JP2001294551A - 塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル類の製造方法並びに新規なハロゲン化3,5−ビス−(トリハロゲノメチル)−および3,5−ジメチルベンゾイル類 - Google Patents
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル類の製造方法並びに新規なハロゲン化3,5−ビス−(トリハロゲノメチル)−および3,5−ジメチルベンゾイル類Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/68—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
- C07C63/70—Monocarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/62—Preparation of carboxylic acid halides by reactions not involving the carboxylic acid halide group
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 工業規模で確実に実施でき、入手容易な出発
物質からの塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類の製造方法並びにこの方法において生ずる
中間体の提供。 【解決手段】 3,5−ジメチル安息香酸類を対応する
酸塩化物類に転化させ、塩化物類をその側鎖において完
全にフリーラジカル的に塩素化して塩化3,5−ビス−
(トリクロロメチル)−ベンゾイル類とし、これを無水弗
化水素および/または五弗化アンチモンを用いて弗素化
して、弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベン
ゾイル類とし、次に四塩化珪素と追加のルイス酸の存在
下で反応させて一般式Iの化合物とする。中間体のハロ
ゲン化3,5−ビス−(トリハロゲノメチル)−および3,
5−ジメチル−ベンゾイル類の一部は新規な化合物であ
る。
物質からの塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類の製造方法並びにこの方法において生ずる
中間体の提供。 【解決手段】 3,5−ジメチル安息香酸類を対応する
酸塩化物類に転化させ、塩化物類をその側鎖において完
全にフリーラジカル的に塩素化して塩化3,5−ビス−
(トリクロロメチル)−ベンゾイル類とし、これを無水弗
化水素および/または五弗化アンチモンを用いて弗素化
して、弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベン
ゾイル類とし、次に四塩化珪素と追加のルイス酸の存在
下で反応させて一般式Iの化合物とする。中間体のハロ
ゲン化3,5−ビス−(トリハロゲノメチル)−および3,
5−ジメチル−ベンゾイル類の一部は新規な化合物であ
る。
Description
【0001】本発明は対応する3,5−ジメチル安息香
酸類からの塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類の製造方法、並びにこの方法において中間
体として生ずる新規なハロゲン化3,5−ビス−(トリハ
ロゲノメチル)−および3,5−ジメチルベンゾイル類に
関する。以下の記載において、塩化3,5−ビス−(トリ
フルオロメチル)−ベンゾイル類はBTB類とも称す
る。
酸類からの塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類の製造方法、並びにこの方法において中間
体として生ずる新規なハロゲン化3,5−ビス−(トリハ
ロゲノメチル)−および3,5−ジメチルベンゾイル類に
関する。以下の記載において、塩化3,5−ビス−(トリ
フルオロメチル)−ベンゾイル類はBTB類とも称す
る。
【0002】BTB類は製薬学的および農業化学的に活
性な成分並びにホトレジスト組成物の製造のための中間
体である。
性な成分並びにホトレジスト組成物の製造のための中間
体である。
【0003】塩素化による対応する3,5−ビス−(トリ
フルオロメチル)−安息香酸からのBTB類の製造は既
知である(例えば、J. Med. Chem. 38, 3106 (1995) 参
照)。この酸は2種の方法で、 a)1−ブロモ−3,5−ビス−(トリフルオロメチル)
−ベンゼンをマグネシウムまたはリチウムを用いて金属
化し(Bull. Soc. Chim. Fr. 1962 (587) およびChem.
Ber. 129,233 (1996) 参照)、そして次に二酸化炭素と
反応させるかまたは、パラジウム触媒の存在下で、一酸
化炭素および水と反応させる(JP−OS 09−67
297参照)か、或いは b)3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゼンを
ブチルリチウムおよびカリウムt−ブトキシドの混合物
と反応させ(Synlett 1990, 747 参照)またはブチルリ
チウムとだけ反応させ(J. Organomet. Chem. 67, 321
(1974) 参照)、そして次に二酸化炭素と反応させるこ
とにより得ることができる。
フルオロメチル)−安息香酸からのBTB類の製造は既
知である(例えば、J. Med. Chem. 38, 3106 (1995) 参
照)。この酸は2種の方法で、 a)1−ブロモ−3,5−ビス−(トリフルオロメチル)
−ベンゼンをマグネシウムまたはリチウムを用いて金属
化し(Bull. Soc. Chim. Fr. 1962 (587) およびChem.
