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形成される。これらの配向膜１１６ａ，１１６ｂがラビング処理を受けることにより、第１基板１０７ａおよび第２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が決定される。
【０１２６】
図１９において、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これらの基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材１０９（図２０参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子に接続される金属配線１１４ｅ、および液晶駆動用ＩＣ１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆなどといった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１２７】
本実施の形態では、第１電極１１４ａから延びる引出し配線１１４ｃおよび第２電極１１４ｂに通電する引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料であるＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの入力側の配線である金属配線１１４ｅ，１１４ｆは、電気抵抗値の低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。このＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄおよびＣｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ１％からなる合金である。
【０１２８】
液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂは、ＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施の形態では、基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわゆるＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式の液晶パネルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造においては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によって、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの入力側バンプと金属配線１１４ｅ，１１４ｆとが導電接続され、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの出力側バンプと引出し配線１１４ｃ，１１４ｄとが導電接続される。
【０１２９】
図１９において、ＦＰＣ１０４は、可撓性の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有する。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。また、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０７ａのうち金属配線１１４ｅ，１１４ｆが形成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そして、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きにより、基板側の金属配線１１４ｅ，１１４ｆとＦＰＣ側の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１３０】
ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａおよび第２電極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々のピクセル毎に電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向が個々の絵素ピクセル毎に制御される。
【０１３１】
図１９において、いわゆるバックライトとして機能する照明装置１０６は、図２０に示すように、アクリル樹脂などによって構成された導光体１３２と、この導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）１３６とを有する。
【０１３２】
ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持され、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥＤ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることにより、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するための緩衝材を示している。
【０１３３】
ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１３４】
本実施の形態の液晶装置１０１は以上のように構成されているので、太陽光、室内光などといった外部光が十分に明るい場合には、図２０において、第２基板１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌは、これを挟持する電極１１４ａ，１１４ｂによってＲ、Ｇ、Ｂの絵素ピクセル毎に配向制御される。よって、液晶Ｌへ供給された光は絵素ピクセル毎に変調され、その変調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できない光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字などといった像が表示される。これにより、反射型の表示が行われる。
【０１３５】
他方、外部光の光量が十分に得られない場合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給される。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセル毎に変調される。これにより、外部へ像が表示され、通過型の表示が行われる。
【０１３６】
上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図１８に示す製造方法によって製造される。この製造方法において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。
【０１３７】
まず、第１基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチックなどによって形成された大面積のマザー原料基板の表面に液晶パネル１０２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法などを用いて形成する。さらに、その上に絶縁膜１１３を周知の成膜法を用いて成形する（工程Ｐ１）。次に、フォトリソグラフィー法などを用いて第１電極１１４ａ、引出し配線１１４ｃ，１１４ｄおよび金属配線１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ２）。
【０１３８】
この後、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷などによって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さらにその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、例えばスクリーン印刷などによってシール材１０８を環状に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ１１９を分散する（工程Ｐ６）以上により、液晶パネル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１３９】
以上の第１基板形成工程とは別に、第２基板形成工程（図１８の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチックなどによって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタ１１８の形成工程は図７に示した製造方法を用いて行われ、その製造方法中のＲ、Ｇ、Ｂの各色フィルタエレメントの形成は図８の液滴吐出装置１６を用いて図１ないし図５などに示したインクジェットヘッド２２の制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタ１１８の製造方法およびインクジェットヘッド２２の制御方法は既に説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
【０１４０】
図７（ｄ）に示すようにマザー基板１２すなわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわちカラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成される（工程Ｐ１２）。さらに、塗布、印刷などによって配向膜１１６ｂが形成される（工程Ｐ１３）。次に、その配向膜１１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１４１】
以上により、大面積のマザー第１基板およびマザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。
【０１４２】
次に、完成した空のパネル構造体の所定の位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準としてパネル構造体をブレイク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１０（図１９参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１４３】
その後、露出した液晶注入用開口１１０を通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さらに各液晶注入用開口１１０を樹脂などによって封止する（工程Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルとをチャンバなどに入れる。そのチャンバなどを真空状態にしてからそのチャンバの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬する。その後、チャンバを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程Ｐ２４において洗浄処理を受ける。
【０１４４】
その後、液晶注入および洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して、再び所定位置にスクライブ溝を形成する。さらに、そのスクライブ溝を基準にして短冊状パネルを切断する。このことにより、複数個の液晶パネル１０２が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製された個々の液晶パネル１０２に対して、図１９に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０１が完成する（工程Ｐ２６）。
【０１４５】
以上に説明した液晶装置の製造方法およびその製造装置は、特にカラーフィルタ１を製造する段階において次のような特徴を有する。すなわち、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１すなわち図２０のカラーフィルタ１１８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタ１の光透過特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２０の液晶装置１０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１４６】
また、本実施の形態の液晶装置の製造方法およびその製造装置では、図９に示す液滴吐出装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要がなく、また材料を浪費することもない。
【０１４７】
（カラーフィルタを用いた電気光学装置の他の例）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタを備えた電気光学装置の一例としてアクティブマトリクス型のカラー液晶装置を挙げて以下に説明する。図５４は、先の実施形態のカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【０１４８】
この実施形態の液晶装置７００は、互いに対向するように配置されたカラーフィルタ基板７４１及びアクティブ素子基板７０１と、これらの間に挟持された液晶層７０２と、カラーフィルタ基板７４１の上面側（観測者側）に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７１６ａと、アクティブ素子基板７０１の下面側に付設された位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた液晶パネル７５０を主体として構成されている。この液晶パネル７５０に、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
【０１４９】
カラーフィルタ基板７４１は、光透過性基板（基板）７４２を具備してなる観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、アクティブ素子基板７０１はその反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
カラーフィルタ基板７４１は、プラスチックフィルム又は厚さ３００μｍ（０．３ｍｍ）程度のガラス基板等からなる光透過性基板７４２と、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成されたカラーフィルタ７５１とを主体として構成されている。
カラーフィルタ７５１は、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成された隔壁７０６と、フィルタエレメント７０３…と、隔壁７０６及びフィルタエレメント７０３…を覆う保護膜７０４と、を具備して構成されている。
【０１５０】
隔壁７０６は、各フィルタエレメント７０３を形成する着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７０７をそれぞれ取り囲むように形成された格子状のもので、基板７４２の一面７４２ａに形成されている。隔壁７０６は、孔７０６ｃ…を複数有している。各孔７０６ｃ内には基板７４２面が露出している。そして隔壁７０６の内壁（孔７０６ｃの壁面）と基板７４２面とにより区画されてフィルタエレメント形成領域７０７…が形成されている。
【０１５１】
隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好ましい。この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機顔料を含むもので、フィルタエレメント７０３…の形成位置を除く部分に形成されているため、フィルタエレメント７０３…同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこの隔壁７０６は、遮光膜としての機能をも有する。
フィルタエレメント７０３…は、隔壁７０６の内壁と基板７４２に渡って設けられたフィルタエレメント形成領域７０７に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料をインクジェット方式により導入、すなわち吐出し、その後乾燥させることにより形成したものである。
【０１５２】
更に保護膜７０４の下側（液晶層側）にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電材料からなる液晶駆動用の電極層７０５が保護膜７０４の略全面にわたって形成されている。更にこの液晶駆動用の電極層７０５を覆って液晶層側に配向膜７１９ａが設けられており、また、反対側のアクティブ素子基板７０１側の後述する画素電極７３２上にも配向膜７１９ｂが設けられている。
【０１５３】
アクティブ素子基板７０１は、光透過性基板（基板）７１４上に図示略の絶縁層が形成され、さらにこの絶縁層の上に、ＴＦＴ型のスイッチング素子としての薄膜トランジスタＴと画素電極７３２が形成されてなるものである。また、基板７１４上に形成された絶縁層上には、実際にはマトリクス状に複数の走査線と複数の信号線とが形成され、これら走査線と信号線とに囲まれた領域毎に先の画素電極７３２が設けられ、各画素電極７３２と走査線及び信号線とが電気的に接続される位置に薄膜トランジスタＴが組み込まれており、走査線と信号線に対する信号の印加によって薄膜トランジスタＴをオン・オフして画素電７３２への通電制御を行うことができるように構成されている。また、対向側のカラーフィルタ基板７４１側に形成された電極層７０５はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものを適用できる。
【０１５４】
アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板（対向基板）７４１とは、カラーフィルタ基板７４１の外周縁に沿って形成されたシール材７５５によって所定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号７５６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサである。その結果、アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１との間には、平面視略額縁状のシール材７５５によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
【０１５５】
図５４に示すようにカラーフィルタ基板７４１はアクティブ素子基板７０１よりも小さく、アクティブ素子基板７０１の周辺部分は、カラーフィルタ基板７４１の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。従って、アクティブ素子基板７０１では、シール材４５５の外周側領域において、画素スイッチング用の薄膜トランジスタＴと同時に駆動回路用のＴＦＴを形成することができ、もって走査線駆動回路やデータ線駆動回路を設けることが可能になっている。
この液晶パネル７５０では、アクティブ素子基板７０１およびカラーフィルタ基板７４１の光入射側および光出射側の面には、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、上記の偏光板７１６ａ、７１６ｂ（偏光シート）が所定の向きに配置されている。
【０１５６】
このように構成した液晶パネル７５０において、アクティブ素子基板７０１では、データ線（図示せず。）および薄膜トランジスタＴを介して画素電極７３２に印加した表示信号によって、画素電極７３２と対向電極７１８との間において液晶の配向状態を画素毎に制御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。たとえば、液晶パネル７５０をＴＮモードで構成した場合に、一対の基板間（アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１）の各々に形成した配向膜７１９ａ、７１９ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を互いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９０°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ配向は、基板間で液晶層７０２に電場をかけることによって解放される。従って、基板間に外部から電場を印加するか否かによって、液晶の配向状態を画素電極７３２が形成されている領域毎（画素毎）に制御することができる。
【０１５７】
それ故、液晶パネル７５０を透過型の液晶パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板７０１の下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側の偏光板７１６ｂによって所定の直線偏光光に揃えられた後、位相差板７１５ｂ、アクティブ素子基板７０１を通って液晶層７０２に入射し、ある領域を透過する直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられて出射される一方、他の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられることなく出射する。このため、入射側の偏光板７１６ｂと出射側の偏光板７１６ａを互いの透過偏光軸が直交するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板７１６ｂと透過偏光軸が平行になるように出射側の偏光板７１６ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられることのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶７０２の配向状態を画素毎に制御すれば、任意の情報を表示することができる。
【０１５８】
上記構成の液晶装置７００では、カラーフィルタ基板７４１の個々のフィルタエレメント７０３…が先の実施形態に記載のインクジェット方式により形成される。すなわち、その形成に際して、各々のフィルタエレメント７０３…がインクジェットヘッドの１回の主走査によって形成されるのではなく、各々のフィルタエレメント７０３は異なるノズルグループに属する複数のノズルによってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じるのを防止でき、それ故、カラーフィルタ基板７４１の光透過特性が平面的に均一にされている。これにより、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるようになっている。
【０１５９】
上記では、カラーフィルタを液晶装置に適用した例について説明したが、本発明に係るカラーフィルタは上記以外の用途にも適用できるのは勿論である。例えば、カラーフィルタは白色有機ＥＬにも適用することができる。すなわち、白色有機ＥＬの前面（有機ＥＬの光出射側）に前述で形成したカラーフィルタを配置する。この構成とすることにより、白色有機ＥＬを用いながらカラー表示を行える有機ＥＬ装置を提供することができる。
なお、以下のように光は制御される。有機ＥＬは白色光源となるように形成され、各画素毎に設けられたトランジスタの制御により発光量を調整し、さらにカラーフィルタを光が透過することにより所望の色を表示させる。
【０１６０】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法および製造装置に関する実施の形態）
図２１は、本発明に係る電気光学装置の一例としてのＥＬ装置の製造方法の一実施の形態を示している。また、図２２はその製造方法の主要工程および最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２２（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成する。それらの格子状凹部の中に、正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極２１３を形成することによってＥＬ装置２０１が形成される。
【０１６１】
上記画素電極２０２をＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ：薄膜ダイオード）素子などといった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）などといった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。
【０１６２】
各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１６３】
上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２１に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５１および図２２（ａ）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法などを用いることができる。画素電極２０２の材料としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。
【０１６４】
次に、工程Ｐ５２および図２２（ａ）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターンニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明な画素電極２０２の間を埋める。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れなどを防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ発光材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン（登録商標）化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。
【０１６５】
次に、機能性液状体としての正孔注入層用インクを塗布する直前に、透明基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行う（工程Ｐ５３）。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【０１６６】
次に、工程Ｐ５４および図２２（ａ）に示すように、正孔注入層用インクを図９の液滴吐出装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行う。具体的なインクジェットヘッド２２の制御方法は、図１ないし図５に示した方法のいずれかの方法が用いられる。その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去する（工程Ｐ５５）。この後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成する（工程Ｐ５６）。上記条件では、膜厚は４０ｎｍであった。
【０１６７】
次に、工程Ｐ５７および図２２（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント形成領域７内の正孔注入層２２０の上にインクジェット法を用いて機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＲ発光層用インクおよび機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＧ発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層用インクは、図９の液滴吐出装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出させる。インクジェットヘッド２２の制御方法は図１ないし図５に示した方法のいずれかの方法が用いられる。インクジェット方式によれば、微細なパターニングを簡便にかつ短時間に行うことができる。また、インク組成物の固形分濃度および吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１６８】
発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分などという条件で溶媒を除去する（工程Ｐ５８）。続けて、窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇを形成する（工程Ｐ５９）。上記条件により、膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。
【０１６９】
なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１７０】
次に、工程Ｐ６０および図２２（ｃ）に示すように、機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＢ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇおよび正孔注入層２２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。
以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
【０１７１】
その後、工程Ｐ６１および図２２（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とするＥＬ装置２０１が製造される。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉなどを材料として、蒸着法、スパッタ法などといった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法などといったパターニング手法を用いて形成できる。
【０１７２】
以上に説明したＥＬ装置２０１の製造方法およびその製造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法として図１ないし図５に示したいずれかの制御方法を採用するので、図２２における各絵素ピクセル内の正孔注入層２２０およびＲ、Ｇ、Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなく、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層および／または各色発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置２０１の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２２（ｄ）のＥＬ装置２０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１７３】
また、本実施の形態のＥＬ装置の製造方法およびその製造装置では、図９に示す液滴吐出装置１６を用いることにより、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってＲ、Ｇ、Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、また材料を浪費することもない。
【０１７４】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する実施の形態）
次に、本発明のカラーフィルタの製造装置の実施の形態について図面を参照して説明する。まず、このカラーフィルタの製造装置の説明に先立って、製造されるカラーフィルタについて説明する。図３５はカラーフィルタを示す部分拡大図で、図３５（Ａ）は平面図であり、図３５（Ｂ）は図３５（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。なお、この図３５に示すカラーフィルタにおいて、図６および図７に示す実施の形態のカラーフィルタ１と同一の構成については、同一の符号を付して説明する。
【０１７５】
〔カラーフィルタの構成〕
図３５（Ａ）において、カラーフィルタ１は、マトリックス状に並んだ複数の画素１Ａを備えている。これら画素１Ａの境目は、隔壁６によって区切られている。画素１Ａの１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクである液状体としてのカラーフィルタ材料すなわちフィルタエレメント材料１３が導入されている。この図３５に示すカラーフィルタは、赤、緑、青の配置をいわゆるモザイク配列として説明したが、上述したように、ストライプ配列やデルタ配列など、いずれの配置でも適用できる。
【０１７６】
カラーフィルタ１は、図３５（Ｂ）に示すように、透光性の基板１２と、透光性の隔壁６とを備えている。この隔壁６が形成されていない、すなわち除去された部分は、上記画素１Ａを構成する。この画素１Ａに導入された各色のフィルタエレメント材料１３は、着色層となるフィルタエレメント３を構成する。隔壁６およびフィルタエレメント３の上面には、保護層である保護膜４および電極層５が形成されている。
【０１７７】
〔カラーフィルタの製造装置の構成〕
次に、上記カラーフィルタを製造する製造装置の構成について図面を参照して説明する。図２３は、本発明に係るカラーフィルタの製造装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【０１７８】
カラーフィルタ製造装置は、電気光学装置としてのカラー液晶パネルを構成するカラーフィルタを製造する。このカラーフィルタ製造装置は、図示しない液滴吐出装置を備えている。
【０１７９】
〔液滴吐出処理装置の構成〕
そして、液滴吐出装置は、上述した各実施の形態の液滴吐出装置と同様に、図２３に示すような３台の液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂを有している。これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、液状体としてのインクすなわちカラーフィルタ材料である例えばＲ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３をマザー基板１２にそれぞれ吐出するＲ、Ｇ、Ｂの３色に対応している。なお、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、略直列状に配置されて液滴吐出装置を構成する。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、各構成部材の動作を制御する図示しない制御装置が一体的に設けられている。
【０１８０】
なお、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにマザー基板１２を一枚ずつ搬入および搬出する図示しない搬送ロボットがそれぞれ接続される。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、マザー基板１２が例えば６枚収容可能で、マザー基板１２を熱処理、例えば１２０℃、５分間加熱して吐出されたフィルタエレメント材料１３を乾燥させる図示しない多段ベーク炉が接続されている。
【０１８１】
そして、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂは、図２３に示すように、中空箱状の本体ケースであるサーマルクリーンチャンバ４２２を有している。このサーマルクリーンチャンバ４２２内は、インクジェット方式による安定した良好な描画が得られるように、内部が例えば２０±０．５℃に調整されて外部から塵埃が侵入不可能に形成されている。このサーマルクリーンチャンバ４２２内には、液滴吐出処理装置本体４２３が配設されている。
【０１８２】
液滴吐出処理装置本体４２３は、図２３示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４を有している。このＸ軸エアースライドテーブル４２４上には、図示しないリニアモータが配設された主走査駆動装置４２５が配設されている。この主走査駆動装置４２５は、マザー基板１２を例えば吸引により取付固定する図示しない台座部を有し、この台座部をＸ軸方向であるマザー基板１２に対して主走査方向に移動させる。
【０１８３】
液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４の上方に位置して、Ｙ軸テーブルとしての副走査駆動装置４２７が配設されている。この副走査駆動装置４２７は、フィルタエレメント材料１３を例えば上下方向に沿って吐出させるヘッドユニット４２０をＹ軸方向であるマザー基板１２に対して副走査方向に移動させる。なお、図２３において、ヘッドユニット４２０は、位置関係を明確化するために、空中に浮いた状態で実線により表示している。
【０１８４】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、インクジェットヘッド４２１の位置やマザー基板１２の位置を制御するために位置を認識する位置認識手段である図示しない各種カメラが配設されている。なお、ヘッドユニット４２０や台座部の位置制御は、パルスモータを用いた位置制御の他、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現できる。
【０１８５】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、ヘッドユニット４２０におけるフィルタエレメント材料１３を吐出する面を拭き取るワイピングユニット４８１が設けられている。このワイピングユニット４８１は、例えば布部材およびゴムシートが一体的に積層された図示しないワイピング部材の一端側を適宜巻き取り、順次新しい面でフィルタエレメント材料１３を吐出する面をワイピングする構成となっている。これにより、吐出面に付着したフィルタエレメント材料１３の除去を行ない、後述するノズルの目詰まりが起こらないようにしている。
【０１８６】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、インクシステム４８２が設けられている。このインクシステム４８２は、フィルタエレメント材料１３を貯留するインクタンク４８３、フィルタエレメント材料１３が流通可能な供給管４７８、および、インクタンク４８３から供給管４７８を介してフィルタエレメント材料１３をヘッドユニット４２０へ供給する図示しないポンプを有している。なお、図２３において、供給管４７８の配管は、模式的に示したもので、インクタンク４８３からヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７側に配線され、ヘッドユニット４２０を走査する副走査駆動装置４２７の上方からヘッドユニット４２０にフィルタエレメント材料１３を供給するようになっている。
【０１８７】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、ヘッドユニット４２０から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量を検出する重量測定ユニット４８５が設けられている。
【０１８８】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、例えば図示しない光センサを有しヘッドユニット４２０からのフィルタエレメント材料１３の吐出状態を検出するドット抜け検出ユニット４８７が一対の配設されている。このドット抜け検出ユニット４８７は、ヘッドユニット４２０から液状体が吐出させる方向に対して交差する方向、例えばＸ軸方向に沿って図示しない光センサの光源および受光部が、ヘッドユニット４２０から吐出された液滴が通過する空間を挟んで対向するように配設されている。また、ヘッドユニット４２０の搬送方向であるＹ軸方向側に位置して配設され、フィルタエレメント材料１３を吐出するためにヘッドユニット４２０を副走査移動させる毎に吐出状態を検出してドット抜けを検出する。
【０１８９】
なお、詳しくは後述するが、ヘッドユニット４２０には、フィルタエレメント材料１３を吐出するヘッド装置４３３を２列に配置している。このため、ドット抜け検出ユニット４８７は、各列各ヘッド装置毎に吐出状態を検出するために一対設けられている。
【０１９０】
〔ヘッドユニットの構成〕
次に、ヘッドユニット４２０の構成について説明する。図２４は、液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂに設けられたヘッドユニット４２０を示す平面図である。図２５は、ヘッドユニット４２０を示す側面図である。図２６は、ヘッドユニット４２０を示す正面図である。図２７は、ヘッドユニット４２０を示す断面図である。
【０１９１】
ヘッドユニット４２０は、図２４ないし図２７に示すように、ヘッド本体部４３０と、インク供給部４３１とを有している。また、ヘッド本体部４３０は、平板状のキャリッジ４２６と、このキャリッジ４２６に複数取り付けられた実質的に略同一形状のヘッド装置４３３とを有している。
【０１９２】
（ヘッド装置の構成）
図２８はヘッドユニット４２０に配設されたヘッド装置４３３を示す分解斜視図である。
ヘッド装置４３３は、図２８に示すように、短冊状のプリント基板４３５を有している。このプリント基板４３５には、各種電気部品４３６が実装され電気配線が設けられている。また、プリント基板４３５には、長手方向の一端側（図２８中右側）に位置して窓部４３７が貫通形成されている。さらに、プリント基板４３５には、インクであるフィルタエレメント材料１３が流通可能な流通路４３８が窓部４３７の両側に位置して設けられている。
【０１９３】
そして、このプリント基板４３５の一面側（図２８中下面側）には、長手方向の略一端側（図２８中右側）に位置してインクジェットヘッド４２１が取付部材４４０により一体的に取り付けられている。このインクジェットヘッド４２１は、長手矩形状に形成され、長手方向がプリント基板４３５の長手方向に沿う状態で取り付けられる。なお、各ヘッド装置４３３における各インクジェットヘッド４２１は、実質的に略同一形状、すなわち例えば所定の規格の製品であって、所定の品質に選別されたものなどであればよい。具体的には、これらインクジェットヘッド４２１が後述する同一個数のノズルを有し、ノズルの形成位置が互いに同一であることが、キャリッジ４２６に対してインクジェットヘッド４２１を組み立てる際に効率的となり、また組み立て精度も高まるので、好ましい。さらに、同一の製造・組立工程を経て作られた製品を用いれば、特別な製品を作る必要が無くなり、低コストとすることができる。
【０１９４】
また、プリント基板４３５の他面側（図２８中上面側）には、長手方向の略他端側（図２８中左側）に位置してインクジェットヘッド４２１に電気配線４４２にて電気的に接続されるコネクタ４４１が一体的に取り付けられている。これらコネクタ４４１には、図２３に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線された電気配線４４２（電源配線、信号配線を含む）が接続される。この電気配線４４２は図示しない制御装置とヘッドユニット４２０を接続するものとなる。すなわち、これら電気配線４４２は、図２４および図２７に二点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０の２列のヘッド装置４３３の配列方向の両側であるヘッドユニット４２０の外周側に配線されてコネクタ４４１に接続され、電気ノイズが生じないようになっている。
【０１９５】
さらに、プリント基板４３５の他面側（図２８中上面側）には、長手方向の略一端側（図２８中右側）でインクジェットヘッド４２１に対応してインク導入部４４３が取り付けられている。このインク導入部４４３は、取付部材４４０に設けられプリント基板４３５を貫通する位置決めピン部４４４を嵌合する略円筒状の位置決め筒部４４５と、プリント基板４３５に係止する係止爪部４４６とを有している。
【０１９６】
また、インク導入部４４３には、先端先細り形状の略円筒状の連結部４４８が一対突設されている。これら連結部４４８は、プリント基板４３５側となる基端部にプリント基板４３５の流通路４３８に略液密に連通する図示しない開口を有し、先端部にフィルタエレメント材料１３が流通可能な図示しない孔を有している。
【０１９７】
さらに、これら連結部４４８には、図２５ないし図２８に示すように、先端側に位置してシール連結部４５０がそれぞれ取り付けられている。これらシール連結部４５０は、内周側に連結部４４８を略液密に嵌着する略円筒状に形成され、先端部にシール部材４４９が設けられている。
【０１９８】
（インクジェットヘッドの構成）
図２９は、インクジェットヘッド４２１を示す分解斜視図である。図３０はインクジェットヘッド４２１のフィルタエレメント材料１３を吐出する動作をインクジェットヘッド４２１の断面に対応して説明する模式図で、図３０（Ａ）はフィルタエレメント材料１３を吐出する前の状態、図３０（Ｂ）は圧電振動子４５２を収縮させてフィルタエレメント材料１３を吐出している状態、図３０（Ｃ）はフィルタエレメント材料１３を吐出した直後の状態である。図３１は、インクジェットヘッド４２１におけるフィルタエレメント材料１３の吐出量を説明する説明図である。図３２は、インクジェットヘッド４２１の配置状態を説明する概略的な模式図である。図３３は、図３２における部分拡大図である。
【０１９９】
インクジェットヘッド４２１は、図２９に示すように、略矩形状のホルダ４５１を有している。このホルダ４５１には、長手方向に沿って例えば１８０個のピエゾ素子などの圧電振動子４５２が２列設けられている。また、ホルダ４５１には、プリント基板４３５の流通路４３８に連通し長手方向の両側略中央にインクであるフィルタエレメント材料１３が流通する貫通孔４５３がそれぞれ設けられている。
【０２００】
また、ホルダ４５１の圧電振動子４５２が位置する一面である上面には、図２９に示すように、合成樹脂にてシート状に形成された弾性板４５５が一体的に設けられている。この弾性板４５５には、貫通孔４５３に連続する連通孔４５６がそれぞれ設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０１】
さらに、弾性板４５５の上面には、平板状の流路形成板４６０が設けられている。この流路形成板４６０には、ホルダ４５１の幅方向に長手状で圧電振動子４５２に対応してホルダ４５１の長手方向に１８０個の直列状に２列設けられたノズル溝４６１と、ノズル溝４６１の一側にホルダの長手方向に長手状に設けられた開口部４６２と、弾性板４５５の連通孔４５６に連続する流通孔４６３とが設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０２】
また、流路形成板４６０の上面には、略平板状のノズルプレート４６５が設けられている。このノズルプレート４６５には、流路形成板４６０のノズル溝４６１に対応して略円形のノズル４６６がホルダ４５１の長手方向に１８０個で２５．４ｍｍ（１ｉｎｃｈ）の長さ範囲に直列状で２列設けられている。また、ノズルプレート４６５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５および流路形成板４６０とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０３】
そして、積層する弾性板４５５、流路形成板４６０およびノズルプレート４６５により、図３０に模式的に示すように、流路形成板４６０の開口部４６２にて液リザーバ４６７が区画形成されるとともに、この液リザーバ４６７は各ノズル溝４６１に液供給路４６８を介して連続する。このことにより、インクジェットヘッド４２１は、圧電振動子４５２の動作により、ノズル溝４６１内の圧力が増大しノズルからフィルタエレメント材料１３を２〜１３ｐｌ例えば約１０ｐｌの液滴量で７±２ｍ／ｓで吐出する。すなわち、図３０に示すように、圧電振動子４５２に対して所定の印加電圧Ｖｈをパルス状に印加することで、図３０（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に順次示すようにして、圧電振動子４５２を矢印Ｑ方向に適宜伸縮させることで、インクであるフィルタエレメント材料１３を加圧して所定量の液滴８でノズル４６６から吐出させる。
【０２０４】
また、このインクジェットヘッド４２１は、上記実施の形態でも説明したように、図３１に示す様な配列方向の両端部側の吐出量が多くなる吐出量のバラツキがある。このことから、例えば吐出量バラツキが５％以内となる範囲のノズル４６６すなわち両端部の１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３を吐出しないように制御される。
【０２０５】
そして、ヘッドユニット４２０を構成するヘッド本体部４３０は、図２３ないし図２７に示すように、インクジェットヘッド４２１を有したヘッド装置４３３が複数互いに並んで配置されて構成されている。このヘッド装置４３３のキャリッジ４２６における配置は、図３２および図３３に模式的に示すように、副走査方向であるＹ軸方向よりもＹ軸方向と直交する主走査方向であるＸ軸方向に対して傾斜した方向にオフセットしながら配列される状態である。すなわち、副走査方向であるＹ軸方向より若干傾斜した方向に例えば６個並べて配置され、この列が複数列、例えば２列で配置されている。これは、インクジェットヘッド４２１よりもヘッド装置４３３の短辺方向の幅が広く、互いに隣接するインクジェットヘッド４２１同士の配置間隔を狭めることができない一方で、ノズル４６６の列がＹ軸方向に連続して配列されているようにしなければならない状況から考えられた配置の仕方である。
【０２０６】
さらに、ヘッド本体部４３０は、ヘッド装置４３３が、インクジェットヘッド４２１の長手方向がＸ軸方向に対して交差する方向に傾斜する状態で、かつコネクタ４４１が相対向方向と反対側に位置する状態で略点対称に配設されている。このヘッド装置４３３の傾斜する配置状態は、例えばインクジェットヘッド４２１の長手方向であるノズル４６６の配設方向がＸ軸方向に対して５７．１°傾斜する。
【０２０７】
さらに、ヘッド装置４３３は、略千鳥状すなわち配列方向に対して並列状態に位置しないように配置されている。すなわち、図２４ないし図２７および図３２に示すように、１２個のインクジェットヘッド４２１のノズル４６６がＹ軸方向に連続して配列されるように、インクジェットヘッド４２１は２列に配列され且つそのＹ軸方向への配列順序が互い違いの交互に配置される。
【０２０８】
具体的には、図３２および図３３に基づいて、より詳細に説明する。ここで、インクジェットヘッド４２１は、長手方向であるノズル４６６の配列方向がＸ軸方向に対して傾斜する。このため、インクジェットヘッド４２１に設けられた２列のノズル４６６の一列目において、フィルタエレメント材料１３を吐出する１１個目のノズル４６６が位置するＸ軸方向の直線上で、２列目のノズル４６６の他方は吐出しない１０個以内の位置となる領域Ａ（非吐出ノズルの領域）がある（図３３中のＡ）。すなわち、１つのインクジェットヘッド４２１では、Ｘ軸方向での直線上に２個の吐出ノズル４６６が存在しない領域Ａが生じる。
【０２０９】
したがって、図３２および図３３に示すように、１つのインクジェットヘッド４２１でＸ軸方向の直線上に２個のノズル４６６が位置する領域Ｂ（図３３中のＢ）では、列をなすヘッド装置４３３はＸ軸方向で並列状態に位置させない。さらに、一方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａと、他方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａとは、Ｘ軸方向で互いに並列状態に位置させ、一方の列のインクジェットヘッド４２１と他方の列のインクジェットヘッド４２１とにてＸ軸方向の直線上に合計で２個のノズル４６６が位置する状態とする。
すなわち、インクジェットヘッド４２１が配設されている領域においては、どの位置でもＸ軸方向の直線上に必ず合計２個のノズル４６６が位置するように２列に千鳥状（互い違い）に配設する。なお、フィルタエレメント材料１３を吐出しないノズル４６６の領域Ｘは、このＸ軸方向の直線上における２個のノズル４６６の数として数えない。
【０２１０】
このように、主走査されるＸ軸方向に対してインクを吐出するノズル４６６は２個が走査方向に沿って仮想される直線上（直線自体は存在するものではない）に位置し、後述するように、この２個のノズル４６６から１つの個所にインクが吐出されることになる。１つのノズル４６６からの吐出だけで１つのエレメントを構成すると、ノズル４６６間の吐出量のバラツキがエレメントの特性バラツキや歩留まり劣化に繋がるので、このように別々のノズル４６６から吐出により１つのエレメントを形成すれば、ノズル４６６間の吐出のバラツキを分散し、エレメント間での特性の均一化および歩留まり向上を図ることができる。
【０２１１】
また、このような複数のインクジェットヘッド４２１の配列によって、走査方向に仮想される複数の直線上に、吐出ノズルが複数位置することになり、複数のインクジェットヘッド４２１を配列した状態において、走査方向に直交する方向に沿ってノズルの配列を見た場合、そのノズル４６６の配列が実質的に連続するようになるので、実質的に長寸法のインクジェットヘッド４２１を製造して用いたのと同様な液滴吐出を行うことができる。なお、インクジェットヘッド４２１を複数搭載した吐出装置の走査は、図１ないし図５のような走査方法で（ヘッドを傾けるかどうかは別にして）、行うことができる。
【０２１２】
なお、このインクジェットヘッド４２１の配置の際、図３４に示すように、ヘッドユニット４２０の描画の際のマザー基板１２との相対的な移動方向である走査方向Ｘに対して直交する方向の副走査方向Ｙにおけるノズル４６６のピッチが、描画するフィルタエレメント形成領域７の副走査方向Ｙにおけるエレメント間ピッチとなるようにインクジェットヘッド４２１を長手方向が走査方向Ｘに対して図３４（ａ）に示す所定角度θ１で傾斜させた状態、あるいは図３４（ｂ）に示す所定角度θ２で傾斜させる。この状態で、走査方向Ｘに沿った直線上で、ノズル４６６が複数、すなわちノズル４６６の配列数である２つが位置する状態に横長のノズル溝４６１の開口領域に対応した領域内で開口形成されたノズルプレート４６５を用いる。
【０２１３】
（インク供給部の構成）
インク供給部４３１は、図２４ないし図２７に示すように、ヘッド本体部４３０の２列に対応してそれぞれ設けられた一対の平板状の取付板４７１と、これら取付板４７１に複数取り付けられた供給本体部４７２とを有している。そして、供給本体部４７２は、略細長円筒状の進退部４７４を有している。この進退部４７４は、取付治具４７３にて取付板４７１を貫通する状態で軸方向に沿って移動可能に取り付けられる。また、供給本体部４７２の進退部４７４は、例えばコイルスプリング４７５などにより取付板４７１からヘッド装置４３３に向けて進出する方向に付勢されて取り付けられる。なお、図２４において、説明の都合上、インク供給部４３１は、２列のヘッド装置４３３のうちの一方の列に対してのみ図示し、他方はそれを省略している。
【０２１４】
この進退部４７４のヘッド装置４３３に対向する側の端部には、フランジ部４７６が設けられている。このフランジ部４７６は、進退部４７４の外周縁に鍔状に突出し、端面がヘッド装置４３３のインク導入部４４３のシール部材４４９に、コイルスプリング４７５の付勢に抗して略液密に当接する。また、進退部４７４のフランジ部４７６が設けられた側と反対側の端部には、ジョイント部４７７が設けられている。このジョイント部４７７は、図２３に模式的に示すように、フィルタエレメント材料１３が流通する供給管４７８の一端が接続される。
【０２１５】
この供給管４７８は、上述したように、図２３に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、図２４および図２６に一点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０上方より２列で配列されたインク供給部４３１の間の略中央に配管され、さらに放射状に配管されて先端がインク供給部４３１のジョイント部４７７に接続されて配管される。
【０２１６】
そして、インク供給部４３１は、供給管４７８を介して流通するフィルタエレメント材料１３をヘッド装置４３３のインク導入部４４３に供給する。また、インク導入部４４３に供給されたフィルタエレメント材料１３はインクジェットヘッド４２１に供給され、電気制御されたインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６から適宜液滴状に吐出される。
【０２１７】
〔カラーフィルタの製造動作〕
（前処理）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタ製造装置を用いてカラーフィルタ１を形成する動作を図面を参照して説明する。図３６は上記カラーフィルタの製造装置を用いてカラーフィルタ１を製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【０２１８】
まず、例えば膜厚寸法が０．７ｍｍ、縦寸法が３８ｃｍ、横寸法が３０ｃｍの無アルカリガラスの透明基板であるマザー基板１２の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１質量％添加した洗浄液で洗浄する。この洗浄後、純水でリンスして空気乾燥し、清浄表面を得る。このマザー基板１２の表面に、例えばスパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層６ａを得る（図３６中手順Ｓ１）。
【０２１９】
このマザー基板１２をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層６ａの表面に、例えばスピンコートにより図示しないフォトレジスト層を形成する。このマザー基板１２の表面に、例えば所要のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光する。次に、この露光したマザー基板１２を、例えば水酸化カリウムを８質量％の割合で含有するアルカリ現像液に浸漬し、未露光部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層６ａを、例えば塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして、所定のマトリックスパターンを有するブラックマトリックスである遮光層６ｂが得られる（図３６中手順Ｓ２）。なお、遮光層６ｂの膜厚はおおよそ０．２μｍで、遮光層６ｂの幅寸法はおおよそ２２μｍである。
【０２２０】
この遮光層６ｂが設けられたマザー基板１２上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物６ｃを例えばスピンコート法で塗布形成する（図３６中手順Ｓ３）。この感光性樹脂組成物６ｃを設けたマザー基板１２を１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを用いて紫外線露光する。そして、未露光部分の樹脂を、例えば上述したようなアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後にスピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを例えば２００℃で３０分間実施し、樹脂部分を十分に硬化させ、バンク層６ｄを形成する。このバンク層６ｄの膜厚は平均で約２．７μｍ、幅寸法は約１４μｍである。このバンク層６ｄと遮光層６ｂとにて隔壁６が形成される（図３６中手順Ｓ４）。
【０２２１】
上記得られた遮光層６ｂおよびバンク層６ｄで区画された着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７（特にマザー基板１２の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理をする。具体的には、例えばヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ処理でエッチングスポットに形成し、マザー基板１２を形成したエッチングスポット下を通過させてエッチングし、マザー基板１２の前処理工程を実施する。
【０２２２】
（フィルタエレメント材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施されたマザー基板１２の隔壁６で区切られて形成されたフィルタエレメント形成領域７内に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料１３をインクジェット方式により導入、すなわち吐出する（図３６中手順Ｓ５）。
【０２２３】
このインクジェット方式によるフィルタエレメント材料１３の吐出に際しては、あらかじめ上述した条件の所定のノズルプレート４６５を有したヘッドユニット４２０を組立形成しておく。そして、液滴吐出装置の各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにおいて、各インクジェットヘッド４２１の１つのノズル４６６から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量が所定量、例えば１０ｐｌ程度となるように調整しておく。一方、マザー基板１２の一面に、あらかじめ隔壁６を格子状パターンに形成しておく。
【０２２４】
そして、上述したように前処理したマザー基板１２を、図示しない搬送ロボットにより、まずＲ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｒ内に搬入し、液滴吐出処理装置４０５Ｒ内の台座部上に載置する。この台座部上に載置されたマザー基板１２は、例えば吸引により位置決め固定される。そして、マザー基板１２を保持した台座部は、各種カメラなどにてマザー基板１２の位置が確認され、適宜所定の位置となるように主走査駆動装置４２５を制御して移動する。また、副走査駆動装置４２７にてヘッドユニット４２０を適宜移動させ、その位置を認識する。この後、ヘッドユニット４２０を副走査方向に移動させドット抜け検出ユニット４８７にて、ノズル４６６からの吐出状態を検出し、吐出不良を生じていないことを認識して初期位置に移動させる。
