JP2002028554A

JP2002028554A - 塗布方法及び塗布装置ｊｐ５

Info

Publication number: JP2002028554A
Application number: JP2000214127A
Authority: JP
Inventors: Shigehisa Kawabe; 川邉　　茂寿
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-07-14
Filing date: 2000-07-14
Publication date: 2002-01-29

Abstract

(57)【要約】【課題】幅の広い支持体に対して効率的かつ簡便に塗
布することができて、形成される塗布層の膜厚が均一で
生産性の向上に有利な塗布方法を提供する。【解決手段】搬送される長尺状支持体の幅方向に、複
数のダイスが支持体を支持するバックロールに対向して
並列に配置され、塗布層が形成される塗布方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、広幅の支持体に塗
布を行うのに有利な塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、写真感光材料、熱現像記録材
料、アブレーション記録材料、磁気記録媒体などの記録
材料の製造や、鋼板の表面処理等は走行する支持体或い
は板面への塗布で行われている。

【０００３】連続走行する長尺状支持体（ウェブとも言
う）に塗布液を塗布する方法としては、ディップコート
法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、ワイヤ
ーバーコート法、グラビアコート法、リバースコート
法、リバースロールコート法、エクストルージョンコー
ト法、スライドコート法、カーテンコート法、及びバッ
クロール等で支持されていない位置でのエクストルージ
ョンコート法が知られている。

【０００４】例えば、特開昭５６−９５３６３号、特開
昭５０−１４２６４３号にはダイコータを用いるエクス
トルージョンコート法での単層塗布が、特開昭４５−１
２３９０号、特開昭４６−２３６号には重層塗布がそれ
ぞれ開示されており、これらはバックロールで支持され
たウェブに対してコーターヘッド（ダイスとも言う）を
通常１ｍｍ以下のクリアランスに保ちながら塗布するも
のである。また米国特許第２，６８１，２９４号には上
流側を減圧して安定に塗布する方法が記載されている。

【０００５】いずれの塗布方法においても、ウェブの幅
方向に乾燥膜厚が均一な塗布層を得るために、塗布装置
の寸法精度等に特別の配慮が払われ、注意深く塗布が行
われている。

【０００６】ウェブの幅方向における塗布膜厚分布の改
善方法としては、従来より、コーターヘッドと支持体の
間隙を塗布幅方向で部分的に機械的に調整することが行
われてきた。また最近では、特開平８−２１５６３１号
に記載の様に、間隙調整機構を幅方向に移動可能とし、
任意の位置で調整を可能とする方法、特開平１０−３２
８６００号に記載の様に、金属支持体を高張力で搬送し
て塗布にあたり、コーターヘッドをバックロールによる
支持体の撓みに沿うように撓ませる方法、特開平１１−
４７６６１号に開示されるように、コーターのマニホー
ルド（塗布液溜）内に回転可能なスリットの入った筒状
の円錐体を配する方法、特開平１１−１２８８０５号に
記載の様に、チキソトロピー性を有する高粘度の塗布液
を塗布する場合については、塗布液供給口を２個以上備
えたコーターヘッドを用いる方法等が提案されている。

【０００７】さてコーターヘッドは、一般に研削仕上げ
により精度を出しているが、その研削精度は、被研削物
の塗布幅が広くなればなるほど劣化する。１台のコータ
ーヘッドを用いて全幅を塗布する従来方法では、塗布幅
が広くなればなるほど、コーターヘッドの長さも増大
し、真直度精度（制作精度）の劣化により、スリット間
隙精度が悪化し、その結果塗布幅の広い支持体の塗布に
おいて、均一の膜厚分布を得ることが極めて困難となっ
てくる。

【０００８】それを補完するために、従来の、間隙を機
械的に調整する手段を用いても、装置が大がかりで高価
になるばかりではなく、調整作業も難しく、所望の間隙
に精度良く調整することは困難である。

