JP2001048931A - フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物 - Google Patents
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 113
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 95
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims description 20
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 448
- -1 2-tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 62
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 52
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 36
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 27
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 20
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 claims abstract description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 131
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 131
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 17
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 7
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 abstract description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Substances C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 203
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 188
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 177
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 124
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 118
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 118
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 105
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 100
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 74
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 73
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 69
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 69
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 61
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 61
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 60
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 60
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 60
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 60
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 60
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 60
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 60
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 60
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 60
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 59
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 57
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 56
- WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N V-65 Substances CC(C)CC(C)(C#N)\N=N\C(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 34
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N adamantan-1-ol Chemical class C1C(C2)CC3CC2CC1(O)C3 VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 23
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 13
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 12
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IYKFYARMMIESOX-SPJNRGJMSA-N adamantanone Chemical class C([C@H](C1)C2)[C@H]3C[C@@H]1C(=O)[C@@H]2C3 IYKFYARMMIESOX-SPJNRGJMSA-N 0.000 description 9
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- MUASFQLNUXMHPV-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyadamantane-2-carboxylic acid Chemical class C1C(C2)CC3CC1C(C(=O)O)C2(O)C3 MUASFQLNUXMHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 6
- GQRTVVANIGOXRF-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(C)C2(OC(=O)C=C)C3 GQRTVVANIGOXRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FUDDLSHBRSNCBV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyoxolan-2-one Chemical compound OC1COC(=O)C1 FUDDLSHBRSNCBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- WTTYZFMBIUWKKQ-UHFFFAOYSA-N (5,5-dimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CC(OC(=O)C=C)C(=O)O1 WTTYZFMBIUWKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FWIBCWKHNZBDLS-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoxolan-2-one Chemical compound OC1CCOC1=O FWIBCWKHNZBDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical compound C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FOWDOWQYRZXQDP-UHFFFAOYSA-N adamantan-2-ol Chemical class C1C(C2)CC3CC1C(O)C2C3 FOWDOWQYRZXQDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IYKFYARMMIESOX-UHFFFAOYSA-N adamantanone Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(=O)C2C3 IYKFYARMMIESOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- MWHPYZQPMCDSFM-UHFFFAOYSA-N (4-oxo-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(OC(=O)C=C)CC2C3=O MWHPYZQPMCDSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FQQIPIVZYKEWGI-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-5,5-dimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1(C)CC(O)C(=O)O1 FQQIPIVZYKEWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CJJMAWPEZKYJAP-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyadamantane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC2(O)CC1(C(=O)O)C3 CJJMAWPEZKYJAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium on carbon Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 3
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- FJDJVBXSSLDNJB-LNTINUHCSA-N cobalt;(z)-4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Co].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O FJDJVBXSSLDNJB-LNTINUHCSA-N 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- MHXSEYRYXKOIDZ-UHFFFAOYSA-N (1-methyl-2-tricyclo[5.2.1.02,6]decanyl) prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC12C3(CCC(C2CCC1)C3)C MHXSEYRYXKOIDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N (2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCOC1=O MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GODXKKMOKDQTBP-UHFFFAOYSA-N (4,5,5-trimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1C(OC(=O)C=C)C(=O)OC1(C)C GODXKKMOKDQTBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKZXCOVJJLBDAK-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trimethyl-3,6-dioxabicyclo[3.1.0]hexan-4-one Chemical compound O=C1OC(C)(C)C2(C)C1O2 DKZXCOVJJLBDAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NSXDEOMPQQZIIZ-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxyadamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(O)C3=O NSXDEOMPQQZIIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKQRAWNLAWCXSO-UHFFFAOYSA-N 1-tricyclo[5.2.1.02,6]decanylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C12CCCC2C2(COC(=O)C=C)CC1CC2 NKQRAWNLAWCXSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXKFWVILWLPFQY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-3,6-dioxabicyclo[3.1.0]hexan-4-one Chemical compound CC1(C)OC(=O)C2OC12 GXKFWVILWLPFQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HCNRACXSFUPPDQ-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4,5,5-trimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1C(O)C(=O)OC1(C)C HCNRACXSFUPPDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZECMMUQQDHWTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxyadamantane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC2(OC(=O)C=C)CC1(C(=O)O)C3 CZECMMUQQDHWTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGUJUIMHWNHXGB-UHFFFAOYSA-N 4-bicyclo[2.2.1]heptanyl prop-2-enoate Chemical compound C1CC2CCC1(OC(=O)C=C)C2 WGUJUIMHWNHXGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIEVQTNTRMBCHO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-5,5-dimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC1O SIEVQTNTRMBCHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXYNZSATHOXXBJ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound OC1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O XXYNZSATHOXXBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZGMISPWPRXBRZ-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxyadamantane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(C(=O)O)CC2(C(O)=O)C3 PZGMISPWPRXBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCYBYTIPMYLHAK-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3,5-triol Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(O)CC2(O)C3 MCYBYTIPMYLHAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(O)C3 MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIMXXGFJRDUSRO-UHFFFAOYSA-N adamantane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(C(=O)O)C3 JIMXXGFJRDUSRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 2
- 238000006473 carboxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 2
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- HUFBFVZMMFDUJH-UHFFFAOYSA-N oxan-2-yl 3-prop-2-enoyloxyadamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(OC(=O)C=C)(C2)CC(C3)CC1CC32C(=O)OC1CCCCO1 HUFBFVZMMFDUJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 101150054171 thf1 gene Proteins 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- CZRMMJHFTVMTIW-UHFFFAOYSA-N (1,5-dihydroxy-2-methyl-2-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1C(C)(OC(=O)C=C)C2(O)C3 CZRMMJHFTVMTIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRRSTNYYRSFXFQ-UHFFFAOYSA-N (2,2,3-trimethyl-5-oxooxolan-3-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C)CC(=O)OC1(C)C PRRSTNYYRSFXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQLZWQDFQKUWDY-UHFFFAOYSA-N (2,2-dimethyl-5-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC1OC(=O)C=C RQLZWQDFQKUWDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HICWNOWYQQKBME-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-oxo-2,3-diphenylpropyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCC(O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 HICWNOWYQQKBME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYLYBCQVHDBRJO-UHFFFAOYSA-N (3,4,4,5,5-pentamethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)OC(=O)C(C)(OC(=O)C=C)C1(C)C VYLYBCQVHDBRJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUEIIKWGSMYBDS-UHFFFAOYSA-N (3,4,4,5-tetramethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1OC(=O)C(C)(OC(=O)C=C)C1(C)C PUEIIKWGSMYBDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZTRRGUNCMPUGQ-UHFFFAOYSA-N (3,5,5-trimethyl-2-oxooxolan-3-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C)CC(C)(C)OC1=O BZTRRGUNCMPUGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSNYCEDASZXSAP-UHFFFAOYSA-N (3,5,5-trimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CC(C)(OC(=O)C=C)C(=O)O1 VSNYCEDASZXSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFLCKUMNXPOLSN-UHFFFAOYSA-N (3,5-dihydroxy-1-adamantyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC2(O)CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 HFLCKUMNXPOLSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRGVIRHLMDHI-UHFFFAOYSA-N (3,5-dihydroxy-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(O)CC2(OC(=O)C=C)C3 UGVRGVIRHLMDHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCXCLBUJRIUARF-UHFFFAOYSA-N (3,5-dimethyl-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3(C)CC1(C)CC2(OC(=O)C=C)C3 LCXCLBUJRIUARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOIBFPKQHULHSQ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-1-adamantyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2(O)CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 OOIBFPKQHULHSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKDKCSYKDZNMMA-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(OC(=O)C=C)C3 DKDKCSYKDZNMMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRULOWHFMKCMSZ-UHFFFAOYSA-N (3-methyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C)CCOC1=O FRULOWHFMKCMSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXIPHMOMUQJCOI-UHFFFAOYSA-N (4,4,5-trimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1OC(=O)C(OC(=O)C=C)C1(C)C RXIPHMOMUQJCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEWMFNQRIYQFE-UHFFFAOYSA-N (4,5-dimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1OC(=O)C(OC(=O)C=C)C1C RSEWMFNQRIYQFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIFFHMORFWHGF-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC12CC3CC(C(C(C1)C3)C)C2 KYIFFHMORFWHGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJWLARPZQVTJRY-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1COC(=O)C1OC(=O)C=C QJWLARPZQVTJRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWIBFYKKKUDQKK-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1CC(OC(=O)C=C)C(=O)O1 NWIBFYKKKUDQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRDNWHRYHHULRF-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyadamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC2C(=O)C1(O)C3 XRDNWHRYHHULRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrofuran Chemical compound C1CC=CO1 JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQQGOGMQRGFFR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenecarboperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ULQQGOGMQRGFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVXCRKGXHGMVSP-UHFFFAOYSA-N 2-methyladamantane-1,2,5-triol Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1C(C)(O)C2(O)C3 VVXCRKGXHGMVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJGCYZMFJALKRF-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(OC(=O)C(=C)C)CC2(C(O)=O)C3 BJGCYZMFJALKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQQMDPQNCFXBMP-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-5-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(OC(=O)C(=C)C)CC2(C(O)=O)C3 VQQMDPQNCFXBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 3h-oxathiazole Chemical class N1SOC=C1 KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLRGENJWPWBOMS-UHFFFAOYSA-N 4,5,5-trimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1CC(=O)OC1(C)C WLRGENJWPWBOMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMHFRXZWJOKJO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-4,5,5-trimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC1(C)O VQMHFRXZWJOKJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQKUNWXYCSARPK-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC1(C(=O)OC(C1C)(C)C)C Chemical compound C(C=C)(=O)OC1(C(=O)OC(C1C)(C)C)C RQKUNWXYCSARPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBFQWZSLEVNXOV-UHFFFAOYSA-N C1CC2CCC1(COC(=O)C=C)C2 Chemical compound C1CC2CCC1(COC(=O)C=C)C2 SBFQWZSLEVNXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N Ethyl crotonate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJVIZTRETFEHBE-UHFFFAOYSA-N OC12CC3C(C(CC(C1)C3)(C2)O)O Chemical compound OC12CC3C(C(CC(C1)C3)(C2)O)O GJVIZTRETFEHBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- RVIZJROSQMQZCG-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,2-diol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(O)C2(O)C3 RVIZJROSQMQZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- CXJVMJWCNFOERL-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylsulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CXJVMJWCNFOERL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBCZZGZTAGAGB-UHFFFAOYSA-N bis(oxan-2-yl) 5-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1,3-dicarboxylate Chemical compound C1C(OC(=O)C(=C)C)(C2)CC(C3)CC1(C(=O)OC1OCCCC1)CC32C(=O)OC1CCCCO1 XMBCZZGZTAGAGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZAONGICNZOTQH-UHFFFAOYSA-N bis(oxan-2-yl) 5-prop-2-enoyloxyadamantane-1,3-dicarboxylate Chemical compound C1C(OC(=O)C=C)(C2)CC(C3)CC1(C(=O)OC1OCCCC1)CC32C(=O)OC1CCCCO1 YZAONGICNZOTQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- OCUXHFVNHQTZKR-UHFFFAOYSA-M methanesulfonate;triphenylsulfanium Chemical compound CS([O-])(=O)=O.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 OCUXHFVNHQTZKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- CKGSPASJKLYDRX-UHFFFAOYSA-N oxan-2-yl 3-hydroxy-5-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(OC(=O)C(=C)C)(C2)CC(C3)CC1(O)CC32C(=O)OC1CCCCO1 CKGSPASJKLYDRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003317 samarium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JPDBEEUPLFWHAJ-UHFFFAOYSA-K samarium(3+);triacetate Chemical compound [Sm+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O JPDBEEUPLFWHAJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DDCWGUIPLGMBPO-UHFFFAOYSA-K samarium(3+);trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Sm+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F DDCWGUIPLGMBPO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- FXGINHZAFZHQQE-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(OC(=O)C(=C)C)CC2(C(=O)OC(C)(C)C)C3 FXGINHZAFZHQQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUUSJMGRYDYBAL-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-hydroxy-5-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(OC(=O)C(=C)C)CC2(C(=O)OC(C)(C)C)C3 AUUSJMGRYDYBAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTSJJVJDWAWPFP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-hydroxy-5-prop-2-enoyloxyadamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC2(OC(=O)C=C)CC1(C(=O)OC(C)(C)C)C3 HTSJJVJDWAWPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAPDWHTYIRAYHY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-prop-2-enoyloxyadamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2(OC(=O)C=C)CC1(C(=O)OC(C)(C)C)C3 YAPDWHTYIRAYHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N transbutenic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を
