JP2000229948A - ピリダジン−３−オン誘導体の製造法 - Google Patents
ピリダジン−３−オン誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピリダジン−３−オン誘導体の製造法を提供
すること。 【解決手段】 一般式（１） [式中、 Ｒ2は水素原子またはC1−C3アルキル基を表
し、Ｒ3は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、Ｑ
は置換されていてもよいフェニル基を表わす。]で示さ
れるカルボン酸誘導体またはその塩を、含窒素芳香族化
合物とホウ素化合物の存在下に閉環反応させることを特
徴とする一般式（５） (式中、Ｒ2、Ｒ3およびＱは前記と同じ意味を表わす。)
で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法。
すること。 【解決手段】 一般式（１） [式中、 Ｒ2は水素原子またはC1−C3アルキル基を表
し、Ｒ3は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、Ｑ
は置換されていてもよいフェニル基を表わす。]で示さ
れるカルボン酸誘導体またはその塩を、含窒素芳香族化
合物とホウ素化合物の存在下に閉環反応させることを特
徴とする一般式（５） (式中、Ｒ2、Ｒ3およびＱは前記と同じ意味を表わす。)
で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ピリダジン−３−
オン誘導体の製造方法に関する。
オン誘導体の製造方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】国際特許公開ＷＯ９７
／７１０４号公報において、ピリダジン−３−オン誘導
体が優れた除草活性を有していることが示されている。
さらに国際特許公開ＷＯ９８／１７６３２号公報には、
カルボン酸誘導体またはその塩がこれらのピリダジン−
３−オン誘導体製造における有用な中間体であること、
該中間体からピリダジン−３−オン誘導体を製造する方
法が開示されている。その方法として、以下の７つの方
法が開示されている。 該カルボン酸中間体を８０から２５０℃で反応させる
方法、該カルボン酸中間体に塩基を作用させる方法、
該カルボン酸中間体に酸を作用させる方法、該カル
ボン酸中間体に酸および塩基を作用させる方法、該カ
ルボン酸中間体を塩基の存在下、ハロぎ酸アルキルエス
テルと反応させる方法、該カルボン酸中間体を塩基の
存在下、縮合剤と反応させる方法、該カルボン酸中間
体を塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法。し
かしながら、上記の方法では、ある種のカルボン酸誘導
体を用いてピリダジン−３−オン誘導体を製造する場合
に、目的物を工業的に満足できる収率及び純度で得るこ
とができない場合があった。
／７１０４号公報において、ピリダジン−３−オン誘導
体が優れた除草活性を有していることが示されている。
さらに国際特許公開ＷＯ９８／１７６３２号公報には、
カルボン酸誘導体またはその塩がこれらのピリダジン−
３−オン誘導体製造における有用な中間体であること、
該中間体からピリダジン−３−オン誘導体を製造する方
法が開示されている。その方法として、以下の７つの方
法が開示されている。 該カルボン酸中間体を８０から２５０℃で反応させる
方法、該カルボン酸中間体に塩基を作用させる方法、
該カルボン酸中間体に酸を作用させる方法、該カル
ボン酸中間体に酸および塩基を作用させる方法、該カ
ルボン酸中間体を塩基の存在下、ハロぎ酸アルキルエス
テルと反応させる方法、該カルボン酸中間体を塩基の
存在下、縮合剤と反応させる方法、該カルボン酸中間
体を塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法。し
かしながら、上記の方法では、ある種のカルボン酸誘導
体を用いてピリダジン−３−オン誘導体を製造する場合
に、目的物を工業的に満足できる収率及び純度で得るこ
とができない場合があった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、下記一般
式（１）で示されるカルボン酸誘導体またはその塩を用
いてピリダジン−３−オン誘導体を工業的により有利に
製造する方法を開発するべく鋭意検討を重ねた結果、ホ
ウ素化合物と含窒素芳香族化合物を用いる方法が特に有
用であることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明
は、一般式（１） [式中、 Ｒ2は水素原子またはC1−C3アルキル基を表
し、Ｒ3は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、Ｑ
は置換されていてもよいフェニル基を表わす。]で示さ
れるカルボン酸誘導体またはその塩を、含窒素芳香族化
合物とホウ素化合物の存在下に閉環反応させることを特
徴とする一般式（５） (式中、Ｒ2、Ｒ3およびＱは前記と同じ意味を表わす。)
で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法を提供
するものである。
式（１）で示されるカルボン酸誘導体またはその塩を用
いてピリダジン−３−オン誘導体を工業的により有利に
製造する方法を開発するべく鋭意検討を重ねた結果、ホ
ウ素化合物と含窒素芳香族化合物を用いる方法が特に有
用であることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明
は、一般式（１） [式中、 Ｒ2は水素原子またはC1−C3アルキル基を表
し、Ｒ3は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、Ｑ
は置換されていてもよいフェニル基を表わす。]で示さ
れるカルボン酸誘導体またはその塩を、含窒素芳香族化
合物とホウ素化合物の存在下に閉環反応させることを特
徴とする一般式（５） (式中、Ｒ2、Ｒ3およびＱは前記と同じ意味を表わす。)
で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法を提供
するものである。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。まず、本発明に用いられる原料化合物である一般
式（１）で示されるカルボン酸誘導体またはその塩につ
いて説明する。一般式（１）で示されるカルボン酸誘導
体またはその塩において、Ｑのフェニル基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、ＺＲ1基が挙げられ、その置換位
置および置換数は任意である。ここでＺは酸素原子また
は硫黄原子を表し、Ｒ1は水素原子、C1−C6アルキル
基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、
ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニ
ル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、
シアノC1−C6アルキル基、C2−C8（アルコキシアルキ
ル）基、C2−C8（アルキルチオアルキル）基、カルボキ
シC1−C6アルキル基、（C1−C8アルコキシ）カルボニル
C1−C6アルキル基、｛（C1−C4アルコキシ）C1−C4アル
コキシ｝カルボニルC1−C6アルキル基、（C3−C8シクロ
アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル基、または、
｛（C1−C6アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル｝オ
キシカルボニルC1−C6アルキル基が挙げられる。好まし
くは、例えば以下の一般式（６） [式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは
ハロゲン原子を表し、Ｗは水素原子またはＺＲ1基を表
わす。 ここでＺは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ1
は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル
基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アル
ケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル
基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル
基、C2−C8（アルコキシアルキル）基、C2−C8（アルキ
ルチオアルキル）基、カルボキシC1−C6アルキル基、
（C1−C8アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル基、
｛（C1−C4アルコキシ）C1−C4アルコキシ｝カルボニル
C1−C6アルキル基、（C3−C8シクロアルコキシ）カルボ
ニルC1−C6アルキル基、または、｛（C1−C6アルコキ
シ）カルボニルC1−C6アルキル｝オキシカルボニルC1−
C6アルキル基を表わす。）]で示される置換されていて
もよいフェニル基が挙げられる。
する。まず、本発明に用いられる原料化合物である一般
式（１）で示されるカルボン酸誘導体またはその塩につ
いて説明する。一般式（１）で示されるカルボン酸誘導
体またはその塩において、Ｑのフェニル基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、ＺＲ1基が挙げられ、その置換位
置および置換数は任意である。ここでＺは酸素原子また
は硫黄原子を表し、Ｒ1は水素原子、C1−C6アルキル
基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、
ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニ
ル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、
シアノC1−C6アルキル基、C2−C8（アルコキシアルキ
ル）基、C2−C8（アルキルチオアルキル）基、カルボキ
シC1−C6アルキル基、（C1−C8アルコキシ）カルボニル
C1−C6アルキル基、｛（C1−C4アルコキシ）C1−C4アル
コキシ｝カルボニルC1−C6アルキル基、（C3−C8シクロ
アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル基、または、
｛（C1−C6アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル｝オ
キシカルボニルC1−C6アルキル基が挙げられる。好まし
くは、例えば以下の一般式（６） [式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは
ハロゲン原子を表し、Ｗは水素原子またはＺＲ1基を表
わす。 ここでＺは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ1
は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル
基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アル
ケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル
基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル
基、C2−C8（アルコキシアルキル）基、C2−C8（アルキ
ルチオアルキル）基、カルボキシC1−C6アルキル基、
（C1−C8アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル基、
｛（C1−C4アルコキシ）C1−C4アルコキシ｝カルボニル
C1−C6アルキル基、（C3−C8シクロアルコキシ）カルボ
ニルC1−C6アルキル基、または、｛（C1−C6アルコキ
シ）カルボニルC1−C6アルキル｝オキシカルボニルC1−
C6アルキル基を表わす。）]で示される置換されていて
もよいフェニル基が挙げられる。
【０００５】上記で、ＸおよびＹのハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子または臭素原子等が挙げられ
る。Ｒ1のＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル
基、ｔ−アミル基等が挙げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキ
ル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル
基、２，２，２−トリフルオロエチル基等が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、
アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニ
ル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、
２−メチル−３−ブテニル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６
ハロアルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニ
ル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等が挙げら
れ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル
