JP2003126761A

JP2003126761A - 塗布方法

Info

Publication number: JP2003126761A
Application number: JP2001330427A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Akagi; 清赤木
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-10-29
Filing date: 2001-10-29
Publication date: 2003-05-07

Abstract

(57)【要約】【課題】ダイ本体や塗布液に加わる外乱に対して塗布故
障を抑制することができる塗布方法を提供する。【解決手段】バックアップロールによって裏面より支持
されて連続的に走行している支持体表面に対向し設置さ
れている多層スロットダイの各スリットから吐出された
２種類以上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上
の整数）同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支
持体走行方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、そ
の１つ下流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリット
をＳ_xとしたときに、ｎ番目のスリットＳ_nでの規定流量
をＱ_nｍｌ／ｓｅｃ、スリット間隙をＧ_nμｍ、吐出幅を
Ｌｍｍとした場合に特定条件式のせん断速度γ_nｓｅｃ
^-1が、隣り合うスリットＳ_nとＳ_n-1において特定条件式
を満たすことを特徴とする塗布方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布方法に関し、詳
しくは、連続的に走行している支持体表面にバックアッ
プロールに対向し設置されているスロットダイのスリッ
トから吐出された塗布液を塗布する塗布方法（いわゆる
押出塗布方法、エクストルージョン型塗布方法）に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、支持体上に塗布液を塗布する塗布
工程では様々な塗布方式が存在する。その塗布方式は大
きく２つに大別される。１つは必要な塗布液膜を形成す
る量だけ塗布液を吐出させて支持体上に塗布液を塗布す
る前計量型塗布方式、もう１つは予め必要な塗布液膜形
成量よりも余剰な塗布液を支持体上に吐出させ、その
後、何等かの掻取手段で余剰分を取り除く後計量型塗布
方式である。

【０００３】後計量型塗布方式としては、ブレード型塗
布方式、エアーナイフ型塗布方式、ワイヤーバー型塗布
方式などが挙げられる。また、前計量型塗布方式として
は、スロット型（エクストルージョン型とも言う）塗布
方式、カーテン型塗布方式、スライド型塗布方式などが
挙げられる。

【０００４】写真感光材料などの製造工程における塗布
では、塗布精度の高さ、高品位性、支持体の影響（し
わ、ツレなど）の受け難さから、スロット型塗布方式お
よびスライド型塗布方式が採用されることが多かった。

【０００５】これらの塗布方式における塗布装置とは、
支持体に均一に塗布液膜を形成するため塗布液を供給す
る所謂ダイと連続走行する支持体表面を均一に保持させ
るためのバックアップロールとから構成されている。こ
れらの塗布方法はダイのスリットより塗布液を吐出さ
せ、エッジとよばれる部分とバックアップロールに保持
された連続走行する支持体表面との間隙にビード（液だ
まり）を形成させつつ塗布する方法であり、ダイは２つ
以上のブロックを組み合わせ、塗布液を供給する供給口
と、供給された塗布液を幅方向に一旦溜めるためのマニ
ホールドと、マニホールドから塗布液を均一に吐出する
ためのスリットを有しており、ブロックの組み合わせ数
により単層から多層塗布が可能となる塗布方法である。

【０００６】エクストルージョン型塗布方式に関して
は、特開昭５６−９５３６３号、同５０−１４２６４３
号各公報に開示されている単層での塗布方法、および特
開昭４５−１２３９０号、同４６−２３６号に開示され
ている重層塗布方式に関するものなど多くの技術が開示
されている。

【０００７】近年では塗布型材料の高機能化、高品質化
に伴いスロット型塗布方式によって２種類以上の異なる
塗布液を同時に塗布する多層スロット型塗布方法の需要
が高まってきている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このような多層スロッ
トダイによる同時多層塗布方法においては、液液界面間
で生じる塗膜の乱れが問題となることが多い。この液液
界面間で生じる塗膜の乱れがゆず肌故障などと呼ばれる
仕上り塗膜外観の乱れになってしまう。

【０００９】多層スロットダイを用いた多層塗布は近年
になって多用されるようになった塗布方法であり、特に
液液界面間の塗布液の挙動は知られていない。そこで、
経験的・実験的に使用する塗布液に合わせて液液界面間
での乱れが生じない条件調整などを行っていた。