Ber. 129,233 (1996) 参照)、そして次に二酸化炭素と
反応させるかまたは、パラジウム触媒の存在下で、一酸
化炭素および水と反応させる(JP−OS 09−67
297参照)か、或いは b)3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゼンを
ブチルリチウムおよびカリウムt−ブトキシドの混合物
と反応させ(Synlett 1990, 747 参照)またはブチルリ
チウムとだけ反応させ(J. Organomet. Chem. 67, 321
(1974) 参照)、そして次に二酸化炭素と反応させるこ
とにより得ることができる。
【0004】BTB類のこれらの製造方法は、全ての場
合に有機金属化合物を製造しそして取り扱わなければな
らず、それは多くの技術的経費をかけてのみ可能である
ため、工業規模にはあまり適さない。さらに、3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゼンおよび対応する
1−ブロモ化合物は複雑な経路によってのみ製造するこ
とができる。これに加えて、メタ−トリフルオロメチル
−置換されたフェニル−マグネシウムおよび−リチウム
化合物の発熱的分解の危険性があり、これらも同様にあ
る程度の確実な調節のためには多くの経費を必要とす
る。
合に有機金属化合物を製造しそして取り扱わなければな
らず、それは多くの技術的経費をかけてのみ可能である
ため、工業規模にはあまり適さない。さらに、3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゼンおよび対応する
1−ブロモ化合物は複雑な経路によってのみ製造するこ
とができる。これに加えて、メタ−トリフルオロメチル
−置換されたフェニル−マグネシウムおよび−リチウム
化合物の発熱的分解の危険性があり、これらも同様にあ
る程度の確実な調節のためには多くの経費を必要とす
る。
【0005】1,3,5−トリス−(トリクロロメチル)−
ベンゼン類を水を用いて選択的に加水分解して塩化3,
5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル類とし(ド
イツ特許明細書705 650参照)、そして次に弗化
水素または三弗化アンチモンを用いる完全な塩素/弗素
交換を行う(ドイツ特許明細書707 955参照)こ
とにより、弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類を製造することができることも知られてい
る。どちらのそして、適宜、どのようにして対応する塩
化ベンゾイル類(=BTB類)が弗化3,5−ビス−(ト
リフルオロメチル)−ベンゾイル類から得られうるかは
知られていない。
ベンゼン類を水を用いて選択的に加水分解して塩化3,
5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル類とし(ド
イツ特許明細書705 650参照)、そして次に弗化
水素または三弗化アンチモンを用いる完全な塩素/弗素
交換を行う(ドイツ特許明細書707 955参照)こ
とにより、弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−
ベンゾイル類を製造することができることも知られてい
る。どちらのそして、適宜、どのようにして対応する塩
化ベンゾイル類(=BTB類)が弗化3,5−ビス−(ト
リフルオロメチル)−ベンゾイル類から得られうるかは
知られていない。
【0006】従って、特別に複雑でなく工業規模で確実
に行うことができ且つ容易に入手できる出発物質から出
発するBTB類の製造方法に関する要望がある。
に行うことができ且つ容易に入手できる出発物質から出
発するBTB類の製造方法に関する要望がある。
【0007】我々は、今回、式(V)
【0008】
【化10】
【0009】[式中、Xは水素、弗素または塩素であ
る]の3,5−ジメチル安息香酸類を式(IV)
る]の3,5−ジメチル安息香酸類を式(IV)
【0010】
【化11】
【0011】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の対応する酸塩化物類に転化させ、該酸塩
化物類をその側鎖において完全にフリーラジカル的に塩
素化して、式(III)
味を有する]の対応する酸塩化物類に転化させ、該酸塩
化物類をその側鎖において完全にフリーラジカル的に塩
素化して、式(III)
【0012】
【化12】
【0013】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)
−ベンゾイル類とし、それらを無水弗化水素および/ま
たは五弗化アンチモンを用いて弗素化して、式(II)
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)
−ベンゾイル類とし、それらを無水弗化水素および/ま
たは五弗化アンチモンを用いて弗素化して、式(II)
【0014】
【化13】
【0015】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類とし、そして次に四塩化珪素と追加
のルイス酸の存在下において反応させることにより式
(I)の対応する化合物を得ることを特徴とする式
(I)
味を有する]の弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類とし、そして次に四塩化珪素と追加
のルイス酸の存在下において反応させることにより式
(I)の対応する化合物を得ることを特徴とする式
(I)
【0016】
【化14】
【0017】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類の製造方法を見いだした。
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類の製造方法を見いだした。
【0018】式(I)〜(V)において、Xは好ましく
は水素である。
は水素である。
【0019】本発明に従う方法の第一段階である、安息
香酸類(V)からの式(IV)の酸塩化物類の製造は、カ
ルボン酸類からの塩化カルボニル類の既知の製造方法と
同様にして行うことができる。3,5−ジメチル安息香
酸と五塩化燐との反応に関する1つの可能性は、Can.
J. Chem. 41, 2962 (1963) から既知でありそして別の
塩化チオニルとの反応は、J. Org. Chem. 24, 1301 (19
59) から既知である。これらの反応はXが弗素または塩
素である化合物に関して同様にして行うことができる。
香酸類(V)からの式(IV)の酸塩化物類の製造は、カ
ルボン酸類からの塩化カルボニル類の既知の製造方法と
同様にして行うことができる。3,5−ジメチル安息香
酸と五塩化燐との反応に関する1つの可能性は、Can.