基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、
１，１−ジメチル−２−プロピニル基等が挙げられ、Ｃ
３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ブロモプロパ
ルギル基等が挙げられ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基と
しては、シアノメチル基等が挙げられ、（Ｃ２−Ｃ８ア
ルコキシアルキル）基としては、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基
等が挙げられ、（Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル）基
としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基等
が挙げられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基として
は、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２
−カルボキシエチル基等が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ８アル
コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メ
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソ
ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニル
メチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミ
ルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボ
ニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−
エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニ
ルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、
１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカ
ルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル
基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソア
ミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカル
ボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル
基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ
−アミルオキシカルボニルエチル基等が挙げられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメト
キシカルボニルメチル基、メトキシエトキシカルボニル
メチル基、１−メトキシエトキシカルボニルエチル基等
が挙げられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニ
ルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシ
カルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニル
メチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、
１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シク
ロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキ
シルオキシカルボニルエチル基等が挙げられ、｛（Ｃ１
−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オ
キシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メト
キシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基、（エト
キシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基等が挙げ
られる。
は、フッ素原子、塩素原子または臭素原子等が挙げられ
る。Ｒ1のＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル
基、ｔ−アミル基等が挙げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキ
ル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル
基、２，２，２−トリフルオロエチル基等が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、
アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニ
ル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、
２−メチル−３−ブテニル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６
ハロアルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニ
ル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等が挙げら
れ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル
基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、
１，１−ジメチル−２−プロピニル基等が挙げられ、Ｃ
３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ブロモプロパ
ルギル基等が挙げられ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基と
しては、シアノメチル基等が挙げられ、（Ｃ２−Ｃ８ア
ルコキシアルキル）基としては、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基