【０２２５】
この後、主走査駆動装置４２５により可動される台座部に保持されたマザー基板１２をＸ方向に走査して、マザー基板１２に対して相対的にヘッドユニット４２０を移動させつつ、適宜インクジェットヘッド４２１の所定のノズル４６６から適宜フィルタエレメント材料１３を吐出させ、マザー基板１２の隔壁６にて区画された凹部内に充填する。このノズル４６６からの吐出は、図示しない制御装置により、図３２に示すノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域Ｘ、例えば両端１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３は吐出させない制御をし、中間部分に位置する比較的に吐出量が一様な１６０個から吐出させる。
【０２２６】
また、ノズル４６６からの吐出は、走査方向の直線上、すなわち走査ライン上に２つのノズル４６６が位置するので、移動中に１つの凹部に１ノズル４６６から２ドット、より詳しくは１ノズル４６６から１ドットとして２液滴分を吐出させるので、計８液滴分が吐出される。この１走査移動毎にドット抜け検出ユニット４８７より吐出状態を検出してドット抜けが生じていないか確認する。
【０２２７】
ドット抜けを認識しない場合、ヘッドユニット４２０を副走査方向に所定量移動させ、再びマザー基板１２を保持する台座部を主走査方向に移動させつつフィルタエレメント材料１３を吐出させる動作を繰り返し、所定のカラーフィルタ形成領域１１の所定のフィルタエレメント形成領域７にフィルタエレメント３を形成する。
【０２２８】
（乾燥・硬化）
そして、Ｒ色のフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２は、図示しない搬送ロボットにより液滴吐出処理装置４０５Ｒから採り出され、図示しない多段ベーク炉にて、フィルタエレメント材料１３を例えば１２０℃で５分間乾燥させる。この乾燥後、搬送ロボットにより多段ベーク炉からマザー基板１２を採り出し、冷却しつつ搬送する。この後、液滴吐出処理装置４０５Ｒから順次Ｇ色用の液滴吐出処理装置４０５ＧおよびＢ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｂに搬送し、Ｒ色の形成の場合と同様に、所定のフィルタエレメント形成領域７にＧ色およびＢ色のフィルタエレメント材料１３を順次吐出する。そして、各３色のフィルタエレメント材料１３が吐出されて乾燥されたマザー基板１２を回収し、熱処理、すなわちフィルタエレメント材料１３を加熱により固化定着させる（図３６中手順Ｓ６）。
【０２２９】
（カラーフィルタの形成）
この後、フィルタエレメント３が形成されたマザー基板１２の略全面に保護膜４を形成する。さらに、この保護膜４の上面にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）にて電極層５を所要パターンで形成する。この後、別途カラーフィルタ形成領域１１毎に切断して複数のカラーフィルタ１を切り出し形成する（図３６中手順Ｓ７）。このカラーフィルタ１が形成された基板は、先に実施形態において説明したように、図１９に示すような液晶装置における一対の基板の一方として用いられる。
【０２３０】
〔カラーフィルタの製造装置の効果〕
この図２３ないし図３５に示す実施の形態によれば、先に説明した各実施の形態の作用効果に加え、以下に示す作用効果を奏する。
すなわち、流動性を有した液状体である例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を液滴として吐出する複数のノズル４６６が一面に配列して設けられたインクジェットヘッド４２１を、インクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、この相対的な移動方向に沿った直線上に位置する複数、例えば２つのノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる。このため、異なる２つのノズル４６６から重ねてフィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル４６６間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出されたフィルタエレメント材料１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、カラーフィルタエレメントに対して均一な吐出が得られ、同じ色のフィルタエレメント同士において品質の均一な良好な特性の電気光学装置を得ることができる。
【０２３１】
また、相対的な移動方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のインクジェットヘッド４２１のノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させるため、同様に、異なる２つのノズル４６６から重ねてフィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、吐出されたフィルタエレメント材料１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、品質の均一な良好な特性の電気光学装置を得ることができる。
【０２３２】
そして、ノズル４６６を長手方向に沿って複数列、例えば２列で設けたインクジェットヘッド４２１を長手方向が相対的な移動方向に対して傾斜し、かつ互い違いに配設して、インクジェットヘッド４２１が配設された領域においては、必ず２つのノズルが位置するように配設したため、インクジェットヘッド４２１の配設領域で上記異なる２つのノズル４６６から同一位置に重ねて吐出させる構成が確実に得られる。
【０２３３】
また、フィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数略直線上に設けられたインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、インクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６のうちこれらノズル４６６の配設方向の両端部の所定領域ＸＸに位置する例えば両側１０個のノズル４６６（非吐出ノズル）からは吐出させることなく所定領域ＸＸ以外の中間部分に位置するノズル４６６からマザー基板１２の表面にフィルタエレメント材料１３を吐出する。この構成により、吐出量が特に多くなるノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域である両端１０個ずつのノズル４６６からは液滴を吐出させず、吐出量が比較的一様な中間部分のノズル４６６を用いてフィルタエレメント材料１３を吐出させるので、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出でき、平面的に品質が均一なカラーフィルタ１が得られ、このカラーフィルタ１を用いた電気光学装置である表示装置にて良好な表示が得られる。
【０２３４】
そして、フィルタエレメント材料１３の吐出量の平均値より１割以上多い吐出量となるノズル４６６からは吐出させないので、特にカラーフィルタ１のフィルタエレメント材料１３やＥＬ発光材料、荷電粒子を含有した電気泳動装置用などの機能性液状体を液状体として用いる場合でも、特性にバラツキが生じず、液晶装置やＥＬ装置などの電気光学装置として良好な特性を確実に得ることができる。
【０２３５】
また、各ノズル４６６から吐出量の平均値に対して±１割以内でフィルタエレメント材料１３が吐出されるので、吐出量が比較的一様となり、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出され、良好な特性の電気光学装置が得られる。
そして、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設したインクジェットヘッド４２１を用いることにより、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型など、所定の規則性を有した構成を描画することが容易にできる。
【０２３６】
さらに、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設されたインクジェットヘッド４２１の構成において、長手矩形状のインクジェットヘッド４２１に長手方向に沿ってノズル４６６を略等間隔で直線上に設けたので、インクジェットヘッド４２１が小型化し、例えば隣接するインクジェットヘッド４２１同士や他の部位との干渉を防止でき、容易に小型化できる。
【０２３７】
また、ノズル４６６の配設方向に対して交差する方向にインクジェットヘッド４２１を相対的に移動させるので、ノズル４６６の配設方向が移動方向に対して傾斜した状態となり、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみで、マザー基板１２の表面にドット状に吐出する際の所望のエレメント間ピッチに容易に対応でき、エレメント間ピッチに対応してインクジェットヘッド４２１を形成する必要がなく、汎用性を向上できる。
【０２３８】
そして、流動性を有した液状体としての例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数設けられた複数のインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物であるマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態で、マザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、複数のインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６からマザー基板１２の表面に同一のフィルタエレメント材料１３を吐出させる。このため、例えば同一のノズル４６６の数を有するような同一の規格品のインクジェットヘッド４２１を用いて、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出させることが可能となり、長手（長寸法）の特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを低減できる。
【０２３９】
さらに、例えばインクジェットヘッド４２１を配列する配設方向の数を適宜設定することにより、フィルタエレメント材料１３を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性を向上できる。長手（長尺）の特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを低減できる。寸法の長いインクジェットヘッドは、製造歩留まりが極めて落ちるので、高価な部品になってしまうが、それに比べて短寸法のインクジェットヘッドは製造歩留まりが良いので、本発明ではこれを複数使って実質的な長手のインクジェットヘッドとなるように配置するだけであるため、コストを大幅に低減することができる。
【０２４０】
そしてさらに、例えばインクジェットヘッド４２１を並べて配列する配置方向や数、吐出のために使用するノズルの数や間隔（ノズルを１個または数個おきに使用して画素のピッチに調節することもできる）を適宜設定することにより、サイズや画素のピッチや配列の異なったカラーフィルタに対してもフィルタエレメント材料１３を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性を向上できる。また、インクジェットヘッドを傾斜させて主走査方向に対して交差する方向に並べて配置するので、インクジェットヘッド列およびこれを保持するキャリッジが大型化しないので、液滴吐出装置の装置全体も大型化させずに済む。
【０２４１】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を配設するので、例えばマザー基板１２の表面に吐出する領域が広い場合や同じ箇所に重ねて吐出する場合などでも、インクジェットヘッド４２１を複数回移動させる必要がなく、また特別なインクジェットヘッドを形成する必要もなく、簡単な構成で容易にフィルタエレメント材料１３を吐出できる。さらに、キャリッジ４２６の全体を傾斜させるのではなく個々のインクジェットヘッド４２１がそれぞれ傾斜した状態となるので、マザー基板１２に近い側のノズル４６６とマザー基板１２から遠い側のノズル４６６までの距離はキャリッジ４２６の全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、キャリッジ４２６によってマザー基板１２に沿った移動である走査する時間を短縮できる。
【０２４２】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１として同一ノズル数を有するような同一形状のものを用いることにより、１種類のインクジェットヘッド４２１でも、適宜配列させることで液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、構成が簡略化し、製造性を向上でき、コストも低減できる。
【０２４３】
また、ノズル４６６の配設方向がそれぞれ略平行となる状態で複数のインクジェットヘッド４２１をキャリッジ４２６に配設してヘッドユニット４２０を構成したので、例えばノズル４６６の配列方向が略直列状で平行となる場合には、ノズル４６６の配列領域が広くなり、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出でき、吐出効率を向上でき、またインクジェットヘッド４２１の移動方向に並列状態で平行となる場合には、１つの箇所に異なるインクジェットヘッド４２１からフィルタエレメント材料１３を重ねて吐出させることが可能となり、吐出領域での吐出量を容易に平均化でき、安定した良好な描画を得ることができる。
【０２４４】
そして、複数のインクジェットヘッド４２１をそれぞれ主走査方向に対して交差する方向に傾斜させ、かつ全てのノズル４６６の配設方向が互いに平行になるように、インクジェットヘッド４２１の長手方向とは異なる方向に並べて配設したため、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、例えばフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２を表示装置などに利用した場合、より詳細な表示形態が得られる。さらに、隣合うインクジェットヘッド４２１の干渉を防止でき、小型化が容易に図れる。そして、この傾斜角を適宜設定することにより、描画のドットピッチが適宜設定され、汎用性を向上できる。
【０２４５】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を複数列、例えば２列で互い違い（略千鳥状）に配設したため、長尺の寸法を有するの特別なインクジェットヘッド４２１を製造して用いることなく、既製品のインクジェットヘッド４２１を用いても、隣合うインクジェットヘッド４２１が干渉せずにインクジェットヘッド４２１間でフィルタエレメント材料１３が吐出されない領域を生じることがなく、連続的なフィルタエレメント材料１３の良好な吐出、すなわち連続した描画ができる。
【０２４６】
さらに、ドット抜け検出ユニット４８７を設け、ノズル４６６からのフィルタエレメント材料１３の吐出を検出するため、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０２４７】
そして、ドット抜け検出ユニット４８７に光センサを設け、この光センサにてフィルタエレメント材料１３の吐出方向に対して交差する方向でフィルタエレメント材料１３の通過を検出するので、簡単な構成で確実なフィルタエレメント材料１３の吐出状態を認識でき、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０２４８】
さらに、ノズル４６６からマザー基板１２にフィルタエレメント材料１３を吐出する工程の前後で、ドット抜け検出ユニット４８７により吐出状態を検出するため、描画のためのフィルタエレメント材料１３の吐出直前および直後の吐出状態を検出でき、吐出状態を確実に認識でき、ドット抜けを確実に防止して良好な描画を得ることができる。なお、吐出する構成の前あるいは後のいずれか一方の時点で行うのみでもよい。
【０２４９】
また、ヘッドユニット４２０の主走査方向側にドット抜け検出ユニット４８７を配設するため、フィルタエレメント材料１３の吐出状態の検出のためにヘッドユニット４２０を移動させる距離が短く、かつ吐出のための主走査方向への移動をそのまま継続させる簡単な構成ででき、ドット抜けの検出を効率よく簡単な構成でできる。
【０２５０】
そして、インクジェットヘッド４２１を２列に点対称で配設したため、フィルタエレメント材料１３を供給する供給管４７８をヘッドユニット４２０の近傍までまとめることができ、装置の組立や保守管理などが容易にできる。さらに、インクジェットヘッド４２１を制御するための電気配線４４２の配線がヘッドユニット４２０の両側からとなり、電気配線４４２による電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。
【０２５１】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１を短冊状のプリント基板４３５の一端側に配設し、他端側にコネクタ４４１を設けたため、複数直線上に配設してもコネクタ４４１が干渉することなく配設でき、小型化ができるとともに、主走査方向でのノズル４６６が存在しない位置が形成されることがなく、連続したノズル４６６の配列を得ることができ、長手の特別なインクジェットヘッドを用いる必要がない。
【０２５２】
そして、コネクタ４４１が反対側に位置するように点対称で配設したため、コネクタ４４１部分での電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。
【０２５３】
一方、マザー基板１２の表面に沿って相対的に移動される移動方向である走査方向Ｘに対して直交する方向である副走査方向Ｙにおけるノズル間ピッチが、マザー基板１２の表面に吐出されるドット状の位置であるフィルタエレメント形成領域７における副走査方向Ｙでのエレメント間ピッチと同じ間隔となる状態にノズル本体４６４を長手方向が走査方向Ｘに対して所定角度で傾斜させた際に、走査方向Ｘに沿った直線上にノズル４６６が複数位置するようにノズルプレート４６５を形成するため、マザー基板１２の表面にドット状に描画されるフィルタエレメント３エレメント間ピッチに対応して傾斜されても、走査方向Ｘに沿った直線上に複数である２つのノズル４６６が位置する対応した所定のノズルプレート４６５を選択して用いるのみで、ノズル本体４６４を共用でき、描画に対応してインクジェットヘッド４２１全体をそれぞれ製造する必要がなく、コストを低減できる。
【０２５４】
なお、これらの実施の形態における作用効果は、上記各実施の形態で同様の構成を有していれば、対応する同様の作用効果を奏する。
【０２５５】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、電気光学装置として、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明する。なお、この表示装置の製造方法の説明に先立って、製造される表示装置の構成について説明する。
【０２５６】
〔表示装置の構成〕
図３７は、本発明の電気光学装置の製造装置における有機ＥＬ装置の一部を示す回路図である。図３８は、表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
すなわち、図３７において、５０１は有機ＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置で、この表示装置５０１は、基板である透明の表示基板５０２上に、複数の走査線５０３と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。
【０２５７】
信号線５０４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。また、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられている。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチング薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供給される画像信号を蓄積し保持する蓄積容量ｃａｐと、この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光素子５１３とが設けられている。
【０２５８】
この構成により、走査線５０３が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持される。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介して、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電流が流れる。このことにより、発光素子５１３は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【０２５９】
ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５１２や発光素子５１３を取り除いた状態の拡大平面図である図３８に示すように、平面状態が長方形の画素電極５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走査線５０３によって囲まれた配置となっている。
【０２６０】
〔表示装置の製造工程〕
次に、上記ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を製造する製造工程の手順について説明する。図３９ないし図４１は、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置の製造工程の手順を示す製造工程断面図である。なお、ＥＬ発光層を液滴の吐出で形成するための液滴吐出装置や走査方法については、先に説明した実施の形態と同様である。
【０２６１】
（前処理）
まず、図３９（Ａ）に示すように、透明の表示基板５０２に対して、必要に応じて、テトラエトキシシラン（ｔｅｔｒａｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ：ＴＥＯＳ）や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、厚さ寸法が約２０００〜５０００オングストロームのシリコン酸化膜である図示しない下地保護膜を形成する。次に、表示基板５０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約３００〜７００オングストロームの非晶質のシリコン膜である半導体膜５２０ａを形成する。この後、半導体膜５２０ａに対して、レーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を実施し、半導体膜５２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。ここで、レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が約４００ｎｍのラインビームを用い、出力強度が約２００ｍＪ／ｃｍ２である。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の約９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームが走査される。
【０２６２】
そして、図３９（Ｂ）に示すように、半導体膜５２０ａをパターニングして島状の半導体膜５２０ｂを形成する。この半導体膜５２０ｂが設けられた表示基板５０２の表面に、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約６００〜１５００オングストロームのシリコン酸化膜あるいは窒化膜であるゲート絶縁膜５２１ａを形成する。なお、半導体膜５２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ５０９のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。すなわち、図３９ないし図４１に示す製造工程では二種類のスイッチング薄膜トランジスタ５０９およびカレント薄膜トランジスタ５１０が同時に形成されるが、同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ５１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタ５０９については説明を省略する。
【０２６３】
この後、図３９（Ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜である導電膜をスパッタ法により形成した後にパターニングし、図３８にも示すゲート電極５１０Ａを形成する。この状態で、高温度のリンイオンを打ち込み、半導体膜５２０ｂにゲート電極５１０Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域５１０ａ，５１０ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域５１０ｃとなる。
【０２６４】
次に、図３９（Ｄ）に示すように、層間絶縁膜５２２を形成した後、コンタクトホール５２３，５２４を形成し、これらコンタクトホール５２３，５２４内に中継電極５２６，５２７を埋め込み形成する。
【０２６５】
さらに、図３９（Ｅ）に示すように、層間絶縁膜５２２上に、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３（図３９中には図示しない）を形成する。このとき、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３の各配線は、配線として必要な厚さ寸法にとらわれることなく、十分に厚く形成する。具体的には、各配線を例えば１〜２μｍ程度の厚さ寸法に形成するとよい。ここで、中継電極５２７と各配線とは、同一工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極５２６は、後述するＩＴＯ膜により形成される。
【０２６６】
そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜５３０を形成し、中継電極５２６に対応する位置にコンタクトホール５３２を形成する。このコンタクトホール５３２内を埋めるようにＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜をパターニングして、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域５１０ａに電気的に接続する画素電極５１１を形成する。
【０２６７】
ここで、図３９（Ｅ）では、信号線５０４および共通給電線５０５に挟まれた部分が、光学材料が選択的に配置される所定位置に相当するものである。そして、その所定位置とその周囲との間には、信号線５０４や共通給電線５０５によって段差５３５が形成される。具体的には、所定位置の方がその周囲よりも低く、凹型の段差５３５が形成される。
【０２６８】
（ＥＬ発光材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施された表示基板５０２にインクジェット方式により、機能性液状体であるＥＬ発光材料を吐出する。すなわち、図４０（Ａ）に示すように、前処理が実施された表示基板５０２の上面を上方に向けた状態で、発光素子１４０の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の前駆体である光学材料５４０Ａを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、段差５３５で囲まれた所定位置の領域内に選択的に塗布する。
【０２６９】
この吐出する正孔注入層５１３Ａを形成するための光学材料５４０Ａとしては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウムなどが用いられる。
【０２７０】
なお、この吐出の際、流動性を有した液状体の光学材料５４０Ａは、上述した各実施の形態の隔壁にフィルタエレメント材料１３を吐出する場合と同様に、流動性が高いので、平面方向に広がろうとするが、塗布された位置を取り囲むように段差５３５が形成されているため、光学材料５４０Ａの１回当たりの吐出量を極端に大量にしなければ、光学材料５４０Ａは段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０２７１】
そして、図４０（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより液状の光学材料５４０Ａの溶媒を蒸発させ、画素電極５１１上に固形の薄い正孔注入層５１３Ａを形成する。この図４０（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図４０（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の正孔注入層５１３Ａを形成する。
【０２７２】
次に、図４１（Ａ）に示すように、表示基板５０２の上面を上に向けた状態で、発光素子５１３の上層部分に有機半導体膜５１３Ｂを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の有機蛍光材料である光学材料５４０Ｂを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、これを段差５３５で囲まれた所定位置である領域内に選択的に塗布する。なお、この光学材料５４０Ｂについても、上述したように、光学材料５４０Ａの吐出と同様に、段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０２７３】
この吐出する有機半導体膜５１３Ｂを形成するための光学材料５４０Ｂとしては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアルキルフェニレン、２，３，６，７−テトラヒドロ−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ペンゾビラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン−１０−カルボン酸、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、２−１３・４’−ジヒドロキシフェニル）−３，５，７−トリヒドロキシ−１−ベンゾピリリウムパークロレート、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、２，３・６・７−テトラヒドロ−９−メチル−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ベンゾピラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン、アロマティックジアミン誘導体（ＴＤＰ）、オキシジアゾールダイマ（ＯＸＤ）、オキシジアゾール誘導体（ＰＢＤ）、ジスチルアリーレン誘導体（ＤＳＡ）、キノリノール系金属錯体、ベリリウム−ベンゾキノリノール錯体（Ｂｅｂｑ）、トリフェニルアミン誘導体（ＭＴＤＡＴＡ）、ジスチリル誘導体、ピラゾリンダイマ、ルブレン、キナクリドン、トリアゾール誘導体、ポリフェニレン、ポリアルキルフルオレン、ポリアルキルチオフェン、アゾメチン亜鉛錯体、ポリフイリン亜鉛錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、フェナントロリンユウロピウム錯体などが用いられる。
【０２７４】
次に、図４１（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより、光学材料５４０Ｂの溶媒を蒸発させ、正孔注入層５１３Ａ上に、固形の薄い有機半導体膜５１３Ｂを形成する。この図４１（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図４１（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の有機半導体膜５１３Ｂを形成する。正孔注入層５１３Ａおよび有機半導体膜５１３Ｂによって、発光素子５１３が構成される。最後に、図４１（Ｄ）に示すように、表示基板５０２の表面全体、若しくはストライプ状に反射電極５１２を形成し、表示装置５０１を製造する。
【０２７５】
この図３７ないし図４１に示す実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０２７６】
なお、この図３７ないし図４１の実施の形態において、カラー表示を念頭においたＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明したが、例えば図４２に示すように、図３７ないし図４１に示す構成を単色表示の表示装置に適用してもできる。
すなわち、有機半導体膜５１３Ｂは、表示基板５０２の全面に一様に形成してもよい。ただし、この場合でも、クロストークを防止するために、正孔注入層５１３Ａは各所定位置毎に選択的に配置しなければならないため、段差１１１を利用した塗布が極めて有効である。なお、この図４２において、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同一の構成については、同一の符号を付す。
【０２７７】
また、ＥＬ表示素子を用いた表示装置としては、アクティブマトリックス型に限らず、例えば図４３に示すようなパッシブマトリックス型の表示装置としてもできる。図４３は本発明の電気光学装置の製造装置におけるＥＬ装置であり、図４３（Ａ）は複数の第１のバス配線５５０と、これに直交する方向に配設された複数の第２のバス配線５６０と、の配置関係を示す平面図で、図４３（Ｂ）は同（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。この図４３において、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様の構成には、同じ符号を付して重複する説明は省略する。また、細かな製造工程なども図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様であるため、その図示および説明は省略する。
【０２７８】
この図４３に示す実施の形態の表示装置は、発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように、例えばＳｉＯ２などの絶縁膜５７０が配設され、これにより、所定位置とその周囲との間に段差５３５を形成したものである。このため、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０２７９】
さらに、アクティブマトリックス型の表示装置としては、図３７ないし図４１に示す実施の形態の構成に限られない。すなわち、例えば図４４に示すような構成、図４５に示すような構成、図４６に示すような構成、図４７に示すような構成、図４８に示すような構成、あるいは図４９に示すような構成など、いずれの構成のものでもできる。
【０２８０】
図４４に示す表示装置は、画素電極５１１を利用して段差５３５を形成することにより、高精度にパターニングできるようにしたものである。図４４は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、その前後の段階は上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と略同様であるため、その図示および説明は省略する。
【０２８１】
この図４４に示す表示装置では、画素電極５１１を通常よりも厚く形成し、これにより、その周囲と間に段差５３５を形成している。つまり、この図４４に示す表示装置では、後に光学材料が塗布される画素電極５１１の方がその周囲よりも高くなっている凸型の段差が形成されている。そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、インクジェット方式により、発光素子５１３の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための前駆体である光学材料５４０Ａを吐出し、画素電極５１１の上面に塗布する。
【０２８２】
ただし、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態の場合とは異なり、表示基板５０２を上下逆にした状態、つまり光学材料５４０Ａが塗布される画素電極５１１の上面を下方に向けた状態で、光学材料５４０Ａを吐出して塗布する。このことにより、光学材料５４０Ａは、重力と表面張力とによって、画素電極５１１の上面（図４４中で下面）に溜まり、その周囲には広がらない。よって、加熱や光照射などにより固形化すれば、図４０（Ｂ）と同様の薄い正孔注入層５１３Ａを形成でき、これを繰り返せば正孔注入層５１３Ａが形成される。同様の手法で、有機半導体膜５１３Ｂも形成される。このため、凸型の段差を利用して高精度にパターニングできる。なお、重力と表面張力とに限らず、遠心力などの慣性力を利用して光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの量を調整してもよい。
【０２８３】
図４５に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図４５は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図４５に示す表示装置では、まず、表示基板５０２上に反射電極５１２を形成し、この反射電極５１２上に後に発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように絶縁膜５７０を形成し、これにより所定位置の方がその周囲よりも低くなっている凹型の段差５３５を形成する。
【０２８４】
そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、段差５３５で囲まれた領域内に、インクジェット方式により機能性液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成する。
【０２８５】
一方、剥離用基板５８０上に、剥離層５８１を介して、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０を形成する。最後に、表示基板５０２上に、剥離用基板５８０上の剥離層５８１から剥離された構造を転写するものである。
【０２８６】
この図４５の実施の形態では、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０への光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの塗布形成によるダメージの軽減が図れる。なお、パッシブマトリックス型の表示素子にも適用できる。
【０２８７】
図４６に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図４６は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図４６に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を利用して凹型の段差５３５を形成するものである。このため、特に新たな工程が増加することなく、層間絶縁膜５３０を利用でき、製造工程の大幅な複雑化などを防止できる。なお、層間絶縁膜５３０をＳｉＯ２で形成するとともに、その表面に紫外線やＯ２、ＣＦ３、Ａｒなどのプラズマなどを照射し、その後に、画素電極５１１の表面を露出させ、そして液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布してもよい。このことにより、層間絶縁膜５３０の表面に沿って撥液性の強い分布が形成され、光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが段差５３５と層間絶縁膜５３０の撥液性との両方の作用によって所定位置に溜まり易くなる。
【０２８８】
図４７に示す表示装置は、液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが塗布される所定位置の親水性を、その周囲の親水性よりも相対的に強くすることにより、塗布された光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが周囲に広がらないようにしたものである。図４７は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
【０２８９】
この図４７に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を形成した後に、その上面に非晶質シリコン層５９０を形成する。非晶質シリコン層５９０は、画素電極５１１を形成するＩＴＯよりも相対的に撥水性が強いので、ここに、画素電極５１１の表面の親水性がその周囲の親水性よりも相対的に強い掩撥水性・親水性の分布が形成される。そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、画素電極５１１の上面に向けて、インクジェット方式により液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成し、最後に反射電極５１２を形成するものである。
【０２９０】
なお、この図４７に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図４５に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０２９１】
そして、撥水性・親水性の分布は、金属や、陽極酸化膜、ポリイミドまたは酸化シリコンなどの絶縁膜や、他の材料により形成していてもよい。なお、パッシブマトリックス型の表示素子であれば第１のバス配線５５０、アクティブマトリックス型の表示素子であれば走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、絶縁膜５３０あるいは遮光層６ｂによって形成してもよい。
【０２９２】
図４８に示す表示装置は、段差５３５や撥液性・親液性の分布などを利用してパターニング精度を向上させるのではなく、電位による引力や斥力などを利用してパターニング精度の向上を図るものである。図４８は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
【０２９３】
この図４８に示す表示装置では、信号線５０４や共通給電線５０５を駆動するとともに、図示しないトランジスタを適宜オン・オフすることにより、画素電極５１１がマイナス電位となり、層間絶縁膜５３０がプラス電位となる電位分布を形成する。そして、インクジェット方式により、プラスに帯電した液状の光学材料５４０Ａを所定位置に選択的に吐出して塗布形成するものである。このことにより、光学材料５４０Ａを帯電させているので、自発分極だけでなく帯電電荷も利用でき、パターニングの精度をさらに向上できる。
【０２９４】
なお、この図４８に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図４５に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０２９５】
また、画素電極５１１と、その周囲の層間絶縁膜５３０との両方に電位を与えているが、これに限定されるものではなく、例えば図４９に示すように、画素電極５１１には電位を与えず、層間絶縁膜５３０にのみプラス電位を与え、そして、液状の光学材料５４０Ａをプラスに帯電させてから塗布するようにしてもよい。この図４９に示す構成によれば、塗布された後にも、液状の光学材料５４０Ａは確実にプラスに帯電した状態を維持できるから、周囲の層間絶縁膜５３０との間の斥力によって、液状の光学材料５４０Ａが周囲に流れ出ることをより確実に防止できる。
【０２９６】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する他の実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法の他の実施の形態について図面を参照して説明する。以下では、電気光学装置としてＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を適用している点は、上記実施の形態と同様であり、その回路構成も、図３７に示す先の実施形態の表示装置と同様である。
【０２９７】
〔表示装置の構成〕
図５５（ａ）は、本実施の形態の表示装置の平面模式図であり、図５５（ｂ）は、図５５（ａ）に示すＡ−Ｂ線に沿う断面模式図である。これらの図に示すように、本実施形態の表示装置８３１は、ガラス等からなる透明な基体８３２と、マトリックス状に配置された発光素子と、封止基板を具備している。基体８３２上に形成された発光素子は、後述する画素電極と、機能層と、陰極８４２により形成されている。
【０２９８】
基体８３２は、例えばガラス等の透明基板であり、基体８３２の中央に位置する表示領域８３２ａと、基体８３２の周縁に位置して表示領域８３２ａの外側に配置された非表示領域８３２ｂとに区画されている。
表示領域８３２ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、表示領域の外側に非表示領域８３２ｂが形成されている。そして，非表示領域８３２ｂには、表示領域８３２ａに隣接するダミー表示領域８３２ｄが形成されている。
【０２９９】
また、図５５（ｂ）に示すように、発光素子及びバンク部からなる発光素子部８４１と基体８３２との間には回路素子部８４４が備えられ、この回路素子部８４４に前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ９２３等が備えられている。
【０３００】
また、陰極８４２は、その一端が基体８３２上に形成された陰極用配線８４２ａに接続しており、この配線の一端部がフレキシブル基板８３５上の配線８３５ａに接続されている。また、配線８３５ａは、フレキシブル基板８３５上に備えられた駆動ＩＣ８３６（駆動回路）に接続されている。
【０３０１】
また、図５５（ａ）及び図５５（ｂ）に示すように、回路素子部８４４の非表示領域８３２ｂには、電源線９０３（９０３Ｒ、９０３Ｇ、９０３Ｂ）が配線されている。
また、表示領域８３２ａの図５５（ａ）中両側には、前述の走査側駆動回路９０５、９０５が配置されている。この走査側駆動回路９０５、９０５はダミー領域８３２ｄの下側の回路素子部８４４内に設けられている。更に回路素子部８４４内には、走査側駆動回路９０５、９０５に接続される駆動回路用制御信号配線９０５ａと駆動回路用電源配線９０５ｂとが設けられている。
更に表示領域８３２ａの図５５（ａ）中上側には検査回路９０６が配置されている。この検査回路９０６により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
【０３０２】
また図５５（ｂ）に示すように、発光素子部８４１上には封止部８３３が備えられている。この封止部８３３は、基体８３２に塗布された封止樹脂６０３ａと、缶封止基板６０４とから構成されている。封止樹脂６０３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。
この封止樹脂６０３は、基体８３２の周囲に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等により塗布されたものである。この封止樹脂６０３は、基体８３２と封止缶６０４を接合するもので、基体８３２と缶封止基板６０４の間から缶封止基板６０４内部への水又は酸素の侵入を防いで、陰極８４２または発光素子部８４１内に形成された図示略の発光層の酸化を防止する。
【０３０３】
缶封止基板６０４は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂６０３を介して基体８３２に接合されており、その内側には表示素子８４０を収納する凹部６０４ａが設けられている。また凹部６０４ａには水、酸素等を吸収するゲッター剤６０５が貼り付けられており、缶封止基板６０４の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようになっている。なお、このゲッター剤６０５は省略しても良い。
【０３０４】
次に図５６には、表示装置における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図５６には３つの画素領域Ａが図示されている。この表示装置８３１は、基体８３２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部８４４と、機能層９１０が形成された発光素子部８４１とが順次積層されて構成されている。
【０３０５】
この表示装置８３１においては、機能層９１０から基体８３２側に発した光が、回路素子部８４４及び基体８３２を透過して基体８３２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層９１０から基体８３２の反対側に発した光が陰極８４２により反射されて、回路素子部８４４及び基体８３２を透過して基体８３２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
なお、陰極８４２として、透明な材料を用いることにより陰極側から発光する光を出射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いる事ができる。膜厚としては７５ｎｍほどの膜厚にする事が好ましく、この膜厚よりも薄くした方がより好ましい。
【０３０６】
回路素子部８４４には、基体８３２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜８３２ｃが形成され、この下地保護膜８３２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜９４１が形成されている。尚、半導体膜９４１には、ソース領域９４１ａ及びドレイン領域９４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域９４１ｃとなっている。
【０３０７】
更に回路素子部８４４には、下地保護膜８３２ｃ及び半導体膜９４１を覆う透明なゲート絶縁膜９４２が形成され、ゲート絶縁膜９４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極９４３（走査線９０１）が形成され、ゲート電極９４３及びゲート絶縁膜９４２上には透明な第１層間絶縁膜９４４ａと第２層間絶縁膜９４４ｂが形成されている。ゲート電極９４３は半導体膜９４１のチャネル領域９４１ｃに対応する位置に設けられている。
【０３０８】
また、第１、第２層間絶縁膜９４４ａ、９４４ｂを貫通して、半導体膜９４１のソース、ドレイン領域９４１ａ、９４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール９４５，９４６が形成されている。
そして、第２層間絶縁膜９４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極９１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール９４５がこの画素電極９１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール９４６が電源線９０３に接続されている。
このようにして、回路素子部８４４には、各画素電極９１１に接続された駆動用の薄膜トランジスタ９２３が形成されている。
尚、回路素子部８４４には、前述した保持容量及びスイッチング用の薄膜トランジスタ９１２も形成されているが、図５６ではこれらの図示を省略している。
【０３０９】
次に図５６に示すように、発光素子部８４１は、複数の画素電極９１１…上の各々に積層された機能層９１０と、各画素電極９１１及び機能層９１０の間に備えられて各機能層９１０を区画するバンク部９１２と、機能層９１０上に形成された陰極８４２とを主体として構成されている。これら画素電極（第１電極）９１１、機能層９１０及び陰極８４２（対向電極（電極））によって発光素子が構成されている。
【０３１０】
ここで、画素電極９１１は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されている。この画素電極９１１の厚さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。この各画素電極９１１…の間にバンク部９１２が備えられている。
【０３１１】
バンク部９１２は、図５６に示すように、基体８３２側に位置する無機物バンク層９１２ａ（第１バンク層）と基体８３２から離れて位置する有機物バンク層９１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。
無機物バンク層、有機物バンク層（９１２ａ、９１２ｂ）は、画素電極９１１の周縁部上に乗上げるように形成されている。平面的には、画素電極９１１の周囲と無機物バンク層９１２ａとが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層９１２ｂも同様であり、画素電極９１１の一部と平面的に重なるように配置されている。また無機物バンク層９１２ａは、有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に更に形成されている。このようにして、無機物バンク層９１２ａの各第１積層部９１２ｅが画素電極９１１の内側に形成されることにより、画素電極９１１の形成位置に対応する下部開口部９１２ｃが設けられている。
【０３１２】
また、有機物バンク層９１２ｂには、上部開口部９１２ｄが形成されている。この上部開口部９１２ｄは、画素電極９１１の形成位置及び下部開口部９１２ｃに対応するように設けられている。上部開口部９１２ｄは、図５６に示すように、下部開口部９１２ｃより広く、画素電極９１１より狭く形成されている。また、上部開口部９１２ｄの上部の位置と、画素電極９１１の端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もある。この場合は、図５６に示すように、有機物バンク層９１２ｂの上部開口部９１２ｄの断面が傾斜する形状となる。
そしてバンク部９１２には、下部開口部９１２ｃ及び上部開口部９１２ｄが連通することにより、無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂを貫通する開口部９１２ｇが形成されている。
【０３１３】
また、無機物バンク層９１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料からなることが好ましい。この無機物バンク層９１２ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。膜厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層９１２ａが後述する正孔注入／輸送層より薄くなり、正孔注入／輸送層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。また膜厚が２００ｎｍを越えると、下部開口部９１２ｃによる段差が大きくなって、正孔注入／輸送層上に積層する後述の発光層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。
【０３１４】
更に、有機物バンク層９１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層９１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層９１２ｂが薄くなり、発光層が上部開口部９１２ｄから溢れるおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部９１２ｄによる段差が大きくなり、有機物バンク層９１２ｂ上に形成する陰極８４２のステップガバレッジを確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層９１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、駆動用の薄膜トランジスタ９２３との絶縁を高めることができる点でより好ましい。
【０３１５】
また、バンク部９１２には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域が形成されている。
親液性を示す領域は、無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅ及び画素電極９１１の電極面９１１ａであり、これらの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領域は、上部開口部９１２ｄの壁面及び有機物バンク層９１２の上面９１２ｆであり、これらの領域は、４フッ化メタン、テトラフルオロメタン、もしくは四フッ化炭素を処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）されている。尚、有機物バンク層は、フッ素ポリマーを含有する材料により形成しても良い。
【０３１６】
次に図５６に示すように、機能層９１０は、画素電極９１１上に積層された正孔注入／輸送層９１０ａと、正孔注入／輸送層９１０ａ上に隣接して形成された発光層９１０ｂとから構成されている。なお、発光層９１０ｂに隣接して電子注入輸送層などの機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。
【０３１７】
正孔注入／輸送層９１０ａは、正孔を発光層９１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層９１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層９１０ａを画素電極９１１と発光層９１０ｂの間に設けることにより、発光層９１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層９１０ｂでは、正孔注入／輸送層９１０ａから注入された正孔と、陰極８４２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が得られる。
【０３１８】
正孔注入／輸送層９１０ａは、下部開口部９１２ｃ内に位置して画素電極面９１１ａ上に形成される平坦部９１０ａ１と、上部開口部９１２ｄ内に位置して無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上に形成される周縁部９１０ａ２から構成されている。また、正孔注入／輸送層９１０ａは、構造によっては、画素電極９１１上であって、且つ無機物バンク層９１０ａの間（下部開口部９１０ｃ）にのみ形成されている（前述に記載した平坦部にのみ形成される形態もある）。
この平坦部９１０ａ１は、その厚さが一定で例えば５０〜７０ｎｍの範囲に形成される。
【０３１９】
周縁部９１０ａ２が形成される場合においては、周縁部９１０ａ２は、第１積層部９１２ｅ上に位置するとともに上部開口部９１２ｄの壁面、即ち有機物バンク層９１２ｂに密着している。また、周縁部９１０ａ２の厚さは、電極面９１１ａに近い側で薄く、電極面９１１ａから離れる方向に沿って増大し、下部開口部９１２ｄの壁面近くで最も厚くなっている。
【０３２０】
周縁部９１０ａ２が上記の様な形状を示す理由としては、正孔注入／輸送層９１０ａが、正孔注入／輸送層形成材料及び極性溶媒を含む第１組成物を開口部９１２内に吐出してから極性溶媒を除去して形成されたものであり、極性溶媒の揮発が主に無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上で起こり、正孔注入／輸送層形成材料がこの第１積層部９１２ｅ上に集中的に濃縮・析出されたためである。
【０３２１】
また発光層９１０ｂは、正孔注入／輸送層９１０ａの平坦部９１０ａ１及び周縁部９１０ａ２上に渡って形成されており、平坦部９１２ａ１上での厚さが５０〜８０ｎｍの範囲とされている。
発光層９１０ｂは、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層９１０ｂ１、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層９１０ｂ２、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層９１０ｂ３、の３種類を有し、各発光層９１０ｂ１〜９１０ｂ３がストライプ配置されている。
【０３２２】
上記のように、正孔注入／輸送層９１０ａの周縁部９１０ａ２が上部開口部９１２ｄの壁面（有機物バンク層９１２ｂ）に密着しているので、発光層９１０ｂが有機物バンク層９１２ｂに直接に接することがない。従って、有機物バンク層９１２ｂに不純物として含まれる水が発光層９１０ｂ側に移行するのを、周縁部９１０ａ２によって阻止することができ、水による発光層９１０ｂの酸化を防止できる。
【０３２３】