J. Chem. 41, 2962 (1963) から既知でありそして別の
塩化チオニルとの反応は、J. Org. Chem. 24, 1301 (19
59) から既知である。これらの反応はXが弗素または塩
素である化合物に関して同様にして行うことができる。
【0020】第一段階を行うために必要な式(V)の安
息香酸類は既知の方法によりまたはそれと同様にして製
造することができる。3,5−ジメチル安息香酸は市販
されている。
息香酸類は既知の方法によりまたはそれと同様にして製
造することができる。3,5−ジメチル安息香酸は市販
されている。
【0021】式(IV)の酸ハロゲン化物類への転化は塩
素化試薬を用いて、例えば、塩化チオニル、三塩化燐、
五塩化燐、オキシ塩化燐、塩化オキサリルまたはホスゲ
ンを用いて行うことができる。塩化チオニルまたは塩化
オキサリルの使用が好ましく、それらの反応生成物(そ
れぞれ塩化水素および二酸化硫黄または塩化水素、一酸
化炭素および二酸化炭素)は易揮発性であり、従って容
易に除去することができる。
素化試薬を用いて、例えば、塩化チオニル、三塩化燐、
五塩化燐、オキシ塩化燐、塩化オキサリルまたはホスゲ
ンを用いて行うことができる。塩化チオニルまたは塩化
オキサリルの使用が好ましく、それらの反応生成物(そ
れぞれ塩化水素および二酸化硫黄または塩化水素、一酸
化炭素および二酸化炭素)は易揮発性であり、従って容
易に除去することができる。
【0022】式(IV)の酸塩化物類への転化は好ましく
は希釈剤の存在下で行われる。不活性有機溶媒またはそ
れらの混合物がこの目的に適する。例として、下記のも
のが挙げられる:脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素
類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン類およびデカリン、ハロゲン化された炭化
水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン類、
塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタンおよびテトラクロロエ
チレン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
およびアニソール、エステル類、例えば酢酸メチル、酢
酸エチルおよび酢酸ブチル、並びにスルホン類、例えば
スルホラン。1モルの式(V)の安息香酸当たり、例え
ば、50〜150mlの希釈剤を使用することができ
る。
は希釈剤の存在下で行われる。不活性有機溶媒またはそ
れらの混合物がこの目的に適する。例として、下記のも
のが挙げられる:脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素
類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン類およびデカリン、ハロゲン化された炭化
水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン類、
塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタンおよびテトラクロロエ
チレン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
およびアニソール、エステル類、例えば酢酸メチル、酢
酸エチルおよび酢酸ブチル、並びにスルホン類、例えば
スルホラン。1モルの式(V)の安息香酸当たり、例え
ば、50〜150mlの希釈剤を使用することができ
る。
【0023】過剰の塩素化試薬、例えば、1モルの式
(V)の安息香酸当たり1.1〜10モル、好ましくは
1.2〜3モルの塩素化試薬を使用することが有利であ
る。
(V)の安息香酸当たり1.1〜10モル、好ましくは
1.2〜3モルの塩素化試薬を使用することが有利であ
る。
【0024】この段階のための反応温度は比較的広い範
囲内で変えることができる。例えば、それは0〜150
℃の間、好ましくは20〜120℃の間でありうる。
囲内で変えることができる。例えば、それは0〜150
℃の間、好ましくは20〜120℃の間でありうる。
【0025】反応後の処理は、例えば、蒸留により行う
ことができる。好ましい塩素化試薬が使用される場合に
は、それらの過剰量および存在しているかもしれない希
釈剤を容易に蒸留除去すること並びに蒸留残渣を粗製生
成物のまま次の段階で使用することが可能である。
ことができる。好ましい塩素化試薬が使用される場合に
は、それらの過剰量および存在しているかもしれない希
釈剤を容易に蒸留除去すること並びに蒸留残渣を粗製生
成物のまま次の段階で使用することが可能である。
【0026】本発明に従う方法の第二段階である、式
(IV)の塩化3,5−ジメチルベンゾイル類の側鎖塩素
化は新規である。この側鎖塩素化はフリーラジカル反応
として行われる。これは高められた温度、光源による照
射および/またはフリーラジカル開始剤の添加の成果と
して達成することができる。適当な光源の例は、白熱
灯、好ましくはハロゲン灯並びに中圧および高圧水銀蒸
気灯である。適当なフリーラジカル開始剤は、例えば、
過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−tert−ブチル、2,
2−アザ−ビス−(イソブチロニトリル)および2−フェ
ニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニト
リルである。高められた温度における光源の使用が好ま
しい。反応温度は、例えば、80〜250℃、好ましく
は100〜220℃の間、特に好ましくは110〜19
0℃の間でありうる。ここでは、比較的低い温度、例え
ば80〜140℃において塩素化を開始し、そして比較
的高い温度、例えば160〜250℃において最後まで
続けることが有利である。
(IV)の塩化3,5−ジメチルベンゾイル類の側鎖塩素
化は新規である。この側鎖塩素化はフリーラジカル反応
として行われる。これは高められた温度、光源による照
射および/またはフリーラジカル開始剤の添加の成果と