等が挙げられ、（Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル）基
としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基等
が挙げられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基として
は、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２
−カルボキシエチル基等が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ８アル
コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メ
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソ
ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニル
メチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミ
ルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボ
ニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−
エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニ
ルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、
１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカ
ルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル
基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソア
ミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカル
ボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル
基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ
−アミルオキシカルボニルエチル基等が挙げられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメト
キシカルボニルメチル基、メトキシエトキシカルボニル
メチル基、１−メトキシエトキシカルボニルエチル基等
が挙げられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニ
ルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシ
カルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニル
メチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、
１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シク
ロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキ
シルオキシカルボニルエチル基等が挙げられ、｛（Ｃ１
−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オ
キシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メト
キシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基、（エト
キシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基等が挙げ
られる。
【０００６】Ｒ2およびＲ3のＣ１−Ｃ３アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ
る。
ては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ
る。
【０００７】また、一般式（１）で示されるカルボン酸
誘導体の塩としては、上に示したカルボン酸誘導体と有
機塩基との塩が挙げられる。かかる有機塩基としては、
例えば、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−
ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、５−エチル−
２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジア
ルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−
ｎ−ブチルアミン等の第３級アミン類等が挙げられる。
誘導体の塩としては、上に示したカルボン酸誘導体と有
機塩基との塩が挙げられる。かかる有機塩基としては、
例えば、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−
ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、５−エチル−
２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジア
ルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−
ｎ−ブチルアミン等の第３級アミン類等が挙げられる。
【０００８】以下に、原料化合物である一般式（１）で
示されるカルボン酸誘導体を、具体的に例示するが、本
発明で使用できる原料化合物はこれらに限られるもので
はない。
示されるカルボン酸誘導体を、具体的に例示するが、本
発明で使用できる原料化合物はこれらに限られるもので
はない。
【０００９】一般式（１）で示されるカルボン酸誘導
体。
体。
【表１】
【００１０】次に、本発明に用いるホウ素化合物は、例
えば一般式（２） ［式中Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または相異なってヒドロキ
シ基、 C1−C6アルコキシ基、C1−C6アルキル基、フェ
ニル基（該フェニル基はハロゲン原子、C1−C4アルキル
基、C1−C3ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、カルボキシ基、 C1−C3アミド基、ホ
ルミル基、C1−C3アルキルチオ基、ジヒドロキシボリル
基、もしくはベンゼン環上がジヒドロキシボリル基で置