【００１０】本発明の課題は、スロットダイや塗布液そ
のものに何らかの振動が加わった場合や、塗布液の作成
過程における僅かな物性差（たとえば、粘度・表面張力
など）が生じたような場合でも液液界面の乱れが生じ難
い、即ち、ダイ本体や塗布液に加わる外乱に対して塗布
故障を抑制することができる塗布方法を提供することに
ある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
構成によって達成される。１．バックアップロールによって裏面より支持されて連
続的に走行している支持体表面に対向し設置されている
多層スロットダイの各スリットから吐出された２種類以
上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上の整数）
同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支持体走行
方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、その１つ下
流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリットをＳ_xとし
たときに、ｎ番目のスリットＳ_nでの規定流量をＱ_nｍｌ
／ｓｅｃ、スリット間隙をＧ_nμｍ、吐出幅をＬｍｍと
した場合に下記式（１）で表されるせん断速度γ_nｓｅ
ｃ^-1が、隣り合うスリットＳ_nとＳ_n-1において下記式
（２）を満たすことを特徴とする塗布方法。

【００１２】

【数７】

【００１３】ただし式（１）において、ｎ＝１〜ｘ

【００１４】

【数８】

【００１５】ただし式（２）において、ｎ＝２〜ｘ２．バックアップロールによって裏面より支持されて連
続的に走行している支持体表面に対向し設置されている
多層スロットダイの各スリットから吐出された２種類以
上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上の整数）
同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支持体走行
方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、その１つ下
流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリットをＳ_xとし
たときに、ｎ番目のスリットＳ_nにおける規定流量をＱ_n
ｍｌ／ｓｅｃ、スリット間隙をＧ_nμｍ、吐出幅をＬｍ
ｍ、支持体走行速度をＵｍ／ｓｅｃとした場合に下記式
（３）で表される吐出速度ｖ_nｍ／ｓｅｃが、隣り合う
スリットＳ_nとＳ_n-1において下記式（４）を満たすこと
を特徴とする塗布方法。

【００１６】

【数９】

【００１７】ただし式（３）において、ｎ＝１〜ｘ

【００１８】

【数１０】

【００１９】ただし式（４）において、ｎ＝２〜ｘ３．バックアップロールによって裏面より支持されて連
続的に走行している支持体表面に対向し設置されている
多層スロットダイの各スリットから吐出された２種類以
上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上の整数）
同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支持体走行
方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、その１つ下
流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリットをＳ_xとし
たときに、ｎ番目のスリットＳ_nから吐出され塗布され
ており、かつ塗布開始後３００秒以上経過後の塗布液圧
力測定値Ｐ_nＭＰａが、隣り合うスリットＳ_nとＳ_n-1に
おいて下記式（５）を満たすことを特徴とする塗布方
法。

【００２０】

【数１１】

【００２１】ただし式（５）において、ｎ＝２〜ｘ４．バックアップロールによって裏面より支持されて連
続的に走行している支持体表面に対向し設置されている
多層スロットダイの各スリットから吐出された２種類以
上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上の整数）
同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支持体走行
方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、その１つ下
流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリットをＳ_xとし
たときに、ｎ番目のスリットＳ_nを構成する下流側バー
のエッジ下流端での支持体との距離をｄ_nμｍ、最上流
のスリットＳ₁を構成する上流側バーのエッジ下流端で
の支持体との距離をｄ₀μｍ、ｎ番目のスリットＳ_nでの
規定流量をＱ_nｍｌ／ｓｅｃ、吐出幅をＬｍｍ、支持体
走行速度をＵｍ／ｓｅｃとした場合に、隣り合うスリッ
トＳ_nとＳ_n-1において下記式（６）を満たすことを特徴
とする塗布方法。

【００２２】

【数１２】

【００２３】ただし式（６）において、ｎ＝１〜ｘ本発明者は、異なる塗布液同士で形成される液液界面で
発生する可能性のある乱れを抑制するための塗布方法に
ついて、鋭意研究及び実験を行ったところ、以下の方法
が有効であることを見出した。（ア）隣り合うスリットにおいてそれぞれの塗布液が受
けるせん断速度の差が式（２）に示す関係を有している
こと。（イ）隣り合うスリットにおけるそれぞれの塗布液吐出
速度の差が式（４）に示す関係を有していること。（ウ）隣り合うスリットにおいてそれぞれの塗布液が受
ける圧力の差が式（５）に示す関係を有していること。（エ）隣り合うスリットにおいてそれぞれのスリットを
形成する下流側のバーエッジと支持体との距離が式
（６）に示す関係を有していること。

【００２４】本発明は、スロットダイを用いた多層塗布
において、液液界面で発生する乱れによる塗布故障（ゆ
ず肌故障などと言う）を抑制するために、各層ごとの関
係のみを規定している。

