JP2002035684A - 保護膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた透明性を有する保護膜を形成する方法
の提供。 【解決手段】 少なくともポリマーと、溶剤と含んでな
る組成物を基材に塗布して被膜を形成させ、その被膜
を、不活性ガス雰囲気下において加熱することにより硬
化させることにより基材上に保護膜を形成させる保護膜
形成方法、およびその方法により形成された保護膜を有
する物品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の背景】発明の分野 本発明は、光デバイス用の保護膜の形成方法に関するも
のである。さらに詳しくは、光デバイス、特に液晶表示
素子など、の表示部分に透明性の高い保護膜を形成させ
る方法に関するものである。

【０００２】背景技術 光デバイス、特に液晶表示素子など、の作製にあたり、
ガラスなどの透明基板上にカラーフィルターを設け、こ
の上にインジウムチンオキサイド（以下ＩＴＯという）
などからなる無機薄膜を蒸着し、フォトリソグラフィー
法によるパターニングにより透明電極を形成させた後、
さらにこの上に液晶を配置する方法が主流となってきて
いる。このような場合、該カラーフィルター自体には、
ＩＴＯを蒸着して、フォトリソグラフィー法で透明電極
を形成させるプロセスに耐え得るだけの耐熱性、耐薬品
性が備わっていないため、ＩＴＯ蒸着前にカラーフィル
ター上に保護膜を形成しておく必要がある。

【０００３】この保護膜に要求される特性として、耐熱
性、耐薬品性、密着性、透明性、およびその他が挙げら
れる。特に、光デバイスに用いられる保護膜には透明
性、好ましくは透過率95％以上の透明性、が要求される
ため、より優れた透明性を提供するために各種の保護膜
形成用組成物が検討されている。しかし、いずれの保護
膜形成用組成物を用いても、従来の保護膜形成方法によ
り保護膜を形成させた場合には、その形成過程における
加熱硬化時に該保護膜の透明性、具体的には透過率、が
低下するという問題があった。

【０００４】また、感光性保護膜形成用組成物において
は、露光・現像の処理を行って保護膜を形成させても、
十分な透明性が得られない場合が多い。このような場合
には、透明性をさらに改良するため、露光後に再度露光
を行うブリーチングというプロセスが必要となる。この
ように再度露光を行うことは、製造効率の面からみて好
ましくない。

【０００５】このような問題点に対して、高い透明性を
有する保護膜を効率よく製造する保護膜の形成方法が求
められていた。

【０００６】

【発明の概要】このような問題点に対して、本願発明者
らは、従来知られている保護膜形成用組成物を使用しな
がら、加熱硬化工程を不活性ガスの雰囲気下で行うこと
で、いずれの特性をも犠牲にすることなく、優れた透明
性を有する保護膜を形成できることを見出した。

【０００７】すなわち、本願発明は、ポリマーと溶剤と
を含んでなる保護膜形成用組成物を基材に塗布して被膜
を形成させ、その被膜を加熱することにより硬化させる
ことにより基材上に保護膜を形成させる方法であって、
加熱を不活性ガス雰囲気下において行うことを特徴とす
るものである。

【０００８】本発明の方法によれば、従来知られている
保護膜形成用組成物を用いながら、優れた透明性を有す
る保護膜を効率よく形成させることができる。特に感光
性保護膜形成用組成物においては、従来、ほとんどの場
合に必要であった再露光工程の必要がない。

【０００９】

【発明の具体的説明】＜保護膜形成用組成物＞本発明の
保護膜形成方法において用いられる保護膜形成用組成物
には、従来知られている任意の保護膜形成用組成物を用
いることができる。このような保護膜形成用組成物は、
ポリマーと、溶剤と、必要に応じてその他の成分とを含
んでなる。

【００１０】保護膜形成用組成物は、熱硬化性組成物で
あっても、感光性組成物であってもよい。また、感光性
組成物である場合には、ネガ型感光性組成物であって
も、ポジ型感光性組成物であってもよい。そして、保護
膜形成用組成物の成分はその種類に応じて、任意に選択
することができる。組成物の成分は、本発明の効果を損
なわなければ、特に限定されない。保護膜形成用組成物
の一般的な成分について、組成物の種類ごとに説明する
と以下の通りである。

【００１１】１．熱硬化性組成物 本発明の方法に用いる保護膜形成用組成物が熱硬化性組
成物である場合、その組成物は、ポリマーと溶剤との他
に、一般的に架橋剤を含んでなる。（Ａ）ポリマー 本発明において、保護膜形成用組成物が熱硬化性組成物
である場合、ポリマーは加熱により、ポリマー同士で、
またはポリマーと架橋剤との間で、架橋反応を起こし、
硬化して被膜を形成するものである。このようなポリマ
ーは、目的に応じて任意に選択することができるが、好
ましいもののひとつとしてカルボキシル基を有するポリ
マー（以下、カルボキシル基含有ポリマーという）が挙
げられる。

【００１２】このようなポリマーの好ましい具体例とし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、またはそれらのエス
テルと、ビニル芳香族化合物とのコポリマーが挙げられ
る。アクリル酸、メタクリル酸、またはそれらのエステ
ルの例としては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチルヘ
キシル、アクリル酸フェニル等が挙げられる。また、ビ
ニル芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、およびその他があげられ
る。

【００１３】このコポリマーの共重合形態は特に制限さ
れず、付加重合によるランダムコポリマー、ブロックコ
ポリマー等のいずれでもよい。また、共重合法も特に限
定されず、溶液重合法、乳化重合法等により行われてよ
い。

