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JP2002059062A - エクストルージョン塗布方法、エクストルージョン塗布装置 - Google Patents

エクストルージョン塗布方法、エクストルージョン塗布装置

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Publication number
JP2002059062A
JP2002059062A JP2000253589A JP2000253589A JP2002059062A JP 2002059062 A JP2002059062 A JP 2002059062A JP 2000253589 A JP2000253589 A JP 2000253589A JP 2000253589 A JP2000253589 A JP 2000253589A JP 2002059062 A JP2002059062 A JP 2002059062A
Authority
JP
Japan
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coating
layer
support
extrusion
lip
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000253589A
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English (en)
Inventor
Shigehisa Kawabe
川邉　　茂寿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2000253589A priority Critical patent/JP2002059062A/ja
Priority to US09/933,250 priority patent/US20020050662A1/en
Publication of JP2002059062A publication Critical patent/JP2002059062A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高粘度液においても、支持体の平面性に影響
されずに塗布膜厚の均一な、薄膜、高速の塗布を行うこ
とが可能な塗布方法及び塗布装置の提供。 【解決手段】 バックロールで塗布反対面が保持され、
上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージョン
塗布方法において、最下層粘度をその隣接する層よりも
低くすることを特徴とするエクストルージョン塗布方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バックロールで塗
布反対面が保持された連続搬送する帯状支持体へ塗布す
るエクストルージョン塗布方法に関し、更に詳しくは高
粘度の塗布液を薄膜、高速に塗布することを可能とする
エクストルージョン塗布方法及び塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より連続走行する帯状支持体（以
下、支持体ともいう）に塗布液を塗布する方法として、
ディップ塗布法、ブレード塗布法、エアーナイフ塗布
法、ワイヤーバー塗布法、グラビア塗布法、リバース塗
布法、リバースロール塗布法、エクストルージョン塗布
法、スライド塗布法、カーテン塗布法等が知られてい
る。そして、これらの塗布方法において支持体の幅方向
に均一な乾燥膜厚にするため、塗布装置の寸法精度等に
特別な配慮が払われ注意深く塗布を行っていた。これら
塗布方法の内、本発明のエクストルージョン塗布方法に
付き図で概略を説明する。
【０００３】図１は、バックロールで塗布反対面（以
下、単に背面という）が保持された支持体の保持部へ、
エクストルージョン塗布方式による塗布を示す模式図で
ある。図中１は図中の矢印方向（図中下から上）である
上流から下流に向かって連続搬送される支持体を示す。
２はバックロールを示し、３は同時重層用エクストルー
ジョンコータ（以下、単にコータともいう）を示す。コ
ータとは、供給された塗布液を塗布幅方向に均一に広げ
て支持体に塗布させる塗布機のことをいい、図２に示す
コータ３の模式図で構成を説明する。本発明において上
流側とは、コータ３を基準として、支持体１の繰り出さ
れる側を示し、下流側とは反対側を示す。バックロール
２により背面が保持され、搬送される支持体１の保持部
に、コータ３より塗布液が押し出され塗布が行われる。
この方式の場合は支持体１の背面のバックロール２によ
り支持体の平面性が保持されることで均一な塗布膜厚が
得られ易い塗布方式であることが知られている。
【０００４】図２は３層塗布用のコータの断面を示す模
式図である。図中３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ、３０
１ｄはコーター３を構成しているバーを示し、ボルトで
固定し構成されている。３０２ａ、３０２ｂ、３０２
ｃ、３０２ｄは各バーの先端のリップを示す。３０３
ａ、３０３ｂ、３０３ｃは各バーとバーとの間に出来る
スリットを示す。３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃはコー
ター３の幅方向に延設されたチャンバーを示し、塗布液
は、この各チャンバーの幅手中央あるいは任意の位置に
供給されて塗布幅方向に広げられた後、前記各スリット
を通って各リップより支持体上に押し出されることで塗
布が行われる。同時重層用エクストルージョンコータで
は、必要とする塗布層の数に合わせ、バーの数を増やす
ことで、チャンバー、スリットを構成させることができ
る。コータの塗布幅端部は様々な幅規制手段やサイドプ
レート等で所望の塗布幅を得られるように封止されてい
る。
【０００５】図１で示される塗布方法に関しては、特開
昭５６−９５３６３号、同５０−１４２６４３号に開示
されている単層での塗布方法、および、特開昭４５−１
２３９０号、同４６−２３６号に開示されている重層塗
布方式に関するものなど、塗布方式および塗布装置に関
し多くの特許が出願されている。これらの塗布方法はバ
ックロールで保持された支持体に対してコータを通常１
ｍｍ以下の間隔に保ちながら塗布する方法である。
【０００６】又、支持体の背面がバックロールで保持さ
れた支持体へ塗布するエクストルージョン塗布法は、コ
ータ先端の液流出部リップと支持体との距離を塗布膜厚
の２倍以下にしないと塗布できず、薄膜塗布をするため
にはその距離をきわめて狭くする必要が生じ、コータ先
端のリップの塗布幅方向真直度やバックロールの円筒度
や、バックロールの回転振れ、ロール表面の汚れや異物
等が影響し膜厚が不均一となって良好な塗布が出来ない
といった問題がある。
【０００７】これらバックロールで背面が保持された支