【００２５】従来、様々な塗布条件（塗布液粘度など）
・塗布装置条件（スロットダイの寸法的な関係、バック
ロールとスロットダイとの関係など）に着目した発明は
スロットダイを用いた多層塗布でもなされていた可能性
はあるが、本発明はそうした塗布全体での条件ではなく
各々の塗布液層間での関係に着目し、本発明を完成し
た。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細について説明
する。図１に一般的な多層スロット型塗布方式での塗布
装置近傍概略図を示す。支持体１は図示しない巻き出し
部より図示しない支持体清掃手段（ウェブクリーナーな
ど）を経てバックアップロール２により保持され走行し
塗膜乾燥室（図示しない）を通過し巻き取られる。その
際、バックアップロール２に対向して配置されるスロッ
トダイ３により塗布液４−１、４−２、４−３が支持体
１上に塗布される。なお、ここでは図示しないが、塗布
工程で塗膜の未乾燥によるロール汚れ等の問題となる塗
布開始部および塗布終了部における厚膜部分を除去もし
くは防止する機構が具備されているのが一般的である。

【００２７】本発明に用いられる支持体１は種類に制限
はなく、紙、プラスチックフィルム、金属シートなど、
あらゆるものを用いることができる。紙としては、例え
ばレジンコート紙、合成紙などが挙げられる。また、プ
ラスチックフィルムとしては、ポリオレフィンフィルム
（例えばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ムなど）、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリエチレン２，６−ナフ
タレートフィルムなど）、ポリアミドフィルム（例え
ば、ポリエーテルケトンフィルムなど）、セルロースア
セテートフィルム（例えば、セルローストリアセテート
フィルムなど）などが挙げられる。また、金属シートで
はアルミニウム板が代表的である。また、用いる支持体
の厚さ・幅についても、特に制限はない。

【００２８】なお、塗布液４−１、４−２、４−３はタ
ンク８から送液ポンプ７により各々送液され、濾過装置
６と圧力センサー１０を通過したのちスロットダイ３に
導通される。また、スロットダイ３は塗布位置と待機位
置（塗布準備作業等を行うための退避位置）とを移動さ
せるためのステージ５と、待機位置で流出する塗布液を
回収ないし廃液するための塗布液受けチャンバー９を具
備している。さらに濾過装置による塗布液の濾過は絶対
濾過精度または準絶対濾過精度が５〜５０μｍの濾材を
少なくとも１回は通過させることが好ましい。塗布液受
けチャンバーは塗布位置にある際にはバックアップロー
ル２に巻き回される支持体１と接触しない位置に具備さ
れており、塗布液の性質や塗布の必要性に合わせて塗布
中に減圧されることもある。また、多層スロットダイ３
のいずれかのスリット中間延長線がバックアップロール
中心を向いていることが好ましい。

【００２９】本発明に用いられる塗布液４−１、４−
２、４−３としては、特に制限はなく、例えば一般用及
び産業用ハロゲン化銀感光材料用塗布液、感熱材料用塗
布液、熱現像感光材料用塗布液、あるいは高分子材料を
有機溶媒、水などに溶解した液、顔料分散液、コロイド
状分散液などを挙げることができる。

【００３０】図２にスロットダイ３の塗布幅方向中央部
における断面図を示す。スロットダイ３は通常２つ以上
のブロックの組み合わせ（組み合わせはボルトや、油圧
ジャッキなどによる）により構成されている。スロット
ダイ３は塗布液を支持体幅方向に均一に広げるためのス
リット３−３、塗布液を内部に溜めるためのマニホール
ド３−４、マニホールド３−４内に塗布液を導通するた
めの供給口３−５、バックアップロール２に対向しビー
ド（液溜まり）を形成するエッジからなる。エッジはス
リットを挟んで上流側３−２と下流側３−１に別れてい
る。

【００３１】スリットの間隙値は通常０．０５ｍｍ〜２
ｍｍの間で塗布液の粘度等物性値から決定される。ただ
し、塗布幅方向の間隙値のばらつきは２％以下が好まし
い。供給口の大きさは任意であり、その位置は通常スロ
ットダイ塗布幅方向中央である。エッジは上流側３−２
と下流側３−１で長さは同じでも異なっていても良い。
また、その長さは通常０．５ｍｍ〜３ｍｍ程度の範囲で
設定される。また、所定の塗布位置は任意に設定できる
が、塗布液受けチャンバー９での減圧や塗布液物性、塗
布性などにより任意に設定できる。バックアップロール
２上の支持体１とスロットダイエッジ３−１、３−２と
の最も狭い間隙が通常は支持体上に塗布される塗布液膜
厚みの５倍以下である。