【００１４】カルボキシル基含有ポリマーの分子量は、
特に限定されないが、スチレン換算重量平均分子量が2,
000〜200,000であることが好ましい。また、このポリマ
ーの重量平均分子量は7,000〜100,000程度が好ましい。

【００１５】また、他の好ましいポリマーとして、水酸
基を有するポリマーが挙げられる。このようなポリマー
は各種のものが知られており、いずれのポリマーも用い
ることができるが、より好ましいものとしてフェノール
・ノボラック樹脂が挙げられる。これは、フェノール
類、例えばフェノール、m-クレゾール、3,5-キシレノー
ル、p-アルキルフェノール、レゾルシン、およびその他
と、アルデヒド類、例えばホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、およびその他、とを反応させて生成させたも
のである。具体的な製造法は、フェノール・ノボラック
樹脂の生成に用いられる一般的な方法から任意のものを
選択することができるが、反応速度の点から、酸または
アルカリを触媒として用いるのがふつうである。

【００１６】（Ｂ）溶剤 本発明においては、前記したポリマーなどの固形成分を
溶解する溶剤として、有機溶剤を用いる。本発明の好ま
しい態様によれば、有機溶剤は、プロピレングリコール
系、エチレングリコール系、乳酸系、酪酸系、酢酸系、
ぎ酸系、γ‐ブチロラクトン溶剤およびこれらの混合物
からなる群から選択されるものであることが好ましい。
これらの有機溶剤の利用により、得られたコーティング
組成物は調製後約６ヶ月間にわたり安定であり、さら
に、塗布ムラのない均質な塗布膜が得られ、その結果、
密着性、平坦性、透明性に優れ、かつ耐久性、耐磨耗
性、耐汚染性、耐薬品性に優れた保護膜を得ることがで
きる。

【００１７】有機溶剤の具体例としては、グリコールエ
ーテルおよびアセテート系溶剤として、プロピレングリ
コールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエ
ーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロ
ピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールプ
ロピルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエー
テル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリ
コールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエー
テル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチ
レングリコール−ｎ−ブチルエーテル、セロソルブアセ
テート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテ−ト、ジエチレングリコールメチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリ
コールブチルエ−テル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールフェニルエーテル、プロピレングリコールエチルエ
ーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルエー
テル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３
−メチル−３−メトキシブタノールが挙げられる。ま
た、乳酸系溶剤として、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸
ブチル、乳酸ペンチルが挙げられる。酢酸系溶剤とし
て、酢酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イ
ソブチル、酢酸メトキシブチル、プロピオン酸ブチル
が、酪酸系溶剤として酪酸イソブチル、酪酸ブチル、ピ
ルビン酸エチルが挙げられる。

【００１８】さらに、本発明の好ましい態様によれば、
有機溶剤としてプロピレングリコールメチルエーテルア
セテート、またはこれを少なくとも含む混合有機溶剤を
用いることが好ましい。プロピレングリコールメチルエ
ーテルアセテートを含む混合有機溶剤を用いる場合、プ
ロピレングリコールメチルエーテルアセテートと共に用
いられる好ましい有機溶剤としては、プロピレングリコ
ール系、エチレングリコール系、乳酸系、酪酸系、酢酸
系、ぎ酸系、γ−ブチロラクトン溶剤およびこれらの混
合物からなる群から選択されるものが挙げられる。

【００１９】（Ｃ）架橋剤 本発明において保護膜形成用組成物が熱硬化性組成物で
ある場合、その組成物は架橋剤成分を含むことが一般的
である。このような架橋剤成分は特に限定されないが、
エポキシ化合物であることが好ましい。エポキシ化合物
としては、ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、およびその他が挙げられ
る。

【００２０】好ましい架橋剤の具体例としては、ビスフ
ェノールアセトンジグリシジルエーテル、フェノールノ
ボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ
樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシ
ジルジアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キ
シレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（ア
ミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジ
ルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエ
タン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジ
ルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプ
ロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−ト
リフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−
エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリ
グリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジル
メタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシ
プロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス
（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチ
ル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−
（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１
−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシフ
ェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェ
ノキシ）−２−プロパノール、およびその他が挙げられ
る。

【００２１】また、架橋剤成分は、化合物の形態ではな
く、置換基の形態で前記のカルボキシル基含有ポリマー
に導入されていてもよい。このとき、架橋剤成分はエポ
キシ基として、あるいは前記した架橋剤の残基として導
入されていることが好ましい。

【００２２】（Ｄ）その他の成分 本発明において保護膜形成用組成物は、前記の成分の他
に、必要に応じて各種の添加剤を含むことができる。こ
こで、その他の添加剤としては、前記した架橋剤の他
に、増感剤、レベリング剤、密着増強剤、界面活性剤、
酸化防止剤、増粘剤、紫外線吸収剤、反応促進剤、およ
びその他が挙げられる。

【００２３】また、本発明の保護膜形成方法に用いる保
護膜形成用組成物には、保護膜形成用組成物を基材上に
塗布したときに、被膜の表面が均一になるようにレベリ
ング剤を用いることができる。使用されるレベリング剤
としては、シラン系レベリング剤、フッ素系レベリング
剤、およびその他が挙げられる。

【００２４】また、本発明の保護膜形成方法に用いる保
護膜形成用組成物には、基材上に塗布された保護膜形成
用組成物が基材と十分な強度をもって密着するように、
密着増強剤を含むことができる。