持体へ、コータによる薄膜塗布方法として、ＵＳＰ２，
６８１，２９４号に開示されるように、コータの上流側
で減圧して塗布することが行われている。しかし、ＵＳ
Ｐ２，６８１，２９４号に開示されている方法は、高粘
度塗布液では塗布速度を上げると支持体表面に同伴され
てくる空気の影響で塗布抜けが生じやすいため、塗布液
粘度が低い場合にのみ有効である。しかし塗布液の粘度
が低い場合でも高速塗布が難しいので、高粘度塗布液の
塗布及び高粘度塗布液の高速塗布においては、近年、支
持体の背面がバックロールで支持されていない支持体に
コータを押し付けて塗布を行うエクストルージョン塗布
方式が用いられるようになっている。
【０００８】図３はバックロールで背面が支持されない
支持体へ、エクストルージョン塗布方式による塗布を示
す模式図である。図中４はサポートロールを示す。他の
符号は図１と同義である。
【０００９】サポートロールとは、支持体の背面がバッ
クロールで支持されていない支持体へ、エクストルージ
ョン塗布方式により塗布する場合、支持体の平面性を保
つため、コータの前後の支持体の背面に設置された２本
の搬送用ロールを示す。尚、コータより搬送方向上流側
のロールは塗布面側にあってもかまわない。
【００１０】図３で示される塗布方式に関しては、特開
昭５０−１３８０３６号、同５５−１６５１７２号、特
開平１−２８８３６４号に開示されている単層での塗布
方法、および、特開平２−２５１２６５、同２−２５８
８６２号、同５−１９２６２７号に開示されている重層
塗布方式に関するものなど、塗布方式および塗布装置に
関し多くの特許が出願されている。
【００１１】これら背面がバックロールで支持されてい
ない支持体へ塗布するエクストルージョン塗布法は高粘
度液での高速塗布に対して、非常に優れているが、支持
体の背面が支持されていないため、支持体の平面性が塗
布膜厚の均一性に強く影響し、特に厚い支持体では平面
性を保持することが難しく、塗布膜厚が不均一となり良
好な塗布が出来ないといった問題がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高粘
度（０．０１Ｐａ・ｓ以上）の塗布液の薄膜化、高速塗
布化を可能としたエクストルージョン塗布方法及びエク
ストルージョン塗布装置を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以下の構
成により前記の目的が達成されることを見出した。
【００１４】１）バックロールで塗布反対面が保持さ
れ、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体
へ、２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージ
ョン塗布方法において、最下層粘度をその隣接する層よ
りも低くすることを特徴とするエクストルージョン塗布
方法。
【００１５】２）バックロールで塗布反対面が保持さ
れ、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体
へ、２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージ
ョン塗布方法において、最下層の塗布液にその隣接する
層の塗布液を希釈したものを用いることを特徴とするエ
クストルージョン塗布方法。
【００１６】３）バックロールで塗布反対面が保持さ
れ、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体
へ、２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージ
ョン塗布方法において、最下層の塗布液がその隣接する
層の塗布液と相溶性のある溶媒液であることを特徴とす
るエクストルージョン塗布方法。
【００１７】４）（最下層に隣接する層の塗布液粘度）
／（最下層の塗布液粘度）≧２．５の関係となるように
最下層の塗布液の粘度を調整して塗布することを特徴と
する１）〜３）の何れか１項記載のエクストルージョン
塗布方法。
【００１８】５）（最下層に隣接する層の塗布液粘度／
最下層の塗布液粘度）／（最下層に隣接する層の塗布膜
厚／最下層の塗布膜厚）＜７．５の関係となるようにお
のおのを調整して塗布することを特徴とする１）〜３）
の何れか１項記載のエクストルージョン塗布方法。
【００１９】６）最下層に隣接する層の塗布液粘度が
０．０１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする１）〜
５）の何れか１項記載のエクストルージョン塗布方法。
【００２０】７）バックロールで塗布反対面が保持さ
れ、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体
へ、それぞれ別々に塗布液を押出す２つ以上のスリット
と、それらのスリットを構成する３つ以上のバーで構成
される同時重層用エクストルージョンコータを用いて、
前記帯状支持体へ２層以上の塗布層を同時に塗布するエ
クストルージョン塗布方法において、帯状支持体移動方
向の上流側からｎ番目のリップでの帯状支持体との間隙
ｈｎが、そのリップより上流側で供給される塗布液によ
って形成される塗布直後の塗布膜厚の合計をＷとすると
き、Ｗ≦ｈｎ≦３×Ｗとなるように塗布液の固形分濃度
や塗布膜厚を調整して塗布することを特徴とするエクス
トルージョン塗布方法。
【００２１】８）バックロールで塗布反対面が保持さ
れ、上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体
へ、それぞれ別々に塗布液を押出す２つ以上のスリット
と、それらのスリットを構成する３つ以上のバーで構成
される同時重層用エクストルージョンコータを用いて、
前記帯状支持体へ２層以上の塗布層を同時に塗布するエ
クストルージョン塗布装置において、帯状支持体移動方
向の最上流側以外の各バーの先端部リップと前記帯状支
持体との間隙ｈが、帯状支持体移動方向の上流側に対し
て下流側ほど大きいことを特徴とするエクストルージョ
ン塗布装置。
【００２２】９）上流側からｎ番目のリップでの帯状支
持体との間隙ｈｎが、そのリップより上流側で供給され
る塗布液によって形成される塗布直後の塗布膜厚の合計
をＷとするとき、Ｗ≦ｈｎ≦３×Ｗであることを特徴と
する８）に記載のエクストルージョン塗布装置。
【００２３】１０）１）〜７）の何れか１項記載の塗布
方法を使用することを特徴とする８）又は９）に記載の
エクストルージョン塗布装置。
【００２４】これらの手段により、バックロールで保持
された支持体へのエクストルージョン塗布での高粘度液
の薄膜高速塗布が可能となる。以下、本発明について図
を利用し詳細に説明する。
【００２５】図４は同時多層塗布時のコータ先端部の塗
布状態を表す模式図である。本図では示されていないが
コータは固定されており、バックロール２は支持体１の
搬送速度に合わせ同じ方向に回転している。本図では３
層同時塗布用のコータを示しているが、勿論本図に限定