【００３２】次に一般的なエクストルージョン型塗布方
式における塗布方法について説明する。スロットダイは
塗布位置から充分に離れた待機位置にある状態でポンプ
７により塗布液を規定流量で送液し、スリット清掃やエ
ッジ清掃などの準備作業を行い、その後支持体１を規定
速度で走行させてからステージ５を移動させスロットダ
イ３を所定の塗布位置へ移動させることにより塗布を開
始する。この際準備作業を終了した後直ちに塗布動作へ
移行する場合と、塗布液流出状態を安定にするため準備
作業に一定の時間をかけるかスリット清掃やエッジ清掃
が終了した後に規定流量のまま塗布液を一定の時間流出
させる場合がある。

【００３３】また、塗布開始直後に支持体１上に塗膜が
形成され、場合によってはエッジ３−１、３−２と支持
体１間のビード部の距離を調節する。この際作業者が目
視で塗膜を観察し、筋などの故障を検査し、問題なけれ
ばその位置からが正常な塗布品となる。

【００３４】その後の塗布中においても、塗布液の流量
監視や塗膜面の故障計等による検査、作業者の目視検査
などにより、塗布故障発生有無を確認することが一般的
である。

【００３５】さらに、塗布液温度とスロットダイ３の温
度差をなくし、それぞれを一定にするために通常は、タ
ンク８をジャケット付きのものにしたり、配管途中に熱
交換器を有したり、スロットダイ３に保温水を流通させ
たりする場合がある。ただし、これらはそれぞれ一定の
温度の保温水を流通させるだけである場合がほとんどで
ある。

【００３６】本発明において前述の圧力センサーは測定
間隔が１Ｈｚ以上、測定精度が測定可能最大圧力の±
０．５％以上のものを使用する。

【００３７】次に本発明の塗布方法について説明する。
多層で塗布される塗布液４−１、４−２、４−３それぞ
れについて、求められている性能を具現化するために、
支持体１の走行速度Uに対する流量Ｑ_nは決められる。こ
の流量Ｑ_nに基づいて式（１）を基にスリット３−３そ
れぞれのせん断速度Ｓ_n、式（３）を基にスリット３−
３それぞれの吐出速度ｖ_nを式（２）・式（４）式を満
たすべく各スリット間隙Ｇ_nを決定する。ただし、この
際には塗布液が送液時にスリット３−３を通過する際受
ける圧力による濾過装置６およびポンプ７、配管への負
荷を考慮しながら決定する必要がある。すなわち、濾過
装置６に入っている濾材の耐圧や配管耐圧、規定流量送
液するためのポンプ耐圧に注意し、安全を考えてスリッ
ト間隙Ｇ_nは決定する必要がある。

【００３８】式（２）を満たす若しくは式（４）を満た
すことで、液液界面乱れに起因する塗布故障を抑制する
ことが可能である事が判明した。そして、式（２）、式
（４）を満たさない場合には、それぞれ満たさない場合
と比較して液液界面乱れに起因する塗布故障が発生する
頻度が高くなる。また、両式の閾値を大きく逸脱するよ
うな場合には全面に塗布スジなどが発生するなどして塗
布が不可能となったりする。

【００３９】さらに、各スリットを構成するバーそれぞ
れは、上記Ｑ_n に基づいて、式（６）を満たすように調
整される。この際のスロットダイエッジ３−１、３−２
とバックアップロール２に支持されている支持体１との
距離関係を図３に記す。図３は３層同時塗布の場合であ
るが、スリットは支持体走行方向上流側から順にＳ₁、
Ｓ₂、Ｓ₃となり、支持体１との距離は図３に記したよう
になる。こうしたエッジ３−１、３−２と支持体１との
位置関係が式（６）を満たしている場合は、満たしてい
ない場合と比較してやはり液液界面乱れによる塗布故障
の発生頻度を著しく抑制することができる。また、式
（６）の範囲を大きく逸脱する場合にはやはり、塗布が
不安定となり正常塗膜が得られない場合があった。

【００４０】各層塗布液４−１、４−２、４−３が十分
に均一な流出となり、塗布を開始した後には式（５）を
満たすようにスロットダイ３の塗布位置、角度などを調
整する。ただし、この際十分安定塗布となった圧力測定
値を使用するため塗布開始後３００秒以上を経過させ
る。この作業では当然ロスが発生する可能性があるた
め、同一塗布製品の場合には一度だけ行えば、後は同じ
条件での操業が可能である。また、この３００秒の間も
液液界面での乱れに起因する塗布故障が発生していなけ
れば、当然製品として使用可能である。式（５）に関し
ても満たす場合は、満たしていない場合と比較してやは
り液液界面乱れによる塗布故障の発生頻度を著しく抑制
することができる。