【０００９】前述の最近の技術についても、塗布幅が１
ｍ以内といったそれ程広くない塗布では有効であるが、
１ｍを超えると装置が大がかりで高価になって、調整作
業も難しく、充分な効果も得られなくなる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、幅の広い支持
体に対して効率的かつ簡便に塗布することができて、形
成される塗布層の膜厚が均一で生産性の向上に有利な塗
布方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、搬送される長尺状支持体の幅方向に、複数のダイス
が支持体を支持するバックロールに対向して並列に配置
され、塗布層が形成される塗布方法、において複数のダイスの全てが１つのバックロー
ルに対向して配置されていること、（２−１）複数のダ
イスが支持体の搬送方向に対して同一の位置に配置され
ている、又は（２−２）複数のダイスのうちの少なくと
も１つが支持体の搬送方向に対して異なる位置に配置さ
れていること、において複数のダイスのうちの少なくとも１つが
他のダイスが対向して配置されているバックロールと異
なるバックロールに対向して配置されていること、、（２−２）において、支持体の幅方向において
ダイス間に塗布層が形成されない領域が無い様にダイス
を配置すること、、、において支持体の幅方向において塗布層
が形成されない領域が塗布後断裁により棄却される範囲
と重なる様に複数のダイスが配置されること、〜において個々のダイスが位置可変機構を有す
ること、全塗布幅の一部の幅を受け持つダイスが複数、少な
くとも１つのバックロールに対向して配置されている塗
布装置、（７−１）複数のダイスの全てが１つのバック
ロールに対向して、直列で配置されていること、（７−
２）複数のダイスの全てが１つのバックロールに対向
し、該複数のダイスのうちの少なくとも一つが他のダイ
スと異なる位置で対向して、それぞれ配置されているこ
と、（７−３）２以上のバックロールを有し、複数のダ
イスのうちの少なくとも１つが他のダイスが対向して配
置されているバックロールと異なるバックロールに対向
して配置されていること、個々のダイスが位置可変機構
を有すること、によって達成される。

【００１２】即ち本発明者は、断裁後の製品の幅に合わ
せた塗布幅のダイスを複数並列使用して、ダイス一台当
たりの塗布幅を狭くすることで、全塗布幅にわたって、
狭幅塗布と同等の膜厚分布の塗布物が得られることを見
出し、本発明に至った。

【００１３】通常、研削精度は被研削物が大きくなれば
なるほど低下し、真直度精度はほぼ長さの２乗に比例し
て劣化すると考えられる。したがって、１台のダイス
で、例えば２倍の塗布幅が塗布可能となるように２倍の
長さのダイスを製作する場合、真直度の値は約４倍とな
り、元のコーターヘッドの真直度が例えば５μｍである
場合には、約２０μｍとなり、大幅に悪化する。

【００１４】この精度の低下は、ダイスの塗布液吐出口
流路（スリットあるいはスロットとも称す）間隙の塗布
幅方向における均一性劣化の要因となり、スリットを構
成する２本のバーの双方で精度の低下が発生するため、
最悪の場合はさらに２倍の精度不良となる。例えば、ス
リット間隙２００μｍを有するコーターの場合、コータ
ーヘッドの真直度が５μｍの時は、（５／２００）×２
＝５％の塗膜均一性（膜厚バラツキ）であるが、それが
２０μｍに劣化すると、塗膜の均一性は、（２０／２０
０）×２＝２０％と大幅悪化する。一般に、幅方向の膜
厚分布は、塗布の幅方向におけるスリット間隙精度の３
倍に比例すると言われており、上記のケースでの幅手膜
厚分布のバラツキ幅は、約１６％から約７０％へと大き
く悪化し、全く製品にならない塗布面品質となってしま
う。

【００１５】このような膜厚分布の劣化を防止する方法
としては、前述のような種々の公知例が挙げられるが、
本発明者がこれらの改善も含めて鋭意検討した結果、単
にダイスそのものの長さを長くして広幅塗布を得るので
はなく、塗布幅手に長さの短い複数のダイスを設置し、
広幅塗布を実現することにより、極めて均一な塗布面品
質が得られることを見出した。

【００１６】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明は搬送される長尺状支持体の幅方向に、複数のダイ
スが支持体を支持するバックロールに対向して並列に配
置され、塗布層が形成されることを特徴とする。