されるものではない。図中、３０５ａはスリット３０３
ａより押し出される塗布液を示し、３０５ｂはスリット
３０３ｂより押し出される塗布液を示し、３０５ｃはス
リット３０３ｃより押し出される塗布液を示す。Ａ、
Ｂ、Ｃは前記各スリットより押し出された塗布液が、支
持体１に塗布された各層を示し、本発明ではＡを最下層
といい、Ｂを最下層Ａに隣接する層（以下、隣接層とも
いう）、Ｃを最上層という。１は図中の矢印方向（図中
下から上）である上流から下流に向かって連続搬送され
る支持体を示す。ｈは支持体１とリップとの間の距離を
示す。他の符号は図２と同義である。
【００２６】尚、本発明において上流側とはコータ３を
基準にして、支持体１が搬送されてくる側を言う。即ち
本図において、コータ３の最上流側のリップとはリップ
３０２ａを指し、最下流側のリップとはリップ３０２ｄ
を指す。本図は各リップ３０２ａ、３０２ｂ、３０２
ｃ、３０２ｄが全て支持体１からの距離が同じ場合を示
している。
【００２７】本図により塗布するときの各層を構成して
いる塗布液の動きに付いて説明する。コータ３の各スリ
ット３０３ａ、３０３ｂ、３０３ｃより押し出され、コ
ータ３の各リップ３０２ｂ、３０２ｃ、３０２ｄと、あ
る搬送速度で移動している支持体１との間に挟まれた塗
布液３０５ａ、３０５ｂ、３０５ｃには、支持体移動方
向への剪断応力が働き、液が停止状態から支持体１の搬
送速度（塗布速度）まで急速に加速されて引き伸ばされ
る状態となる。この時、塗布速度に対して塗布液の粘度
が高い場合、引き伸ばしに対応がとれず、塗布液がちぎ
れるような状態が発生し、塗布抜けとなって塗布をする
ことができない。この対応のためには塗布速度を下げて
塗布するか、塗布液の供給量を増加し、供給量の増加に
合わせ支持体１とリップとの間の距離ｈを広げることで
塗布可能となるが、塗布膜厚は厚くなってしまう。即
ち、高速薄膜塗布が出来ないことになる。又、反対に塗
布速度に対して塗布液の粘度が低い場合は、引き伸ばし
が可能となるため、高速薄膜塗布が出来るが、塗布液が
低粘度でなければならないため、限られた範囲の塗布液
対応となってしまう。
【００２８】しかし、最下層Ａを構成する塗布液３０５
ａの粘度を隣接層Ｂを構成する塗布液３０５ｂ粘度より
低粘度にした場合、スリット３０３ａより押し出された
塗布液３０５ａはリップ３０２ｂと支持体１の間で急速
に伸ばされ薄膜化する。一方、スリット３０３ｂより押
し出され隣接層を構成する塗布液３０５ｂは、最下層Ａ
を構成する塗布液３０５ａがあたかもスリップ層として
作用し、リップ３０２ｃと塗布液３０５ａとの間での塗
布液３０５ｂの引き伸ばし率は大幅に小さくなり、塗布
液がちぎれるようなことは無くなるため、塗布抜けが発
生しなく、良好な塗布が可能となる。又、塗布液３０５
ｂの引き伸ばし率が大幅に小さくなることで、塗布液が
ちぎれるようなことは無くなるため塗布液供給量を押さ
えることで、薄膜塗布が可能となる。
【００２９】高粘度層は急激な引き伸ばしが無くなるた
め、高粘度層単独の平均速度は低下する。高粘度層塗布
液の供給量が変わらなければ、平均速度が低下した代わ
りに高粘度層の厚さは厚くなる。厚さが厚くなればリッ
プと支持体との距離も拡大可能となる。従って、高粘度
層塗布液供給量を多くする、即ち塗布後の仕上がり膜厚
を厚くすることなく、リップと支持体との距離が拡大可
能となる。一方、この距離を拡大しない場合には、高粘
度層の厚さが厚くなる分だけ供給量の低減が可能であ
り、高粘度層の仕上がり膜厚を薄くすること、即ち薄膜
塗布が可能となる。
【００３０】この最下層Ａを構成する低粘度の塗布液３
０５ａの粘度と、隣接層Ｂを構成する高粘度の塗布液３
０５ｂの粘度との差が大きければ大きい程、最下層Ａを
構成する低粘度の塗布液３０５ａの引き伸ばしが強く、
隣接層Ｂを構成する高粘度の塗布液３０５ｂは引き伸ば
されなくなって、上記の効果は顕著であり、（隣接層Ｂ
の塗布液粘度）／（最下層Ａの塗布液粘度）≧２．５と
して塗布することが望ましい。更に望ましい（隣接層Ｂ
の塗布液粘度）／（最下層Ａの塗布液粘度）の範囲とし
ては２．５〜７．５である。
【００３１】さらに、隣接層Ｂと、最下層Ａの塗布膜厚
も考慮した場合、（隣接層Ｂの塗布液粘度／最下層Ａの
塗布液粘度）／（隣接層Ｂの塗布膜厚／最下層Ａの塗布
膜厚）＜７．５の関係となるように、最下層Ａを構成す
る塗布液３０５ａの粘度、最下層Ａの膜厚を調整して塗
布することが望ましい。更に望ましい（隣接層Ｂの塗布
液粘度／最下層Ａの塗布液粘度）／（隣接層Ｂの塗布膜
厚／最下層Ａの塗布膜厚）の範囲としては２．５〜７．
５である。膜厚比が大きければ大きいほど粘度比も大き
くできる。つまり最下層Ａの塗布膜厚が薄ければ薄いほ
ど、最下層Ａを構成する塗布液３０５ａの粘度も低粘度
化が可能である。これは最下層Ａの膜厚が厚い場合に、
あまり塗布液３０５ａの粘度を低粘度にしてしまうと、
塗膜が不安定になり、最下層Ａの膜厚が不均一となって
塗膜全体が乱れ、良好な塗布ができなくなるためであ
る。つまり、隣接層Ｂを構成する塗布液３０５ｂの粘度
と最下層Ａを構成する塗布液３０５ａの粘度の粘度差を
闇雲に大きくすれば良いわけではなく、これらの膜厚比
で最適な粘度比が存在することを見出した。
【００３２】最下層Ａとして使用する塗布液３０５ａ
は、塗布液３０５ａの分離や凝集による塗布膜面荒れ防
止から、最下層Ａの塗布液３０５ａにその隣接層Ｂの塗
布液３０５ｂを希釈したものを用いるか、その隣接層Ｂ
の塗布液３０５ｂに使用されている溶媒に相溶性のある
液を用いることが望ましい。
【００３３】特に、隣接層に用いられる塗布液の溶媒を
単独で最下層塗布液に用いた場合、乾燥後は蒸発して最
下層が無くなるため、最下層や隣接層の組成を全く考慮
することなく、高粘度隣接層のみでは塗布出来ない高速
塗布や薄膜塗布が可能である。
【００３４】隣接層Ｂの塗布液３０５ｂの粘度として
は、最下層Ａの塗布液３０５ａに近づいた場合は、最下
層Ａの塗布液３０５ａの粘度を低くした効果が得られな
い。本発明の効果は隣接層の塗布液粘度が０．０１Ｐａ
・ｓ以上の場合に顕著に得られる。更に本発明の隣接層
の塗布液粘度の好ましい範囲としては０．０１〜３．０
Ｐａ・ｓである。
【００３５】図５は各リップと支持体１との距離を変え
たコータを使用し、同時多層塗布時のコータ先端部の塗
布状態を表す模式図である。図中３０１ｍはコータを構
成するｍ番目のバーを示し、３０２ｍはバー３０１ｍの
先端のリップを示し、３０１ｎはダイコータを構成する
ｎ番目のバーを示し、３０２ｎはバー３０１ｎの先端の
リップを示し、３０３ｍは、バー３０１ｍとバー３０１
ｎの間のスリットを示す。３０５ｍはスリット３０３ｍ
より押し出される塗布液を示す。
【００３６】Ｍはスリット３０３ｍより押し出された塗
布液３０５ｍが、支持体１に塗布され出来た最上層を示
す。ｈは各リップと支持体１の間隙を示し、ｈ１はリッ
プ３０２ｂと支持体１との間隙を示し、ｈ２はリップ３
０２ｃと支持体１との間隙を示し、ｈｎはリップ３０２