【００４１】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施様態に限定される
ものではない。

【００４２】実施例には図１〜３の説明で用いた３層同
時塗布スロットダイを使用した。３層それぞれ塗布液
は、特開２００１−２０１８１７号の実施例に記載の下
記塗布液で、それぞれ支持体進行方向上流側より、最上
流スリットＳ₁より感光層塗布液Ａを、最上流スリット
と最下流スリットの間のスリットＳ₂より感光層塗布液
Ｂを、最下流スリットより表面保護層塗布液を流出させ
ている。

【００４３】即ち、感光層塗布液Ａ、感光層塗布液Ｂ及
び表面保護層塗布液の調製は、次の通りである。《感光性ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》（溶液Ａ１）フェニルカルバモイル化ゼラチン８８．３ｇ化合物Ａ（１０％メタノール水溶液）１０ｍｌ臭化カリウム０．３２ｇ水で５４２９ｍｌに仕上げる。（溶液Ｂ１）０．６７ｍｏｌ／Ｌ硝酸銀水溶液２６３５ｍｌ（溶液Ｃ１）臭化カリウム５１．５５ｇ沃化カリウム１．４７ｇ水で６６０ｍｌに仕上げる。（溶液Ｄ１）臭化カリウム１５４．９ｇ沃化カリウム４．４１ｇ塩化イリジウム（１％溶液）０．９３ｍｌ水で１９８２ｍｌに仕上げる。

【００４４】（溶液Ｅ１）０．４ｍｏｌ／Ｌ臭化カリウム水溶液下記銀電位制御量（溶液Ｆ１）水酸化カリウム０．７１ｇ水で２０ｍｌに仕上げる。（溶液Ｇ１）５６％酢酸水溶液１８．０ｍｌ（溶液Ｈ１）無水炭酸ナトリウム１．７２ｇ水で１５１ｍｌに仕上げる。Ａ：ＨＯ(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_n(ＣＨ(ＣＨ₃)ＣＨ₂Ｏ)₁₇(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_mＨ（ｍ＋ｎ＝５〜７）

【００４５】特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８
２８９号に示される混合攪拌機を用いて溶液（Ａ１）に
溶液（Ｂ１）の１／４量及び溶液（Ｃ１）の全量を、４
５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法によ
り４分４５秒を要して添加し、核形成を行った。１分
後、溶液（Ｆ１）の全量を添加した。この間、ｐＡｇの
調整を溶液（Ｅ１）を用いて適宜行った。６分間経過
後、溶液（Ｂ１）の３／４量及び溶液（Ｄ１）の全量
を、４５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら同時混合法
により１４分１５秒かけて添加した。５分間攪拌した
後、４０℃に降温し、溶液（Ｇ１）を全量添加し、ハロ
ゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分２０００ｍｌを残
して上澄み液を取り除き、水を１０リットル加え、攪拌
後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分１５
００ｍｌを残し、上澄み液を取り除き、更に水を１０リ
ットル加え、攪拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。
沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄み液を取り除いた
後、溶液（Ｈ１）を加え、６０℃に昇温し、更に１２０
分攪拌した。最後にｐＨが５．８になるように調整し、
銀量１モル当たり１１６１ｇになるように水を添加し、
感光性ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。この乳剤は、平均粒
子サイズ０．０５８μｍ、粒子サイズの変動係数１２
％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒
子であった。

【００４６】《粉末有機銀塩Ａの調製》４７２０ｍｌの
純水に、ベヘン酸１３０．８ｇ、アラキジン酸６７．７
ｇ、ステアリン酸４３．６ｇ、パルミチン酸２．３ｇを
８０℃で溶解した。次に１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナト
リウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し、濃硝酸６．９ｍ
ｌを加えた後、５５℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液
を得た。

【００４７】この脂肪酸ナトリウム溶液の温度を５５℃
に保ったまま、４５．３ｇの前記感光性ハロゲン化銀乳
剤Ａと純水４５０ｍｌを添加し５分間攪拌した。次に１
ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液７０２．６ｍｌを２分間かけ
て添加し、１０分間攪拌して有機銀塩分散物を得た。そ
の後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イ
オン水を加えて攪拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮
上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排
水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による
水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られ
たケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェ
ットドライヤー（セイシン企業社製）を用いて、窒素ガ
ス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により、
含水率が０．１％になるまで乾燥して有機銀塩の乾燥済
み粉末有機銀塩Ａを得た。尚、有機銀塩組成物の含水率
測定には赤外線水分計を使用した。