また、無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上に不均一な厚さの周縁部９１０ａ２が形成されるため、周縁部９１０ａ２が第１積層部９１２ｅによって画素電極９１１から絶縁された状態となり、周縁部９１０ａ２から発光層９１０ｂに正孔が注入されることがない。これにより、画素電極９１１からの電流が平坦部９１２ａ１のみに流れ、正孔を平坦部９１２ａ１から発光層９１０ｂに均一に輸送させることができ、発光層９１０ｂの中央部分のみを発光させることができるとともに、発光層９１０ｂにおける発光量を一定にすることができる。
【０３２４】
また、無機物バンク層９１２ａが有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に更に延出されているので、この無機物バンク層９１２ａによって画素電極９１１と平坦部９１０ａ１との接合部分の形状をトリミングすることができ、各発光層９１０ｂ間の発光強度のばらつきを抑えることができる。
【０３２５】
更に、画素電極９１１の電極面９１１ａ及び無機物バンク層の第１積層部９１２ｅが親液性を示すので、機能層９１０が画素電極９１１及び無機物バンク層９１２ａに均一に密着し、無機物バンク９１２ａ上で機能層９１０が極端に薄くならず、画素電極９１１と陰極８４２との短絡を防止できる。
また、有機物バンク層９１２ｂの上面９１２ｆ及び上部開口部９１２ｄ壁面が撥液性を示すので、機能層９１０と有機物バンク層９１２ｂとの密着性が低くなり、機能層９１０が開口部９１２ｇから溢れて形成されることがない。
【０３２６】
尚、正孔注入／輸送層形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用いることができる。また、発光層９１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
【０３２７】
次に陰極８４２は、発光素子部８４１の全面に形成されており、画素電極９１１と対になって機能層９１０に電流を流す役割を果たす。この陰極８４２は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層９１０ｂに直接に接して発光層９１０ｂに電子を注入する役割を果たす。また、フッ化リチウムは発光層の材料によっては効率よく発光させるために、発光層９１０と陰極８４２との間にＬｉＦを形成する場合もある。
【０３２８】
尚、赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、１９１０ｂ２にはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用いても良い。従ってこの場合は青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３のみにフッ化リチウムからなる層を形成し、他の赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２にはフッ化リチウム以外のものを積層しても良い。また、赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２上にはフッ化リチウムを形成せず、カルシウムのみを形成しても良い。
尚、フッ化リチウムの厚さは、例えば２〜５ｎｍの範囲が好ましく、特に２ｎｍ程度がよい。またカルシウムのの厚さは、例えば２〜５０ｎｍの範囲が好ましく、特に２０ｎｍ程度がよい。
【０３２９】
また、陰極８４２を形成するアルミニウムは、発光層９１０ｂから発した光を基体８３２側に反射させるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００ｎｍ程度がよい。
更にアルミニウム上にＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層を設けても良い。
尚、このように形成した発光素子上に封止缶６０４を配置する。図５５（ｂ）に示すように、封止缶６０４を封止樹脂６０３により接着し、表示装置８３１を形成する。
【０３３０】
〔表示装置の製造方法〕
次に、本実施形態の表示装置の製造方法を図面を参照して説明する。
本実施形態の表示装置８３１の製造方法は、例えば、（１）バンク部形成工程、（２）プラズマ処理工程（親液化工程及び撥液化工程を含む）、（３）正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）、（４）発光層形成工程（機能層形成工程）、（５）対向電極形成工程、及び（６）封止工程とを具備して構成されている。なお、製造方法はこれに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０３３１】
（１）バンク部形成工程
バンク部形成工程では、基体８３２の所定の位置にバンク部９１２を形成する工程である。バンク部９１２は、第１のバンク層として無機物バンク層９１２ａが形成されてなり、第２のバンク層として有機物バンク層９１２ｂが形成された構造である。以下に形成方法について説明する。
【０３３２】
（１）−１無機物バンク層の形成
まず、図５７に示すように、基体上の所定の位置に無機物バンク層９１２ａを形成する。無機物バンク層９１２ａが形成される位置は、第２層間絶縁膜１４４ｂ上及び電極（ここでは画素電極）９１１上である。なお、第２層間絶縁膜１４４ｂは薄膜トランジスタ、走査線、信号線、等が配置された回路素子部８４４上に形成されている。
【０３３３】
無機物バンク層９１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機物膜を材料として用いることができる。これらの材料は、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成される。
更に、無機物バンク層９１２ａの膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。
【０３３４】
無機物バンク層９１２は、層間絶縁層９１４及び画素電極９１１の全面に無機物膜を形成し、その後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、開口部を有する無機物バンク層９１２が形成される。開口部は、画素電極９１１の電極面９１１ａの形成位置に対応するもので、図５７に示すように下部開口部９１２ｃとして設けられる。
このとき、無機物バンク層９１２ａは画素電極９１１の周縁部（一部）と重なるように形成される。図５７に示すように、画素電極９１１の一部と無機物バンク層９１２ａとが重なるように無機物バンク層９１２ａを形成することにより、発光層９１０の発光領域を制御することができる。
【０３３５】
（１）−２有機物バンク層９１２ｂの形成
次に、第２バンク層としての有機物バンク層９１２ｂを形成する。
図５８に示すように、無機物バンク層９１２ａ上に有機物バンク層９１２ｂを形成する。有機物バンク層９１２ｂとして、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材料を用い、有機物バンク層９１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。なお、パターニングする際、有機物バンク層９１２ｂに上部開口部９１２ｄを形成する。上部開口部９１２ｄは、電極面９１１ａ及び下部開口部９１２ｃに対応する位置に設けられる。
【０３３６】
上部開口部９１２ｄは、図５８に示すように、無機物バンク層９１２ａに形成された下部開口部９１２ｃより広く形成する事が好ましい。更に、有機物バンク層９１２ｂはテーパーを有する形状が好ましく、有機物バンク層の開口部が画素電極９１１の幅より狭く、有機物バンク層９１２ｂの最上面では画素電極９１１の幅とほぼ同一の幅になるように有機物バンク層を形成する事が好ましい。これにより、無機物バンク層９１２ａの下部開口部９１２ｃを囲む第１積層部９１２ｅが、有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に延出された形になる。
このようにして、有機物バンク層９１２ｂに形成された上部開口部９１２ｄ、無機物バンク層９１２ａに形成された下部開口部９１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂを貫通する開口部９１２ｇが形成される。
【０３３７】
なお、有機物バンク層９１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。このような範囲とする理由は以下の通りである。
すなわち、厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層９１２ｂが薄くなり、発光層９１０ｂが上部開口部９１２ｄから溢れてしまうおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部９１２ｄによる段差が大きくなり、上部開口部９１２ｄにおける陰極８４２のステップガバレッジが確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層９１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、陰極８４２と駆動用の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる点で好ましい。
【０３３８】
（２）プラズマ処理工程
次にプラズマ処理工程では、画素電極９１１の表面を活性化すること、更にバンク部９１２の表面を表面処理する事を目的として行われる。特に活性化工程では、画素電極９１１（ＩＴＯ）上の洗浄、更に仕事関数の調整を主な目的として行っている。更に、画素電極９１１の表面の親液化処理（親液化工程）、バンク部９１２表面の撥液化処理（撥液化工程）を行う。
【０３３９】
このプラズマ処理工程は、例えば（２）−１予備加熱工程、（２）−２活性化処理工程（親液化工程）、（２）−３撥液化処理工程（親液化工程）、及び（２）−４冷却工程とに大別される。なお、このような工程に限られるものではなく、必要に応じて工程を削減、更なる工程追加も行われる。
【０３４０】
まず、図５９は、プラズマ処理工程で用いられるプラズマ処理装置を示す。
図５９に示すプラズマ処理装置８５０は、予備加熱処理室８５１、第１プラズマ処理室８５２、第２プラズマ処理室８５３、冷却処理室８５４、これらの各処理室８５１〜８５４に基体８３２を搬送する搬送装置８５５とから構成されている。各処理室８５１〜８５４は、搬送装置８５５を中心として放射状に配置されている。
まず、これらの装置を用いた概略の工程を説明する。
【０３４１】
予備加熱工程は、図５９に示す予備加熱処理室８５１において行われる。そしてこの処理室８５１により、バンク部形成工程から搬送された基体８３２を所定の温度に加熱する。
予備加熱工程の後、親液化工程及び撥液化処理工程を行う。すなわち、基体は第１，第２プラズマ処理室８５２，８５３に順次搬送され、それぞれの処理室８５２，８５３においてバンク部９１２にプラズマ処理を行い親液化する。この親液化処理後に撥液化処理を行う。撥液化処理の後に基体を冷却処理室に搬送し、冷却処理室８５４おいて基体を室温まで冷却する。この冷却工程後、搬送装置により次の工程である正孔注入／輸送層形成工程に基体を搬送する。
【０３４２】
以下に、それぞれの工程について詳細に説明する。
（２）−１予備加熱工程
予備加熱工程は予備加熱処理室８５１により行う。この処理室８５１において、バンク部９１２を含む基体８３２を所定の温度まで加熱する。
基体８３２の加熱方法は、例えば処理室８５１内にて基体８３２を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基体８３２を加熱する手段がとられている。なお、これ以外の方法を採用することも可能である。
【０３４３】
予備加熱処理室８５１において、例えば７０℃〜８０℃の範囲に基体８３２を加熱する。この温度は次工程であるプラズマ処理における処理温度であり、次の工程に合わせて基体８３２を事前に加熱し、基体８３２の温度ばらつきを解消することを目的としている。
仮に予備加熱工程を加えなければ、基体８３２は室温から上記のような温度に加熱されることになり、工程開始から工程終了までのプラズマ処理工程中において温度が常に変動しながら処理される事になる。したがって、基体温度が変化しながらプラズマ処理を行うことは、有機ＥＬ素子の特性の不均一につながる可能性がある。したがって、処理条件を一定に保ち、均一な特性を得るために予備加熱を行うのである。
そこで、プラズマ処理工程においては、第１，第２プラズマ処理装置８５２，８５３内の試料ステージ上に基体８３２を載置した状態で親液化工程または撥液化工程を行う場合に、予備加熱温度を、親液化工程または撥液化工程を連続して行う試料ステージ８５６の温度にほぼ一致させることが好ましい。
【０３４４】
そこで、第１，第２プラズマ処理装置８５２，８５３内の試料ステージが上昇する温度、例えば７０〜８０℃まで予め基体８３２を予備加熱することにより、多数の基体にプラズマ処理を連続的に行った場合でも、処理開始直後と処理終了直前でのプラズマ処理条件をほぼ一定にすることができる。これにより、基体８３２の表面処理条件を同一にし、バンク部９１２の組成物に対する濡れ性を均一化することができ、一定の品質を有する表示装置を製造することができる。
また、基体８３２を予め予備加熱しておくことにより、後のプラズマ処理における処理時間を短縮することができる。
【０３４５】
（２）−２活性化処理（親液化工程）
つぎに第１プラズマ処理室５２では、活性化処理が行われる。活性化処理には、画素電極９１１における仕事関数の調整、制御、画素電極表面の洗浄、画素電極表面の親液化工程が含まれる。
親液化工程として、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。図６０には第１プラズマ処理を模式的に示した図である。図６０に示すように、バンク部９１２を含む基体８３２は加熱ヒータ内臓の試料ステージ８５６上に載置され、基体８３２の上側にはギャップ間隔０．５〜２ｍｍ程度の距離をおいてプラズマ放電電極８５７が基体８３２に対向して配置されている。基体８３２は、試料ステージ８５６によって加熱されつつ、試料ステージ８５６は図示矢印方向に向けて所定の搬送速度で搬送され、その間に基体８３２に対してプラズマ状態の酸素が照射される。
【０３４６】
Ｏ２プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、酸素ガス流量５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、板搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、試料ステージ８５６による加熱は、主として予備加熱された基体８３２の保温のために行われる。
【０３４７】
このＯ２プラズマ処理により、図６１に示すように、画素電極９１１の電極面９１１ａ、無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅ及び有機物バンク層９１２ｂの上部開口部９１２ｄの壁面ならびに上面９１２ｆが親液処理される。この親液処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
図６１では、親液処理された部分を一点鎖線で示している。
なお、このＯ２プラズマ処理は、親液性を付与するのみならず、上述の通り画素電極であるＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねている。
【０３４８】
（２）−３撥液処理工程（撥液化工程）
つぎに、第２プラズマ処理室８５３では、撥液化工程として、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。第２プラズマ処理室８５３の内部構造は図６０に示した第１プラズマ処理室８５２の内部構造と同じである。即ち、基体８３２は、試料ステージによって加熱されつつ、試料ステージごと所定の搬送速度で搬送され、その間に基体８３２に対してプラズマ状態のテトラフルオロメタン（四フッ化炭素）が照射される。
【０３４９】
ＣＦ４プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、４フッ化メタンガス流量５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、基体搬送速度０．５〜１０２０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、加熱ステージによる加熱は、第１プラズマ処理室８５２の場合と同様に、主として予備加熱された基体８３２の保温のために行われる。
なお、処理ガスは、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることができる。
【０３５０】
ＣＦ４プラズマ処理により、図６２に示すように、上部開口部９１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面９１２ｆが撥液処理される。この撥液処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。図６２では、撥液性を示す領域を二点鎖線で示している。有機物バンク層９１２ｂを構成するアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機物はプラズマ状態のフルオロカーボンが照射することで容易に撥液化させることができる。また、Ｏ２プラズマにより前処理した方がフッ素化されやすい、という特徴を有しており、本実施形態には特に有効である。
尚、画素電極９１１の電極面９１１ａ及び無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅもこのＣＦ４プラズマ処理の影響を多少受けるが、濡れ性に影響を与える事は少ない。図６２では、親液性を示す領域は一点鎖線で示されている。
【０３５１】
（２）−４冷却工程
次に冷却工程として、冷却処理室８５４を用い、プラズマ処理のために加熱された基体８３２を管理温度まで冷却する。これは、この以降の工程である液滴吐出工程（機能層形成工程）の管理温度まで冷却するために行う工程である。
この冷却処理室８５４は、基体８３２を配置するためのプレートを有し、そのプレートは基体８３２を冷却するように水冷装置が内蔵された構造となっている。また、プラズマ処理後の基体８３２を室温、または所定の温度（例えば液滴吐出工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程において、基体８３２の温度が一定となり、基体８３２の温度変化が無い均一な温度で次工程を行うことができる。したがって、このような冷却工程を加えることにより、液滴吐出法等の吐出手段により吐出された材料を均一に形成できる。
例えば、正孔注入／輸送層を形成するための材料を含む第１組成物を吐出させる際に、第１組成物を一定の容積で連続して吐出させることができ、正孔注入／輸送層を均一に形成することができる。
【０３５２】
上記のプラズマ処理工程では、材質が異なる有機物バンク層９１２ｂ及び無機物バンク層９１２ａに対して、Ｏ２プラズマ処理とＣＦ４プラズマ処理とを順次行うことにより、バンク部９１２に親液性の領域と撥液性の領域を容易に設けることができる。
【０３５３】
尚、プラズマ処理工程に用いるプラズマ処理装置は、図５９に示したものに限られず、例えば図６３に示すようなプラズマ処理装置８６０を用いてもよい。
図６３に示すプラズマ処理装置８６０は、予備加熱処理室８６１と、第１プラズマ処理室８６２と、第２プラズマ処理室８６３と、冷却処理室８６４と、これらの各処理室８６１〜８６４に基体８３２を搬送する搬送装置８６５とから構成され、各処理室８６１〜８６４が、搬送装置８６５の搬送方向両側（図中矢印方向両側）に配置されてなるものである。
【０３５４】
このプラズマ処理装置８６０では、図５９に示したプラズマ処理装置８５０と同様に、バンク部形成工程から搬送された基体８３２を、予備加熱処理室８６１、第１，第２プラズマ処理室８６２，８６３、冷却処理室８６４に順次搬送して各処理室にて上記と同様な処理を行った後、基体８３２を次の正孔注入／輸送層形成工程に搬送する。
また，上記プラズマ装置は，大気圧下の装置でなくとも，真空下のプラズマ装置を用いても良い。
【０３５５】
（３）正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）
正孔注入／輸送層形成工程では、液滴吐出としてたとえば液滴吐出装置を用いることにより、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（組成物）を電極面９１１ａ上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極９１１上及び無機物バンク層９１２ａ上に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する。なお、正孔注入／輸送層９１０ａが形成された無機物バンク層９１２ａをここでは第１積層部９１２ｅという。
この正孔注入／輸送層形成工程を含めこれ以降の工程は、水、酸素の無い雰囲気とする事が好ましい。例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
【０３５６】
なお、正孔注入／輸送層９１０ａは第１積層部９１２ｅ上に形成されないこともある。すなわち、画素電極９１１上にのみ正孔注入／輸送層が形成される形態もある。
液滴吐出による製造方法は以下の通りである。
本実施形態の表示装置の製造方法に好適に用いられる液滴吐出ヘッドとしては、先の実施形態の図２３に示すヘッドユニット４２０とほぼ同様の基本構成を備えたヘッドユニット９２０（図６４参照）を用いることができる。更に、基体と上記のヘッドユニット９２０の配置に関しては図６４のように配置することが好ましい。
【０３５７】
図６４に示す液滴吐出装置には、図２３に示すものとほぼ同様の構成のヘッドユニット９２０が備えられている。また符号１１１５は基体８３２を載置するステージであり、符号１１１６はステージ１１１５を図中ｘ軸方向（主走査方向）に案内するガイドレールである。またヘッドユニット９２０は、支持部材１１１１を介してガイドレール１１１３により図中ｙ軸方向（副走査方向）に移動できるようになっており、更にヘッドユニット９２０は図中θ軸方向に回転できるようになっており、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に対して所定の角度に傾けることができるようになっている。
【０３５８】
図６４に示す基体８３２は、マザー基板に複数のチップを配置した構造となっている。即ち、１チップの領域が１つの表示装置に相当する。ここでは、３つの表示領域８３２ａが形成されているが、これに限られるものではない。例えば、基体８３２上の左側の表示領域８３２ａに対して組成物を塗布する場合は、ガイドレール１１１３を介してヘッドＨを図中左側に移動させるとともに、ガイドレール１１１６を介して基体８３２を図中上側に移動させ、基体８３２を走査させながら塗布を行う。次に、ヘッド９２１を図中右側に移動させて基体の中央の表示領域８３２ａに対して組成物を塗布する。右端にある表示領域８３２ａに対しても前記と同様である。
尚、ヘッドユニット９２０及び図６４に示す液滴吐出装置は、正孔注入／輸送層形成工程のみならず、発光層形成工程にも用いることができる。
【０３５９】
図６５には、基体８３２に対してインクジェットヘッド９２１を走査させた状態を示す。図６５に示すように、インクジェットヘッド９２１は、図中Ｘ方向に沿う方向に相対的に移動しながら第１組成物を吐出するが、その際、ノズルｎの配列方向Ｚが、主走査方向（Ｘ方向に沿う方向）に対して傾斜した状態になっている。このように、インクジェットヘッド９２１におけるノズルｎの配列方向を主走査方向に対して傾けて配置することにより、ノズルピッチを画素領域Ａのピッチに対応させることができる。また、傾き角度調整することにより、どのような画素領域Ａのピッチに対しても対応させることができる。
【０３６０】
次に、インクジェットヘッド９２１を走査して各画素領域Ａ…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する工程について説明する。この工程には、（３）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法、（２）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（３）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（１）〜（３）の方法を順次説明する。
【０３６１】
（１）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法
図６６は、インクジェットヘッド９２１の１回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６６（ａ）は、インクジェットヘッド９２１が図６５における位置から図示Ｘ方向に沿って走査した後の状態を示し、図６６（ｂ）は図６６（ａ）に示す状態からインクジェットヘッド９２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトした状態を示し、図６６（ｃ）は図６６（ｂ）に示す状態からインクジェットヘッド９２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向にシフトした状態を示している。また図６９には画素領域Ａ及びインクジェットヘッドの断面模式図を示している。図６６には、インクジェットヘッド９２１の一部に設けられた符号ｎ１ａ〜ｎ３ｂで表される６つのノズルが図示されている。６つのノズルのうちのノズルｎ１ａ、ｎ２ａ、ｎ３ａの３つは、インクジェットヘッド９２１が図示Ｘ方向に移動した場合に各画素領域Ａ１〜Ａ３上にそれぞれ位置するように配置されており、残りの３つのノズルｎ１ｂ、ｎ２ｂ、ｎ３ｂは、インクジェットヘッド９２１が図示Ｘ方向に移動した場合に隣接する画素領域Ａ１〜Ａ３の間に位置するように配置されている。
【０３６２】
図６６（ａ）では、インクジェットヘッド９２１に形成された各ノズルのうち、３つのノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域Ａ１〜Ａ３に吐出する。尚、本実施形態ではインクジェットヘッド９２１を走査することにより第１組成物を吐出するが、基体８３２を走査することによっても可能である。更に、インクジェットヘッド９２１と基体８３２とを相対的に移動させることによっても第１組成物を吐出させることができる。なお、これ以降の液滴吐出ヘッドを用いて行う工程では上記の点は同様である。
【０３６３】
インクジェットヘッド９２１による吐出は以下の通りである。すなわち、図６６（ａ）及び図６９に示すように、インクジェットヘッド９２１に形成されてなるノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを電極面９１１ａに対向して配置し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから最初の第１組成物の液滴９１０ｃ１を吐出する。画素領域Ａ１〜Ａ３は、画素電極９１１と当該画素電極９１１の周囲を区画するバンク９１２から形成されており、これらの画素領域Ａ１〜Ａ３に対し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから１滴当たりの液量が制御された最初の第１組成物の液滴９１０ｃ１を吐出する。
【０３６４】
次に図６６（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域Ａ１〜Ａ３上に位置させる。そして、各ノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の２滴目の液滴９１０ｃ２を画素領域Ａ１〜Ａ３に向けて吐出する。
【０３６５】
更に図６６（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向にシフトさせることによってノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを再び各画素領域Ａ１〜Ａ３上に位置させる。そして、各ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから第１組成物の３滴目の液滴９１０ｃ３を画素領域Ａ１〜Ａ３に向けて吐出する。
【０３６６】
このようにして、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に沿って走査させつつ、図示Ｙ方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａに対して２つのノズルから第１組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面９１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０３６７】
このように、１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、第１組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３６８】
（２）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
図６７は、インクジェットヘッド９２１の３回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６７（ａ）は、インクジェットヘッド９２１による１回目の走査後の状態を示し、図６７（ｂ）は２回目の走査後の状態を示し、図４２（ｃ）は３回目の走査後の状態を示す。
【０３６９】
１回目の走査では、図６６に示したインクジェットヘッド９２１の各ノズルのうち、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の最初の液滴９１０ｃ１を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の２滴目の液滴９１０ｃ２を吐出する。これにより、図６７（ａ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に２つの液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２が吐出される。各液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２は、図６７（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０３７０】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の３滴目の液滴９１０ｃ３を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の４滴目の液滴９１０ｃ４を吐出する。これにより図６７（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に２つの液滴９１０ｃ３，９１０ｃ４が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴９１０ｃ３，９１０ｃ４は、図６７（ｂ）に示すように、１滴目及び２滴目の液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３７１】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の５滴目の液滴９１０ｃ５を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の６滴目の液滴９１０ｃ６を吐出する。これにより図６７（ｃ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に２つの液滴９１０ｃ５，９１０ｃ６が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴９１０ｃ５，９１０ｃ６は、図６７（ｃ）に示すように、他の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ４と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３７２】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３７３】
（３）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
図６８は、インクジェットヘッド９２１の２回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６８（ａ）は、インクジェットヘッド９２１による１回目の走査後の状態を示し、図６８（ｂ）は２回目の走査後の状態を示す。更に図６８（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。
【０３７４】
１回目の走査では、図６６に示したインクジェットヘッド９２１の各ノズルのうち、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の最初の液滴９１０ｃ１、２、３滴目の液滴９１０ｃ２、９１０ｃ３を順次吐出する。これにより、図６６（ａ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に３つの液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２、９１０ｃ３が吐出される。各液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２、９１０ｃ３は、図６６（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０３７５】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂ各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の４、５，６滴目の液滴９１０ｃ４、９１０ｃ５、９１０ｃ６を順次吐出する。これにより図６８（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に３つの液滴９１０ｃ４，９１０ｃ５，９１０ｃ６が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴９１０ｃ４，９１０ｃ５、９１０ｃ６は、図６８（ｂ）に示すように、１〜３滴目の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３に重ねて吐出しても良い。
【０３７６】
更に図６８（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。図６８（ｃ）においては、走査回数を２回とし、１回目の走査で１〜３滴目の液滴を吐出し、２回目の走査でインクジェットヘッド９２１をシフトさせて別のノズルから４〜６滴目の液滴を吐出する点については、図６８（ａ）及び（ｂ）の場合と同様である。図６８（ａ）及び（ｂ）との相違点は、各液滴の吐出位置が異なることである。即ち図６８（ｃ）では、１回目の走査により各画素領域Ａ１〜Ａ３の図中下半分の領域に液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３を吐出し、２回目の走査により各画素領域Ａ１〜Ａ３の図中上半分の領域に液滴９１０ｃ４〜９１０ｃ６を吐出している。
【０３７７】
尚、図６７及び図６８においては、一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面９１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０３７８】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１つの画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド９２１の走査を複数回行う際には、インクジェットヘッド９２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０３７９】
図６９に示すように、インクジェットヘッド９２１から吐出された第１組成物の液滴９１０ｃは、最終的には親液処理された電極面９１１ａ及び第１積層部９１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に充填される。仮に、第１組成物の液滴９１０ｃが所定の吐出位置からはずれて上面９１２ｆ上に吐出されたとしても、上面９１２ｆが第１組成物滴９１０ｃで濡れることがなく、はじかれた第１組成物滴９１０ｃが下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に滑り込む。
【０３８０】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
より具体的な第１組成物の組成としては、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ＝１：２０）：２２．４重量％、ＰＳＳ：１．４４重量％、ＩＰＡ：１０重量％、ＮＭＰ：２７．０重量％、ＤＭＩ：５０重量％のものを例示できる。尚、第１組成物の粘度は２〜２０ｃＰｓ程度が好ましく、特に４〜１２ｃＰｓ程度が良い。
【０３８１】
上記の第１組成物を用いることにより、吐出ノズルＨ２に詰まりが生じることがなく安定吐出できる。
なお、正孔注入／輸送層形成材料は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光層９１０ｂ１〜９１０ｂ３に対して同じ材料を用いても良く、各発光層毎に変えても良い。
【０３８２】
次に、図７０に示すような乾燥工程を行う。乾燥工程を行う事により、吐出後の第１組成物を乾燥処理し、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、正孔注入／輸送層９１０ａを形成する。
乾燥処理を行うと、第１組成物滴９１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０３８３】
これにより図７０に示すように、第１積層部９１２ｅ上に、正孔注入／輸送層形成材料からなる周縁部９１０ａ２が形成される。この周縁部９１０ａ２は、上部開口部９１２ｄの壁面（有機物バンク層９１２ｂ）に密着しており、その厚さが電極面９１１ａに近い側では薄く、電極面９１１ａから離れた側、即ち有機物バンク層９１２ｂに近い側で厚くなっている。
【０３８４】
また、これと同時に、乾燥処理によって電極面９１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面９１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部９１０ａ１が形成される。電極面９１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面９１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部９１０ａが形成される。
このようにして、周縁部９１０ａ２及び平坦部９１０ａ１からなる正孔注入／輸送層９１０ａが形成される。
なお、周縁部９１０ａ２には形成されず、電極面９１１ａ上のみに正孔注入／輸送層が形成される形態であっても構わない。
【０３８５】
上記の乾燥処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度にして行う。急激に圧力を低下させると第１組成物滴９１０ｃが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にしてしまうと、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。したがって、３０℃〜８０℃の範囲が好ましい。
乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１０分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入／輸送層９１０ａ内に残存する極性溶媒や水を除去することが好ましい。
【０３８６】
上記の正孔注入／輸送層形成工程では、吐出された第１組成物滴９１０ｃが、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に満たされる一方で、撥液処理された有機物バンク層９１２ｂで第１組成物がはじかれて下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に転がり込む。これにより、吐出した第１組成物滴９１０ｃを必ず下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に充填することができ、電極面９１１ａ上に正孔注入／輸送層９１０ａを形成することができる。
【０３８７】
また、上記の正孔注入／輸送層形成工程によれば、各画素領域Ａごとに最初に吐出する第１組成物の液滴９１０ｃ１を有機物バンク層９１２ｂの壁面９１２ｈに接触させるので、この液滴が壁面９１２ｈから第１積層部９１２ｅ及び電極面９１１ａに転がり込むため、第１組成物の液滴９１０ｃを画素電極９１１の周囲に優先的に濡れ広げて第１組成物をむらなく塗布することができ、これにより正孔注入輸送層９１０ａをほぼ均一な膜厚で形成できる。
【０３８８】
（４）発光層形成工程
次に発光層形成工程は、表面改質工程、発光層形成材料吐出工程、および乾燥工程、とからなる。
まず、正孔注入／輸送層９１０ａの表面を表面改質するために表面改質工程を行う。この工程については、以下に詳述する。次に、前述の正孔注入／輸送層形成工程と同様、液滴吐出法により第２組成物を正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出する。その後、吐出した第２組成物を乾燥処理（及び熱処理）して、正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。
【０３８９】
次に発光層形成工程として、液滴吐出法により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出した後に乾燥処理して、正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。
図７１に、液滴吐出方法の概略を示す。図４６に示すように、インクジェットヘッド４３１と基体８３２とを相対的に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズルから各色（たとえばここでは青色（Ｂ））発光層形成材料を含有する第２組成物が吐出される。
吐出の際には、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層９１０ａに吐出ノズルを対向させ、インクジェットヘッド９２１と基体８３２とを相対移動させながら、第２組成物が吐出される。吐出ノズルから吐出される液量は１滴当たりの液量が制御されている。このように液量が制御された液（第２組成物滴９１０ｅ）が吐出ノズルから吐出され、この第２組成物滴９１０ｅを正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出する。
【０３９０】
発光層形成工程は、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、１つの画素領域に対して複数のノズルにより第２組成物の吐出を行う。
即ち、図６６、図６７及び図６８に示した場合と同様に、インクジェットヘッド９２１を走査して各正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。この工程には、（４）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法、（５）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（６）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（４）〜（６）の方法を簡略に説明する。
【０３９１】
（４）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法
この方法では、図６６の場合と同様に、インクジェットヘッド９２１の１回の走査で画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ上）に発光層を形成する。即ち、図６６（ａ）と同様に、インクジェットヘッド９２１のノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各正孔注入／輸送層９１０ａに対向して配置し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから最初の第２組成物の液滴を吐出する。次に図６６（ｂ）と同様に、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各正孔注入／輸送層９１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。更に図６６（ｃ）と同様に、液滴吐出ヘッドＨ５を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向にシフトさせることによってノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを再び各正孔注入／輸送層９１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから第２組成物の３滴目の液滴を各正孔注入／輸送層９１０ａに向けて吐出する。
【０３９２】
このようにして、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に沿って走査させつつ、副走査方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａ（正孔注入／輸送層９１０ａ）に対して２つのノズルから第２組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域に対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０３９３】
このように、１回の走査で発光層を形成する場合において、第２組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、画素領域に対して２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３９４】
（５）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
この方法では、まず図６７（ａ）と同様に、１回目の走査として、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域に対向させて第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。これにより、図６７（ａ）と同様に、各画素領域に２つの液滴が吐出される。各液滴は、図６７（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０３９５】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の３滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の４滴目の液滴を吐出する。これにより図６７（ｂ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴は、１滴目及び２滴目の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３９６】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の５滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の６滴目の液滴を吐出する。これにより図６７（ｃ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴は、他の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３９７】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３９８】
（６）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
この方法では、まず図６８（ａ）と同様に、１回目の走査において、インクジェットヘッド９２１のノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴及び２、３滴目の液滴を順次吐出する。これにより、図６８（ａ）と同様に、各画素領域に３つの液滴が吐出される。各液滴は、図６８（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０３９９】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂ各画素領域に対向させて第２組成物の４、５，６滴目の液滴を順次吐出する。これにより図６８（ｂ）と同様に、各画素領域に更に３つの液滴が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴は、１〜３滴目の液滴の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴に重ねて吐出しても良い。
【０４００】
更に別の方法として、図６８（ｃ）と同様に、１回目の走査により各画素領域の半分の領域に液滴を吐出し、２回目の走査により各画素領域のもう半分の領域に液滴を吐出してもよい。
尚、１つの画素領域に対して吐出する第２組成物の液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０４０１】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド９２１の走査を複数回行う際には、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、インクジェットヘッド９２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０４０２】
また、発光層９１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層９１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。
このような非極性溶媒を発光層９１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層９１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０４０３】
図７１に示すように、吐出された第２組成物９１０ｅは、正孔注入／輸送層９１０ａ上に広がって下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に満たされる。その一方で、撥液処理された上面９１２ｆでは第１組成物滴９１０ｅが所定の吐出位置からはずれて上面９１２ｆ上に吐出されたとしても、上面９１２ｆが第２組成物滴９１０ｅで濡れることがなく、第２組成物滴９１０ｅが下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に転がり込む。
【０４０４】
次に、第２の組成物を所定の位置に吐出し終わった後、吐出後の第２組成物滴９１０ｅを乾燥処理することにより発光層９１０ｂ３が形成される。すなわち、乾燥により第２組成物に含まれる非極性溶媒が蒸発し、図７２に示すような青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３が形成される。なお、図７２においては青に発光する発光層が１つのみ図示されているが、図５５やその他の図より明らかなように本来は発光素子がマトリックス状に形成されたものであり、図示しない多数の発光層（青色に対応）が形成されている。
【０４０５】
続けて、図７３に示すように、前述した青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３の場合と同様の工程を用い、赤色（Ｒ）発光層９１０ｂ１を形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層９１０ｂ２を形成する。
なお、発光層９１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０４０６】
また、発光層の第２組成物の乾燥条件は、青色９１０ｂ３の場合、例えば、窒素雰囲気中、室温で圧力を１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度として５〜１０分行う条件とする。圧力が低すぎると第２組成物が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高まり、発光層形成材料が上部開口部９１２ｄ壁面に多く付着してしまうので好ましくない。好ましくは、３０℃〜８０℃の範囲が良い。
また緑色発光層９１０ｂ２、および赤色発光層ｂ１の場合、発光層形成材料の成分数が多いために素早く乾燥させることが好ましく、例えば、４０℃で窒素の吹き付けを５〜１０分行う条件とするのがよい。その他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素ガス吹付法等を例示できる。
このようにして、画素電極９１１上に正孔注入／輸送層９１０ａ及び発光層９１０ｂが形成される。
【０４０７】
（５）対向電極（陰極）形成工程
次に対向電極形成工程では、図７４に示すように、発光層９１０ｂ及び有機物バンク層９１２ｂの全面に陰極８４２（対向電極）を形成する。なお，陰極８４２は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高い材料、例えばＡｌを用いる事もできる。
これらの陰極８４２は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、熱による発光層９１０ｂの損傷を防止できる点で好ましい。
【０４０８】
また、フッ化リチウムは、発光層９１０ｂ上のみに形成しても良く、更に所定の色に対応して形成する事ができる。例えば、青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２には、カルシウムからなる上部陰極層１２ｂが接することとなる。
【０４０９】
また陰極８４２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜５００ｎｍ程度がよい。また陰極８４２上に、酸化防止のためにＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０４１０】
（６）封止工程
最後に封止工程は、発光素子が形成された基体８３２と封止基板３ｂとを封止樹脂３ａにより封止する工程である。たとえば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂３ａを基体８３２の全面に塗布し、封止樹脂３ａ上に封止用基板３ｂを積層する。この工程により基体８３２上に封止部３３を形成する。
【０４１１】
封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極８４２にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極８４２に侵入して陰極８４２が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
更に、図５５に例示した基板５の配線３５ａに陰極８４２を接続するとともに、駆動ＩＣ３６に回路素子部４４の配線を接続することにより、本実施形態の表示装置３１が得られる。
【０４１２】
この実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、１つの機能層に対して複数のノズルを用いて液状体の吐出するのて、ノズル間の吐出量のばらつきが相殺され、各電極間における創成物量のばらつきが小さくなり、各機能層の膜厚を揃えることができる。これにより、画素毎の発光量が均一化された表示品質に優れる表示装置を製造することができる。
【０４１３】
（その他の実施の形態）
以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。
【０４１４】
すなわち、例えば、図９および図１０に示したカラーフィルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させてマザー基板１２を主走査し、マザー基板１２を副走査駆動装置２１によって移動させることにより、インクジェットヘッド２２によってマザー基板１２を副走査することにしたが、これとは逆に、マザー基板１２の移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によって副走査を実行することもできる。さらには、インクジェットヘッド２２を移動させずにマザー基板１２を移動させたり、双方を相対的に逆方向に移動させるなど、少なくともいずれか一方を相対的に移動させ、インクジェットヘッド２２がマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動するいずれの構成とすることができる。
【０４１５】
また、上記実施の形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッド４２１を用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッド、例えば加熱により発生するバブルによりインクを吐出する方式のインクジェットヘッドなどを用いることもできる。
【０４１６】
さらに、図２２ないし図３２に示す実施の形態において、インクジェットヘッド４２１として、ノズル４６６を略等間隔で略直線上でかつ２列設けて説明したが、２列に限らず、複数条とすることができる。また、等間隔でなくてもよく、直線上に列をなして配設しなくてもよい。
【０４１７】
そして、液滴吐出装置１６，４０１が製造に使用されるのは、カラーフィルタ１や液晶装置１０１、ＥＬ装置２０１に限定されるものではなく、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：フィールドエミッションディスプレイ）などの電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：プラズマディスプレイパネル）、電気泳動装置すなわち荷電粒子を含有する機能性液状体であるインクを各画素の隔壁間の凹部に吐出し、各画素を上下に挟持するように配設される電極間に電圧を印加して荷電粒子を一方の電極側に寄せて各画素での表示をする装置、薄型のブラウン管、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ：陰極線管）ディスプレイなど、基板（基材）を有しその上方の領域に所定の層を形成する工程を有する様々な電気光学装置に用いることができる。
【０４１８】
本発明の装置や方法は、電気光学装置を含む基板（基材）を有するデバイスであって、その基材に液滴を吐出する工程を用いることができる各種デバイスの製造工程において用いることができる。例えば、プリント回路基板の電気配線を形成するために、液状金属や導電性材料、金属含有塗料などをインクジェット方式にて吐出して金属配線などとする構成、燃料電池を構成する電極やイオン伝導膜等をインクジェット方式にて吐出して形成する構成、基材上に形成される微細なマイクロレンズをインクジェット方式による吐出にて光学部材を形成する構成、基板上に塗布するレジストを必要な部分だけに塗布するようにインクジェット方式にて吐出する構成、プラスチックなどの透光性基板などに光を散乱させる凸部や微小白パターンなどをインクジェット方式にて吐出形成して光散乱板を形成する構成、試薬検査装置などのようにＤＮＡ（ｄｅｏｘｙｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：デオキシリボ核酸）チップ上にマトリクス配列するスパイクスポットにＲＮＡ（ｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：リボ核酸）をインクジェット方式にて吐出させて蛍光標識プローブを作製してＤＮＡチップ上でハイブリタゼーションさせるなど、基材に区画されたドット状の位置に、試料や抗体、ＤＮＡ（ｄｅｏｘｙｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：デオキシリボ核酸）などをインクジェット方式にて吐出させてバイオチップを形成する構成などにも利用できる。
【０４１９】
また、液晶装置１０１としても、ＴＦＴなどのトランジスタやＴＦＤのアクティブ素子を画素に備えたアクティブマトリクス液晶パネルなど、画素電極を取り囲む隔壁６を形成し、この隔壁６にて形成される凹部にインクをインクジェット方式にて吐出してカラーフィルタ１を形成するような構成のもの、画素電極上にインクとして色材および導電材を混合したものをインクジェット方式にて吐出して、画素電極上に形成するカラーフィルタ１を導電性カラーフィルタとして形成する構成、基板間のギャップを保持するためのスペーサの粒をインクジェット方式にて吐出形成する構成など、液晶装置１０１の電気光学系を構成するいずれの部分にも適用可能である。
【０４２０】
さらに、カラーフィルタ１に限られず、ＥＬ装置２０１など、他のいずれの電気光学装置に適用でき、ＥＬ装置２０１としても、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色に対応するＥＬが帯状に形成されるストライプ型や、上述したように、各画素毎に発光層に流す電流を制御するトランジスタを備えたアクティブマトリックス型の表示装置、あるいはパッシブマトリックス型に適用するものなど、いずれの構成でもできる。