ｎと支持体１との間隙を示す。本図に示される如く、各
リップと支持体１との間隙は、間隙ｈ１を基準にしてｈ
１＜ｈ２＜・・＜ｈｎとなる様に設計されている。尚、
本図では、リップ３０２ａは最上流側に位置するリップ
であり、リップ３０２ｎは最下流側に位置するリップで
ある。
【００３７】Ｗ１は塗布液３０５ａによって形成される
塗布直後の塗布膜厚を示し、Ｗ２は塗布液３０５ｂによ
って形成される塗布直後の塗布膜厚を示し、Ｗｍは塗布
液３０５ｍによって形成される塗布直後の塗布膜厚を示
す。他の符号は図２、図４と同義である。
【００３８】図６は各リップと支持体１との距離を変え
た３層塗布用のコータによる塗布状態を表す模式図であ
る。図６（ａ）は、各リップを同一の高さに製作後、各
バーの組立時に各リップ間に段差を設ける方法で組み立
てたコータを示す。図６（ｂ）は各バー製作時に各リッ
プの高さを合わせこむ方法でバーを製作し組み立てたコ
ータを示す。図中、Ｗ３は塗布液３０５ｃによって形成
される塗布直後の塗布膜厚を示し、ｈ３はリップ３０２
ｄと支持体１との間隙を示す。他の符号は図２、図５と
同義である。本図で示されるコータ３は各リップと支持
体１の間隔がｈ１＜ｈ２＜ｈ３になるように組み立てた
コータである。
【００３９】各リップと支持体１の間隙ｈが前記範囲と
なるようにする手段としては、あらかじめ各塗布層の塗
布膜厚が決定されている場合には、その膜厚に合わせて
各リップの高さを調整したコータを用いて塗布する。リ
ップ高さの調整手段は、図６（ａ）、図６（ｂ）に示す
方法があるが、これらに限定されるものではない。あら
かじめ準備され、リップの高さが決定されているコータ
を用いる場合には、塗布膜厚を調整することになるが、
塗布膜厚を変えてしまうと、乾燥後の膜厚が所望の膜厚
からずれてしまい、製品性能を満たさなくなってしまう
可能性が高い。このような場合には、塗布液の固形分濃
度を調整すれば、乾燥後の膜厚を変えずに乾燥前の塗布
膜厚のみ調整可能である。
【００４０】図７は各リップと支持体１との距離が同じ
コータを使用し、同時多層塗布時のコータ先端部の塗布
状態を表す模式図である。図中の符号は図５と同義であ
る。図５との違いは、各リップと支持体との間隙がｈ１
＝ｈ２・・・・＝ｈｎになる様に設計されていることで
ある。
【００４１】図７に示すコータのように各リップの支持
体１との距離を同一としている場合には、支持体上流側
のリップほどその部分を流れる液量が少ないため、間隙
に対する液量が少なすぎて液流れの安定性が損なわれ、
前記同伴空気の混入で塗膜に塗布抜けが発生し塗布でき
ない場合もある。
【００４２】そのため、図５に示す如く各リップと支持
体との間隙ｈと塗布膜厚の関係を鋭意検討した結果、安
定で良好な塗布が可能な各リップと支持体１との間隙ｈ
は、ｎ番目のリップ３０２ｎより上流側で供給される塗
布液によって形成される各層（Ａ層、Ｂ層・・・Ｍ層）
の塗布直後の塗布膜厚の合計をＷ（Ｗ＝Ｗ１＋Ｗ２・・
・＋Ｗｍ）とするとき、支持体１とリップ３０２ｎの間
隙ｈｎとの関係は、Ｗ≦ｈｎ≦３×Ｗであることが判明
した。
【００４３】図５に示す本発明の多層エクストルージョ
ン塗布装置においては、下流側のリップほど、上層側の
塗布液が追加されて、液量は増加するため、各リップと
支持体との間隙ｈは、支持体移動方向の下流側のリップ
ほど大きいことが有効であると考えられる。即ち、最上
流側リップを除いた各リップの支持体との距離を、それ
ぞれその部分を流れる液量に合わせて最適化することで
良好な塗布が行えることを見出した。
【００４４】比較的低粘度の塗布液においては間隙ｈが
前記範囲になくても良好に塗布可能な場合もあるが、隣
接層の塗布液粘度が０．０１Ｐａ・ｓ以上である場合に
は、効果が顕著となる。
【００４５】本発明で使用されるバックロールは、その
円筒度がコータと同様にリップと支持体の塗布幅手間隙
精度に影響が大きいため、直径が２００ｍｍ以上の大径
の金属で構成されていることが好ましい。
【００４６】本発明で用いられる支持体としては、種類
に制限はなく、紙、プラスチックフィルム、金属シート
等を用いることができる。紙としては、例えばレジンコ
ート紙、合成紙等が挙げられる。また、プラスチックフ
ィルムとしては、ポリオレフィンフィルム（例えばポリ
エチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等）、ポリ
エステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリエチレン２，６−ナフタレートフィル
ム等）、ポリアミドフィルム（例えばポリエーテルケト
ンフィルム等）、セルロースアセテート（例えばセルロ
ーストリアセテート等）等が挙げられる。また、金属シ
ートではアルミニウム板が代表的である。これらに表面
処理、下引き加工等がなされていても使用可能であり、
他の液が事前に塗布された支持体上への塗布においても
適用可能である。また、用いる支持体の厚さについて
も、特に制限はない。
【００４７】本発明で用いることのできる塗布液として
は、特に制限はなく、例えば写真感光材料、熱現像記録
材料、アブレーション記録材料、磁気記録媒体、綱板表
面処理、等の塗布液（下引き処理液、上塗り液、裏面層
液等を含む）の塗布に適用可能である。
【００４８】
【実施例】実施例１ 以下に示す方法に従って、有機銀を含有した画像記録媒
体を作製した。
【００４９】［支持体の作製］ （下引済み支持体の作製）市販２軸延伸熱固定済みの厚
さ１００μｍ、幅１０００ｍｍポリエチレンテレフタレ
ート（以降、単にＰＥＴと略す）フィルムの両面に８Ｗ
／ｍ2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下
引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗
設、乾燥させて下引層Ａ−１とし、また反対側の面に下
記帯電防止加工下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍ
になるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−
１とした。
【００５０】 〈下引塗布液ａ−１〉 ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） 、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート （２５質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１リットルに仕上げる 〈下引塗布液ｂ−１〉 ブチルアクリレート（４０質量％）、スチレン（２０質量％）、 グリシジルアクリレート（４０質量％）の共重合体ラテックス液 （固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１リットルに仕上げる 引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、