【００１７】本発明でダイスとは、送液された塗布液を
塗布幅方向に均一に広げて支持体に塗着させる塗布液の
押出ノズルを言う。通常、内部にチャンバーあるいはポ
ケット等と呼ばれる塗布幅方向に延設された液溜まり部
があり、塗布液は、この幅手中央あるいは任意の位置に
供給されて塗布幅方向に広げられた後、スリットあるい
はスロット等と呼ばれる平板間の狭い通路を通って、リ
ップあるいはエッジ等と呼ばれる先端より支持体上に押
し出される。単層塗布用ダイスでは、これら液溜まりと
スリットが通常１セットで、フロントバー・バックバー
等と呼ばれる２本のブロックでボルト固定等で構成され
ている。複数層同時塗布用ダイスでは、バーの数を増や
すことで、液溜まり、スリットを塗布層数だけ構成させ
る。本発明で用いるダイスとして、特に制限はなく、公
知のものを用いることができる。またダイスのエッジ形
状として、特に制限はなく、用いる塗布液の粘度や流動
特性、或いは塗布速度、塗布膜厚等の塗布条件に応じ
て、適宜選択し用いることが好ましい。

【００１８】バックロールはその円筒度が、ダイスのリ
ップと支持体の幅方向の間隙精度に大きく影響するた
め、直径２００ｍｍ以上の金属で構成されるのが好まし
い。

【００１９】支持体の幅方向に複数のダイスＤ１〜Ｄｎ
を配置する方法としては、図１の様にバックロール１に
巻き回されて走行する支持体２に対して、同じ位置に
（直列に）並べて設置する方法が挙げられる。ダイスの
塗布幅端部は様々な幅規制手段やサイドプレート等で所
望の塗布幅を得られるように封止されている。この封止
手段がある幅を持っているため、ダイスを横に並べた方
式では最低でも封止手段の幅の分は未塗布部分となる。

【００２０】未塗布部は通常の断裁時の支持体幅方向端
部切除と同様に切除する。なお、ビデオテープ、オーデ
ィオテープや各種粘着テープ等のテープ類等、断裁後の
製品幅が狭く多数の製品に断裁する製品では、特に未塗
布部分を断裁位置に合わせなくても、未塗布部に該当す
る位置の製品を断裁後に廃棄することで、対応可能であ
る。本発明で用いる断裁装置としては、特に制限はな
く、公知のものを使用することができる。

【００２１】また幅が非常に大きく、幅方向中程にエン
ボス加工等がある支持体では、このエンボス部分は、通
常断裁切除するため、この部分が未塗布部となるように
ダイスの長さや設置位置を調整することで、支持体のロ
スを防止できる。

【００２２】バックロールで支持体を支持して塗布する
にあたり、塗布液の揮発性が高いと塗布済の支持体が接
触する部分が気化熱を奪われて冷却し収縮することがあ
るので、最後のダイスで塗布が終了するまでは塗布面か
ら塗布液が蒸発することを防止するのが好ましい。その
具体的手段としては、周辺温度を下げる、塗布液温度を
下げる、バックロール温度を予め下げておく、周辺の蒸
発成分濃度を高くする等の方法やこれらの組み合わせが
挙げられるが、これらに限定されない。

【００２３】また図２に示す様に、バックロール１に対
向して配置される複数のダイスのうちの少なくとも１つ
が支持体２の搬送方向に対して異なる位置に配置される
場合、図３に示す様に、個々のダイス毎にバックロール
を配置する場合等も挙げられる。もちろんこれらと図１
に示す方法を併用してもよい。

【００２４】図４は図２で示す方法で、塗布幅３が重な
らないように設定した場合を示し、支持体幅４に対して
端部及びダイス間に未塗布部５及び６が形成されるが、
図２や図３の方法においては、各ダイスの支持体幅方向
における位置を他のダイスと干渉することなく任意に設
定できるため、前記未塗布部分がなくなるようにダイス
間の個々の位置関係を適宜調整することで、図５で示す
平面図のように、塗布仕上がり面があたかも単一のコー
ターヘッドで塗布を行ったのと同一の塗膜とすることが
できる。乾燥後の仕上がり膜厚を同一あるいは製品規格
内とすることで、前記のように塗布後の断裁位置等を考
慮する必要なく塗布可能で、断裁位置も単一ダイスでの
塗布と同様に、任意の幅方向の位置で断裁可能であり、
もちろん断裁せずにそのままの幅で大判の製品とするこ
とも可能である。

【００２５】複数のダイスの個々の位置の可変機構とし
ては、特に制限はなく、ギヤを用いた移動方式、或いは
塗布位置を自動検出し、目的の塗布位置へ移動するシス
テム方式等により適宜行う。また、複数（ｎ台）のダイ
スを用いて、塗布位置を移動するには、少なくとも（ｎ
−１）台のダイスに可変機能を設け、未塗布部を無くす
よう、それぞれのダイスの塗布位置を修正することが好
ましい。

