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JP2002038049A - シリカ系微粒子およびその製造方法 - Google Patents

シリカ系微粒子およびその製造方法

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Publication number
JP2002038049A
JP2002038049A JP2000228365A JP2000228365A JP2002038049A JP 2002038049 A JP2002038049 A JP 2002038049A JP 2000228365 A JP2000228365 A JP 2000228365A JP 2000228365 A JP2000228365 A JP 2000228365A JP 2002038049 A JP2002038049 A JP 2002038049A
Authority
JP
Japan
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particles
silica
based fine
carbon atoms
fine particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000228365A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Fujino
賢一 藤野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Exsymo Co Ltd
Original Assignee
Ube Nitto Kasei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Nitto Kasei Co Ltd filed Critical Ube Nitto Kasei Co Ltd
Priority to JP2000228365A priority Critical patent/JP2002038049A/ja
Publication of JP2002038049A publication Critical patent/JP2002038049A/ja
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  • Silicon Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 母体粒子全面にわたって、突起物が化学結合
により強固に結着してなり、例えば樹脂用充填材や表面
に導電層を被覆した導電性粒子の母材などとして好適な
シリカ系微粒子、およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 母体粒子全面に、実質上球状および/ま
たは半球状の突起物を有するシリカ系微粒子であって、
該突起物が化学結合により母体粒子に結着してなるシリ
カ系微粒子、及び(A)特定のアルコキシシラン化合物
を加水分解、縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を
生成させる工程、(B)該ポリオルガノシロキサン粒子
を、表面吸着剤により表面処理する工程、および(C)
上記(B)工程で表面処理されたポリオルガノシロキサ
ン粒子全面に、該アルコキシシラン化合物を用いて突起
を形成させる工程、を含むシリカ系微粒子の製造方法で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリカ系微粒子お
よびその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明
は、母体粒子全面に、ほぼ球状や半球状の突起物が化学
結合により強固に結着したものであって、例えば樹脂用
充填材や表面に導電層を被覆した導電性粒子の母材など
として好適なシリカ系微粒子、およびこのものを効率よ
く製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体樹脂封止剤やラジアルタイ
ヤなどにおいては、性能を向上させる目的で、各種フィ
ラーが混入されている。このフィラーとしては、無機系
粒子やガラスファイバーが主に用いられている。フィラ
ーが球状粒子である場合と金平糖状粒子である場合、こ
れらが半導体樹脂封止剤やラジアルタイヤなどの充填材
として用いられた際、樹脂組成物やゴム組成物との密着
性、あるいは熱膨張係数差に起因するクラック発生の防
止効果などの点で、後者の方が優れている。
【0003】従来、金平糖状粒子の製造に関しては、例
えば、(1)分散重合法によって得た分散重合粒子の存
在下で、単量体を重合させることにより、該分散重合粒
子の表面に微小重合体粒子を付着させてなる表面に凹凸
を有する樹脂粒子(特開平5−331216号公報)、
(2)母粒子の表面に、子粒子を接着剤を用いて付着さ
せるか、直接融着させて、表面に突起物をもつ微粒子を
作製する方法、あるいは母粒子を回転する容器に入れ
て、該粒子表面に子粒子の溶液を付着させ、容器を回転
させながら溶媒を蒸発させることにより、母粒子表面に
溶質を角状に析出させて、突起物をもつ微粒子を作製す
る方法(特開平4−36902号公報)、(3)溶融球
状シリカ粒子と、該シリカ粒子よりも微細な破砕状シリ
カ粒子とを高速回転気流中に投入処理し、粒子表面に突
起物を有する粒子を作製する方法(特開平3−2599
60号公報)などが開示されている。
【0004】しかしながら、前記(1)の表面に凹凸を
有する樹脂粒子は、粒子自体または突起物の剪断強度や
破壊強度に乏しいという欠点を有しており、一方、
(2)および(3)の方法により得られた表面に突起物
を有する粒子は、物理的な接着や融着により母体粒子と
突起物とが接合しているため、突起物の剪断強度や破壊
強度に乏しいという欠点を有している。また、前記
(3)の方法においては、高速回転気流下で処理が行わ
れるため、粒子自体の耐熱性や耐圧性が必要となるなど
の問題もある。このような金平糖状粒子を充填材として
用いた場合、母体粒子表面と突起物との結合強度の差に
より、得られる製品自体の破壊強度などの機械的強度に
差が生じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、母体粒子全面にわたって、突起物が化学