８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上
には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍ
になる様に下引層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には
下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設し、
下引き支持体を作製した。
【００５１】 〈下引上層塗布液ａ−２〉 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2になる質量 （Ｃ−１） ０．２ｇ （Ｃ−２） ０．２ｇ （Ｃ−３） ０．１ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水で１リットルに仕上げる 〈下引上層塗布液ｂ−２〉 （Ｃ−４） ６０ｇ （Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ 硫酸アンモニウム ０．５ｇ （Ｃ−６） １２ｇ ポリエチレングリコール（質量平均分子量６００） ６ｇ 水で１リットルに仕上げる
【００５２】
【化１】
【００５３】
【化２】
【００５４】（下引済み支持体の熱処理）上記の下引済
み支持体の下引乾燥工程において、支持体を１４０℃で
加熱し、その後徐々に冷却した。
【００５５】（バック層塗布済み支持体の作製）下記組
成のバック面側塗布液を、前記作製した支持体の下引層
Ｂ−２上に、公知の塗布機を用いて塗布し、乾燥は６０
℃、１５分間で行い、感光層及び保護層塗布用の支持体
とした。
【００５６】 〈バック面側塗布液〉 酢酸セルロース（１０％メチルエチルケトン溶液） １５ｍｌ／ｍ2 染料−Ｂ ７ｍｇ／ｍ2 染料−Ｃ ７ｍｇ／ｍ2 マット剤：単分散度１５％平均粒子サイズ１０μｍ単分散シリカ ３０ｍｇ／ｍ2 Ｃ9Ｈ19−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3Ｎａ １０ｍｇ／ｍ2
【００５７】
【化３】
【００５８】［感光層、保護層の塗布］上記、バック層
塗布済み支持体の下引層Ａ−２上に塗布する感光層塗布
液及び保護層塗布液を準備した。
【００５９】〈感光層塗布液〉 《ハロゲン化乳剤Ａの調製》水９００ｍｌ中にイナート
ゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解して
温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｇ
を含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭化
カリウムと沃化カリウムを硝酸銀に対し等モル、〔Ｉｒ
（ＮＯ）Ｃｌ5〕塩を銀１モル当たり１×１０-6モル及
び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０-6モルを含
む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコン
トロールドダブルジェット法で添加した。その後、４−
ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザ
インデンを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して、平
均粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％、投影直径
面積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体
沃臭化銀粒子を得た。この乳剤に、ゼラチン凝集剤を用
いて凝集沈降させ脱塩処理後、フェノキシエタノール
０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整し
て、ハロゲン化銀乳剤を得た。さらに、得られたハロゲ
ン化銀乳剤に、塩化金酸及び無機硫黄で化学増感を行い
ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。
【００６０】上記単分散度及び投影直径面積の変動係数
は、下式により算出した。 単分散度＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１
００ 投影直径面積の変動係数＝（投影直径面積の標準偏差）
／（投影直径面積の平均値）×１００ 《ベヘン酸Ｎａ溶液の調製》９４５ｍｌの純水にベヘン
酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇ、ステアリン酸
５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌを添
加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを加えた後、５５℃に
冷却して３０分攪拌させてベヘン酸Ｎａ溶液を得た。 （プレフォーム乳剤の調製）上記のベヘン酸Ｎａ溶液に
前記ハロゲン化銀乳剤Ａを１５．１ｇ添加し水酸化ナト
リウム溶液でｐＨ８．１に調整した後に１モル／Ｌの硝
酸銀溶液１４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分
攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。出来たベ
ヘン酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の
粒子であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除
き、更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させ、次
ぎに、ポリビニルブチラール（平均分子量３０００）の
メチルエチルケトン溶液（１７質量％）５４４ｇとトル
エン１０７ｇを徐々に添加して混合した後に、メディア
分散機により分散させプレフォーム乳剤を調製した。
【００６１】 〈感光層塗布液の調製〉 プレフォーム乳剤 ２４０ｇ 増感色素−１（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ ピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液） ３ｍｌ 臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ カブリ防止剤−２（１０％メタノール溶液） １．２ｍｌ ２−（４−クロロベンゾイル安息香酸（１２％メタノール溶液）） ９．２ｍｌ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍｌ トリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液） １７ｍｌ 現像剤−１（２０％メタノール溶液） ２９．５ｍｌ