【００４８】《予備分散液Ａの調製》ポリビニルブチラ
ール粉末（Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製：ＢｕｔｖａｒＢ−
７９）１４．５７ｇをＭＥＫ１４５７ｇに溶解し、ＶＭ
Ａ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製ディゾルバＤＩＳＰＥＲＭＡ
ＴＣＡ−４０Ｍ型にて攪拌しながら粉末有機銀塩Ａ５
００ｇを徐々に添加し十分に混合することにより予備分
散液Ａを調製した。

【００４９】《感光性乳剤分散液１の調製》予備分散液
Ａをポンプを用いて、ミル内滞留時間が１．５分間とな
るように、０．５ｍｍ径のジルコニアビーズ（東レ社
製：トレセラム）を内容積の８０％充填したメディア型
分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴＳＬ−Ｃ１２ＥＸ型（ＶＭ
Ａ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）に供給し、ミル周速８ｍ／
ｓにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液１を調製
した。

【００５０】《安定剤液の調製》１．０ｇの安定剤−
１、０．３１ｇの酢酸カリウムをメタノール４．９７ｇ
に溶解し安定剤液を調製した。

【００５１】

【化１】

【００５２】《赤外増感色素液Ａの調製》増感色素１、
下記（１）−２７、（２）−３０を各々０．０５ｍｏｌ
／Ａｇｍｏｌ、および５−メチル−２−メルカプトベン
ゾイミダゾールの混合溶液（混合比率１：２５０〜４５
０：２０、増感色素で０．１％ＭＥＫ溶液、３１．３ｍ
ｌ）を暗所にて溶解し赤外増感色素液Ａを調製した。

【００５３】《添加液ａの調製》現像剤としての１，１
−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
−２−メチルプロパンを２７．９８ｇと１．５４ｇの４
−メチルフタル酸、０．４８ｇの前記赤外染料１をＭＥ
Ｋ１１０ｇに溶解し添加液ａとした。

【００５４】《添加液ｂの調製》１．７８ｇずつのカブ
リ防止剤１及びプリントアウト防止剤、更に３．４３ｇ
のフタラジンをＭＥＫ４０．９ｇに溶解し添加液ｂとし
た。

【００５５】《添加液ｃの調製》５．０ｇの省銀化剤Ｈ
−９４をＭＥＫ４５．０ｇに溶解し添加液ｃとした。

【００５６】

【化２】

【００５７】《感光層塗布液Ａの調製》不活性気体雰囲
気下（窒素９７％）において、前記感光性乳剤分散液１
を５０ｇ及びＭＥＫ１５．１１ｇを撹拌しながら２１℃
に保温し、化学増感剤Ｓ−５（０．５％メタノール溶
液）１０００μｌを加え、２分後にカブリ防止剤１（１
０％メタノール溶液）３９０μｌを加え、１時間撹拌し
た。更に臭化カルシウム（１０％メタノール溶液）４９
４μｌを添加して１０分撹拌した後に上記化学増感剤の
１／２０モル相当の金増感剤Ａｕ−５を添加し、更に２
０分攪拌した。続いて、安定剤液１６７ｍｌを添加して
１０分間攪拌した後、１．３２ｇの前記赤外増感色素液
Ａを添加して１時間攪拌した。その後、温度を１３℃ま
で降温して更に３０分攪拌した。１３℃に保温したま
ま、ポリビニルブチラール（ＢｕｔｖａｒＢ−７９：
前出）１３．３１ｇを添加して３０分撹拌した後、テト
ラクロロフタル酸（９．４％ＭＥＫ溶液）１．０８４ｇ
を添加して１５分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、
１２．４３ｇの添加液ａ、１．６ｍｌのイソシアネート
化合物（モーベイ社製、ＤｅｓｍｏｄｕｒＮ３３０
０）の１０％ＭＥＫ溶液、４．２７ｇの添加液ｂを順次
添加し撹拌することにより感光層塗布液Ａを得た。

【００５８】

【化３】

【００５９】《感光層塗布液Ｂの調製》不活性気体雰囲
気下（窒素９７％）において、前記感光性乳剤分散液１
を５０ｇ及びＭＥＫ１５．１１ｇを撹拌しながら２１℃
に保温し、化学増感剤Ｓ−５（０．５％メタノール溶
液）１０００μｌを加え、２分後にカブリ防止剤１（１
０％メタノール溶液）３９０μｌを加え、１時間撹拌し
た。更に臭化カルシウム（１０％メタノール溶液）４９
４μｌを添加して１０分撹拌した後に上記化学増感剤の
１／２０モル相当の金増感剤Ａｕ−５を添加し、更に２
０分撹拌した。続いて、安定剤液１６７ｍｌを添加して
１０分間撹拌した後、１．３２ｇの前記赤外増感色素液
Ａを添加して１時間撹拌した。その後、温度を１３℃ま
で降温して更に３０分撹拌した。１３℃に保温したま
ま、ポリビニルブチラール（ＢｕｔｖａｒＢ−７９；
前出）１３．３１ｇを添加して３０分撹拌した後、テト
ラクロロフタル酸（９．４％ＭＥＫ溶液）１．０８４ｇ
を添加して１５分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、
１２．４３ｇの添加液ａ、１．６ｍｌのイソシアネート
化合物（モーベイ社製、ＤｅｓｍｏｄｕｒＮ３３０
０）１０％ＭＥＫ溶液、４．２７ｇの添加液ｂ、１０．
０ｇの添加液ｃを順次添加し攪拌することにより感光層
塗布液Ｂを得た。