【０４２１】
そして、上記各実施の形態の電気光学装置が組み込まれる電子機器としては、例えば図５０に示すようなパーソナルコンピュータ４９０に限らず、図５１に示すような携帯電話４９１やＰＨＳ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｈａｎｄｙｐｈｏｎｅ Ｓｙｓｔｅｍ）などの携帯型電話機、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ（Ｐｏｉｎｔ Ｏｆ Ｓａｌｅｓ）端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、エンジニアリング・ワークステーション（Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｗｏｒｋ Ｓｔａｔｉｏｎ：ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計、ゲーム機器などの様々な電子機器に適用できる。
【０４２２】
そして、例えばインクジェットヘッド２２にノズル４６６を３列以上設け、走査方向Ｘに沿って仮想される直線上に複数のノズル４６６が位置する場合には、少なくとも２つ以上のノズル４６６から吐出させればよい。
【０４２３】
なお、本発明において、インクジェットヘッド２２を相対的に走査する方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のノズル４６６は、その開口が同じ状態で仮想直線上に位置する必要はなく、仮想直線上にノズル４６６の開口が一部でも交わっていれば、直線上に位置するものと考えてもよい。つまり、一のノズル４６６は開口の右側に偏った部分に仮想直線が交わり、他のノズル４６６は開口が左側に偏った部分に仮想直線が交わることでも構わない。
【０４２４】
そのようにずれていても、被吐出物における吐出予定個所の領域幅が広かったり、吐出予定個所でない部分に撥水処理が施されていて予定個所よりも外れた液滴を予定個所に撥水作用によって移動させることができたり、吐出予定個所に親水処理が施されていて外れた液滴が予定個所に移動させることができたり、吐出予定個所の境界に隔壁が形成されたり予定個所が凹部に形成されたりして外れた液滴も溝に移動させることができたり、外れて吐出された液滴によるはみ出し部分は後に除去する工程を有しているなどの場合には、問題はない。ただし、好ましくは、仮想される直線上に位置する複数のノズルは、開口がその直線上に実質的に同じ形状で交わっていることが好ましい。
【０４２５】
なお、本発明において、インクジェットヘッド４２１の端部の所定領域に配列された非吐出ノズルの他、中央領域のノズル群においても、非吐出ノズルを設定しても構わない。すなわち、ヘッド４６６を傾けて、走査方向におけるノズル４６６の配列ピッチと被吐出物の吐出予定個所の配列ピッチを略同一にしたり、または整数倍の関係にしたりする場合、吐出予定個所と合わない個所に位置するノズル４６６については非吐出ノズルとして設定することができる。例えば、ノズル列の端部領域を除いた中央領域であっても、１個おきや２個おきなどの吐出ノズル配列ピッチを設定してもよい。非吐出ノズルについては、それを駆動する圧電振動子を個別に駆動することにより制御可能となる。
また、同様に、インクジェットヘッド２２を３列以上設け、走査方向Ｘに沿った直線状に複数のインクジェットヘッド２２のノズル４６６が位置する場合には、少なくとも２つ以上のノズル４６６から吐出させればよい。
【０４２６】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造や手順などとしてもよい。
【０４２７】
【発明の効果】
本発明によれば、ノズルが設けられた１以上の液滴吐出ヘッドを被吐出物に対向する状態で被吐出物に対して相対的に移動させ、この相対的な移動方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のノズルのうちの少なくとも２つ以上のノズルから液状体を吐出させるため、異なる２つ以上のノズルから液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、平面的に均一な吐出を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図５】本発明に係るカラーフィルタの一実施の形態およびその基礎となるマザー基板の一実施の形態を示す平面図である。
【図６】（ａ）は本発明に係るカラーフィルタの一実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）はその基礎となるマザー基板の一実施の形態を示す平面図である。
【図７】図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面部分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図である。
【図８】カラーフィルタにおけるＲ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発明に係る液晶装置の製造装置および本発明に係るＥＬ装置の製造装置といった各製造装置の主要部分である液滴吐出装置の一実施の形態を示す斜視図である。
【図１０】図９の装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図１１】図１０の装置の主要部であるインクジェットヘッドを拡大して示す斜視図である。
【図１２】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図である。
【図１３】インクジェットヘッドの内部構造を示す図であって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１４】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平面図である。
【図１５】図９のインクジェットヘッド装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図１６】図１５の制御系によって実行される制御の流れを示すフローチャートである。
【図１７】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を示す斜視図である。
【図１８】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図１９】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図である。
【図２０】図１９におけるＩＸ−ＩＸ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図２１】本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図２２】図２１に示す工程図に対応するＥＬ装置の断面図である。
【図２３】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の液滴吐出装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【図２４】同上液滴吐出処理装置のヘッドユニットを示す平面図である。
【図２５】同上側面図である。
【図２６】同上正面図である。
【図２７】同上断面図である。
【図２８】同上ヘッド装置を示す分解斜視図である。
【図２９】同上インクジェットヘッドを示す分解斜視図である。
【図３０】同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料を吐出する動作を説明する説明図である。
【図３１】同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料の吐出量を説明する説明図である。
【図３２】同上インクジェットヘッドの配設状態を説明する概略図である。
【図３３】同上インクジェットヘッドの配置状態を説明する部分的に拡大した概略図である。
【図３４】同上インクジェットヘッドの相対的な移動方向に対する傾斜角度が異なる場合においてのノズルの開口状態を示す平面図である。
【図３５】同上カラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを示す模式図であって、（Ａ）はカラーフィルタの平面図で、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３６】同上カラーフィルタを製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【図３７】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の一部を示す回路図である。
【図３８】同上表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【図３９】同上表示装置の製造工程の前処理における手順を示す製造工程断面図である。
【図４０】同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図４１】同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図４２】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域を示す断面図である。
【図４３】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域の構造を示す拡大図であり、（Ａ）は平面構造で、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４４】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４５】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４６】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４７】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４８】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４９】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図５０】同上電気光学装置を備えた電気機器であるパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図５１】同上電気光学装置を備えた電気機器である携帯電話を示す斜視図である。
【図５２】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図５３】従来のカラーフィルタの特性を説明するための図である。
【図５４】本発明のカラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【図５５】本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置を示す図であって、（ａ）は表示装置の平面模式図、（ｂ）は（ａ）のＡＢ線に沿う断面模式図。
【図５６】同上表示装置の要部を示す図。
【図５７】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図５８】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図５９】同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の一例を示す平面模式図。
【図６０】図５９に示したプラズマ処理装置の第１プラズマ処理室の内部構造を示す模式図。
【図６１】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図６２】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図６３】同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の別の例を示す平面模式図。
【図６４】同上表示装置の製造に用いる液滴吐出装置を示す平面図。
【図６５】基体に対するインクジェットヘッドの配置状態を示す平面図。
【図６６】インクジェットヘッドの１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合の工程を示す工程図。
【図６７】インクジェットヘッドの３回の走査で正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図６８】インクジェットヘッドの２回の走査で正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図６９】本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７０】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７１】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７２】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７３】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７４】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【符号の説明】
１，１１８ カラーフィルタ
２，１０７ａ，１０７ｂ 被吐出物である基板
３ 画素であるフィルタエレメント
１２ 被吐出物としての基板であるマザー基板
１３ 液状体としてのフィルタエレメント材料
１６ 吐出装置としてのカラーフィルタの製造装置である液滴吐出装置
１９，４２５ 移動手段を構成する主走査駆動手段としての主走査駆動装置
２１，４２７ 移動手段を構成する副走査駆動手段としての副走査駆動装置
２２，４２１ インクジェットヘッド
２７，４６６ ノズル
１０１ 電気光学装置である液晶装置
１０２ 電気光学装置である液晶パネル
１１１ａ，１１１ｂ 機吐出物としての基材
１１４ａ，１１４ｂ 電極
２０１ 電気光学装置であるＥＬ装置
２０２ 画素電極
２０４ 基板である透明基板
２１３ 対向電極
４０５Ｒ（４０５Ｇ，４０５Ｂ） 吐出装置としてのカラーフィルタの製造装置である液滴吐出処理装置
４２６ 保持手段としてのキャリッジ
５０１ 電気光学装置である表示装置
５０２ 被吐出物としての基板である表示基板
５４０Ａ，５４０Ｂ 機能性液状体としての光学材料
Ｌ 液晶
Ｍ フィルタエレメント材料
Ｘ 主走査方向
Ｙ 副走査方向
ＸＸ 所定領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、流動性を有した液状体を吐出する液滴吐出ヘッドに関する。また、本発明は、流動性を有した液状体を吐出する吐出方法およびその装置に関する。
そして、本発明は、液晶装置、ＥＬ装置、電気泳動装置、電子放出装置およびＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：プラズマディスプレイパネル）装置などの電気光学装置、この電気光学装置を製造する電気光学素装置の製造方法およびその製造装置に関する。また、本発明は、電気光学装置に用いられるカラーフィルタ、このカラーフィルタを製造する製造方法およびその製造装置に関する。さらに、本発明は、電気光学部材、半導体装置、光学部材、試薬検査部材などの基材を有するデバイス、この基材を有したデバイスを製造する製造方法およびその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータなどといった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置（以下ＥＬ（ｅｌｅｃｔｏｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置という）などといった電気光学装置である表示装置が広く用いられている。また、最近では、表示装置によってフルカラー表示することが多くなっている。この液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって表示される。そして、カラーフィルタは、例えば、ガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のフィルタエレメントをいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によるフルカラー表示は、例えばガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のＥＬ発光層をいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成する。そして、これらの電極に印加する電圧を絵素ピクセル毎に制御することにより、これら絵素ピクセルを希望の色で発光させてフルカラー表示する。
【０００４】
従来、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂなどの各色のフィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ装置のＲ、Ｇ、Ｂなどの各色の絵素ピクセルをパターニングする場合、フォトリソグラフィー法を用いることが知られている。しかしながら、このフォトリソグラフィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色の材料あるいはフォトレジストなどを多量に消費するので、コストが高くなるなどといった問題がある。
【０００５】
この問題を解決するために、液滴を吐出するインクジェット法によってフィルタエレメント材料やＥＬ発光材料などをドット状に吐出することにより、ドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００６】
ここで、インクジェット法によってドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法について説明する。図５２（ａ）において、ガラス、プラスチックなどによって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図５２（ｂ）に示すように、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する場合について考える。この場合には、例えば図５２（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列してなるノズル列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図５２（ｂ）の矢印Ａ１および矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図５２では２回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００７】
このフィルタエレメント３０３は、上述したように、Ｒ、Ｇ、Ｂなどの各色をいわゆるストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などといった適宜の配列形態で配列することによって形成されるものである。このことから、図５２（ｂ）に示すインクジェットヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ、Ｇ、Ｂの単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ、Ｇ、Ｂの３色分だけあらかじめ設けておく。そして、これらのインクジェットヘッド３０６を順次に用いて１つのマザーボード３０１上にＲ、Ｇ、Ｂなどの３色配列を形成する。
【０００８】
【特許文献１】
特開平２−１７３７０３号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、インクジェットヘッド３０６に関しては、一般に、ノズル列３０５を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツキがある。これは、例えば図５３（ａ）に示すように、ノズル列３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ないというようなインク吐出特性Ｑを有する。
【００１０】
従って、図５２（ｂ）に示すようにして、インクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント３０３を形成したとき、図５３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド３０６の端部に対応する位置Ｐ１または中央部Ｐ２、あるいはＰ１およびＰ２の両方に濃度の濃いスジが形成されてしまう。このため、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるという問題がある。
【００１１】
一方、マザーボード３０１に複数のパネル領域３０２を形成する場合、インクジェットヘッドの主走査方向に対して幅方向となるマザーボード３０１の幅寸法略全域にインクジェットヘッドが位置するように長手状のインクジェットヘッドを用いることにより、効率よくフィルタエレメント３０３を形成することが考えられる。しかしながら、パネル領域３０２の大きさに対応して異なる大きさのマザーボード３０１を用いる場合には、その都度異なるインクジェットヘッドが必要となり、コストが増大する問題がある。
【００１２】
本発明は、このような問題点に鑑みて、被吐出物に対して吐出されて被吐出物上に塗布された液状体の量が均一化するようにされた液滴吐出ヘッド、吐出方法およびその装置、また基板や基材上に塗布された液状体が均一化するように吐出されて特性が均一になるように形成された電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明の液滴吐出ヘッドは、液状体を吐出する複数のノズルの設けられた面が被吐出物に対して相対的に移動されて前記ノズルから前記被吐出物上に前記液状体を吐出させるための液滴吐出ヘッドであって、この液滴吐出ヘッドを前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する方向に向けた状態において、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用されるノズルは、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に複数の開口が位置されるように配置されたことを特徴とする。
【００１４】
この発明では、被吐出物に対して相対的に移動される方向に対して斜めに交差する方向に向けた状態において、液状体を吐出する複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して液状体の吐出に使用されるノズルを、相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に複数開口するように配置する。この構成により、被吐出物上に描画されるドット状のピッチに対応して傾斜されても、相対的な移動方向に沿った直線上に複数開口するノズルが位置する対応した例えば所定のノズル板を選択して用いるのみでノズル本体が共用され、描画に対応して全体をそれぞれ製造する必要がなく、コストが低減する。
【００１５】
（２）本発明の吐出装置は、上記液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、この保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、前記被吐出物に対して相対的に移動させる移動手段とを具備したことを特徴する。
【００１６】
この発明では、上記例えば部品を共用できる液滴吐出ヘッドを保持する保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、移動手段により液滴吐出ヘッドが被吐出物に対して相対的に移動させる。この構成により、描画コストが低減する。
【００１７】
（３）本発明の吐出装置は、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドの前記ノズルが設けられた面を被吐出物に対向させて前記液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、前記液滴吐出ヘッドは、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用される少なくとも２つ以上のノズルが、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に保持されたことを特徴とする。
【００１８】
この発明では、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドを、ノズルが設けられた面が被吐出物に対向させて保持手段に保持し、保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を移動手段により相対的に移動させる。そして、液滴吐出ヘッドは、複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して液状体の吐出に使用される少なくとも２つ以上のノズルが相対的に移動させる方向に沿って仮想される直線上に位置するように保持手段に保持させる。この構成により、異なる２つ以上のノズルから重ねて液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００１９】
（４）本発明の吐出装置は、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、この液滴吐出ヘッドを被吐出物に対向させて複数個並べて配置する保持手段と、この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、前記複数の液滴吐出ヘッドは、これら液滴吐出ヘッドのうちの少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける前記液状体の吐出に使用されるノズルの少なくとも一部同士が、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に配置されたことを特徴とする。
【００２０】
この発明では、流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドを、ノズルが設けられた面が被吐出物に対向させて複数個並べて保持手段に配置し、保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を移動手段により相対的に移動させる。そして、複数の液滴吐出ヘッドは、少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける液体の吐出に使用されるノズルの少なくとも一部同士が、相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように保持手段に配置する。この構成により、異なる２つ以上のノズルから重ねて液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２１】
そして、本発明では、液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが複数列に配列されて設けられたことが好ましい。この構成により、異なる２つ以上のノズルから液状体を吐出する構成が容易に得られ、またノズルの配列領域を広く設定することが可能となり、広い範囲に液状体が吐出され、吐出効率が向上するとともに、特別に長手状のインクジェットヘッドを形成する必要がなく、汎用性が向上する。
【００２２】
また、本発明では、液滴吐出ヘッドは、ノズルの配列方向が前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する状態で保持手段に保持されたことが好ましい。この構成により、ノズルの配設方向が相対的な移動方向に対して傾斜した状態となり、液状体の吐出される間隔であるピッチがノズル間のピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみで、被吐出物の表面にドット状に液状体を吐出する際の所望のドット間ピッチに容易に対応可能で、ドット間ピッチに対応してインクジェットヘッドを形成する必要がなく、汎用性が向上する。
【００２３】
さらに、本発明では、少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドのそれぞれは、他の液滴吐出ヘッドと、前記相対的に移動される方向において部分的に重なるように配置されたことが好ましい。この構成により、隣合うインクジェットヘッドが干渉せずにインクジェットヘッド間で液状体が吐出されない領域を生じることがなく、連続的な液状体の良好な吐出が得られる。
【００２４】
また、本発明では、前記液滴吐出ヘッドにおいて配列されたノズルのうちの端部付近の所定領域分のノズルを非吐出ノズルとして設定し、複数の前記液滴吐出ヘッドは、前記液滴吐出ヘッドの複数のノズルが前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する所定の方向に配列される状態で、前記相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って複数列に並べて配置され、前記複数列の液滴吐出ヘッドのうちの１つの列内の前記液滴吐出ヘッドにおける非吐出ノズルが、前記相対的に移動される方向に配置される他の列内の液滴吐出ヘッドにおいて液状体を吐出する吐出ノズルと、前記相対的に移動される方向において仮想される直線上に位置するように配置されたことが好ましい。この構成により、液滴吐出ヘッドの吐出量にばらつきを生じやすい端部付近のノズルを非吐出ノズルとしてこの非吐出ノズルが相対的に移動される方向に、他の列の液状体を吐出する吐出ノズルを配置させるので、液滴吐出ノズルのノズル間での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２５】
そして、この発明では、前記液滴吐出ヘッドのノズルは複数列に配列され、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態と、一の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルが位置する状態とが存在するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置されたことが好ましい。この構成により、相対的に移動される方向に沿った仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルが位置する場合には他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態とし、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルおよび吐出ノズルが位置する場合には他の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルおよび吐出ノズルが位置する状態で複数の液滴吐出ヘッドを配置する。この構成により、複数の液滴吐出ヘッド間での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２６】
また、本発明では、前記複数のノズルは、前記相対的に移動される方向に対して直交する方向におけるノズルの開口の配列ピッチが、前記相対的に移動される方向と直交する方向における前記被吐出物上の吐出予定位置のピッチが略同一または略整数倍になるように配列されたことが好ましい。この構成により、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型など、所定の規則性を有した構成の描画が容易となる。また、同一とすることにより、例えば同一の規格品のインクジェットヘッドを用いて、広い範囲に液状体を吐出させることが可能となるなど、特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を用いることでコストの低減が図れる。さらに、例えばインクジェットヘッドを配列する配設方向の数を適宜設定することにより、液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性が向上する。また、１種類のインクジェットヘッドでも、液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、構成が簡略化し、製造性が向上し、コストも低減する。
【００２７】
さらに、本発明では、液滴吐出ヘッドにおける前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置する異なるノズルからは、被吐出物の所定の同一個所に対してぞれぞれ吐出されるように制御されたことが好ましい。このことにより、それぞれの箇所での液状体の吐出量が平均化されてバラツキが防止され、平面的に均一な吐出が得られる。
【００２８】
（５）本発明では、吐出する液状体としてＥＬ発光材料を含有する液状体を、被吐出物としての基板上に吐出させてＥＬ発光層を形成する電気光学装置を製造することに好都合である。
【００２９】
（６）本発明では、吐出する液状体としてカラーフィルタ材料を含有する液状体を、被吐出物として液晶を挟持する一対の基板のうちの一方の基板上に吐出させて電気光学装置であるカラーフィルタを製造することに好都合である。
【００３０】
（７）本発明では、流動性を有する液状体を被吐出物である基材上に吐出して所定の層を形成する基材を有するデバイスを製造することに好都合である。
【００３１】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その１）
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法およびその製造装置の基本的な方法および構成について説明する。まず、それらの製造方法および製造装置を説明するのに先立って、それらの製造方法などを用いて製造されるカラーフィルタについて説明する。図６（ａ）は、カラーフィルタの一実施の形態の平面構造を模式的に示している。また、図７（ｄ）は、図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面構造を示している。
【００３２】
本実施の形態のカラーフィルタ１は、ガラス、プラスチックなどによって形成された方形状の基板２の表面に、複数のフィルタエレメント３をドットパターン状、本実施の形態ではドットマトリックス状に形成している。さらに、カラーフィルタ１は、図７（ｄ）に示すように、フィルタエレメント３の上に保護膜４を積層することによって形成されている。なお、図６（ａ）は、保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に示している。
【００３３】
フィルタエレメント３は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６によって区画されてドットマトリックス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色材によって形成され、それらの各色のフィルタエレメント３が所定の配列に並べられている。この配列としては、例えば、図８（ａ）に示すいわゆるストライプ配列、図８（ｂ）に示すいわゆるモザイク配列、図８（ｃ）に示すいわゆるデルタ配列などが知られている。なお、本発明における「隔壁」は「バンク」の意味も含まれている言葉として使われ、基板から見てほぼ垂直な角度の側面や概ね９０度以上や未満の角度を持った側面を有する基板から見て凸になる部分を指すものとする。
【００３４】
そして、ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配列である。また、モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタエレメント３がＲ、Ｇ、Ｂの３色となる配色である。さらに、デルタ配列は、フィルタエレメント３の配置を段違いにし、任意の隣接する３つのフィルタエレメント３がＲ、Ｇ、Ｂの３色となる配色である。
【００３５】
カラーフィルタ１の大きさは、例えば、約４．５７ｃｍ（１．８インチ）である。また、１個のフィルタエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。そして、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００３６】
本実施の形態のカラーフィルタ１をフルカラー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとして１つの画素を形成し、１画素内のＲ、Ｇ、Ｂのいずれか１つまたはそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラックマスクとして作用する。
【００３７】
上記のカラーフィルタ１は、例えば、図６（ｂ）に示すような基板である大面積のマザー基板１２から切り出される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成する。そして、それらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断用の溝を形成し、それらの溝に沿ってマザー基板１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が形成される。
【００３８】
以下、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１を製造する製造方法およびその製造装置について説明する。
図７は、カラーフィルタ１の製造方法を工程順に模式的に示している。まず、マザー基板１２の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領域、すなわちフィルタエレメント形成領域である。この隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント形成領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３９】
隔壁６は、フィルタエレメント形成領域７に供給される液状体としてのフィルタエレメント材料１３の流動を阻止する機能およびブラックマスクの機能を併せて有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
【００４０】
隔壁６の形成後、図７（ｂ）に示すように、フィルタエレメント材料１３の液滴８を各フィルタエレメント形成領域７に供給することにより、各フィルタエレメント形成領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図７（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材料を示している。なお、本発明においては、「液滴」を「インク」とも呼称することとする。
【００４１】
各フィルタエレメント形成領域７に所定量のフィルタエレメント材料１３が充填されると、ヒータによってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィルタエレメント材料１３の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図７（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタ１として十分な膜厚が得られるまで、フィルタエレメント材料１３の液滴８の供給とその液滴８の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタエレメント材料１３の固形分のみが残留して膜化し、これにより、希望する各色のフィルタエレメント３が形成される。
【００４２】
以上により、フィルタエレメント３が形成された後、それらのフィルタエレメント３を完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、またはインクジェット法などといった適宜の手法を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタエレメント３などの保護およびカラーフィルタ１の表面の平坦化のために形成される。
【００４３】
図９は、図７（ｂ）に示したフィルタエレメント材料１３の供給処理を行うための液滴吐出装置の一実施の形態を示している。この液滴吐出装置１６は、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料１３をインクの液滴８として、マザー基板１２（図６（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料１３およびＢ色のフィルタエレメント材料１３のための液滴吐出装置１６もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図８のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。
【００４４】
図９において、液滴吐出装置１６は、液滴吐出ヘッドの一例としてプリンタなどで用いられるインクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動手段としての主走査駆動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走査駆動手段としての副走査駆動装置２１と、マザー基板１２を液滴吐出装置１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３と、そして液滴吐出装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２４とを有する。
【００４５】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
【００４６】
インクジェットヘッド２２は、例えば図１１に示すように、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。図６（ａ）および図６（ｂ）において、カラーフィルタ１およびマザー基板１２に対する主走査方向Ｘおよびそれに直交する副走査方向Ｙは図１０において図示の通りに設定される。
【００４７】
インクジェットヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向へ延びるように位置設定され、この主走査方向Ｘへ相対的に平行移動する間に、インクとしてのフィルタエレメント材料１３を複数のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２（図６（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント材料１３を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ相対的に平行移動することにより、インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００４８】
インクジェットヘッド２２は、例えば、図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４９】
振動板３１の適所にはインク供給孔３６が形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７が接続される。このインク供給装置３７はＲ、Ｇ、Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍをインク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレメント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通ってインク室３３に充満する。
【００５０】
ノズルプレート２９には、インク室３３からフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３３を形成する面の裏面には、このインク室３３に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。このインク加圧体３９は、図１３（ｂ）に示すように、圧電素子４１ならびにこれを挟持する一対の電極４２ａおよび４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａおよび４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室３３へ流入する。
【００５１】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、この圧電素子４１と振動板３１とは共に元の形状へ戻る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るため、インク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図６（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まりなどを防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥インク層４３が設けられる。
【００５２】
図１０において、ヘッド位置制御装置１７は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモータ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、インクジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェットヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８とを有する。
【００５３】
図９に示した基板位置制御装置１８は、図１０において、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモータ５１とを有する。また、図９に示した主走査駆動装置１９は、図１０に示すように、主走査方向Ｘへ延びるＸガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したＸスライダ５３とを有する。Ｘスライダ５３は内蔵するリニアモータが作動するときにＸガイドレール５２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００５４】
また、図９に示した副走査駆動装置２１は、図１０に示すように、副走査方向Ｙへ延びるＹガイドレール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したＹスライダ５６とを有する。Ｙスライダ５６は内蔵するリニアモータが作動するときにＹガイドレール５４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５５】
Ｘスライダ５３やＹスライダ５６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、Ｘスライダ５３に支持されたインクジェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４９の副走査方向Ｙ上の位置などを高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【００５６】
図９に示した基板供給装置２３は、マザー基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、床、地面などといった設置面に置かれる基台５９と、基台５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド６４は空気吸引などによってマザー基板１２を吸着できる。
【００５７】
図９において、主走査駆動装置１９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置に、キャッピング装置７６およびクリーニング装置７７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はインクジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１１参照）から吐出されるインクの液滴８の重量をノズル毎に測定する機器である。そして、キャッピング装置７６はインクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７（図１１参照）の乾燥を防止するための装置である。
インクジェットヘッド２２の近傍には、そのインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８２がマザー基板１２を撮影できる位置に配設される。
【００５８】
図９に示したコントロール装置２４は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置６７としてのキーボードと、表示装置としてのＣＲＴ（Ｃａｔ ｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）ディスプレイ６８とを有する。上記プロセッサは、図１５に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）６９と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。
【００５９】
図９に示したヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装置２１、およびインクジェットヘッド２２内の圧電素子４１（図１３（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路７２の各機器は、図１５において、入出力インターフェース７３およびバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ＣＲＴディスプレイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７およびキャッピング装置７６の各機器も、入出力インターフェース７３およびバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００６０】
情報記憶媒体７１としてのメモリは、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）などといった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体などといった外部記憶装置などを含む概念であり、機能的には、液滴吐出装置１６の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図８に示す各種のＲ、Ｇ、Ｂ配列を実現するためのＲ、Ｇ、Ｂの内の１色のマザー基板１２（図６参照）内における吐出位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、図１０における副走査方向Ｙへのマザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファイルなどとして機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【００６１】
ＣＰＵ６９は、情報記憶媒体７１であるメモリ内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板１２に表面の所定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料１３を吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図９参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、液滴吐出によってフィルタエレメント材料１３を描画するための演算を行う描画演算部とを有する。
【００６２】
描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動させてインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部などといった各種の機能演算部を有する。
【００６３】
なお、本実施の形態では、上記の各機能をＣＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵ６９を用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００６４】
以下、上記構成からなる液滴吐出装置１６の動作を図１６に示すフローチャートに基づいて説明する。
オペレータによる電源投入によって液滴吐出装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実現される。具体的には、ヘッドユニット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４などがあらかじめ決められた初期状態にセットされる。
【００６５】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、図１０のヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によって図８の電子天秤７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ステップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００６６】
この後、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所まで移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニングする（ステップＳ８）。
【００６７】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２およびＳ６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、図９の基板供給装置２３を作動させてマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的には、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６４によって吸引保持する。次に、昇降軸６１、第１アーム６２および第２アーム６３を移動させてマザー基板１２をテーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所にあらかじめ設けてある位置決めピン５０（図１０参照）に押し付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位置ズレを防止するため、空気吸引などの手段によってマザー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
【００６８】
次に、図９の基板用カメラ８２によってマザー基板１２を観察しながら、図１０のθモータ５１の出力軸を微小角度単位で回転させることにより、テーブル４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位置決めする（ステップＳ１０）。この後、図９のヘッド用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながら、インクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演算によって決定する（ステップＳ１１）。そして、主走査駆動装置１９および副走査駆動装置２１を適宜に作動させて、インクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２）。
【００６９】
このとき、インクジェットヘッド２２は、図１の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインクジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設される。これは、通常の液滴吐出装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッチとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に等しくなるようにするための措置である。
【００７０】
図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２が描画開始位置に置かれると、図１においてインクジェットヘッド２２は（ａ）位置に置かれる。その後、図１５のステップＳ１３で主走査方向Ｘへの主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１０の主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が図１の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメント形成領域７に対応するノズル２７が到達したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント材料が吐出される。
【００７１】
なお、このときのインク吐出量は、フィルタエレメント形成領域７の容積全部を埋める量ではなく、その全量の数分の１、本実施の形態では全量の１／４の量である。これは、後述するように、各フィルタエレメント形成領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋められるのではなく、数回のインク吐出の重ね吐出、本実施の形態では４回の重ね吐出によって容積全部を埋めることになっているからである。
【００７２】
インクジェットヘッド２２はマザー基板１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方向Ｙへあらかじめ決められた副走査量δ（本実施の形態ではこの距離をδという）だけ移動する（ステップＳ１６）。
【００７３】
本実施の形態では、ＣＰＵ６９は、図１において、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割する。本実施の形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズル２７からなる長さＬのノズル列２８を４つのグループに分割して考える。これにより、１つのノズルグループはノズル２７を１８０／４＝４５〔個〕を含む長さＬ／ｎすなわちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち（Ｌ／４）ｃｏｓθ、の整数倍に設定される。
【００７４】
従って、１ライン分の主走査が終了して初期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は、図１において副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置（ｂ）へ移動する。なお、副走査移動量δは、常に一定の大きさではなく、制御の必要に応じて変化する。また、図１では位置（ａ）から位置（ｋ）が主走査方向Ｘに関して少しずれて描かれているが、これは説明を分かり易くするための措置であり、実際には、位置（ａ）から位置（ｋ）までの各位置は主走査方向Ｘに関しては同じ位置である。
【００７５】
位置（ｂ）へ副走査移動したインクジェットヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動およびインク吐出を繰り返して実行する。さらにその後、インクジェットヘッド２２は、位置（ｃ）〜（ｋ）のように副走査移動を繰り返しながら主走査移動およびインク吐出を繰り返し（ステップＳ１３〜ステップＳ１６）、こにより、マザー基板１２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着処理が完了する。
【００７６】
本実施の形態では、ノズル列２８を４つのグループに分割して副走査量δを決定したので、上記のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査および副走査が終了すると、各フィルタエレメント形成領域７は４個のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量のインクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給される。
【００７７】