【００２５】密着増強剤としては、任意のものを用いる
ことができ、そのような密着増強剤としては、例えば、
アルコキシシラン化合物、アルコキシチタン化合物、ア
ルコキシジルコニウム化合物、アルコキシアルミニウム
化合物、およびその他が挙げられる。特に、下記一般式
（Ｉ）で表される、アミノ基含有シラン化合物が好まし
い。 Ｈ₂Ｎ−Ｒ¹¹−Ｓｉ−（ＯＲ¹²）₃ （Ｉ） （式中、Ｒ¹¹は非置換のアルキレン基、Ｒ¹²はそれぞれ
独立に非置換のアルキル基である。）

【００２６】このようなアミノ基含有シラン化合物のう
ち、特に３−アミノプロピルトリエトキシシラン、およ
び３−アミノプロピルトリメトキシシランを用いた場合
に、良好な保護膜を形成させることができる。

【００２７】また、本発明の保護膜形成方法に用いる保
護膜形成用組成物には、保護膜形成用組成物を基材上に
塗布するときの塗布性を改良するために、界面活性剤ま
たは増粘剤を含むことができる。これらの界面活性剤お
よび増粘剤は、従来知られている任意のものを用いるこ
とができる。

【００２８】さらにまた、本発明の方法において、組成
物が熱硬化性組成物である場合、加熱時または光照射時
におきる重合反応を促進するための反応促進剤を含むこ
とができる。このような反応促進剤としては、例えばイ
ミダゾール化合物が挙げられる。

【００２９】イミダゾール化合物を保護膜形成用組成物
に用いると、形成された保護膜はスパッタ条件に付した
ときの耐性が改良される。このようなイミダゾール化合
物としては、下記一般式（ＩＩ）で表されるものを用い
ることが好ましい。

【化３】 （ここで、Ｒ²¹およびＲ²²はそれぞれ独立に、水素、ま
たは置換または非置換のアルキル基、Ｒ²³は、水素、置
換または非置換のアルキル基、またはアリール基Ｒ
²⁴は、水素、置換または非置換のアルキル基である。）

【００３０】これらのうち、特に２−メチルイミダゾー
ル、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジ
ル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチ
ルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘ
プタデシルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾー
ル、２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−フ
ェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイ
ミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチ
ルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイ
ミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾ
ール、２，４−ジアミノ−６−（２’−メチルイミダゾ
リル−（１’））−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−
ジアミノ−６−（２’−ウンデシルイミダゾリル）−エ
チル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（２’
−エチル−４−メチルイミダゾリル−（１’））−エチ
ル−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，５−ジヒドロ
キシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−
５−ヒドロキシメチルイミダゾール、１−シアノエチル
−２−フェニル−４，５−ジ（２−シアノエトキシ）メ
チルイミダゾールを用いることが好ましい。

【００３１】２．ネガ型感光性組成物 本発明の方法に用いる保護膜形成用組成物がネガ型感光
性組成物である場合、その組成物は、ポリマーと溶剤と
の他に、一般的に光重合開始剤および必要に応じて架橋
剤を含んでなる。

【００３２】（Ａ）ポリマー 本発明において、保護膜形成用組成物がネガ型感光性組
成物である場合、ポリマーは後述する光重合開始剤の寄
与により、ポリマー同士で、またはポリマーと光重合開
始剤との間で、架橋反応を起こし、硬化して被膜を形成
するものである。このようなポリマーは、一般的には、
鎖状部分と、光重合開始剤または他のポリマーの反応部
位と結合し得る反応部位とを有するものである。

【００３３】このようなポリマーは当該分野で広く知ら
れており、目的に応じて任意に選択することができる。
これらのポリマーのうち、本発明の方法において好まし
いもののひとつは、下記一般式（ＩＩＩ）で示されるセ
グメントを含むポリマーと、（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）メタクリレートおよびその誘導体からなる群
から選ばれる化合物との反応生成物である。

【化４】 式中、Ｒ³¹は同一または異なっていてもよく、水素原子
またはメチル基からなる群から選ばれる置換基を表わ
し、Ｒ³²は炭素数１〜５の直鎖または分岐鎖構造を有す
るアルキル基を表わす。また、ｍ及びｎは重合度を表わ
し、ｍ／ｎ＝0.5〜2.4（モル比）である。

【００３４】特に、上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ
³¹は少なくとも一方がメチル基であることが好ましく、
またＲ³²は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ま
しく、特にｎ−ブチル基であることが好ましい。更に、
上記一般式（ＩＩＩ）が下記一般式（ＩＶ）で示される
セグメントを含むポリマーであることが、より好まし
い。

【化５】 （式中、ｍ及びｎは前記と同一に定義される。） なお、ｍ／ｎはモル比で0.5〜2.4の範囲にあるが、特に
0.6〜1.7の範囲にあることが好ましい。

【００３５】また、一般式（ＩＩＩ）のポリマーのかわ
りに、フェノール・ノボラック樹脂を用いることもでき
る。このようなフェノール・ノボラック樹脂は、前記熱
可塑性組成物の項に前記したものと同じものが挙げられ
る。

【００３６】また、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）メタクリレートおよびその誘導体からなる群から選
ばれる化合物は、各種の置換基を有するものが挙げられ
るが、特に（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル
メタクリレートが好ましい

【００３７】前記ポリマーと、（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）メタクリレートとの反応生成物の分子量
（Ｍｗ）は、10,000〜80,000の範囲にあるのが好まし
く、特に15,000〜40,000の範囲であることがより好まし
い。また、上記反応物の酸価は20〜100mgKOH/gであるの
が好ましく、特に45〜70mgKOH/gであることがより好ま
しい。