【００６０】《マット剤分散液の調製》セルロースアセ
テートブチレート（ＥａｓｔｍａｎＣｈｅｍｉｃａｌ
社製：ＣＡＢ１７１−１５）７．５ｇをＭＥＫ４２．５
ｇに溶解し、その中に、炭酸カルシウム（Ｓｐｅｃｉａ
ｌｉｔｙＭｉｎｅｒａｌｓ社製：Ｓｕｐｅｒ−Ｐｆｌ
ｅｘ２００）５ｇを添加し、ディゾルバ型ホモジナイザ
にて８０００ｒｐｍで３０ｍｉｎ分散しマット剤分散液
を調製した。

【００６１】《表面保護層塗布液の調製》ＭＥＫ（メチ
ルエチルケトン）８６５ｇを攪拌しながら、セルロース
アセテートブチレート（ＣＡＢ１７１−１５：前出）を
９６ｇ、ポリメチルメタクリル酸（ローム＆ハース社社
製：パラロイドＡ−２１）を４．５ｇ、ビニルスルホン
化合物（ＨＤ−１）を１．５ｇ、ベンゾトリアゾールを
１．０ｇ、弗素系活性剤（サーフロンＫＨ４０：前出）
を１．０ｇ添加し溶解した。次に、上記マット剤分散液
３０ｇを添加して攪拌し、表面保護層塗布液を調製し
た。

【００６２】ＨＤ−１：（ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂ＣＨ₂）₂ＣＨＯＨ

【００６３】以下いずれの例においても塗布速度Ｕは１
ｍ／ｓｅｃ、塗布幅すなわち各層の吐出幅Ｌは５００ｍ
ｍとし、ウェットな状態での付量を感光層塗布液Ａで５
０ｍｌ／ｍ²、感光層塗布液Ｂで５０ｍｌ／ｍ²、保護層
塗布液で１０ｍｌ／ｍ²となるような流量Ｑで送液して
塗布を行っている。用いた支持体はすべて市販の厚み１
００μｍ、幅６００ｍｍのＰＥＴフィルムである。ま
た、塗布後の塗膜乾燥は８０℃で２分間行っている。

【００６４】そして、以下に記すような条件で塗布を行
い試料（以下、サンプルという。）を作成し、液液界面
乱れに起因して発生するゆず肌状故障について評価を行
った。なお、条件比較１〜３までは条件比較４でのサン
プルナンバー１７での条件にスロットダイエッジと支持
体との距離を固定している。また、条件比較４では条件
比較３でのサンプルナンバー１２での条件にスロットダ
イのスリット間隙を固定している。

【００６５】評価はサンプルを全面均一な条件で濃度
１．５となるように露光、現像した後にゆず肌状故障を
目視で判断し、未発生のサンプルを１０点とし、最も程
度の悪いものを１点とする１０点評価とした。＜条件比較１＞下記表１に示すようなスリット間隙で塗
布を行い得られた塗布サンプルを目視評価した。表１に
あるように、せん断速度が式（２）を満たすことにより
ゆず肌状故障を抑制することができた。

【００６６】

【表１】

【００６７】＜条件比較２＞下記表２に示すようなスリ
ット間隙で塗布を行い得られた塗布サンプルを目視評価
した。表２にあるように、吐出速度が式（４）を満たす
ことによりゆず肌状故障を抑制することができた。

【００６８】

【表２】

【００６９】＜条件比較３＞下記表３に示すようなスリ
ット間隙で塗布を行い得られた塗布サンプルを目視評価
した。なお、表３には塗布開始してから３００秒以上経
過後の圧力測定値も示している。表３にあるように、圧
力測定値が式（５）を満たすことによりゆず肌状故障を
抑制することができた。