結合により強固に結着してなり、例えば樹脂用充填材や
表面に導電層を被覆した導電性粒子の母材などとして好
適なシリカ系微粒子を提供することを目的とするもので
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の構造の
アルコキシシラン化合物を加水分解してポリオルガノシ
ロキサン粒子を生成させる工程、このポリオルガノシロ
キサン粒子を表面処理する工程、この表面処理ポリオル
ガノシロキサン粒子をシード粒子とし、該粒子全面にア
ルコキシシラン化合物を用いて突起物を形成させる工
程、さらに場合により焼成処理工程を施すことにより、
母体粒子全面に、実質上球状や半球状の突起物が化学結
合により、強固に結着してなるシリカ系微粒子が得られ
ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。
【0007】すなわち、本発明は、母体粒子全面に、実
質上球状および/または半球状の突起物を有するシリカ
系微粒子であって、該突起物が化学結合により母体粒子
に結着していることを特徴とするシリカ系微粒子を提供
するものである。
【0008】また、上記シリカ系微粒子は、(A)一般
式(I) R1nSi(OR24-n ・・・(I) (式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基または
炭素数7〜10のアラルキル基、R2は炭素数1〜5の
アルキル基、nは1または2を示し、nが2の場合、2
つのR1はたがいに同一でも異なっていてもよく、ま
た、複数のOR2はたがいに同一でも異なっていてもよ
い。)で表されるアルコキシシラン化合物を加水分解、
縮合させ、場合により得られた粒子をシード粒子として
粒径成長させてポリオルガノシロキサン粒子を生成させ
る工程、(B)上記(A)工程で得られたポリオルガノ
シロキサン粒子を、表面吸着剤により表面処理する工
程、および(C)上記(B)工程で表面処理されたポリ
オルガノシロキサン粒子をシード粒子とし、前記一般式
(I)で表されるアルコキシシラン化合物を用いて、該
シード粒子全面に突起を形成させる工程、さらに場合に
より(D)焼成処理工程、を含む方法により、製造する
ことができる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明のシリカ系微粒子は、母体
粒子全面にわたって、実質上球状および/または半球状
の突起物が化学結合により、強固に結着してなる金平糖
状粒子である。シリカ系微粒子においては、突起物と母
体粒子双方が、通常一般式(I) R1nSi(OR24-n ・・・(I) で表されるアルコキシシラン化合物に由来する組成を有
している。この場合、突起物を形成する原料のアルコキ
シシラン化合物と、母体粒子を形成する原料のアルコキ
シシラン化合物は、同一のものであってもよいし、異な
るものであってもよい。
【0010】前記一般式(I)において、R1は炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭
素数6〜10のアリール基または炭素数7〜10のアラ
ルキル基を示す。ここで、炭素数1〜5のアルキル基は
直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、その例として
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基及び各種ペンチル基が挙げられる。炭素
数2〜5のアルケニル基は直鎖状、分岐状のいずれであ
ってもよく、その例としてはビニル基、アリル基、ブテ
ニル基、ペンテニル基などが挙げられる。炭素数6〜1
0のアリール基の例としては、フェニル基、トリル基、
キシリル基、ナフチル基などが挙げられ、炭素数7〜1
0のアラルキル基の例としては、ベンジル基、フェネチ
ル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙
げられる。
【0011】一方、R2は炭素数1〜5のアルキル基で
あり、このアルキル基は直鎖状、分岐状のいずれであっ
てもよく、その例としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基及び各種ペンチ
ル基が挙げられる。nは1または2であり、nが2の場
合、2つのR1はたがいに同一でも異なっていてもよ
く、また、複数のOR2はたがいに同一でも異なってい
てもよい。
【0012】前記一般式(I)で表されるアルコキシシ
ラン化合物の例としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリ
エトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシ
シランなどが挙げられる。これらの中で、特にメチルト
リメトキシシランおよびビニルトリメトキシシランが好
適である。
【0013】本発明においては、原料として、前記一般
式(I)で表されるアルコキシシラン化合物を1種用い
てもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本
発明のシリカ系微粒子における母体粒子は、平均粒径
が、通常0.5〜30μm、好ましくは2〜10μmで
あり、また、粒度分布の変動係数(CV値)が、通常5
%以下であって、真球状の単分散粒子である。
【0014】なお、変動係数(CV値)は下式により求
められる。 CV値(%)=(粒径の標準偏差/平均粒径)×100 この母体粒子の全面に、化学結合により結着されている
突起物は、実質上球状および/または半球状の形状を有
しており、そして、突起物の高さ/母体粒子径の平均値
は、通常0.02〜0.5の範囲である。また、1個の
母体粒子に結着している突起物の数は、上記の突起物の
高さ/母体粒子径の値により左右され、特に限定されな
い。
【0015】さらに、本発明のシリカ系微粒子は、完全
にシリカ化されたものについては、同じ粒子径をもつ従
来の球状シリカ系粒子(突起をもたない)に比べて、窒
素吸着比表面積が、約2倍以上に大きくなる。このよう
な形状を有する本発明のシリカ系微粒子は、以下に示す
本発明の方法によって、効率よく製造することができ
る。
【0016】本発明のシリカ系微粒子の製造方法は、
(A)ポリオルガノシロキサン粒子の生成工程、(B)
該ポリオルガノシロキサン粒子の表面処理工程、(C)
突起物形成工程、および場合により施される(D)焼成
処理工程を含むものであり、次に、各工程について説明