換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよ
い）、ナフチル基（該ナフチル基はハロゲン原子、C1−
C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロアルキル基で置換さ
れていてもよい）、チエニル基（該チエニル基はハロゲ
ン原子、もしくはC1−C4アルキル基で置換されていても
よい）、フリル基（該フリル基はハロゲン原子、もしく
はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい）、または
ベンゾフラニル基（該ベンゾフラニル基のベンゼン環は
ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロ
アルキル基で置換されていてもよい）を表し、Ｒ4とＲ5
が互いに結合して環を形成していてもよい。］で示され
るボラン類、あるいは一般式（３） （式中Ｒ4、Ｒ5は前記と同じ意味を表し、 Ｒ4とＲ5が
互いに結合して環を形成していてもよい。ｎは１以上の
整数を表わす。）で示されるホウ酸多量体、あるいは一
般式（４） （式中Ｒ4は前記と同じ意味を表わす。）で示されるボ
ロキシン誘導体のいずれかまたはそれらの混合物が挙げ
られる。
えば一般式（２） ［式中Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または相異なってヒドロキ
シ基、 C1−C6アルコキシ基、C1−C6アルキル基、フェ
ニル基（該フェニル基はハロゲン原子、C1−C4アルキル
基、C1−C3ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、カルボキシ基、 C1−C3アミド基、ホ
ルミル基、C1−C3アルキルチオ基、ジヒドロキシボリル
基、もしくはベンゼン環上がジヒドロキシボリル基で置
換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよ
い）、ナフチル基（該ナフチル基はハロゲン原子、C1−
C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロアルキル基で置換さ
れていてもよい）、チエニル基（該チエニル基はハロゲ
ン原子、もしくはC1−C4アルキル基で置換されていても
よい）、フリル基（該フリル基はハロゲン原子、もしく
はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい）、または
ベンゾフラニル基（該ベンゾフラニル基のベンゼン環は
ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロ
アルキル基で置換されていてもよい）を表し、Ｒ4とＲ5
が互いに結合して環を形成していてもよい。］で示され
るボラン類、あるいは一般式（３） （式中Ｒ4、Ｒ5は前記と同じ意味を表し、 Ｒ4とＲ5が
互いに結合して環を形成していてもよい。ｎは１以上の
整数を表わす。）で示されるホウ酸多量体、あるいは一
般式（４） （式中Ｒ4は前記と同じ意味を表わす。）で示されるボ
ロキシン誘導体のいずれかまたはそれらの混合物が挙げ
られる。
【００１１】一般式（２）、一般式（３）および（４）
におけるＲ4，Ｒ5，Ｒ6のC1−C6アルコキシ基としては
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。C1−C6アルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、 ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、 ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、 ｎ
−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
におけるＲ4，Ｒ5，Ｒ6のC1−C6アルコキシ基としては
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。C1−C6アルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、 ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、 ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、 ｎ
−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００１２】フェニル基（該フェニル基はハロゲン原
子、C1−C4アルキル基、C1−C3ハロアルキル基、C1−C3
アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシ基、 C
1−C3アミド基、ホルミル基、C1−C3アルキルチオ基、
ジヒドロキシボリル基、もしくはベンゼン環上がジヒド
ロキシボリル基で置換されていてもよいフェニル基で置
換されていてもよい）としては、フェニル基、２−フル
オロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオ
ロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェ
ニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル
基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、
２，３−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフ
ェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジ
フルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、
３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェ
ニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロ
ロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−
ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、
２，３−ジブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニ
ル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，５−ジブロモ
フェニル基、２，６−ジブロモフェニル基、３，５−ジ
ブロモフェニル基、２−クロロ−３−フルオロフェニル
基、３−クロロ−２−フルオロフェニル基、２−クロロ