【００２６】塗布中にスジ等の塗布故障が発生した場合
や、ダイスの清掃等が必要になった場合、ダイスを一時
支持体から後退させることができるように、個々のダイ
スを単独に後退可能な機構とすることで、故障の発生し
たダイスのみを後退し、他のダイスは塗布を続けること
が可能で、ロスになる部分が低減でき、歩留まりの向上
ができて好ましい。

【００２７】塗布液供給系は、供給釜、配管、供給ポン
プで構成され、必要に応じて配管各所にバルブ、液排出
口、フィルター、流量計、脱泡機、熱交換機、攪拌機等
のいずれかを併用する場合が多い。供給釜や配管は接液
部を洗浄しやすいようにフッ素加工等の撥水処理をして
もよい。ダイスは液供給量によって塗布膜厚が決定され
るため、塗布液の供給は高い精度を要求され、流量変動
を極力低減するために、精密計量ギヤポンプやプランジ
ャーポンプ等の高精度送液ポンプや流量制御等を用いる
のが好ましい。

【００２８】本発明では、少なくとも１つのダイスで２
層以上の塗布構成層を同時重層塗布することができ、塗
布層数として特に制限はない。また本発明の塗布方法
は、一部の塗布構成層が事前に塗布された支持体への塗
布にも適用することができる。

【００２９】本発明で用いられる支持体としては、種類
に制限はなく、紙、プラスチックフィルム、金属シート
等を用いることができる。紙としては、例えばレジンコ
ート紙、合成紙等が挙げられる。また、プラスチックフ
ィルムとしては、ポリオレフィンフィルム（例えばポリ
エチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等）、ポリ
エステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリエチレン２，６−ナフタレートフィル
ム等）、ポリアミドフィルム（例えばポリエーテルケト
ンフィルム等）、セルロースアセテート（例えばセルロ
ーストリアセテート等）等が挙げられる。また、金属シ
ートではアルミニウム板が代表的である。また、用いる
支持体の厚さについても、特に制限はない。

【００３０】本発明で用いることのできる塗布液として
は、特に制限はなく、例えば磁気記録媒体用磁性塗布
液、一般用及び産業用ハロゲン化銀感光材料用塗布液、
感熱材料用塗布液、熱現像感光材料用塗布液、あるいは
高分子材料を有機溶媒、水等に溶解した液、顔料分散
液、コロイド状分散液等を挙げることができる。

【００３１】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施態様に限定される
ものではない。

【００３２】実施例１《熱現像感光材料の作製》以下に示す方法に従って、熱
現像感光材料を作製した。

【００３３】（下引済み支持体の作製）市販の２軸延伸
熱固定済みの支持体幅２２００ｍｍ、厚さ１００μｍポ
リエチレンテレフタレート（以降、単にＰＥＴと略す）
フィルムの両面に８Ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理を施
し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８
μｍになるように塗設、乾燥させて下引層Ａ−１とし、
また反対側の面に下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．
８μｍになるように塗設し、乾燥させて帯電防止加工下
引層Ｂ−１とした。

【００３４】〈下引塗布液ａ−１〉ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％）２７０ｇ（Ｃ−１）０．６ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）０．８ｇ水で１Ｌに仕上げる〈下引塗布液ｂ−１〉ブチルアクリレート（４０質量％）、スチレン（２０質量％）、グリシジルアクリレート（４０質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％）２７０ｇ（Ｃ−１）０．６ｇヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）０．８ｇ水で１Ｌに仕上げる引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、
８Ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上
には、下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍにな
る様に塗設して下引上層Ａ−２として、また下引層Ｂ−
１の上には下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍ
になる様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗
設し、下引済み支持体を作製した。

【００３５】〈下引上層塗布液ａ−２〉ゼラチン０．４ｇ／ｍ²になる質量（Ｃ−１）０．２ｇ（Ｃ−２）０．２ｇ（Ｃ−３）０．１ｇシリカ粒子（平均粒径３μｍ）０．１ｇ水で１Ｌに仕上げる〈下引上層塗布液ｂ−２〉（Ｃ−４）６０ｇ（Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％）８０ｇ硫酸アンモニウム０．５ｇ（Ｃ−６）１２ｇポリエチレングリコール（重量平均分子量６００）６ｇ水で１Ｌに仕上げる