する。
【0017】(A)ポリオルガノシロキサン粒子の生成
工程 この(A)工程においては、前記一般式(I)で表され
るアルコキシシラン化合物を加水分解、縮合させ、場合
により得られた粒子をシード粒子として粒径成長させて
ポリオルガノシロキサン粒子を生成させる工程である。
【0018】この(A)工程においては、所望によりノ
ニオン性界面活性剤を含有するアンモニアおよび/また
はアミンの水性溶液の存在下に、前記一般式(I)で表
されるアルコキシシラン化合物を加水分解・縮合させる
が、上記アンモニアやアミンは、該アルコキシシラン化
合物の加水分解・縮合反応の触媒である。ここで、アミ
ンとしては、例えばモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジア
ミンなどを好ましく挙げることができる。このアンモニ
アやアミンは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合
わせて用いてもよいが、毒性が少なく、除去が容易で、
かつ安価なことから、アンモニアが好適である。
【0019】ノニオン性界面活性剤を含有するアンモニ
アおよび/またはアミンの水性溶液としては、水または
水と水混和性有機溶剤との混合溶剤にノニオン性界面活
性剤とアンモニアおよび/またはアミンを溶解した溶液
が挙げられる。ここで、水混和性有機溶剤の例として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類、アセトン、ジメチルケト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジエチルエー
テル、ジプロピルエーテルなどのエーテル類などが挙げ
られる。これらは単独で水と混合してもよいし、2種以
上を組み合わせて水と混合してもよい。アンモニアやア
ミンの使用量としては特に制限はないが、反応開始前の
水層のpHが、7.5〜11.0の範囲になるように選
定するのが好ましい。
【0020】本発明においては、所望により用いられる
ノニオン性界面活性剤として、HLB値が8〜20の範
囲にあるものが好ましく用いられる。このHLBは、親
水性と親油性のバランスを表す指標であり、その値が小
さいほど、親油性が高い。HLB値が上記範囲を逸脱す
るものでは、本発明の効果が十分に発揮されない。本発
明の効果をよりよく発揮させるには、HLB値が10〜
17の範囲にあるものが好ましい。
【0021】反応形式としては特に制限はなく、混合均
一系反応および2層系反応のいずれも用いることができ
るが、CV値が小さく、粒径精度のよい粒子が得られ、
かつ反応操作が容易な点から2層系反応の方が有利であ
る。
【0022】この2層系反応においては、原料のアルコ
キシシラン化合物として、前記一般式(I)で表される
単独物もしくは混合物の比重(23℃)が1以下である
ものが用いられる。まず、このアルコキシシラン化合物
を、所望により用いられるノニオン性界面活性剤とアン
モニアおよび/またはアミン含有水性溶液と実質上混合
させることなく、2層状態を保持しながら、界面で反応
させる。
【0023】この反応においては、アルコキシシラン化
合物とアンモニアやアミン水性溶液層とが、実質上混合
することなく、2層状態を保持するように緩やかに撹拌
することが必要である。これにより、上層のアルコキシ
シラン化合物が加水分解されて下層に移行し、そこでポ
リオルガノシロキサン粒子が成長する。この際の反応温
度は、原料のアルコキシシラン化合物の種類などに左右
されるが、一般的には0〜60℃の範囲で選ばれる。こ
の2層系反応においては、上層のアルコキシシラン化合
物が消失してから、次工程へ供給する。
【0024】本発明の(A)工程においては、必要に応
じて、このようにして得られた粒子をシード粒子とし、
さらに粒径成長させてもよい。この場合、シード粒子を
生成させたのち、反応液を希釈倍率が、好ましくは2〜
200倍、より好ましくは5〜100倍になるように水
性媒体で希釈してシード粒子液を調製する。この際、希
釈に使用する水性媒体としては、水または水と水混和性
有機溶剤との混合溶剤が用いられるが、前記加水分解反
応において、反応媒体として用いたものと同じものを用
いるのが好ましい。
【0025】次に、このシード粒子液に、前記一般式
(I)で表されるアルコキシシラン化合物を添加して、
上記と同様に2層系反応を行い、シード粒子を成長させ
る。この操作は、所望の粒径に成長させるまで繰り返し
行うことができる。
【0026】(B)ポリオルガノシロキサン粒子の表面
処理工程 この(B)工程においては、前記(A)工程で得られた
ポリオルガノシロキサン粒子を、表面吸着剤により表面
処理する工程である。
【0027】この際使用する表面吸着剤としては、例え
ばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及び界
面活性剤を好ましく挙げることができる。ポリビニルア
ルコールとしては、ケン化度が、好ましくは34〜98
モル%、より好ましくは88〜98モル%で、数平均分
子量が好ましくは200〜3,500、より好ましくは
500〜2,400の範囲にあるものが好適である。ま
た、ポリビニルピロリドンとしては、数平均分子量が、
好ましくは10,000〜360,000、より好まし
くは40,000〜120,000の範囲にあるものが
好適である。
【0028】一方、界面活性剤としては、ノニオン性お
よびアニオン性のものが好ましく用いられる。ノニオン
性界面活性剤として、HLB値が8〜20の範囲にある
ものが好ましく用いられる。このHLBは、親水性と親
油性のバランスを表す指標であり、その値が小さいほ
ど、親油性が高い。HLB値が上記範囲を逸脱するもの
では、本発明の効果が十分に発揮されない。本発明の効
果をよりよく発揮させるには、HLB値が10〜17の
範囲にあるものが好ましい。
【0029】該ノニオン性界面活性剤としては、HLB
値が上記の範囲にあるものであればよく、特に制限され
ず、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンステロールエーテル、ポリオキシエチレンラノ
リン誘導体、アルキルフェノールホルマリン縮合物の酸
化エチレン誘導体、ポリオキシエチレンポリオキシプロ
ピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンアルキルエーテルなどのエーテル型ノニオ