−４−フルオロフェニル基、４−クロロ−２−フルオロ
フェニル基、２−クロロ−５−フルオロフェニル基、５
−クロロ−２−フルオロフェニル基、２−クロロ−６−
フルオロフェニル基、３−クロロ−４−フルオロフェニ
ル基、４−クロロ−３−フルオロフェニル基、３−クロ
ロ−５−フルオロフェニル基、２−ブロモ−３−フルオ
ロフェニル基、３−ブロモ−２−フルオロフェニル基、
２−ブロモ−４−フルオロフェニル基、４−ブロモ−２
−フルオロフェニル基、２−ブロモ−５−フルオロフェ
ニル基、５−ブロモ−２−フルオロフェニル基、２−ブ
ロモ−６−フルオロフェニル基、３−ブロモ−４−フル
オロフェニル基、４−ブロモ−３−フルオロフェニル
基、３−ブロモ−５−フルオロフェニル基、２−ブロモ
−３−クロロフェニル基、３−ブロモ−２−クロロフェ
ニル基、２−ブロモ−４−クロロフェニル基、４−ブロ
モ−２−クロロフェニル基、２−ブロモ−５−クロロフ
ェニル基、５−ブロモ−２−クロロフェニル基、２−ブ
ロモ−６−クロロフェニル基、３−ブロモ−４−クロロ
フェニル基、４−ブロモ−３−クロロフェニル基、３−
ブロモ−５−クロロフェニル基、２，３，４−トリフル
オロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル
基、２，３，４−トリクロロフェニル基、３，４，５−
トリクロロフェニル基、２，３，４−トリブロモフェニ
ル基、３，４，５−トリブロモフェニル基、２−トリル
基、３−トリル基、４−トリル基、２−エチルフェニル
基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、
２，３−キシリル基、３，４−キシリル基、２，４−キ
シリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、
３，５−キシリル基、メシチル基、２−トリフルオロメ
チルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、
４−トリフルオロメチルフェニル基、３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル基、２−アニシル基、３−
アニシル基、４−アニシル基、２−ニトロフェニル基、
３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−ア
ミノフェニル基、３−アミノフェニル基、４−アミノフ
ェニル基、２−カルボキシフェニル基、３−カルボキシ
フェニル基、４−カルボキシフェニル基、２−アセトア
ミドフェニル基、３−アセトアミドフェニル基、４−ア
セトアミドフェニル基、２−ホルミルフェニル基、３−
ホルミルフェニル基、４−ホルミルフェニル基、２−メ
チルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−
メチルチオフェニル基、２−（ジヒドロキシボリル）フ
ェニル基、３−（ジヒドロキシボリル）フェニル基、４
−（ジヒドロキシボリル）フェニル基、２−ビフェニル
基、３−ビフェニル基、４−ビフェニル基、４−（４'
−(ジヒドロキシボリル)−フェニル）−フェニル基等が
挙げられる。
子、C1−C4アルキル基、C1−C3ハロアルキル基、C1−C3
アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシ基、 C
1−C3アミド基、ホルミル基、C1−C3アルキルチオ基、
ジヒドロキシボリル基、もしくはベンゼン環上がジヒド
ロキシボリル基で置換されていてもよいフェニル基で置
換されていてもよい）としては、フェニル基、２−フル
オロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオ
ロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェ
ニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル
基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、
２，３−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフ
ェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジ
フルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、
３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェ
ニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロ
ロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−
ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、
２，３−ジブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニ
ル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，５−ジブロモ
フェニル基、２，６−ジブロモフェニル基、３，５−ジ
ブロモフェニル基、２−クロロ−３−フルオロフェニル
基、３−クロロ−２−フルオロフェニル基、２−クロロ
−４−フルオロフェニル基、４−クロロ−２−フルオロ
フェニル基、２−クロロ−５−フルオロフェニル基、５
−クロロ−２−フルオロフェニル基、２−クロロ−６−
フルオロフェニル基、３−クロロ−４−フルオロフェニ
ル基、４−クロロ−３−フルオロフェニル基、３−クロ
ロ−５−フルオロフェニル基、２−ブロモ−３−フルオ
ロフェニル基、３−ブロモ−２−フルオロフェニル基、
２−ブロモ−４−フルオロフェニル基、４−ブロモ−２
−フルオロフェニル基、２−ブロモ−５−フルオロフェ
ニル基、５−ブロモ−２−フルオロフェニル基、２−ブ
ロモ−６−フルオロフェニル基、３−ブロモ−４−フル
オロフェニル基、４−ブロモ−３−フルオロフェニル
基、３−ブロモ−５−フルオロフェニル基、２−ブロモ
−３−クロロフェニル基、３−ブロモ−２−クロロフェ
ニル基、２−ブロモ−４−クロロフェニル基、４−ブロ
モ−２−クロロフェニル基、２−ブロモ−５−クロロフ
ェニル基、５−ブロモ−２−クロロフェニル基、２−ブ
ロモ−６−クロロフェニル基、３−ブロモ−４−クロロ
フェニル基、４−ブロモ−３−クロロフェニル基、３−
ブロモ−５−クロロフェニル基、２，３，４−トリフル
オロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル
基、２，３，４−トリクロロフェニル基、３，４，５−
トリクロロフェニル基、２，３，４−トリブロモフェニ
ル基、３，４，５−トリブロモフェニル基、２−トリル
基、３−トリル基、４−トリル基、２−エチルフェニル