【００７０】

【表３】

【００７１】＜条件比較４＞下記表４に示すようなスロ
ットダイエッジと支持体との距離で塗布を行い得られた
塗布サンプルを目視評価した。表４にあるように、エッ
ジと支持体との距離が式（６）を満たすことによりゆず
肌状故障を抑制することができた。

【００７２】

【表４】

【００７３】

【発明の効果】本発明に係る塗布方法では、例えばスロ
ットダイや塗布液そのものに何らかの振動が加わった場
合や、塗布液の作成過程におけるわずかな物性差（たと
えば、粘度・表面張力など）が生じたような場合でも液
液界面の乱れが生じにくくなる。即ち、本発明によれ
ば、ダイ本体や塗布液に加わる外乱に対して塗布故障を
抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な多層スロット型塗布方式での塗布装置
近傍概略図

【図２】スロットダイの塗布幅方向中央部における断面
図

【図３】スロットダイエッジと支持体との距離関係を示
す断面図

【符号の説明】

１支持体２バックアップロール３スロットダイ３−１下流側エッジ３−２上流側エッジ３−３スリット３−４マニホールド３−５供給口４、４−１、４−２、４−３塗布液５ステージ６濾過装置７送液ポンプ８タンク９塗布液受けチャンバー１０圧力センサー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】バックアップロールによって裏面より支持
されて連続的に走行している支持体表面に対向し設置さ
れている多層スロットダイの各スリットから吐出された
２種類以上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上
の整数）同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支
持体走行方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、そ
の１つ下流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリット
をＳ_xとしたときに、ｎ番目のスリットＳ_nでの規定流量
をＱ_nｍｌ／ｓｅｃ、スリット間隙をＧ_nμｍ、吐出幅を
Ｌｍｍとした場合に下記式（１）で表されるせん断速度
γ_nｓｅｃ^-1が、隣り合うスリットＳ_nとＳ_n-1において
下記式（２）を満たすことを特徴とする塗布方法。【数１】ただし式（１）において、ｎ＝１〜ｘ【数２】ただし式（２）において、ｎ＝２〜ｘ
【請求項２】バックアップロールによって裏面より支持
されて連続的に走行している支持体表面に対向し設置さ
れている多層スロットダイの各スリットから吐出された
２種類以上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上
の整数）同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支
持体走行方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、そ
の１つ下流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリット
をＳ_xとしたときに、ｎ番目のスリットＳ_nにおける規定
流量をＱ_nｍｌ／ｓｅｃ、スリット間隙をＧ_nμｍ、吐出
幅をＬｍｍ、支持体走行速度をＵｍ／ｓｅｃとした場合
に下記式（３）で表される吐出速度ｖ_nｍ／ｓｅｃが、
隣り合うスリットＳ_nとＳ_n- ₁において下記式（４）を満
たすことを特徴とする塗布方法。【数３】ただし式（３）において、ｎ＝１〜ｘ【数４】ただし式（４）において、ｎ＝２〜ｘ
【請求項３】バックアップロールによって裏面より支持
されて連続的に走行している支持体表面に対向し設置さ
れている多層スロットダイの各スリットから吐出された
２種類以上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上
の整数）同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支
持体走行方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、そ
の１つ下流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリット
をＳ_xとしたときに、ｎ番目のスリットＳ_nから吐出され
塗布されており、かつ塗布開始後３００秒以上経過後の
塗布液圧力測定値Ｐ_nＭＰａが、隣り合うスリットＳ_nと
Ｓ _n-1において下記式（５）を満たすことを特徴とする
塗布方法。【数５】ただし式（５）において、ｎ＝２〜ｘ
【請求項４】バックアップロールによって裏面より支持
されて連続的に走行している支持体表面に対向し設置さ
れている多層スロットダイの各スリットから吐出された
２種類以上の異なる塗布液をｘ層（ただし、ｘは２以上
の整数）同時に支持体へ塗布する塗布方法において、支
持体走行方向を基準として最上流のスリットをＳ₁、そ
の１つ下流のスリットをＳ₂、、、、最下流のスリット
をＳ_xとしたときに、ｎ番目のスリットＳ_nを構成する下
流側バーのエッジ下流端での支持体との距離をｄ_nμ
ｍ、最上流のスリットＳ₁を構成する上流側バーのエッ
ジ下流端での支持体との距離をｄ₀μｍ、ｎ番目のスリ
ットＳ_nでの規定流量をＱ_nｍｌ／ｓｅｃ、吐出幅をＬｍ
ｍ、支持体走行速度をＵｍ／ｓｅｃとした場合に、隣り
合うスリットＳ_nとＳ_n-1において下記式（６）を満たす
ことを特徴とする塗布方法。【数６】ただし式（６）において、ｎ＝１〜ｘ