ン性界面活性剤、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油および硬化ヒマ
シ油、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステルなどの
エーテルエステル型ノニオン性界面活性剤、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エ
ステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコ
ール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどのエス
テル型ノニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレン脂肪
酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキ
ルアミンオキシドなどの含窒素型ノニオン性界面活性剤
などが挙げられるが、これらの中でエーテル型が好まし
く、特にポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
が好適である。これらのノニオン性界面活性剤は、単独
で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【0030】また、アニオン性界面活性剤としては、H
LB値が18〜42の範囲にあるものが用いられる。H
LB値が上記範囲を逸脱するものでは、本発明の効果が
十分に発揮されない。このようなアニオン性界面活性剤
としては、HLB値が18〜42の範囲にあればよく、
特に制限はないが、例えばアルキルアリールスルホン酸
塩、アルキル硫酸塩、脂肪酸アルカリ塩、アルキルリン
酸塩、アルキルホスホン酸塩などが挙げられる。これら
の中で、アルキル基の炭素数が8〜18のアルキルアリ
ールスルホン酸塩、アルキル基の炭素数が8〜18のア
ルキル硫酸塩、アルキル基の炭素数が8〜18の脂肪酸
アルカリ塩が好ましく、特にドデシル硫酸ナトリウム、
ドデシルベンゼンスルホネート、オレイン酸カリウムが
好適である。また、このアニオン性界面活性剤は単独で
用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【0031】この(B)工程においては、前記(A)工
程で得られたポリオルガノシロキサン粒子液と上記表面
吸着剤を含む水性溶液を撹拌混合したのち、アンモニア
および/またはアミンを添加し、好ましくは20〜60
℃の温度において1〜20時間程度熟成することによ
り、表面処理が行われる。この際、上記混合液中の表面
吸着剤の濃度は、0.1〜5重量%の範囲が好ましい。
このようにして表面処理されたポリオルガノシロキサン
粒子は、好ましくは単離したのち、次工程の突起物形成
工程に供給される。
【0032】(C)突起物形成工程 この(C)工程においては、前記(B)工程で表面処理
されたポリオルガノシロキサン粒子をシード粒子とし、
前記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物を
加水分解、縮合させて、該シード粒子(母体粒子)の全
面に突起物を形成させる工程である。この(C)工程に
おいても、混合均一系反応および2層系反応のいずれも
用いることができるが、前記(A)工程と同様に2層系
反応の方が有利である。
【0033】この2層系反応においては、まず、所望に
より用いられるポリビニルアルコールなどの分散剤とア
ンモニアおよび/またはアミンを含有する水性溶液中
に、前記(B)工程で得られた表面処理ポリオルガノシ
ロキサン粒子を分散させてなる水性液を調製する。次い
で、一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物
を、該水性液と実質上混合させることなく、2層状態を
保持しながら界面で反応させる。
【0034】この反応においては、アルコキシシラン化
合物とアンモニアやアミン水性溶液層とが、実質上混合
することなく、2層状態を保持するように緩やかに撹拌
することが必要である。これにより、上層のアルコキシ
シラン化合物が加水分解されて下層に移行し、そこで母
体粒子のポリオルガノシロキサン粒子と化学結合し、突
起物を成長させる。この際の反応温度は、原料のアルコ
キシシラン化合物の種類などに左右されるが、一般的に
は0〜60℃の範囲で選ばれる。
【0035】反応終了後(上層が消失後)、常法に従っ
て遠心分離および沈降分級により、粒子洗浄を行ったの
ち、乾燥処理することにより、母体粒子全面に、実質上
球状および/または半球状の突起物を有するシリカ系微
粒子が得られる。本発明においては、このようにして得
られたシリカ系微粒子は、母体粒子および突起物共に、
有機基をもつポリオルガノシロキサンから構成されてい
るので、必要に応じ、次の焼成処理を施すことができ
る。
【0036】(D)焼成処理工程 この(D)工程においては、最終製品の用途に応じ、焼
成処理を、空気などの酸素含有ガスの存在下、好ましく
は500〜1000℃、より好ましくは600〜900
℃の範囲の温度で行い、完全シリカ化を行って高弾性率
粒子を得てもよいし、あるいは、窒素などの不活性ガス
雰囲気下または真空中において、好ましくは400〜9
00℃、より好ましくは500〜800℃の範囲の温度
で焼成処理を行い、部分シリカ化または非シリカ化を行
い、低弾性率粒子を得てもよい。すなわち、必要となる
破壊強度や弾性率に応じて、最適な条件を選定すればよ
い。また、焼成装置については特に制限はなく、電気炉
やロータリーキルンなどを用いることができるが、粒子
の撹拌が可能なロータリーキルン中で焼成するのが有利
である。このようにして焼成処理してなる粒子の形状
は、焼成前と実質上相似であり、母体粒子全面にわた
り、ほぼ球状や半球状の突起物が化学結合により強固に
結着した金平糖状を有している。
【0037】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。
【0038】実施例1 (1)第1シード粒子液の調製 温度調節可能なマグネチックスターラー付き恒温水槽
に、500ミリリットル容のガラスフラスコをセット
し、これに、1モル/リットル濃度のアンモニア水12
ミリリットル、ノニオン系界面活性剤であるポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテル「ノイゲンEA−1