このインク重ね吐出の様子を詳しく示すと図１（Ａ）に示す通りである。図１（Ａ）において“ａ”〜“ｋ”は、“ａ”位置から“ｋ”位置の各位置にあるインクジェットヘッド２２のノズル列２８によってマザー基板１２の表面に重ねて付着されたインク層すなわちフィルタエレメント材料層７９を示している。例えば、“ａ”位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ａ”層のインク層が形成され、“ｂ”位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ｂ”層のインク層が形成され、以下、“ｃ”位置、“ｄ”位置、………の各位置にあるノズル列２８の主走査時のインク吐出によって図１（Ａ）の“ｃ”、“ｄ”、………の各インク層が形成される。
【００７８】
つまり、本実施の形態では、ノズル列２８内の４個のノズルグループがマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１の同じ部分を４回重ねて主走査してインクを吐出し、合計の膜厚Ｔが希望の膜厚になるようになっている。また、図１の“ａ”位置および“ｂ”位置にあるノズル列２８の主走査によって図１（Ａ）におけるフィルタエレメント材料層７９の第１層が形成され、“ｃ”、“ｄ”、“ｅ”の各位置におけるノズル列２８の主走査によって第２層が形成され、“ｆ”、“ｇ”、“ｈ”の各位置にあるノズル列２８の主走査によって第３層が形成され、そして、“ｉ”、“ｊ”、“ｋ”の各位置にあるノズル列２８の主走査によって第４層が形成され、これにより、フィルタエレメント材料層７９の全体が形成されている。
【００７９】
なお、第１層、第２層、第３層および第４層というのはノズル列２８の主走査毎のインク吐出回数を便宜的に表示するための呼び方であり、実際には、各層は物理的に区分されているわけではなく、全体として均一な１層のフィルタエレメント材料層７９が形成されるものである。
【００８０】
また、図１に示す実施の形態では、ノズル列２８は“ａ”位置から“ｋ”位置へと順次に副走査移動して行く際、各位置におけるノズル列２８が他の位置におけるノズル列２８と副走査方向Ｙに関して重なることがなく、しかし各位置間のノズル列２８が副走査方向Ｙに関して互いに連続するように副走査移動が実行される。従って、フィルタエレメント材料層７９の第１層〜第４層の各層は層厚が均一である。
【００８１】
また、第１層を形成する“ａ”位置および“ｂ”位置のノズル列２８の境界線は、第２層を形成する“ｃ”位置、“ｄ”位置および“ｅ”位置のノズル列の境界線と重ならないように、インクジェットヘッド２２の副走査移動量δが設定されている。同様に、第２層と第３層との間の境界線および第３層と第４層との間の境界線も互いに重ならないように設定されている。仮に、各層間でノズル列２８の境界線が副走査方向、すなわち図１（Ａ）の左右方向へずれることなく重なってしまうと、その境界線部分に縞が形成されてしまうおそれがあるが、本実施の形態のように各層間で境界線をずらせるように制御すれば、縞の発生もなく、しかも均一な厚さのフィルタエレメント材料層７９を形成することができる。
【００８２】
また、本実施の形態では、ノズル列２８をノズルグループ単位で副走査移動させながら主走査移動を繰り返してインクの重ね吐出によって所定の膜厚Ｔのフィルタエレメント材料層７９を形成するのに先立って、まず、図１の“ａ”位置および“ｂ”位置にノズル列２８を置いて、すなわちノズル列２８を重ねることなく、しかし連続されて、順次にインク吐出を行うことにより、とにかく最初に、カラーフィルタ形成領域１１の全面に均一で薄い厚さのフィルタエレメント材料層７９を形成するようにしている。
【００８３】
一般的に、マザー基板１２の表面は乾いた状態にあって濡れ性が低いので、インクの着きが悪い傾向があり、よって、マザー基板１２の表面に多量のインクをいきなり局所的に吐出すると、インクを良好に付着させることができなくなったり、インク濃度の分布が不均一になったりするおそれがある。これに対し、本実施の形態のように、最初にカラーフィルタ形成領域１１の全体にできるだけ境界線を形成することなく薄く一様にインクを供給して該領域１１の全面を均一な厚さの濡れ状態に設定しておけば、その後に行われる重ね塗りにおいてインクの重ね境界部分に先立った境界線が残ることを防止できる。
【００８４】
以上により、図６のマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２は副走査駆動装置２１によって駆動されて、次列のカラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送される（ステップＳ１９）。そして、当該列のカラーフィルタ形成領域１１に対して主走査、副走査およびインク吐出を繰り返してフィルタエレメント形成領域７内にフィルタエレメントを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
【００８５】
その後、マザー基板１２内の全てのカラーフィルタ形成領域１１に関してＲ、Ｇ、Ｂの１色、例えばＲの１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１２を基板供給装置２３によって、または別の搬送機器によって、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲの１色に関するインク吐着作業を繰り返して行う。
【００８６】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図９においてインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってインクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ２２）。
【００８７】
以上により、カラーフィルタ１を構成するＲ、Ｇ、Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についてのパターニングが終了する。その後、マザー基板１２をＲ、Ｇ、Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料１３Ｇとする液滴吐出装置１６へ搬送してＧ色のパターニングを行う。さらに、最終的にＲ、Ｇ、Ｂの第３色、例えばＢ色をフィルタエレメント材料１３Ｂとする液滴吐出装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、ストライプ配列などといった希望のＲ、Ｇ、Ｂのドット配列を有するカラーフィルタ１（図６（ａ））が複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマザー基板１２をカラーフィルタ形成領域１１毎に切断することにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出される。
【００８８】
なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィルタ１の表面にはさらに電極や配向膜などが積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜などを積層する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を切り出してしまうと、その後の電極などの形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や配向膜形成などといった必要な付加工程か終了した後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
【００８９】
以上のように、本実施の形態に係るカラーフィルタ１の製造方法および製造装置によれば、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、本実施の形態では４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタ１の光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【００９０】
もちろん、本実施の形態の製造方法では、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、また材料を浪費することもない。
【００９１】
ところで、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量の分布が不均一になることは図５３（ａ）に関連して説明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７が特にインク吐出量が多くなることも記述の通りである。このように、インク吐出量が他のノズル２７に比べて特に多いノズル２７を使用することは、インク吐膜すなわちフィルタエレメント３の膜厚を均一にすることに関して好ましくない。
従って、望ましくは、図１４に示すように、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残りの部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移動を行うことが良い。例えば、ノズル２７の数が１８０個である場合には、両端それぞれの１０個、合計で２０個のノズル２７からはインクを吐出しないように印加電圧などに条件付けをしておき、残りの中央部の１６０個を、例えば概念的に４個に分割して、１個あたり１６０／４＝４０〔個〕のノズルグループを考えればよい。
【００９２】
本実施の形態においては、隔壁６として透光性のない樹脂材料を用いたが、透光性の隔壁６として透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。この場合にあっては、フィルタエレメント３間に対応する位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下などに別途遮光性のＣｒなどの金属膜あるいは樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラックマスクを設けない構成としても良い。
【００９３】
また、本実施の形態においては、フィルタエレメント３としてＲ、Ｇ、Ｂを用いたが、もちろんＲ、Ｇ、Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料に代えて、Ｃ、Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料を用いればよい。
【００９４】
さらに、本実施の形態においては、隔壁６をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフィルタ１同様に、インクジェット法により隔壁６を形成することも可能である。
【００９５】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その２）
図２は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【００９６】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【００９７】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１５において情報記憶媒体７１であるメモリ内に格納したプログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的にはＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演算とに改変を加えたことである。
【００９８】
より具体的に説明すれば、図２において、インクジェットヘッド２２は主走査方向Ｘへの走査移動の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向への主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグループ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）へ移動した後、前回の主走査方向Ｘ１の反対方向Ｘ２へ走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離δだけずれた位置（ｂ’）へ戻るように制御される。なお、位置（ａ）から位置（ａ’）までの主走査の間および位置（ｂ）から位置（ｂ’）への主走査移動の間の両方の期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐出されることはもちろんである。
つまり、本実施の形態では、インクジェットヘッド２２の主走査および副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮できる。
【００９９】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その３）
図３は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料１３を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１００】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【０１０１】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図３の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが等しい場合に有利な構造である。
【０１０２】
この実施の形態においても、インクジェットヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至るまで、主走査方向Ｘへの走査移動、初期位置への復帰移動および副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７から選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出する。これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内のフィルタエレメント形成領域７内へフィルタエレメント材料を付着させる。
【０１０３】
なお、本実施の形態では、ノズル列２８が副走査方向Ｙに対して平行に位置設定される。このことにより、副走査移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすなわちＬ／４と等しく設定される。
【０１０４】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その４）
図４は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０５】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎまたはＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１の場合と同じである。
【０１０６】
本実施の形態が図１に示した先の実施の形態と異なる点は、図１６のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図４（ａ）に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点と、図２の実施の形態の場合と同様にインクジェットヘッド２２の主走査および副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われる点である。
【０１０７】
なお、図４に示す本実施の形態および図３に示す先の実施の形態では、主走査方向Ｘがノズル列２８に対して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１２に示すように主走査方向Ｘに沿って２列設けることにより、同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１つのフィルタエレメント形成領域７にフィルタエレメント材料１３を供給することができる。
【０１０８】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その５）
図５は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント形成領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０９】
本実施の形態によって実施される概略の工程は、図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けすることも図１の場合と同じである。
【０１１０】
図１に示した先の実施の形態では、ノズル列２８を重ねることなく連続するように副走査移動させることによりフィルタエレメント材料層７９の第１層をマザー基板１２の表面に均一な厚さで形成し、その第１層の上に同様に均一な厚さの第２層、第３層、第４層を順次に積層した。これに対し、図５に示す実施の形態では、第１層の形成の仕方は図１（Ａ）の場合と同じであるが、第２層〜第４層は均一な厚さの層を順次に重ねるのではなく、図５（Ａ）の左側から右側へ順に第２層、第３層および第４層を部分的な階段状に形成して行き、最終的にフィルタエレメント材料層７９を形成したことである。
【０１１１】
図５に示す実施の形態では、第１層〜第４層までの各層におけるノズル列２８の境界線が各層間で重なっているので、この境界部に濃度の濃い縞が現れることがあるかもしれない。しかしながら、この実施の形態でも最初の工程では、カラーフィルタ形成領域１１の全面に均一な厚さの第１層を形成することにより濡れ性を向上させた上で、それ以降の第２層〜第４層の積層を行うようにしたので、厚さが均一な第１層を全面的にムラなく一様に形成することなく、いきなり第１層〜第４層を左側から階段状に形成する場合に比べて、濃度ムラのない、また毛境界部に縞が形成され難いカラーフィルタ１を形成できる。
【０１１２】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する説明その６）
図１７は、先に説明した本発明に係るカラーフィルタ１の製造方法およびその製造装置の変形例を説明するための図であって、インクジェットヘッド２２Ａを示している。このインクジェットヘッド２２Ａが図１０に示すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッド２２Ａに形成している。それら３種類のそれぞれに図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示したインク吐出系を設け、Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲインク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１１３】
本実施の形態によって実施される概略の工程は図７に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いる液滴吐出装置も図９に示した装置と機構的には同じである。また、図１５のＣＰＵ６９がノズル列２８Ｒ、２８Ｇ、２８Ｂを形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それらのノズルグループ毎にインクジェットヘッド２２Ａを副走査移動量δで副走査移動させることも図１の場合と同じである。
【０１１４】
図１に示した実施の形態では、インクジェットヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったので、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色によってカラーフィルタ１を形成する際には図９に示したインクジェットヘッド２２がＲ、Ｇ、Ｂの３色それぞれについて準備されていなければならない。これに対し、図１７に示す構造のインクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、インクジェットヘッド２２Ａの主走査方向Ｘへの１回の主走査によってＲ、Ｇ、Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付着させることができるので、インクジェットヘッド２２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズル列２８間隔をマザー基板１２のフィルタエレメント形成領域７のピッチに合わせることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の同時打ちが可能となる。
【０１１５】
（カラーフィルタを用いた電気光学装置の製造方法および製造装置に関する説明）
図１８は、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶装置の製造方法の一実施の形態を示している。また、図１９はその製造方法によって製造される液晶装置の一実施の形態を示している。また、図２０は図１９におけるＩＸ−ＩＸ線に従った液晶装置の断面構造を示している。液晶装置の製造方法およびその製造装置の説明に先立って、まず、その製造方法によって製造される液晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施の形態の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装置である。
【０１１６】
図１９において、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１０３ａおよび液晶駆動用ＩＣ１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）１０４を液晶パネル１０２に接続する。さらに、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２の裏面側に照明装置１０６をバックライトとして設けることによって形成される。
【０１１７】
液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０８は、例えば、スクリーン印刷などによってエポキシ系樹脂を第１基板１０７ａまたは第２基板１０７ｂの内側表面に環状付着されることによって形成される。また、シール材１０８の内部には図１９に示すように、導電性材料によって球状または円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で含まれる。
【０１１８】
図２０において、第１基板１０７ａは透明なガラスや、透明なプラスチックなどによって形成された板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側表面（図２０の上側表面）には反射膜１１２が形成され、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１９参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形成される。また、基材１１１ａの外側表面（図２０の下側表面）には偏光板１１７ａが貼着などによって装着される。
【０１１９】
図１９では第１電極１１４ａの配列を分かり易くするために、それらのストライプ間隔を実際より大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１２０】
図２０において、第２基板１０７ｂは透明なガラスや、透明なプラスチックなどによって形成された板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側表面（図２０の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１９参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面（図２０の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着などによって装着される。
【０１２１】
図１９では、第２電極１１４ｂの配列を分かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１２２】
図２０において、第１基板１０７ａ、第２基板１０７ｂおよびシール材１０８によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶Ｌが封入されている。第１基板１０７ａまたは第２基板１０７ｂの内側表面には微小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのスペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１２３】
第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂとは互いに直交関係に配設され、それらの交差点は図１９の矢印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そして、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などのパターンで配列させることによって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそれらＲ、Ｇ、Ｂの各１つずつに対応しており、そしてＲ、Ｇ、Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになって１画素が構成される。
【０１２４】
ドット・マトリクス状に配列される複数の絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させることにより、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に文字、数字などといった像が表示される。このようにして像が表示される領域が有効画素領域であり、図１９および図２０において矢印Ｖによって表示される平面的な矩形領域が有効表示領域となっている。
【０１２５】
図２０において、反射膜１１２はＡＰＣ合金、Ａｌ（アルミニウム）などといった光反射特性材料によって形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂの交点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図２０の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マトリクス状に配設されている。
第１電極１１４ａおよび第２電極１１４ｂは、例えば、透明導電材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）によって形成される。また、配向膜１１６ａ，１１６ｂは、ポリイミド系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形成される。これらの配向膜１１６ａ，１１６ｂがラビング処理を受けることにより、第１基板１０７ａおよび第２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が決定される。
【０１２６】
図１９において、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これらの基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材１０９（図２０参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子に接続される金属配線１１４ｅ、および液晶駆動用ＩＣ１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆなどといった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１２７】
本実施の形態では、第１電極１１４ａから延びる引出し配線１１４ｃおよび第２電極１１４ｂに通電する引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料であるＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの入力側の配線である金属配線１１４ｅ，１１４ｆは、電気抵抗値の低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。このＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄおよびＣｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ１％からなる合金である。
【０１２８】
液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂは、ＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施の形態では、基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわゆるＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式の液晶パネルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造においては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によって、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの入力側バンプと金属配線１１４ｅ，１１４ｆとが導電接続され、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂの出力側バンプと引出し配線１１４ｃ，１１４ｄとが導電接続される。
【０１２９】
図１９において、ＦＰＣ１０４は、可撓性の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有する。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。また、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０７ａのうち金属配線１１４ｅ，１１４ｆが形成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そして、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きにより、基板側の金属配線１１４ｅ，１１４ｆとＦＰＣ側の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１３０】
ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａおよび第２電極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々のピクセル毎に電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向が個々の絵素ピクセル毎に制御される。
【０１３１】
図１９において、いわゆるバックライトとして機能する照明装置１０６は、図２０に示すように、アクリル樹脂などによって構成された導光体１３２と、この導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）１３６とを有する。
【０１３２】
ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持され、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥＤ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることにより、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するための緩衝材を示している。
【０１３３】
ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１３４】
本実施の形態の液晶装置１０１は以上のように構成されているので、太陽光、室内光などといった外部光が十分に明るい場合には、図２０において、第２基板１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌは、これを挟持する電極１１４ａ，１１４ｂによってＲ、Ｇ、Ｂの絵素ピクセル毎に配向制御される。よって、液晶Ｌへ供給された光は絵素ピクセル毎に変調され、その変調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できない光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字などといった像が表示される。これにより、反射型の表示が行われる。
【０１３５】
他方、外部光の光量が十分に得られない場合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給される。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセル毎に変調される。これにより、外部へ像が表示され、通過型の表示が行われる。
【０１３６】
上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図１８に示す製造方法によって製造される。この製造方法において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。
【０１３７】
まず、第１基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチックなどによって形成された大面積のマザー原料基板の表面に液晶パネル１０２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法などを用いて形成する。さらに、その上に絶縁膜１１３を周知の成膜法を用いて成形する（工程Ｐ１）。次に、フォトリソグラフィー法などを用いて第１電極１１４ａ、引出し配線１１４ｃ，１１４ｄおよび金属配線１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ２）。
【０１３８】
この後、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷などによって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さらにその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、例えばスクリーン印刷などによってシール材１０８を環状に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ１１９を分散する（工程Ｐ６）以上により、液晶パネル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１３９】
以上の第１基板形成工程とは別に、第２基板形成工程（図１８の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチックなどによって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタ１１８の形成工程は図７に示した製造方法を用いて行われ、その製造方法中のＲ、Ｇ、Ｂの各色フィルタエレメントの形成は図８の液滴吐出装置１６を用いて図１ないし図５などに示したインクジェットヘッド２２の制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタ１１８の製造方法およびインクジェットヘッド２２の制御方法は既に説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
【０１４０】
図７（ｄ）に示すようにマザー基板１２すなわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわちカラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成される（工程Ｐ１２）。さらに、塗布、印刷などによって配向膜１１６ｂが形成される（工程Ｐ１３）。次に、その配向膜１１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１４１】
以上により、大面積のマザー第１基板およびマザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。
【０１４２】
次に、完成した空のパネル構造体の所定の位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準としてパネル構造体をブレイク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１０（図１９参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１４３】
その後、露出した液晶注入用開口１１０を通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さらに各液晶注入用開口１１０を樹脂などによって封止する（工程Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルとをチャンバなどに入れる。そのチャンバなどを真空状態にしてからそのチャンバの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬する。その後、チャンバを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程Ｐ２４において洗浄処理を受ける。
【０１４４】
その後、液晶注入および洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して、再び所定位置にスクライブ溝を形成する。さらに、そのスクライブ溝を基準にして短冊状パネルを切断する。このことにより、複数個の液晶パネル１０２が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製された個々の液晶パネル１０２に対して、図１９に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０１が完成する（工程Ｐ２６）。
【０１４５】
以上に説明した液晶装置の製造方法およびその製造装置は、特にカラーフィルタ１を製造する段階において次のような特徴を有する。すなわち、図６（ａ）に示すカラーフィルタ１すなわち図２０のカラーフィルタ１１８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタ１の光透過特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２０の液晶装置１０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１４６】
また、本実施の形態の液晶装置の製造方法およびその製造装置では、図９に示す液滴吐出装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要がなく、また材料を浪費することもない。
【０１４７】
（カラーフィルタを用いた電気光学装置の他の例）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタを備えた電気光学装置の一例としてアクティブマトリクス型のカラー液晶装置を挙げて以下に説明する。図５４は、先の実施形態のカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【０１４８】
この実施形態の液晶装置７００は、互いに対向するように配置されたカラーフィルタ基板７４１及びアクティブ素子基板７０１と、これらの間に挟持された液晶層７０２と、カラーフィルタ基板７４１の上面側（観測者側）に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７１６ａと、アクティブ素子基板７０１の下面側に付設された位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた液晶パネル７５０を主体として構成されている。この液晶パネル７５０に、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
【０１４９】
カラーフィルタ基板７４１は、光透過性基板（基板）７４２を具備してなる観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、アクティブ素子基板７０１はその反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
カラーフィルタ基板７４１は、プラスチックフィルム又は厚さ３００μｍ（０．３ｍｍ）程度のガラス基板等からなる光透過性基板７４２と、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成されたカラーフィルタ７５１とを主体として構成されている。
カラーフィルタ７５１は、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成された隔壁７０６と、フィルタエレメント７０３…と、隔壁７０６及びフィルタエレメント７０３…を覆う保護膜７０４と、を具備して構成されている。
【０１５０】
隔壁７０６は、各フィルタエレメント７０３を形成する着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７０７をそれぞれ取り囲むように形成された格子状のもので、基板７４２の一面７４２ａに形成されている。隔壁７０６は、孔７０６ｃ…を複数有している。各孔７０６ｃ内には基板７４２面が露出している。そして隔壁７０６の内壁（孔７０６ｃの壁面）と基板７４２面とにより区画されてフィルタエレメント形成領域７０７…が形成されている。
【０１５１】
隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好ましい。この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機顔料を含むもので、フィルタエレメント７０３…の形成位置を除く部分に形成されているため、フィルタエレメント７０３…同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこの隔壁７０６は、遮光膜としての機能をも有する。
フィルタエレメント７０３…は、隔壁７０６の内壁と基板７４２に渡って設けられたフィルタエレメント形成領域７０７に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料をインクジェット方式により導入、すなわち吐出し、その後乾燥させることにより形成したものである。
【０１５２】
更に保護膜７０４の下側（液晶層側）にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電材料からなる液晶駆動用の電極層７０５が保護膜７０４の略全面にわたって形成されている。更にこの液晶駆動用の電極層７０５を覆って液晶層側に配向膜７１９ａが設けられており、また、反対側のアクティブ素子基板７０１側の後述する画素電極７３２上にも配向膜７１９ｂが設けられている。
【０１５３】
アクティブ素子基板７０１は、光透過性基板（基板）７１４上に図示略の絶縁層が形成され、さらにこの絶縁層の上に、ＴＦＴ型のスイッチング素子としての薄膜トランジスタＴと画素電極７３２が形成されてなるものである。また、基板７１４上に形成された絶縁層上には、実際にはマトリクス状に複数の走査線と複数の信号線とが形成され、これら走査線と信号線とに囲まれた領域毎に先の画素電極７３２が設けられ、各画素電極７３２と走査線及び信号線とが電気的に接続される位置に薄膜トランジスタＴが組み込まれており、走査線と信号線に対する信号の印加によって薄膜トランジスタＴをオン・オフして画素電７３２への通電制御を行うことができるように構成されている。また、対向側のカラーフィルタ基板７４１側に形成された電極層７０５はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものを適用できる。
【０１５４】
アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板（対向基板）７４１とは、カラーフィルタ基板７４１の外周縁に沿って形成されたシール材７５５によって所定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号７５６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサである。その結果、アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１との間には、平面視略額縁状のシール材７５５によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
【０１５５】
図５４に示すようにカラーフィルタ基板７４１はアクティブ素子基板７０１よりも小さく、アクティブ素子基板７０１の周辺部分は、カラーフィルタ基板７４１の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。従って、アクティブ素子基板７０１では、シール材４５５の外周側領域において、画素スイッチング用の薄膜トランジスタＴと同時に駆動回路用のＴＦＴを形成することができ、もって走査線駆動回路やデータ線駆動回路を設けることが可能になっている。
この液晶パネル７５０では、アクティブ素子基板７０１およびカラーフィルタ基板７４１の光入射側および光出射側の面には、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、上記の偏光板７１６ａ、７１６ｂ（偏光シート）が所定の向きに配置されている。
【０１５６】
このように構成した液晶パネル７５０において、アクティブ素子基板７０１では、データ線（図示せず。）および薄膜トランジスタＴを介して画素電極７３２に印加した表示信号によって、画素電極７３２と対向電極７１８との間において液晶の配向状態を画素毎に制御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。たとえば、液晶パネル７５０をＴＮモードで構成した場合に、一対の基板間（アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１）の各々に形成した配向膜７１９ａ、７１９ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を互いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９０°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ配向は、基板間で液晶層７０２に電場をかけることによって解放される。従って、基板間に外部から電場を印加するか否かによって、液晶の配向状態を画素電極７３２が形成されている領域毎（画素毎）に制御することができる。
【０１５７】
それ故、液晶パネル７５０を透過型の液晶パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板７０１の下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側の偏光板７１６ｂによって所定の直線偏光光に揃えられた後、位相差板７１５ｂ、アクティブ素子基板７０１を通って液晶層７０２に入射し、ある領域を透過する直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられて出射される一方、他の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられることなく出射する。このため、入射側の偏光板７１６ｂと出射側の偏光板７１６ａを互いの透過偏光軸が直交するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板７１６ｂと透過偏光軸が平行になるように出射側の偏光板７１６ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられることのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶７０２の配向状態を画素毎に制御すれば、任意の情報を表示することができる。
【０１５８】
上記構成の液晶装置７００では、カラーフィルタ基板７４１の個々のフィルタエレメント７０３…が先の実施形態に記載のインクジェット方式により形成される。すなわち、その形成に際して、各々のフィルタエレメント７０３…がインクジェットヘッドの１回の主走査によって形成されるのではなく、各々のフィルタエレメント７０３は異なるノズルグループに属する複数のノズルによってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で膜厚にバラツキが生じるのを防止でき、それ故、カラーフィルタ基板７４１の光透過特性が平面的に均一にされている。これにより、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるようになっている。
【０１５９】
上記では、カラーフィルタを液晶装置に適用した例について説明したが、本発明に係るカラーフィルタは上記以外の用途にも適用できるのは勿論である。例えば、カラーフィルタは白色有機ＥＬにも適用することができる。すなわち、白色有機ＥＬの前面（有機ＥＬの光出射側）に前述で形成したカラーフィルタを配置する。この構成とすることにより、白色有機ＥＬを用いながらカラー表示を行える有機ＥＬ装置を提供することができる。
なお、以下のように光は制御される。有機ＥＬは白色光源となるように形成され、各画素毎に設けられたトランジスタの制御により発光量を調整し、さらにカラーフィルタを光が透過することにより所望の色を表示させる。
【０１６０】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法および製造装置に関する実施の形態）
図２１は、本発明に係る電気光学装置の一例としてのＥＬ装置の製造方法の一実施の形態を示している。また、図２２はその製造方法の主要工程および最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２２（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成する。それらの格子状凹部の中に、正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極２１３を形成することによってＥＬ装置２０１が形成される。
【０１６１】
上記画素電極２０２をＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ：薄膜ダイオード）素子などといった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）などといった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。
【０１６２】
各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１６３】
上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２１に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５１および図２２（ａ）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法などを用いることができる。画素電極２０２の材料としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。
【０１６４】
次に、工程Ｐ５２および図２２（ａ）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターンニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明な画素電極２０２の間を埋める。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れなどを防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ発光材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン（登録商標）化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。
【０１６５】
次に、機能性液状体としての正孔注入層用インクを塗布する直前に、透明基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行う（工程Ｐ５３）。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【０１６６】
次に、工程Ｐ５４および図２２（ａ）に示すように、正孔注入層用インクを図９の液滴吐出装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行う。具体的なインクジェットヘッド２２の制御方法は、図１ないし図５に示した方法のいずれかの方法が用いられる。その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去する（工程Ｐ５５）。この後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成する（工程Ｐ５６）。上記条件では、膜厚は４０ｎｍであった。
【０１６７】
次に、工程Ｐ５７および図２２（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント形成領域７内の正孔注入層２２０の上にインクジェット法を用いて機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＲ発光層用インクおよび機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＧ発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層用インクは、図９の液滴吐出装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出させる。インクジェットヘッド２２の制御方法は図１ないし図５に示した方法のいずれかの方法が用いられる。インクジェット方式によれば、微細なパターニングを簡便にかつ短時間に行うことができる。また、インク組成物の固形分濃度および吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１６８】
発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分などという条件で溶媒を除去する（工程Ｐ５８）。続けて、窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇを形成する（工程Ｐ５９）。上記条件により、膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。
【０１６９】
なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１７０】
次に、工程Ｐ６０および図２２（ｃ）に示すように、機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＢ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇおよび正孔注入層２２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。
以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
【０１７１】
その後、工程Ｐ６１および図２２（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とするＥＬ装置２０１が製造される。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉなどを材料として、蒸着法、スパッタ法などといった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法などといったパターニング手法を用いて形成できる。
【０１７２】
以上に説明したＥＬ装置２０１の製造方法およびその製造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法として図１ないし図５に示したいずれかの制御方法を採用するので、図２２における各絵素ピクセル内の正孔注入層２２０およびＲ、Ｇ、Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド（図１参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなく、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層および／または各色発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置２０１の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２２（ｄ）のＥＬ装置２０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１７３】
また、本実施の形態のＥＬ装置の製造方法およびその製造装置では、図９に示す液滴吐出装置１６を用いることにより、インクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってＲ、Ｇ、Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、また材料を浪費することもない。
【０１７４】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する実施の形態）
次に、本発明のカラーフィルタの製造装置の実施の形態について図面を参照して説明する。まず、このカラーフィルタの製造装置の説明に先立って、製造されるカラーフィルタについて説明する。図３５はカラーフィルタを示す部分拡大図で、図３５（Ａ）は平面図であり、図３５（Ｂ）は図３５（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。なお、この図３５に示すカラーフィルタにおいて、図６および図７に示す実施の形態のカラーフィルタ１と同一の構成については、同一の符号を付して説明する。
【０１７５】
〔カラーフィルタの構成〕
図３５（Ａ）において、カラーフィルタ１は、マトリックス状に並んだ複数の画素１Ａを備えている。これら画素１Ａの境目は、隔壁６によって区切られている。画素１Ａの１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクである液状体としてのカラーフィルタ材料すなわちフィルタエレメント材料１３が導入されている。この図３５に示すカラーフィルタは、赤、緑、青の配置をいわゆるモザイク配列として説明したが、上述したように、ストライプ配列やデルタ配列など、いずれの配置でも適用できる。
【０１７６】
カラーフィルタ１は、図３５（Ｂ）に示すように、透光性の基板１２と、透光性の隔壁６とを備えている。この隔壁６が形成されていない、すなわち除去された部分は、上記画素１Ａを構成する。この画素１Ａに導入された各色のフィルタエレメント材料１３は、着色層となるフィルタエレメント３を構成する。隔壁６およびフィルタエレメント３の上面には、保護層である保護膜４および電極層５が形成されている。
【０１７７】
〔カラーフィルタの製造装置の構成〕
次に、上記カラーフィルタを製造する製造装置の構成について図面を参照して説明する。図２３は、本発明に係るカラーフィルタの製造装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【０１７８】
カラーフィルタ製造装置は、電気光学装置としてのカラー液晶パネルを構成するカラーフィルタを製造する。このカラーフィルタ製造装置は、図示しない液滴吐出装置を備えている。
【０１７９】
〔液滴吐出処理装置の構成〕
そして、液滴吐出装置は、上述した各実施の形態の液滴吐出装置と同様に、図２３に示すような３台の液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂを有している。これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、液状体としてのインクすなわちカラーフィルタ材料である例えばＲ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３をマザー基板１２にそれぞれ吐出するＲ、Ｇ、Ｂの３色に対応している。なお、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、略直列状に配置されて液滴吐出装置を構成する。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、各構成部材の動作を制御する図示しない制御装置が一体的に設けられている。
【０１８０】