【００３８】（Ｂ）溶剤 保護膜形成用組成物がネガ型感光性組成物である場合に
おいても、前記したポリマーなどの固形成分を溶解する
溶剤として、有機溶剤を用いるが、用いることができる
溶剤の種類は、前記した熱硬化性組成物の場合と同じも
のから選択することができる。

【００３９】（Ｃ）光重合開始剤 光重合開始剤としては、従来知られている任意のものを
用いることができるが、例えば、アジド化合物、ハロメ
チルオキサゾール系化合物、ハロメチル−ｓ−トリアジ
ン化合物、オニウム塩、ベンゾインエーテル類、キサン
トン類、アセトフェノン誘導体、およびその他が挙げら
れる。

【００４０】アジド化合物としては、(i)アジドスチル
ベン類およびその誘導体、例えば４，４’−ジアジドス
チルベン、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−
ジスルホン酸−Ｎ，Ｎ−ジエチレンオキシエチルアミ
ド、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスル
ホン酸−Ｎ−プロピルヒドロキシアミド、４，４’−ジ
アジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、４，４’
−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸−Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミド、４，４’−ジアジドスチルベン−
２，２’−ジスルホン酸ナトリウム、およびその他、(i
i)アジドベンザルシクロヘキサノンならびにその誘導
体、例えば２，６−ジ−（ｐ−アジドベンザル）−シク
ロヘキサノン、２，６−ジ−（ｐ−アジドベンザル）−
４−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジ−（ｐ−アジ
ドベンザル）−４−ｔｅｒｔ−アミルシクロヘキサノ
ン、２，６−ジ−（ｐ−アジドシンナミリデン）−４−
ｔｅｒｔ−アミノシクロヘキサノン、およびその他、(i
ii)アジドシンナミリデンシクロヘキサノン類およびそ
の誘導体、(iv)アジドベンザルケトン類、ｐ−アジドベ
ンザルアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトン、
４，４’−ジアジドカルコン、２，６−ビス（４’−ア
ジドベンザル）アセトン、２，６−ビス（４’−アジド
ベンザル）アセトン−２’−スルホン酸−Ｎ，Ｎ−ジエ
チレンオキシエチルアミド、２，６−ビス（４’−アジ
ドベンザル）−アセトン−２，２’−ジスルホン酸−
Ｎ，Ｎ−ジエチレンオキシエチルアミド、およびその
他、が挙げられる。また、ポリマー鎖にアジド基を導入
したものを用いることもできる。

【００４１】ハロメチルオキサゾール系化合物として
は、例えば２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾ
ール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチ
リル）−１，３，４−オキサジアゾール、およびその他
が挙げられる。

【００４２】また、ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物
としては、特にトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合
物、例えば２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ
−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス
（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジエチルアミノ
フェニル−１，３−ブタジエニル）−ｓ−トリアジン、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−フェニ
ルスチリル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリク
ロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２，４
−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニル−ｓ−トリ
アジン、２［２’（５''−メチルフリル）エチリデン］
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２（２’−フリルエチリデン）−４，６−（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、５，７−ビス（トリブ
ロモメチル）−ｓ−トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジ
ン、およびその他が挙げられる。

【００４３】また、ベンゾインエーテル類としては、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル、およびその他が挙げられる。ベンゾフェノン
類としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロア
セトフェノン、ミヒラーズケトン、ｏ−ベンゾイルメチ
ルベンゾエート、およびその他が挙げられる。キサント
ン類としては、例えば、キサントン、チオキサントン、
２−クロロチオキサントン、２−アルキルチオキサント
ン、２，４−ジアルキルチオキサントン、およびその他
が挙げられる。

【００４４】アセトフェノン誘導体としては、例えばア
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、およびその他が挙げられる。

【００４５】オニウム塩としては、種々のスルホニウム
塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩が挙げられ、具体
例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニル
メチルスルホニウム、ヘキサフルオロホスフェート、α
−ナフチルメチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート（またはヘキサフ
ルオロアンチモネート）、ジフェニル−ｔ−ブチルフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジ
フェニルメトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフル
オロアンチモネート、ジ−ｔ−ブチルフェニルヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホネート（またはヘキサフ
ルオロアンチモネート、またはテトラフルオロボレー
ト）、メトキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタ
ンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、アミノフェニルベンゼンジアゾニ
ウムテトラフルオロボレート、ピレンジアゾニウムテト
ラフルオロボレート等が挙げられる。

【００４６】本発明の方法において、光重合開始剤はこ
れらの中から任意に選択することができる。これらは単
独で用いてもよいし、必要に応じて複数組み合わせて用
いてもよい。また、これらの光重合開始剤は、保護膜形
成用組成物に化合物として添加される他に、前記のポリ
マーに置換基の形で導入されていてもよい。なお、これ
らの中で、ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、特にト
リハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、を用いることが
好ましい。