【００６２】
【化４】
【００６３】 〈表面保護層塗布液〉 《表面保護層塗布液の調製》 アセトン ３５ｍｌ／ｍ2 メチルエチルケトン １７ｍｌ／ｍ2 酢酸セルロース ２．３ｇ／ｍ2 メタノール ７ｍｌ／ｍ2 フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ2 ４−メチルフタル酸 １８０ｍｇ／ｍ2 テトラクロロフタル酸 １５０ｍｇ／ｍ2 テトラクロロフタル酸無水物 １７０ｍｇ／ｍ2 マット剤：単分散度１０％平均粒子サイズ４μｍ単分散シリカ ７０ｍｇ／ｍ2 Ｃ9Ｈ19−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3Ｎａ １０ｍｇ／ｍ2 上記、感光層塗布液及び表面保護層塗布液を図４に示す
コータを用いて、３層（最下層、隣接層、保護層（最上
層））同時重層塗布を行った。この時、最下層塗布液と
隣接層塗布液粘度を変化させ表１に示す試料を作製し
た。最下層塗布液としては、上記感光層塗布液を使用
し、粘度はメチルエチルケトン（ＭＥＫ）による希釈度
合いで粘度変化を行った。隣接層塗布液としては、前記
感光層塗布液を使用し、粘度変化はＭＥＫによる希釈度
合いで行った。尚、塗布速度は１００ｍ／分、塗布幅９
５０ｍｍ、最上層塗布膜厚１０μｍ、最下層塗布膜厚１
０μｍになる様に塗布した。
【００６４】
【表１】
【００６５】表中、ａは最下層の塗布液粘度（ｍＰａ・
ｓ）、ｂは隣接層塗布液粘度（ｍＰａ・ｓ）を示す。
【００６６】表１で示す条件で塗布した時、隣接層塗布
下限膜厚と目視による塗布ムラ観察の結果を表２に示
す。尚、隣接層塗布下限膜厚とは隣接層の塗布液供給量
を徐々に減少させ、塗布状態を目視で観察し、塗布が出
来なくなる直前の塗布液供給量を確認し、塗布幅と塗布
速度から次式より算出した。
【００６７】隣接層塗布下限膜厚（μｍ）＝単位時間当
たりの塗布液供給量／（単位時間当たりの塗布速度×塗
布幅）
【００６８】
【表２】
【００６９】表中、Ｘは（ｂ／ａ）／（ｃ／ｄ）を示
す。式中ｃは隣接層塗布膜厚（μｍ）、ｄは最下層塗布
膜厚（μｍ）を示す。尚、ａ、ｂは表１と同義である。
【００７０】表２に示す如く本発明のｂ／ａ≧２．５、
（ｂ／ａ）／（ｃ／ｄ）＜７．５の条件を満たすとき塗
布ムラ、膜厚ムラも無く安定した薄膜塗布が出来ること
が確認出来た。尚、試料１−１０の場合はａ／ｂ≧２．
５は満たしているが、（ａ／ｂ）／（ｃ／ｄ）＜７．５
を満たしていないため、薄膜塗布は出来たが塗布ムラ、
膜厚ムラが強く、求める性能が得られなかった。
【００７１】実施例２ 実施例１の実験をするときに、最下層の塗布液を表３に
示す塗布液を使用し、隣接層の塗布膜厚を３０μｍ、最
下層の塗布膜厚を３μｍにして、他は実施例１と同じ条
件で塗布を行った。目視による塗布表面の状態の観察結
果を表３に示す。
【００７２】
【表３】
【００７３】表中、ａは最下層の塗布液粘度（ｍＰａ・
ｓ）、ｂは隣接層塗布液粘度（ｍＰａ・ｓ）を示す。
【００７４】上表に示す如く、隣接層に含まれない溶媒
を用いた場合には、塗布膜面の面荒れが発生し良好な塗
布膜が得られなかった。
【００７５】実施例３ 隣接層膜厚を３０μｍとした他は実施例１と同じ条件で
塗布し、隣接層に塗布ムラが発生しない塗布上限速度
（ｍ／分）を測定した結果を表４に示す。尚、塗布上限
速度とは塗布速度を上げて行ったとき塗布が出来る限界
の塗布速度を言う。
【００７６】
【表４】
【００７７】表中、ａは最下層の塗布液粘度（ｍＰａ・
ｓ）、ｂは隣接層塗布液粘度（ｍＰａ・ｓ）を示す。ｅ
は塗布上限速度（ｍ／分）を示す。
【００７８】表４に示す如く本発明のｂ／ａ≧２．５を
満たしている場合、高速塗布が可能で有ることを確認し
た。
【００７９】実施例４ 実施例１で示したバック層塗布済み支持体を使用し、バ
ック層塗布済み支持体の下引層Ａ−２上に、実施例１で
示した感光層塗布液及び保護層塗布液を使用し図６
（ａ）に示すコータを用いて３層（最下層、隣接層、保
護層）同時重層塗布を行った。この時、最下層と隣接層
の間のリップ３０２ｂと支持体１の距離ｈ１を表５に示
す様に調整し、隣接層の塗布適性を試験した結果を表５
に示す。尚、リップ３０２ｃと支持体１の距離ｈ２を１
００μｍ、リップ３０２ｄと支持体１の距離ｈ３を１２
０μｍに固定した。最下層塗布液及び隣接層塗布液とし
ては、前記感光層塗布液を使用し、メチルエチルケトン
による希釈で粘度を５００ｍＰａ・ｓに調整した。尚、
塗布速度は３０ｍ／分、塗布幅９５０ｍｍ、最下層塗布
膜厚１０μｍ、隣接層塗布膜厚３０μｍ、保護層（最上
層）塗布膜厚は１０μｍになるようにした他は実施例３
と同じ条件で塗布した。塗布適性の評価は目視による観
察結果を示す。
【００８０】
【表５】
【００８１】上表に示す如く、最下層と隣接層の間のリ
ップと支持体の距離が、最下層膜厚の１〜３倍の場合、
塗布適性は良好で有ることを確認出来た。
【００８２】実施例５ 実施例１で示したバック層塗布済み支持体を使用し、バ
ック層塗布済み支持体の下引層Ａ−２上に、実施例１で
示した感光層塗布液及び保護層塗布液を使用し図６
（ａ）に示す押出しコータを用いて３層（最下層、隣接
層、保護層（最上層））同時重層塗布を行った。この
時、最下層と隣接層の間のリップ３０２ｂと支持体１の
距離ｈ１を表６に示す様に調整し、隣接層の塗布適性を
試験した結果を表６に示す。尚、リップ３０２ｃと支持
体１の距離ｈ２を１００μｍ、リップ３０２ｄと支持体
１の距離ｈ３を１２０μｍに固定した。最下層塗布液と
しては、前記感光層塗布液を使用し、粘度はメチルエチ
ルケトンによる希釈で粘度を１００ｍＰａ・ｓに調整し
た。隣接層塗布液としては、前記感光層塗布液を使用
し、メチルエチルケトンによる希釈で粘度を５００ｍＰ
ａ・ｓに調整した。尚、塗布速度は１００ｍ／分、塗布
幅９５０ｍｍ、最下層塗布膜厚１０μｍ、隣接層塗布膜
厚３０μｍ、保護層（最上層）塗布膜厚は１０μｍにな
る様に塗布した。塗布適性の評価は目視による観察結果
を示す。
【００８３】
【表６】
【００８４】上表に示す如く、最下層と隣接層の間のリ
ップと支持体の距離が、最下層膜厚の１〜３倍の場合、
塗布適性は良好で有ることを確認出来た。しかも隣接層
の塗布液粘度／最下層の塗布液粘度≦２．５とすること
で、実施例４よりも全体に高速で塗布が可能であった。
【００８５】実施例６ 実施例１で示した感光層塗布液及び保護層塗布液を使用
し、図６（ａ）に示す押出しコータを用いて３層（最下
層、隣接層、保護層（最上層））同時重層塗布を行っ
た。この時、隣接層と保護層（最上層）の間のリップ３
０２ｃと支持体１の距離ｈ２を表７に示す様に調整し
た。尚、リップ３０２ｂと支持体１の距離ｈ１を３０μ
ｍ、リップ３０２ｄと支持体１の距離ｈ３を１３０μｍ
に固定した。他は実施例５と同じ条件で隣接層の塗布適