【００３６】

【化１】

【００３７】

【化２】

【００３８】（支持体の熱処理）上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を１４０℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。

【００３９】（ハロゲン化銀乳剤の調製）水９００ｍｌ
中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍ
ｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、
硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）の
モル比の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液及び
〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕塩を銀１モル当たり１×１０^-6
モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０^-4モ
ルを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブル
ジェット法で添加した。その後、４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを添加
し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して、平均粒子サイズ
０．０６μｍ、単分散度１０％、投影直径面積の変動係
数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子
を得た。この乳剤に、ゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降
させ脱塩処理後、フェノキシエタノール０．１ｇを加
え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲン化
銀乳剤を得た。ついで、得られたハロゲン化銀乳剤に、
塩化金酸及び無機硫黄で化学増感を施した。

【００４０】なお上記単分散度及び投影直径面積の変動
係数は、下式により算出した。単分散度＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１
００投影直径面積の変動係数＝（投影直径面積の標準偏差）
／（投影直径面積の平均値）×１００（ベヘン酸Ｎａ溶液の調製）９４５ｍｌの純水にベヘン
酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇ、ステアリン酸
５．６ｇを９０℃で溶解した。次に、高速で攪拌しなが
ら１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌを
添加した。次いで、濃硝酸０．９３ｍｌを加えた後、５
５℃に冷却して３０分攪拌してベヘン酸Ｎａ溶液を調製
した。

【００４１】（ベヘン酸銀とハロゲン化銀のプレフォー
ム乳剤の調製）上記のベヘン酸Ｎａ溶液に、前記ハロゲ
ン化銀乳剤１５．１ｇを添加し、水酸化ナトリウム溶液
でｐＨ８．１に調整した後、１モル／Ｌの硝酸銀溶液１
４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し、限
外濾過により水溶性塩類を除去した。得られたベヘン酸
銀は、平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子
であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、
更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させて、プレ
フォーム乳剤を調製した。

【００４２】（感光性乳剤の調製）上記作製したプレフ
ォーム乳剤に、ポリビニルブチラール（平均分子量３０
００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）５４４
ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した後、メ
ディア分散機により２７．６ＭＰａで分散させた。

【００４３】（塗布液の調製及び塗布）支持体上に以下
の各層を順次形成し、熱現像感光材料を作製した。尚、
乾燥は各々６０℃、１５分間で行った。

【００４４】（バック面側塗布）下記組成のバック面側
塗布液を、前記作製した支持体の下引上層Ｂ−２上に、
公知の塗布機を用いて塗布を行った。

【００４５】〈バック面側塗布液〉酢酸セルロース（１０％メチルエチルケトン溶液）１５ｍｌ／ｍ² 染料−Ｂ７ｍｇ／ｍ² 染料−Ｃ７ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１５％平均粒子サイズ１０μｍ単分散シリカ３０ｍｇ／ｍ² Ｃ₉Ｈ₁₉−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ１０ｍｇ／ｍ²

【００４６】

【化３】

【００４７】（感光層面側塗布）以下組成の感光層塗布
液及び表面保護層塗布液で、２層同時重層塗布用ダイス
を用い後述する塗布方法にて、感光層の塗布銀量が２．
１ｇ／ｍ²になる様に塗布を行った。

【００４８】〈感光層塗布液の調製〉プレフォーム乳剤２４０ｇ増感色素−１（０．１％メタノール溶液）１．７ｍｌピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液）３ｍｌ臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液）１．７ｍｌカブリ防止剤−２（１０％メタノール溶液）１．２ｍｌ２−（４−クロロベンゾイル）安息香酸（１２％メタノール溶液）９．２ｍｌ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液）１１ｍｌトリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液）１７ｍｌ現像剤−１（２０％メタノール溶液）２９．５ｍｌ