【００４７】（Ｄ）架橋剤 本発明の方法において、保護膜形成用組成物がネガ型感
光性組成物である場合、必要に応じて、架橋剤をさらに
含んでなることができる。このような架橋剤としては、
前記の熱硬化性組成物に用いるものと同じものから選択
することができるほか、前記ポリマーと反応して架橋マ
トリックスを形成するアルコキシ、アシロキシのような
同種または異種の少なくとも二つの残基を有する化合物
（例えばビス−、トリス−またはテトラ−（ヒドロキシ
メチル）置換芳香族化合物または複素環式芳香族化合
物、ビス−、トリス−またはテトラ−（アセトキシメチ
ル）置換芳香族化合物、または複素環式芳香族化合
物）、メラミン化合物（例えばＮ−ヒドロキシメチル基
を有するメラミン、Ｎ−アルコキシメチル基を有するメ
ラミン、またはＮ−アシロキシメチル基を有するメラミ
ン）、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラー
ル）、ペルオキシド化合物（例えばベンゾイルペルオキ
シド、パラクロロベンゾイルペルオキシド、アセチルペ
ルオキシド、ラウロイルペルオキシド）、ブロック化イ
ソシアネート（例えばイソホロンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイ
ソシアネート、およびその他を種々のブロック剤、例え
ばエタノール、ブタノール、マロン酸ジメチル、イミダ
ゾール、ε−カプロラクタム、メチルセロソルブ、エチ
レングリコール、およびその他でブロック化したもの）
が選択することができる。これらは単独で用いてもよい
し、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００４８】（Ｅ）その他の成分 本発明の方法において、組成物がネガ型感光性組成物で
ある場合、前記の成分の他に、その他の成分を含むこと
もできる。そのような成分としては、前記の熱硬化性組
成物に用いるその他の成分の項において挙げたものを用
いることができる。

【００４９】３．ポジ型感光性組成物 本発明の方法に用いる保護膜形成用組成物がポジ型感光
性組成物である場合、その組成物は、ポリマーと溶剤と
の他に、一般的に感光性成分、および架橋剤を含んでな
る。

【００５０】（Ａ）ポリマー 本発明において、保護膜形成用組成物がポジ型感光性組
成物である場合、ポリマーは前記した熱硬化性組成物の
場合と同様のものから選択することができる。

【００５１】（Ｂ）溶剤 本発明において、保護膜形成用組成物がポジ型感光性組
成物である場合、溶剤は前記した熱硬化性組成物の場合
と同様のものから選択することができる。

【００５２】（Ｃ）感光性成分 本発明に用いられる保護膜形成用組成物がポジ型感光性
組成物である場合、その組成物は感光性成分を含んでな
る。ここで、感光性成分とは、光を吸収して組成物成分
の重合反応を開始させるものをいう。このような感光性
成分を含む保護膜形成用組成物は感光性組成物として作
用する。

【００５３】感光性成分としては、一般的にポジ型感光
性組成物に用いられるものの中から任意に選択すること
ができるが、キノンジアジド基を含むものを用いること
が好ましい。

【００５４】このような感光性成分としては、従来公知
のものをいずれも用いることができるが、好ましいもの
としては、例えば、ナフトキノンジアジドスルホン酸ク
ロリドやベンゾキノンジアジドスルホン酸クロリドと、
酸クロリドと縮合反応可能な官能基を有する低分子化合
物または高分子化合物とを反応させることによって製造
したものが挙げられる。

【００５５】ここで酸クロリドと縮合可能な官能基とし
ては水酸基、アミノ基等が挙げられるが、特に水酸基が
好適である。水酸基を含む低分子化合物としては、例え
ば、ハイドロキノン、レゾルシン、２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、
２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，３，４，６’−ペンタヒドロキシベンゾ
フェノン、およぼその他のポリヒドロキシベンゾフェノ
ン類、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、
ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン−１等
のビス（（ポリ）ヒドロキシフェニル）アルカン類、
４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，
３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタン、４，
４’，２”，３”，４”−ペンタヒドロキシ−３，５，
３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタン、２，
３，４，２’，３’，４’，３”，４”−オクタヒドロ
キシ−５，５’−ジアセチルトリフェニルメタン、およ
びその他のポリヒドロキシトリフェニルメタン類、なら
びにその他が挙げられ、水酸基を含む高分子化合物とし
ては、例えば、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレ
ン、およびその他が挙げられる。

【００５６】特に、感光性成分として１，２−ナフトキ
ノンジアジド骨格と２つ以上のフェノールメチル置換誘
導体からなるメチレン架橋体を構造中に有するものを用
いることが好ましい。このような感光性成分を用いるこ
とで、より透明性の高い保護膜を得ることができる。こ
こで、フェノールメチル置換誘導体とは、フェノール骨
格の炭素に結合した任意の水素がメチル基に置換された
ものであるが、本発明においてはメチル基によって置換
されていないもの（すなわちフェノールそのもの）も包
含するものとする。したがって、２つ以上のフェノール
メチル置換誘導体からなるメチレン架橋体とは、２つ以
上のフェノール骨格がメチレン基により連結されてお
り、フェノール骨格上の任意の水素がメチル基により置
換されているものということもできる。

【００５７】本発明においては、感光性成分は複数の
１，２−ナフトキノンジアジド骨格を有していてもよ
い。１，２−ナフトキノンジアジド骨格は、感光剤の構
造中に少なくとも１個含まれていればよいが、フェノー
ルメチル置換誘導体からなるメチレン架橋体中に存在す
る水酸基の個数を最大として何個であってもよく、特に
限定されないが、１〜５個が好ましく、２〜４個が特に
好ましい。

【００５８】このような感光性成分のうち、本発明の方
法に用いるポジ型感光性組成物に用いる感光性成分とし
ては下記一般式（Ｖａ）〜（Ｖｃ）からなる群から選ば
れる少なくとも１種類のものであることが特に好まし
い。

【化６】 これらの式で表される感光性成分の中で、４つのＤのう
ち３つが１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸でエ
ステル化されているものが最も好ましい。