性を試験した結果を表７に示す。塗布適性の評価は目視
による観察結果を示す。
【００８６】
【表７】
【００８７】上表に示す如く、隣接層と保護層（最上
層）の間のリップと支持体の距離が、最下層膜厚＋隣接
層の膜厚の１〜３倍の場合、塗布適性は良好で有ること
を確認出来た。
【００８８】実施例７ 実施例１で示した感光層塗布液及び保護層塗布液を使用
し、図６（ｂ）に示すコータを用いて３層（最下層、隣
接層、保護層（最上層））同時重層塗布を行った。この
時、保護層（最上層）の下流側のリップと支持体の距離
ｈ３を表８に示す様に調整し、最下層の膜厚を１０μ
ｍ、隣接層の膜厚を３０μｍ、保護層（最上層）の膜厚
を１０μｍとし、全膜厚は５０μｍとなる様に塗布し
た。尚、リップ３０２ｂと支持体１の距離ｈ１を３０μ
ｍ、リップ３０２ｃと支持体１の距離ｈ２を４０μｍに
固定した。他は実施例５と同じ条件で塗布上限速度を試
験した結果を表８に示す。塗布上限速度とは塗布速度を
上げて行ったとき塗布が出来る限界の塗布速度を言う。
【００８９】
【表８】
【００９０】上表に示す如く、保護層（最上層）の下流
側のリップ３０２ｄと支持体１の距離が、最下層膜厚＋
隣接層の膜厚＋保護層（最上層）膜厚の１〜３倍の場
合、高速塗布適性が良好で有ることを確認した。
【００９１】実施例８ 実施例１で示した感光層塗布液及び保護層塗布液を使用
し、図６（ｂ）に示すコータを用いて３層（最下層、隣
接層、保護層（最上層））同時重層塗布を行った。この
時、隣接層の感光層塗布液をメチルエチルケトンの添加
量を変え固形分を調整し、表９に示す如く塗布膜厚を変
化し、塗布上限速度を試験した結果を表９示す。尚、最
下層の塗布液は、メチルエチルケトンで希釈し１００ｍ
Ｐａ・ｓとし、最下層の膜厚１０μｍ、保護層（最上
層）の膜厚１０μｍとし、隣接層と保護層（最上層）の
間のリップと支持体の距離ｈ２は１５０μｍとした。
【００９２】
【表９】
【００９３】上表に示す如く、隣接層と保護層（最上
層）の間のリップ３０２ｃと支持体の距離ｈ２が、最下
層膜厚＋隣接層の膜厚の１〜３倍の場合、高速塗布適性
が良好で有ることを確認した。
【００９４】実施例９ 下記に示す方法に従って、１００ＭＢ以上のフロッピー
（登録商標）ディスク用の磁気記録材料を作製した。
【００９５】 （塗布液の調製） 〈磁性層塗布液：上層〉 強磁性金属粉末（Ｈｃ：２３５０ Ｏｅ、σｓ：１５５ｅｍｕ／ｇ、 平均長軸長：０．１μｍ、比表面積：５０ｍ2／ｇ） １００部 塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社製：ＭＲ１１０、重合度：３００） １０部 ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８３００） ５部 カーボンブラック（コロンビアカーボン社製：コンダクテックス９７５） １部 アルミナ（住友化学社製：ＨＩＴ５０） １０部 ダイヤモンド微粉 平均粒径０．３μｍ １部 フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 〈非磁性層塗布液：下層〉 非磁性粉末 針状ヘマタイト（戸田工業社製：ＤＰＮ５５０ＢＸ 平均長軸長：０．１４μｍ 非表面積：５０ｍ2／ｇ、 平均短軸長：０．０２４μｍ） １００部 カーボンブラック（コロンビアカーボン社製：コンダクテックス ＳＣ−Ｕ平均一次粒子：２０ｎｍ以下） １２部 塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社製：ＭＲ１０４ 重合度：２５０） １５部 ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８３００） ６部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン ５０〜１５０部適宜調整 シクロヘキサノン １００部 上記の磁性層塗布液、非磁性層塗布液について、それぞ
れ各成分をニーダーで混練した後、磁性層塗布液に所定
のダイアモンド微粉を添加し、サンドミルを使用して分
散させた。得られた分散液に、更にポリイソシアネート
（日本ポリウレタン社製：コロネートＬ）を非磁性層塗
布液には１３部、磁性層塗布液には４部を加え、更にそ
れぞれにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて、濾過して塗布液とし
て調製した。
【００９６】上記の上層用磁性層塗布液、下層用非磁性
層塗布液を図４に示すコータを用いて、最下層の塗布液
粘度を変化させ表１０に示す試料を作製した。尚、最下
層非磁性層塗布液としては、上記下層用非磁性層塗布液
を使用し、粘度はメチルエチルケトンによる希釈度合い
で粘度変化を行った。隣接層塗布液としては、上記の上
層用磁性層塗布液を使用し、粘度は１．５Ｐａ・ｓと一
定にし、得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５
μｍになるようにその直後にその上に磁性層の厚さが
０．２μｍになるように、９５０ｍｍ幅、厚さ６２μｍ
で中心表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上に同時重層塗布を行った。上記条件で塗布した
ときの隣接層塗布下限膜厚の測定結果を表１１に示す。
隣接層塗布下限膜厚とは隣接層塗布液粘度ｇを一定にし
ておき、最下層の塗布液粘度ｆを変化させ、各粘度で塗
布液供給量を徐徐に減らし、塗布が出来なくなる直前の
塗布液供給量を確認し、塗布幅と塗布速度から次式より
算出した。
【００９７】隣接層塗布下限膜厚（μｍ）＝単位時間当
たりの塗布液供給量／（単位時間当たりの塗布速度×塗
布幅）
【００９８】
【表１０】
【００９９】表中、ｆは最下層の塗布液粘度（Ｐａ・
ｓ）、ｇは隣接層塗布液粘度（Ｐａ・ｓ）を示す。
【０１００】
【表１１】
【０１０１】表中、Ｘは（ｇ／ｆ）／（ｉ／ｊ）を示
す。式中、ｉは隣接層塗布膜厚（μｍ）、ｊは最下層塗
布膜厚（μｍ）を示す。尚、ｇ、ｆは表１１と同義であ
る。
【０１０２】表１０、表１１に示す如く本発明のｇ／ｆ
≧２．５、（ｇ／ｆ）／（ｉ／ｊ）＜７．５の条件を満
たすとき塗布ムラ、膜厚ムラも無く安定した薄膜塗布が
出来ることが確認出来た。尚、試料９−６の場合はｇ／
ｆ≧２．５は満たしているが、（ｇ／ｆ）／（ｉ／ｊ）
＜７．５を満たしていないため、薄膜塗布は出来たが塗
布ムラ、膜厚ムラが強く求める性能が得られなかった。
【０１０３】
【発明の効果】本発明によれば、バックロールで保持さ
れた支持体へのコータによるエクストルージョン塗布に
おいて、高粘度塗布液の高速薄膜同時多層塗布が可能に
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】バックロールで塗布反対面が保持された支持体
の保持部へ、エクストルージョン塗布方式による塗布を
示す模式図である。
【図２】３層塗布用の同時重層用エクストルージョンコ
ータの断面を示す模式図である。