具備するだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高
分子化合物を得る。 【解決手段】 下記式（Ｉ）、（II）及び（III） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2及びＲ
3は、水素原子、ヒドロキシル基又は−ＣＯＯＲ4基を示
し、Ｒ4はｔ−ブチル基、２−テトラヒドロピラニル基
などを示す。Ｒ5及びＲ6は、水素原子、ヒドロキシル基
又はオキソ基を示す。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、水素原子又
はメチル基を示す）から選択された少なくとも１種のモ
ノマー単位を含む［但し、式（III）のモノマー単位を
含む場合などには、下記式（IV） 【化２】 （式中、Ｒ10及びＲ11は、水素原子、ヒドロキシル基又
はカルボキシル基を示し、Ｒ12はヒドロキシル基、オキ
ソ基又はカルボキシル基を示す。Ｒ1は前記に同じ）で
表されるモノマー単位などから選択された少なくとも１
種のモノマー単位をも含む］高分子化合物。
具備するだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高
分子化合物を得る。 【解決手段】 下記式（Ｉ）、（II）及び（III） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2及びＲ
3は、水素原子、ヒドロキシル基又は−ＣＯＯＲ4基を示
し、Ｒ4はｔ−ブチル基、２−テトラヒドロピラニル基
などを示す。Ｒ5及びＲ6は、水素原子、ヒドロキシル基
又はオキソ基を示す。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、水素原子又
はメチル基を示す）から選択された少なくとも１種のモ
ノマー単位を含む［但し、式（III）のモノマー単位を
含む場合などには、下記式（IV） 【化２】 （式中、Ｒ10及びＲ11は、水素原子、ヒドロキシル基又
はカルボキシル基を示し、Ｒ12はヒドロキシル基、オキ
ソ基又はカルボキシル基を示す。Ｒ1は前記に同じ）で
表されるモノマー単位などから選択された少なくとも１
種のモノマー単位をも含む］高分子化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の微細加工な
どを行う際に用いるフォトレジスト用の樹脂として有用
な高分子化合物と、この高分子化合物を含有するフォト
レジスト用樹脂組成物に関する。
どを行う際に用いるフォトレジスト用の樹脂として有用
な高分子化合物と、この高分子化合物を含有するフォト
レジスト用樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程で用いられるポジ型フォ
トレジストは、光照射により照射部がアルカリ可溶性に
変化する性質、シリコンウエハーへの密着性、プラズマ
エッチング耐性、用いる光に対する透明性等の特性を兼
ね備えていなくてはならない。該ポジ型フォトレジスト
は、一般に、主剤であるポリマーと、光酸発生剤と、上
記特性を調整するための数種の添加剤を含む溶液として
用いられるが、用途に応じたレジストを調製するには、
主剤であるポリマーが上記の各特性をバランス良く備え
ていることが極めて重要である。
トレジストは、光照射により照射部がアルカリ可溶性に
変化する性質、シリコンウエハーへの密着性、プラズマ
エッチング耐性、用いる光に対する透明性等の特性を兼
ね備えていなくてはならない。該ポジ型フォトレジスト
は、一般に、主剤であるポリマーと、光酸発生剤と、上
記特性を調整するための数種の添加剤を含む溶液として
用いられるが、用途に応じたレジストを調製するには、
主剤であるポリマーが上記の各特性をバランス良く備え
ていることが極めて重要である。
【０００３】半導体の製造に用いられるリソグラフィの
露光光源は、年々短波長になってきており、次世代の露
光光源として、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ
ーが有望視されている。このＡｒＦエキシマレーザー露
光機に用いられるレジスト用ポリマーのモノマーユニッ
トとして、前記波長に対して透明度が高く、且つエッチ
ング耐性のある脂環式炭化水素骨格を含むユニットを用
いることが提案されている（特許第２７７６２７３号な
ど）。また、脂環式炭化水素骨格の中でも特にエッチン
グ耐性に優れているアダマンタン骨格を有するポリマー
をレジスト用ポリマーとして用いることも知られてい
る。ところが、脂環式炭化水素骨格は、上記のようにエ
ッチング耐性に優れるものの、疎水性が高いことから、
基板に対する密着性が低いという欠点を有する。そのた
め、上記文献では、これを改善する目的で、カルボキシ
ル基やラクトン環などを有する親水性の高いモノマーユ
ニット（密着性付与モノマーユニット）を組み込んだ共
重合ポリマーを提案している。しかし、これらのモノマ
ーユニットはエッチング耐性がないため、密着性を満足
させる量をポリマー内に組み込むと、ポリマー全体のエ
ッチング耐性が不十分になるという問題があった。
露光光源は、年々短波長になってきており、次世代の露
光光源として、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ
ーが有望視されている。このＡｒＦエキシマレーザー露
光機に用いられるレジスト用ポリマーのモノマーユニッ
トとして、前記波長に対して透明度が高く、且つエッチ
ング耐性のある脂環式炭化水素骨格を含むユニットを用
いることが提案されている（特許第２７７６２７３号な
ど）。また、脂環式炭化水素骨格の中でも特にエッチン
グ耐性に優れているアダマンタン骨格を有するポリマー
をレジスト用ポリマーとして用いることも知られてい
る。ところが、脂環式炭化水素骨格は、上記のようにエ
ッチング耐性に優れるものの、疎水性が高いことから、
基板に対する密着性が低いという欠点を有する。そのた
め、上記文献では、これを改善する目的で、カルボキシ
ル基やラクトン環などを有する親水性の高いモノマーユ
ニット（密着性付与モノマーユニット）を組み込んだ共
重合ポリマーを提案している。しかし、これらのモノマ
ーユニットはエッチング耐性がないため、密着性を満足
させる量をポリマー内に組み込むと、ポリマー全体のエ
ッチング耐性が不十分になるという問題があった。
【０００４】一方、特開平１１−１０９６３２号公報に
は、アダマンタン骨格にヒドロキシル基を導入して親水
性を付与する試みがなされている。しかし、光照射によ
り発生した酸によってアルカリ可溶性となるモノマーユ
ニット（アルカリ可溶性モノマーユニット）として（メ
タ）アクリル酸ｔ−ブチルエステルを用いているため、
やはりポリマー全体のエッチング耐性に不安がある。
は、アダマンタン骨格にヒドロキシル基を導入して親水
性を付与する試みがなされている。しかし、光照射によ
り発生した酸によってアルカリ可溶性となるモノマーユ
ニット（アルカリ可溶性モノマーユニット）として（メ
タ）アクリル酸ｔ−ブチルエステルを用いているため、
やはりポリマー全体のエッチング耐性に不安がある。
【０００５】また、アダマンタン骨格を持つモノマーユ
ニットそのものをアルカリ可溶性モノマーユニットとす
る試みもなされている（特開平９−７３１７３号公報、
特開平９−９０６３７号公報、特開平１０−２７４８５
２号公報、特開平１０−３１９５９５号公報、特開平１
１−１２３２６号公報、特開平１１−１１９４３４号公
報など）。しかし、これらの場合も、密着性付与モノマ
ーユニットとしてエッチング耐性のないモノマーを使用
しており、ポリマー全体のエッチング耐性は十分とは言
えない。
ニットそのものをアルカリ可溶性モノマーユニットとす
る試みもなされている（特開平９−７３１７３号公報、
特開平９−９０６３７号公報、特開平１０−２７４８５
２号公報、特開平１０−３１９５９５号公報、特開平１
１−１２３２６号公報、特開平１１−１１９４３４号公
報など）。しかし、これらの場合も、密着性付与モノマ
ーユニットとしてエッチング耐性のないモノマーを使用
しており、ポリマー全体のエッチング耐性は十分とは言
えない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備す
るだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高分子化
合物、及びこのような高分子化合物を含むフォトレジス
ト用樹脂組成物を提供することにある。
は、優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備す
るだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高分子化
合物、及びこのような高分子化合物を含むフォトレジス
ト用樹脂組成物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のアダマン
タン骨格を有するモノマー単位を含むポリマーをフォト
レジスト用樹脂として用いると、透明性、アルカリ可溶
性、密着性だけでなく、エッチング耐性をも充足するこ
とを見出し、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のアダマン
タン骨格を有するモノマー単位を含むポリマーをフォト
レジスト用樹脂として用いると、透明性、アルカリ可溶
性、密着性だけでなく、エッチング耐性をも充足するこ
とを見出し、本発明を完成した。
【０００８】すなわち、本発明は、下記式（Ｉ）、（I
I）及び（III）
I）及び（III）
【化９】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2及びＲ
3は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又
は−ＣＯＯＲ4基を示し、Ｒ4はｔ−ブチル基、２−テト
ラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基又は
２−オキセパニル基を示す。Ｒ5及びＲ6は、同一又は異
なって、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示
す。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なって、水素原子
又はメチル基を示す）から選択された少なくとも１種の
モノマー単位を含む［但し、式（II）のうち、Ｒ5＝Ｒ6
＝Ｈであるモノマー単位を含む場合、又は式（III）の
モノマー単位を含む場合には、前記式（Ｉ）で表される
モノマー単位、前記式（II）のうちＲ5及びＲ6の少なく
とも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー
単位、及び下記式（IV）
3は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又
は−ＣＯＯＲ4基を示し、Ｒ4はｔ−ブチル基、２−テト
ラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基又は
２−オキセパニル基を示す。Ｒ5及びＲ6は、同一又は異
なって、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示
す。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なって、水素原子
又はメチル基を示す）から選択された少なくとも１種の
モノマー単位を含む［但し、式（II）のうち、Ｒ5＝Ｒ6
＝Ｈであるモノマー単位を含む場合、又は式（III）の
モノマー単位を含む場合には、前記式（Ｉ）で表される
モノマー単位、前記式（II）のうちＲ5及びＲ6の少なく
とも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー
単位、及び下記式（IV）
【化１０】 （式中、Ｒ10及びＲ11は、同一又は異なって、水素原
子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、Ｒ12は
ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。
Ｒ1は前記に同じ）で表されるモノマー単位から選択さ
れた少なくとも１種のモノマー単位をも含む］高分子化
合物を提供する。前記高分子化合物は、前記式（Ｉ）、
（II）及び（III）から選択された少なくとも１種のモ
ノマー単位と、前記式（IV）で表される少なくとも１種
のモノマー単位とを含んでいてもよい。
子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、Ｒ12は
ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。
Ｒ1は前記に同じ）で表されるモノマー単位から選択さ
れた少なくとも１種のモノマー単位をも含む］高分子化
合物を提供する。前記高分子化合物は、前記式（Ｉ）、
（II）及び（III）から選択された少なくとも１種のモ
ノマー単位と、前記式（IV）で表される少なくとも１種
のモノマー単位とを含んでいてもよい。
【０００９】前記高分子化合物は、さらに、下記式
（Ｖ）
（Ｖ）
【化１１】 （式中、Ｒ13は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ1は前
記に同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VI）
記に同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VI）
【化１２】 （式中、Ｒ14はトリシクロ［５．２．１．０2,6］デシ
ル基、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ド
デシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基又は２−ノ
ルボルニルメチル基、Ｒ15はＲ14の置換基であり、水素
原子、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基、カルボキ
シル基又は−ＣＯＯＲ16基を示し、Ｒ16はｔ−ブチル
基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピ
ラニル基又は２−オキセパニル基を示す。Ｒ1は前記に
同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VII）
ル基、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ド
デシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基又は２−ノ
ルボルニルメチル基、Ｒ15はＲ14の置換基であり、水素
原子、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基、カルボキ
シル基又は−ＣＯＯＲ16基を示し、Ｒ16はｔ−ブチル
基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピ
ラニル基又は２−オキセパニル基を示す。Ｒ1は前記に
同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VII）
【化１３】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は、同一又は
異なって、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ1は前記に
同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VIII）
異なって、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ1は前記に
同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VIII）
【化１４】 （式中、ｎは１〜３の整数を示す。Ｒ1は前記に同じ）
で表されるモノマー単位、及び下記式（IX）
で表されるモノマー単位、及び下記式（IX）
【化１５】 （式中、Ｒ1は前記に同じ）で表されるモノマー単位か
ら選択された少なくとも１種のモノマー単位を含んでい
てもよい。前記高分子化合物において、アダマンタン骨
格を有するモノマー単位の総含有量は、ポリマーを構成
する全モノマー単位の例えば５０〜１００重量％、好ま
しくは７０〜１００重量％である。前記高分子化合物は
フォトレジスト用樹脂として使用できる。本発明は、ま
た、上記の高分子化合物と光酸発生剤とを含むフォトレ
ジスト用樹脂組成物を提供する。なお、本明細書では、
「アクリル」と「メタクリル」とを「（メタ）アクリ
ル」と総称する場合がある。
ら選択された少なくとも１種のモノマー単位を含んでい
てもよい。前記高分子化合物において、アダマンタン骨
格を有するモノマー単位の総含有量は、ポリマーを構成
する全モノマー単位の例えば５０〜１００重量％、好ま
しくは７０〜１００重量％である。前記高分子化合物は
フォトレジスト用樹脂として使用できる。本発明は、ま
た、上記の高分子化合物と光酸発生剤とを含むフォトレ
ジスト用樹脂組成物を提供する。なお、本明細書では、
「アクリル」と「メタクリル」とを「（メタ）アクリ
ル」と総称する場合がある。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の高分子化合物は、ポリマ
ー分子を構成する構造単位として、前記式（Ｉ）、（I
I）及び（III）から選択された少なくとも１種のモノマ
ー単位を含んでいる。但し、式（II）のうち、Ｒ5＝Ｒ6
＝Ｈであるモノマー単位を含む場合、又は式（III）の
モノマー単位を含む場合には、前記式（Ｉ）で表される
モノマー単位、前記式（II）のうちＲ5及びＲ6の少なく
とも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー
単位、及び前記式（IV）で表されるモノマー単位から選
択された少なくとも１種のモノマー単位をも含む。
ー分子を構成する構造単位として、前記式（Ｉ）、（I
I）及び（III）から選択された少なくとも１種のモノマ
ー単位を含んでいる。但し、式（II）のうち、Ｒ5＝Ｒ6
＝Ｈであるモノマー単位を含む場合、又は式（III）の
モノマー単位を含む場合には、前記式（Ｉ）で表される
モノマー単位、前記式（II）のうちＲ5及びＲ6の少なく
とも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー
単位、及び前記式（IV）で表されるモノマー単位から選
択された少なくとも１種のモノマー単位をも含む。
【００１１】式（II）中、Ｒ5、Ｒ6は、アダマンタン環
を構成する炭素原子に結合した基であり、これがヒドロ
キシル基である場合には、通常、アダマンタン環の橋頭
位に結合している。また、式（IV）中、Ｒ12はアダマン
タン環を構成する炭素原子に結合した基であり、これが
ヒドロキシル基又はカルボキシル基である場合には、通
常、アダマンタン環の橋頭位に結合している。
を構成する炭素原子に結合した基であり、これがヒドロ
キシル基である場合には、通常、アダマンタン環の橋頭
位に結合している。また、式（IV）中、Ｒ12はアダマン
タン環を構成する炭素原子に結合した基であり、これが
ヒドロキシル基又はカルボキシル基である場合には、通
常、アダマンタン環の橋頭位に結合している。
【００１２】式（Ｉ）で表されるモノマー単位は、アダ
マンタン骨格に結合している保護基で保護されたカルボ
キシル基が酸によって脱保護され、遊離のカルボキシル
基を生成させる。また、式（II）で表されるモノマー単
位は、アダマンタン骨格が酸によって主鎖に結合したカ
ルボン酸部から脱離して遊離のカルボキシル基を生成さ
せる。さらに、式（III）で表されるモノマー単位も、
酸によりラクトン環が主鎖に結合したカルボン酸部から
脱離して遊離のカルボキシル基を生成させる。従って、
これらの式（Ｉ）〜（III）のモノマーユニット（以
下、「モノマーユニット１」と称することがある）は、
アルカリ現像時に可溶化するアルカリ可溶性ユニットと
して機能する。なお、式（III）のモノマー単位は、親
水性を有するラクトン環を含むので、基板に対する密着
性機能をも有する。
マンタン骨格に結合している保護基で保護されたカルボ
キシル基が酸によって脱保護され、遊離のカルボキシル
基を生成させる。また、式（II）で表されるモノマー単
位は、アダマンタン骨格が酸によって主鎖に結合したカ
ルボン酸部から脱離して遊離のカルボキシル基を生成さ
せる。さらに、式（III）で表されるモノマー単位も、
酸によりラクトン環が主鎖に結合したカルボン酸部から
脱離して遊離のカルボキシル基を生成させる。従って、
これらの式（Ｉ）〜（III）のモノマーユニット（以
下、「モノマーユニット１」と称することがある）は、
アルカリ現像時に可溶化するアルカリ可溶性ユニットと
して機能する。なお、式（III）のモノマー単位は、親
水性を有するラクトン環を含むので、基板に対する密着
性機能をも有する。
【００１３】一方、式（IV）で表されるモノマー単位
（以下、「モノマーユニット２」と称することがある）
は、アダマンタン骨格に親水性の高い基（ヒドロキシル
基、カルボキシル基、オキソ基）が結合しているため、
基板への密着性を高める密着性付与ユニットとして機能
する。
（以下、「モノマーユニット２」と称することがある）
は、アダマンタン骨格に親水性の高い基（ヒドロキシル
基、カルボキシル基、オキソ基）が結合しているため、
基板への密着性を高める密着性付与ユニットとして機能
する。
【００１４】本発明の高分子化合物は、上記のように、
アルカリ可溶性機能を有するとともに、何れもアダマン
タン骨格を有するモノマー単位を含んでいるため［式
（III）のモノマー単位は式（Ｉ）、（II）又は（IV）
のモノマー単位と組み合わせられて用いられる］、透明
性に優れ、且つエッチング耐性が極めて高いという特色
を有する。また、前記式（III）又は式（IV）のモノマ
ー単位やその他の親水性のモノマー単位を適宜組み込む
ことにより、密着性機能をも保持できる。従って、本発
明の高分子化合物はフォトレジスト用の樹脂として好適
に使用できる。
アルカリ可溶性機能を有するとともに、何れもアダマン
タン骨格を有するモノマー単位を含んでいるため［式
（III）のモノマー単位は式（Ｉ）、（II）又は（IV）
のモノマー単位と組み合わせられて用いられる］、透明
性に優れ、且つエッチング耐性が極めて高いという特色
を有する。また、前記式（III）又は式（IV）のモノマ
ー単位やその他の親水性のモノマー単位を適宜組み込む
ことにより、密着性機能をも保持できる。従って、本発
明の高分子化合物はフォトレジスト用の樹脂として好適
に使用できる。
【００１５】特に、前記モノマーユニット１とモノマー
ユニット２とを含む高分子化合物は、アルカリ可溶性、
基板に対する密着性、プラズマエッチング耐性及び透明
性の各特性を極めてバランスよく具備する。
ユニット２とを含む高分子化合物は、アルカリ可溶性、
基板に対する密着性、プラズマエッチング耐性及び透明
性の各特性を極めてバランスよく具備する。
【００１６】このようなモノマーユニット１とモノマー
ユニット２とを併有する高分子化合物において、モノマ
ーユニット１とモノマーユニット２との比率は、例え
ば、前者／後者（モル比）＝１／９９〜９９／１、好ま
しくは５／９５〜８０／２０、さらに好ましくは１５／
８５〜６５／３５程度である。
ユニット２とを併有する高分子化合物において、モノマ
ーユニット１とモノマーユニット２との比率は、例え
ば、前者／後者（モル比）＝１／９９〜９９／１、好ま
しくは５／９５〜８０／２０、さらに好ましくは１５／
８５〜６５／３５程度である。
【００１７】本発明の高分子化合物は、さらに、前記式
（Ｖ）で表されるアダマンタン骨格を有するモノマー単
位（密着性機能及びアルカリ可溶性機能を有しない）、
式（VI）で表されるアダマンタン以外の有橋脂環式炭化
水素骨格を有するモノマー単位、式（VII）で表される
ラクトン骨格を有するモノマー単位、式（VIII）で表さ
れるアセタール系モノマー単位、及び式（IX）で表され
るカルボキシル基を有するモノマー単位から選択された
少なくとも１種のモノマー単位（以下、「モノマーユニ
ット３」と称することがある）を含んでいてもよい。
（Ｖ）で表されるアダマンタン骨格を有するモノマー単
位（密着性機能及びアルカリ可溶性機能を有しない）、
式（VI）で表されるアダマンタン以外の有橋脂環式炭化
水素骨格を有するモノマー単位、式（VII）で表される
ラクトン骨格を有するモノマー単位、式（VIII）で表さ
れるアセタール系モノマー単位、及び式（IX）で表され
るカルボキシル基を有するモノマー単位から選択された
少なくとも１種のモノマー単位（以下、「モノマーユニ
ット３」と称することがある）を含んでいてもよい。
【００１８】アダマンタン骨格を有する構造単位のみか
らなるポリマーは、一般に分子の絡み合いが小さく、比
較的脆い性質を持ちやすいが、前記式（VI）〜（IX）の
モノマー単位をポリマー中に組み込むことにより、その
ような脆さが改善される。また、式（Ｖ）、（VI）のモ
ノマー単位はエッチング耐性が高く、式（VII）、（I
X）のモノマー単位は密着性付与機能を有し、式（VII
I）のモノマー単位はアルカリ可溶性機能を有するの
で、上記各モノマー単位により、レジスト用樹脂として
必要な諸特性のバランスを用途に応じて微調整できる。
なお、前記式（VII）のモノマー単位の中でも、Ｒ17〜
Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基（特に、Ｒ20及び
Ｒ21がメチル基）であるモノマー単位が好ましい。
らなるポリマーは、一般に分子の絡み合いが小さく、比
較的脆い性質を持ちやすいが、前記式（VI）〜（IX）の
モノマー単位をポリマー中に組み込むことにより、その
ような脆さが改善される。また、式（Ｖ）、（VI）のモ
ノマー単位はエッチング耐性が高く、式（VII）、（I
X）のモノマー単位は密着性付与機能を有し、式（VII
I）のモノマー単位はアルカリ可溶性機能を有するの
で、上記各モノマー単位により、レジスト用樹脂として
必要な諸特性のバランスを用途に応じて微調整できる。
なお、前記式（VII）のモノマー単位の中でも、Ｒ17〜
Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基（特に、Ｒ20及び
Ｒ21がメチル基）であるモノマー単位が好ましい。
【００１９】このようなモノマーユニット３を含む高分
子化合物において、モノマーユニット３の総含有量は、
ポリマーを構成する全モノマー単位の、例えば１〜５０
モル％程度、好ましくは５〜４０モル％程度である。
子化合物において、モノマーユニット３の総含有量は、
ポリマーを構成する全モノマー単位の、例えば１〜５０
モル％程度、好ましくは５〜４０モル％程度である。
【００２０】本発明の高分子化合物において、上記の各
モノマー単位の組み合わせの中でも、特に好ましい組み
合わせとして以下のものが挙げられる。 （１）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ12
がヒドロキシル基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基
であるモノマー単位との組み合わせ （２）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ12
がオキソ基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基である
モノマー単位との組み合わせ （３）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（II）のうちＲ5
及びＲ6がヒドロキシル基であるモノマー単位との組み
合わせ （４）式（Ｉ）のうちＲ2がヒドロキシル基であるモノ
マー単位と、式（III）のモノマー単位（例えば、Ｒ7〜
Ｒ9のうち少なくとも１つがメチル基であるモノマー単
位、特にＲ8及びＲ9がメチル基であるモノマー単位）と
の組み合わせ （５）式（Ｉ）のうちＲ2がヒドロキシル基であるモノ
マー単位と、式（VII）のモノマー単位（例えば、Ｒ17
〜Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基であるモノマー
単位）との組み合わせ （６）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（IV）のうちＲ12がヒドロキシル基でＲ
10が水素原子又はヒドロキシル基であるモノマー単位と
の組み合わせ （７）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（IV）のうちＲ12がオキソ基でＲ10が水
素原子又はヒドロキシル基であるモノマー単位との組み
合わせ （８）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（II）のうちＲ5及びＲ6がヒドロキシル
基であるモノマー単位との組み合わせ （９）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（IV）のモノマー単位と
の組み合わせ （10）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（II）のうちＲ5及びＲ6
がヒドロキシル基であるモノマー単位 （11）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（III）のモノマー単位
（例えば、Ｒ7〜Ｒ9のうち少なくとも１つがメチル基で
あるモノマー単位、特にＲ8及びＲ9がメチル基であるモ
ノマー単位）との組み合わせ （12）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（VII）のモノマー単位
（例えば、Ｒ17〜Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基
であるモノマー単位）との組み合わせ （13）式（III）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ
12がヒドロキシル基でＲ1 0が水素原子又はヒドロキシル
基であるモノマー単位との組み合わせ （14）式（III）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ
12がオキソ基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基であ
るモノマー単位との組み合わせ （15）式（III）のモノマー単位と、式（II）のうちＲ5
及びＲ6がヒドロキシル基であるモノマー単位 （16）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（III）のモノマー単位との組み合わせ （17）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（VII）のモノマー単位との組み合わせ （18）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（VIII）のモノマー単位との組み合わせ
モノマー単位の組み合わせの中でも、特に好ましい組み
合わせとして以下のものが挙げられる。 （１）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ12
がヒドロキシル基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基
であるモノマー単位との組み合わせ （２）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ12
がオキソ基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基である
モノマー単位との組み合わせ （３）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（II）のうちＲ5
及びＲ6がヒドロキシル基であるモノマー単位との組み
合わせ （４）式（Ｉ）のうちＲ2がヒドロキシル基であるモノ
マー単位と、式（III）のモノマー単位（例えば、Ｒ7〜
Ｒ9のうち少なくとも１つがメチル基であるモノマー単
位、特にＲ8及びＲ9がメチル基であるモノマー単位）と
の組み合わせ （５）式（Ｉ）のうちＲ2がヒドロキシル基であるモノ
マー単位と、式（VII）のモノマー単位（例えば、Ｒ17
〜Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基であるモノマー
単位）との組み合わせ （６）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（IV）のうちＲ12がヒドロキシル基でＲ
10が水素原子又はヒドロキシル基であるモノマー単位と
の組み合わせ （７）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（IV）のうちＲ12がオキソ基でＲ10が水
素原子又はヒドロキシル基であるモノマー単位との組み
合わせ （８）式（II）のうちＲ5及びＲ6が水素原子であるモノ
マー単位と、式（II）のうちＲ5及びＲ6がヒドロキシル
基であるモノマー単位との組み合わせ （９）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（IV）のモノマー単位と
の組み合わせ （10）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（II）のうちＲ5及びＲ6
がヒドロキシル基であるモノマー単位 （11）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（III）のモノマー単位
（例えば、Ｒ7〜Ｒ9のうち少なくとも１つがメチル基で