【００５９】本発明において、感光性成分はその構造中
にフェノールメチル置換誘導体を２つ以上有するもので
あるが、構造中のフェノールメチル置換誘導体は２〜５
個であることが好ましく、特に４個であることが好まし
い。

【００６０】本発明の方法において、感光性成分はこれ
らの中から任意に選択することができる。これらは単独
で用いてもよいし、必要に応じて複数組み合わせて用い
てもよい。また、これらの感光性成分は、保護膜形成用
組成物に化合物として添加される他に、前記のポリマー
に置換基の形で導入されていてもよい。

【００６１】（Ｄ）架橋剤 本発明の方法において、保護膜形成用組成物がポジ型感
光性組成物である場合、必要に応じて、架橋剤を含むこ
とができる。このような架橋剤は、前記のネガ型感光性
組成物の場合と同様のものの中から選択することができ
るが、特にメラミン化合物であることが好ましい。

【００６２】（Ｅ）その他の成分 本発明の方法において保護膜形成用組成物がポジ型感光
性組成物である場合、前記の成分の他に、必要に応じて
各種の添加剤を含むことができる。そのような添加剤と
しては、前記した熱硬化性組成物のその他の成分の項に
挙げたものを用いることができる。

【００６３】また、保護膜形成用組成物がポジ型感光性
組成物である場合、光照射に対する感度を改善するため
に増感剤を添加することができる。増感剤としては、例
えば２−ニトロフルオレン、２，４，７−トリニトロフ
ルオレン、ベンズアンスロン、ピクラミド、１，２−ベ
ンズアントラキノン、１１−クロロ−６−ヒドロキシベ
ンズアンスロン、フェナンスラキノン、４−（４−ブト
キシフェニル）−２，６−ジフェニルチオピリリウムパ
ークロレート、およびその他が例示される。

【００６４】４．組成物の調製

【００６５】本発明の方法において、保護膜形成用組成
物に添加するポリマーの添加量は良好な保護膜が実現で
きる範囲で適宜決定されてよいが、保護膜形成用組成物
の全重量に対して５〜40重量％が好ましく、より好まし
くは10〜30重量％である。

【００６６】また、有機溶剤のコーティング組成物中の
添加量は、ポリマー、およびその他の添加剤の濃度によ
り、適宜調整されてよいが、例えばコーティング組成物
において45〜95重量％の範囲で添加される。

【００６７】保護膜形成用組成物が架橋剤を含む場合、
その添加量は特に限定されないが、ポリマー100重量部
に対して１〜50重量部が好ましく、より好ましくは５〜
40重量部、の範囲である。

【００６８】保護膜形成用組成物が光重合開始剤を含む
場合、その添加量は特に限定されないが、ポリマー100
重量部に対して１〜50重量部が好ましく、より好ましく
は５〜40重量部、の範囲である。

【００６９】保護膜形成用組成物が感光性成分を含む場
合、その添加量は特に限定されないが、ポリマー100重
量部に対して１〜50重量部が好ましく、より好ましくは
５〜40重量部、の範囲である。

【００７０】本発明の保護膜形成方法に用いる保護膜形
成用組成物は、前記の各固体成分を溶剤成分に溶解また
は分散させることにより調製される。調製時における混
合の順序などは特に限定されない。ただし、組成物の安
定性などの点から、組成物を複数の溶液、分散液、また
は粉体の状態で保存し、使用の直前に適宜混合して用い
ることができる。また、組成物を濃縮溶液の形態で調製
し、使用の直前に溶剤で希釈して用いることもできる。

【００７１】＜保護膜の形成方法＞本発明の保護膜の形
成方法は、前記の保護膜形成用組成物を基材に塗布して
被膜を形成させ、その被膜を不活性ガス雰囲気下におい
て加熱することにより硬化させるものである。

【００７２】熱硬化性組成物を用いた場合 本発明において、保護膜形成用組成物として熱硬化性組
成物を用いた場合、一般的には次の工程により保護膜を
形成させる。 （ａ１）基材上に保護膜形成用組成物を塗布する工程、
および（ａ２）塗布された保護膜形成用組成物の被膜を
不活性ガス雰囲気下で加熱して硬化させる工程。

【００７３】本発明の保護膜形成方法を適用することが
可能な基材としては、カラーフィルター、ガラス、ガラ
スフィルター、ブラックマトリクス、各種ポリマー（ポ
リイミド、ポリアミド、ポリエチレン、アクリル樹脂
等）、インジウムチタンオキサイド、窒化珪素、金属酸
化物（酸化チタン、酸化珪素、酸化クロム等）、金属
（アルミ、銅等）が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。

【００７４】本発明の保護膜形成方法では、前記の基材
上に前記の保護膜形成用組成物を塗布する工程を含んで
なる。保護膜形成用組成物の塗布方法は特に限定され
ず、例えばスピンコート法、ロールコート法、スプレー
法等の方法を用いることが出来る。とりわけスピンコー
ト法は、均一な膜が形成させるうえで有用である。

【００７５】本発明の保護膜形成方法では、基材上に塗
布された保護膜形成用組成物の被膜を不活性ガス雰囲気
下で加熱する工程を含んでなる。被膜の加熱は任意の方
法で行うことができる。具体的な加熱手段としては、ホ
ットプレート、加熱炉、対流オーブン、赤外線照射、お
よびその他が挙げられる。

【００７６】本発明の保護膜形成方法において、保護膜
形成用組成物の加熱条件はポリマーの種類、保護膜形成
用組成物の組成等を考慮して適宜決定されてよいが、通
常は、150℃〜270℃、好ましくは170〜250℃、の温度
で、10分〜10時間程度、好ましくは20分〜120分、で加
熱することができる。