して達成することができる。適当な光源の例は、白熱
灯、好ましくはハロゲン灯並びに中圧および高圧水銀蒸
気灯である。適当なフリーラジカル開始剤は、例えば、
過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−tert−ブチル、2,
2−アザ−ビス−(イソブチロニトリル)および2−フェ
ニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニト
リルである。高められた温度における光源の使用が好ま
しい。反応温度は、例えば、80〜250℃、好ましく
は100〜220℃の間、特に好ましくは110〜19
0℃の間でありうる。ここでは、比較的低い温度、例え
ば80〜140℃において塩素化を開始し、そして比較
的高い温度、例えば160〜250℃において最後まで
続けることが有利である。
【0027】この段階で使用される塩素化剤は一般的に
は元素状塩素である。
は元素状塩素である。
【0028】1モルの式(IV)の塩化ジメチルベンゾイ
ル当たり、例えば、6.3〜18モル、好ましくは7.2
〜12モルの塩素気体を使用することが可能である。
ル当たり、例えば、6.3〜18モル、好ましくは7.2
〜12モルの塩素気体を使用することが可能である。
【0029】反応後の処理のために、例えば窒素の如き
不活性気体を導入することにより、または真空を適用す
ることにより、過剰の塩素を置換することが可能であ
る。この方法で得られうる粗製生成物は直接次の反応段
階で使用することができるが、所望に応じて、それを例
えば真空蒸留により精製することもできる。
不活性気体を導入することにより、または真空を適用す
ることにより、過剰の塩素を置換することが可能であ
る。この方法で得られうる粗製生成物は直接次の反応段
階で使用することができるが、所望に応じて、それを例
えば真空蒸留により精製することもできる。
【0030】本発明に従う方法の第三段階は、式(II
I)の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイ
ル類を弗素化して、式(II)の弗化3,5−ビス−(トリ
フルオロメチル)−ベンゾイル類とすることである。弗
化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイルの
製造のための1つの可能性は、ドイツ特許明細書707
955から既知であり、そしてXが弗素または塩素で
ある化合物に対して同様にして融通することができる。
I)の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイ
ル類を弗素化して、式(II)の弗化3,5−ビス−(トリ
フルオロメチル)−ベンゾイル類とすることである。弗
化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイルの
製造のための1つの可能性は、ドイツ特許明細書707
955から既知であり、そしてXが弗素または塩素で
ある化合物に対して同様にして融通することができる。
【0031】弗素化は無水弗化水素酸および/または五
弗化アンチモンを用いて行われる。ある場合には、触
媒、例えば、ルイス酸、例えば四塩化チタン、三塩化ホ
ウ素または五弗化アンチモンを加えることができ、それ
は一般的には反応速度を高める。四塩化チタンとの混合
物中での無水弗化水素の使用が好ましい。反応を開始し
た後にルイス酸を加えることも可能である。
弗化アンチモンを用いて行われる。ある場合には、触
媒、例えば、ルイス酸、例えば四塩化チタン、三塩化ホ
ウ素または五弗化アンチモンを加えることができ、それ
は一般的には反応速度を高める。四塩化チタンとの混合
物中での無水弗化水素の使用が好ましい。反応を開始し
た後にルイス酸を加えることも可能である。
【0032】1モルの式(III)の塩化ベンゾイル当た
り、例えば、7.7〜21モル(10〜200%過剰量
に相当する)の無水弗化水素、または相当する量の五弗
化アンチモンおよび例えば0〜0.2モルのルイス酸を
使用することが可能である。
り、例えば、7.7〜21モル(10〜200%過剰量
に相当する)の無水弗化水素、または相当する量の五弗
化アンチモンおよび例えば0〜0.2モルのルイス酸を
使用することが可能である。
【0033】弗素化は、例えば、弗化水素の(大気圧に
おける)沸点より低い温度において、例えば−20〜+
15℃において開始しそして、反応を完結させるため
に、比較的高い温度において、例えば100〜180℃
において最後まで続けることにより行うことができる。
弗化水素の蒸気圧の結果として、100バールまでの圧
力がここで生ずることがあり、それは適切な耐圧性反応
容器の使用を必要とする。遊離した塩化水素は、例え
ば、+20℃より高い温度において圧力安全弁を介して
減圧される。
おける)沸点より低い温度において、例えば−20〜+
15℃において開始しそして、反応を完結させるため
に、比較的高い温度において、例えば100〜180℃
において最後まで続けることにより行うことができる。
弗化水素の蒸気圧の結果として、100バールまでの圧
力がここで生ずることがあり、それは適切な耐圧性反応
容器の使用を必要とする。遊離した塩化水素は、例え
ば、+20℃より高い温度において圧力安全弁を介して
減圧される。
【0034】弗素化後に存在する反応混合物は、例え
ば、分別蒸留により処理することができる。
ば、分別蒸留により処理することができる。
【0035】本発明に従う方法の最後の第四段階は、カ
ルボニル基の位置における塩素/弗素交換であり、それ
は従来これらの化合物に関しては開示されていなかっ
た。これは四塩化珪素を試薬として使用し、追加のルイ
ス酸、例えば塩化アルミニウム、三弗化ホウ素、四塩化
チタン、三塩化鉄またはそれらの混合物の存在下で行わ
れる。
ルボニル基の位置における塩素/弗素交換であり、それ
は従来これらの化合物に関しては開示されていなかっ
た。これは四塩化珪素を試薬として使用し、追加のルイ
ス酸、例えば塩化アルミニウム、三弗化ホウ素、四塩化
チタン、三塩化鉄またはそれらの混合物の存在下で行わ
れる。