なお、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにマザー基板１２を一枚ずつ搬入および搬出する図示しない搬送ロボットがそれぞれ接続される。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、マザー基板１２が例えば６枚収容可能で、マザー基板１２を熱処理、例えば１２０℃、５分間加熱して吐出されたフィルタエレメント材料１３を乾燥させる図示しない多段ベーク炉が接続されている。
【０１８１】
そして、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂは、図２３に示すように、中空箱状の本体ケースであるサーマルクリーンチャンバ４２２を有している。このサーマルクリーンチャンバ４２２内は、インクジェット方式による安定した良好な描画が得られるように、内部が例えば２０±０．５℃に調整されて外部から塵埃が侵入不可能に形成されている。このサーマルクリーンチャンバ４２２内には、液滴吐出処理装置本体４２３が配設されている。
【０１８２】
液滴吐出処理装置本体４２３は、図２３示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４を有している。このＸ軸エアースライドテーブル４２４上には、図示しないリニアモータが配設された主走査駆動装置４２５が配設されている。この主走査駆動装置４２５は、マザー基板１２を例えば吸引により取付固定する図示しない台座部を有し、この台座部をＸ軸方向であるマザー基板１２に対して主走査方向に移動させる。
【０１８３】
液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４の上方に位置して、Ｙ軸テーブルとしての副走査駆動装置４２７が配設されている。この副走査駆動装置４２７は、フィルタエレメント材料１３を例えば上下方向に沿って吐出させるヘッドユニット４２０をＹ軸方向であるマザー基板１２に対して副走査方向に移動させる。なお、図２３において、ヘッドユニット４２０は、位置関係を明確化するために、空中に浮いた状態で実線により表示している。
【０１８４】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、インクジェットヘッド４２１の位置やマザー基板１２の位置を制御するために位置を認識する位置認識手段である図示しない各種カメラが配設されている。なお、ヘッドユニット４２０や台座部の位置制御は、パルスモータを用いた位置制御の他、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現できる。
【０１８５】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、ヘッドユニット４２０におけるフィルタエレメント材料１３を吐出する面を拭き取るワイピングユニット４８１が設けられている。このワイピングユニット４８１は、例えば布部材およびゴムシートが一体的に積層された図示しないワイピング部材の一端側を適宜巻き取り、順次新しい面でフィルタエレメント材料１３を吐出する面をワイピングする構成となっている。これにより、吐出面に付着したフィルタエレメント材料１３の除去を行ない、後述するノズルの目詰まりが起こらないようにしている。
【０１８６】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、図２３に示すように、インクシステム４８２が設けられている。このインクシステム４８２は、フィルタエレメント材料１３を貯留するインクタンク４８３、フィルタエレメント材料１３が流通可能な供給管４７８、および、インクタンク４８３から供給管４７８を介してフィルタエレメント材料１３をヘッドユニット４２０へ供給する図示しないポンプを有している。なお、図２３において、供給管４７８の配管は、模式的に示したもので、インクタンク４８３からヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７側に配線され、ヘッドユニット４２０を走査する副走査駆動装置４２７の上方からヘッドユニット４２０にフィルタエレメント材料１３を供給するようになっている。
【０１８７】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、ヘッドユニット４２０から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量を検出する重量測定ユニット４８５が設けられている。
【０１８８】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、例えば図示しない光センサを有しヘッドユニット４２０からのフィルタエレメント材料１３の吐出状態を検出するドット抜け検出ユニット４８７が一対の配設されている。このドット抜け検出ユニット４８７は、ヘッドユニット４２０から液状体が吐出させる方向に対して交差する方向、例えばＸ軸方向に沿って図示しない光センサの光源および受光部が、ヘッドユニット４２０から吐出された液滴が通過する空間を挟んで対向するように配設されている。また、ヘッドユニット４２０の搬送方向であるＹ軸方向側に位置して配設され、フィルタエレメント材料１３を吐出するためにヘッドユニット４２０を副走査移動させる毎に吐出状態を検出してドット抜けを検出する。
【０１８９】
なお、詳しくは後述するが、ヘッドユニット４２０には、フィルタエレメント材料１３を吐出するヘッド装置４３３を２列に配置している。このため、ドット抜け検出ユニット４８７は、各列各ヘッド装置毎に吐出状態を検出するために一対設けられている。
【０１９０】
〔ヘッドユニットの構成〕
次に、ヘッドユニット４２０の構成について説明する。図２４は、液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂに設けられたヘッドユニット４２０を示す平面図である。図２５は、ヘッドユニット４２０を示す側面図である。図２６は、ヘッドユニット４２０を示す正面図である。図２７は、ヘッドユニット４２０を示す断面図である。
【０１９１】
ヘッドユニット４２０は、図２４ないし図２７に示すように、ヘッド本体部４３０と、インク供給部４３１とを有している。また、ヘッド本体部４３０は、平板状のキャリッジ４２６と、このキャリッジ４２６に複数取り付けられた実質的に略同一形状のヘッド装置４３３とを有している。
【０１９２】
（ヘッド装置の構成）
図２８はヘッドユニット４２０に配設されたヘッド装置４３３を示す分解斜視図である。
ヘッド装置４３３は、図２８に示すように、短冊状のプリント基板４３５を有している。このプリント基板４３５には、各種電気部品４３６が実装され電気配線が設けられている。また、プリント基板４３５には、長手方向の一端側（図２８中右側）に位置して窓部４３７が貫通形成されている。さらに、プリント基板４３５には、インクであるフィルタエレメント材料１３が流通可能な流通路４３８が窓部４３７の両側に位置して設けられている。
【０１９３】
そして、このプリント基板４３５の一面側（図２８中下面側）には、長手方向の略一端側（図２８中右側）に位置してインクジェットヘッド４２１が取付部材４４０により一体的に取り付けられている。このインクジェットヘッド４２１は、長手矩形状に形成され、長手方向がプリント基板４３５の長手方向に沿う状態で取り付けられる。なお、各ヘッド装置４３３における各インクジェットヘッド４２１は、実質的に略同一形状、すなわち例えば所定の規格の製品であって、所定の品質に選別されたものなどであればよい。具体的には、これらインクジェットヘッド４２１が後述する同一個数のノズルを有し、ノズルの形成位置が互いに同一であることが、キャリッジ４２６に対してインクジェットヘッド４２１を組み立てる際に効率的となり、また組み立て精度も高まるので、好ましい。さらに、同一の製造・組立工程を経て作られた製品を用いれば、特別な製品を作る必要が無くなり、低コストとすることができる。
【０１９４】
また、プリント基板４３５の他面側（図２８中上面側）には、長手方向の略他端側（図２８中左側）に位置してインクジェットヘッド４２１に電気配線４４２にて電気的に接続されるコネクタ４４１が一体的に取り付けられている。これらコネクタ４４１には、図２３に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線された電気配線４４２（電源配線、信号配線を含む）が接続される。この電気配線４４２は図示しない制御装置とヘッドユニット４２０を接続するものとなる。すなわち、これら電気配線４４２は、図２４および図２７に二点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０の２列のヘッド装置４３３の配列方向の両側であるヘッドユニット４２０の外周側に配線されてコネクタ４４１に接続され、電気ノイズが生じないようになっている。
【０１９５】
さらに、プリント基板４３５の他面側（図２８中上面側）には、長手方向の略一端側（図２８中右側）でインクジェットヘッド４２１に対応してインク導入部４４３が取り付けられている。このインク導入部４４３は、取付部材４４０に設けられプリント基板４３５を貫通する位置決めピン部４４４を嵌合する略円筒状の位置決め筒部４４５と、プリント基板４３５に係止する係止爪部４４６とを有している。
【０１９６】
また、インク導入部４４３には、先端先細り形状の略円筒状の連結部４４８が一対突設されている。これら連結部４４８は、プリント基板４３５側となる基端部にプリント基板４３５の流通路４３８に略液密に連通する図示しない開口を有し、先端部にフィルタエレメント材料１３が流通可能な図示しない孔を有している。
【０１９７】
さらに、これら連結部４４８には、図２５ないし図２８に示すように、先端側に位置してシール連結部４５０がそれぞれ取り付けられている。これらシール連結部４５０は、内周側に連結部４４８を略液密に嵌着する略円筒状に形成され、先端部にシール部材４４９が設けられている。
【０１９８】
（インクジェットヘッドの構成）
図２９は、インクジェットヘッド４２１を示す分解斜視図である。図３０はインクジェットヘッド４２１のフィルタエレメント材料１３を吐出する動作をインクジェットヘッド４２１の断面に対応して説明する模式図で、図３０（Ａ）はフィルタエレメント材料１３を吐出する前の状態、図３０（Ｂ）は圧電振動子４５２を収縮させてフィルタエレメント材料１３を吐出している状態、図３０（Ｃ）はフィルタエレメント材料１３を吐出した直後の状態である。図３１は、インクジェットヘッド４２１におけるフィルタエレメント材料１３の吐出量を説明する説明図である。図３２は、インクジェットヘッド４２１の配置状態を説明する概略的な模式図である。図３３は、図３２における部分拡大図である。
【０１９９】
インクジェットヘッド４２１は、図２９に示すように、略矩形状のホルダ４５１を有している。このホルダ４５１には、長手方向に沿って例えば１８０個のピエゾ素子などの圧電振動子４５２が２列設けられている。また、ホルダ４５１には、プリント基板４３５の流通路４３８に連通し長手方向の両側略中央にインクであるフィルタエレメント材料１３が流通する貫通孔４５３がそれぞれ設けられている。
【０２００】
また、ホルダ４５１の圧電振動子４５２が位置する一面である上面には、図２９に示すように、合成樹脂にてシート状に形成された弾性板４５５が一体的に設けられている。この弾性板４５５には、貫通孔４５３に連続する連通孔４５６がそれぞれ設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０１】
さらに、弾性板４５５の上面には、平板状の流路形成板４６０が設けられている。この流路形成板４６０には、ホルダ４５１の幅方向に長手状で圧電振動子４５２に対応してホルダ４５１の長手方向に１８０個の直列状に２列設けられたノズル溝４６１と、ノズル溝４６１の一側にホルダの長手方向に長手状に設けられた開口部４６２と、弾性板４５５の連通孔４５６に連続する流通孔４６３とが設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０２】
また、流路形成板４６０の上面には、略平板状のノズルプレート４６５が設けられている。このノズルプレート４６５には、流路形成板４６０のノズル溝４６１に対応して略円形のノズル４６６がホルダ４５１の長手方向に１８０個で２５．４ｍｍ（１ｉｎｃｈ）の長さ範囲に直列状で２列設けられている。また、ノズルプレート４６５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５および流路形成板４６０とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【０２０３】
そして、積層する弾性板４５５、流路形成板４６０およびノズルプレート４６５により、図３０に模式的に示すように、流路形成板４６０の開口部４６２にて液リザーバ４６７が区画形成されるとともに、この液リザーバ４６７は各ノズル溝４６１に液供給路４６８を介して連続する。このことにより、インクジェットヘッド４２１は、圧電振動子４５２の動作により、ノズル溝４６１内の圧力が増大しノズルからフィルタエレメント材料１３を２〜１３ｐｌ例えば約１０ｐｌの液滴量で７±２ｍ／ｓで吐出する。すなわち、図３０に示すように、圧電振動子４５２に対して所定の印加電圧Ｖｈをパルス状に印加することで、図３０（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に順次示すようにして、圧電振動子４５２を矢印Ｑ方向に適宜伸縮させることで、インクであるフィルタエレメント材料１３を加圧して所定量の液滴８でノズル４６６から吐出させる。
【０２０４】
また、このインクジェットヘッド４２１は、上記実施の形態でも説明したように、図３１に示す様な配列方向の両端部側の吐出量が多くなる吐出量のバラツキがある。このことから、例えば吐出量バラツキが５％以内となる範囲のノズル４６６すなわち両端部の１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３を吐出しないように制御される。
【０２０５】
そして、ヘッドユニット４２０を構成するヘッド本体部４３０は、図２３ないし図２７に示すように、インクジェットヘッド４２１を有したヘッド装置４３３が複数互いに並んで配置されて構成されている。このヘッド装置４３３のキャリッジ４２６における配置は、図３２および図３３に模式的に示すように、副走査方向であるＹ軸方向よりもＹ軸方向と直交する主走査方向であるＸ軸方向に対して傾斜した方向にオフセットしながら配列される状態である。すなわち、副走査方向であるＹ軸方向より若干傾斜した方向に例えば６個並べて配置され、この列が複数列、例えば２列で配置されている。これは、インクジェットヘッド４２１よりもヘッド装置４３３の短辺方向の幅が広く、互いに隣接するインクジェットヘッド４２１同士の配置間隔を狭めることができない一方で、ノズル４６６の列がＹ軸方向に連続して配列されているようにしなければならない状況から考えられた配置の仕方である。
【０２０６】
さらに、ヘッド本体部４３０は、ヘッド装置４３３が、インクジェットヘッド４２１の長手方向がＸ軸方向に対して交差する方向に傾斜する状態で、かつコネクタ４４１が相対向方向と反対側に位置する状態で略点対称に配設されている。このヘッド装置４３３の傾斜する配置状態は、例えばインクジェットヘッド４２１の長手方向であるノズル４６６の配設方向がＸ軸方向に対して５７．１°傾斜する。
【０２０７】
さらに、ヘッド装置４３３は、略千鳥状すなわち配列方向に対して並列状態に位置しないように配置されている。すなわち、図２４ないし図２７および図３２に示すように、１２個のインクジェットヘッド４２１のノズル４６６がＹ軸方向に連続して配列されるように、インクジェットヘッド４２１は２列に配列され且つそのＹ軸方向への配列順序が互い違いの交互に配置される。
【０２０８】
具体的には、図３２および図３３に基づいて、より詳細に説明する。ここで、インクジェットヘッド４２１は、長手方向であるノズル４６６の配列方向がＸ軸方向に対して傾斜する。このため、インクジェットヘッド４２１に設けられた２列のノズル４６６の一列目において、フィルタエレメント材料１３を吐出する１１個目のノズル４６６が位置するＸ軸方向の直線上で、２列目のノズル４６６の他方は吐出しない１０個以内の位置となる領域Ａ（非吐出ノズルの領域）がある（図３３中のＡ）。すなわち、１つのインクジェットヘッド４２１では、Ｘ軸方向での直線上に２個の吐出ノズル４６６が存在しない領域Ａが生じる。
【０２０９】
したがって、図３２および図３３に示すように、１つのインクジェットヘッド４２１でＸ軸方向の直線上に２個のノズル４６６が位置する領域Ｂ（図３３中のＢ）では、列をなすヘッド装置４３３はＸ軸方向で並列状態に位置させない。さらに、一方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａと、他方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａとは、Ｘ軸方向で互いに並列状態に位置させ、一方の列のインクジェットヘッド４２１と他方の列のインクジェットヘッド４２１とにてＸ軸方向の直線上に合計で２個のノズル４６６が位置する状態とする。
すなわち、インクジェットヘッド４２１が配設されている領域においては、どの位置でもＸ軸方向の直線上に必ず合計２個のノズル４６６が位置するように２列に千鳥状（互い違い）に配設する。なお、フィルタエレメント材料１３を吐出しないノズル４６６の領域Ｘは、このＸ軸方向の直線上における２個のノズル４６６の数として数えない。
【０２１０】
このように、主走査されるＸ軸方向に対してインクを吐出するノズル４６６は２個が走査方向に沿って仮想される直線上（直線自体は存在するものではない）に位置し、後述するように、この２個のノズル４６６から１つの個所にインクが吐出されることになる。１つのノズル４６６からの吐出だけで１つのエレメントを構成すると、ノズル４６６間の吐出量のバラツキがエレメントの特性バラツキや歩留まり劣化に繋がるので、このように別々のノズル４６６から吐出により１つのエレメントを形成すれば、ノズル４６６間の吐出のバラツキを分散し、エレメント間での特性の均一化および歩留まり向上を図ることができる。
【０２１１】
また、このような複数のインクジェットヘッド４２１の配列によって、走査方向に仮想される複数の直線上に、吐出ノズルが複数位置することになり、複数のインクジェットヘッド４２１を配列した状態において、走査方向に直交する方向に沿ってノズルの配列を見た場合、そのノズル４６６の配列が実質的に連続するようになるので、実質的に長寸法のインクジェットヘッド４２１を製造して用いたのと同様な液滴吐出を行うことができる。なお、インクジェットヘッド４２１を複数搭載した吐出装置の走査は、図１ないし図５のような走査方法で（ヘッドを傾けるかどうかは別にして）、行うことができる。
【０２１２】
なお、このインクジェットヘッド４２１の配置の際、図３４に示すように、ヘッドユニット４２０の描画の際のマザー基板１２との相対的な移動方向である走査方向Ｘに対して直交する方向の副走査方向Ｙにおけるノズル４６６のピッチが、描画するフィルタエレメント形成領域７の副走査方向Ｙにおけるエレメント間ピッチとなるようにインクジェットヘッド４２１を長手方向が走査方向Ｘに対して図３４（ａ）に示す所定角度θ１で傾斜させた状態、あるいは図３４（ｂ）に示す所定角度θ２で傾斜させる。この状態で、走査方向Ｘに沿った直線上で、ノズル４６６が複数、すなわちノズル４６６の配列数である２つが位置する状態に横長のノズル溝４６１の開口領域に対応した領域内で開口形成されたノズルプレート４６５を用いる。
【０２１３】
（インク供給部の構成）
インク供給部４３１は、図２４ないし図２７に示すように、ヘッド本体部４３０の２列に対応してそれぞれ設けられた一対の平板状の取付板４７１と、これら取付板４７１に複数取り付けられた供給本体部４７２とを有している。そして、供給本体部４７２は、略細長円筒状の進退部４７４を有している。この進退部４７４は、取付治具４７３にて取付板４７１を貫通する状態で軸方向に沿って移動可能に取り付けられる。また、供給本体部４７２の進退部４７４は、例えばコイルスプリング４７５などにより取付板４７１からヘッド装置４３３に向けて進出する方向に付勢されて取り付けられる。なお、図２４において、説明の都合上、インク供給部４３１は、２列のヘッド装置４３３のうちの一方の列に対してのみ図示し、他方はそれを省略している。
【０２１４】
この進退部４７４のヘッド装置４３３に対向する側の端部には、フランジ部４７６が設けられている。このフランジ部４７６は、進退部４７４の外周縁に鍔状に突出し、端面がヘッド装置４３３のインク導入部４４３のシール部材４４９に、コイルスプリング４７５の付勢に抗して略液密に当接する。また、進退部４７４のフランジ部４７６が設けられた側と反対側の端部には、ジョイント部４７７が設けられている。このジョイント部４７７は、図２３に模式的に示すように、フィルタエレメント材料１３が流通する供給管４７８の一端が接続される。
【０２１５】
この供給管４７８は、上述したように、図２３に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、図２４および図２６に一点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０上方より２列で配列されたインク供給部４３１の間の略中央に配管され、さらに放射状に配管されて先端がインク供給部４３１のジョイント部４７７に接続されて配管される。
【０２１６】
そして、インク供給部４３１は、供給管４７８を介して流通するフィルタエレメント材料１３をヘッド装置４３３のインク導入部４４３に供給する。また、インク導入部４４３に供給されたフィルタエレメント材料１３はインクジェットヘッド４２１に供給され、電気制御されたインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６から適宜液滴状に吐出される。
【０２１７】
〔カラーフィルタの製造動作〕
（前処理）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタ製造装置を用いてカラーフィルタ１を形成する動作を図面を参照して説明する。図３６は上記カラーフィルタの製造装置を用いてカラーフィルタ１を製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【０２１８】
まず、例えば膜厚寸法が０．７ｍｍ、縦寸法が３８ｃｍ、横寸法が３０ｃｍの無アルカリガラスの透明基板であるマザー基板１２の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１質量％添加した洗浄液で洗浄する。この洗浄後、純水でリンスして空気乾燥し、清浄表面を得る。このマザー基板１２の表面に、例えばスパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層６ａを得る（図３６中手順Ｓ１）。
【０２１９】
このマザー基板１２をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層６ａの表面に、例えばスピンコートにより図示しないフォトレジスト層を形成する。このマザー基板１２の表面に、例えば所要のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光する。次に、この露光したマザー基板１２を、例えば水酸化カリウムを８質量％の割合で含有するアルカリ現像液に浸漬し、未露光部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層６ａを、例えば塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして、所定のマトリックスパターンを有するブラックマトリックスである遮光層６ｂが得られる（図３６中手順Ｓ２）。なお、遮光層６ｂの膜厚はおおよそ０．２μｍで、遮光層６ｂの幅寸法はおおよそ２２μｍである。
【０２２０】
この遮光層６ｂが設けられたマザー基板１２上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物６ｃを例えばスピンコート法で塗布形成する（図３６中手順Ｓ３）。この感光性樹脂組成物６ｃを設けたマザー基板１２を１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを用いて紫外線露光する。そして、未露光部分の樹脂を、例えば上述したようなアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後にスピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを例えば２００℃で３０分間実施し、樹脂部分を十分に硬化させ、バンク層６ｄを形成する。このバンク層６ｄの膜厚は平均で約２．７μｍ、幅寸法は約１４μｍである。このバンク層６ｄと遮光層６ｂとにて隔壁６が形成される（図３６中手順Ｓ４）。
【０２２１】
上記得られた遮光層６ｂおよびバンク層６ｄで区画された着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７（特にマザー基板１２の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理をする。具体的には、例えばヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ処理でエッチングスポットに形成し、マザー基板１２を形成したエッチングスポット下を通過させてエッチングし、マザー基板１２の前処理工程を実施する。
【０２２２】
（フィルタエレメント材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施されたマザー基板１２の隔壁６で区切られて形成されたフィルタエレメント形成領域７内に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料１３をインクジェット方式により導入、すなわち吐出する（図３６中手順Ｓ５）。
【０２２３】
このインクジェット方式によるフィルタエレメント材料１３の吐出に際しては、あらかじめ上述した条件の所定のノズルプレート４６５を有したヘッドユニット４２０を組立形成しておく。そして、液滴吐出装置の各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにおいて、各インクジェットヘッド４２１の１つのノズル４６６から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量が所定量、例えば１０ｐｌ程度となるように調整しておく。一方、マザー基板１２の一面に、あらかじめ隔壁６を格子状パターンに形成しておく。
【０２２４】
そして、上述したように前処理したマザー基板１２を、図示しない搬送ロボットにより、まずＲ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｒ内に搬入し、液滴吐出処理装置４０５Ｒ内の台座部上に載置する。この台座部上に載置されたマザー基板１２は、例えば吸引により位置決め固定される。そして、マザー基板１２を保持した台座部は、各種カメラなどにてマザー基板１２の位置が確認され、適宜所定の位置となるように主走査駆動装置４２５を制御して移動する。また、副走査駆動装置４２７にてヘッドユニット４２０を適宜移動させ、その位置を認識する。この後、ヘッドユニット４２０を副走査方向に移動させドット抜け検出ユニット４８７にて、ノズル４６６からの吐出状態を検出し、吐出不良を生じていないことを認識して初期位置に移動させる。
【０２２５】
この後、主走査駆動装置４２５により可動される台座部に保持されたマザー基板１２をＸ方向に走査して、マザー基板１２に対して相対的にヘッドユニット４２０を移動させつつ、適宜インクジェットヘッド４２１の所定のノズル４６６から適宜フィルタエレメント材料１３を吐出させ、マザー基板１２の隔壁６にて区画された凹部内に充填する。このノズル４６６からの吐出は、図示しない制御装置により、図３２に示すノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域Ｘ、例えば両端１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３は吐出させない制御をし、中間部分に位置する比較的に吐出量が一様な１６０個から吐出させる。
【０２２６】
また、ノズル４６６からの吐出は、走査方向の直線上、すなわち走査ライン上に２つのノズル４６６が位置するので、移動中に１つの凹部に１ノズル４６６から２ドット、より詳しくは１ノズル４６６から１ドットとして２液滴分を吐出させるので、計８液滴分が吐出される。この１走査移動毎にドット抜け検出ユニット４８７より吐出状態を検出してドット抜けが生じていないか確認する。
【０２２７】
ドット抜けを認識しない場合、ヘッドユニット４２０を副走査方向に所定量移動させ、再びマザー基板１２を保持する台座部を主走査方向に移動させつつフィルタエレメント材料１３を吐出させる動作を繰り返し、所定のカラーフィルタ形成領域１１の所定のフィルタエレメント形成領域７にフィルタエレメント３を形成する。
【０２２８】
（乾燥・硬化）
そして、Ｒ色のフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２は、図示しない搬送ロボットにより液滴吐出処理装置４０５Ｒから採り出され、図示しない多段ベーク炉にて、フィルタエレメント材料１３を例えば１２０℃で５分間乾燥させる。この乾燥後、搬送ロボットにより多段ベーク炉からマザー基板１２を採り出し、冷却しつつ搬送する。この後、液滴吐出処理装置４０５Ｒから順次Ｇ色用の液滴吐出処理装置４０５ＧおよびＢ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｂに搬送し、Ｒ色の形成の場合と同様に、所定のフィルタエレメント形成領域７にＧ色およびＢ色のフィルタエレメント材料１３を順次吐出する。そして、各３色のフィルタエレメント材料１３が吐出されて乾燥されたマザー基板１２を回収し、熱処理、すなわちフィルタエレメント材料１３を加熱により固化定着させる（図３６中手順Ｓ６）。
【０２２９】
（カラーフィルタの形成）
この後、フィルタエレメント３が形成されたマザー基板１２の略全面に保護膜４を形成する。さらに、この保護膜４の上面にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）にて電極層５を所要パターンで形成する。この後、別途カラーフィルタ形成領域１１毎に切断して複数のカラーフィルタ１を切り出し形成する（図３６中手順Ｓ７）。このカラーフィルタ１が形成された基板は、先に実施形態において説明したように、図１９に示すような液晶装置における一対の基板の一方として用いられる。
【０２３０】
〔カラーフィルタの製造装置の効果〕
この図２３ないし図３５に示す実施の形態によれば、先に説明した各実施の形態の作用効果に加え、以下に示す作用効果を奏する。
すなわち、流動性を有した液状体である例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を液滴として吐出する複数のノズル４６６が一面に配列して設けられたインクジェットヘッド４２１を、インクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、この相対的な移動方向に沿った直線上に位置する複数、例えば２つのノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる。このため、異なる２つのノズル４６６から重ねてフィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル４６６間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出されたフィルタエレメント材料１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、カラーフィルタエレメントに対して均一な吐出が得られ、同じ色のフィルタエレメント同士において品質の均一な良好な特性の電気光学装置を得ることができる。
【０２３１】
また、相対的な移動方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のインクジェットヘッド４２１のノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させるため、同様に、異なる２つのノズル４６６から重ねてフィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、吐出されたフィルタエレメント材料１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、品質の均一な良好な特性の電気光学装置を得ることができる。
【０２３２】
そして、ノズル４６６を長手方向に沿って複数列、例えば２列で設けたインクジェットヘッド４２１を長手方向が相対的な移動方向に対して傾斜し、かつ互い違いに配設して、インクジェットヘッド４２１が配設された領域においては、必ず２つのノズルが位置するように配設したため、インクジェットヘッド４２１の配設領域で上記異なる２つのノズル４６６から同一位置に重ねて吐出させる構成が確実に得られる。
【０２３３】
また、フィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数略直線上に設けられたインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、インクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６のうちこれらノズル４６６の配設方向の両端部の所定領域ＸＸに位置する例えば両側１０個のノズル４６６（非吐出ノズル）からは吐出させることなく所定領域ＸＸ以外の中間部分に位置するノズル４６６からマザー基板１２の表面にフィルタエレメント材料１３を吐出する。この構成により、吐出量が特に多くなるノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域である両端１０個ずつのノズル４６６からは液滴を吐出させず、吐出量が比較的一様な中間部分のノズル４６６を用いてフィルタエレメント材料１３を吐出させるので、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出でき、平面的に品質が均一なカラーフィルタ１が得られ、このカラーフィルタ１を用いた電気光学装置である表示装置にて良好な表示が得られる。
【０２３４】
そして、フィルタエレメント材料１３の吐出量の平均値より１割以上多い吐出量となるノズル４６６からは吐出させないので、特にカラーフィルタ１のフィルタエレメント材料１３やＥＬ発光材料、荷電粒子を含有した電気泳動装置用などの機能性液状体を液状体として用いる場合でも、特性にバラツキが生じず、液晶装置やＥＬ装置などの電気光学装置として良好な特性を確実に得ることができる。
【０２３５】
また、各ノズル４６６から吐出量の平均値に対して±１割以内でフィルタエレメント材料１３が吐出されるので、吐出量が比較的一様となり、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出され、良好な特性の電気光学装置が得られる。
そして、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設したインクジェットヘッド４２１を用いることにより、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型など、所定の規則性を有した構成を描画することが容易にできる。
【０２３６】
さらに、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設されたインクジェットヘッド４２１の構成において、長手矩形状のインクジェットヘッド４２１に長手方向に沿ってノズル４６６を略等間隔で直線上に設けたので、インクジェットヘッド４２１が小型化し、例えば隣接するインクジェットヘッド４２１同士や他の部位との干渉を防止でき、容易に小型化できる。
【０２３７】
また、ノズル４６６の配設方向に対して交差する方向にインクジェットヘッド４２１を相対的に移動させるので、ノズル４６６の配設方向が移動方向に対して傾斜した状態となり、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみで、マザー基板１２の表面にドット状に吐出する際の所望のエレメント間ピッチに容易に対応でき、エレメント間ピッチに対応してインクジェットヘッド４２１を形成する必要がなく、汎用性を向上できる。
【０２３８】
そして、流動性を有した液状体としての例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数設けられた複数のインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物であるマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態で、マザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、複数のインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６からマザー基板１２の表面に同一のフィルタエレメント材料１３を吐出させる。このため、例えば同一のノズル４６６の数を有するような同一の規格品のインクジェットヘッド４２１を用いて、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出させることが可能となり、長手（長寸法）の特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを低減できる。
【０２３９】
さらに、例えばインクジェットヘッド４２１を配列する配設方向の数を適宜設定することにより、フィルタエレメント材料１３を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性を向上できる。長手（長尺）の特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを低減できる。寸法の長いインクジェットヘッドは、製造歩留まりが極めて落ちるので、高価な部品になってしまうが、それに比べて短寸法のインクジェットヘッドは製造歩留まりが良いので、本発明ではこれを複数使って実質的な長手のインクジェットヘッドとなるように配置するだけであるため、コストを大幅に低減することができる。
【０２４０】
そしてさらに、例えばインクジェットヘッド４２１を並べて配列する配置方向や数、吐出のために使用するノズルの数や間隔（ノズルを１個または数個おきに使用して画素のピッチに調節することもできる）を適宜設定することにより、サイズや画素のピッチや配列の異なったカラーフィルタに対してもフィルタエレメント材料１３を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性を向上できる。また、インクジェットヘッドを傾斜させて主走査方向に対して交差する方向に並べて配置するので、インクジェットヘッド列およびこれを保持するキャリッジが大型化しないので、液滴吐出装置の装置全体も大型化させずに済む。
【０２４１】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を配設するので、例えばマザー基板１２の表面に吐出する領域が広い場合や同じ箇所に重ねて吐出する場合などでも、インクジェットヘッド４２１を複数回移動させる必要がなく、また特別なインクジェットヘッドを形成する必要もなく、簡単な構成で容易にフィルタエレメント材料１３を吐出できる。さらに、キャリッジ４２６の全体を傾斜させるのではなく個々のインクジェットヘッド４２１がそれぞれ傾斜した状態となるので、マザー基板１２に近い側のノズル４６６とマザー基板１２から遠い側のノズル４６６までの距離はキャリッジ４２６の全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、キャリッジ４２６によってマザー基板１２に沿った移動である走査する時間を短縮できる。
【０２４２】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１として同一ノズル数を有するような同一形状のものを用いることにより、１種類のインクジェットヘッド４２１でも、適宜配列させることで液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、構成が簡略化し、製造性を向上でき、コストも低減できる。
【０２４３】
また、ノズル４６６の配設方向がそれぞれ略平行となる状態で複数のインクジェットヘッド４２１をキャリッジ４２６に配設してヘッドユニット４２０を構成したので、例えばノズル４６６の配列方向が略直列状で平行となる場合には、ノズル４６６の配列領域が広くなり、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出でき、吐出効率を向上でき、またインクジェットヘッド４２１の移動方向に並列状態で平行となる場合には、１つの箇所に異なるインクジェットヘッド４２１からフィルタエレメント材料１３を重ねて吐出させることが可能となり、吐出領域での吐出量を容易に平均化でき、安定した良好な描画を得ることができる。
【０２４４】
そして、複数のインクジェットヘッド４２１をそれぞれ主走査方向に対して交差する方向に傾斜させ、かつ全てのノズル４６６の配設方向が互いに平行になるように、インクジェットヘッド４２１の長手方向とは異なる方向に並べて配設したため、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、例えばフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２を表示装置などに利用した場合、より詳細な表示形態が得られる。さらに、隣合うインクジェットヘッド４２１の干渉を防止でき、小型化が容易に図れる。そして、この傾斜角を適宜設定することにより、描画のドットピッチが適宜設定され、汎用性を向上できる。
【０２４５】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を複数列、例えば２列で互い違い（略千鳥状）に配設したため、長尺の寸法を有するの特別なインクジェットヘッド４２１を製造して用いることなく、既製品のインクジェットヘッド４２１を用いても、隣合うインクジェットヘッド４２１が干渉せずにインクジェットヘッド４２１間でフィルタエレメント材料１３が吐出されない領域を生じることがなく、連続的なフィルタエレメント材料１３の良好な吐出、すなわち連続した描画ができる。
【０２４６】
さらに、ドット抜け検出ユニット４８７を設け、ノズル４６６からのフィルタエレメント材料１３の吐出を検出するため、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０２４７】
そして、ドット抜け検出ユニット４８７に光センサを設け、この光センサにてフィルタエレメント材料１３の吐出方向に対して交差する方向でフィルタエレメント材料１３の通過を検出するので、簡単な構成で確実なフィルタエレメント材料１３の吐出状態を認識でき、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０２４８】
さらに、ノズル４６６からマザー基板１２にフィルタエレメント材料１３を吐出する工程の前後で、ドット抜け検出ユニット４８７により吐出状態を検出するため、描画のためのフィルタエレメント材料１３の吐出直前および直後の吐出状態を検出でき、吐出状態を確実に認識でき、ドット抜けを確実に防止して良好な描画を得ることができる。なお、吐出する構成の前あるいは後のいずれか一方の時点で行うのみでもよい。
【０２４９】
また、ヘッドユニット４２０の主走査方向側にドット抜け検出ユニット４８７を配設するため、フィルタエレメント材料１３の吐出状態の検出のためにヘッドユニット４２０を移動させる距離が短く、かつ吐出のための主走査方向への移動をそのまま継続させる簡単な構成ででき、ドット抜けの検出を効率よく簡単な構成でできる。
【０２５０】
そして、インクジェットヘッド４２１を２列に点対称で配設したため、フィルタエレメント材料１３を供給する供給管４７８をヘッドユニット４２０の近傍までまとめることができ、装置の組立や保守管理などが容易にできる。さらに、インクジェットヘッド４２１を制御するための電気配線４４２の配線がヘッドユニット４２０の両側からとなり、電気配線４４２による電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。
【０２５１】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１を短冊状のプリント基板４３５の一端側に配設し、他端側にコネクタ４４１を設けたため、複数直線上に配設してもコネクタ４４１が干渉することなく配設でき、小型化ができるとともに、主走査方向でのノズル４６６が存在しない位置が形成されることがなく、連続したノズル４６６の配列を得ることができ、長手の特別なインクジェットヘッドを用いる必要がない。
【０２５２】
そして、コネクタ４４１が反対側に位置するように点対称で配設したため、コネクタ４４１部分での電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。
【０２５３】
一方、マザー基板１２の表面に沿って相対的に移動される移動方向である走査方向Ｘに対して直交する方向である副走査方向Ｙにおけるノズル間ピッチが、マザー基板１２の表面に吐出されるドット状の位置であるフィルタエレメント形成領域７における副走査方向Ｙでのエレメント間ピッチと同じ間隔となる状態にノズル本体４６４を長手方向が走査方向Ｘに対して所定角度で傾斜させた際に、走査方向Ｘに沿った直線上にノズル４６６が複数位置するようにノズルプレート４６５を形成するため、マザー基板１２の表面にドット状に描画されるフィルタエレメント３エレメント間ピッチに対応して傾斜されても、走査方向Ｘに沿った直線上に複数である２つのノズル４６６が位置する対応した所定のノズルプレート４６５を選択して用いるのみで、ノズル本体４６４を共用でき、描画に対応してインクジェットヘッド４２１全体をそれぞれ製造する必要がなく、コストを低減できる。
【０２５４】
なお、これらの実施の形態における作用効果は、上記各実施の形態で同様の構成を有していれば、対応する同様の作用効果を奏する。
【０２５５】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、電気光学装置として、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明する。なお、この表示装置の製造方法の説明に先立って、製造される表示装置の構成について説明する。
【０２５６】
〔表示装置の構成〕
図３７は、本発明の電気光学装置の製造装置における有機ＥＬ装置の一部を示す回路図である。図３８は、表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
すなわち、図３７において、５０１は有機ＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置で、この表示装置５０１は、基板である透明の表示基板５０２上に、複数の走査線５０３と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。
【０２５７】
信号線５０４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。また、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられている。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチング薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供給される画像信号を蓄積し保持する蓄積容量ｃａｐと、この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光素子５１３とが設けられている。
【０２５８】
この構成により、走査線５０３が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持される。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介して、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電流が流れる。このことにより、発光素子５１３は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【０２５９】
ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５１２や発光素子５１３を取り除いた状態の拡大平面図である図３８に示すように、平面状態が長方形の画素電極５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走査線５０３によって囲まれた配置となっている。
【０２６０】
〔表示装置の製造工程〕
次に、上記ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を製造する製造工程の手順について説明する。図３９ないし図４１は、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置の製造工程の手順を示す製造工程断面図である。なお、ＥＬ発光層を液滴の吐出で形成するための液滴吐出装置や走査方法については、先に説明した実施の形態と同様である。
【０２６１】
（前処理）
まず、図３９（Ａ）に示すように、透明の表示基板５０２に対して、必要に応じて、テトラエトキシシラン（ｔｅｔｒａｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ：ＴＥＯＳ）や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、厚さ寸法が約２０００〜５０００オングストロームのシリコン酸化膜である図示しない下地保護膜を形成する。次に、表示基板５０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約３００〜７００オングストロームの非晶質のシリコン膜である半導体膜５２０ａを形成する。この後、半導体膜５２０ａに対して、レーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を実施し、半導体膜５２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。ここで、レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が約４００ｎｍのラインビームを用い、出力強度が約２００ｍＪ／ｃｍ２である。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の約９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームが走査される。
【０２６２】
そして、図３９（Ｂ）に示すように、半導体膜５２０ａをパターニングして島状の半導体膜５２０ｂを形成する。この半導体膜５２０ｂが設けられた表示基板５０２の表面に、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約６００〜１５００オングストロームのシリコン酸化膜あるいは窒化膜であるゲート絶縁膜５２１ａを形成する。なお、半導体膜５２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ５０９のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。すなわち、図３９ないし図４１に示す製造工程では二種類のスイッチング薄膜トランジスタ５０９およびカレント薄膜トランジスタ５１０が同時に形成されるが、同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ５１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタ５０９については説明を省略する。
【０２６３】
この後、図３９（Ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜である導電膜をスパッタ法により形成した後にパターニングし、図３８にも示すゲート電極５１０Ａを形成する。この状態で、高温度のリンイオンを打ち込み、半導体膜５２０ｂにゲート電極５１０Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域５１０ａ，５１０ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域５１０ｃとなる。
【０２６４】
次に、図３９（Ｄ）に示すように、層間絶縁膜５２２を形成した後、コンタクトホール５２３，５２４を形成し、これらコンタクトホール５２３，５２４内に中継電極５２６，５２７を埋め込み形成する。
【０２６５】
さらに、図３９（Ｅ）に示すように、層間絶縁膜５２２上に、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３（図３９中には図示しない）を形成する。このとき、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３の各配線は、配線として必要な厚さ寸法にとらわれることなく、十分に厚く形成する。具体的には、各配線を例えば１〜２μｍ程度の厚さ寸法に形成するとよい。ここで、中継電極５２７と各配線とは、同一工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極５２６は、後述するＩＴＯ膜により形成される。
【０２６６】
そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜５３０を形成し、中継電極５２６に対応する位置にコンタクトホール５３２を形成する。このコンタクトホール５３２内を埋めるようにＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜をパターニングして、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域５１０ａに電気的に接続する画素電極５１１を形成する。
【０２６７】
ここで、図３９（Ｅ）では、信号線５０４および共通給電線５０５に挟まれた部分が、光学材料が選択的に配置される所定位置に相当するものである。そして、その所定位置とその周囲との間には、信号線５０４や共通給電線５０５によって段差５３５が形成される。具体的には、所定位置の方がその周囲よりも低く、凹型の段差５３５が形成される。
【０２６８】
（ＥＬ発光材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施された表示基板５０２にインクジェット方式により、機能性液状体であるＥＬ発光材料を吐出する。すなわち、図４０（Ａ）に示すように、前処理が実施された表示基板５０２の上面を上方に向けた状態で、発光素子１４０の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の前駆体である光学材料５４０Ａを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、段差５３５で囲まれた所定位置の領域内に選択的に塗布する。
【０２６９】
この吐出する正孔注入層５１３Ａを形成するための光学材料５４０Ａとしては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウムなどが用いられる。
【０２７０】
なお、この吐出の際、流動性を有した液状体の光学材料５４０Ａは、上述した各実施の形態の隔壁にフィルタエレメント材料１３を吐出する場合と同様に、流動性が高いので、平面方向に広がろうとするが、塗布された位置を取り囲むように段差５３５が形成されているため、光学材料５４０Ａの１回当たりの吐出量を極端に大量にしなければ、光学材料５４０Ａは段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０２７１】
そして、図４０（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより液状の光学材料５４０Ａの溶媒を蒸発させ、画素電極５１１上に固形の薄い正孔注入層５１３Ａを形成する。この図４０（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図４０（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の正孔注入層５１３Ａを形成する。
【０２７２】
次に、図４１（Ａ）に示すように、表示基板５０２の上面を上に向けた状態で、発光素子５１３の上層部分に有機半導体膜５１３Ｂを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の有機蛍光材料である光学材料５４０Ｂを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、これを段差５３５で囲まれた所定位置である領域内に選択的に塗布する。なお、この光学材料５４０Ｂについても、上述したように、光学材料５４０Ａの吐出と同様に、段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０２７３】
この吐出する有機半導体膜５１３Ｂを形成するための光学材料５４０Ｂとしては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアルキルフェニレン、２，３，６，７−テトラヒドロ−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ペンゾビラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン−１０−カルボン酸、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、２−１３・４’−ジヒドロキシフェニル）−３，５，７−トリヒドロキシ−１−ベンゾピリリウムパークロレート、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、２，３・６・７−テトラヒドロ−９−メチル−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ベンゾピラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン、アロマティックジアミン誘導体（ＴＤＰ）、オキシジアゾールダイマ（ＯＸＤ）、オキシジアゾール誘導体（ＰＢＤ）、ジスチルアリーレン誘導体（ＤＳＡ）、キノリノール系金属錯体、ベリリウム−ベンゾキノリノール錯体（Ｂｅｂｑ）、トリフェニルアミン誘導体（ＭＴＤＡＴＡ）、ジスチリル誘導体、ピラゾリンダイマ、ルブレン、キナクリドン、トリアゾール誘導体、ポリフェニレン、ポリアルキルフルオレン、ポリアルキルチオフェン、アゾメチン亜鉛錯体、ポリフイリン亜鉛錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、フェナントロリンユウロピウム錯体などが用いられる。
【０２７４】
次に、図４１（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより、光学材料５４０Ｂの溶媒を蒸発させ、正孔注入層５１３Ａ上に、固形の薄い有機半導体膜５１３Ｂを形成する。この図４１（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図４１（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の有機半導体膜５１３Ｂを形成する。正孔注入層５１３Ａおよび有機半導体膜５１３Ｂによって、発光素子５１３が構成される。最後に、図４１（Ｄ）に示すように、表示基板５０２の表面全体、若しくはストライプ状に反射電極５１２を形成し、表示装置５０１を製造する。
【０２７５】
この図３７ないし図４１に示す実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０２７６】
なお、この図３７ないし図４１の実施の形態において、カラー表示を念頭においたＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明したが、例えば図４２に示すように、図３７ないし図４１に示す構成を単色表示の表示装置に適用してもできる。
すなわち、有機半導体膜５１３Ｂは、表示基板５０２の全面に一様に形成してもよい。ただし、この場合でも、クロストークを防止するために、正孔注入層５１３Ａは各所定位置毎に選択的に配置しなければならないため、段差１１１を利用した塗布が極めて有効である。なお、この図４２において、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同一の構成については、同一の符号を付す。
【０２７７】
また、ＥＬ表示素子を用いた表示装置としては、アクティブマトリックス型に限らず、例えば図４３に示すようなパッシブマトリックス型の表示装置としてもできる。図４３は本発明の電気光学装置の製造装置におけるＥＬ装置であり、図４３（Ａ）は複数の第１のバス配線５５０と、これに直交する方向に配設された複数の第２のバス配線５６０と、の配置関係を示す平面図で、図４３（Ｂ）は同（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。この図４３において、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様の構成には、同じ符号を付して重複する説明は省略する。また、細かな製造工程なども図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様であるため、その図示および説明は省略する。
【０２７８】