【００７７】また、本発明の保護膜形成方法において、
前記の加熱は不活性ガス雰囲気下において行われる。本
発明において不活性ガスとは、保護膜形成用組成物と実
質的に化学反応しない気体をさし、具体的には、窒素、
アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、およびその
他、ならびにそれら混合ガスを包含する。これらのう
ち、取り扱い性やコストなどの点で窒素、アルゴン、お
よびそれらの混合ガスが好ましい。

【００７８】感光性組成物を用いた場合 また、用いる保護膜形成用組成物が感光性である場合、
一般的には次の工程により保護膜を形成させることがで
きる。 （ｂ１）基材上に保護膜形成用組成物を塗布する工程、
（ｂ２）塗布された保護膜形成用組成物の被膜を露光す
る工程、（ｂ３）露光済みの被膜を現像する工程、およ
び（ｂ４）現像済みの被膜を不活性ガス雰囲気下で加熱
して硬化させる工程。

【００７９】保護膜形成用組成物に感光性組成物を用い
た場合においても、基材は前記の熱硬化性組成物を用い
る場合と同様のものから選択することができ、また工程
（ｂ１）および工程（ｂ４）は前記の熱硬化性組成物を
用いる場合と同様に行うことができる。

【００８０】保護膜形成用組成物に感光性組成物を用い
た場合、露光工程（ｂ２）により、保護膜形成用組成物
成分の重合反応を起こさせることができる。光照射は、
一般に保護膜形成用組成物の被膜の所望の部位のみを露
光するように像様露光するのが普通であるが、保護膜形
成用組成物の被膜に対して均一な曝射露光であってもよ
い。

【００８１】露光の方法は慣用の方法により行うことが
でき、特に限定されないが、例えばフォトマスクを介し
た露光、またはステッパーなどを用いた走査露光などの
方法が用いられる。

【００８２】露光に用いられる光は、感光性成分が感度
を有する波長の放射線であれば任意のものが選択できる
が、通常、波長が250〜500nmの紫外線が用いられる。ま
た照射量は、露光部分において十分な架橋反応が起こる
ように調製されるが、一般には10〜500mJ/cm^２の範囲で
ある。

【００８３】露光済みの感光性樹脂組成物層は、現像工
程（ｂ３）において、通常、アルカリ溶液により現像さ
れる。感光性組成物がポジ型の場合、現像により、感光
性樹脂組成物層の化学線が照射された部分が除去されて
ポジ像を得ることができる。また、感光性組成物がネガ
型の場合には、現像により、感光性樹脂組成物層の化学
線が照射された部分が残留し、照射されなかった部分が
除去されてネガ像を得ることができる。現像液には、フ
ォトレジストの現像に用いられる慣用の現像液を用いる
ことができる。一般的には、無機アルカリ化合物、第一
アミン、第二アミン、第三アミン、アルコールアミン、
または第四級アンモニウム塩の水溶液が用いられる。よ
り具体的にはテトラメチルアンモニウムハイドライド
（以下TMAHという）、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、
エチルアミン、n-プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ
-n-プロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチル
エタノールアミン、テトラメチルアンモニウム、テトラ
エチルアンモニウム、またはコリンの水溶液が用いられ
る。また、これらの現像液には、必要に応じて、任意の
添加剤、例えば水溶性有機溶媒（具体的にはメタノー
ル、エタノール、およびその他）、界面活性剤、および
その他を添加することもできる。

【００８４】保護膜形成用組成物として感光性組成物を
用いる場合、必要に応じて、露光工程（ｂ２）の前に予
備加熱を行うことができる。この予備加熱は、基材上に
塗布された保護膜形成用組成物から溶剤の全部または一
部分を除去することを目的とするものである。これによ
って、感光性樹脂組成物層が固定され、引き続く露光処
理または現像処理においても基体からはがれ落ちること
が防止される。プレベーク処理は、前記の目的が達成さ
れれば任意の条件で行うことができるが、通常、50〜12
0℃で30秒〜2分間、感光性樹脂組成物層を加熱すること
により行うことができる。

【００８５】また、保護膜形成用組成物として感光性組
成物を用いた場合、工程（ｂ４）により加熱硬化させた
保護膜を、再露光することができる。本発明の保護膜形
成方法においては、このような再露光処理をしなくて
も、十分な透明性を達成できるものであるが、再露光に
よりさらに透明性を改善することも可能である。

【００８６】本発明に保護膜形成方法により保護膜が形
成された基材は、例えば半導体、フラットパネルディス
プレイ、電子機器用途に使用されるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００８７】以下の諸例は本発明をより詳細に説明する
ためのものであり、本発明を限定するためのものではな
い。