37(HLB13)」[第一工業薬品(株)製]0.3
ミリリットルおよびイオン交換水300gを混合した液
を入れ、温度を30℃に保持した。次いで、この液の上
に、界面が乱れないようにメチルトリメトキシシラン
(MTMS)30gを注ぎ込み、2層状態としてから、
下層のアンモニア水溶液をマグネチックスターラーによ
り緩やかに撹拌して、MTMSの加水分解反応を行っ
た。時間の経過と共に、下層のアンモニア水溶液が白濁
し始め、3時間後、上層のMTMSは、加水分解により
下層のアンモニア水溶液中に移行して消失した。この白
濁液中には、平均粒径1.85μmの単分散ポリメチル
シルセスキオキサン(PMSO)粒子が生成しており、
これを第1シード粒子液とした。
【0039】(2)第2シード粒子液の調製 撹拌モーターおよび撹拌翼を備えた5リットルのガラス
フラスコを恒温水槽にセットし、該フラスコにイオン交
換水4500ミリリットルを入れ、20rpmで撹拌し
ながら、上記(1)で得られた第1シード粒子液の全量
を添加して、シードPMSO粒子を希釈して分散させ
た。次いで、この分散液の上層にMTMS450gを注
ぎ、反応温度を30℃として、再び2層状態で加水分解
反応を行い、シードPMSO粒子の成長反応を行った。
5時間後、上層のMTMSが消失した時点で、PMSO
粒子は、平均粒径で5.0〜5.2μmまで成長してお
り、単分散球状粒子であった。これを第2シード粒子液
とした。
【0040】(3)表面処理 第2シード粒子液全量に対し、5重量%濃度のポリビニ
ルアルコール[完全けん化型、数平均分子量(Mn)5
00]水溶液(PVA水溶液)1200ミリリットルを
添加して撹拌混合し、PVA濃度が1重量%のシードP
MSO粒子分散液を調製した。次いで、25重量%アン
モニア水15ミリリットルを添加したのち、溶液温度を
50℃まで昇温し、その温度で12時間保持した。ここ
で得られたPVA吸着PMSO粒子(母体粒子)は、平
均粒径4.5μmの単分散微粒子であった。次に、これ
をメタノールで洗浄後、乾燥させ、シード粉体190g
を得た。
【0041】(4)異形化処理 温度調節可能なマグネチックスターラー付き恒温水槽に
1リットルのガラスフラスコをセットし、これに上記
(3)で得たシード粉体2gを1重量%PVA水溶液8
00ミリリットルに分散させた液と25重量%アンモニ
ア水0.1ミリリットルとを混合した液を入れ、温度を
30℃に保持した。次いで、この液の上に、界面が乱れ
ないようにメチルトリメトキシシラン(MTMS)70
gを注ぎ込み、2層状態としてから、下層のアンモニア
水溶液をマグネチックスターラーにより緩やかに撹拌し
て、MTMSの加水分解反応を行った。時間の経過と共
に、下層のアンモニア水溶液が白濁し始め、2時間後、
上層のMTMSは、加水分解により下層のアンモニア水
溶液中に移行して消失した。
【0042】粒子を取り出し、走査型電子顕微鏡(SE
M)により形状を観察した結果、粒子全面に高さ1.4
〜3.0μmの突起物を有し、見掛け上の平均粒径〔突
起先端まで含めた粒径(以下最終平均粒径と表記)〕が
6.5μmの金平糖状の粒子であった。図1に、この粒
子のSEM写真図を示す。次に、遠心分離及び沈降分級
により、粒子洗浄を行い、最後にメタノールに分散させ
たのち、メタノールを除去し、120℃のオーブンで乾
燥させて、乾燥粒子1.8gを得た。
【0043】(5)焼成処理 上記(4)で得た乾燥粒子を、焼成容器に入れ、電気炉
中にセットした後、空気を0.3リットル/分の流量で
流しながら、室温から400℃まで1.25時間で昇温
し、その温度で48時間保持してから、さらに800℃
まで0.5時間で昇温し、その温度で6時間保持した
後、室温まで降温させた。粒子の形状は、焼成前と相似
であった。IR測定の結果、メチル基のピークが観察さ
れず、シリカのみのIR吸収が認められ、シリカに変化
していることが確認された。なお、乾燥粒子を、窒素を
0.3リットル/分の流量で流しながら、690℃で
2.5時間、あるいは670℃で2.5時間焼成したと
ころ、いずれもシリカ化していない低弾性率異形粒子が
得られた。
【0044】実施例2 実施例1における(1)〜(3)と同様の操作を行いシ
ード粉体を得た。 (1)異形化処理 温度調節可能なマグネチックスターラー付き恒温水槽に
1リットルのガラスフラスコをセットし、これに上記シ
ード粉体2gを1重量%PVA水溶液800ミリリット
ルに分散させた液と25重量%アンモニア水0.1ミリ
リットルとを混合した液を入れ、温度を30℃に保持し
た。次いで、この液の上に、界面が乱れないようにメチ
ルトリメトキシシラン(MTMS)20gを注ぎ込み、
2層状態としてから、下層のアンモニア水溶液をマグネ
チックスターラーにより緩やかに撹拌して、MTMSの
加水分解反応を行った。上層のMTMSが消失した時点
で粒子を取り出し、SEMにより形状を観察した結果、
粒子全面に高さ0.7〜2.0μmの突起物を有し、最
終平均粒径が5.8μmの金平糖状粒子であった。図2
に、この粒子のSEM写真図を示す。
【0045】実施例3 実施例1における(1)〜(3)と同様の操作を行いシ
ード粉体を得た。 (1)異形化処理 温度調節可能なマグネチックスターラー付き恒温水槽に
1リットルのガラスフラスコをセットし、これに上記シ
ード粉体10gを1重量%PVA水溶液800ミリリッ
トルに分散させた液と25重量%アンモニア水0.1ミ
リリットルとを混合した液を入れ、温度を30℃に保持
した。次いで、この液の上に、界面が乱れないようにメ
チルトリメトキシシラン(MTMS)20gを注ぎ込
み、2層状態としてから、下層のアンモニア水溶液をマ
グネチックスターラーにより緩やかに撹拌して、MTM
Sの加水分解反応を行った。上層のMTMSが消失した
時点で粒子を取り出し、SEMにより形状を観察した結
果、粒子全面に高さ0.2〜1.1μmの突起物を有
し、最終平均粒径が5.2μmの金平糖状粒子であっ
た。図3に、この粒子のSEM写真図を示す。
【0046】実施例4 実施例1における(1)、(2)と同様の操作を行い、
第2シード粒子液を調製した。 (1)表面処理 実施例1(3)において、数平均分子量(Mn)が50
0のPVAを用いる代わりに、Mnが1000のPVA
を用いた以外は、実施例1(3)と同様にして、平均粒
径4.2μm、CV値1.9%のシード粉体を得た。 (2)異形化処理 実施例1(4)と同条件、同方法により、MTMSの加
水分解反応を行い、粒子全面に突起物を有する金平糖状
粒子を得た。この粒子は、粒子全面に高さ0.2〜0.