【0036】1モルの式(II)の弗化ベンゾイル当た
り、例えば、0.25〜1モル(1〜4当量)、好まし
くは0.3〜0.5モルの四塩化珪素、および0.01〜
0.1モル、好ましくは0.02〜0.05モルの追加の
ルイス酸を使用することが可能である。
り、例えば、0.25〜1モル(1〜4当量)、好まし
くは0.3〜0.5モルの四塩化珪素、および0.01〜
0.1モル、好ましくは0.02〜0.05モルの追加の
ルイス酸を使用することが可能である。
【0037】この塩素/弗素交換は、例えば、0〜70
℃の間の、好ましくは20〜50℃の間の温度において
行うことができる。工程はここでは、最初に追加のルイ
ス酸を式(II)の弗化ベンゾイルまたは四塩化珪素のい
ずれかと共に導入し、そして各場合とももう一方の成分
を計量添加することを包含することができる。この方法
で、気体の発生を容易に調節することができる。
℃の間の、好ましくは20〜50℃の間の温度において
行うことができる。工程はここでは、最初に追加のルイ
ス酸を式(II)の弗化ベンゾイルまたは四塩化珪素のい
ずれかと共に導入し、そして各場合とももう一方の成分
を計量添加することを包含することができる。この方法
で、気体の発生を容易に調節することができる。
【0038】塩素/弗素交換後に存在する反応混合物
を、例えば、好ましくは例えばセルロースまたはゼオラ
イトの如き濾過助剤の添加後に、最初に固体成分を例え
ば濾過により分離することにより処理することができ
る。濾液の分別真空蒸留により、製造されるBTBを純
粋な形態で得ることが可能である。四塩化珪素および/
または追加のルイス酸の残渣を不活性化するために、少
量の、例えば0.1〜1重量%のアリール−またはアル
キルホスフィンを蒸留すべき混合物に加えることが有利
でありうる。例えば、トリフェニルホスフィンがこの目
的に適する。
を、例えば、好ましくは例えばセルロースまたはゼオラ
イトの如き濾過助剤の添加後に、最初に固体成分を例え
ば濾過により分離することにより処理することができ
る。濾液の分別真空蒸留により、製造されるBTBを純
粋な形態で得ることが可能である。四塩化珪素および/
または追加のルイス酸の残渣を不活性化するために、少
量の、例えば0.1〜1重量%のアリール−またはアル
キルホスフィンを蒸留すべき混合物に加えることが有利
でありうる。例えば、トリフェニルホスフィンがこの目
的に適する。
【0039】本発明に従う方法を用いて、式(V)の容
易に入手できる3,5−ジメチル安息香酸類から工業規
模で容易に且つ簡単に行うことができる方法で式(I)
のBTB類を良好な収率で製造することができる。全て
の反応段階を考慮すると、収率は理論値の60%よりか
なり高い。
易に入手できる3,5−ジメチル安息香酸類から工業規
模で容易に且つ簡単に行うことができる方法で式(I)
のBTB類を良好な収率で製造することができる。全て
の反応段階を考慮すると、収率は理論値の60%よりか
なり高い。
【0040】式(I)〜(IV)の化合物の一部のものは
新規である。本発明は従って式(Ia)
新規である。本発明は従って式(Ia)
【0041】
【化15】
【0042】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類、式(IIa)
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類、式(IIa)
【0043】
【化16】
【0044】[式中、X′は弗素または塩素である]の
弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類、式(IIIa)
弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類、式(IIIa)
【0045】
【化17】
【0046】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル類
および式(IVa)
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル類
および式(IVa)
【0047】
【化18】
【0048】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ジメチルベンゾイル類にも関する。
塩化3,5−ジメチルベンゾイル類にも関する。
【0049】式(Ia)〜(IVa)の化合物の製造は以
上に記載されている。それらは本発明に従う方法による
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
の有利な製造のための新規な中間体である。
上に記載されている。それらは本発明に従う方法による
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
の有利な製造のための新規な中間体である。
【0050】
【実施例】実施例1 塩化3,5−ジメチルベンゾイル 4リットルの平縁反応容器に最初に450mlのトルエ
ン中の1000gの3,5−ジメチル安息香酸を充填
し、そして、60℃において撹拌しながら、80mlの
塩化チオニルを2時間にわたり滴下すると、気体が発生
した。混合物を次に加熱沸騰させ(内部温度102℃)
そして2時間還流させた。次に、1.5時間にわたり、
過剰の塩化チオニルおよびトルエンの一部を大気圧にお
いて102℃の上部温度となるまで蒸留除去した。混合
物を80℃に放冷し、そしてトルエンを、今回は20ミ
リバールで、蒸留除去した。残りの量をカラム上での2
0ミリバールにおける110℃の沸点までの蒸留により
除去した(蒸留器中)。得られた残渣は1092g(理
論値の96.7%)の塩化3,5−ジメチルベンゾイルで
あった。
ン中の1000gの3,5−ジメチル安息香酸を充填
し、そして、60℃において撹拌しながら、80mlの
塩化チオニルを2時間にわたり滴下すると、気体が発生
した。混合物を次に加熱沸騰させ(内部温度102℃)
そして2時間還流させた。次に、1.5時間にわたり、
過剰の塩化チオニルおよびトルエンの一部を大気圧にお
いて102℃の上部温度となるまで蒸留除去した。混合
物を80℃に放冷し、そしてトルエンを、今回は20ミ