【００８８】

【実施例】実施例１〜３、比較例１ａ〜３ｂ 下記の成分からなる感光性保護膜用組成物を調製した。 （サンプルＡ） ポリマー：SU007^* 18.0重量％ 感光剤：ビス[4-ヒドロキシ-3-(2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-5-メチルフェ ニル]メタンの6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソナフタレン-1-スルホン酸エステ ル 3.6重量％ 溶剤：プロピレングリコールメチルエーテル 78.4重量％ （サンプルＢ） ポリマー：SU007 18.0重量％ 感光剤：4,4'-[1-[4-[1-(4-ヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル]フェニル]エ チリデン]ビスフェノールの6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソナフタレン-1-スル ホン酸エステル 3.6重量％ 溶剤：プロピレングリコールメチルエーテル 78.4重量％ （サンプルＣ） ポリマー：SU007 18.0重量％ 感光剤：ビス[4-ヒドロキシ-3-(2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-5-メチルフェ ノル]メタンの6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソナフタレン-1-スルホン酸エステ ル 3.6重量％ 溶解促進剤：4,4-(2-ヒドロキシフェニル)メチレンビス(2,6-キシレノール) 3.0重量％ 溶剤：プロピレングリコールメチルエーテル 78.4重量％ ^* クラリアントジャパン社製ポリマー。モノマー組成は、モル比で、メチルメ タクリレート13％、ヒドロキシプロピルメタクリレート20％、メタクリル酸61% 、n-ブチルアクリレート６％であり、酸価：85mgKOH/g、OH価：78mgKOH/g、分子 量：40,000の性質を有するポリマー。

【００８９】上記の各サンプルを、スピンコーター（ミ
カサ（株）製1H-DX2）を用いて、700 r.p.m./30秒の条
件でそれぞれガラス基板上に塗布した。得られた塗布済
み基板をホットプレートにて、90℃／１分間の条件で加
熱乾燥した。次いで、得られた各塗布済み基板を0.4%TM
AH水溶液を現像液として、ディップ法により１分間現像
した。その後、現像済みの保護膜を有するガラス基板を
空気雰囲気下、または窒素雰囲気下に設定した加熱炉内
で、250℃/30分間加熱して、被膜を硬化させた。得られ
た保護膜を有するガラス基板について、それぞれ400n
m、および500nmにおける透過率を測定した。得られた結
果は下記の通りであった。

【００９０】 加熱炉内気 透過率(%) 透過率(%) サンプル 雰囲気 at 400nm at 500nm 実施例１ Ａ 窒素 78.6 95.6 比較例１ａ Ａ 空気 63.8 90.0 実施例２ Ｂ 窒素 87.4 97.1 比較例２ａ Ｂ 空気 58.2 83.6 実施例３ Ｃ 窒素 82.4 97.2比較例３ａ Ｃ 空気 60.4 88.6

【００９１】この結果より、本発明の方法によれば、同
じ感光性保護膜用組成物を用いても、透明度の高い保護
膜が製造できることがわかる。また、前記の比較例１〜
３において、現像後、加熱硬化前に、ｉ線で200mJ/cm2
の条件で露光、すなわちブリーチング、を行った。得ら
れた保護膜を有するガラス基板の透過率を測定した。得
られた結果は下記の通りであった。

【００９２】

【００９３】この結果より、本発明の方法によれば、ブ
リーチングをしたものよりも高い透明度を有する保護膜
を製造することができ、ブリーチング工程の必要がない
ことがわかる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｚ 27/30 27/30 Ａ Ｇ０３Ｆ 7/022 ６０１ Ｇ０３Ｆ 7/022 ６０１ 7/38 ５１１ 7/38 ５１１ (72)発明者 福 澤 純 一 東京都文京区本駒込二丁目28番８号 文京 グリーンコート センターオフィス９階 クラリアント ジャパン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB17 AB20 AD03 BE01 2H096 AA28 AA30 BA05 BA06 BA09 FA01 FA03 HA03 4D075 BB26X BB42X BB56X EA19 EA45 EB22 EC07 4F100 AH01B AH01H AH04B AH04H AK01B AK24B AK25B AL01B AL05B AR00B AT00A BA02 EH462 EJ422 EJ602 GB41 JB12B JM02B JN01 JN17 JN17B JN303

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリマーと、溶剤とを含んでなる保護膜形
   成用組成物を基材に塗布して被膜を形成させ、その被膜
   を加熱することにより硬化させて基材上に保護膜を形成
   させる方法であって、加熱を不活性ガス雰囲気下におい
   て行うことを特徴とする保護膜形成方法。
2. 【請求項２】前記組成物が、熱硬化性組成物である、請
   求項１に記載の保護膜形成方法。
3. 【請求項３】前記ポリマーが、カルボキシル基を有する
   ポリマーである、請求項１または２に記載の保護膜生成
   方法。
4. 【請求項４】前記組成物が、感光性組成物であり、加熱
   の前に塗布された被膜を露光する、請求項１に記載の保
   護膜形成方法。
5. 【請求項５】前記感光性組成物がネガ型感光性組成物で
   ある、請求項４に記載の保護膜形成方法。
6. 【請求項６】前記ポリマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で
   表されるものである、請求項５に記載の保護膜形成方
   法。 【化１】
7. 【請求項７】前記感光性組成物がポジ型感光性組成物で
   ある、請求項４に記載の保護膜形成方法。
8. 【請求項８】感光性成分が、下記一般式（Ｖａ）〜（Ｖ
   ｃ）からなる群から選ばれる少なくとも１種類のもので
   ある、請求項７に記載の保護膜形成方法。 【化２】
9. 【請求項９】加熱後の被膜を再露光する、請求項４〜８
   のいずれか１項に記載の保護膜形成方法。
10. 【請求項１０】基材が光デバイスの表示部分である、請
    求項１〜９のいずれか１項に記載の保護膜形成方法。
11. 【請求項１１】不活性ガスが、窒素、アルゴン、および
    それらの混合物からなる群から選ばれるガスである、請
    求項１〜１０のいずれか１項に記載の保護膜形成方法。
12. 【請求項１２】請求項１〜１１のいずれか１項の方法に
    より保護膜を形成されたことを特徴とする物品。