あるモノマー単位、特にＲ8及びＲ9がメチル基であるモ
ノマー単位）との組み合わせ （12）式（II）のうちＲ5がヒドロキシル基でＲ6が水素
原子であるモノマー単位と、式（VII）のモノマー単位
（例えば、Ｒ17〜Ｒ21のうち少なくとも１つがメチル基
であるモノマー単位）との組み合わせ （13）式（III）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ
12がヒドロキシル基でＲ1 0が水素原子又はヒドロキシル
基であるモノマー単位との組み合わせ （14）式（III）のモノマー単位と、式（IV）のうちＲ
12がオキソ基でＲ10が水素原子又はヒドロキシル基であ
るモノマー単位との組み合わせ （15）式（III）のモノマー単位と、式（II）のうちＲ5
及びＲ6がヒドロキシル基であるモノマー単位 （16）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（III）のモノマー単位との組み合わせ （17）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（VII）のモノマー単位との組み合わせ （18）式（Ｉ）のモノマー単位と、式（IV）のモノマー
単位と、式（VIII）のモノマー単位との組み合わせ
【００２１】本発明の高分子化合物では、アダマンタン
骨格を有するモノマー単位（式（Ｉ）、（II）、（IV）
及び（Ｖ）、特に、式（Ｉ）、（II）及び（IV））の総
含有量は、ポリマーを構成する全モノマー単位の例えば
５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％程
度である。このような高分子化合物では、特に優れたエ
ッチング耐性を示す。
骨格を有するモノマー単位（式（Ｉ）、（II）、（IV）
及び（Ｖ）、特に、式（Ｉ）、（II）及び（IV））の総
含有量は、ポリマーを構成する全モノマー単位の例えば
５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％程
度である。このような高分子化合物では、特に優れたエ
ッチング耐性を示す。
【００２２】本発明では、高分子化合物の重量平均分子
量（Ｍｗ）は、例えば５０００〜５００００程度、好ま
しくは７０００〜２００００程度であり、分子量分布
（Ｍｗ／Ｍｎ）は、例えば１．８〜３．０程度である。
なお、前記Ｍｎは数平均分子量（ポリスチレン換算）を
示す。
量（Ｍｗ）は、例えば５０００〜５００００程度、好ま
しくは７０００〜２００００程度であり、分子量分布
（Ｍｗ／Ｍｎ）は、例えば１．８〜３．０程度である。
なお、前記Ｍｎは数平均分子量（ポリスチレン換算）を
示す。
【００２３】前記式（Ｉ）〜（IX）で表される各モノマ
ー単位は、それぞれ対応する（メタ）アクリル酸エステ
ルを（コ）モノマーとして重合に付すことにより形成で
きる。重合は、溶液重合、溶融重合など、アクリル系ポ
リマーを製造する際に用いる慣用の方法により行うこと
ができる。
ー単位は、それぞれ対応する（メタ）アクリル酸エステ
ルを（コ）モノマーとして重合に付すことにより形成で
きる。重合は、溶液重合、溶融重合など、アクリル系ポ
リマーを製造する際に用いる慣用の方法により行うこと
ができる。
【００２４】［式（Ｉ）のモノマー単位］前記式（Ｉ）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（１）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（１）
【化１６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は前記に同じ）で表され、
その代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［1-1］１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−（メタ）ア
クリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル基） ［1-2］１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−５
−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン［Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ2＝ｔ−ブトキシカルボニル基、Ｒ3＝
Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル基］ ［1-3］１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−ヒドロキシ
−５−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1
＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝ＯＨ、Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル
基） ［1-4］１−（２−テトラヒドロピラニルオキシカルボ
ニル）−３−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン
（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝２−テトラ
ヒドロピラニル基） ［1-5］１，３−ビス（２−テトラヒドロピラニルオキ
シカルボニル）−５−（メタ）アクリロイルオキシアダ
マンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝２−テトラヒドロ
ピラニルオキシカルボニル基、Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝２−テト
ラヒドロピラニル基） ［1-6］１−ヒドロキシ−３−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシカルボニル）−５−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝ＯＨ、Ｒ3
＝Ｈ、Ｒ4＝２−テトラヒドロピラニル基）
その代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［1-1］１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−（メタ）ア
クリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル基） ［1-2］１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−５
−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン［Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ2＝ｔ−ブトキシカルボニル基、Ｒ3＝
Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル基］ ［1-3］１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−ヒドロキシ
−５−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1
＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝ＯＨ、Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝ｔ−ブチル
基） ［1-4］１−（２−テトラヒドロピラニルオキシカルボ
ニル）−３−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン
（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝２−テトラ
ヒドロピラニル基） ［1-5］１，３−ビス（２−テトラヒドロピラニルオキ
シカルボニル）−５−（メタ）アクリロイルオキシアダ
マンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝２−テトラヒドロ
ピラニルオキシカルボニル基、Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝２−テト
ラヒドロピラニル基） ［1-6］１−ヒドロキシ−３−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシカルボニル）−５−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ2＝ＯＨ、Ｒ3
＝Ｈ、Ｒ4＝２−テトラヒドロピラニル基）
【００２５】上記式（１）で表される化合物は、例え
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
【化１７】 （式中、ＲXは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アル
コキシ基又はアルケニルオキシ基を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4は前記に同じ）
コキシ基又はアルケニルオキシ基を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4は前記に同じ）
【００２６】この反応工程式において、カルボキシアダ
マンタノール誘導体（10）の１−アダマンタノール誘導
体（11）への変換（カルボキシル基の保護化）は、慣用
の方法、例えば、カルボキシアダマンタノール誘導体
（10）とイソブチレン、ジヒドロフラン、ジヒドロピラ
ンなどとを反応させることにより行うことができる。
マンタノール誘導体（10）の１−アダマンタノール誘導
体（11）への変換（カルボキシル基の保護化）は、慣用
の方法、例えば、カルボキシアダマンタノール誘導体
（10）とイソブチレン、ジヒドロフラン、ジヒドロピラ
ンなどとを反応させることにより行うことができる。
【００２７】この際、原料として用いるカルボキシアダ
マンタノール誘導体（10）は、アダマンタン化合物のア
ダマンタン環にヒドロキシル基及びカルボキシル基を導
入することにより得ることができる。例えば、アダマン
タン化合物をＮ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒド
ロキシイミド系触媒と、必要に応じてコバルト化合物
（例えば、酢酸コバルト、コバルトアセチルアセトナト
等）などの金属系助触媒の存在下、酸素と接触させるこ
とにより、アダマンタン環にヒドロキシル基を導入でき
る。この方法において、Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の
使用量は、アダマンタン化合物１モルに対して、例えば
０．０００１〜１モル、好ましくは０．００１〜０．５
モル程度である。また、金属系助触媒の使用量は、アダ
マンタン化合物１モルに対して、例えば０．０００１〜
０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モル程度で
ある。酸素はアダマンタン化合物に対して過剰量用いる
場合が多い。反応は、例えば、酢酸などの有機酸、アセ
トニトリルなどのニトリル類、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素などの溶媒中、常圧又は加圧下、０〜
２００℃程度、好ましくは３０〜１５０℃程度の温度で
行われる。反応条件を選択することにより、アダマンタ
ン環に複数のヒドロキシル基を導入することができる。
マンタノール誘導体（10）は、アダマンタン化合物のア
ダマンタン環にヒドロキシル基及びカルボキシル基を導
入することにより得ることができる。例えば、アダマン
タン化合物をＮ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒド
ロキシイミド系触媒と、必要に応じてコバルト化合物
（例えば、酢酸コバルト、コバルトアセチルアセトナト
等）などの金属系助触媒の存在下、酸素と接触させるこ
とにより、アダマンタン環にヒドロキシル基を導入でき
る。この方法において、Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の
使用量は、アダマンタン化合物１モルに対して、例えば
０．０００１〜１モル、好ましくは０．００１〜０．５
モル程度である。また、金属系助触媒の使用量は、アダ
マンタン化合物１モルに対して、例えば０．０００１〜
０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５モル程度で
ある。酸素はアダマンタン化合物に対して過剰量用いる
場合が多い。反応は、例えば、酢酸などの有機酸、アセ
トニトリルなどのニトリル類、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素などの溶媒中、常圧又は加圧下、０〜
２００℃程度、好ましくは３０〜１５０℃程度の温度で
行われる。反応条件を選択することにより、アダマンタ
ン環に複数のヒドロキシル基を導入することができる。
【００２８】また、アダマンタン化合物を上記Ｎ−ヒド
ロキシイミド系触媒と、必要に応じて上記金属系助触媒
の存在下、一酸化炭素及び酸素と接触させることによ
り、アダマンタン化合物のアダマンタン環にカルボキシ
ル基を導入できる。このカルボキシル化反応において、
Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、アダマンタン
化合物１モルに対して、例えば０．０００１〜１モル、
好ましくは０．００１〜０．５モル程度である。また、
金属系助触媒の使用量は、アダマンタン化合物１モルに
対して、例えば０．０００１〜０．７モル、好ましくは
０．００１〜０．５モル程度である。一酸化炭素及び酸
素の使用量は、例えば、アダマンタン化合物１モルに対
して、それぞれ１モル以上及び０．５モル以上である。
一酸化炭素と酸素の割合は、例えば、前者／後者（モル
比）＝１／９９〜９９／１程度、好ましくは５０／５０
〜９５／５程度である。カルボキシル化反応は、例え
ば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素などの溶
媒中、常圧又は加圧下、０〜２００℃程度、好ましくは
１０〜１５０℃程度の温度で行われる。なお、反応条件
を選択することにより、アダマンタン環に複数のカルボ
キシル基を導入できる。
ロキシイミド系触媒と、必要に応じて上記金属系助触媒
の存在下、一酸化炭素及び酸素と接触させることによ
り、アダマンタン化合物のアダマンタン環にカルボキシ
ル基を導入できる。このカルボキシル化反応において、
Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、アダマンタン
化合物１モルに対して、例えば０．０００１〜１モル、
好ましくは０．００１〜０．５モル程度である。また、
金属系助触媒の使用量は、アダマンタン化合物１モルに
対して、例えば０．０００１〜０．７モル、好ましくは
０．００１〜０．５モル程度である。一酸化炭素及び酸
素の使用量は、例えば、アダマンタン化合物１モルに対
して、それぞれ１モル以上及び０．５モル以上である。
一酸化炭素と酸素の割合は、例えば、前者／後者（モル
比）＝１／９９〜９９／１程度、好ましくは５０／５０
〜９５／５程度である。カルボキシル化反応は、例え
ば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素などの溶
媒中、常圧又は加圧下、０〜２００℃程度、好ましくは
１０〜１５０℃程度の温度で行われる。なお、反応条件
を選択することにより、アダマンタン環に複数のカルボ
キシル基を導入できる。
【００２９】１−アダマンタノール誘導体（11）と（メ
タ）アクリル酸又はその誘導体（12）との反応（エステ
ル化反応）は、酸触媒やエステル交換触媒を用いた慣用
の方法により行うことができる。また、１−アダマンタ
ノール誘導体（11）と（メタ）アクリル酸ビニル、（メ
タ）アクリル酸２−プロペニルなどの（メタ）アクリル
酸アルケニルとを、周期表第３族元素化合物触媒（例え
ば、酢酸サマリウム、トリフルオロメタンスルホン酸サ
マリウム、サマリウム錯体などのサマリウム化合物等）
の存在下で反応（エステル交換反応）させると、温和な
条件下で効率よく式（１）で表される化合物を得ること
ができる。この場合、（メタ）アクリル酸アルケニルの
使用量は、１−アダマンタノール誘導体（11）１モルに
対して、例えば０．８〜５モル、好ましくは１〜１．５
モル程度である。周期表第３族元素化合物触媒の使用量
は、１−アダマンタノール誘導体（11）１モルに対し
て、例えば０．００１〜１モル、好ましくは０．０１〜
０．２５モル程度である。この反応は、反応に不活性な
溶媒中、例えば０〜１５０℃、好ましくは２５〜１２０
℃程度の温度で行われる。
タ）アクリル酸又はその誘導体（12）との反応（エステ
ル化反応）は、酸触媒やエステル交換触媒を用いた慣用
の方法により行うことができる。また、１−アダマンタ
ノール誘導体（11）と（メタ）アクリル酸ビニル、（メ
タ）アクリル酸２−プロペニルなどの（メタ）アクリル
酸アルケニルとを、周期表第３族元素化合物触媒（例え
ば、酢酸サマリウム、トリフルオロメタンスルホン酸サ
マリウム、サマリウム錯体などのサマリウム化合物等）
の存在下で反応（エステル交換反応）させると、温和な
条件下で効率よく式（１）で表される化合物を得ること
ができる。この場合、（メタ）アクリル酸アルケニルの
使用量は、１−アダマンタノール誘導体（11）１モルに
対して、例えば０．８〜５モル、好ましくは１〜１．５
モル程度である。周期表第３族元素化合物触媒の使用量
は、１−アダマンタノール誘導体（11）１モルに対し
て、例えば０．００１〜１モル、好ましくは０．０１〜
０．２５モル程度である。この反応は、反応に不活性な
溶媒中、例えば０〜１５０℃、好ましくは２５〜１２０
℃程度の温度で行われる。
【００３０】［式（II）のモノマー単位］前記式（II）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（２）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（２）
【化１８】 （式中、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ6は前記に同じ）で表され、その
代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［2-1］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチル
アダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ） ［2-2］１−ヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイルオ
キシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝Ｈ） ［2-3］５−ヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイルオ
キシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
5＝５−ＯＨ、Ｒ6＝Ｈ） ［2-4］１,３−ジヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝３−ＯＨ） ［2-5］１,５−ジヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝５−ＯＨ） ［2-6］１,３−ジヒドロキシ−６−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−６−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝３−ＯＨ）
代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［2-1］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチル
アダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ） ［2-2］１−ヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイルオ
キシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝Ｈ） ［2-3］５−ヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイルオ
キシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
5＝５−ＯＨ、Ｒ6＝Ｈ） ［2-4］１,３−ジヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝３−ＯＨ） ［2-5］１,５−ジヒドロキシ−２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝５−ＯＨ） ［2-6］１,３−ジヒドロキシ−６−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−６−メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ5＝１−ＯＨ、Ｒ6＝３−ＯＨ）
【００３１】上記式（２）で表される化合物は、例え
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
【化１９】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒ1、Ｒ5、Ｒ6、ＲX
は前記に同じ）
は前記に同じ）
【００３２】この反応工程式において、アダマンタノン
誘導体（13）とグリニヤール試薬（14）との反応は、慣
用のグリニヤール反応に準じて行うことができる。グリ
ニヤール試薬（14）の使用量は、アダマンタノン誘導体
（13）１モルに対して、例えば０．７〜３モル、好まし
くは０．９〜１．５モル程度である。アダマンタノン誘
導体（13）がアダマンタン環にヒドロキシル基を有する
ときは、その数に応じて前記グリニヤール試薬の量を増
加する。反応は、反応に不活性な溶媒、例えば、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類等の
中で行われる。反応温度は、例えば０〜１５０℃、好ま
しくは２０〜１００℃程度である。
誘導体（13）とグリニヤール試薬（14）との反応は、慣
用のグリニヤール反応に準じて行うことができる。グリ
ニヤール試薬（14）の使用量は、アダマンタノン誘導体
（13）１モルに対して、例えば０．７〜３モル、好まし
くは０．９〜１．５モル程度である。アダマンタノン誘
導体（13）がアダマンタン環にヒドロキシル基を有する
ときは、その数に応じて前記グリニヤール試薬の量を増
加する。反応は、反応に不活性な溶媒、例えば、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類等の
中で行われる。反応温度は、例えば０〜１５０℃、好ま
しくは２０〜１００℃程度である。
【００３３】こうして得られる２−アダマンタノール誘
導体（15）を（メタ）アクリル酸又はその誘導体（12）
と反応させることにより（エステル化反応）、前記式
（２）で表される化合物を得ることができる。エステル
化反応は、前記式（11）の化合物と（メタ）アクリル酸
又はその誘導体（12）との反応に準じて行うことができ
る。
導体（15）を（メタ）アクリル酸又はその誘導体（12）
と反応させることにより（エステル化反応）、前記式
（２）で表される化合物を得ることができる。エステル
化反応は、前記式（11）の化合物と（メタ）アクリル酸
又はその誘導体（12）との反応に準じて行うことができ
る。
【００３４】なお、上記方法において原料として用いる
アダマンタノン誘導体（13）のうちアダマンタン環にヒ
ドロキシル基を有する化合物は、２−アダマンタノン類
を、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒドロキシイ
ミド系触媒と、必要に応じてコバルト化合物、マンガン
化合物、バナジウム化合物などの金属系助触媒の存在
下、酸素と接触させて、アダマンタン環にヒドロキシル
基を導入することにより製造できる。この方法におい
て、Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、２−アダ
マンタノン類１モルに対して、例えば０．０００１〜１
モル、好ましくは０．００１〜０．５モル程度である。
また、金属系助触媒の使用量は、２−アダマンタノン類
１モルに対して、例えば０．０００１〜０．７モル、好
ましくは０．００１〜０．５モル程度である。酸素は２
−アダマンタノン類に対して過剰量用いる場合が多い。
反応は、例えば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルな
どのニトリル類、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素等の溶媒中、常圧又は加圧下、０〜２００℃程度、
好ましくは３０〜１５０℃程度の温度で行われる。
アダマンタノン誘導体（13）のうちアダマンタン環にヒ
ドロキシル基を有する化合物は、２−アダマンタノン類
を、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒドロキシイ
ミド系触媒と、必要に応じてコバルト化合物、マンガン
化合物、バナジウム化合物などの金属系助触媒の存在
下、酸素と接触させて、アダマンタン環にヒドロキシル
基を導入することにより製造できる。この方法におい
て、Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、２−アダ
マンタノン類１モルに対して、例えば０．０００１〜１
モル、好ましくは０．００１〜０．５モル程度である。
また、金属系助触媒の使用量は、２−アダマンタノン類
１モルに対して、例えば０．０００１〜０．７モル、好
ましくは０．００１〜０．５モル程度である。酸素は２
−アダマンタノン類に対して過剰量用いる場合が多い。
反応は、例えば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルな
どのニトリル類、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素等の溶媒中、常圧又は加圧下、０〜２００℃程度、
好ましくは３０〜１５０℃程度の温度で行われる。
【００３５】また、アダマンタノン誘導体（13）のうち
アダマンタン環にヒドロキシル基を有する化合物は、ア
ダマンタン類と酸素とを、前記Ｎ−ヒドロキシイミド系
触媒と強酸（例えば、ハロゲン化水素、硫酸など）と、
必要に応じて前記金属系助触媒の存在下で反応させるこ
とにより製造することもできる。前記強酸の使用量は、
アダマンタン類１モルに対して、例えば０．００００１
〜１モル、好ましくは０．０００５〜０．７モル程度で
ある。他の反応条件は、前記のヒドロキシル基導入反応
と同様である。
アダマンタン環にヒドロキシル基を有する化合物は、ア
ダマンタン類と酸素とを、前記Ｎ−ヒドロキシイミド系
触媒と強酸（例えば、ハロゲン化水素、硫酸など）と、
必要に応じて前記金属系助触媒の存在下で反応させるこ
とにより製造することもできる。前記強酸の使用量は、
アダマンタン類１モルに対して、例えば０．００００１
〜１モル、好ましくは０．０００５〜０．７モル程度で
ある。他の反応条件は、前記のヒドロキシル基導入反応
と同様である。
【００３６】［式（III）のモノマー単位］前記式（II
I）のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式
（３）
I）のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式
（３）
【化２０】 （式中、Ｒ1、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は前記に同じ）で表され、
その代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［3-1］３−（メタ）アクリロイルオキシ−γ−ブチロ
ラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｒ8＝Ｒ9＝Ｈ） ［3-2］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｃ
Ｈ3、Ｒ8＝Ｒ9＝Ｈ） ［3-3］３−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｒ9＝
Ｈ、Ｒ8＝ＣＨ3） ［3-4］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7
＝Ｒ8＝ＣＨ3、Ｒ9＝Ｈ） ［3-5］３−（メタ）アクリロイルオキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7
＝Ｈ、Ｒ8＝Ｒ9＝ＣＨ3） ［3-6］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ7＝Ｒ8＝Ｒ9＝ＣＨ3）
その代表的な例として下記の化合物が挙げられる。 ［3-1］３−（メタ）アクリロイルオキシ−γ−ブチロ
ラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｒ8＝Ｒ9＝Ｈ） ［3-2］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｃ
Ｈ3、Ｒ8＝Ｒ9＝Ｈ） ［3-3］３−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7＝Ｒ9＝
Ｈ、Ｒ8＝ＣＨ3） ［3-4］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7
＝Ｒ8＝ＣＨ3、Ｒ9＝Ｈ） ［3-5］３−（メタ）アクリロイルオキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ7
＝Ｈ、Ｒ8＝Ｒ9＝ＣＨ3） ［3-6］３−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ7＝Ｒ8＝Ｒ9＝ＣＨ3）
【００３７】前記式（３）で表される化合物は、例え
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
【化２１】 （式中、Ｒ1、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、ＲXは前記に同じ）
【００３８】上記の反応工程式において、式（16）で表
されるα−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類の式（1
7）で表されるβ−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類
への変換（異性化）は、式（16）の化合物を、必要に応
じて水や、硫酸、塩酸等の酸を少量添加した溶媒中に溶
解させることにより行うことができる。溶媒としては、
特に限定されず、例えば、アセトニトリル、酢酸、酢酸
エチルなどを使用できる。反応温度は、例えば０〜１５
０℃、好ましくは２０〜１００℃程度である。原料とし
て用いるα−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類（16）
は、後述の式（21）で表される化合物と同様にして製造
できる。なお、式（17）の化合物は、式（16）の化合物
を五酸化リンと反応させて（脱水反応）、対応するα，
β−不飽和−γ−ブチロラクトンとし、これを過酸化水
素やｍ−クロロ過安息香酸等の過酸と反応させて二重結
合をエポキシ化し、次いでＰｄ−Ｃ等の触媒の存在下、
水素添加することにより得ることもできる。また、式
（17）の化合物は、β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクト
ン類を得る公知の方法により製造することもできる。
されるα−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類の式（1
7）で表されるβ−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類
への変換（異性化）は、式（16）の化合物を、必要に応
じて水や、硫酸、塩酸等の酸を少量添加した溶媒中に溶
解させることにより行うことができる。溶媒としては、
特に限定されず、例えば、アセトニトリル、酢酸、酢酸
エチルなどを使用できる。反応温度は、例えば０〜１５
０℃、好ましくは２０〜１００℃程度である。原料とし
て用いるα−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類（16）
は、後述の式（21）で表される化合物と同様にして製造
できる。なお、式（17）の化合物は、式（16）の化合物
を五酸化リンと反応させて（脱水反応）、対応するα，
β−不飽和−γ−ブチロラクトンとし、これを過酸化水
素やｍ−クロロ過安息香酸等の過酸と反応させて二重結
合をエポキシ化し、次いでＰｄ−Ｃ等の触媒の存在下、
水素添加することにより得ることもできる。また、式
（17）の化合物は、β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクト
ン類を得る公知の方法により製造することもできる。
【００３９】β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン類
（17）と式（12）で表される（メタ）アクリル酸又はそ
の誘導体との反応は、前記式（11）の化合物と（メタ）
アクリル酸又はその誘導体（12）との反応に準じて行う
ことができる。
（17）と式（12）で表される（メタ）アクリル酸又はそ
の誘導体との反応は、前記式（11）の化合物と（メタ）
アクリル酸又はその誘導体（12）との反応に準じて行う
ことができる。
【００４０】［式（IV）のモノマー単位］前記式（IV）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（４）
のモノマー単位に対応するモノマーは、下記式（４）
【化２２】 （式中、Ｒ1、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は前記に同じ）で表さ
れ、その代表的な化合物には下記の化合物が含まれる。 ［4-1］１−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝ＯＨ、Ｒ
10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-2］１，３−ジヒドロキシ−５−（メタ）アクリロ
イルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝Ｒ
10＝ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-3］１−カルボキシ−３−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝ＣＯＯ
Ｈ、Ｒ10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-4］１，３−ジカルボキシ−５−（メタ）アクリロ
イルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝Ｒ
10＝ＣＯＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-5］１−カルボキシ−３−ヒドロキシ−５−（メ