この図４３に示す実施の形態の表示装置は、発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように、例えばＳｉＯ２などの絶縁膜５７０が配設され、これにより、所定位置とその周囲との間に段差５３５を形成したものである。このため、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０２７９】
さらに、アクティブマトリックス型の表示装置としては、図３７ないし図４１に示す実施の形態の構成に限られない。すなわち、例えば図４４に示すような構成、図４５に示すような構成、図４６に示すような構成、図４７に示すような構成、図４８に示すような構成、あるいは図４９に示すような構成など、いずれの構成のものでもできる。
【０２８０】
図４４に示す表示装置は、画素電極５１１を利用して段差５３５を形成することにより、高精度にパターニングできるようにしたものである。図４４は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、その前後の段階は上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と略同様であるため、その図示および説明は省略する。
【０２８１】
この図４４に示す表示装置では、画素電極５１１を通常よりも厚く形成し、これにより、その周囲と間に段差５３５を形成している。つまり、この図４４に示す表示装置では、後に光学材料が塗布される画素電極５１１の方がその周囲よりも高くなっている凸型の段差が形成されている。そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、インクジェット方式により、発光素子５１３の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための前駆体である光学材料５４０Ａを吐出し、画素電極５１１の上面に塗布する。
【０２８２】
ただし、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態の場合とは異なり、表示基板５０２を上下逆にした状態、つまり光学材料５４０Ａが塗布される画素電極５１１の上面を下方に向けた状態で、光学材料５４０Ａを吐出して塗布する。このことにより、光学材料５４０Ａは、重力と表面張力とによって、画素電極５１１の上面（図４４中で下面）に溜まり、その周囲には広がらない。よって、加熱や光照射などにより固形化すれば、図４０（Ｂ）と同様の薄い正孔注入層５１３Ａを形成でき、これを繰り返せば正孔注入層５１３Ａが形成される。同様の手法で、有機半導体膜５１３Ｂも形成される。このため、凸型の段差を利用して高精度にパターニングできる。なお、重力と表面張力とに限らず、遠心力などの慣性力を利用して光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの量を調整してもよい。
【０２８３】
図４５に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図４５は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図４５に示す表示装置では、まず、表示基板５０２上に反射電極５１２を形成し、この反射電極５１２上に後に発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように絶縁膜５７０を形成し、これにより所定位置の方がその周囲よりも低くなっている凹型の段差５３５を形成する。
【０２８４】
そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、段差５３５で囲まれた領域内に、インクジェット方式により機能性液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成する。
【０２８５】
一方、剥離用基板５８０上に、剥離層５８１を介して、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０を形成する。最後に、表示基板５０２上に、剥離用基板５８０上の剥離層５８１から剥離された構造を転写するものである。
【０２８６】
この図４５の実施の形態では、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０への光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの塗布形成によるダメージの軽減が図れる。なお、パッシブマトリックス型の表示素子にも適用できる。
【０２８７】
図４６に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図４６は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図４６に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を利用して凹型の段差５３５を形成するものである。このため、特に新たな工程が増加することなく、層間絶縁膜５３０を利用でき、製造工程の大幅な複雑化などを防止できる。なお、層間絶縁膜５３０をＳｉＯ２で形成するとともに、その表面に紫外線やＯ２、ＣＦ３、Ａｒなどのプラズマなどを照射し、その後に、画素電極５１１の表面を露出させ、そして液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布してもよい。このことにより、層間絶縁膜５３０の表面に沿って撥液性の強い分布が形成され、光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが段差５３５と層間絶縁膜５３０の撥液性との両方の作用によって所定位置に溜まり易くなる。
【０２８８】
図４７に示す表示装置は、液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが塗布される所定位置の親水性を、その周囲の親水性よりも相対的に強くすることにより、塗布された光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが周囲に広がらないようにしたものである。図４７は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
【０２８９】
この図４７に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を形成した後に、その上面に非晶質シリコン層５９０を形成する。非晶質シリコン層５９０は、画素電極５１１を形成するＩＴＯよりも相対的に撥水性が強いので、ここに、画素電極５１１の表面の親水性がその周囲の親水性よりも相対的に強い掩撥水性・親水性の分布が形成される。そして、上記図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様に、画素電極５１１の上面に向けて、インクジェット方式により液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成し、最後に反射電極５１２を形成するものである。
【０２９０】
なお、この図４７に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図４５に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０２９１】
そして、撥水性・親水性の分布は、金属や、陽極酸化膜、ポリイミドまたは酸化シリコンなどの絶縁膜や、他の材料により形成していてもよい。なお、パッシブマトリックス型の表示素子であれば第１のバス配線５５０、アクティブマトリックス型の表示素子であれば走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、絶縁膜５３０あるいは遮光層６ｂによって形成してもよい。
【０２９２】
図４８に示す表示装置は、段差５３５や撥液性・親液性の分布などを利用してパターニング精度を向上させるのではなく、電位による引力や斥力などを利用してパターニング精度の向上を図るものである。図４８は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図３７ないし図４１に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
【０２９３】
この図４８に示す表示装置では、信号線５０４や共通給電線５０５を駆動するとともに、図示しないトランジスタを適宜オン・オフすることにより、画素電極５１１がマイナス電位となり、層間絶縁膜５３０がプラス電位となる電位分布を形成する。そして、インクジェット方式により、プラスに帯電した液状の光学材料５４０Ａを所定位置に選択的に吐出して塗布形成するものである。このことにより、光学材料５４０Ａを帯電させているので、自発分極だけでなく帯電電荷も利用でき、パターニングの精度をさらに向上できる。
【０２９４】
なお、この図４８に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図４５に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０２９５】
また、画素電極５１１と、その周囲の層間絶縁膜５３０との両方に電位を与えているが、これに限定されるものではなく、例えば図４９に示すように、画素電極５１１には電位を与えず、層間絶縁膜５３０にのみプラス電位を与え、そして、液状の光学材料５４０Ａをプラスに帯電させてから塗布するようにしてもよい。この図４９に示す構成によれば、塗布された後にも、液状の光学材料５４０Ａは確実にプラスに帯電した状態を維持できるから、周囲の層間絶縁膜５３０との間の斥力によって、液状の光学材料５４０Ａが周囲に流れ出ることをより確実に防止できる。
【０２９６】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する他の実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法の他の実施の形態について図面を参照して説明する。以下では、電気光学装置としてＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を適用している点は、上記実施の形態と同様であり、その回路構成も、図３７に示す先の実施形態の表示装置と同様である。
【０２９７】
〔表示装置の構成〕
図５５（ａ）は、本実施の形態の表示装置の平面模式図であり、図５５（ｂ）は、図５５（ａ）に示すＡ−Ｂ線に沿う断面模式図である。これらの図に示すように、本実施形態の表示装置８３１は、ガラス等からなる透明な基体８３２と、マトリックス状に配置された発光素子と、封止基板を具備している。基体８３２上に形成された発光素子は、後述する画素電極と、機能層と、陰極８４２により形成されている。
【０２９８】
基体８３２は、例えばガラス等の透明基板であり、基体８３２の中央に位置する表示領域８３２ａと、基体８３２の周縁に位置して表示領域８３２ａの外側に配置された非表示領域８３２ｂとに区画されている。
表示領域８３２ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、表示領域の外側に非表示領域８３２ｂが形成されている。そして，非表示領域８３２ｂには、表示領域８３２ａに隣接するダミー表示領域８３２ｄが形成されている。
【０２９９】
また、図５５（ｂ）に示すように、発光素子及びバンク部からなる発光素子部８４１と基体８３２との間には回路素子部８４４が備えられ、この回路素子部８４４に前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ９２３等が備えられている。
【０３００】
また、陰極８４２は、その一端が基体８３２上に形成された陰極用配線８４２ａに接続しており、この配線の一端部がフレキシブル基板８３５上の配線８３５ａに接続されている。また、配線８３５ａは、フレキシブル基板８３５上に備えられた駆動ＩＣ８３６（駆動回路）に接続されている。
【０３０１】
また、図５５（ａ）及び図５５（ｂ）に示すように、回路素子部８４４の非表示領域８３２ｂには、電源線９０３（９０３Ｒ、９０３Ｇ、９０３Ｂ）が配線されている。
また、表示領域８３２ａの図５５（ａ）中両側には、前述の走査側駆動回路９０５、９０５が配置されている。この走査側駆動回路９０５、９０５はダミー領域８３２ｄの下側の回路素子部８４４内に設けられている。更に回路素子部８４４内には、走査側駆動回路９０５、９０５に接続される駆動回路用制御信号配線９０５ａと駆動回路用電源配線９０５ｂとが設けられている。
更に表示領域８３２ａの図５５（ａ）中上側には検査回路９０６が配置されている。この検査回路９０６により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
【０３０２】
また図５５（ｂ）に示すように、発光素子部８４１上には封止部８３３が備えられている。この封止部８３３は、基体８３２に塗布された封止樹脂６０３ａと、缶封止基板６０４とから構成されている。封止樹脂６０３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。
この封止樹脂６０３は、基体８３２の周囲に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等により塗布されたものである。この封止樹脂６０３は、基体８３２と封止缶６０４を接合するもので、基体８３２と缶封止基板６０４の間から缶封止基板６０４内部への水又は酸素の侵入を防いで、陰極８４２または発光素子部８４１内に形成された図示略の発光層の酸化を防止する。
【０３０３】
缶封止基板６０４は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂６０３を介して基体８３２に接合されており、その内側には表示素子８４０を収納する凹部６０４ａが設けられている。また凹部６０４ａには水、酸素等を吸収するゲッター剤６０５が貼り付けられており、缶封止基板６０４の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようになっている。なお、このゲッター剤６０５は省略しても良い。
【０３０４】
次に図５６には、表示装置における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図５６には３つの画素領域Ａが図示されている。この表示装置８３１は、基体８３２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部８４４と、機能層９１０が形成された発光素子部８４１とが順次積層されて構成されている。
【０３０５】
この表示装置８３１においては、機能層９１０から基体８３２側に発した光が、回路素子部８４４及び基体８３２を透過して基体８３２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層９１０から基体８３２の反対側に発した光が陰極８４２により反射されて、回路素子部８４４及び基体８３２を透過して基体８３２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
なお、陰極８４２として、透明な材料を用いることにより陰極側から発光する光を出射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いる事ができる。膜厚としては７５ｎｍほどの膜厚にする事が好ましく、この膜厚よりも薄くした方がより好ましい。
【０３０６】
回路素子部８４４には、基体８３２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜８３２ｃが形成され、この下地保護膜８３２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜９４１が形成されている。尚、半導体膜９４１には、ソース領域９４１ａ及びドレイン領域９４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域９４１ｃとなっている。
【０３０７】
更に回路素子部８４４には、下地保護膜８３２ｃ及び半導体膜９４１を覆う透明なゲート絶縁膜９４２が形成され、ゲート絶縁膜９４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極９４３（走査線９０１）が形成され、ゲート電極９４３及びゲート絶縁膜９４２上には透明な第１層間絶縁膜９４４ａと第２層間絶縁膜９４４ｂが形成されている。ゲート電極９４３は半導体膜９４１のチャネル領域９４１ｃに対応する位置に設けられている。
【０３０８】
また、第１、第２層間絶縁膜９４４ａ、９４４ｂを貫通して、半導体膜９４１のソース、ドレイン領域９４１ａ、９４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール９４５，９４６が形成されている。
そして、第２層間絶縁膜９４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極９１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール９４５がこの画素電極９１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール９４６が電源線９０３に接続されている。
このようにして、回路素子部８４４には、各画素電極９１１に接続された駆動用の薄膜トランジスタ９２３が形成されている。
尚、回路素子部８４４には、前述した保持容量及びスイッチング用の薄膜トランジスタ９１２も形成されているが、図５６ではこれらの図示を省略している。
【０３０９】
次に図５６に示すように、発光素子部８４１は、複数の画素電極９１１…上の各々に積層された機能層９１０と、各画素電極９１１及び機能層９１０の間に備えられて各機能層９１０を区画するバンク部９１２と、機能層９１０上に形成された陰極８４２とを主体として構成されている。これら画素電極（第１電極）９１１、機能層９１０及び陰極８４２（対向電極（電極））によって発光素子が構成されている。
【０３１０】
ここで、画素電極９１１は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されている。この画素電極９１１の厚さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。この各画素電極９１１…の間にバンク部９１２が備えられている。
【０３１１】
バンク部９１２は、図５６に示すように、基体８３２側に位置する無機物バンク層９１２ａ（第１バンク層）と基体８３２から離れて位置する有機物バンク層９１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。
無機物バンク層、有機物バンク層（９１２ａ、９１２ｂ）は、画素電極９１１の周縁部上に乗上げるように形成されている。平面的には、画素電極９１１の周囲と無機物バンク層９１２ａとが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層９１２ｂも同様であり、画素電極９１１の一部と平面的に重なるように配置されている。また無機物バンク層９１２ａは、有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に更に形成されている。このようにして、無機物バンク層９１２ａの各第１積層部９１２ｅが画素電極９１１の内側に形成されることにより、画素電極９１１の形成位置に対応する下部開口部９１２ｃが設けられている。
【０３１２】
また、有機物バンク層９１２ｂには、上部開口部９１２ｄが形成されている。この上部開口部９１２ｄは、画素電極９１１の形成位置及び下部開口部９１２ｃに対応するように設けられている。上部開口部９１２ｄは、図５６に示すように、下部開口部９１２ｃより広く、画素電極９１１より狭く形成されている。また、上部開口部９１２ｄの上部の位置と、画素電極９１１の端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もある。この場合は、図５６に示すように、有機物バンク層９１２ｂの上部開口部９１２ｄの断面が傾斜する形状となる。
そしてバンク部９１２には、下部開口部９１２ｃ及び上部開口部９１２ｄが連通することにより、無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂを貫通する開口部９１２ｇが形成されている。
【０３１３】
また、無機物バンク層９１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料からなることが好ましい。この無機物バンク層９１２ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。膜厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層９１２ａが後述する正孔注入／輸送層より薄くなり、正孔注入／輸送層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。また膜厚が２００ｎｍを越えると、下部開口部９１２ｃによる段差が大きくなって、正孔注入／輸送層上に積層する後述の発光層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。
【０３１４】
更に、有機物バンク層９１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層９１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層９１２ｂが薄くなり、発光層が上部開口部９１２ｄから溢れるおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部９１２ｄによる段差が大きくなり、有機物バンク層９１２ｂ上に形成する陰極８４２のステップガバレッジを確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層９１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、駆動用の薄膜トランジスタ９２３との絶縁を高めることができる点でより好ましい。
【０３１５】
また、バンク部９１２には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域が形成されている。
親液性を示す領域は、無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅ及び画素電極９１１の電極面９１１ａであり、これらの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領域は、上部開口部９１２ｄの壁面及び有機物バンク層９１２の上面９１２ｆであり、これらの領域は、４フッ化メタン、テトラフルオロメタン、もしくは四フッ化炭素を処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）されている。尚、有機物バンク層は、フッ素ポリマーを含有する材料により形成しても良い。
【０３１６】
次に図５６に示すように、機能層９１０は、画素電極９１１上に積層された正孔注入／輸送層９１０ａと、正孔注入／輸送層９１０ａ上に隣接して形成された発光層９１０ｂとから構成されている。なお、発光層９１０ｂに隣接して電子注入輸送層などの機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。
【０３１７】
正孔注入／輸送層９１０ａは、正孔を発光層９１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層９１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層９１０ａを画素電極９１１と発光層９１０ｂの間に設けることにより、発光層９１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層９１０ｂでは、正孔注入／輸送層９１０ａから注入された正孔と、陰極８４２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が得られる。
【０３１８】
正孔注入／輸送層９１０ａは、下部開口部９１２ｃ内に位置して画素電極面９１１ａ上に形成される平坦部９１０ａ１と、上部開口部９１２ｄ内に位置して無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上に形成される周縁部９１０ａ２から構成されている。また、正孔注入／輸送層９１０ａは、構造によっては、画素電極９１１上であって、且つ無機物バンク層９１０ａの間（下部開口部９１０ｃ）にのみ形成されている（前述に記載した平坦部にのみ形成される形態もある）。
この平坦部９１０ａ１は、その厚さが一定で例えば５０〜７０ｎｍの範囲に形成される。
【０３１９】
周縁部９１０ａ２が形成される場合においては、周縁部９１０ａ２は、第１積層部９１２ｅ上に位置するとともに上部開口部９１２ｄの壁面、即ち有機物バンク層９１２ｂに密着している。また、周縁部９１０ａ２の厚さは、電極面９１１ａに近い側で薄く、電極面９１１ａから離れる方向に沿って増大し、下部開口部９１２ｄの壁面近くで最も厚くなっている。
【０３２０】
周縁部９１０ａ２が上記の様な形状を示す理由としては、正孔注入／輸送層９１０ａが、正孔注入／輸送層形成材料及び極性溶媒を含む第１組成物を開口部９１２内に吐出してから極性溶媒を除去して形成されたものであり、極性溶媒の揮発が主に無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上で起こり、正孔注入／輸送層形成材料がこの第１積層部９１２ｅ上に集中的に濃縮・析出されたためである。
【０３２１】
また発光層９１０ｂは、正孔注入／輸送層９１０ａの平坦部９１０ａ１及び周縁部９１０ａ２上に渡って形成されており、平坦部９１２ａ１上での厚さが５０〜８０ｎｍの範囲とされている。
発光層９１０ｂは、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層９１０ｂ１、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層９１０ｂ２、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層９１０ｂ３、の３種類を有し、各発光層９１０ｂ１〜９１０ｂ３がストライプ配置されている。
【０３２２】
上記のように、正孔注入／輸送層９１０ａの周縁部９１０ａ２が上部開口部９１２ｄの壁面（有機物バンク層９１２ｂ）に密着しているので、発光層９１０ｂが有機物バンク層９１２ｂに直接に接することがない。従って、有機物バンク層９１２ｂに不純物として含まれる水が発光層９１０ｂ側に移行するのを、周縁部９１０ａ２によって阻止することができ、水による発光層９１０ｂの酸化を防止できる。
【０３２３】
また、無機物バンク層の第１積層部９１２ｅ上に不均一な厚さの周縁部９１０ａ２が形成されるため、周縁部９１０ａ２が第１積層部９１２ｅによって画素電極９１１から絶縁された状態となり、周縁部９１０ａ２から発光層９１０ｂに正孔が注入されることがない。これにより、画素電極９１１からの電流が平坦部９１２ａ１のみに流れ、正孔を平坦部９１２ａ１から発光層９１０ｂに均一に輸送させることができ、発光層９１０ｂの中央部分のみを発光させることができるとともに、発光層９１０ｂにおける発光量を一定にすることができる。
【０３２４】
また、無機物バンク層９１２ａが有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に更に延出されているので、この無機物バンク層９１２ａによって画素電極９１１と平坦部９１０ａ１との接合部分の形状をトリミングすることができ、各発光層９１０ｂ間の発光強度のばらつきを抑えることができる。
【０３２５】
更に、画素電極９１１の電極面９１１ａ及び無機物バンク層の第１積層部９１２ｅが親液性を示すので、機能層９１０が画素電極９１１及び無機物バンク層９１２ａに均一に密着し、無機物バンク９１２ａ上で機能層９１０が極端に薄くならず、画素電極９１１と陰極８４２との短絡を防止できる。
また、有機物バンク層９１２ｂの上面９１２ｆ及び上部開口部９１２ｄ壁面が撥液性を示すので、機能層９１０と有機物バンク層９１２ｂとの密着性が低くなり、機能層９１０が開口部９１２ｇから溢れて形成されることがない。
【０３２６】
尚、正孔注入／輸送層形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用いることができる。また、発光層９１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
【０３２７】
次に陰極８４２は、発光素子部８４１の全面に形成されており、画素電極９１１と対になって機能層９１０に電流を流す役割を果たす。この陰極８４２は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層９１０ｂに直接に接して発光層９１０ｂに電子を注入する役割を果たす。また、フッ化リチウムは発光層の材料によっては効率よく発光させるために、発光層９１０と陰極８４２との間にＬｉＦを形成する場合もある。
【０３２８】
尚、赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、１９１０ｂ２にはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用いても良い。従ってこの場合は青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３のみにフッ化リチウムからなる層を形成し、他の赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２にはフッ化リチウム以外のものを積層しても良い。また、赤色及び緑色の発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２上にはフッ化リチウムを形成せず、カルシウムのみを形成しても良い。
尚、フッ化リチウムの厚さは、例えば２〜５ｎｍの範囲が好ましく、特に２ｎｍ程度がよい。またカルシウムのの厚さは、例えば２〜５０ｎｍの範囲が好ましく、特に２０ｎｍ程度がよい。
【０３２９】
また、陰極８４２を形成するアルミニウムは、発光層９１０ｂから発した光を基体８３２側に反射させるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００ｎｍ程度がよい。
更にアルミニウム上にＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層を設けても良い。
尚、このように形成した発光素子上に封止缶６０４を配置する。図５５（ｂ）に示すように、封止缶６０４を封止樹脂６０３により接着し、表示装置８３１を形成する。
【０３３０】
〔表示装置の製造方法〕
次に、本実施形態の表示装置の製造方法を図面を参照して説明する。
本実施形態の表示装置８３１の製造方法は、例えば、（１）バンク部形成工程、（２）プラズマ処理工程（親液化工程及び撥液化工程を含む）、（３）正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）、（４）発光層形成工程（機能層形成工程）、（５）対向電極形成工程、及び（６）封止工程とを具備して構成されている。なお、製造方法はこれに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０３３１】
（１）バンク部形成工程
バンク部形成工程では、基体８３２の所定の位置にバンク部９１２を形成する工程である。バンク部９１２は、第１のバンク層として無機物バンク層９１２ａが形成されてなり、第２のバンク層として有機物バンク層９１２ｂが形成された構造である。以下に形成方法について説明する。
【０３３２】
（１）−１無機物バンク層の形成
まず、図５７に示すように、基体上の所定の位置に無機物バンク層９１２ａを形成する。無機物バンク層９１２ａが形成される位置は、第２層間絶縁膜１４４ｂ上及び電極（ここでは画素電極）９１１上である。なお、第２層間絶縁膜１４４ｂは薄膜トランジスタ、走査線、信号線、等が配置された回路素子部８４４上に形成されている。
【０３３３】
無機物バンク層９１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機物膜を材料として用いることができる。これらの材料は、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成される。
更に、無機物バンク層９１２ａの膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。
【０３３４】
無機物バンク層９１２は、層間絶縁層９１４及び画素電極９１１の全面に無機物膜を形成し、その後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、開口部を有する無機物バンク層９１２が形成される。開口部は、画素電極９１１の電極面９１１ａの形成位置に対応するもので、図５７に示すように下部開口部９１２ｃとして設けられる。
このとき、無機物バンク層９１２ａは画素電極９１１の周縁部（一部）と重なるように形成される。図５７に示すように、画素電極９１１の一部と無機物バンク層９１２ａとが重なるように無機物バンク層９１２ａを形成することにより、発光層９１０の発光領域を制御することができる。
【０３３５】
（１）−２有機物バンク層９１２ｂの形成
次に、第２バンク層としての有機物バンク層９１２ｂを形成する。
図５８に示すように、無機物バンク層９１２ａ上に有機物バンク層９１２ｂを形成する。有機物バンク層９１２ｂとして、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材料を用い、有機物バンク層９１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。なお、パターニングする際、有機物バンク層９１２ｂに上部開口部９１２ｄを形成する。上部開口部９１２ｄは、電極面９１１ａ及び下部開口部９１２ｃに対応する位置に設けられる。
【０３３６】
上部開口部９１２ｄは、図５８に示すように、無機物バンク層９１２ａに形成された下部開口部９１２ｃより広く形成する事が好ましい。更に、有機物バンク層９１２ｂはテーパーを有する形状が好ましく、有機物バンク層の開口部が画素電極９１１の幅より狭く、有機物バンク層９１２ｂの最上面では画素電極９１１の幅とほぼ同一の幅になるように有機物バンク層を形成する事が好ましい。これにより、無機物バンク層９１２ａの下部開口部９１２ｃを囲む第１積層部９１２ｅが、有機物バンク層９１２ｂよりも画素電極９１１の中央側に延出された形になる。
このようにして、有機物バンク層９１２ｂに形成された上部開口部９１２ｄ、無機物バンク層９１２ａに形成された下部開口部９１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂを貫通する開口部９１２ｇが形成される。
【０３３７】
なお、有機物バンク層９１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。このような範囲とする理由は以下の通りである。
すなわち、厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層９１２ｂが薄くなり、発光層９１０ｂが上部開口部９１２ｄから溢れてしまうおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部９１２ｄによる段差が大きくなり、上部開口部９１２ｄにおける陰極８４２のステップガバレッジが確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層９１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、陰極８４２と駆動用の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる点で好ましい。
【０３３８】
（２）プラズマ処理工程
次にプラズマ処理工程では、画素電極９１１の表面を活性化すること、更にバンク部９１２の表面を表面処理する事を目的として行われる。特に活性化工程では、画素電極９１１（ＩＴＯ）上の洗浄、更に仕事関数の調整を主な目的として行っている。更に、画素電極９１１の表面の親液化処理（親液化工程）、バンク部９１２表面の撥液化処理（撥液化工程）を行う。
【０３３９】
このプラズマ処理工程は、例えば（２）−１予備加熱工程、（２）−２活性化処理工程（親液化工程）、（２）−３撥液化処理工程（親液化工程）、及び（２）−４冷却工程とに大別される。なお、このような工程に限られるものではなく、必要に応じて工程を削減、更なる工程追加も行われる。
【０３４０】
まず、図５９は、プラズマ処理工程で用いられるプラズマ処理装置を示す。
図５９に示すプラズマ処理装置８５０は、予備加熱処理室８５１、第１プラズマ処理室８５２、第２プラズマ処理室８５３、冷却処理室８５４、これらの各処理室８５１〜８５４に基体８３２を搬送する搬送装置８５５とから構成されている。各処理室８５１〜８５４は、搬送装置８５５を中心として放射状に配置されている。
まず、これらの装置を用いた概略の工程を説明する。
【０３４１】
予備加熱工程は、図５９に示す予備加熱処理室８５１において行われる。そしてこの処理室８５１により、バンク部形成工程から搬送された基体８３２を所定の温度に加熱する。
予備加熱工程の後、親液化工程及び撥液化処理工程を行う。すなわち、基体は第１，第２プラズマ処理室８５２，８５３に順次搬送され、それぞれの処理室８５２，８５３においてバンク部９１２にプラズマ処理を行い親液化する。この親液化処理後に撥液化処理を行う。撥液化処理の後に基体を冷却処理室に搬送し、冷却処理室８５４おいて基体を室温まで冷却する。この冷却工程後、搬送装置により次の工程である正孔注入／輸送層形成工程に基体を搬送する。
【０３４２】
以下に、それぞれの工程について詳細に説明する。
（２）−１予備加熱工程
予備加熱工程は予備加熱処理室８５１により行う。この処理室８５１において、バンク部９１２を含む基体８３２を所定の温度まで加熱する。
基体８３２の加熱方法は、例えば処理室８５１内にて基体８３２を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基体８３２を加熱する手段がとられている。なお、これ以外の方法を採用することも可能である。
【０３４３】
予備加熱処理室８５１において、例えば７０℃〜８０℃の範囲に基体８３２を加熱する。この温度は次工程であるプラズマ処理における処理温度であり、次の工程に合わせて基体８３２を事前に加熱し、基体８３２の温度ばらつきを解消することを目的としている。
仮に予備加熱工程を加えなければ、基体８３２は室温から上記のような温度に加熱されることになり、工程開始から工程終了までのプラズマ処理工程中において温度が常に変動しながら処理される事になる。したがって、基体温度が変化しながらプラズマ処理を行うことは、有機ＥＬ素子の特性の不均一につながる可能性がある。したがって、処理条件を一定に保ち、均一な特性を得るために予備加熱を行うのである。
そこで、プラズマ処理工程においては、第１，第２プラズマ処理装置８５２，８５３内の試料ステージ上に基体８３２を載置した状態で親液化工程または撥液化工程を行う場合に、予備加熱温度を、親液化工程または撥液化工程を連続して行う試料ステージ８５６の温度にほぼ一致させることが好ましい。
【０３４４】
そこで、第１，第２プラズマ処理装置８５２，８５３内の試料ステージが上昇する温度、例えば７０〜８０℃まで予め基体８３２を予備加熱することにより、多数の基体にプラズマ処理を連続的に行った場合でも、処理開始直後と処理終了直前でのプラズマ処理条件をほぼ一定にすることができる。これにより、基体８３２の表面処理条件を同一にし、バンク部９１２の組成物に対する濡れ性を均一化することができ、一定の品質を有する表示装置を製造することができる。
また、基体８３２を予め予備加熱しておくことにより、後のプラズマ処理における処理時間を短縮することができる。
【０３４５】
（２）−２活性化処理（親液化工程）
つぎに第１プラズマ処理室５２では、活性化処理が行われる。活性化処理には、画素電極９１１における仕事関数の調整、制御、画素電極表面の洗浄、画素電極表面の親液化工程が含まれる。
親液化工程として、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。図６０には第１プラズマ処理を模式的に示した図である。図６０に示すように、バンク部９１２を含む基体８３２は加熱ヒータ内臓の試料ステージ８５６上に載置され、基体８３２の上側にはギャップ間隔０．５〜２ｍｍ程度の距離をおいてプラズマ放電電極８５７が基体８３２に対向して配置されている。基体８３２は、試料ステージ８５６によって加熱されつつ、試料ステージ８５６は図示矢印方向に向けて所定の搬送速度で搬送され、その間に基体８３２に対してプラズマ状態の酸素が照射される。
【０３４６】
Ｏ２プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、酸素ガス流量５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、板搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、試料ステージ８５６による加熱は、主として予備加熱された基体８３２の保温のために行われる。
【０３４７】
このＯ２プラズマ処理により、図６１に示すように、画素電極９１１の電極面９１１ａ、無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅ及び有機物バンク層９１２ｂの上部開口部９１２ｄの壁面ならびに上面９１２ｆが親液処理される。この親液処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
図６１では、親液処理された部分を一点鎖線で示している。
なお、このＯ２プラズマ処理は、親液性を付与するのみならず、上述の通り画素電極であるＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねている。
【０３４８】
（２）−３撥液処理工程（撥液化工程）
つぎに、第２プラズマ処理室８５３では、撥液化工程として、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。第２プラズマ処理室８５３の内部構造は図６０に示した第１プラズマ処理室８５２の内部構造と同じである。即ち、基体８３２は、試料ステージによって加熱されつつ、試料ステージごと所定の搬送速度で搬送され、その間に基体８３２に対してプラズマ状態のテトラフルオロメタン（四フッ化炭素）が照射される。
【０３４９】
ＣＦ４プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、４フッ化メタンガス流量５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、基体搬送速度０．５〜１０２０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、加熱ステージによる加熱は、第１プラズマ処理室８５２の場合と同様に、主として予備加熱された基体８３２の保温のために行われる。
なお、処理ガスは、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることができる。
【０３５０】
ＣＦ４プラズマ処理により、図６２に示すように、上部開口部９１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面９１２ｆが撥液処理される。この撥液処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。図６２では、撥液性を示す領域を二点鎖線で示している。有機物バンク層９１２ｂを構成するアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機物はプラズマ状態のフルオロカーボンが照射することで容易に撥液化させることができる。また、Ｏ２プラズマにより前処理した方がフッ素化されやすい、という特徴を有しており、本実施形態には特に有効である。
尚、画素電極９１１の電極面９１１ａ及び無機物バンク層９１２ａの第１積層部９１２ｅもこのＣＦ４プラズマ処理の影響を多少受けるが、濡れ性に影響を与える事は少ない。図６２では、親液性を示す領域は一点鎖線で示されている。
【０３５１】
（２）−４冷却工程
次に冷却工程として、冷却処理室８５４を用い、プラズマ処理のために加熱された基体８３２を管理温度まで冷却する。これは、この以降の工程である液滴吐出工程（機能層形成工程）の管理温度まで冷却するために行う工程である。
この冷却処理室８５４は、基体８３２を配置するためのプレートを有し、そのプレートは基体８３２を冷却するように水冷装置が内蔵された構造となっている。また、プラズマ処理後の基体８３２を室温、または所定の温度（例えば液滴吐出工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程において、基体８３２の温度が一定となり、基体８３２の温度変化が無い均一な温度で次工程を行うことができる。したがって、このような冷却工程を加えることにより、液滴吐出法等の吐出手段により吐出された材料を均一に形成できる。
例えば、正孔注入／輸送層を形成するための材料を含む第１組成物を吐出させる際に、第１組成物を一定の容積で連続して吐出させることができ、正孔注入／輸送層を均一に形成することができる。
【０３５２】
上記のプラズマ処理工程では、材質が異なる有機物バンク層９１２ｂ及び無機物バンク層９１２ａに対して、Ｏ２プラズマ処理とＣＦ４プラズマ処理とを順次行うことにより、バンク部９１２に親液性の領域と撥液性の領域を容易に設けることができる。
【０３５３】
尚、プラズマ処理工程に用いるプラズマ処理装置は、図５９に示したものに限られず、例えば図６３に示すようなプラズマ処理装置８６０を用いてもよい。
図６３に示すプラズマ処理装置８６０は、予備加熱処理室８６１と、第１プラズマ処理室８６２と、第２プラズマ処理室８６３と、冷却処理室８６４と、これらの各処理室８６１〜８６４に基体８３２を搬送する搬送装置８６５とから構成され、各処理室８６１〜８６４が、搬送装置８６５の搬送方向両側（図中矢印方向両側）に配置されてなるものである。
【０３５４】
このプラズマ処理装置８６０では、図５９に示したプラズマ処理装置８５０と同様に、バンク部形成工程から搬送された基体８３２を、予備加熱処理室８６１、第１，第２プラズマ処理室８６２，８６３、冷却処理室８６４に順次搬送して各処理室にて上記と同様な処理を行った後、基体８３２を次の正孔注入／輸送層形成工程に搬送する。
また，上記プラズマ装置は，大気圧下の装置でなくとも，真空下のプラズマ装置を用いても良い。
【０３５５】
（３）正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）
正孔注入／輸送層形成工程では、液滴吐出としてたとえば液滴吐出装置を用いることにより、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（組成物）を電極面９１１ａ上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極９１１上及び無機物バンク層９１２ａ上に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する。なお、正孔注入／輸送層９１０ａが形成された無機物バンク層９１２ａをここでは第１積層部９１２ｅという。
この正孔注入／輸送層形成工程を含めこれ以降の工程は、水、酸素の無い雰囲気とする事が好ましい。例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
【０３５６】
なお、正孔注入／輸送層９１０ａは第１積層部９１２ｅ上に形成されないこともある。すなわち、画素電極９１１上にのみ正孔注入／輸送層が形成される形態もある。
液滴吐出による製造方法は以下の通りである。
本実施形態の表示装置の製造方法に好適に用いられる液滴吐出ヘッドとしては、先の実施形態の図２３に示すヘッドユニット４２０とほぼ同様の基本構成を備えたヘッドユニット９２０（図６４参照）を用いることができる。更に、基体と上記のヘッドユニット９２０の配置に関しては図６４のように配置することが好ましい。
【０３５７】
図６４に示す液滴吐出装置には、図２３に示すものとほぼ同様の構成のヘッドユニット９２０が備えられている。また符号１１１５は基体８３２を載置するステージであり、符号１１１６はステージ１１１５を図中ｘ軸方向（主走査方向）に案内するガイドレールである。またヘッドユニット９２０は、支持部材１１１１を介してガイドレール１１１３により図中ｙ軸方向（副走査方向）に移動できるようになっており、更にヘッドユニット９２０は図中θ軸方向に回転できるようになっており、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に対して所定の角度に傾けることができるようになっている。
【０３５８】
図６４に示す基体８３２は、マザー基板に複数のチップを配置した構造となっている。即ち、１チップの領域が１つの表示装置に相当する。ここでは、３つの表示領域８３２ａが形成されているが、これに限られるものではない。例えば、基体８３２上の左側の表示領域８３２ａに対して組成物を塗布する場合は、ガイドレール１１１３を介してヘッドＨを図中左側に移動させるとともに、ガイドレール１１１６を介して基体８３２を図中上側に移動させ、基体８３２を走査させながら塗布を行う。次に、ヘッド９２１を図中右側に移動させて基体の中央の表示領域８３２ａに対して組成物を塗布する。右端にある表示領域８３２ａに対しても前記と同様である。
尚、ヘッドユニット９２０及び図６４に示す液滴吐出装置は、正孔注入／輸送層形成工程のみならず、発光層形成工程にも用いることができる。
【０３５９】
図６５には、基体８３２に対してインクジェットヘッド９２１を走査させた状態を示す。図６５に示すように、インクジェットヘッド９２１は、図中Ｘ方向に沿う方向に相対的に移動しながら第１組成物を吐出するが、その際、ノズルｎの配列方向Ｚが、主走査方向（Ｘ方向に沿う方向）に対して傾斜した状態になっている。このように、インクジェットヘッド９２１におけるノズルｎの配列方向を主走査方向に対して傾けて配置することにより、ノズルピッチを画素領域Ａのピッチに対応させることができる。また、傾き角度調整することにより、どのような画素領域Ａのピッチに対しても対応させることができる。
【０３６０】
次に、インクジェットヘッド９２１を走査して各画素領域Ａ…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する工程について説明する。この工程には、（３）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法、（２）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（３）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（１）〜（３）の方法を順次説明する。
【０３６１】
（１）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法
図６６は、インクジェットヘッド９２１の１回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６６（ａ）は、インクジェットヘッド９２１が図６５における位置から図示Ｘ方向に沿って走査した後の状態を示し、図６６（ｂ）は図６６（ａ）に示す状態からインクジェットヘッド９２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトした状態を示し、図６６（ｃ）は図６６（ｂ）に示す状態からインクジェットヘッド９２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向にシフトした状態を示している。また図６９には画素領域Ａ及びインクジェットヘッドの断面模式図を示している。図６６には、インクジェットヘッド９２１の一部に設けられた符号ｎ１ａ〜ｎ３ｂで表される６つのノズルが図示されている。６つのノズルのうちのノズルｎ１ａ、ｎ２ａ、ｎ３ａの３つは、インクジェットヘッド９２１が図示Ｘ方向に移動した場合に各画素領域Ａ１〜Ａ３上にそれぞれ位置するように配置されており、残りの３つのノズルｎ１ｂ、ｎ２ｂ、ｎ３ｂは、インクジェットヘッド９２１が図示Ｘ方向に移動した場合に隣接する画素領域Ａ１〜Ａ３の間に位置するように配置されている。
【０３６２】
図６６（ａ）では、インクジェットヘッド９２１に形成された各ノズルのうち、３つのノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域Ａ１〜Ａ３に吐出する。尚、本実施形態ではインクジェットヘッド９２１を走査することにより第１組成物を吐出するが、基体８３２を走査することによっても可能である。更に、インクジェットヘッド９２１と基体８３２とを相対的に移動させることによっても第１組成物を吐出させることができる。なお、これ以降の液滴吐出ヘッドを用いて行う工程では上記の点は同様である。
【０３６３】
インクジェットヘッド９２１による吐出は以下の通りである。すなわち、図６６（ａ）及び図６９に示すように、インクジェットヘッド９２１に形成されてなるノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを電極面９１１ａに対向して配置し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから最初の第１組成物の液滴９１０ｃ１を吐出する。画素領域Ａ１〜Ａ３は、画素電極９１１と当該画素電極９１１の周囲を区画するバンク９１２から形成されており、これらの画素領域Ａ１〜Ａ３に対し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから１滴当たりの液量が制御された最初の第１組成物の液滴９１０ｃ１を吐出する。
【０３６４】
次に図６６（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域Ａ１〜Ａ３上に位置させる。そして、各ノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の２滴目の液滴９１０ｃ２を画素領域Ａ１〜Ａ３に向けて吐出する。
【０３６５】
更に図６６（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向にシフトさせることによってノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを再び各画素領域Ａ１〜Ａ３上に位置させる。そして、各ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから第１組成物の３滴目の液滴９１０ｃ３を画素領域Ａ１〜Ａ３に向けて吐出する。
【０３６６】
このようにして、インクジェットヘッド９２１を図示Ｘ方向に沿って走査させつつ、図示Ｙ方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａに対して２つのノズルから第１組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面９１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０３６７】
このように、１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、第１組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３６８】
（２）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
図６７は、インクジェットヘッド９２１の３回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６７（ａ）は、インクジェットヘッド９２１による１回目の走査後の状態を示し、図６７（ｂ）は２回目の走査後の状態を示し、図４２（ｃ）は３回目の走査後の状態を示す。
【０３６９】
１回目の走査では、図６６に示したインクジェットヘッド９２１の各ノズルのうち、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の最初の液滴９１０ｃ１を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の２滴目の液滴９１０ｃ２を吐出する。これにより、図６７（ａ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に２つの液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２が吐出される。各液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２は、図６７（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０３７０】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の３滴目の液滴９１０ｃ３を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の４滴目の液滴９１０ｃ４を吐出する。これにより図６７（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に２つの液滴９１０ｃ３，９１０ｃ４が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴９１０ｃ３，９１０ｃ４は、図６７（ｂ）に示すように、１滴目及び２滴目の液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３７１】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の５滴目の液滴９１０ｃ５を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第１組成物の６滴目の液滴９１０ｃ６を吐出する。これにより図６７（ｃ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に２つの液滴９１０ｃ５，９１０ｃ６が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴９１０ｃ５，９１０ｃ６は、図６７（ｃ）に示すように、他の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ４と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３７２】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３７３】
（３）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
図６８は、インクジェットヘッド９２１の２回の走査で各画素領域Ａ１…に正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図６８（ａ）は、インクジェットヘッド９２１による１回目の走査後の状態を示し、図６８（ｂ）は２回目の走査後の状態を示す。更に図６８（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。
【０３７４】
１回目の走査では、図６６に示したインクジェットヘッド９２１の各ノズルのうち、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の最初の液滴９１０ｃ１、２、３滴目の液滴９１０ｃ２、９１０ｃ３を順次吐出する。これにより、図６６（ａ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に３つの液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２、９１０ｃ３が吐出される。各液滴９１０ｃ１，９１０ｃ２、９１０ｃ３は、図６６（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０３７５】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂ各画素領域Ａ１〜Ａ３に対向させて第１組成物の４、５，６滴目の液滴９１０ｃ４、９１０ｃ５、９１０ｃ６を順次吐出する。これにより図６８（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ１〜Ａ３に更に３つの液滴９１０ｃ４，９１０ｃ５，９１０ｃ６が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴９１０ｃ４，９１０ｃ５、９１０ｃ６は、図６８（ｂ）に示すように、１〜３滴目の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３に重ねて吐出しても良い。
【０３７６】
更に図６８（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。図６８（ｃ）においては、走査回数を２回とし、１回目の走査で１〜３滴目の液滴を吐出し、２回目の走査でインクジェットヘッド９２１をシフトさせて別のノズルから４〜６滴目の液滴を吐出する点については、図６８（ａ）及び（ｂ）の場合と同様である。図６８（ａ）及び（ｂ）との相違点は、各液滴の吐出位置が異なることである。即ち図６８（ｃ）では、１回目の走査により各画素領域Ａ１〜Ａ３の図中下半分の領域に液滴９１０ｃ１〜９１０ｃ３を吐出し、２回目の走査により各画素領域Ａ１〜Ａ３の図中上半分の領域に液滴９１０ｃ４〜９１０ｃ６を吐出している。
【０３７７】