基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、
２，３−キシリル基、３，４−キシリル基、２，４−キ
シリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、
３，５−キシリル基、メシチル基、２−トリフルオロメ
チルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、
４−トリフルオロメチルフェニル基、３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル基、２−アニシル基、３−
アニシル基、４−アニシル基、２−ニトロフェニル基、
３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−ア
ミノフェニル基、３−アミノフェニル基、４−アミノフ
ェニル基、２−カルボキシフェニル基、３−カルボキシ
フェニル基、４−カルボキシフェニル基、２−アセトア
ミドフェニル基、３−アセトアミドフェニル基、４−ア
セトアミドフェニル基、２−ホルミルフェニル基、３−
ホルミルフェニル基、４−ホルミルフェニル基、２−メ
チルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−
メチルチオフェニル基、２−（ジヒドロキシボリル）フ
ェニル基、３−（ジヒドロキシボリル）フェニル基、４
−（ジヒドロキシボリル）フェニル基、２−ビフェニル
基、３−ビフェニル基、４−ビフェニル基、４−（４'
−(ジヒドロキシボリル)−フェニル）−フェニル基等が
挙げられる。
【００１３】ハロゲン原子、C1−C4アルキル基またはC1
−C3ハロアルキル基で置換されていてもよいナフチル基
としては、１−ナフチル基、２−ナフチル基、３−フル
オロ−１−ナフチル基、４−フルオロ−1−ナフチル
基、５−フルオロ−１−ナフチル基、６−フルオロ−１
−ナフチル基、 ３−フルオロ−２−ナフチル基、４−
フルオロ−２−ナフチル基、５−フルオロ−２−ナフチ
ル基、６−フルオロ−２−ナフチル基、３−クロロ−１
−ナフチル基、４−クロロ−1−ナフチル基、５−クロ
ロ−１−ナフチル基、６−クロロ−１−ナフチル基、
３−クロロ−２−ナフチル基、４−クロロ−２−ナフチ
ル基、５−クロロ−２−ナフチル基、６−クロロ−２−
ナフチル基、３−ブロモ−１−ナフチル基、４−ブロモ
−1−ナフチル基、５−ブロモ−１−ナフチル基、６−
ブロモ−１−ナフチル基、 ３−ブロモ−２−ナフチル
基、４−ブロモ−２−ナフチル基、５−ブロモ−２−ナ
フチル基、６−ブロモ−２−ナフチル基、３−メチル−
１−ナフチル基、４−メチル−1−ナフチル基、５−メ
チル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、
３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチ
ル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−
ナフチル基、３−トリフルオロメチル−１−ナフチル
基、４−トリフルオロメチル−1−ナフチル基、５−ト
リフルオロメチル−１−ナフチル基、６−トリフルオロ
メチル−１−ナフチル基、 ３−トリフルオロメチル−
２−ナフチル基、４−トリフルオロメチル−２−ナフチ
ル基、５−トリフルオロメチル−２−ナフチル基、６−
トリフルオロメチル−２−ナフチル基等が挙げられる。
−C3ハロアルキル基で置換されていてもよいナフチル基
としては、１−ナフチル基、２−ナフチル基、３−フル
オロ−１−ナフチル基、４−フルオロ−1−ナフチル
基、５−フルオロ−１−ナフチル基、６−フルオロ−１
−ナフチル基、 ３−フルオロ−２−ナフチル基、４−
フルオロ−２−ナフチル基、５−フルオロ−２−ナフチ
ル基、６−フルオロ−２−ナフチル基、３−クロロ−１
−ナフチル基、４−クロロ−1−ナフチル基、５−クロ
ロ−１−ナフチル基、６−クロロ−１−ナフチル基、
３−クロロ−２−ナフチル基、４−クロロ−２−ナフチ
ル基、５−クロロ−２−ナフチル基、６−クロロ−２−
ナフチル基、３−ブロモ−１−ナフチル基、４−ブロモ
−1−ナフチル基、５−ブロモ−１−ナフチル基、６−
ブロモ−１−ナフチル基、 ３−ブロモ−２−ナフチル
基、４−ブロモ−２−ナフチル基、５−ブロモ−２−ナ
フチル基、６−ブロモ−２−ナフチル基、３−メチル−
１−ナフチル基、４−メチル−1−ナフチル基、５−メ
チル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、
３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチ
ル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−
ナフチル基、３−トリフルオロメチル−１−ナフチル
基、４−トリフルオロメチル−1−ナフチル基、５−ト
リフルオロメチル−１−ナフチル基、６−トリフルオロ
メチル−１−ナフチル基、 ３−トリフルオロメチル−
２−ナフチル基、４−トリフルオロメチル−２−ナフチ
ル基、５−トリフルオロメチル−２−ナフチル基、６−
トリフルオロメチル−２−ナフチル基等が挙げられる。
【００１４】ハロゲン原子またはC1−C4アルキル基で置
換されていてもよいチエニル基としては、２−チエニル
基、３−チエニル基、３−フルオロ−２−チエニル基、
４−フルオロ−２−チエニル基、５−フルオロ−２−チ
エニル基、２−フルオロ−３−チエニル基、４−フルオ
ロ−３−チエニル基、５−フルオロ−３−チエニル基、
３−クロロ−２−チエニル基、４−クロロ−２−チエニ
ル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−クロロ−３−
チエニル基、４−クロロ−３−チエニル基、５−クロロ
−３−チエニル基、３−ブロモ−２−チエニル基、４−
ブロモ−２−チエニル基、５−ブロモ−２−チエニル
基、２−ブロモ−３−チエニル基、４−ブロモ−３−チ
エニル基、５−ブロモ−３−チエニル基、３−メチル−
２−チエニル基、４−メチル−２−チエニル基、５−メ
チル−２−チエニル基、２−メチル−３−チエニル基、
４−メチル−３−チエニル基、５−メチル−３−チエニ
ル基等が挙げられる。
換されていてもよいチエニル基としては、２−チエニル
基、３−チエニル基、３−フルオロ−２−チエニル基、
４−フルオロ−２−チエニル基、５−フルオロ−２−チ
エニル基、２−フルオロ−３−チエニル基、４−フルオ
ロ−３−チエニル基、５−フルオロ−３−チエニル基、
３−クロロ−２−チエニル基、４−クロロ−２−チエニ
ル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−クロロ−３−
チエニル基、４−クロロ−３−チエニル基、５−クロロ
−３−チエニル基、３−ブロモ−２−チエニル基、４−
ブロモ−２−チエニル基、５−ブロモ−２−チエニル