タ）アクリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ12＝ＯＨ、Ｒ10＝ＣＯＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-6］１−（メタ）アクリロイルオキシ−４−オキソ
アダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝４−オキソ
基、Ｒ10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-7］３−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオ
キシ−４−オキソアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
12＝４−オキソ基、Ｒ10＝３−ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-8］７−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオ
キシ−４−オキソアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
12＝４−オキソ基、Ｒ10＝７−ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ）
れ、その代表的な化合物には下記の化合物が含まれる。 ［4-1］１−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝ＯＨ、Ｒ
10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-2］１，３−ジヒドロキシ−５−（メタ）アクリロ
イルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝Ｒ
10＝ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-3］１−カルボキシ−３−（メタ）アクリロイルオ
キシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝ＣＯＯ
Ｈ、Ｒ10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-4］１，３−ジカルボキシ−５−（メタ）アクリロ
イルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝Ｒ
10＝ＣＯＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-5］１−カルボキシ−３−ヒドロキシ−５−（メ
タ）アクリロイルオキシアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ12＝ＯＨ、Ｒ10＝ＣＯＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-6］１−（メタ）アクリロイルオキシ−４−オキソ
アダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ12＝４−オキソ
基、Ｒ10＝Ｒ11＝Ｈ） ［4-7］３−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオ
キシ−４−オキソアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
12＝４−オキソ基、Ｒ10＝３−ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ） ［4-8］７−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオ
キシ−４−オキソアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ
12＝４−オキソ基、Ｒ10＝７−ＯＨ、Ｒ11＝Ｈ）
【００４１】前記式（４）で表される化合物は、例え
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
【化２３】 （式中、Ｒ1、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、ＲXは前記に同じ）
【００４２】この反応工程式において、１−アダマンタ
ノール誘導体（18）と（メタ）アクリル酸又はその誘導
体（12）との反応は、前記１−アダマンタノール誘導体
（11）と（メタ）アクリル酸又はその誘導体（12）との
反応に準じて行うことができる。原料として用いる１−
アダマンタノール誘導体（18）は、アダマンタン化合物
のアダマンタン環にヒドロキシル基又はカルボキシル基
を導入することにより得られる。アダマンタン環へのヒ
ドロキシル基及びカルボキシル基の導入は、前記と同様
にして行うことができる。
ノール誘導体（18）と（メタ）アクリル酸又はその誘導
体（12）との反応は、前記１−アダマンタノール誘導体
（11）と（メタ）アクリル酸又はその誘導体（12）との
反応に準じて行うことができる。原料として用いる１−
アダマンタノール誘導体（18）は、アダマンタン化合物
のアダマンタン環にヒドロキシル基又はカルボキシル基
を導入することにより得られる。アダマンタン環へのヒ
ドロキシル基及びカルボキシル基の導入は、前記と同様
にして行うことができる。
【００４３】［式（Ｖ）のモノマー単位］前記式（Ｖ）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（５）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（５）
【化２４】 （式中、Ｒ1、Ｒ13は前記に同じ）で表され、その具体
例として下記の化合物が挙げられる。これらの化合物は
公知乃至慣用の方法により製造できる。 ［5-1］１−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン
（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ1 3＝Ｈ） ［5-2］１−（メタ）アクリロイルオキシ−３，５−ジ
メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ13＝Ｃ
Ｈ3）
例として下記の化合物が挙げられる。これらの化合物は
公知乃至慣用の方法により製造できる。 ［5-1］１−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン
（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ1 3＝Ｈ） ［5-2］１−（メタ）アクリロイルオキシ−３，５−ジ
メチルアダマンタン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ13＝Ｃ
Ｈ3）
【００４４】［式（VI）のモノマー単位］前記式（VI）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（６）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（６）
【化２５】 （式中、Ｒ1、Ｒ14、Ｒ15は前記に同じ）で表され、そ
の代表的な例には下記の化合物が含まれる。これらの化
合物は、公知乃至慣用の方法、例えば、対応するアルコ
ール（ＨＯ−Ｒ14−Ｒ15）と前記（メタ）アクリル酸又
はその誘導体（12）とをエステル化反応に付すことによ
り得ることができる。 ［6-1］８−ヒドロキシメチル−４−（メタ）アクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン ［6-2］４−ヒドロキシメチル−８−（メタ）アクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン ［6-3］４−（メタ）アクリロイルオキシメチルテトラ
シクロ［４．４．０．１2 ,5．１7,10］ドデカン ［6-4］２−（メタ）アクリロイルオキシノルボルナン ［6-5］２−（メタ）アクリロイルオキシイソボルナン ［6-6］２−（メタ）アクリロイルオキシメチルノルボ
ルナン
の代表的な例には下記の化合物が含まれる。これらの化
合物は、公知乃至慣用の方法、例えば、対応するアルコ
ール（ＨＯ−Ｒ14−Ｒ15）と前記（メタ）アクリル酸又
はその誘導体（12）とをエステル化反応に付すことによ
り得ることができる。 ［6-1］８−ヒドロキシメチル−４−（メタ）アクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン ［6-2］４−ヒドロキシメチル−８−（メタ）アクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン ［6-3］４−（メタ）アクリロイルオキシメチルテトラ
シクロ［４．４．０．１2 ,5．１7,10］ドデカン ［6-4］２−（メタ）アクリロイルオキシノルボルナン ［6-5］２−（メタ）アクリロイルオキシイソボルナン ［6-6］２−（メタ）アクリロイルオキシメチルノルボ
ルナン
【化２６】
【００４５】［式（VII）のモノマー単位］前記式（VI
I）のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式
（７）
I）のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式
（７）
【化２７】 （式中、Ｒ1、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21は前記に
同じ）で表され、その代表的な例には下記の化合物が含
まれる。 ［7-1］２−（メタ）アクリロイルオキシ−γ−ブチロ
ラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20
＝Ｒ21＝Ｈ） ［7-2］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝ＣＨ
3、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｈ） ［7-3］２−（メタ）アクリロイルオキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17
＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｈ、Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3） ［7-4］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｈ） ［7-5］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ19＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3） ［7-6］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
４，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3、Ｒ19＝
Ｈ） ［7-7］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，３，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ21＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝ＣＨ3） ［7-8］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
３，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝ＣＨ3、Ｒ21＝
Ｈ） ［7-9］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，３，
４，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｃ
Ｈ3） ［7-10］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
３，４，４−ペンタメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1
＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｃ
Ｈ3）
同じ）で表され、その代表的な例には下記の化合物が含
まれる。 ［7-1］２−（メタ）アクリロイルオキシ−γ−ブチロ
ラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20
＝Ｒ21＝Ｈ） ［7-2］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチル
−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝ＣＨ
3、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｈ） ［7-3］２−（メタ）アクリロイルオキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17
＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｈ、Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3） ［7-4］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｈ） ［7-5］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，４，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ19＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3） ［7-6］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
４，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ20＝Ｒ21＝ＣＨ3、Ｒ19＝
Ｈ） ［7-7］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，３，４
−トリメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ又はＣ
Ｈ3、Ｒ17＝Ｒ21＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝ＣＨ3） ［7-8］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
３，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝ＣＨ3、Ｒ21＝
Ｈ） ［7-9］２−（メタ）アクリロイルオキシ−３，３，
４，４−テトラメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1＝Ｈ
又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｈ、Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｃ
Ｈ3） ［7-10］２−（メタ）アクリロイルオキシ−２，３，
３，４，４−ペンタメチル−γ−ブチロラクトン（Ｒ1
＝Ｈ又はＣＨ3、Ｒ17＝Ｒ18＝Ｒ19＝Ｒ20＝Ｒ21＝Ｃ
Ｈ3）
【００４６】前記式（７）で表される化合物は、例え
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
ば、下記反応工程式に従って得ることができる。
【化２８】 （式中、Ｒzは炭化水素基を示す。Ｒ1、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ
19、Ｒ20、Ｒ21、ＲXは前記に同じ）
19、Ｒ20、Ｒ21、ＲXは前記に同じ）
【００４７】上記反応工程式中、Ｒzにおける炭化水素
基としては、メチル、エチル、プロピル、ｓ−ブチル、
ｔ−ブチル、ビニル、アリル基などの炭素数１〜６程度
の脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基又はア
ルキニル基）；フェニル基、ナフチル基などの芳香族炭
化水素基；シクロアルキル基などの脂環式炭化水素基な
どが挙げられる。
基としては、メチル、エチル、プロピル、ｓ−ブチル、
ｔ−ブチル、ビニル、アリル基などの炭素数１〜６程度
の脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基又はア
ルキニル基）；フェニル基、ナフチル基などの芳香族炭
化水素基；シクロアルキル基などの脂環式炭化水素基な
どが挙げられる。
【００４８】α，β−不飽和カルボン酸エステル（19）
とアルコール（20）と酸素との反応は、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドなどのＮ−ヒドロキシイミド系触媒と、必
要に応じてコバルト化合物（例えば、酢酸コバルト、コ
バルトアセチルアセトナト等）などの金属系助触媒の存
在下で行われる。α，β−不飽和カルボン酸エステル
（19）とアルコール（20）の比率は、両化合物の種類
（価格、反応性等）により適宜選択できる。例えば、ア
ルコール（20）をα，β−不飽和カルボン酸エステル
（19）に対して過剰（例えば、２〜５０モル倍程度）に
用いてもよく、逆に、α，β−不飽和カルボン酸エステ
ル（19）をアルコール（20）に対して過剰に用いてもよ
い。Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、α，β−
不飽和カルボン酸エステル（19）とアルコール（20）の
うち少量用いる方の化合物１モルに対して、例えば０．
０００１〜１モル、好ましくは０．００１〜０．５モル
程度である。また、金属系助触媒の使用量は、α，β−
不飽和カルボン酸エステル（19）とアルコール（20）の
うち少量用いる方の化合物１モルに対して、例えば０．
０００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５
モル程度である。酸素はα，β−不飽和カルボン酸エス
テル（19）とアルコール（20）のうち少量用いる方の化
合物に対して過剰量用いる場合が多い。反応は、例え
ば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルなどのニトリル
類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化
水素、酢酸エチルなどのエステル類などの溶媒中、常圧
又は加圧下、０〜１５０℃程度、好ましくは３０〜１０
０℃程度の温度で行われる。
とアルコール（20）と酸素との反応は、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドなどのＮ−ヒドロキシイミド系触媒と、必
要に応じてコバルト化合物（例えば、酢酸コバルト、コ
バルトアセチルアセトナト等）などの金属系助触媒の存
在下で行われる。α，β−不飽和カルボン酸エステル
（19）とアルコール（20）の比率は、両化合物の種類
（価格、反応性等）により適宜選択できる。例えば、ア
ルコール（20）をα，β−不飽和カルボン酸エステル
（19）に対して過剰（例えば、２〜５０モル倍程度）に
用いてもよく、逆に、α，β−不飽和カルボン酸エステ
ル（19）をアルコール（20）に対して過剰に用いてもよ
い。Ｎ−ヒドロキシイミド系触媒の使用量は、α，β−
不飽和カルボン酸エステル（19）とアルコール（20）の
うち少量用いる方の化合物１モルに対して、例えば０．
０００１〜１モル、好ましくは０．００１〜０．５モル
程度である。また、金属系助触媒の使用量は、α，β−
不飽和カルボン酸エステル（19）とアルコール（20）の
うち少量用いる方の化合物１モルに対して、例えば０．
０００１〜０．７モル、好ましくは０．００１〜０．５
モル程度である。酸素はα，β−不飽和カルボン酸エス
テル（19）とアルコール（20）のうち少量用いる方の化
合物に対して過剰量用いる場合が多い。反応は、例え
ば、酢酸などの有機酸、アセトニトリルなどのニトリル
類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化
水素、酢酸エチルなどのエステル類などの溶媒中、常圧
又は加圧下、０〜１５０℃程度、好ましくは３０〜１０
０℃程度の温度で行われる。
【００４９】こうして得られたα−ヒドロキシ−γ−ブ
チロラクトン誘導体（21）と（メタ）アクリル酸又はそ
の誘導体（12）との反応は、前記１−アダマンタノール
誘導体（11）と（メタ）アクリル酸又はその誘導体（1
2）との反応に準じて行うことができる。
チロラクトン誘導体（21）と（メタ）アクリル酸又はそ
の誘導体（12）との反応は、前記１−アダマンタノール
誘導体（11）と（メタ）アクリル酸又はその誘導体（1
2）との反応に準じて行うことができる。
【００５０】［式（VIII）のモノマー単位］前記式（VI
II）のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式
（８）
II）のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式
（８）
【化２９】 （式中、Ｒ1、ｎは前記に同じ）で表され、その代表的
な例には下記の化合物が含まれる。 ［8-1］２−テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレー
ト（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、ｎ＝２） ［8-2］２−テトラヒドロフラニル（メタ）アクリレー
ト（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、ｎ＝１）
な例には下記の化合物が含まれる。 ［8-1］２−テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレー
ト（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、ｎ＝２） ［8-2］２−テトラヒドロフラニル（メタ）アクリレー
ト（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3、ｎ＝１）
【００５１】［式（IX）のモノマー単位］前記式（IX）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（９）
のモノマー単位を形成するモノマーは、下記式（９）
【化３０】 （式中、Ｒ1は前記に同じ）で表され、その具体例は下
記の化合物である。 ［9-1］（メタ）アクリル酸（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3）
記の化合物である。 ［9-1］（メタ）アクリル酸（Ｒ1＝Ｈ又はＣＨ3）
【００５２】本発明の高分子化合物は、上記のように、
透明性、アルカリ可溶性、密着性及びエッチング耐性の
すべてを具備しているので、フォトレジスト用樹脂とし
て好適に使用できる。
透明性、アルカリ可溶性、密着性及びエッチング耐性の
すべてを具備しているので、フォトレジスト用樹脂とし
て好適に使用できる。
【００５３】本発明のフォトレジスト用樹脂組成物は、
前記本発明の高分子化合物と光酸発生剤とを含んでい
る。
前記本発明の高分子化合物と光酸発生剤とを含んでい
る。
【００５４】光酸発生剤としては、露光により効率よく
酸を生成する慣用乃至公知の化合物、例えば、ジアゾニ
ウム塩、ヨードニウム塩（例えば、ジフェニルヨードヘ
キサフルオロホスフェートなど）、スルホニウム塩（例
えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネ
ートなど）、スルホン酸エステル［例えば、１−フェニ
ル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１
−ベンゾイルメタン、１，２，３−トリスルホニルオキ
シメチルベンゼン、１，３−ジニトロ−２−（４−フェ
ニルスルホニルオキシメチル）ベンゼン、１−フェニル
−１−（４−メチルフェニルスルホニルオキシメチル）
−１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルメタンなど］、オキ
サチアゾール誘導体、ｓ−トリアジン誘導体、ジスルホ
ン誘導体（ジフェニルジスルホンなど）、イミド化合
物、オキシムスルホネート、ジアゾナフトキノン、ベン
ゾイントシレートなどを使用できる。これらの光酸発生
剤は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。
酸を生成する慣用乃至公知の化合物、例えば、ジアゾニ
ウム塩、ヨードニウム塩（例えば、ジフェニルヨードヘ
キサフルオロホスフェートなど）、スルホニウム塩（例
えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネ
ートなど）、スルホン酸エステル［例えば、１−フェニ
ル−１−（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ−１
−ベンゾイルメタン、１，２，３−トリスルホニルオキ
シメチルベンゼン、１，３−ジニトロ−２−（４−フェ
ニルスルホニルオキシメチル）ベンゼン、１−フェニル
−１−（４−メチルフェニルスルホニルオキシメチル）
−１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルメタンなど］、オキ
サチアゾール誘導体、ｓ−トリアジン誘導体、ジスルホ
ン誘導体（ジフェニルジスルホンなど）、イミド化合
物、オキシムスルホネート、ジアゾナフトキノン、ベン
ゾイントシレートなどを使用できる。これらの光酸発生
剤は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。
【００５５】光酸発生剤の使用量は、光照射により生成
する酸の強度や前記高分子化合物における各モノマー単
位の比率などに応じて適宜選択でき、例えば、前記高分
子化合物１００重量部に対して０．１〜３０重量部、好
ましくは１〜２５重量部、さらに好ましくは２〜２０重
量部程度の範囲から選択できる。
する酸の強度や前記高分子化合物における各モノマー単
位の比率などに応じて適宜選択でき、例えば、前記高分
子化合物１００重量部に対して０．１〜３０重量部、好
ましくは１〜２５重量部、さらに好ましくは２〜２０重
量部程度の範囲から選択できる。
【００５６】フォトレジスト用樹脂組成物は、アルカリ
可溶性樹脂（例えば、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、イミド樹脂、カルボキシル基含有樹脂など）などの
アルカリ可溶成分、着色剤（例えば、染料など）、有機
溶媒（例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ア
ルコール類、エステル類、アミド類、ケトン類、エーテ
ル類、セロソルブ類、カルビトール類、グリコールエー
テルエステル類、これらの混合溶媒など）などを含んで
いてもよい。
可溶性樹脂（例えば、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、イミド樹脂、カルボキシル基含有樹脂など）などの
アルカリ可溶成分、着色剤（例えば、染料など）、有機
溶媒（例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ア
ルコール類、エステル類、アミド類、ケトン類、エーテ
ル類、セロソルブ類、カルビトール類、グリコールエー
テルエステル類、これらの混合溶媒など）などを含んで
いてもよい。
【００５７】このフォトレジスト用樹脂組成物を基材又
は基板上に塗布し、乾燥した後、所定のマスクを介し
て、塗膜（レジスト膜）に光線を露光して（又は、さら
に露光後ベークを行い）潜像パターンを形成し、次いで
現像することにより、微細なパターンを高い精度で形成
できる。
は基板上に塗布し、乾燥した後、所定のマスクを介し
て、塗膜（レジスト膜）に光線を露光して（又は、さら
に露光後ベークを行い）潜像パターンを形成し、次いで
現像することにより、微細なパターンを高い精度で形成
できる。
【００５８】基材又は基板としては、シリコンウエハ、
金属、プラスチック、ガラス、セラミックなどが挙げら
れる。フォトレジスト用樹脂組成物の塗布は、スピンコ
ータ、ディップコータ、ローラコータなどの慣用の塗布
手段を用いて行うことができる。塗膜の厚みは、例えば
０．１〜２０μｍ、好ましくは０．３〜２μｍ程度であ
る。
金属、プラスチック、ガラス、セラミックなどが挙げら
れる。フォトレジスト用樹脂組成物の塗布は、スピンコ
ータ、ディップコータ、ローラコータなどの慣用の塗布
手段を用いて行うことができる。塗膜の厚みは、例えば
０．１〜２０μｍ、好ましくは０．３〜２μｍ程度であ
る。
【００５９】露光には、種々の波長の光線、例えば、紫
外線、Ｘ線などが利用でき、半導体レジスト用では、通
常、ｇ線、ｉ線、エキシマレーザー（例えば、ＸｅＣ
ｌ、ＫｒＦ、ＫｒＣｌ、ＡｒＦ、ＡｒＣｌなど）などが
使用される。露光エネルギーは、例えば１〜１０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2、好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度で
ある。
外線、Ｘ線などが利用でき、半導体レジスト用では、通
常、ｇ線、ｉ線、エキシマレーザー（例えば、ＸｅＣ
ｌ、ＫｒＦ、ＫｒＣｌ、ＡｒＦ、ＡｒＣｌなど）などが
使用される。露光エネルギーは、例えば１〜１０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2、好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度で
ある。
【００６０】光照射により光酸発生剤から酸が生成し、
この酸により前記高分子化合物のうちカルボキシル基の
保護基（脱離性基）が速やかに脱離して、可溶化に寄与
するカルボキシル基が生成する。そのため、水又はアル
カリ現像液による現像により、所定のパターンを精度よ
く形成できる。
この酸により前記高分子化合物のうちカルボキシル基の
保護基（脱離性基）が速やかに脱離して、可溶化に寄与
するカルボキシル基が生成する。そのため、水又はアル
カリ現像液による現像により、所定のパターンを精度よ
く形成できる。
【００６１】
【発明の効果】本発明によれば、ポリマーが特定構造の
アダマンタン骨格を有するモノマー単位を含んでいるの
で、優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備
し、しかも高いエッチング耐性を示す。
アダマンタン骨格を有するモノマー単位を含んでいるの
で、優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備
し、しかも高いエッチング耐性を示す。
【００６２】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。なお、化合物番号（モノマー番
号）の後ろに「アクリレート」とあるのは、明細中に記
載の化合物番号に相当する２つの化合物のうちアクリロ
イルオキシ基を有する化合物を示し、「メタクリレー
ト」とあるのは、前記２つの化合物のうちメタクリロイ
ルオキシ基を有する化合物を示す。構造式中の括弧の右
下の数字は該モノマー単位のモル％を示す。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。なお、化合物番号（モノマー番
号）の後ろに「アクリレート」とあるのは、明細中に記
載の化合物番号に相当する２つの化合物のうちアクリロ
イルオキシ基を有する化合物を示し、「メタクリレー
ト」とあるのは、前記２つの化合物のうちメタクリロイ
ルオキシ基を有する化合物を示す。構造式中の括弧の右
下の数字は該モノマー単位のモル％を示す。
【００６３】製造例１ （１−アクリロイルオキシ−３−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアダマンタン［1-1（アクリレート）］の製造） オートクレーブに、１−アダマンタノール１０ミリモ
ル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモル、酢酸３０
ｍｌ及び１，２−ジクロロエタン３０ｍｌを仕込み、一
酸化炭素１５ａｔｍ及び空気１ａｔｍの混合ガス雰囲気
下、９５℃で６時間攪拌した。反応混合液を濃縮した
後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すことにより、１−カルボキシ−３−ヒドロキシアダマ
ンタンを収率４７％で得た。上記方法により得た１−カ
ルボキシ−３−ヒドロキシアダマンタン１０ミリモル、
トリエチルアミン２５ミリモル及びテトラヒドロフラン
４０ｍｌの混合液にアクリル酸クロリド２５ミリモルを
約３０分かけて滴下した。滴下終了後、室温で２時間攪
拌した。反応混合液に水を添加した後、酢酸エチルにて
抽出し、有機層を濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付すことにより、１−アクリロイル
オキシ−３−カルボキシアダマンタンを収率８２％で得
た。上記方法により得た１−アクリロイルオキシ−３−
カルボキシアダマンタン５ミリモル、イソブテン５０ミ
リモル、硫酸０．５ミリモル及びジクロロメタン５０ｍ
ｌの混合液を０℃で２４時間攪拌した。反応混合液を濃
縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付すことにより、標記化合物を収率８１％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．５５−２．２３（ｍ，１２Ｈ），
２．２８（ｍ，２Ｈ），５．７４（ｄｄ，１Ｈ），６．
０３（ｄｄ，１Ｈ），６．３０（ｄｄ，１Ｈ）
ルアダマンタン［1-1（アクリレート）］の製造） オートクレーブに、１−アダマンタノール１０ミリモ
ル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモル、酢酸３０
ｍｌ及び１，２−ジクロロエタン３０ｍｌを仕込み、一
酸化炭素１５ａｔｍ及び空気１ａｔｍの混合ガス雰囲気
下、９５℃で６時間攪拌した。反応混合液を濃縮した
後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すことにより、１−カルボキシ−３−ヒドロキシアダマ
ンタンを収率４７％で得た。上記方法により得た１−カ
ルボキシ−３−ヒドロキシアダマンタン１０ミリモル、
トリエチルアミン２５ミリモル及びテトラヒドロフラン
４０ｍｌの混合液にアクリル酸クロリド２５ミリモルを
約３０分かけて滴下した。滴下終了後、室温で２時間攪
拌した。反応混合液に水を添加した後、酢酸エチルにて
抽出し、有機層を濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付すことにより、１−アクリロイル
オキシ−３−カルボキシアダマンタンを収率８２％で得
た。上記方法により得た１−アクリロイルオキシ−３−
カルボキシアダマンタン５ミリモル、イソブテン５０ミ
リモル、硫酸０．５ミリモル及びジクロロメタン５０ｍ
ｌの混合液を０℃で２４時間攪拌した。反応混合液を濃
縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付すことにより、標記化合物を収率８１％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．５５−２．２３（ｍ，１２Ｈ），