リバールで、蒸留除去した。残りの量をカラム上での2
0ミリバールにおける110℃の沸点までの蒸留により
除去した(蒸留器中)。得られた残渣は1092g(理
論値の96.7%)の塩化3,5−ジメチルベンゾイルで
あった。
【0051】実施例2 塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル 空冷紫外線浸漬灯を装備した反応容器に最初に、120
℃において、1092gの塩化3,5−ジメチルベンゾ
イルを充填し、そして紫外線照射しながら且つ180℃
に温度を一定に高めながら合計4340gの塩素を61
時間にわたり導入した。GC分析によると、出発物質の
100%がその時点で反応していた。過剰の塩素を窒素
で吹き出した後に、2390g(理論値の98.1%)
の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル
が後に残った。
℃において、1092gの塩化3,5−ジメチルベンゾ
イルを充填し、そして紫外線照射しながら且つ180℃
に温度を一定に高めながら合計4340gの塩素を61
時間にわたり導入した。GC分析によると、出発物質の
100%がその時点で反応していた。過剰の塩素を窒素
で吹き出した後に、2390g(理論値の98.1%)
の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル
が後に残った。
【0052】実施例3 弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル 傾斜したコンデンサー(−10℃の温度で冷却剤と共に
操作される)および圧力調節器を備えた5リットルステ
ンレス鋼製の撹拌されたオートクレーブに最初に990
mlの無水弗化水素酸を充填した。次に、1126gの
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイルを
30分間にわたり−5〜0℃において滴下すると、塩化
水素気体の発生は非常に弱かった。温度を+20℃に自
然に高めた。気体のわずかな発生が停止した時(1.5
時間後)に、68gの四塩化チタンを40分間にわたり
加えた。気体の新たな発生が止んだ後(2時間後)に、
装置を密封し、窒素を10バールまで注入しそして装置
を数段階で140℃に加熱すると、生成した塩化水素が
連続的に25バールに減圧された。140℃における1
1時間後に、反応が完了した。オートクレーブを冷却し
そして減圧し、そして過剰の弗化水素を大気圧で蒸留除
去し(248g)、そして残渣を減圧(70〜12ミリ
バール)でブリッジ(最高上部温度:12ミリバールに
おいて84℃)上で蒸留した。43gの樹脂状残渣が残
った。粗製蒸留物を減圧下でウィルソン・スパイラル(W
ilson spirals)が充填された60cmカラム上で分別蒸
留した(50ミリバール、140℃浴温、75℃上部温
度)。105gの蒸留残渣(再使用できる完全には弗素
化されていない生成物)の他に、633g(理論値の8
1%)の99.9%の純度(GC、面積%)を有する弗
化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイルが
得られた。
操作される)および圧力調節器を備えた5リットルステ
ンレス鋼製の撹拌されたオートクレーブに最初に990
mlの無水弗化水素酸を充填した。次に、1126gの
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイルを
30分間にわたり−5〜0℃において滴下すると、塩化
水素気体の発生は非常に弱かった。温度を+20℃に自
然に高めた。気体のわずかな発生が停止した時(1.5
時間後)に、68gの四塩化チタンを40分間にわたり
加えた。気体の新たな発生が止んだ後(2時間後)に、
装置を密封し、窒素を10バールまで注入しそして装置
を数段階で140℃に加熱すると、生成した塩化水素が
連続的に25バールに減圧された。140℃における1
1時間後に、反応が完了した。オートクレーブを冷却し
そして減圧し、そして過剰の弗化水素を大気圧で蒸留除
去し(248g)、そして残渣を減圧(70〜12ミリ
バール)でブリッジ(最高上部温度:12ミリバールに
おいて84℃)上で蒸留した。43gの樹脂状残渣が残
った。粗製蒸留物を減圧下でウィルソン・スパイラル(W
ilson spirals)が充填された60cmカラム上で分別蒸
留した(50ミリバール、140℃浴温、75℃上部温
度)。105gの蒸留残渣(再使用できる完全には弗素
化されていない生成物)の他に、633g(理論値の8
1%)の99.9%の純度(GC、面積%)を有する弗
化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイルが
得られた。
【0053】実施例4 塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル 1040gの弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)
−ベンゾイルおよび24gの塩化アルミニウムを最初に
導入しそして40℃に加熱した。撹拌しながら、224
gの四塩化珪素を3時間にわたり滴下し、ここで温度は
調節されておりそして45℃を越えなかった。混合物を
次に気体の発生が停止するまで(2時間)撹拌した。3
0gのゼオライトX133を次に加え、そして混合物を
濾過した。これが1000gの濁った濾液を与え、それ
を5gのトリフェニルホスフィンと混合しそして12ミ
リバールにおいて70cmカラム上で蒸留した。これが
68℃(浴温:80℃)で通過した623g(理論値の
83.6%)の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)
−ベンゾイルを与えた。
−ベンゾイルおよび24gの塩化アルミニウムを最初に
導入しそして40℃に加熱した。撹拌しながら、224
gの四塩化珪素を3時間にわたり滴下し、ここで温度は
調節されておりそして45℃を越えなかった。混合物を
次に気体の発生が停止するまで(2時間)撹拌した。3