6μmの突起物を有し、最終平均粒径が4.9μmの金
平糖状の粒子であった。
【0047】実施例5、6 実施例4において、数平均分子量(Mn)が1000の
PVAの代わりに、Mnが3500(実施例5)および
70000(実施例6)を用いた以外は、実施例4と同
様な操作により、金平糖状粒子が得られることを確認し
た。
【0048】実施例7、8 実施例4において、数平均分子量(Mn)が1000の
PVAの代わりに、Mnが40,000(実施例7)お
よび1,200,000(実施例8)のポリビニルピロ
リドン(PVP)を用いた以外は、実施例4と同様な操
作により、金平糖状粒子が得られることを確認した。
【0049】実施例9 実施例1における(1)、(2)と同様の操作を行い、
第2シード粒子液を調製した。 (1)表面処理 撹拌モーターおよび撹拌翼を備えた500ミリリットル
のガラスビーカーを恒温水槽にセットし、該ビーカーに
ノニオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル[「ノイゲンEA−137(HLB
13)」第一工業薬品(株)製]1.5gとイオン交換
水148.5gで1重量%に調整した水溶液に、上記第
2シード粒子液300ミリリットルを添加して、撹拌混
合した。次いで、25重量%アンモニア水15ミリリッ
トルを添加したのち、12時間保持、撹拌して、平均粒
径4.7μm、CV値1.47%の界面活性剤吸着PM
SO粒子(母体粒子)を得た。 (2)異形化処理 実施例1(4)と同条件、同方法により、MTMSの加
水分解反応を行い、粒子全面に突起物を有する金平糖状
粒子を得た。この粒子は、粒子全面に高さ0.4〜0.
9μmの突起物を有し、最終平均粒径が5.8μmの金
平糖状粒子であった。
【0050】実施例10〜15 実施例9において、「ノイゲンEA−137(HLB1
3)」の代わりに、HLBや種類の異なる第一工業薬品
(株)製のノニオン系界面活性剤である「ノイゲンEA
−157(HLB15)」(実施例10)、「ノイゲン
EA−177(HLB17)」(実施例11)、「ノイ
ゲンEA−73(HLB9)」(実施例12)、「ノイ
ゲンEA−143(HLB14)」(実施例13)、
「ノイゲンES−149(HLB14)」(実施例1
4)、「ノイゲンET−147(HLB14)」(実施
例15)を用いた以外は、実施例9と同様な操作によ
り、それぞれ金平糖状粒子が得られることを確認した。
【0051】実施例16 実施例9において、「ノイゲンEA−137(HLB1
3)」の代わりに、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル「エマルジット9(HLB18〜20)」
[第一工業薬品(株)製]を用いた以外は、実施例9と
同様な操作により、それぞれ金平糖状粒子が得られるこ
とを確認した。
【0052】実施例17 実施例9において、「ノイゲンEA−137(HLB1
3)」の代わりに、ドデシル硫酸ナトリウム[SDS、
HLB40、第一工業薬品(株)製]を用いた以外は、
実施例9と同様な操作により、金平糖状粒子が得られる
ことを確認した。
【0053】なお、「ノイゲンEA−157」、「ノイ
ゲンEA−177」はポリオキシエチレンアルキルアリ
ールエーテル、「ノイゲンEA−73」、「ノイゲンE
A−143」はポリオキシエチレンドデシルフェニルエ
ーテル、「ノイゲンES−149」はポリオキシエチレ
ンオレイン酸エステル、「ノイゲンET−147」はポ
リオキシエチレンアルキルエーテルである。
【0054】
【発明の効果】本発明によれば、母体粒子全面にわたっ
て、ほぼ球状や半球状の突起物が化学結合により強固に
結着した金平糖状のシリカ系微粒子が容易に得られる。
このシリカ系微粒子は、例えば樹脂用充填材や表面に導
電層を被覆した導電性粒子の母材などとして好適に用い
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1において、異形化処理で得られたシリ
カ系微粒子の走査型電子顕微鏡写真図である。
【図2】実施例2において、異形化処理で得られたシリ
カ系微粒子の走査型電子顕微鏡写真図である。
【図3】実施例3において、異形化処理で得られたシリ
カ系微粒子の走査型電子顕微鏡写真図である。
フロントページの続き Fターム(参考) 4G072 AA25 AA41 BB05 CC05 CC11 HH30 KK01 KK03 LL06 MM02 MM21 MM23 MM31 PP17 QQ06 RR05 TT30 UU08 4J037 AA17 AA18 CB23 CC11 CC15 DD01 DD05 DD17 DD24 EE02 EE12 EE14 EE26 EE50 FF01

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 母体粒子全面に、実質上球状および/ま
    たは半球状の突起物を有するシリカ系微粒子であって、
    該突起物が化学結合により母体粒子に結着していること
    を特徴とするシリカ系微粒子。
  2. 【請求項2】 突起物と母体粒子双方の組成が、一般式
    (I) R1nSi(OR24-n ・・・(I) (式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜
    5のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基または
    炭素数7〜10のアラルキル基、R2は炭素数1〜5の
    アルキル基、nは1または2を示し、nが2の場合、2
    つのR1はたがいに同一でも異なっていてもよく、ま
    た、複数のOR2はたがいに同一でも異なっていてもよ
    い。)で表されるアルコキシシラン化合物に由来する組
    成である請求項1に記載のシリカ系微粒子。
  3. 【請求項3】 母体粒子における突起物の高さ/母体粒
    子径の平均値が0.02〜0.5である請求項1または
    2に記載のシリカ系微粒子。
  4. 【請求項4】 (A)一般式(I)で表されるアルコキ
    シシラン化合物を加水分解、縮合させ、場合により得ら
    れた粒子をシード粒子として粒径成長させてポリオルガ
    ノシロキサン粒子を生成させる工程、 (B)上記(A)工程で得られたポリオルガノシロキサ
    ン粒子を、表面吸着剤により表面処理する工程、および (C)上記(B)工程で表面処理されたポリオルガノシ
    ロキサン粒子をシード粒子とし、前記一般式(I)で表
    されるアルコキシシラン化合物を用いて、該シード粒子
    全面に突起を形成させる工程、を含むことを特徴とする
    シリカ系微粒子の製造方法。
  5. 【請求項5】 さらに、(D)焼成処理工程を含む請求
    項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 (B)工程における表面吸着剤がポリビ
    ニルアルコール、ポリビニルピロリドンまたは界面活性
    剤である請求項4または5に記載の方法。
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Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003212534A (ja) * 2002-01-23 2003-07-30 Ube Nitto Kasei Co Ltd 導電性シリカ系粒子
JP2003297143A (ja) * 2002-04-01 2003-10-17 Ube Nitto Kasei Co Ltd 導電性粒子およびその製造方法
JP2004035293A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ系粒子、その製造方法及び導電性シリカ系粒子
WO2004076533A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
CN100362042C (zh) * 2003-02-27 2008-01-16 宇部日东化成株式会社 聚有机硅氧烷颗粒的制备方法和二氧化硅颗粒的制备方法
JP2008137822A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金平糖状無機酸化物ゾル、その製造方法および前記ゾルを含む研磨剤
JP2008169102A (ja) * 2006-10-12 2008-07-24 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金平糖状シリカ系ゾルおよびその製造方法
JP2008184371A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Ube Nitto Kasei Co Ltd 金属酸化物粒子の製造方法、金属酸化物粒子および樹脂組成物