２．２８（ｍ，２Ｈ），５．７４（ｄｄ，１Ｈ），６．
０３（ｄｄ，１Ｈ），６．３０（ｄｄ，１Ｈ）
【００６４】製造例２ （１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−メタクリロイルオ
キシアダマンタン［1-1（メタクリレート）］の製造）
アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、標記の化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
５−１．６３（ｍ，６Ｈ），１．９２（ｓ，３Ｈ），
２．００−２．１９（ｍ，７Ｈ），２．３０（ｍ，２
Ｈ），５．５２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０２（ｂｒｓ，
１Ｈ）
キシアダマンタン［1-1（メタクリレート）］の製造）
アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、標記の化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
５−１．６３（ｍ，６Ｈ），１．９２（ｓ，３Ｈ），
２．００−２．１９（ｍ，７Ｈ），２．３０（ｍ，２
Ｈ），５．５２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０２（ｂｒｓ，
１Ｈ）
【００６５】製造例３ （１−アクリロイルオキシ−３−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−５−ヒドロキシアダマンタン［1-3（アクリレー
ト）］の製造）１−アダマンタノールに代えて１，３−
アダマンタンジオールを用いて１−カルボキシ−３，５
−ジヒドロキシアダマンタンを合成し、これにアクリル
酸クロリド、次いでイソブテンを反応させた以外は、製
造例１と同様の方法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．６０−２．２２（ｍ，１２Ｈ），
２．３８（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），
５．７６（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），
６．３１（ｄｄ，１Ｈ）
ル−５−ヒドロキシアダマンタン［1-3（アクリレー
ト）］の製造）１−アダマンタノールに代えて１，３−
アダマンタンジオールを用いて１−カルボキシ−３，５
−ジヒドロキシアダマンタンを合成し、これにアクリル
酸クロリド、次いでイソブテンを反応させた以外は、製
造例１と同様の方法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．６０−２．２２（ｍ，１２Ｈ），
２．３８（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），
５．７６（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），
６．３１（ｄｄ，１Ｈ）
【００６６】 製造例４（１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−ヒドロキ
シ−５−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-3（メ
タクリレート）］の製造） アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例３と同様の操作を行い、標記の化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．６２−１．８８（ｍ，６Ｈ），
１．９０（ｓ，３Ｈ），２．０２−２．２２（ｍ，７
Ｈ），２．４１（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｂｒｓ，１
Ｈ），６．０２（ｂｒｓ，１Ｈ）
シ−５−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-3（メ
タクリレート）］の製造） アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例３と同様の操作を行い、標記の化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４
３（ｓ，９Ｈ），１．６２−１．８８（ｍ，６Ｈ），
１．９０（ｓ，３Ｈ），２．０２−２．２２（ｍ，７
Ｈ），２．４１（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｂｒｓ，１
Ｈ），６．０２（ｂｒｓ，１Ｈ）
【００６７】製造例５ （１−アクリロイルオキシ−３−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシカルボニル）アダマンタン［1-4（アクリ
レート）］の製造）製造例１と同様の方法により得られ
た１−アクリロイルオキシ−３−カルボキシアダマンタ
ン１０ミリモル、ジヒドロピラン１２ミリモル、ｐ−ト
ルエンスルホン酸１ミリモル及びジクロロメタン３０ｍ
ｌの混合液を２０℃で２時間攪拌した。反応混合液を濃
縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付すことにより、１−アクリロイルオキシ−３−
（２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマ
ンタンを収率９２％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．２−
２．６（ｍ，２０Ｈ），３．５−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．７−６．６（ｍ，４Ｈ）
ラニルオキシカルボニル）アダマンタン［1-4（アクリ
レート）］の製造）製造例１と同様の方法により得られ
た１−アクリロイルオキシ−３−カルボキシアダマンタ
ン１０ミリモル、ジヒドロピラン１２ミリモル、ｐ−ト
ルエンスルホン酸１ミリモル及びジクロロメタン３０ｍ
ｌの混合液を２０℃で２時間攪拌した。反応混合液を濃
縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付すことにより、１−アクリロイルオキシ−３−
（２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマ
ンタンを収率９２％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．２−
２．６（ｍ，２０Ｈ），３．５−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．７−６．６（ｍ，４Ｈ）
【００６８】製造例６ （１−（２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）
−３−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-4（メタ
クリレート）］の製造）１−アクリロイルオキシ−３−
カルボキシアダマンタンの代わりに、製造例２の方法に
おいて中間体として得られる１−カルボキシ−３−メタ
クリロイルオキシアダマンタンを用いた以外は製造例５
に準じて、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．３−
２．５（ｍ，２３Ｈ），３．４−４．３（ｍ，２Ｈ），
５．６５（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２
Ｈ）
−３−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-4（メタ
クリレート）］の製造）１−アクリロイルオキシ−３−
カルボキシアダマンタンの代わりに、製造例２の方法に
おいて中間体として得られる１−カルボキシ−３−メタ
クリロイルオキシアダマンタンを用いた以外は製造例５
に準じて、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．３−
２．５（ｍ，２３Ｈ），３．４−４．３（ｍ，２Ｈ），
５．６５（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２
Ｈ）
【００６９】製造例７ （１−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシ−５−（２
−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマンタ
ン［1-6（アクリレート）］の製造）１−アクリロイル
オキシ−３−カルボキシアダマンタンの代わりに、製造
例３において中間体として得られる１−アクリロイルオ
キシ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシアダマンタンを
ジヒドロピランと反応させた以外は製造例５と同様の方
法により、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．１−
２．５（ｍ，２０Ｈ），３．５−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．７−６．５（ｍ，４Ｈ）
−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマンタ
ン［1-6（アクリレート）］の製造）１−アクリロイル
オキシ−３−カルボキシアダマンタンの代わりに、製造
例３において中間体として得られる１−アクリロイルオ
キシ−３−カルボキシ−５−ヒドロキシアダマンタンを
ジヒドロピランと反応させた以外は製造例５と同様の方
法により、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．１−
２．５（ｍ，２０Ｈ），３．５−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．７−６．５（ｍ，４Ｈ）
【００７０】製造例８ （１−ヒドロキシ−３−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシカルボニル）−５−メタクリロイルオキシアダマン
タン［1-6（メタクリレート）］の製造）製造例４にお
いて中間体として得られる１−カルボキシ−３−ヒドロ
キシ−５−メタクリロイルオキシアダマンタンをジヒド
ロピランと反応させた以外は製造例５と同様の方法によ
り、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．２−
２．７（ｍ，２３Ｈ），３．３−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２Ｈ）
キシカルボニル）−５−メタクリロイルオキシアダマン
タン［1-6（メタクリレート）］の製造）製造例４にお
いて中間体として得られる１−カルボキシ−３−ヒドロ
キシ−５−メタクリロイルオキシアダマンタンをジヒド
ロピランと反応させた以外は製造例５と同様の方法によ
り、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．２−
２．７（ｍ，２３Ｈ），３．３−４．２（ｍ，２Ｈ），
５．６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２Ｈ）
【００７１】製造例９ （１−アクリロイルオキシ−３，５−ビス（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマンタン［1-5
（アクリレート）］の製造）オートクレーブに、１−ア
ダマンタノール１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミド１ミリモル、酢酸３０ｍｌ及び１，２−ジクロロエ
タン３０ｍｌを仕込み、一酸化炭素１５ａｔｍ及び空気
１ａｔｍの混合ガス雰囲気下、９５℃で６時間攪拌し
た。反応混合液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付すことにより、１，３−ジカ
ルボキシ−５−ヒドロキシアダマンタンを収率２１％で
得た。１−カルボキシ−３−ヒドロキシアダマンタンの
代わりに、上記方法により得た１，３−ジカルボキシ−
５−ヒドロキシアダマンタンを用いた以外は、製造例５
に準じた方法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．３−
２．７（ｍ，２５Ｈ），３．４−４．３（ｍ，４Ｈ），
５．６−６．５（ｍ，５Ｈ）
ヒドロピラニルオキシカルボニル）アダマンタン［1-5
（アクリレート）］の製造）オートクレーブに、１−ア
ダマンタノール１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミド１ミリモル、酢酸３０ｍｌ及び１，２−ジクロロエ
タン３０ｍｌを仕込み、一酸化炭素１５ａｔｍ及び空気
１ａｔｍの混合ガス雰囲気下、９５℃で６時間攪拌し
た。反応混合液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付すことにより、１，３−ジカ
ルボキシ−５−ヒドロキシアダマンタンを収率２１％で
得た。１−カルボキシ−３−ヒドロキシアダマンタンの
代わりに、上記方法により得た１，３−ジカルボキシ−
５−ヒドロキシアダマンタンを用いた以外は、製造例５
に準じた方法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．３−
２．７（ｍ，２５Ｈ），３．４−４．３（ｍ，４Ｈ），
５．６−６．５（ｍ，５Ｈ）
【００７２】製造例１０ （１，３−ビス（２−テトラヒドロピラニルオキシカル
ボニル）−５−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-
5（メタクリレート）］の製造）１−カルボキシ−３−
ヒドロキシアダマンタンの代わりに、製造例９に示した
方法により得られる１，３−ジカルボキシ−５−ヒドロ
キシアダマンタンを用いた以外は、製造例６に準じた方
法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４−
２．６（ｍ，２８Ｈ），３．４−４．４（ｍ，２Ｈ），
５．６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２Ｈ）
ボニル）−５−メタクリロイルオキシアダマンタン［1-
5（メタクリレート）］の製造）１−カルボキシ−３−
ヒドロキシアダマンタンの代わりに、製造例９に示した
方法により得られる１，３−ジカルボキシ−５−ヒドロ
キシアダマンタンを用いた以外は、製造例６に準じた方
法により、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．４−
２．６（ｍ，２８Ｈ），３．４−４．４（ｍ，２Ｈ），
５．６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０−６．３（ｍ，２Ｈ）
【００７３】製造例１１ （１−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンタ
ン［4-1（アクリレート）］の製造）１，３−アダマン
タンジオール１０ミリモル、トリエチルアミン１５ミリ
モル及びテトラヒドロフラン１００ｍｌの混合液に、ア
クリル酸クロリド１３ミリモルを約３０分かけて滴下し
た。滴下終了後、５０℃で１．５時間攪拌した。反応混
合液に水を添加した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付すことにより、標記化合物を収率６３％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４７−１．６１
（ｍ，２Ｈ），１．６２−１．８０（ｍ，５Ｈ），２．
００−２．１７（ｍ，６Ｈ），２．３４（ｍ，２Ｈ），
５．７５（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），
６．３０（ｄｄ，１Ｈ）
ン［4-1（アクリレート）］の製造）１，３−アダマン
タンジオール１０ミリモル、トリエチルアミン１５ミリ
モル及びテトラヒドロフラン１００ｍｌの混合液に、ア
クリル酸クロリド１３ミリモルを約３０分かけて滴下し
た。滴下終了後、５０℃で１．５時間攪拌した。反応混
合液に水を添加した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付すことにより、標記化合物を収率６３％で得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４７−１．６１
（ｍ，２Ｈ），１．６２−１．８０（ｍ，５Ｈ），２．
００−２．１７（ｍ，６Ｈ），２．３４（ｍ，２Ｈ），
５．７５（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），
６．３０（ｄｄ，１Ｈ）
【００７４】製造例１２ （１−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシアダマン
タン［4-1（メタクリレート）］の製造）アクリル酸ク
ロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを用いた以外は
製造例１１と同様の方法により、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４８−１．６１
（ｍ，６Ｈ），１．８９（ｓ，３Ｈ），２．００−２．
１６（ｍ，７Ｈ），２．３４（ｍ，２Ｈ），５．４９
（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０１（ｂｒｓ，１Ｈ）
タン［4-1（メタクリレート）］の製造）アクリル酸ク
ロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを用いた以外は
製造例１１と同様の方法により、標記の化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４８−１．６１
（ｍ，６Ｈ），１．８９（ｓ，３Ｈ），２．００−２．
１６（ｍ，７Ｈ），２．３４（ｍ，２Ｈ），５．４９
（ｂｒｓ，１Ｈ），６．０１（ｂｒｓ，１Ｈ）
【００７５】製造例１３ （１−アクリロイルオキシ−３，５−ジヒドロキシアダ
マンタン［4-2（アクリレート）］の製造）１，３−ア
ダマンタンジオールの代わりに１，３，５−アダマンタ
ントリオールを用いた以外は製造例１１の方法に準じ
て、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ：１．３８−１．９
６（ｍ，１２Ｈ），２．２２（ｍ，１Ｈ），４．６０
（ｂｒｓ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，１Ｈ），６．０３
（ｄｄ，１Ｈ），６．２１（ｄｄ，１Ｈ）
マンタン［4-2（アクリレート）］の製造）１，３−ア
ダマンタンジオールの代わりに１，３，５−アダマンタ
ントリオールを用いた以外は製造例１１の方法に準じ
て、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ：１．３８−１．９
６（ｍ，１２Ｈ），２．２２（ｍ，１Ｈ），４．６０
（ｂｒｓ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，１Ｈ），６．０３
（ｄｄ，１Ｈ），６．２１（ｄｄ，１Ｈ）
【００７６】製造例１４ （１，３−ジヒドロキシ−５−メタクリロイルオキシア
ダマンタン［4-2（メタクリレート）］の製造）１，３
−アダマンタンジオールの代わりに１，３，５−アダマ
ンタントリオールを用い、アクリル酸クロリドの代わり
にメタクリル酸クロリドを用いた以外は製造例１１の方
法に準じて、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ：１．３８−１．５
８（ｍ，６Ｈ），１．８１（ｓ，３Ｈ），１．８３−
１．９５（ｍ，６Ｈ），２．２２（ｍ，１Ｈ），４．６
０（ｂｒｓ，２Ｈ），５．５８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．
９２（ｂｒｓ，１Ｈ）
ダマンタン［4-2（メタクリレート）］の製造）１，３
−アダマンタンジオールの代わりに１，３，５−アダマ
ンタントリオールを用い、アクリル酸クロリドの代わり
にメタクリル酸クロリドを用いた以外は製造例１１の方
法に準じて、標記化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ：１．３８−１．５
８（ｍ，６Ｈ），１．８１（ｓ，３Ｈ），１．８３−
１．９５（ｍ，６Ｈ），２．２２（ｍ，１Ｈ），４．６
０（ｂｒｓ，２Ｈ），５．５８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．
９２（ｂｒｓ，１Ｈ）
【００７７】製造例１５ （２−アクリロイルオキシ−１，５−ジヒドロキシ−２
−メチルアダマンタン［2-5（アクリレート）］の製
造）２−ケト−１−アダマンタノール３０ミリモル、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド３ミリモル、コバルトアセチ
ルアセトナト（III）０．０３ミリモル及び酢酸３５ｍ
ｌの混合物を酸素雰囲気下（１ａｔｍ）、６０℃で１２
時間攪拌した。反応混合液を濃縮し、濃縮液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、２−ケ
ト−１，５−アダマンタンジオールを白色固体として得
た。金属マグネシウム１１ミリモル、ブロモメタン１０
ミリモル及び少量のヨウ素からメチルマグネシウムブロ
ミドのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液を調製した。
上記２−ケト−１，５−アダマンタンジオールのＴＨＦ
溶液を上記メチルマグネシウムブロミド溶液に滴下し、
２時間還流させた。反応液を氷冷した１０重量％塩酸水
に滴下し、２時間攪拌した。これに、１０重量％水酸化
ナトリウム水溶液を加え、中性にした後、有機層と水層
とに分液し、水層を濃縮し、アセトンを加えて晶析する
ことにより、２−メチル−１，２，５−アダマンタント
リオールを得た。２−メチル−１，２，５−アダマンタ
ントリオール５ミリモル、トリエチルアミン７．５ミリ
モル及びＴＨＦ５０ｍｌの混合液に、アクリル酸クロリ
ド６．５ミリモルを約１５分かけて滴下した。滴下終了
後、室温で１．５時間攪拌した。反応混合液に水を添加
した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を濃縮し、濃縮物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことによ
り標記化合物を得た。
−メチルアダマンタン［2-5（アクリレート）］の製
造）２−ケト−１−アダマンタノール３０ミリモル、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド３ミリモル、コバルトアセチ
ルアセトナト（III）０．０３ミリモル及び酢酸３５ｍ
ｌの混合物を酸素雰囲気下（１ａｔｍ）、６０℃で１２
時間攪拌した。反応混合液を濃縮し、濃縮液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、２−ケ
ト−１，５−アダマンタンジオールを白色固体として得
た。金属マグネシウム１１ミリモル、ブロモメタン１０
ミリモル及び少量のヨウ素からメチルマグネシウムブロ
ミドのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液を調製した。
上記２−ケト−１，５−アダマンタンジオールのＴＨＦ
溶液を上記メチルマグネシウムブロミド溶液に滴下し、
２時間還流させた。反応液を氷冷した１０重量％塩酸水
に滴下し、２時間攪拌した。これに、１０重量％水酸化
ナトリウム水溶液を加え、中性にした後、有機層と水層
とに分液し、水層を濃縮し、アセトンを加えて晶析する
ことにより、２−メチル−１，２，５−アダマンタント
リオールを得た。２−メチル−１，２，５−アダマンタ
ントリオール５ミリモル、トリエチルアミン７．５ミリ
モル及びＴＨＦ５０ｍｌの混合液に、アクリル酸クロリ
ド６．５ミリモルを約１５分かけて滴下した。滴下終了
後、室温で１．５時間攪拌した。反応混合液に水を添加
した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を濃縮し、濃縮物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことによ
り標記化合物を得た。
【００７８】製造例１６ （２−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−ブ
チロラクトン［7-3（アクリレート）］の製造）アクリ
ル酸エチル３ミリモル、２−プロパノール３ｍｌ、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド０．６ミリモル、酢酸コバルト
（II）０．００３ミリモル、コバルトアセチルアセトナ
ト（III）０．０１０ミリモル、及びアセトニトリル１
ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１気圧）、６０℃で１
２時間撹拌した。反応混合液を濃縮し、濃縮液をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付すことにより、２−ヒドロ
キシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトンを収率７
５％で得た。 ［２−ヒドロキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラク
トンのスペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．５１（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｄｄ，１
Ｈ），２．５２（ｄｄ，１Ｈ），３．０３（ｂｒｓ，１
Ｈ），４．６３（ｔ，１Ｈ） 上記方法により得た２−ヒドロキシ−４，４−ジメチル
−γ−ブチロラクトン１００ミリモル、アクリル酸クロ
リド１５０ミリモル、トリエチルアミン１５０ミリモル
及びトルエン３００ｍｌの混合物を、２５℃で４時間攪
拌した。反応混合液に水を加えた後、有機層を濃縮し、
濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すこ
とにより、２−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル
−γ−ブチロラクトンを収率８５％で得た。 ［２−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−ブ
チロラクトンのスペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．５２（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｄｄ，１
Ｈ），２．５２（ｄｄ，１Ｈ），５．６５（ｄｄ，１
Ｈ），５．７７（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１
Ｈ），６．３２（ｄｄ，１Ｈ）
チロラクトン［7-3（アクリレート）］の製造）アクリ
ル酸エチル３ミリモル、２−プロパノール３ｍｌ、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド０．６ミリモル、酢酸コバルト
（II）０．００３ミリモル、コバルトアセチルアセトナ
ト（III）０．０１０ミリモル、及びアセトニトリル１
ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１気圧）、６０℃で１
２時間撹拌した。反応混合液を濃縮し、濃縮液をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付すことにより、２−ヒドロ
キシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトンを収率７
５％で得た。 ［２−ヒドロキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラク
トンのスペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．５１（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｄｄ，１
Ｈ），２．５２（ｄｄ，１Ｈ），３．０３（ｂｒｓ，１
Ｈ），４．６３（ｔ，１Ｈ） 上記方法により得た２−ヒドロキシ−４，４−ジメチル
−γ−ブチロラクトン１００ミリモル、アクリル酸クロ
リド１５０ミリモル、トリエチルアミン１５０ミリモル
及びトルエン３００ｍｌの混合物を、２５℃で４時間攪
拌した。反応混合液に水を加えた後、有機層を濃縮し、
濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すこ
とにより、２−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル
−γ−ブチロラクトンを収率８５％で得た。 ［２−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−ブ
チロラクトンのスペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．５２（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｄｄ，１
Ｈ），２．５２（ｄｄ，１Ｈ），５．６５（ｄｄ，１
Ｈ），５．７７（ｄｄ，１Ｈ），６．０３（ｄｄ，１
Ｈ），６．３２（ｄｄ，１Ｈ）
【００７９】製造例１７ （２−メタクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−
ブチロラクトン［7-3（メタクリレート）］の製造） アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．４８（ｓ，３Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ），
２．１５（ｄｄ，１Ｈ），２．６２（ｄｄ，１Ｈ），
５．６６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．１８（ｂｒｓ，１Ｈ）
ブチロラクトン［7-3（メタクリレート）］の製造） アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを
用いた以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記化合
物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４２（ｓ，３
Ｈ），１．４８（ｓ，３Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ），
２．１５（ｄｄ，１Ｈ），２．６２（ｄｄ，１Ｈ），
５．６６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．１８（ｂｒｓ，１Ｈ）
【００８０】製造例１８ （２−アクリロイルオキシ−２，４，４−トリメチル−
γ−ブチロラクトン［7-4（アクリレート）］の製造）
アクリル酸エチルに代えてメタクリル酸エチルを用いた
以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記化合物を得
た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４５（ｓ，３
Ｈ），１．５７（ｓ，３Ｈ），２．１６（ｄｄ，１
Ｈ），２．６３（ｄｄ，１Ｈ），５．７４（ｄｄ，１
Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），６．３２（ｄｄ，１
Ｈ）
γ−ブチロラクトン［7-4（アクリレート）］の製造）
アクリル酸エチルに代えてメタクリル酸エチルを用いた
以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記化合物を得
た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４５（ｓ，３
Ｈ），１．５７（ｓ，３Ｈ），２．１６（ｄｄ，１
Ｈ），２．６３（ｄｄ，１Ｈ），５．７４（ｄｄ，１
Ｈ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ），６．３２（ｄｄ，１
Ｈ）
【００８１】製造例１９ （２−メタクリロイルオキシ−２，４，４−トリメチル
−γ−ブチロラクトン［7-4（メタクリレート）］の製
造）アクリル酸エチルに代えてメタクリル酸エチルを用
い、アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリ
ドを用いた以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記
化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４７（ｓ，３
Ｈ），１．５９（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｄ，３Ｈ），
１．９４（ｄｄ，３Ｈ），２．２０（ｄ，１Ｈ），２．
６０（ｄ，１Ｈ），５．６４（ｔ，１Ｈ），６．１７
（ｓ，１Ｈ）
−γ−ブチロラクトン［7-4（メタクリレート）］の製
造）アクリル酸エチルに代えてメタクリル酸エチルを用
い、アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリ
ドを用いた以外は製造例１６と同様の操作を行い、標記
化合物を得た。 ［スペクトルデータ］1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１．４７（ｓ，３
Ｈ），１．５９（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｄ，３Ｈ），
１．９４（ｄｄ，３Ｈ），２．２０（ｄ，１Ｈ），２．
６０（ｄ，１Ｈ），５．６４（ｔ，１Ｈ），６．１７
（ｓ，１Ｈ）
【００８２】製造例２０ （３−アクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−ブ
チロラクトン［3-5（アクリレート）］の製造）製造例
１６の方法により得られた２−ヒドロキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトンをジオキサン中、室温下、
当量のＰ2Ｏ5と反応させることにより（脱水反応）、対
応するα，β−不飽和−γ−ブチロラクトンを得た（収
率３０％）。次いで、これを、塩化メチレン中、室温で
ｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）と反応させて、
２，３−エポキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラク
トンを得た（収率８５％）。得られた２，３−エポキシ
−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトン１０ミリモ
ル、５重量％Ｐｄ−Ｃ１ｇ及びテトラヒドロフラン２０
ｍｌの混合液に、室温下、水素を１１時間バブリングさ
せた。反応混合液を濾過、濃縮し、濃縮物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付すことにより、３−ヒド
ロキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトンを収率
６３％で得た。得られた３−ヒドロキシ−４，４−ジメ
チル−γ−ブチロラクトンを製造例１６と同様にしてア
クリル酸クロリドと反応させることにより標記化合物を