0gのゼオライトX133を次に加え、そして混合物を
濾過した。これが1000gの濁った濾液を与え、それ
を5gのトリフェニルホスフィンと混合しそして12ミ
リバールにおいて70cmカラム上で蒸留した。これが
68℃(浴温:80℃)で通過した623g(理論値の
83.6%)の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)
−ベンゾイルを与えた。
【0054】実施例5 気体供給部および除去器への放出部を備えた撹拌された
装置に最初に100g(0.593モル)の塩化3,5−
ジメチルベンゾイルを0.5gの塩化鉄(III)と一緒に
充填し、そして42gの塩素を22−28℃において3
時間にわたり導入した。分別蒸留が78gの塩化2−ク
ロロ−3,5−ジメチルベンゾイルを与えた。沸騰範
囲:5ミリバールにおいて113−114℃。
装置に最初に100g(0.593モル)の塩化3,5−
ジメチルベンゾイルを0.5gの塩化鉄(III)と一緒に
充填し、そして42gの塩素を22−28℃において3
時間にわたり導入した。分別蒸留が78gの塩化2−ク
ロロ−3,5−ジメチルベンゾイルを与えた。沸騰範
囲:5ミリバールにおいて113−114℃。
【0055】実施例6 紫外線照射灯を装備した塩素化装置に最初に100ml
の乾燥4−クロロベンゾトリフルオリド中の78gの塩
化2−クロロ−3,5−ジメチルベンゾイルを充填し、
そして1gの三塩化燐および0.5gの塩化カリウムを
加えた。温度を最初は100℃に設定し、そして塩素を
ゆっくり導入した。塩素化の工程中に、内部温度を高め
て溶媒を還流させた。20時間後に、200gの塩素を
導入し、そして反応混合物を分別蒸留した。119gの
塩化2−クロロ−3,5−ビストリクロロメチル−ベン
ゾイルが0.2ミリバールにおいて145−147℃の
沸騰範囲内で通過した。nD 20:1.6025。
の乾燥4−クロロベンゾトリフルオリド中の78gの塩
化2−クロロ−3,5−ジメチルベンゾイルを充填し、
そして1gの三塩化燐および0.5gの塩化カリウムを
加えた。温度を最初は100℃に設定し、そして塩素を
ゆっくり導入した。塩素化の工程中に、内部温度を高め
て溶媒を還流させた。20時間後に、200gの塩素を
導入し、そして反応混合物を分別蒸留した。119gの
塩化2−クロロ−3,5−ビストリクロロメチル−ベン
ゾイルが0.2ミリバールにおいて145−147℃の
沸騰範囲内で通過した。nD 20:1.6025。
【0056】実施例7 ステンレス鋼製のオートクレーブに100mlのHFお
よび2mlの五塩化アンチモンを充填した。0℃におい
て、119gの塩化2−クロロ−3,5−ビストリフル
オロメチル−ベンゾイルの50mlの乾燥ジクロロメタ
ン中溶液を計量添加した。窒素を次に10バールまで注
入し、そして次に温度を数段階で145℃に高めた。生
成した塩化水素を−15℃に冷却された還流コンデンサ
ーを介して25バールに減圧した。9時間後に、塩化水
素の発生が停止し、そして系を室温に冷却した。依然と
して存在する弗化水素およびジクロロメタンを蒸留除去
した。反応生成物を精密蒸留にかけた。68gの弗化2
−クロロ−3,5−ビストリフルオロメチル−ベンゾイ
ルが13ミリバールにおいて76−77℃の沸騰範囲内
で通過した。 nD 20:1.4292。本発明の主なる特徴および態様は
以下のとおりである。
よび2mlの五塩化アンチモンを充填した。0℃におい
て、119gの塩化2−クロロ−3,5−ビストリフル
オロメチル−ベンゾイルの50mlの乾燥ジクロロメタ
ン中溶液を計量添加した。窒素を次に10バールまで注
入し、そして次に温度を数段階で145℃に高めた。生
成した塩化水素を−15℃に冷却された還流コンデンサ
ーを介して25バールに減圧した。9時間後に、塩化水
素の発生が停止し、そして系を室温に冷却した。依然と
して存在する弗化水素およびジクロロメタンを蒸留除去
した。反応生成物を精密蒸留にかけた。68gの弗化2
−クロロ−3,5−ビストリフルオロメチル−ベンゾイ
ルが13ミリバールにおいて76−77℃の沸騰範囲内
で通過した。 nD 20:1.4292。本発明の主なる特徴および態様は
以下のとおりである。
【0057】1.式(V)
【0058】
【化19】
【0059】[式中、Xは水素、弗素または塩素であ
る]の3,5−ジメチル安息香酸類を式(IV)
る]の3,5−ジメチル安息香酸類を式(IV)
【0060】
【化20】
【0061】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の対応する酸塩化物類に転化させ、該酸塩
化物類を側鎖中で完全にフリーラジカル的に塩素化し
て、式(III)
味を有する]の対応する酸塩化物類に転化させ、該酸塩
化物類を側鎖中で完全にフリーラジカル的に塩素化し
て、式(III)
【0062】
【化21】
【0063】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)
−ベンゾイル類とし、それらを無水弗化水素および/ま
たは五弗化アンチモンを用いて弗素化して、式(II)
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)
−ベンゾイル類とし、それらを無水弗化水素および/ま
たは五弗化アンチモンを用いて弗素化して、式(II)
【0064】
【化22】
【0065】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類を与え、そして次に四塩化珪素と追
加のルイス酸の存在下において反応させることにより式
(I)の対応する化合物を得ることを特徴とする式
(I)
味を有する]の弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類を与え、そして次に四塩化珪素と追
加のルイス酸の存在下において反応させることにより式
(I)の対応する化合物を得ることを特徴とする式
(I)
【0066】
【化23】
【0067】[式中、Xは式(V)の場合に示された意
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類の製造方法。