JP2009155180A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法
JP2009161371A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd シリカゾルおよびその製造方法
JP2010058985A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd シリカゾルおよびその製造方法
US20110034615A1 (en) * 2008-04-25 2011-02-10 Nikko Rica Corporation Process for producing sugar-plum-shaped particle
KR20130009584A (ko) 2011-07-06 2013-01-23 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 실리카 입자, 그 제조 방법 및 수지 입자
JP2013040081A (ja) * 2011-08-18 2013-02-28 Fuji Xerox Co Ltd シリカ粒子及びその製造方法
KR20130040717A (ko) * 2011-10-14 2013-04-24 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 미립자 및 그의 제조 방법
JP2014162920A (ja) * 2013-02-28 2014-09-08 Nikko Rika Kk 複合粒子、中空ポリオルガノシロキサン粒子、複合粒子の製造方法並びに該粒子を配合した化粧料
US8871344B2 (en) 2010-06-25 2014-10-28 Fuji Xerox Co., Ltd. Hydrophobization treatment of silica particles
US8962139B2 (en) 2011-01-20 2015-02-24 Fuji Xerox Co., Ltd. Resin particle and method for producing the same
US9187502B2 (en) 2010-06-24 2015-11-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica particles and method for producing the same
US9243145B2 (en) 2013-01-28 2016-01-26 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica composite particles and method of preparing the same
US9272916B2 (en) 2007-11-30 2016-03-01 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing
US9394413B2 (en) 2011-01-19 2016-07-19 Fuji Xerox Co., Ltd. Resin particle and method for producing the same
US9416015B2 (en) 2010-06-23 2016-08-16 Fuji Xerox Co., Ltd. Method of producing silica particles
US9708191B2 (en) 2011-12-01 2017-07-18 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica composite particles and method of preparing the same
CN117886328A (zh) * 2022-10-08 2024-04-16 中国科学院化学研究所 一种二氧化硅基树莓状的胶体颗粒及其制备方法

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03208813A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Mitsubishi Kasei Corp 球状シリカの製造方法
JPH03218915A (ja) * 1989-11-29 1991-09-26 Catalysts & Chem Ind Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JPH03257010A (ja) * 1989-12-14 1991-11-15 Nissan Chem Ind Ltd シリカ粒子及びその製造法
JPH03257009A (ja) * 1990-03-08 1991-11-15 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ系フィラー
JPH04240112A (ja) * 1991-01-22 1992-08-27 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ微粒子の製造方法
JPH054812A (ja) * 1991-06-25 1993-01-14 Nippon Steel Chem Co Ltd 微粒子亜球状シリカ及びその製造方法並びにこれを用いた樹脂フイルム
JPH0648720A (ja) * 1992-07-30 1994-02-22 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JPH0687608A (ja) * 1992-09-04 1994-03-29 Ohara Inc 単分散球状シリカの製造方法
JPH0959014A (ja) * 1995-08-22 1997-03-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd 吸湿性シリカ粒子およびその製造方法
JPH10203820A (ja) * 1997-01-17 1998-08-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JP2000017074A (ja) * 1998-04-28 2000-01-18 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
JP2001302227A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JP2001354408A (ja) * 2000-01-19 2001-12-25 Oji Paper Co Ltd シリカ微粒子分散液及びその製造方法
JP2002080598A (ja) * 2000-06-23 2002-03-19 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03218915A (ja) * 1989-11-29 1991-09-26 Catalysts & Chem Ind Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JPH03257010A (ja) * 1989-12-14 1991-11-15 Nissan Chem Ind Ltd シリカ粒子及びその製造法
JPH03208813A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Mitsubishi Kasei Corp 球状シリカの製造方法
JPH03257009A (ja) * 1990-03-08 1991-11-15 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ系フィラー
JPH04240112A (ja) * 1991-01-22 1992-08-27 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ微粒子の製造方法
JPH054812A (ja) * 1991-06-25 1993-01-14 Nippon Steel Chem Co Ltd 微粒子亜球状シリカ及びその製造方法並びにこれを用いた樹脂フイルム
JPH0648720A (ja) * 1992-07-30 1994-02-22 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JPH0687608A (ja) * 1992-09-04 1994-03-29 Ohara Inc 単分散球状シリカの製造方法
JPH0959014A (ja) * 1995-08-22 1997-03-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd 吸湿性シリカ粒子およびその製造方法