【００４９】

【化４】

【００５０】〈表面保護層塗布液の調製〉アセトン３５ｍｌ／ｍ² メチルエチルケトン１７ｍｌ／ｍ² 酢酸セルロース２．３ｇ／ｍ² メタノール７ｍｌ／ｍ² フタラジン２５０ｍｇ／ｍ² ４−メチルフタル酸１８０ｍｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸１５０ｍｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸無水物１７０ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１０％平均粒子サイズ４μｍ単分散シリカ７０ｍｇ／ｍ² Ｃ₉Ｈ₁₉−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ１０ｍｇ／ｍ² 塗布方法１：塗布幅５００ｍｍのダイス４台を、支持体
端部より２５ｍｍの位置から、図１で示すような形態で
支持体の搬送方向の同一位置に５０ｍｍ間隔で並列に配
置し、各々同一塗布液供給量にて塗布を行った。塗布終
了後、塗布部を各５００ｍｍ幅に断裁し、熱現像感光材
料１を作製した。なお、断裁工程では、ダイス間の未塗
布部を各々５０ｍｍ切除し、また支持体の幅方向両端部
は各々２５ｍｍ切除した。

【００５１】塗布方法２：塗布幅５００ｍｍのダイス４
台に代えて塗布幅１０００ｍｍのダイス２台を用いた以
外は、塗布方法１と同様にして熱現像感光材料２を作製
した。なお、断裁工程では、未塗布部を１００ｍｍ切除
し、また支持体の幅方向両端部は各々５０ｍｍ切除し
た。

【００５２】塗布方法３：塗布幅２０００ｍｍのダイス
１台を、支持体幅方向両端部より１００ｍｍの位置に配
置し、塗布を行った。塗布終了後、塗布部を各５００ｍ
ｍ幅に断裁し、熱現像感光材料３を作製した。なお、断
裁工程では、支持体の幅方向両端部を各々１００ｍｍ切
除した。

【００５３】《塗布試料の品質評価》以上のようにして
得られた熱現像感光材料１〜３について、下記の方法に
従って露光及び現像処理を施した後、幅方向の濃度ムラ
の評価を行った。

【００５４】（露光及び現像処理）上記作製した各熱現
像感光材料を未露光のまま、ヒートドラムを有する自動
現像機を用いて、１１０℃で１５秒熱現像処理した。そ
の際、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で行った。

【００５５】（濃度ムラの測定）（株）島津製作所製分
光光度計ＵＶ−１２００を用いて、各現像済みの試料に
ついて、４００ｎｍにおける透過濃度を測定し、その際
濃度が全体平均値より５０％低く、かつその面積が直径
５０ミクロンを越える場合は、塗布欠陥点と判定して測
定からは除外し、幅方向１ｍにつき１００点の濃度測定
値について、その濃度バラツキを濃度ムラの尺度として
標準偏差（％）を算出したところ、塗布方法１で１．１
％、塗布方法２で２．１％、塗布方法３で５．５％であ
った。

【００５６】実施例２実施例１の各塗布方法でそれぞれ１００００ｍ塗布を行
い、塗布不良部を除いた良品部の歩留まりを比較したと
ころ、塗布方法１で９９％、塗布方法２で９７％、塗布
方法３で８９％であった。

【００５７】実施例３幅２２００ｍｍの支持体に、以下の方法で２０００ｍｍ
の塗布層を形成して、２０００ｍｍ幅での幅方向の濃度
ムラについて、実施例１と同様にして評価した。

【００５８】塗布方法４：図３の様に２本のバックロー
ルを用い、塗布幅５００ｍｍのダイスを２台ずつ図２に
示す様に、支持体走行方向での位置を変えて幅方向で斜
交いに設置して塗布を行った。ダイス間に未塗布部分が
形成されないようにダイスの位置を調整し、各ダイスへ
の塗布液供給量は同一、また同一の平均膜厚が得られる
条件とした。

【００５９】塗布方法５：１本のバックロールに、塗布
幅１０００ｍｍのダイスを２台、図２に示す様に、支持
体走行方向での位置を変えて幅方向で斜交いに設置して
塗布を行った。未塗布部分が形成されないようにダイス
の位置を調整し、各ダイスへの塗布液供給量は同一、ま
た同一の平均膜厚が得られる条件とした。

【００６０】塗布方法６：塗布幅１０００ｍｍの２台の
ダイスそれぞれに、図３に示す様にバックロールを用
い、塗布を行った。ダイス間に未塗布部分が形成されな
いようにダイスの位置を調整し、各ダイスへの塗布液供
給量は同一、また同一の平均膜厚が得られる条件とし
た。

【００６１】結果として、濃度バラツキの標準偏差は２
０００ｍｍで、塗布方法４が１．０％、塗布方法５で
２．２％、塗布方法６で２．１％、塗布方法３で１５．
１％であった。