得た（収率８７％）。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１８５（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０４０，１７７０，１６５０，１１
５０
チロラクトン［3-5（アクリレート）］の製造）製造例
１６の方法により得られた２−ヒドロキシ−４，４−ジ
メチル−γ−ブチロラクトンをジオキサン中、室温下、
当量のＰ2Ｏ5と反応させることにより（脱水反応）、対
応するα，β−不飽和−γ−ブチロラクトンを得た（収
率３０％）。次いで、これを、塩化メチレン中、室温で
ｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）と反応させて、
２，３−エポキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラク
トンを得た（収率８５％）。得られた２，３−エポキシ
−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトン１０ミリモ
ル、５重量％Ｐｄ−Ｃ１ｇ及びテトラヒドロフラン２０
ｍｌの混合液に、室温下、水素を１１時間バブリングさ
せた。反応混合液を濾過、濃縮し、濃縮物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付すことにより、３−ヒド
ロキシ−４，４−ジメチル−γ−ブチロラクトンを収率
６３％で得た。得られた３−ヒドロキシ−４，４−ジメ
チル−γ−ブチロラクトンを製造例１６と同様にしてア
クリル酸クロリドと反応させることにより標記化合物を
得た（収率８７％）。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１８５（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０４０，１７７０，１６５０，１１
５０
【００８３】製造例２１ （３−メタクリロイルオキシ−４，４−ジメチル−γ−
ブチロラクトン［3-5（メタクリレート）］の製造）ア
クリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを用
いた以外は製造例２０と同様の操作を行い、標記化合物
を得た。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１９９（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０４５，１７７２，１１９０
ブチロラクトン［3-5（メタクリレート）］の製造）ア
クリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリドを用
いた以外は製造例２０と同様の操作を行い、標記化合物
を得た。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１９９（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０４５，１７７２，１１９０
【００８４】製造例２２ （３−アクリロイルオキシ−３，４，４−トリメチル−
γ−ブチロラクトン［3-6（アクリレート）］の製造）
アクリル酸エチルに代えてクロトン酸エチルを用いた以
外は製造例１６と同様にして、２−ヒドロキシ−３，
４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトンを収率１５％
で得た。得られた２−ヒドロキシ−３，４，４−トリメ
チル−γ−ブチロラクトンをジオキサン中、室温下、当
量のＰ2Ｏ5と反応させることにより（脱水反応）、対応
するα，β−不飽和−γ−ブチロラクトンを得た（収率
３４％）。次いで、これを、塩化メチレン中、室温でｍ
−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）と反応させて、２，
３−エポキシ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラ
クトンを得た（収率７５％）。得られた２，３−エポキ
シ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトン１０
ミリモル、５重量％Ｐｄ−Ｃ１ｇ及びテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌの混合液に、室温下、水素を１１時間バブリ
ングさせた。反応混合液を濾過、濃縮し、濃縮物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、３
−ヒドロキシ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラ
クトンを収率８２％で得た。得られた３−ヒドロキシ−
３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトンを製造例
１６と同様にしてアクリル酸クロリドと反応させること
により標記化合物を得た（収率８５％）。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１９９（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０２０，１７６８，１２１０
γ−ブチロラクトン［3-6（アクリレート）］の製造）
アクリル酸エチルに代えてクロトン酸エチルを用いた以
外は製造例１６と同様にして、２−ヒドロキシ−３，
４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトンを収率１５％
で得た。得られた２−ヒドロキシ−３，４，４−トリメ
チル−γ−ブチロラクトンをジオキサン中、室温下、当
量のＰ2Ｏ5と反応させることにより（脱水反応）、対応
するα，β−不飽和−γ−ブチロラクトンを得た（収率
３４％）。次いで、これを、塩化メチレン中、室温でｍ
−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）と反応させて、２，
３−エポキシ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラ
クトンを得た（収率７５％）。得られた２，３−エポキ
シ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトン１０
ミリモル、５重量％Ｐｄ−Ｃ１ｇ及びテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌの混合液に、室温下、水素を１１時間バブリ
ングさせた。反応混合液を濾過、濃縮し、濃縮物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、３
−ヒドロキシ−３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラ
クトンを収率８２％で得た。得られた３−ヒドロキシ−
３，４，４−トリメチル−γ−ブチロラクトンを製造例
１６と同様にしてアクリル酸クロリドと反応させること
により標記化合物を得た（収率８５％）。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：１９９（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０２０，１７６８，１２１０
【００８５】製造例２３ （３−メタクリロイルオキシ−３，４，４−トリメチル
−γ−ブチロラクトン［3-6（メタクリレート）］の製
造）アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリ
ドを用いた以外は製造例２２と同様の操作を行い、標記
化合物を得た。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：２１１（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０１０，１７６５，１２００
−γ−ブチロラクトン［3-6（メタクリレート）］の製
造）アクリル酸クロリドの代わりにメタクリル酸クロリ
ドを用いた以外は製造例２２と同様の操作を行い、標記
化合物を得た。 ［スペクトルデータ］ ＭＳ ｍ／ｅ：２１１（Ｍ+） ＩＲ（ｃｍ-1）：３０１０，１７６５，１２００
【００８６】実施例１ 下記構造の樹脂の合成
【化３１】 三角フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）４．
６１ｇ（15.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）５．３８ｇ（22.5mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ（テトラヒ
ドロフラン）２５ｇに完全に溶解させてモノマー溶液と
した。一方、還流管および３方コックを備えた１００ｍ
ｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り込み、ここに先に調製
したモノマー溶液を、送液ポンプを用いて、窒素雰囲気
下９０分で導入した。送液終了後、温度を６０℃に保
ち、１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサ
ンに落とし、生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再
沈精製操作を行なうことにより、目的とする樹脂８．０
３ｇを得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したとこ
ろ、重量平均分子量（Mw）が８８００、分散度（Mw/M
n）が２．２０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクト
ルでは、0.8-2.5（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.6 pp
mにシグナルが観測された。
６１ｇ（15.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）５．３８ｇ（22.5mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ（テトラヒ
ドロフラン）２５ｇに完全に溶解させてモノマー溶液と
した。一方、還流管および３方コックを備えた１００ｍ
ｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り込み、ここに先に調製
したモノマー溶液を、送液ポンプを用いて、窒素雰囲気
下９０分で導入した。送液終了後、温度を６０℃に保
ち、１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサ
ンに落とし、生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再
沈精製操作を行なうことにより、目的とする樹脂８．０
３ｇを得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したとこ
ろ、重量平均分子量（Mw）が８８００、分散度（Mw/M
n）が２．２０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクト
ルでは、0.8-2.5（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.6 pp
mにシグナルが観測された。
【００８７】実施例 ２ 下記構造の樹脂の合成
【化３２】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）４．２
０ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．５１ｇ（29.3mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）を１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を、送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．５５ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９５００、分散度（Mw/Mn）が２．２０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが観測
された。
０ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．５１ｇ（29.3mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）を１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を、送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．５５ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９５００、分散度（Mw/Mn）が２．２０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが観測
された。
【００８８】実施例 ３ 下記構造の樹脂の合成
【化３３】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）４．
２０ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．４９ｇ（18.9mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）を０．８７ｇを入れ、ＴＨＦ２４ｇに
完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管お
よび３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１
５ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送
液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂６．５２ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が１．９８であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
２０ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．４９ｇ（18.9mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）を０．８７ｇを入れ、ＴＨＦ２４ｇに
完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管お
よび３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１
５ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送
液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂６．５２ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が１．９８であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【００８９】実施例４ 下記構造の樹脂の合成
【化３４】 三角フラスコにモノマー[1-3]（アクリレート）５．１
３ｇ（13.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
４．８６ｇ（20.5mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．００ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
７５００、分散度（Mw/Mn）が２．０３であった。1H-NM
R（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに明瞭なシグナル
が観測された。
３ｇ（13.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
４．８６ｇ（20.5mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．００ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
７５００、分散度（Mw/Mn）が２．０３であった。1H-NM
R（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに明瞭なシグナル
が観測された。
【００９０】実施例５ 下記構造の樹脂の合成
【化３５】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）５．
１３ｇ（13.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．８６ｇ（20.5mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９０００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
１３ｇ（13.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．８６ｇ（20.5mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９０００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【００９１】実施例６ 下記構造の樹脂の合成
【化３６】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）８．
５１ｇ（26.4mmole）、モノマー[7-3]（メタクリレー
ト）１．２１ｇ（6.60mmole）をおよび開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．５５ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が１．８９であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
５１ｇ（26.4mmole）、モノマー[7-3]（メタクリレー
ト）１．２１ｇ（6.60mmole）をおよび開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．５５ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が１．８９であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【００９２】実施例７ 下記構造の樹脂の合成
【化３７】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）８．
８１ｇ（27.3mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレー
ト）１．３１ｇ（6.84mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２４ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．１１であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.9ppmにシグナルが観
測された。
８１ｇ（27.3mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレー
ト）１．３１ｇ（6.84mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２４ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．１１であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.9ppmにシグナルが観
測された。
【００９３】実施例８ 下記構造の樹脂の合成
【化３８】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）８．
４５ｇ（26.2mmole）、モノマー[3-5]（メタクリレー
ト）１．３０ｇ（6.56mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．０５ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.6 ppmに明瞭なシグ
ナルが観測された。
４５ｇ（26.2mmole）、モノマー[3-5]（メタクリレー
ト）１．３０ｇ（6.56mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．０５ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.6 ppmに明瞭なシグ
ナルが観測された。
【００９４】実施例９ 下記構造の樹脂の合成
【化３９】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）８．
４０ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-6]（メタクリレー
ト）１．３８ｇ（6.52mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
３００、分散度（Mw/Mn）が２．３８であった。1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロード）、
1.5、2.1、4.6、5.6ppmに明瞭なシグナルが観測され
た。
４０ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-6]（メタクリレー
ト）１．３８ｇ（6.52mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
３００、分散度（Mw/Mn）が２．３８であった。1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロード）、
1.5、2.1、4.6、5.6ppmに明瞭なシグナルが観測され
た。
【００９５】実施例１０ 下記構造の樹脂の合成
【化４０】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）９．
０２ｇ（28.0mmole）、モノマー[8-1]（メタクリレー
ト）１．１９ｇ（7.00mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．４３であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.7
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
０２ｇ（28.0mmole）、モノマー[8-1]（メタクリレー
ト）１．１９ｇ（7.00mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．７８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．４３であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.7
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
【００９６】実施例１１ 下記構造の樹脂の合成
【化４１】 三角フラスコにモノマー[1-6]（アクリレート）４．４
１ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
５．２０ｇ（23.4mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．１１ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８２００、分散度（Mw/Mn）が２．００であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.5、1.9、2.1、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
１ｇ（12.6mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
５．２０ｇ（23.4mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．１１ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８２００、分散度（Mw/Mn）が２．００であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.5、1.9、2.1、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
【００９７】実施例１２ 下記構造の樹脂の合成
【化４２】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）５．
４６ｇ（15.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）５．２０ｇ（23.4mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０４ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．７６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
４６ｇ（15.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）５．２０ｇ（23.4mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０４ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．７６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
【００９８】実施例１３ 下記構造の樹脂の合成
【化４３】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）８．
５０ｇ（24.2mmole）、モノマー[7-3]（メタクリレー
ト）１．１３ｇ（6.07mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂を７．９６ｇを得た。回収
したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７４００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmに強いシグナ
ルが観測された。
５０ｇ（24.2mmole）、モノマー[7-3]（メタクリレー
ト）１．１３ｇ（6.07mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂を７．９６ｇを得た。回収
したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７４００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmに強いシグナ
ルが観測された。
【００９９】実施例１４ 下記構造の樹脂の合成
【化４４】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）８．
４０ｇ（24.1mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレー
ト）１．１０ｇ（6.04mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂を７．７７ｇを得た。回収
したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 ppmに
シグナルが観測された。
４０ｇ（24.1mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレー
ト）１．１０ｇ（6.04mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂を７．７７ｇを得た。回収
したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７８００、分散度（Mw/Mn）が２．２６であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、3.7、3.9、4.6、5.9 ppmに
シグナルが観測された。
【０１００】実施例１５ 下記構造の樹脂の合成
【化４５】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）８．
５５ｇ（23.4mmole）、モノマー[3-5]（メタクリレー
ト）１．０８ｇ（5.87mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．８１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９０００、分散度（Mw/Mn）が、２．１４であ
った。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.3ppmにシグナル
が観測された。
５５ｇ（23.4mmole）、モノマー[3-5]（メタクリレー
ト）１．０８ｇ（5.87mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．８１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９０００、分散度（Mw/Mn）が、２．１４であ
った。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、4.6、5.3ppmにシグナル
が観測された。
【０１０１】実施例１６ 下記構造の樹脂の合成
【化４６】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）８．
５０ｇ（24.2mmole）、モノマー[3-6]（メタクリレー
ト）１．１３ｇ（6.07mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．９６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が、２．１９であ
った。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mに強いシグナルが観測された。
５０ｇ（24.2mmole）、モノマー[3-6]（メタクリレー
ト）１．１３ｇ（6.07mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．９６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が、２．１９であ
った。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mに強いシグナルが観測された。
【０１０２】実施例１７ 下記構造の樹脂の合成
【化４７】 三角フラスコにモノマー[1-5]（アクリレート）５．１
６ｇ（11.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
５．７８ｇ（26.0mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）を１．１３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が７６００、分散度（Mw/Mn）が２．２１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
６ｇ（11.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
５．７８ｇ（26.0mmole）、および開始剤（和光純薬工
業製 V-65）を１．１３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が７６００、分散度（Mw/Mn）が２．２１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
【０１０３】実施例１８ 下記構造の樹脂の合成
【化４８】 三角フラスコにモノマー[1-5]（メタクリレート）５．
３４ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．０１ｇ（27.0mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）を０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに
完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管お
よび３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１
５ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送
液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．５６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９１００、分散度（Mw/Mn）が２．１８であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに強いシグナ
ルが観測された。
３４ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．０１ｇ（27.0mmole）、および開始剤（和光純
薬工業製 V-65）を０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに
完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管お
よび３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１
５ｇを張り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送
液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．５６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が９１００、分散度（Mw/Mn）が２．１８であっ
た。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブ
ロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに強いシグナ
ルが観測された。
【０１０４】実施例１９ 下記構造の樹脂の合成
【化４９】 三角フラスコにモノマー[2-1]（アクリレート）４．０
ｇ（21.8mmole）、モノマー[3-2]（アクリレート）５．
２０ｇ（21.8mmole）、および開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解さ
せてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コッ
クを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り込
み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを用
いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終了
後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応液
を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別し
た。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことにより、
目的とする樹脂７．４１ｇを得た。回収したポリマーを
ＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８００
０、分散度（Mw/Mn）が、２．２６であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに強いシグナルが観測さ
れた。
ｇ（21.8mmole）、モノマー[3-2]（アクリレート）５．
２０ｇ（21.8mmole）、および開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解さ
せてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コッ
クを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り込
み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを用
いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終了
後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応液
を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別し
た。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことにより、
目的とする樹脂７．４１ｇを得た。回収したポリマーを
ＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８００
０、分散度（Mw/Mn）が、２．２６であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、4.6、5.9 ppmに強いシグナルが観測さ
れた。
【０１０５】実施例２０ 下記構造の樹脂の合成
【化５０】 三角フラスコにモノマー[2-1]（アクリレート）４．２
４ｇ（19.3mmole）、モノマー[2-5]（アクリレート）
５．６０ｇ（23.5mmole）および開始剤（和光純薬工業
製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶
解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方
コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張
り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２７ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
２００、分散度（Mw/Mn）が、２．２であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロード）、
1.6、1. 9、2.1、4.6 ppmに強いシグナルが観測され
た。
４ｇ（19.3mmole）、モノマー[2-5]（アクリレート）
５．６０ｇ（23.5mmole）および開始剤（和光純薬工業
製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶
解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方
コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張
り込み、ここに先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２７ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
２００、分散度（Mw/Mn）が、２．２であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.5（ブロード）、
1.6、1. 9、2.1、4.6 ppmに強いシグナルが観測され
た。
【０１０６】実施例２１ 下記構造の樹脂の合成
【化５１】 三角フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）４．
１０ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．４７ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２７ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.7、5.6ppmにシグナル
が観測された。
１０ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．４７ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２７ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.7、5.6ppmにシグナル
が観測された。
【０１０７】実施例２２ 下記構造の樹脂の合成
【化５２】 フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）４．１０
ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレート）
３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレ
ート）２．６５ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂８．１９ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。1H-NM
R（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、ppmにシグナルが観測され
た。
ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレート）
３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[7-4]（メタクリレ
ート）２．６５ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂８．１９ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。1H-NM
R（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、4.6、ppmにシグナルが観測され
た。
【０１０８】実施例２３ 下記構造の樹脂の合成
【化５３】 三角フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）４．
１０ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．４６ｇ（１３．４ｍｍｏｌｅ）、開始剤
（和光純薬工業製V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５
ｇに完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流
管および３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨ
Ｆ１５ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液
を送液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導
入した。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪
拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生
じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行
なうことにより、目的とする樹脂８．４３ｇを得た。回
収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子
量（Mw）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であ
った。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmにシグナ
ルが観測された。
１０ｇ（13.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．４６ｇ（１３．４ｍｍｏｌｅ）、開始剤
（和光純薬工業製V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５
ｇに完全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流
管および３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨ
Ｆ１５ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液
を送液ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導
入した。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪
拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生
じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行
なうことにより、目的とする樹脂８．４３ｇを得た。回
収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子
量（Mw）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であ
った。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmにシグナ
ルが観測された。
【０１０９】実施例２４ 下記構造の樹脂の合成
【化５４】 三角フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）４．
０４ｇ（13.4mmole）、モノマー[3-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．６５g（13.4mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmにシグナルが観
測された。
０４ｇ（13.4mmole）、モノマー[3-1]（メタクリレー
ト）３．９７ｇ（26.0mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．６５g（13.4mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3 ppmにシグナルが観
測された。
【０１１０】実施例２５ 下記構造の樹脂の合成
【化５５】 三角フラスコにモノマー[1-1]（アクリレート）２．７
５ｇ（9.0mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．９８ｇ（31.4mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７６ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純薬工業
製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶
解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方
コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張
り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
５ｇ（9.0mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．９８ｇ（31.4mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７６ｇ（13.4mmole）、開始剤（和光純薬工業
製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶
解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方
コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張
り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプ
を用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液
終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反
応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ
別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
０００、分散度（Mw/Mn）が２．３０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１１１】実施例２６ 下記構造の樹脂の合成
【化５６】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）４．
０２ｇ（11.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．４７ｇ（14.7mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．１９ｇ（11.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇ完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み温度を６０℃に保ち、先に調製したモノマー
溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけてモ
ノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに１０
時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落と
し生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作
を行なうことにより、目的とする樹脂７．５３ｇを得
た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平
均分子量（Mw）が８６００、分散度（Mw/Mn）が２．３
０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8
-2.4（ブロード）、1.6、1. 9、2.1、3.8、3.9、4.6、
5.3、5.9 ppmにシグナルが観測された。
０２ｇ（11.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．４７ｇ（14.7mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．１９ｇ（11.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇ完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み温度を６０℃に保ち、先に調製したモノマー
溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけてモ
ノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに１０
時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落と
し生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作
を行なうことにより、目的とする樹脂７．５３ｇを得
た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平
均分子量（Mw）が８６００、分散度（Mw/Mn）が２．３
０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8
-2.4（ブロード）、1.6、1. 9、2.1、3.8、3.9、4.6、
5.3、5.9 ppmにシグナルが観測された。
【０１１２】実施例２７ 下記構造の樹脂の合成
【化５７】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）４．
０２ｇ（11.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．４７ｇ（14.7mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．１９ｇ（11.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み温度を６０℃に保ち、先に調製したモノマ
ー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけて
モノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに１
０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落
とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操
作を行なうことにより、目的とする樹脂７．２６ｇを得
た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平
均分子量（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が２．３
０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8
-2.4（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.
9 ppmにシグナルが観測された。
０２ｇ（11.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．４７ｇ（14.7mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．１９ｇ（11.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み温度を６０℃に保ち、先に調製したモノマ
ー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけて
モノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに１
０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落
とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操
作を行なうことにより、目的とする樹脂７．２６ｇを得
た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平
均分子量（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が２．３
０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8
-2.4（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.
9 ppmにシグナルが観測された。
【０１１３】実施例２８ 下記構造の樹脂の合成
【化５８】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）４．
２０ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．２８ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、温度を６０℃に保ち、先に調製したモノ
マー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけ
てモノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに
１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに
落とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製
操作を行なうことにより、目的とする樹脂７．２６ｇを
得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量
平均分子量（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が２．
３０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、
0.8-2.4（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6
4、5.3、5.9 ppmにシグナルが観測された。
２０ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．２８ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、温度を６０℃に保ち、先に調製したモノ
マー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけ
てモノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに
１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに
落とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製
操作を行なうことにより、目的とする樹脂７．２６ｇを
得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量
平均分子量（Mw）が８２００、分散度（Mw/Mn）が２．
３０であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、
0.8-2.4（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6
4、5.3、5.9 ppmにシグナルが観測された。
【０１１４】実施例２９ 下記構造の樹脂の合成
【化５９】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）４．
２０ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．２８ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、温度を６０℃に保ち、先に調製したモノ
マー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけ
てモノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに
１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに
落とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製
操作を行なうことにより、目的とする樹脂８．５５ｇを
得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量
平均分子量（Mw）が８７００、分散度（Mw/Mn）が２．
４２であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、
0.8-2.4（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.
6、5.9 ppmにシグナルが観測された。
２０ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．２８ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、温度を６０℃に保ち、先に調製したモノ
マー溶液を送液ポンプを用い窒素雰囲気下、９０分かけ
てモノマー溶液を反応系へ導入した。送液終了後さらに
１０時間攪拌した後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに
落とし生じた沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製
操作を行なうことにより、目的とする樹脂８．５５ｇを
得た。回収したポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量
平均分子量（Mw）が８７００、分散度（Mw/Mn）が２．
４２であった。1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、
0.8-2.4（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.
6、5.9 ppmにシグナルが観測された。
【０１１５】実施例３０ 下記構造の樹脂の合成
【化６０】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）２．６
９ｇ（8.8mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．８４ｇ（30.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７４ｇ（4.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．７９ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
９ｇ（8.8mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．８４ｇ（30.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７４ｇ（4.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．７９ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１１６】実施例３１ 下記構造の樹脂の合成
【化６１】 三角フラスコにモノマー[1-1]（アクリレート）２．６
９ｇ（8.8mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
６．８４ｇ（30.8mmole）、モノマー[7-3]（アクリレー
ト）０．７４ｇ（4.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
９ｇ（8.8mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
６．８４ｇ（30.8mmole）、モノマー[7-3]（アクリレー
ト）０．７４ｇ（4.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１１７】実施例３２ 下記構造の樹脂の合成
【化６２】 三角フラスコにモノマー[1-1]（アクリレート）５．５
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-4]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．４７ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-4]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．４７ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１１８】実施例３３ 下記構造の樹脂の合成
【化６３】 三角フラスコにモノマー[1-1]（アクリレート）４．９
５ｇ（16.2mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．６ｇ（16.2mmole）、モノマー[3-5]（アクリレー
ト）１．５９ｇ（8.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．００ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．９２ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
５ｇ（16.2mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．６ｇ（16.2mmole）、モノマー[3-5]（アクリレー
ト）１．５９ｇ（8.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．００ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．９２ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１１９】実施例３４ 下記構造の樹脂の合成
【化６４】 三角フラスコにモノマー[1-1]（アクリレート）４．４
９ｇ（14.7mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．５ｇ（14.7mmole）、モノマー[3-6]（アクリレー
ト）１．５６ｇ（7.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．８１ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
７００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1. 9、2. 2、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグナル
が観測された。
９ｇ（14.7mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．５ｇ（14.7mmole）、モノマー[3-6]（アクリレー
ト）１．５６ｇ（7.4mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．８１ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
７００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1. 9、2. 2、3.7、3.8、4.6、5.9 ppmにシグナル
が観測された。
【０１２０】実施例３５ 下記構造の樹脂の合成
【化６５】 三角フラスコにモノマー[1-1]（メタクリレート）３．
２２ｇ（10.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．５０ｇ（35.3mmole）、モノマー[8-1]（メタク
リレート）０．９３ｇ（5.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
２２ｇ（10.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．５０ｇ（35.3mmole）、モノマー[8-1]（メタク
リレート）０．９３ｇ（5.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
【０１２１】実施例３６ 下記構造の樹脂の合成
【化６６】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）５．５
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-3]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２５ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
０００、分散度（Mw/Mn）が２．０３であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、5.9 ppmにシグナ
ルが観測された。
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-3]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．２５ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
０００、分散度（Mw/Mn）が２．０３であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、5.9 ppmにシグナ
ルが観測された。
【０１２２】実施例３７ 下記構造の樹脂の合成
【化６７】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）５．１
９ｇ（15.5mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．７０ｇ（15.5mmole）、モノマー[7-4]（アクリレー
ト）１．５３ｇ（7.8mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし生じた沈殿をろ別し
た。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことにより、
目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収したポリマーを
ＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８９０
０、分散度（Mw/Mn）が２．１４であった。 1H-NMR（DM
SO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、1.