JPH10203820A (ja) * 1997-01-17 1998-08-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JP2000017074A (ja) * 1998-04-28 2000-01-18 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
JP2001354408A (ja) * 2000-01-19 2001-12-25 Oji Paper Co Ltd シリカ微粒子分散液及びその製造方法
JP2001302227A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ粒子の製造方法
JP2002080598A (ja) * 2000-06-23 2002-03-19 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003212534A (ja) * 2002-01-23 2003-07-30 Ube Nitto Kasei Co Ltd 導電性シリカ系粒子
JP2003297143A (ja) * 2002-04-01 2003-10-17 Ube Nitto Kasei Co Ltd 導電性粒子およびその製造方法
JP2004035293A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Ube Nitto Kasei Co Ltd シリカ系粒子、その製造方法及び導電性シリカ系粒子
US7476706B2 (en) 2003-02-27 2009-01-13 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. Method for producing polyorganosiloxane particles and for producing silica particles
CN100362042C (zh) * 2003-02-27 2008-01-16 宇部日东化成株式会社 聚有机硅氧烷颗粒的制备方法和二氧化硅颗粒的制备方法
WO2004076533A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
US8118898B2 (en) 2006-10-12 2012-02-21 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Spinous silica-based sol and method of producing the same
JP2008169102A (ja) * 2006-10-12 2008-07-24 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金平糖状シリカ系ゾルおよびその製造方法
JP2013047180A (ja) * 2006-10-12 2013-03-07 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 金平糖状シリカ系ゾル
JP2008137822A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金平糖状無機酸化物ゾル、その製造方法および前記ゾルを含む研磨剤
US8187351B2 (en) 2006-11-30 2012-05-29 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Sol of spinous inorganic oxide particles, method of producing the sol, and polishing agent containing the sol
JP2008184371A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Ube Nitto Kasei Co Ltd 金属酸化物粒子の製造方法、金属酸化物粒子および樹脂組成物
US10160894B2 (en) 2007-11-30 2018-12-25 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing
US9272916B2 (en) 2007-11-30 2016-03-01 Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing
JP2009155180A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法
JP2009161371A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd シリカゾルおよびその製造方法
US20110034615A1 (en) * 2008-04-25 2011-02-10 Nikko Rica Corporation Process for producing sugar-plum-shaped particle
JP2010058985A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd シリカゾルおよびその製造方法
US9416015B2 (en) 2010-06-23 2016-08-16 Fuji Xerox Co., Ltd. Method of producing silica particles
US9187502B2 (en) 2010-06-24 2015-11-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica particles and method for producing the same
US8871344B2 (en) 2010-06-25 2014-10-28 Fuji Xerox Co., Ltd. Hydrophobization treatment of silica particles
US9394413B2 (en) 2011-01-19 2016-07-19 Fuji Xerox Co., Ltd. Resin particle and method for producing the same
US8962139B2 (en) 2011-01-20 2015-02-24 Fuji Xerox Co., Ltd. Resin particle and method for producing the same
US8431633B2 (en) 2011-07-06 2013-04-30 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica particles, manufacturing method thereof and resin particles
KR20130009584A (ko) 2011-07-06 2013-01-23 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 실리카 입자, 그 제조 방법 및 수지 입자
JP2013040081A (ja) * 2011-08-18 2013-02-28 Fuji Xerox Co Ltd シリカ粒子及びその製造方法
JP2013087141A (ja) * 2011-10-14 2013-05-13 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シリコーン微粒子及びその製造方法
KR20130040717A (ko) * 2011-10-14 2013-04-24 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 미립자 및 그의 제조 방법
US9708191B2 (en) 2011-12-01 2017-07-18 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica composite particles and method of preparing the same
US9243145B2 (en) 2013-01-28 2016-01-26 Fuji Xerox Co., Ltd. Silica composite particles and method of preparing the same
JP2014162920A (ja) * 2013-02-28 2014-09-08 Nikko Rika Kk 複合粒子、中空ポリオルガノシロキサン粒子、複合粒子の製造方法並びに該粒子を配合した化粧料
CN117886328A (zh) * 2022-10-08 2024-04-16 中国科学院化学研究所 一种二氧化硅基树莓状的胶体颗粒及其制备方法

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