尚、図６７及び図６８においては、一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面９１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０３７８】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ１〜Ａ３に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１つの画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極９１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド９２１の走査を複数回行う際には、インクジェットヘッド９２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０３７９】
図６９に示すように、インクジェットヘッド９２１から吐出された第１組成物の液滴９１０ｃは、最終的には親液処理された電極面９１１ａ及び第１積層部９１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に充填される。仮に、第１組成物の液滴９１０ｃが所定の吐出位置からはずれて上面９１２ｆ上に吐出されたとしても、上面９１２ｆが第１組成物滴９１０ｃで濡れることがなく、はじかれた第１組成物滴９１０ｃが下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に滑り込む。
【０３８０】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
より具体的な第１組成物の組成としては、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ＝１：２０）：２２．４重量％、ＰＳＳ：１．４４重量％、ＩＰＡ：１０重量％、ＮＭＰ：２７．０重量％、ＤＭＩ：５０重量％のものを例示できる。尚、第１組成物の粘度は２〜２０ｃＰｓ程度が好ましく、特に４〜１２ｃＰｓ程度が良い。
【０３８１】
上記の第１組成物を用いることにより、吐出ノズルＨ２に詰まりが生じることがなく安定吐出できる。
なお、正孔注入／輸送層形成材料は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光層９１０ｂ１〜９１０ｂ３に対して同じ材料を用いても良く、各発光層毎に変えても良い。
【０３８２】
次に、図７０に示すような乾燥工程を行う。乾燥工程を行う事により、吐出後の第１組成物を乾燥処理し、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、正孔注入／輸送層９１０ａを形成する。
乾燥処理を行うと、第１組成物滴９１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層９１２ａ及び有機物バンク層９１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０３８３】
これにより図７０に示すように、第１積層部９１２ｅ上に、正孔注入／輸送層形成材料からなる周縁部９１０ａ２が形成される。この周縁部９１０ａ２は、上部開口部９１２ｄの壁面（有機物バンク層９１２ｂ）に密着しており、その厚さが電極面９１１ａに近い側では薄く、電極面９１１ａから離れた側、即ち有機物バンク層９１２ｂに近い側で厚くなっている。
【０３８４】
また、これと同時に、乾燥処理によって電極面９１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面９１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部９１０ａ１が形成される。電極面９１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面９１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部９１０ａが形成される。
このようにして、周縁部９１０ａ２及び平坦部９１０ａ１からなる正孔注入／輸送層９１０ａが形成される。
なお、周縁部９１０ａ２には形成されず、電極面９１１ａ上のみに正孔注入／輸送層が形成される形態であっても構わない。
【０３８５】
上記の乾燥処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度にして行う。急激に圧力を低下させると第１組成物滴９１０ｃが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にしてしまうと、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。したがって、３０℃〜８０℃の範囲が好ましい。
乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１０分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入／輸送層９１０ａ内に残存する極性溶媒や水を除去することが好ましい。
【０３８６】
上記の正孔注入／輸送層形成工程では、吐出された第１組成物滴９１０ｃが、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に満たされる一方で、撥液処理された有機物バンク層９１２ｂで第１組成物がはじかれて下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に転がり込む。これにより、吐出した第１組成物滴９１０ｃを必ず下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に充填することができ、電極面９１１ａ上に正孔注入／輸送層９１０ａを形成することができる。
【０３８７】
また、上記の正孔注入／輸送層形成工程によれば、各画素領域Ａごとに最初に吐出する第１組成物の液滴９１０ｃ１を有機物バンク層９１２ｂの壁面９１２ｈに接触させるので、この液滴が壁面９１２ｈから第１積層部９１２ｅ及び電極面９１１ａに転がり込むため、第１組成物の液滴９１０ｃを画素電極９１１の周囲に優先的に濡れ広げて第１組成物をむらなく塗布することができ、これにより正孔注入輸送層９１０ａをほぼ均一な膜厚で形成できる。
【０３８８】
（４）発光層形成工程
次に発光層形成工程は、表面改質工程、発光層形成材料吐出工程、および乾燥工程、とからなる。
まず、正孔注入／輸送層９１０ａの表面を表面改質するために表面改質工程を行う。この工程については、以下に詳述する。次に、前述の正孔注入／輸送層形成工程と同様、液滴吐出法により第２組成物を正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出する。その後、吐出した第２組成物を乾燥処理（及び熱処理）して、正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。
【０３８９】
次に発光層形成工程として、液滴吐出法により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出した後に乾燥処理して、正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。
図７１に、液滴吐出方法の概略を示す。図４６に示すように、インクジェットヘッド４３１と基体８３２とを相対的に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズルから各色（たとえばここでは青色（Ｂ））発光層形成材料を含有する第２組成物が吐出される。
吐出の際には、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層９１０ａに吐出ノズルを対向させ、インクジェットヘッド９２１と基体８３２とを相対移動させながら、第２組成物が吐出される。吐出ノズルから吐出される液量は１滴当たりの液量が制御されている。このように液量が制御された液（第２組成物滴９１０ｅ）が吐出ノズルから吐出され、この第２組成物滴９１０ｅを正孔注入／輸送層９１０ａ上に吐出する。
【０３９０】
発光層形成工程は、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、１つの画素領域に対して複数のノズルにより第２組成物の吐出を行う。
即ち、図６６、図６７及び図６８に示した場合と同様に、インクジェットヘッド９２１を走査して各正孔注入／輸送層９１０ａ上に発光層９１０ｂを形成する。この工程には、（４）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法、（５）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（６）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（４）〜（６）の方法を簡略に説明する。
【０３９１】
（４）インクジェットヘッド９２１の走査を１回で行う方法
この方法では、図６６の場合と同様に、インクジェットヘッド９２１の１回の走査で画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ上）に発光層を形成する。即ち、図６６（ａ）と同様に、インクジェットヘッド９２１のノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各正孔注入／輸送層９１０ａに対向して配置し、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから最初の第２組成物の液滴を吐出する。次に図６６（ｂ）と同様に、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各正孔注入／輸送層９１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。更に図６６（ｃ）と同様に、液滴吐出ヘッドＨ５を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向にシフトさせることによってノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを再び各正孔注入／輸送層９１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａから第２組成物の３滴目の液滴を各正孔注入／輸送層９１０ａに向けて吐出する。
【０３９２】
このようにして、インクジェットヘッド９２１を主走査方向に沿って走査させつつ、副走査方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａ（正孔注入／輸送層９１０ａ）に対して２つのノズルから第２組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域に対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０３９３】
このように、１回の走査で発光層を形成する場合において、第２組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、画素領域に対して２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３９４】
（５）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
この方法では、まず図６７（ａ）と同様に、１回目の走査として、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂを各画素領域に対向させて第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。これにより、図６７（ａ）と同様に、各画素領域に２つの液滴が吐出される。各液滴は、図６７（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０３９５】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の３滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の４滴目の液滴を吐出する。これにより図６７（ｂ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴は、１滴目及び２滴目の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３９６】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の５滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂから第２組成物の６滴目の液滴を吐出する。これにより図６７（ｃ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴は、他の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０３９７】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０３９８】
（６）インクジェットヘッド９２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
この方法では、まず図６８（ａ）と同様に、１回目の走査において、インクジェットヘッド９２１のノズルｎ１ａ〜ｎ３ａを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴及び２、３滴目の液滴を順次吐出する。これにより、図６８（ａ）と同様に、各画素領域に３つの液滴が吐出される。各液滴は、図６８（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０３９９】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド９２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ１ｂ〜ｎ３ｂ各画素領域に対向させて第２組成物の４、５，６滴目の液滴を順次吐出する。これにより図６８（ｂ）と同様に、各画素領域に更に３つの液滴が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴は、１〜３滴目の液滴の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴に重ねて吐出しても良い。
【０４００】
更に別の方法として、図６８（ｃ）と同様に、１回目の走査により各画素領域の半分の領域に液滴を吐出し、２回目の走査により各画素領域のもう半分の領域に液滴を吐出してもよい。
尚、１つの画素領域に対して吐出する第２組成物の液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層９１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０４０１】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド９２１の走査を複数回行う際には、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、インクジェットヘッド９２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０４０２】
また、発光層９１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層９１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。
このような非極性溶媒を発光層９１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層９１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０４０３】
図７１に示すように、吐出された第２組成物９１０ｅは、正孔注入／輸送層９１０ａ上に広がって下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に満たされる。その一方で、撥液処理された上面９１２ｆでは第１組成物滴９１０ｅが所定の吐出位置からはずれて上面９１２ｆ上に吐出されたとしても、上面９１２ｆが第２組成物滴９１０ｅで濡れることがなく、第２組成物滴９１０ｅが下部、上部開口部９１２ｃ、９１２ｄ内に転がり込む。
【０４０４】
次に、第２の組成物を所定の位置に吐出し終わった後、吐出後の第２組成物滴９１０ｅを乾燥処理することにより発光層９１０ｂ３が形成される。すなわち、乾燥により第２組成物に含まれる非極性溶媒が蒸発し、図７２に示すような青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３が形成される。なお、図７２においては青に発光する発光層が１つのみ図示されているが、図５５やその他の図より明らかなように本来は発光素子がマトリックス状に形成されたものであり、図示しない多数の発光層（青色に対応）が形成されている。
【０４０５】
続けて、図７３に示すように、前述した青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３の場合と同様の工程を用い、赤色（Ｒ）発光層９１０ｂ１を形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層９１０ｂ２を形成する。
なお、発光層９１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０４０６】
また、発光層の第２組成物の乾燥条件は、青色９１０ｂ３の場合、例えば、窒素雰囲気中、室温で圧力を１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度として５〜１０分行う条件とする。圧力が低すぎると第２組成物が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高まり、発光層形成材料が上部開口部９１２ｄ壁面に多く付着してしまうので好ましくない。好ましくは、３０℃〜８０℃の範囲が良い。
また緑色発光層９１０ｂ２、および赤色発光層ｂ１の場合、発光層形成材料の成分数が多いために素早く乾燥させることが好ましく、例えば、４０℃で窒素の吹き付けを５〜１０分行う条件とするのがよい。その他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素ガス吹付法等を例示できる。
このようにして、画素電極９１１上に正孔注入／輸送層９１０ａ及び発光層９１０ｂが形成される。
【０４０７】
（５）対向電極（陰極）形成工程
次に対向電極形成工程では、図７４に示すように、発光層９１０ｂ及び有機物バンク層９１２ｂの全面に陰極８４２（対向電極）を形成する。なお，陰極８４２は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高い材料、例えばＡｌを用いる事もできる。
これらの陰極８４２は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、熱による発光層９１０ｂの損傷を防止できる点で好ましい。
【０４０８】
また、フッ化リチウムは、発光層９１０ｂ上のみに形成しても良く、更に所定の色に対応して形成する事ができる。例えば、青色（Ｂ）発光層９１０ｂ３上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層９１０ｂ１、９１０ｂ２には、カルシウムからなる上部陰極層１２ｂが接することとなる。
【０４０９】
また陰極８４２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜５００ｎｍ程度がよい。また陰極８４２上に、酸化防止のためにＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０４１０】
（６）封止工程
最後に封止工程は、発光素子が形成された基体８３２と封止基板３ｂとを封止樹脂３ａにより封止する工程である。たとえば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂３ａを基体８３２の全面に塗布し、封止樹脂３ａ上に封止用基板３ｂを積層する。この工程により基体８３２上に封止部３３を形成する。
【０４１１】
封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極８４２にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極８４２に侵入して陰極８４２が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
更に、図５５に例示した基板５の配線３５ａに陰極８４２を接続するとともに、駆動ＩＣ３６に回路素子部４４の配線を接続することにより、本実施形態の表示装置３１が得られる。
【０４１２】
この実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、１つの機能層に対して複数のノズルを用いて液状体の吐出するのて、ノズル間の吐出量のばらつきが相殺され、各電極間における創成物量のばらつきが小さくなり、各機能層の膜厚を揃えることができる。これにより、画素毎の発光量が均一化された表示品質に優れる表示装置を製造することができる。
【０４１３】
（その他の実施の形態）
以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。
【０４１４】
すなわち、例えば、図９および図１０に示したカラーフィルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させてマザー基板１２を主走査し、マザー基板１２を副走査駆動装置２１によって移動させることにより、インクジェットヘッド２２によってマザー基板１２を副走査することにしたが、これとは逆に、マザー基板１２の移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によって副走査を実行することもできる。さらには、インクジェットヘッド２２を移動させずにマザー基板１２を移動させたり、双方を相対的に逆方向に移動させるなど、少なくともいずれか一方を相対的に移動させ、インクジェットヘッド２２がマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動するいずれの構成とすることができる。
【０４１５】
また、上記実施の形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッド４２１を用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッド、例えば加熱により発生するバブルによりインクを吐出する方式のインクジェットヘッドなどを用いることもできる。
【０４１６】
さらに、図２２ないし図３２に示す実施の形態において、インクジェットヘッド４２１として、ノズル４６６を略等間隔で略直線上でかつ２列設けて説明したが、２列に限らず、複数条とすることができる。また、等間隔でなくてもよく、直線上に列をなして配設しなくてもよい。
【０４１７】
そして、液滴吐出装置１６，４０１が製造に使用されるのは、カラーフィルタ１や液晶装置１０１、ＥＬ装置２０１に限定されるものではなく、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：フィールドエミッションディスプレイ）などの電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：プラズマディスプレイパネル）、電気泳動装置すなわち荷電粒子を含有する機能性液状体であるインクを各画素の隔壁間の凹部に吐出し、各画素を上下に挟持するように配設される電極間に電圧を印加して荷電粒子を一方の電極側に寄せて各画素での表示をする装置、薄型のブラウン管、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ：陰極線管）ディスプレイなど、基板（基材）を有しその上方の領域に所定の層を形成する工程を有する様々な電気光学装置に用いることができる。
【０４１８】
本発明の装置や方法は、電気光学装置を含む基板（基材）を有するデバイスであって、その基材に液滴を吐出する工程を用いることができる各種デバイスの製造工程において用いることができる。例えば、プリント回路基板の電気配線を形成するために、液状金属や導電性材料、金属含有塗料などをインクジェット方式にて吐出して金属配線などとする構成、燃料電池を構成する電極やイオン伝導膜等をインクジェット方式にて吐出して形成する構成、基材上に形成される微細なマイクロレンズをインクジェット方式による吐出にて光学部材を形成する構成、基板上に塗布するレジストを必要な部分だけに塗布するようにインクジェット方式にて吐出する構成、プラスチックなどの透光性基板などに光を散乱させる凸部や微小白パターンなどをインクジェット方式にて吐出形成して光散乱板を形成する構成、試薬検査装置などのようにＤＮＡ（ｄｅｏｘｙｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：デオキシリボ核酸）チップ上にマトリクス配列するスパイクスポットにＲＮＡ（ｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：リボ核酸）をインクジェット方式にて吐出させて蛍光標識プローブを作製してＤＮＡチップ上でハイブリタゼーションさせるなど、基材に区画されたドット状の位置に、試料や抗体、ＤＮＡ（ｄｅｏｘｙｒｉｂｏｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ：デオキシリボ核酸）などをインクジェット方式にて吐出させてバイオチップを形成する構成などにも利用できる。
【０４１９】
また、液晶装置１０１としても、ＴＦＴなどのトランジスタやＴＦＤのアクティブ素子を画素に備えたアクティブマトリクス液晶パネルなど、画素電極を取り囲む隔壁６を形成し、この隔壁６にて形成される凹部にインクをインクジェット方式にて吐出してカラーフィルタ１を形成するような構成のもの、画素電極上にインクとして色材および導電材を混合したものをインクジェット方式にて吐出して、画素電極上に形成するカラーフィルタ１を導電性カラーフィルタとして形成する構成、基板間のギャップを保持するためのスペーサの粒をインクジェット方式にて吐出形成する構成など、液晶装置１０１の電気光学系を構成するいずれの部分にも適用可能である。
【０４２０】
さらに、カラーフィルタ１に限られず、ＥＬ装置２０１など、他のいずれの電気光学装置に適用でき、ＥＬ装置２０１としても、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色に対応するＥＬが帯状に形成されるストライプ型や、上述したように、各画素毎に発光層に流す電流を制御するトランジスタを備えたアクティブマトリックス型の表示装置、あるいはパッシブマトリックス型に適用するものなど、いずれの構成でもできる。
【０４２１】
そして、上記各実施の形態の電気光学装置が組み込まれる電子機器としては、例えば図５０に示すようなパーソナルコンピュータ４９０に限らず、図５１に示すような携帯電話４９１やＰＨＳ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｈａｎｄｙｐｈｏｎｅ Ｓｙｓｔｅｍ）などの携帯型電話機、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ（Ｐｏｉｎｔ Ｏｆ Ｓａｌｅｓ）端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、エンジニアリング・ワークステーション（Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｗｏｒｋ Ｓｔａｔｉｏｎ：ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計、ゲーム機器などの様々な電子機器に適用できる。
【０４２２】
そして、例えばインクジェットヘッド２２にノズル４６６を３列以上設け、走査方向Ｘに沿って仮想される直線上に複数のノズル４６６が位置する場合には、少なくとも２つ以上のノズル４６６から吐出させればよい。
【０４２３】
なお、本発明において、インクジェットヘッド２２を相対的に走査する方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のノズル４６６は、その開口が同じ状態で仮想直線上に位置する必要はなく、仮想直線上にノズル４６６の開口が一部でも交わっていれば、直線上に位置するものと考えてもよい。つまり、一のノズル４６６は開口の右側に偏った部分に仮想直線が交わり、他のノズル４６６は開口が左側に偏った部分に仮想直線が交わることでも構わない。
【０４２４】
そのようにずれていても、被吐出物における吐出予定個所の領域幅が広かったり、吐出予定個所でない部分に撥水処理が施されていて予定個所よりも外れた液滴を予定個所に撥水作用によって移動させることができたり、吐出予定個所に親水処理が施されていて外れた液滴が予定個所に移動させることができたり、吐出予定個所の境界に隔壁が形成されたり予定個所が凹部に形成されたりして外れた液滴も溝に移動させることができたり、外れて吐出された液滴によるはみ出し部分は後に除去する工程を有しているなどの場合には、問題はない。ただし、好ましくは、仮想される直線上に位置する複数のノズルは、開口がその直線上に実質的に同じ形状で交わっていることが好ましい。
【０４２５】
なお、本発明において、インクジェットヘッド４２１の端部の所定領域に配列された非吐出ノズルの他、中央領域のノズル群においても、非吐出ノズルを設定しても構わない。すなわち、ヘッド４６６を傾けて、走査方向におけるノズル４６６の配列ピッチと被吐出物の吐出予定個所の配列ピッチを略同一にしたり、または整数倍の関係にしたりする場合、吐出予定個所と合わない個所に位置するノズル４６６については非吐出ノズルとして設定することができる。例えば、ノズル列の端部領域を除いた中央領域であっても、１個おきや２個おきなどの吐出ノズル配列ピッチを設定してもよい。非吐出ノズルについては、それを駆動する圧電振動子を個別に駆動することにより制御可能となる。
また、同様に、インクジェットヘッド２２を３列以上設け、走査方向Ｘに沿った直線状に複数のインクジェットヘッド２２のノズル４６６が位置する場合には、少なくとも２つ以上のノズル４６６から吐出させればよい。
【０４２６】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造や手順などとしてもよい。
【０４２７】
【発明の効果】
本発明によれば、ノズルが設けられた１以上の液滴吐出ヘッドを被吐出物に対向する状態で被吐出物に対して相対的に移動させ、この相対的な移動方向に沿って仮想される直線上に位置する複数のノズルのうちの少なくとも２つ以上のノズルから液状体を吐出させるため、異なる２つ以上のノズルから液状体を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出された液状体の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、平面的に均一な吐出を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施の形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図５】本発明に係るカラーフィルタの一実施の形態およびその基礎となるマザー基板の一実施の形態を示す平面図である。
【図６】（ａ）は本発明に係るカラーフィルタの一実施の形態を示す平面図であり、（ｂ）はその基礎となるマザー基板の一実施の形態を示す平面図である。
【図７】図６（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面部分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図である。
【図８】カラーフィルタにおけるＲ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発明に係る液晶装置の製造装置および本発明に係るＥＬ装置の製造装置といった各製造装置の主要部分である液滴吐出装置の一実施の形態を示す斜視図である。
【図１０】図９の装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図１１】図１０の装置の主要部であるインクジェットヘッドを拡大して示す斜視図である。
【図１２】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図である。
【図１３】インクジェットヘッドの内部構造を示す図であって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１４】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平面図である。
【図１５】図９のインクジェットヘッド装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図１６】図１５の制御系によって実行される制御の流れを示すフローチャートである。
【図１７】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を示す斜視図である。
【図１８】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図１９】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図である。
【図２０】図１９におけるＩＸ−ＩＸ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図２１】本発明に係るＥＬ装置の製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図２２】図２１に示す工程図に対応するＥＬ装置の断面図である。
【図２３】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の液滴吐出装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【図２４】同上液滴吐出処理装置のヘッドユニットを示す平面図である。
【図２５】同上側面図である。
【図２６】同上正面図である。
【図２７】同上断面図である。
【図２８】同上ヘッド装置を示す分解斜視図である。
【図２９】同上インクジェットヘッドを示す分解斜視図である。
【図３０】同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料を吐出する動作を説明する説明図である。
【図３１】同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料の吐出量を説明する説明図である。
【図３２】同上インクジェットヘッドの配設状態を説明する概略図である。
【図３３】同上インクジェットヘッドの配置状態を説明する部分的に拡大した概略図である。
【図３４】同上インクジェットヘッドの相対的な移動方向に対する傾斜角度が異なる場合においてのノズルの開口状態を示す平面図である。
【図３５】同上カラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを示す模式図であって、（Ａ）はカラーフィルタの平面図で、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３６】同上カラーフィルタを製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【図３７】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の一部を示す回路図である。
【図３８】同上表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【図３９】同上表示装置の製造工程の前処理における手順を示す製造工程断面図である。
【図４０】同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図４１】同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図４２】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域を示す断面図である。
【図４３】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域の構造を示す拡大図であり、（Ａ）は平面構造で、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４４】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４５】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４６】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４７】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４８】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図４９】本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図５０】同上電気光学装置を備えた電気機器であるパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図５１】同上電気光学装置を備えた電気機器である携帯電話を示す斜視図である。
【図５２】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図５３】従来のカラーフィルタの特性を説明するための図である。
【図５４】本発明のカラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【図５５】本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置を示す図であって、（ａ）は表示装置の平面模式図、（ｂ）は（ａ）のＡＢ線に沿う断面模式図。
【図５６】同上表示装置の要部を示す図。
【図５７】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図５８】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図５９】同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の一例を示す平面模式図。
【図６０】図５９に示したプラズマ処理装置の第１プラズマ処理室の内部構造を示す模式図。
【図６１】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図６２】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図６３】同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の別の例を示す平面模式図。
【図６４】同上表示装置の製造に用いる液滴吐出装置を示す平面図。
【図６５】基体に対するインクジェットヘッドの配置状態を示す平面図。
【図６６】インクジェットヘッドの１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合の工程を示す工程図。
【図６７】インクジェットヘッドの３回の走査で正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図６８】インクジェットヘッドの２回の走査で正孔注入／輸送層９１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図６９】本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７０】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７１】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７２】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７３】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図７４】同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【符号の説明】
１，１１８ カラーフィルタ
２，１０７ａ，１０７ｂ 被吐出物である基板
３ 画素であるフィルタエレメント
１２ 被吐出物としての基板であるマザー基板
１３ 液状体としてのフィルタエレメント材料
１６ 吐出装置としてのカラーフィルタの製造装置である液滴吐出装置
１９，４２５ 移動手段を構成する主走査駆動手段としての主走査駆動装置
２１，４２７ 移動手段を構成する副走査駆動手段としての副走査駆動装置
２２，４２１ インクジェットヘッド
２７，４６６ ノズル
１０１ 電気光学装置である液晶装置
１０２ 電気光学装置である液晶パネル
１１１ａ，１１１ｂ 機吐出物としての基材
１１４ａ，１１４ｂ 電極
２０１ 電気光学装置であるＥＬ装置
２０２ 画素電極
２０４ 基板である透明基板
２１３ 対向電極
４０５Ｒ（４０５Ｇ，４０５Ｂ） 吐出装置としてのカラーフィルタの製造装置である液滴吐出処理装置
４２６ 保持手段としてのキャリッジ
５０１ 電気光学装置である表示装置
５０２ 被吐出物としての基板である表示基板
５４０Ａ，５４０Ｂ 機能性液状体としての光学材料
Ｌ 液晶
Ｍ フィルタエレメント材料
Ｘ 主走査方向
Ｙ 副走査方向
ＸＸ 所定領域
Claims (36)
- 液状体を吐出する複数のノズルの設けられた面が被吐出物に対して相対的に移動されて前記ノズルから前記被吐出物上に前記液状体を吐出させるための液滴吐出ヘッドであって、
この液滴吐出ヘッドを前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する方向に向けた状態において、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用されるノズルは、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に複数の開口が位置されるように配置された
ことを特徴とした液滴吐出ヘッド。 - 請求項１に記載の液滴吐出ヘッドと、
この液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、
この保持手段および被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、前記被吐出物に対して相対的に移動させる移動手段とを具備した
ことを特徴とした吐出装置。 - 流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、
この液滴吐出ヘッドの前記ノズルが設けられた面を被吐出物に対向させて前記液滴吐出ヘッドを保持する保持手段と、
この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、
前記液滴吐出ヘッドは、前記複数のノズルのうち少なくとも中央部分に位置して前記液状体の吐出に使用される少なくとも２つ以上のノズルが、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に保持された
ことを特徴とした吐出装置。 - 流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた液滴吐出ヘッドと、
この液滴吐出ヘッドを被吐出物に対向させて複数個並べて配置する保持手段と、
この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を、相対的に移動させる移動手段とを備え、
前記複数の液滴吐出ヘッドは、これら液滴吐出ヘッドのうちの少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける前記液状体の吐出に使用されるノズルの少なくとも一部同士が、前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置するように前記保持手段に配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項２ないし４のいずれかに記載の吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが複数列に配列されて設けられた
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項２ないし５に記載の吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドは、ノズルの配列方向が前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する状態で保持手段に保持された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項４ないし６に記載の吐出装置において、
少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドのそれぞれは、他の液滴吐出ヘッドと、
前記相対的に移動される方向において部分的に重なるように配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項４ないし７のいずれかに記載の吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドにおいて配列されたノズルのうちの端部付近の所定領域分のノズルを非吐出ノズルとして設定し、複数の前記液滴吐出ヘッドは、前記液滴吐出ヘッドの複数のノズルが前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差する所定の方向に配列される状態で、前記相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って複数列に並べて配置され、
前記複数列の液滴吐出ヘッドのうちの１つの列内の前記液滴吐出ヘッドにおける非吐出ノズルが、前記相対的に移動される方向に配置される他の列内の液滴吐出ヘッドにおいて液状体を吐出する吐出ノズルと、前記相対的に移動される方向において仮想される直線上に位置するように配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項８に記載の吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドのノズルは複数列に配列され、
前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態と、一の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルが位置する状態とが存在するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項２ないし９のいずれかに記載の吐出装置において、
前記複数のノズルは、前記相対的に移動される方向に対して直交する方向におけるノズルの開口の配列ピッチが、前記相対的に移動される方向と直交する方向における前記被吐出物上の吐出予定位置のピッチが略同一または略整数倍になるように配列された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項４ないし１０のいずれかに記載の吐出装置において、
複数の液滴吐出ヘッドは、これら液滴吐出ヘッドが被吐出物に対して相対的に移動される方向に対して交差する所定の方向に沿って順次並べて保持手段に配置され、複数の液滴吐出ヘッドのそれぞれは、これら液滴吐出ヘッドが並べて配置される所定の方向とは異なる方向であって、前記相対的な移動方向とは斜めに交差する方向に傾けて配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項４ないし１１のいずれかに記載の吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルは、配列の端部の所定領域のノズルは非吐出ノズルとして設定され、かつ前記複数の液滴吐出ヘッドは、複数列に並べて配置され、一の列内に配置された液滴吐出ヘッドと他の列内に配置された液滴吐出ヘッドとが、前記相対的に移動される方向において互いに重なるような位置関係で配置され、
前記相対的に移動される方向に対して直交する方向におけるノズルの配列が、前記複数の液滴吐出ヘッド同士の間で実質的に連続するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおける前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に位置する異なるノズルからは、被吐出物の所定の同一個所に対してぞれぞれ吐出されるように制御された
ことを特徴とした吐出装置。 - 請求項２ないし１３のいずれかに記載の吐出装置を備える電気光学装置の製造装置であって、
前記被吐出物はＥＬ発光層が形成される基板であって、
前記１つ以上の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記１つ以上の液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからＥＬ発光材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上にＥＬ発光層を形成する
ことを特徴とした電気光学装置の製造装置。 - 請求項２ないし１３のいずれかに記載の吐出装置を備える電気光学装置の製造装置であって、
前記被吐出物は液晶を挟持する一対の基板の一方であって、
前記１つ以上の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記１つ以上の液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからカラーフィルタ材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上にカラーフィルタを形成する
ことを特徴とした電気光学装置の製造装置。 - 請求項２ないし１３のいずれかに記載の吐出装置を備えるカラーフィルタの製造装置であって、
前記被吐出物は異なる色を呈するカラーフィルタが形成される基板であって、
前記１つ以上の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからカラーフィルタ材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上にカラーフィルタを形成する
ことを特徴としたカラーフィルタの製造装置。 - 電極が複数設けられた基板と、この基板上に前記電極に対応して複数設けられたＥＬ発光層とを備えた電気光学装置であって、
ＥＬ発光材料を含有する液状体を吐出する複数のノズルを設けた１つ以上の液滴吐出ヘッドが、前記ノズルを有する面を前記基板に対向させた状態でこの基板に対して相対的に移動されつつ、前記１つ以上の液滴吐出ヘッドに設けられたノズルのうちの前記相対的に移動される方向に沿って位置する少なくとも２つ以上の異なるノズルから前記液状体が前記基板上の所定の同一画素位置に吐出されて、前記ＥＬ発光層が形成された
ことを特徴とした電気光学装置。 - 基板と、この基板上に形成された異なる色のカラーフィルタを備えた電気光学装置であって、
所定の色のフィルタ材料を含有する液状体を吐出する複数のノズルを設けた１つ以上の液滴吐出ヘッドが、前記ノズルを有する面を前記基板に対向させた状態でこの基板に対して相対的に移動されつつ、前記１つ以上の液滴吐出ヘッドに設けられたノズルのうちの前記相対的に移動される方向に沿って位置する少なくとも２つ以上の異なるノズルから前記液状体が前記基板上の所定の同一位置に吐出されて、前記カラーフィルタが形成された
ことを特徴とした電気光学装置。 - 基板上に異なる色を呈するように形成されたカラーフィルタであって、
所定の色のフィルタ材料を含有する液状体を吐出する複数のノズルを設けた１つ以上の液滴吐出ヘッドが、前記ノズルを有する面を前記基板に対向させた状態でこの基板に対して相対的に移動されつつ、前記１つ以上の液滴吐出ヘッドに設けられたノズルのうちの前記相対的に移動される方向に沿って少なくとも２つ以上の異なるノズルから前記液状体が前記基板上の所定の同一位置に吐出されて形成された
ことを特徴としたカラーフィルタ。 - 流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた１つ以上の液滴吐出ヘッドを、被吐出物に対向する状態で前記被吐出物に対して相対的に移動させ、
前記１つ以上の液滴吐出ヘッドに設けられたノズルのうちの前記相対的な移動方向に沿って位置する少なくとも２つ以上の異なるノズルから前記被吐出物の所定の同一個所に前記液状体を吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０に記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドは、複数個並べて配置され、
少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドにおける前記相対的に移動される方向に沿って位置する異なるノズルから被吐出物の所定の同一個所に液状体を吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 流動性を有した液状体を吐出する複数のノズルが設けられた複数の液滴吐出ヘッドを、これら液滴吐出ヘッドの前記ノズルが被吐出物に対向する状態で前記被吐出物に対して相対的に移動させ、
前記複数の液滴吐出ヘッドのうちの少なくとも２つ以上の異なる液滴吐出ヘッドは、複数のノズルの少なくとも一部同士を前記相対的に移動される方向に沿って位置させて、この異なるノズルからそれぞれ前記液状体を前記被吐出物の所定の同一個所に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０または２２に記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが複数列に配列されて設けられ、
ノズル列の少なくとも中央部分に位置し異なる列内に配列されるノズルであって前記液状体の吐出に使用されるノズルから前記液状体を前記被吐出物の所定の同一個所に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２３のいずれかに記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドにおけるノズルの配列方向が前記相対的に移動される方向に対して斜めに交差するように配置された状態で、
液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２４のいずれかに記載の吐出方法において、
少なくとも２つ以上の液滴吐出ヘッドのうちの１つに設けられた複数のノズルは、他の液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズルと、前記相対的な移動方向において部分的に重なるように配置された状態で、
液滴吐出ヘッドにおけるノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２５のいずれかに記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドにおいて配列されたノズルのうちの端部付近の所定領域分のノズルを非吐出ノズルとして設定し、
複数の液滴吐出ヘッドを、前記液滴吐出ヘッドの複数のノズルが前記被吐出物に対する相対的に移動される方向に対して斜めに交差する所定の方向に配列される状態で、前記相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って複数列に並べて配置し、
前記複数列の液滴吐出ヘッドのうちの１つの列内の前記液滴吐出ヘッドにおける非吐出ノズルの列が、前記相対的な移動方向に配置される他の列内の液滴吐出ヘッドにおいて液状体を吐出する吐出ノズルと、前記相対的に移動される方向において仮想される直線上に位置するように配置された状態で、
液滴吐出ヘッドにおけるノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２６に記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドのノズルは複数列に配列され、
前記相対的に移動される方向に沿って仮想される直線上に、一の液滴吐出ヘッドの非吐出ノズルと他の液滴吐出ヘッドの複数列の吐出ノズルが位置する状態と、一の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルと、他の液滴吐出ヘッドの吐出ノズルおよび非吐出ノズルが位置する状態とが存在するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置された状態で、
液滴吐出ヘッドにおける異なるノズルからそれぞれ前記液状体を前記被吐出物の所定の同一個所に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２７のいずれかに記載の吐出方法において、
前記相対的に移動される方向に対して直交する方向におけるノズルの開口の配列ピッチが、前記相対的に移動される方向と直交する方向における前記被吐出物上の吐出予定個所のピッチが略同一または略整数倍になるように配列された状態で、
液滴吐出ヘッドにおけるノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２８のいずれかに記載の吐出方法において、
複数の液滴吐出ヘッドが、これら液滴吐出ヘッドが被吐出物に対して相対的に移動される方向に対して交差する所定の方向に沿って順次並べて保持手段に配置された状態で、かつ複数の液滴吐出ヘッドのそれぞれが、これら液滴吐出ヘッドが並べて配置される所定の方向とは異なる方向であって、前記相対的な移動方向とは斜めに交差する方向に傾けて配置された状態で、
液滴吐出ヘッドにおけるノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし２９のいずれかに記載の吐出方法において、
前記液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルは、隊列の端部の所定領域のノズルが非吐出ノズルとして設定され、
複数の液滴吐出ヘッドは、複数列に並べて配置され、一の列内に配置された液滴吐出ヘッドと他の列内に配置された液滴吐出ヘッドとは、前記相対的に移動される方向において少なくとも部分的に互いに重なるような位置関係で配置され、
前記相対的に移動される方向に対して直行する方向におけるノズルの配列が、前記複数の液滴吐出ヘッド同士の間で実質的に連続するように、前記複数の液滴吐出ヘッドが配置された状態で、
液滴吐出ヘッドにおけるノズルから液状体を被吐出物に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。 - 請求項２０ないし３０のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製造方法であって、
前記液状体はＥＬ発光材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してＥＬ発光層を形成する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項２０ないし３０のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製造方法であって、
前記液状体はカラーフィルタ材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項２０ないし３２のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出するカラーフィルタの製造方法であって、
前記液状体はフィルタ材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 基材と、この基材上に流動性を有する液状体が吐出されて形成された所定の層を有する基材を有するデバイスであって、
前記液状体を吐出する複数のノズルを設けた１つ以上の液滴吐出ヘッドが、前記ノズルを有する面を前記基材に対向させた状態でこの基材に対して相対的に移動されつつ、この相対的な移動方向に沿って位置する前記１つ以上の液滴吐出ヘッドの前記複数のノズルのうちの少なくとも２つ以上の異なるノズルから前記液状体が前記基材上の所定の同一位置に吐出されて、前記所定の層が形成された
ことを特徴とした基材を有するデバイス。 - 請求項２ないし１３のいずれかに記載の吐出装置を備え、
前記被吐出物はデバイスの基材であって、
前記基材上に形成する工程において前記複数の液滴吐出ヘッドから液状体を前記基材上に吐出して所定の層を形成する
ことを特徴とした基材を有するデバイスの製造装置。 - 請求項２０ないし３０のいずれかに記載の吐出方法により、前記被吐出物である基材上に液状体を吐出して所定の層を前記基材上に形成する
ことを特徴とする基材を有するデバイスの製造方法。
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