【図３】バックロールで背面が支持されない支持体へ、
エクストルージョン塗布方式による塗布を示す模式図で
ある。
【図４】同時多層塗布時の同時重層用エクストルージョ
ンコータ先端部の塗布状態を表す模式図である。
【図５】各リップと支持体との距離を変えた同時重層用
エクストルージョンコータを使用し、同時多層塗布時の
同時重層用エクストルージョンコータ先端部の塗布状態
を表す模式図である。
【図６】各リップと支持体との距離を変えた３層塗布用
の同時重層用エクストルージョンコータによる塗布状態
を表す模式図である。
【図７】各リップと支持体との距離が同じ同時重層用エ
クストルージョンコータを使用し、同時多層塗布時の同
時重層用エクストルージョンコータ先端部の塗布状態を
表す模式図である。
【符号の説明】
１ 支持体 ２ バックロール ３ 同時重層用エクストルージョンコータ ３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ、３０１ｄ、３０１ｍ、
３０１ｎ バー ３０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃ、３０２ｄ、３０２ｍ、
３０２ｎ リップ ３０３ａ、３０３ｂ、３０３ｃ、３０３ｄ、３０３ｍ
スリット ３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃ チャンバー ３０５ａ、３０５ｂ、３０５ｃ、３０５ｍ 塗布液 ｈ、ｈ１、ｈ２、ｈ３、ｈｍ 距離 Ａ 最下層 Ｂ 最下層に隣接する層 Ｃ、Ｍ 最上層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｃ 1/74 ３５１ Ｇ０３Ｃ 1/74 ３５１ Ｆターム(参考） 2H023 EA03 2H123 AB00 AB03 AB23 BC00 BC01 CB00 CB03 4D075 AC05 AC72 AC80 AC92 AC93 AC96 AE23 AE27 CA48 DA04 DB07 DB18 DB33 DB36 DB48 DB53 DC27 EA07 EA31 4F041 AA12 AB02 BA05 BA13 BA24 BA57 CA02 CA23

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 バックロールで塗布反対面が保持され、
    上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
    ２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージョン
    塗布方法において、最下層粘度をその隣接する層よりも
    低くすることを特徴とするエクストルージョン塗布方
    法。
  2. 【請求項２】 バックロールで塗布反対面が保持され、
    上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
    ２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージョン
    塗布方法において、最下層の塗布液にその隣接する層の
    塗布液を希釈したものを用いることを特徴とするエクス
    トルージョン塗布方法。
  3. 【請求項３】 バックロールで塗布反対面が保持され、
    上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
    ２層以上の塗布層を同時に塗布するエクストルージョン
    塗布方法において、最下層の塗布液がその隣接する層の
    塗布液と相溶性のある溶媒液であることを特徴とするエ
    クストルージョン塗布方法。
  4. 【請求項４】 （最下層に隣接する層の塗布液粘度）／
    （最下層の塗布液粘度）≧２．５の関係となるように最
    下層の塗布液の粘度を調整して塗布することを特徴とす
    る請求項１〜３の何れか１項記載のエクストルージョン
    塗布方法。
  5. 【請求項５】 （最下層に隣接する層の塗布液粘度／最
    下層の塗布液粘度）／（最下層に隣接する層の塗布膜厚
    ／最下層の塗布膜厚）＜７．５の関係となるようにおの
    おのを調整して塗布することを特徴とする請求項１〜３
    の何れか１項記載のエクストルージョン塗布方法。
  6. 【請求項６】 最下層に隣接する層の塗布液粘度が０．
    ０１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１〜５
    の何れか１項記載のエクストルージョン塗布方法。
  7. 【請求項７】 バックロールで塗布反対面が保持され、
    上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
    それぞれ別々に塗布液を押出す２つ以上のスリットと、
    それらのスリットを構成する３つ以上のバーで構成され
    る同時重層用エクストルージョンコータを用いて、前記
    帯状支持体へ２層以上の塗布層を同時に塗布するエクス
    トルージョン塗布方法において、帯状支持体移動方向の
    上流側からｎ番目のリップでの帯状支持体との間隙ｈｎ
    が、そのリップより上流側で供給される塗布液によって
    形成される塗布直後の塗布膜厚の合計をＷとするとき、
    Ｗ≦ｈｎ≦３×Ｗとなるように塗布液の固形分濃度や塗
    布膜厚を調整して塗布することを特徴とするエクストル
    ージョン塗布方法。
  8. 【請求項８】 バックロールで塗布反対面が保持され、
    上流から下流に向かって連続搬送される帯状支持体へ、
    それぞれ別々に塗布液を押出す２つ以上のスリットと、
    それらのスリットを構成する３つ以上のバーで構成され
    る同時重層用エクストルージョンコータを用いて、前記
    帯状支持体へ２層以上の塗布層を同時に塗布するエクス
    トルージョン塗布装置において、帯状支持体移動方向の
    最上流側以外の各バーの先端部リップと前記帯状支持体
    との間隙ｈが、帯状支持体移動方向の上流側に対して下
    流側ほど大きいことを特徴とするエクストルージョン塗
    布装置。
  9. 【請求項９】 上流側からｎ番目のリップでの帯状支持
    体との間隙ｈｎが、そのリップより上流側で供給される
    塗布液によって形成される塗布直後の塗布膜厚の合計を
    Ｗとするとき、Ｗ≦ｈｎ≦３×Ｗであることを特徴とす
    る請求項８に記載のエクストルージョン塗布装置。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜７の何れか１項記載の塗布
    方法を使用することを特徴とする請求項８又は９に記載
    のエクストルージョン塗布装置。
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