【００６２】実施例４下記に示す方法に従って、１００ＭＢ以上のフロッピー
（登録商標）ディスク用の磁性記録材料を作製した。

【００６３】（塗布液の調製）〈磁性層塗布液：上層〉強磁性金属粉末（Ｈｃ：２３５０Ｏｅ、σｓ：１５５ｅｍｕ／ｇ、平均長軸長：０．１μｍ、比表面積：５０ｍ²／ｇ）１００部塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社製：ＭＲ１１０、重合度：３００）１０部ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８３００）５部カーボンブラック（コロンビアカーボン社製：コンダクテックス９７５）１部アルミナ（住友化学社製：ＨＩＴ５０）１０部ダイアモンド微粉平均粒径０．３μｍ１部フェニルホスホン酸３部ブチルステアレート１０部ブトキシエチルステアレート５部イソヘキサデシルステアレート３部ステアリン酸２部メチルエチルケトン１８０部シクロヘキサノン１８０部〈非磁性層塗布液：下層〉非磁性粉末針状ヘマタイト（戸田工業社製：ＤＰＮ５５０ＢＸ平均長軸長：０．１４μｍ、非表面積：５０ｍ²／ｇ、平均短軸長：０．０２４μｍ）１００部カーボンブラック（コロンビアカーボン社製：コンダクテックスＳＣ−Ｕ平均一次粒子：２０ｎｍ以下）１２部塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社製：ＭＲ１０４重合度：２５０）１５部ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８３００）６部フェニルホスホン酸４部ブチルステアレート１０部ブトキシエチルステアレート５部イソヘキサデシルステアレート２部ステアリン酸３部メチルエチルケトン１５０部シクロヘキサノン１００部上記の磁性層塗布液及び非磁性層塗布液について、それ
ぞれ各成分をニーダーで混練した後、磁性層塗布液に所
定のダイアモンド微粉を添加した後、サンドミルを使用
して分散させた。得られた各分散液に、更にポリイソシ
アネート（日本ポリウレタン社製：コロネートＬ）を非
磁性層塗布液には１３部、磁性層塗布液には４部を加
え、更に各々にシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて、濾過して各層
塗布液を調製した。

【００６４】（ディスク状磁気記録材料の作製）上記作
製した非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが１．５μｍにな
るように、次いでその上に磁性層塗布液を乾燥後の厚さ
が０．２μｍになるように、２２００ｍｍ幅、厚さ６２
μｍで中心平均表面粗さが３ｎｍであるＰＥＴ支持体上
に、特開平２−２５１２６５号記載の塗布装置を用い
て、下記塗布方法７〜９で同時重層塗布を行った。次い
で、塗布膜がまだ湿潤状態であるうちに、周波数５０Ｈ
ｚ、磁場強度２５０ガウス及び周波数５０Ｈｚ、磁場強
度１２０ガウスの２つの交流磁場発生装置の中を通過さ
せランダム配向処理を行い、乾燥した後、７段のカレン
ダーで温度９０℃、線圧３４．３ＭＰａにて表面平滑化
処理を行った。次いで、各磁気記録材料をディスク状態
に打ち抜いた後、６５℃で加熱処理を２４時間施し、更
に研磨テープで表面の微小突起を削る為の表面処理を行
って、ディスク状の磁気記録材料１〜３を作製した。

【００６５】塗布方法７：塗布幅５００ｍｍのダイス４
台を、図１で示すような形態で、支持体の搬送方向で同
一位置になるよう並列に設置し、塗布を行い、磁気記録
材料１を作製した。なお、塗布乾燥後、ダイス間の未塗
布部分は、ディスク状に打ち抜いた後、選別廃棄した。

【００６６】塗布方法８：塗布幅１０００ｍｍのダイス
２台を、図１で示すような形態で、支持体の搬送方向で
同一位置になるよう並列に設置し、塗布を行い、磁気記
録材料２を作製した。なお、塗布乾燥後、ダイス間の未
塗布部分は、ディスク状に打ち抜いた後、選別廃棄し
た。