味を有する]の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチ
ル)−ベンゾイル類の製造方法。
【0068】2.式(IV)の酸塩化物類への転化を、塩
化チオニル、三塩化燐、五塩化燐、オキシ塩化燐、塩化
オキサリルおよびホスゲンの群からの塩素化試薬を用い
て、そして希釈剤の存在下に行うことを特徴とする上記
1の方法。
化チオニル、三塩化燐、五塩化燐、オキシ塩化燐、塩化
オキサリルおよびホスゲンの群からの塩素化試薬を用い
て、そして希釈剤の存在下に行うことを特徴とする上記
1の方法。
【0069】3.1モルの式(V)の安息香酸当たり、
1.1〜10モルの塩素化試薬を反応させ、そして操作
温度が0〜150℃であることを特徴とする上記2の方
法。
1.1〜10モルの塩素化試薬を反応させ、そして操作
温度が0〜150℃であることを特徴とする上記2の方
法。
【0070】4.フリーラジカル側鎖塩素化を高められ
た温度において、光源による照射および/またはフリー
ラジカル開始剤を用いて80〜250℃においてそして
元素状塩素を用いて行うことを特徴とする上記1〜3の
方法。
た温度において、光源による照射および/またはフリー
ラジカル開始剤を用いて80〜250℃においてそして
元素状塩素を用いて行うことを特徴とする上記1〜3の
方法。
【0071】5.1モルの式(IV)の塩化ジメチルベン
ゾイル当たり7.2〜12モルの塩素ガスを使用するこ
とを特徴とする上記4の方法。
ゾイル当たり7.2〜12モルの塩素ガスを使用するこ
とを特徴とする上記4の方法。
【0072】6.弗素化を無水弗化水素酸を用いてルイ
ス酸を添加して行い、ここで、1モルの式(III)の塩
化ベンゾイル当たり7.7〜21モルの無水弗化水素を
使用することを特徴とする上記1〜5の方法。
ス酸を添加して行い、ここで、1モルの式(III)の塩
化ベンゾイル当たり7.7〜21モルの無水弗化水素を
使用することを特徴とする上記1〜5の方法。
【0073】7.四塩化珪素との反応を塩化アルミニウ
ム、三弗化ホウ素、四塩化チタン、三塩化鉄またはそれ
らの混合物の存在下で行うことを特徴とする上記1〜6
の方法。
ム、三弗化ホウ素、四塩化チタン、三塩化鉄またはそれ
らの混合物の存在下で行うことを特徴とする上記1〜6
の方法。
【0074】8.四塩化珪素との反応を、各場合とも1
モルの式(II)の弗化ベンゾイルを基準として、0.2
5〜1モルの四塩化珪素および0.01〜0.1モルの追
加のルイス酸を用いて行うことを特徴とする上記1〜7
の方法。
モルの式(II)の弗化ベンゾイルを基準として、0.2
5〜1モルの四塩化珪素および0.01〜0.1モルの追
加のルイス酸を用いて行うことを特徴とする上記1〜7
の方法。
【0075】9.式(Ia)
【0076】
【化24】
【0077】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類。
塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類。
【0078】10.式(IIa)
【0079】
【化25】
【0080】[式中、X′は弗素または塩素である]の
弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類。
弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル
類。
【0081】11.式(IIIa)
【0082】
【化26】
【0083】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル
類。
塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル
類。
【0084】12.式(IVa)
【0085】
【化27】
【0086】[式中、X′は弗素または塩素である]の
塩化3,5−ジメチルベンゾイル類。
塩化3,5−ジメチルベンゾイル類。
Claims (5)
- 【請求項1】 式(V) 【化1】 [式中、Xは水素、弗素または塩素である]の3,5−
ジメチル安息香酸類を式(IV) 【化2】 [式中、Xは式(V)の場合に示された意味を有する]
の対応する酸塩化物類に転化させ、該酸塩化物類をその
側鎖において完全にフリーラジカル的に塩素化して、式
(III) 【化3】 [式中、Xは式(V)の場合に示された意味を有する]
の塩化3,5−ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル
類とし、それらを無水弗化水素および/または五弗化ア
ンチモンを用いて弗素化して、式(II) 【化4】 [式中、Xは式(V)の場合に示された意味を有する]
の弗化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイ
ル類とし、そして次に四塩化珪素と追加のルイス酸の存
在下において反応させることにより式(I)の対応する
化合物を得ることを特徴とする式(I) 【化5】 [式中、Xは式(V)の場合に示された意味を有する]
の塩化3,5−ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイ
ル類の製造方法。 - 【請求項2】 式(Ia) 【化6】 [式中、X′は弗素または塩素である]の塩化3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル類。 - 【請求項3】 式(IIa) 【化7】 [式中、X′は弗素または塩素である]の弗化3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)−ベンゾイル類。 - 【請求項4】 式(IIIa) 【化8】 [式中、X′は弗素または塩素である]の塩化3,5−
ビス−(トリクロロメチル)−ベンゾイル類。 - 【請求項5】 式(IVa) 【化9】 [式中、X′は弗素または塩素である]の塩化3,5−
ジメチルベンゾイル類。
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