5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが観
測された。
９ｇ（15.5mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．７０ｇ（15.5mmole）、モノマー[7-4]（アクリレー
ト）１．５３ｇ（7.8mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし生じた沈殿をろ別し
た。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことにより、
目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収したポリマーを
ＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８９０
０、分散度（Mw/Mn）が２．１４であった。 1H-NMR（DM
SO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、1.
5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが観
測された。
【０１２３】実施例３８ 下記構造の樹脂の合成
【化６８】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）５．５
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[3-5]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．３９ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[3-5]（アクリレー
ト）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．３９ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１２４】実施例３９ 下記構造の樹脂の合成
【化６９】 三角フラスコにモノマー[1-4]（アクリレート）５．３
３ｇ（16.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．８０ｇ（16.0mmole）、モノマー[3-6]（アクリレー
ト）１．５６ｇ（8.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
３ｇ（16.0mmole）、モノマー[4-2]（アクリレート）
３．８０ｇ（16.0mmole）、モノマー[3-6]（アクリレー
ト）１．５６ｇ（8.0mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）１．０６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂８．６６ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１２５】実施例４０ 下記構造の樹脂の合成
【化７０】 三角フラスコにモノマー[1-4]（メタクリレート）３．
５１ｇ（10.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．５０ｇ（35.3mmole）、モノマー[8-1]（メタク
リレート）０．５２ｇ（5.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．１０ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．３７ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９５００、分散度（Mw/Mn）が２．４６であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
５１ｇ（10.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．５０ｇ（35.3mmole）、モノマー[8-1]（メタク
リレート）０．５２ｇ（5.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．１０ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．３７ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９５００、分散度（Mw/Mn）が２．４６であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
【０１２６】実施例４１ 下記構造の樹脂の合成
【化７１】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）３．
６４ｇ（11.3mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．５６ｇ（15.1mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．２３ｇ（11.3mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９４ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２９ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．０８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
６４ｇ（11.3mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．５６ｇ（15.1mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．２３ｇ（11.3mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９４ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．２９ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．０８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
【０１２７】実施例４２ 下記構造の樹脂の合成
【化７２】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）３．
８６ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.4mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．４６ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．０６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．０８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.6、4.6 ppmにシグナ
ルが観測された。
８６ｇ（11.5mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６３ｇ（15.4mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．４６ｇ（11.5mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．０６ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．０８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.6、4.6 ppmにシグナ
ルが観測された。
【０１２８】実施例４３ 下記構造の樹脂の合成
【化７３】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）４．
２７ｇ（12.7mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（17.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．５１ｇ（12.7mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．４３ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７７００、分散度（Mw/Mn）が２．０７であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、4.6、5.3ppmにシ
グナルが観測された。
２７ｇ（12.7mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（17.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．５１ｇ（12.7mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．４３ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７７００、分散度（Mw/Mn）が２．０７であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、4.6、5.3ppmにシ
グナルが観測された。
【０１２９】実施例４４ 下記構造の樹脂の合成
【化７４】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）３．
８５ｇ（11.2mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６ｇ（16.3mmole）、モノマー[3-6]（メタクリ
レート）２．２６ｇ（11.2mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が７５００、分散度（Mw/Mn）が１．９８であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、5.3 ppmにシグナルが観
測された。
８５ｇ（11.2mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６ｇ（16.3mmole）、モノマー[3-6]（メタクリ
レート）２．２６ｇ（11.2mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０７ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が７５００、分散度（Mw/Mn）が１．９８であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、5.3 ppmにシグナルが観
測された。
【０１３０】実施例４５ 下記構造の樹脂の合成
【化７５】 三角フラスコにモノマー[1-3]（アクリレート）２．６
５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．８６ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
５００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．８６ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が８
５００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１３１】実施例４６ 下記構造の樹脂の合成
【化７６】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）４．
４０ｇ（12.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．８０ｇ（16.1mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．３９ｇ（12.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．５８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．２１であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、
5.9 ppmにシグナルが観測された。
４０ｇ（12.0mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．８０ｇ（16.1mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）２．３９ｇ（12.0mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０５ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．５８ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が７９００、分散度（Mw/Mn）が２．２１であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、
5.9 ppmにシグナルが観測された。
【０１３２】実施例４７ 下記構造の樹脂の合成
【化７７】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）４．
１８ｇ（11.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６２ｇ（15.3mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．３９ｇ（11.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．６１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．２８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
１８ｇ（11.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６２ｇ（15.3mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）２．３９ｇ（11.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．６１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．２８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
【０１３３】実施例４８ 下記構造の樹脂の合成
【化７８】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）４．
１８ｇ（11.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６２ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．３９ｇ（11.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．９９ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．２８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
１８ｇ（11.4mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６２ｇ（15.3mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）２．３９ｇ（11.4mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）０．９９ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂７．９９ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８１００、分散度（Mw/Mn）が２．２８であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 pp
mにシグナルが観測された。
【０１３４】実施例４９ 下記構造の樹脂の合成
【化７９】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）４．
１８ｇ（11.7mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６８ｇ（15.6mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．４８ｇ（11.7mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．３６であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、
5.9 ppmにシグナルが観測された。
１８ｇ（11.7mmole）、モノマー[4-1]（メタクリレー
ト）３．６８ｇ（15.6mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）２．４８ｇ（11.7mmole）、開始剤（和光純
薬工業製 V-65）１．０２ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完
全に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管およ
び３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５
ｇを張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液
ポンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入し
た。送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌し
た後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた
沈殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なう
ことにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収し
たポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量
（Mw）が８５００、分散度（Mw/Mn）が２．３６であっ
た。 1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4
（ブロード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、
5.9 ppmにシグナルが観測された。
【０１３５】実施例５０ 下記構造の樹脂の合成
【化８０】 三角フラスコにモノマー[1-6]（アクリレート）２．６
５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．３８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
５００、分散度（Mw/Mn）が２．５１であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-1]（アクリレート）
６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（アクリレー
ト）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工業製
V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に溶解
させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３方コ
ックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを張り
込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポンプを
用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送液終
了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、反応
液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿をろ別
した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことによ
り、目的とする樹脂７．３８ｇを得た。回収したポリマ
ーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が９
５００、分散度（Mw/Mn）が２．５１であった。 1H-NMR
（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロード）、
1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグナルが
観測された。
【０１３６】実施例５１ 下記構造の樹脂の合成
【化８１】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）５．
５１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3 ppmにシ
グナルが観測された。
５１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．１２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９２００、分散度（Mw/Mn）が２．４０であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3 ppmにシ
グナルが観測された。
【０１３７】実施例５２ 下記構造の樹脂の合成
【化８２】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）５．
６４ｇ（16.8mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．２３ｇ（16.8mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）１．７８ｇ（8.4mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂７．９８ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８８００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6 ppmにシグナルが観測され
た。
６４ｇ（16.8mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．２３ｇ（16.8mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）１．７８ｇ（8.4mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂７．９８ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が８８００、分散度（Mw/Mn）が２．３１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6 ppmにシグナルが観測され
た。
【０１３８】実施例５３ 下記構造の樹脂の合成
【化８３】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）５．
５１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９０００、分散度（Mw/Mn）が２．３５であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3、5.9 ppmにシグナル
が観測された。
５１ｇ（18.0mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．００ｇ（18.0mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）１．７６ｇ（9.0mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０３ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９０００、分散度（Mw/Mn）が２．３５であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.6、5.3、5.9 ppmにシグナル
が観測された。
【０１３９】実施例５４ 下記構造の樹脂の合成
【化８４】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）４．
８９ｇ（14.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．６７ｇ（14.6mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）１．５５ｇ（7.3mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．７２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９２００、分散度（Mw/Mn）が２．３９であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.2、4.6 ppmにシグナルが観
測された。
８９ｇ（14.6mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．６７ｇ（14.6mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）１．５５ｇ（7.3mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．７２ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９２００、分散度（Mw/Mn）が２．３９であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、4.2、4.6 ppmにシグナルが観
測された。
【０１４０】実施例５５ 下記構造の樹脂の合成
【化８５】 三角フラスコにモノマー[1-3]（メタクリレート）２．
６５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（メタクリ
レート）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．３３ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８９００、分散度（Mw/Mn）が２．１９であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
６５ｇ（8.2mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．４ｇ（28.8mmole）、モノマー[8-1]（メタクリ
レート）０．７０ｇ（4.1mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．３３ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
８９００、分散度（Mw/Mn）が２．１９であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
【０１４１】実施例５６ 下記構造の樹脂の合成
【化８６】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）５．
４２ｇ（14.9mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．７５ｇ（14.9mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）１．４７ｇ（7.5mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．１６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．５３ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９６００、分散度（Mw/Mn）が２．４３であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
４２ｇ（14.9mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．７５ｇ（14.9mmole）、モノマー[7-3]（メタク
リレート）１．４７ｇ（7.5mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．１６ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．５３ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９６００、分散度（Mw/Mn）が２．４３であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシ
グナルが観測された。
【０１４２】実施例５７ 下記構造の樹脂の合成
【化８７】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）５．
８１ｇ（15.9mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．０２ｇ（15.9mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）１６９ｇ（8.0mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．１１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂８．４９ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
９６００、分散度（Mw/Mn）が２．４８であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
８１ｇ（15.9mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）４．０２ｇ（15.9mmole）、モノマー[7-4]（メタク
リレート）１６９ｇ（8.0mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）１．１１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂８．４９ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
９６００、分散度（Mw/Mn）が２．４８であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
【０１４３】実施例５８ 下記構造の樹脂の合成
【化８８】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）５．
４９ｇ（15.1mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．８０ｇ（15.1mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）１．５０ｇ（7.6mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．２１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９８００、分散度（Mw/Mn）が２．４１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、5.9 ppm
にシグナルが観測された。
４９ｇ（15.1mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．８０ｇ（15.1mmole）、モノマー[3-5]（メタク
リレート）１．５０ｇ（7.6mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．２１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９８００、分散度（Mw/Mn）が２．４１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.3、5.9 ppm
にシグナルが観測された。
【０１４４】実施例５９ 下記構造の樹脂の合成
【化８９】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）５．
１３ｇ（14.1mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．５５ｇ（14.1mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）１．５０ｇ（7.1mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９８００、分散度（Mw/Mn）が２．４１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.3、4.6、5.9 ppm
にシグナルが観測された。
１３ｇ（14.1mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）３．５５ｇ（14.1mmole）、モノマー[3-6]（メタク
リレート）１．５０ｇ（7.1mmole）、開始剤（和光純薬
工業製 V-65）１．０１ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全
に溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および
３方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇ
を張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポ
ンプを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。
送液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した
後、反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈
殿をろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうこ
とにより、目的とする樹脂８．６１ｇを得た。回収した
ポリマーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（M
w）が９８００、分散度（Mw/Mn）が２．４１であった。
1H-NMR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロ
ード）、1.5、1.9、2.1、3.8、3.9、4.3、4.6、5.9 ppm
にシグナルが観測された。
【０１４５】実施例６０ 下記構造の樹脂の合成
【化９０】 三角フラスコにモノマー[1-6]（メタクリレート）２．
６５ｇ（7.3mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．４ｇ（25.5mmole）、モノマー[8-1]（メタクリ
レート）０．６７ｇ（3.7mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．３３ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
９５００、分散度（Mw/Mn）が２．５１であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
６５ｇ（7.3mmole）、モノマー[4-2]（メタクリレー
ト）６．４ｇ（25.5mmole）、モノマー[8-1]（メタクリ
レート）０．６７ｇ（3.7mmole）、開始剤（和光純薬工
業製 V-65）０．９８ｇを入れ、ＴＨＦ２５ｇに完全に
溶解させてモノマー溶液とした。一方、還流管および３
方コックを備えた１００ｍｌフラスコにＴＨＦ１５ｇを
張り込み、ここへ先に調製したモノマー溶液を送液ポン
プを用いて、窒素雰囲気下、９０分かけて導入した。送
液終了後、温度を６０℃に保ち、１０時間攪拌した後、
反応液を５００ｍｌのヘキサンに落とし、生じた沈殿を
ろ別した。さらにもう一度再沈精製操作を行なうことに
より、目的とする樹脂７．３３ｇを得た。回収したポリ
マーをＧＰＣ分析したところ、重量平均分子量（Mw）が
９５００、分散度（Mw/Mn）が２．５１であった。 1H-N
MR（DMSO-d6中）スペクトルでは、0.8-2.4（ブロー
ド）、1.6、1.9、2.1、3.8、3.9、4.6、5.9 ppmにシグ
ナルが観測された。
【０１４６】試験例 実施例で得られたポリマー１００重量部とトリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート１０重量部
とを溶媒である乳酸エチルと混合し、ポリマー濃度１７
重量％のフォトレジスト用樹脂組成物を調製した。この
フォトレジスト用樹脂組成物をシリコンウエハーにスピ
ンコーティング法により塗布し、厚み１．０μｍの感光
層を形成した。ホットプレート上で温度１００℃で１５
０秒間プリベークした後、波長２４７ｎｍのＫｒＦエキ
シマレーザーを用い、マスクを介して、照射量３０ｍＪ
／ｃｍ2で露光した後、１００℃の温度で６０秒間ポス
トベークした。次いで、０．３Ｍのテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液により６０秒間現像し、純水
でリンスしたところ、何れの場合も、０．２５μｍのラ
イン・アンド・スペースパターンが得られた。
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート１０重量部
とを溶媒である乳酸エチルと混合し、ポリマー濃度１７
重量％のフォトレジスト用樹脂組成物を調製した。この
フォトレジスト用樹脂組成物をシリコンウエハーにスピ
ンコーティング法により塗布し、厚み１．０μｍの感光
層を形成した。ホットプレート上で温度１００℃で１５
０秒間プリベークした後、波長２４７ｎｍのＫｒＦエキ
シマレーザーを用い、マスクを介して、照射量３０ｍＪ
／ｃｍ2で露光した後、１００℃の温度で６０秒間ポス
トベークした。次いで、０．３Ｍのテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液により６０秒間現像し、純水
でリンスしたところ、何れの場合も、０．２５μｍのラ
イン・アンド・スペースパターンが得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA09 AA14 AB16 AC01 AC05 AC08 AD03 BE00 BG00 FA03 FA12 FA17 4J002 BG041 BG051 BG071 EQ036 ER006 EV196 EV216 EV246 EV296 EV316 EW056 EY026 FD146 FD206 GP03 4J100 AJ02T AL08P AL08Q AL08R AL08S AL08T BA03P BA03Q BA03R BA03T BA11P BA11R BA15Q BA15T BA16P BA16T BA20Q BA20T BC07T BC08T BC09P BC09Q BC09R BC09T BC53Q BC53S BC53T CA01 CA03 CA04 CA05 CA06 JA38
Claims (7)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ）、（II）及び（III） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2及びＲ
3は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又
は−ＣＯＯＲ4基を示し、Ｒ4はｔ−ブチル基、２−テト
ラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基又は
２−オキセパニル基を示す。Ｒ5及びＲ6は、同一又は異
なって、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示
す。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なって、水素原子
又はメチル基を示す）から選択された少なくとも１種の
モノマー単位を含む［但し、式（II）のうち、Ｒ5＝Ｒ6
＝Ｈであるモノマー単位を含む場合、又は式（III）の
モノマー単位を含む場合には、前記式（Ｉ）で表される
モノマー単位、前記式（II）のうちＲ5及びＲ6の少なく
とも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー
単位、及び下記式（IV） 【化２】 （式中、Ｒ10及びＲ11は、同一又は異なって、水素原
子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、Ｒ12は
ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。
Ｒ1は前記に同じ）で表されるモノマー単位から選択さ
れた少なくとも１種のモノマー単位をも含む］高分子化
合物。 - 【請求項２】 式（Ｉ）、（II）及び（III）から選択
された少なくとも１種のモノマー単位と、下記式（IV） 【化３】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ10及び
Ｒ11は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基
又はカルボキシル基を示し、Ｒ12はヒドロキシル基、オ
キソ基又はカルボキシル基を示す）で表される少なくと
も１種のモノマー単位とを含む請求項１記載の高分子化
合物。 - 【請求項３】 さらに、下記式（Ｖ） 【化４】 （式中、Ｒ1及びＲ13は、同一又は異なって、水素原子
又はメチル基を示す）で表されるモノマー単位、下記式
（VI） 【化５】 （式中、Ｒ14はトリシクロ［５．２．１．０2,6］デシ
ル基、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ド
デシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基又は２−ノ
ルボルニルメチル基を示し、Ｒ15はＲ14の置換基であ
り、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基、
カルボキシル基又は−ＣＯＯＲ16基を示し、Ｒ16はｔ−
ブチル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒ
ドロピラニル基又は２−オキセパニル基を示す。Ｒ1は
前記に同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VII） 【化６】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は、同一又は
異なって、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ1は前記に
同じ）で表されるモノマー単位、下記式（VIII） 【化７】 （式中、ｎは１〜３の整数を示す。Ｒ1は前記に同じ）
で表されるモノマー単位、及び下記式（IX） 【化８】 （式中、Ｒ1は前記に同じ）で表されるモノマー単位か
ら選択された少なくとも１種のモノマー単位を含む請求
項１又は２記載の高分子化合物。 - 【請求項４】 アダマンタン骨格を有するモノマー単位
の総含有量がポリマーを構成する全モノマー単位の５０
〜１００重量％である請求項１〜３の何れかの項に記載
の高分子化合物。 - 【請求項５】 アダマンタン骨格を有するモノマー単位
の総含有量がポリマーを構成する全モノマー単位の７０
〜１００重量％である請求項１〜３の何れかの項に記載
の高分子化合物。 - 【請求項６】 フォトレジスト用樹脂として用いられる
請求項１〜５の何れかの項に記載の高分子化合物。 - 【請求項７】 請求項１〜５の何れかの項に記載の高分
子化合物と光酸発生剤とを含むフォトレジスト用樹脂組
成物。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22311099A JP3390702B2 (ja) | 1999-08-05 | 1999-08-05 | フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
| PCT/JP2000/005168 WO2001010916A1 (en) | 1999-08-05 | 2000-08-02 | Polymer for photoresists and resin compositions for photoresists |
| KR1020017004291A KR20010099670A (ko) | 1999-08-05 | 2000-08-02 | 포토레지스트용 고분자 화합물 및 포토레지스트용 수지조성물 |
| US09/806,857 US6692889B1 (en) | 1999-08-05 | 2000-08-02 | Photoresist polymeric compound and photoresist resin composition |
| EP00949953A EP1172384A1 (en) | 1999-08-05 | 2000-08-02 | Polymer for photoresists and resin compositions for photoresists |
| TW089115561A TW513618B (en) | 1999-08-05 | 2000-08-03 | Hight molecular weight compound for photoresists and a photoresist resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22311099A JP3390702B2 (ja) | 1999-08-05 | 1999-08-05 | フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001048931A true JP2001048931A (ja) | 2001-02-20 |
| JP3390702B2 JP3390702B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=16792992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22311099A Expired - Fee Related JP3390702B2 (ja) | 1999-08-05 | 1999-08-05 | フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3390702B2 (ja) |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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