【００６７】塗布方法９：塗布幅２０００ｍｍのコータ
ーヘッド１台を用いて塗布を行い、磁気記録材料３を作
製した。

【００６８】（ディスク状磁気記録材料の特性評価）作
製した各磁気記録材料を、任意に５００枚サンプリング
し、その小片をメタクリル樹脂で包埋し、その断面から
ダイアモンドカッターで厚さ約５０μｍの薄片を切り出
し、それを電子顕微鏡にて撮影し、塗布層の膜厚を実測
し、その測定値の標準偏差（％）を試料の膜厚バラツキ
として評価したところ、磁気記録材料１で１．１％、磁
気記録材料２で１．４％、磁気記録材料３で９．５％で
あった。またエラーレートは磁気記録材料１で１×１０
^-5、磁気記録材料２で１．５×１０^-5、磁気記録材料３
で１２×１０^-5であった。即ち本発明に係る塗布方法で
作製した磁気記録材料は、製品ごとの膜厚バラツキ巾が
小さく、規格アウト品が減少して歩留まりが向上すると
共に、エラーレートが飛躍的に向上することが判る。

【００６９】

【発明の効果】本発明の塗布方法によれば、広幅の支持
体に塗布して均一な膜厚の塗布層が得られ、かつ作業性
に優れて生産効率の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布方法の１形態を示すモデル図。

【図２】本発明の塗布方法のその他の形態を示すモデル
図。

【図３】本発明の塗布方法の更に他の形態を示すモデル
図。

【図４】形成される塗布層の領域の例を示す図。

【図５】ダイス間の未塗布部が形成されないように塗布
する例を示す図。

【符号の説明】

１バックロール２支持体３塗布幅４支持体幅５、６未塗布部

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｃ 1/74 ３５１Ｇ０３Ｃ 1/74 ３５１５Ｄ１１２Ｇ１１Ｂ 5/848 Ｇ１１Ｂ 5/848 Ｆターム(参考） 2H023 EA01 2H123 BC01 4D075 AC05 AC72 AC88 AC93 AE02 AE22 CA48 DA04 DB07 DB18 DB33 DB36 DB48 DB53 DC27 EA06 EA07 EA10 EA12 EB14 EB15 EB22 EB33 EB38 4F041 AA12 AB02 BA05 BA13 BA21 CA02 4F042 AA22 ED02 ED05 5D112 AA05 CC01 CC07 CC08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】搬送される長尺状支持体の幅方向に、複
数のダイスが支持体を支持するバックロールに対向して
並列に配置され、塗布層が形成されることを特徴とする
塗布方法。
【請求項２】複数のダイスの全てが１つのバックロー
ルに対向して配置されていることを特徴とする請求項１
に記載の塗布方法。
【請求項３】複数のダイスが支持体の搬送方向に対し
て同一の位置に配置されていることを特徴とする請求項
２に記載の塗布方法。
【請求項４】複数のダイスのうちの少なくとも１つが
支持体の搬送方向に対して異なる位置に配置されている
ことを特徴とする請求項２に記載の塗布方法。
【請求項５】複数のダイスのうちの少なくとも１つが
他のダイスが対向して配置されているバックロールと異
なるバックロールに対向して配置されていることを特徴
とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項６】支持体の幅方向においてダイス間に塗布
層が形成されない領域が無い様にダイスを配置すること
を特徴とする請求項４又は５に記載の塗布方法。
【請求項７】支持体の幅方向において塗布層が形成さ
れない領域が塗布後断裁により棄却される範囲と重なる
様に複数のダイスが配置されることを特徴とする請求項
１、２、３、４又は５に記載の塗布方法。
【請求項８】個々のダイスが位置可変機構を有するこ
とを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６又は７に
記載の塗布方法。
【請求項９】全塗布幅の一部の幅を受け持つダイスが
複数、少なくとも１つのバックロールに対向して配置さ
れていることを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】複数のダイスの全てが１つのバックロ
ールに対向して、直列で配置されていることを特徴とす
る請求項９に記載の塗布装置。
【請求項１１】複数のダイスの全てが１つのバックロ
ールに対向し、該複数のダイスのうちの少なくとも一つ
が他のダイスと異なる位置で対向して、それぞれ配置さ
れていることを特徴とする請求項９に記載の塗布装置。
【請求項１２】２以上のバックロールを有し、複数の
ダイスのうちの少なくとも１つが他のダイスが対向して
配置されているバックロールと異なるバックロールに対
向して配置されていることを特徴とする請求項９に記載
の塗布装置。
【請求項１３】個々のダイスが位置可変機構を有する
ことを特徴とする請求項９、１０、１１又は１２に記載
の塗布装置。