基、２−ブロモ−３−チエニル基、４−ブロモ−３−チ
エニル基、５−ブロモ−３−チエニル基、３−メチル−
２−チエニル基、４−メチル−２−チエニル基、５−メ
チル−２−チエニル基、２−メチル−３−チエニル基、
４−メチル−３−チエニル基、５−メチル−３−チエニ
ル基等が挙げられる。
【００１５】ハロゲン原子またはC1−C4アルキル基で置
換されていてもよいフリル基としては、２−フリル基、
３−フリル基、３−フルオロ−２−フリル基、４−フル
オロ−２−フリル基、５−フルオロ−２−フリル基、２
−フルオロ−３−フリル基、４−フルオロ−３−フリル
基、５−フルオロ−３−フリル基、３−クロロ−２−フ
リル基、４−クロロ−２−フリル基、５−クロロ−２−
フリル基、２−クロロ−３−フリル基、４−クロロ−３
−フリル基、５−クロロ−３−フリル基、３−ブロモ−
２−フリル基、４−ブロモ−２−フリル基、５−ブロモ
−２−フリル基、２−ブロモ−３−フリル基、４−ブロ
モ−３−フリル基、５−ブロモ−３−フリル基、３−メ
チル−２−フリル基、４−メチル−２−フリル基、５−
メチル−２−フリル基、２−メチル−３−フリル基、４
−メチル−３−フリル基、５−メチル−３−フリル基等
が挙げられる。
換されていてもよいフリル基としては、２−フリル基、
３−フリル基、３−フルオロ−２−フリル基、４−フル
オロ−２−フリル基、５−フルオロ−２−フリル基、２
−フルオロ−３−フリル基、４−フルオロ−３−フリル
基、５−フルオロ−３−フリル基、３−クロロ−２−フ
リル基、４−クロロ−２−フリル基、５−クロロ−２−
フリル基、２−クロロ−３−フリル基、４−クロロ−３
−フリル基、５−クロロ−３−フリル基、３−ブロモ−
２−フリル基、４−ブロモ−２−フリル基、５−ブロモ
−２−フリル基、２−ブロモ−３−フリル基、４−ブロ
モ−３−フリル基、５−ブロモ−３−フリル基、３−メ
チル−２−フリル基、４−メチル−２−フリル基、５−
メチル−２−フリル基、２−メチル−３−フリル基、４
−メチル−３−フリル基、５−メチル−３−フリル基等
が挙げられる。
【００１６】ベンゼン環上がハロゲン原子、C1−C4アル
キル基またはC1−C3ハロアルキル基で置換されていても
よいベンゾフラニル基としては、２−ベンゾフラニル
基、３−ベンゾフラニル基、４−フルオロ−２−ベンゾ
フラニル基、５−フルオロ−２−ベンゾフラニル基、６
−フルオロ−２−ベンゾフラニル基、７−フルオロ−２
−ベンゾフラニル基、４−フルオロ−３−ベンゾフラニ
ル基、５−フルオロ−３−ベンゾフラニル基、６−フル
オロ−３−ベンゾフラニル基、７−フルオロ−３−ベン
ゾフラニル基、４−クロロ−２−ベンゾフラニル基、５
−クロロ−２−ベンゾフラニル基、６−クロロ−２−ベ
ンゾフラニル基、７−クロロ−２−ベンゾフラニル基、
４−クロロ−３−ベンゾフラニル基、５−クロロ−３−
ベンゾフラニル基、６−クロロ−３−ベンゾフラニル
基、７−クロロ−３−ベンゾフラニル基、４−ブロモ−
２−ベンゾフラニル基、５−ブロモ−２−ベンゾフラニ
ル基、６−ブロモ−２−ベンゾフラニル基、７−ブロモ
−２−ベンゾフラニル基、４−ブロモ−３−ベンゾフラ
ニル基、５−ブロモ−３−ベンゾフラニル基、６−ブロ
モ−３−ベンゾフラニル基、７−ブロモ−３−ベンゾフ
ラニル基、４−メチル−２−ベンゾフラニル基、５−メ
チル−２−ベンゾフラニル基、６−メチル−２−ベンゾ
フラニル基、７−メチル−２−ベンゾフラニル基、４−
メチル−３−ベンゾフラニル基、５−メチル−３−ベン
ゾフラニル基、６−メチル−３−ベンゾフラニル基、７
−メチル−３−ベンゾフラニル基、４−トリフルオロメ
チル−２−ベンゾフラニル基、５−トリフルオロメチル
−２−ベンゾフラニル基、６−トリフルオロメチル−２
−ベンゾフラニル基、７−トリフルオロメチル−２−ベ
ンゾフラニル基、４−トリフルオロメチル−３−ベンゾ
フラニル基、５−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラ
ニル基、６−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラニル
基、７−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラニル基等
が挙げられる。
キル基またはC1−C3ハロアルキル基で置換されていても
よいベンゾフラニル基としては、２−ベンゾフラニル
基、３−ベンゾフラニル基、４−フルオロ−２−ベンゾ
フラニル基、５−フルオロ−２−ベンゾフラニル基、６
−フルオロ−２−ベンゾフラニル基、７−フルオロ−２
−ベンゾフラニル基、４−フルオロ−３−ベンゾフラニ
ル基、５−フルオロ−３−ベンゾフラニル基、６−フル
オロ−３−ベンゾフラニル基、７−フルオロ−３−ベン
ゾフラニル基、４−クロロ−２−ベンゾフラニル基、５
−クロロ−２−ベンゾフラニル基、６−クロロ−２−ベ
ンゾフラニル基、７−クロロ−２−ベンゾフラニル基、
４−クロロ−３−ベンゾフラニル基、５−クロロ−３−
ベンゾフラニル基、６−クロロ−３−ベンゾフラニル
基、７−クロロ−３−ベンゾフラニル基、４−ブロモ−
２−ベンゾフラニル基、５−ブロモ−２−ベンゾフラニ
ル基、６−ブロモ−２−ベンゾフラニル基、７−ブロモ
−２−ベンゾフラニル基、４−ブロモ−３−ベンゾフラ
ニル基、５−ブロモ−３−ベンゾフラニル基、６−ブロ
モ−３−ベンゾフラニル基、７−ブロモ−３−ベンゾフ
ラニル基、４−メチル−２−ベンゾフラニル基、５−メ
チル−２−ベンゾフラニル基、６−メチル−２−ベンゾ
フラニル基、７−メチル−２−ベンゾフラニル基、４−
メチル−３−ベンゾフラニル基、５−メチル−３−ベン
ゾフラニル基、６−メチル−３−ベンゾフラニル基、７
−メチル−３−ベンゾフラニル基、４−トリフルオロメ
チル−２−ベンゾフラニル基、５−トリフルオロメチル
−２−ベンゾフラニル基、６−トリフルオロメチル−２
−ベンゾフラニル基、７−トリフルオロメチル−２−ベ
ンゾフラニル基、４−トリフルオロメチル−３−ベンゾ
フラニル基、５−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラ
ニル基、６−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラニル
基、７−トリフルオロメチル−３−ベンゾフラニル基等
が挙げられる。
【００１７】Ｒ4，Ｒ5が互いに結合して環を形成してい
てもよい場合のＲ4，Ｒ5としては１，４−テトラメチレ
ン基、１，５−ペンタメチレン基、１，２−エチレンジ
オキシ基、１，２−（１，１，２，２−テトラメチル）
エチレンジオキシ基、１，３−テトラメチレンジオキシ
基、１，２−フェニレンジオキシ基等が挙げられる。
てもよい場合のＲ4，Ｒ5としては１，４−テトラメチレ
ン基、１，５−ペンタメチレン基、１，２−エチレンジ
オキシ基、１，２−（１，１，２，２−テトラメチル）
エチレンジオキシ基、１，３−テトラメチレンジオキシ
基、１，２−フェニレンジオキシ基等が挙げられる。
【００１８】一般式（２）で示されるボラン類の具体例
としては、例えばメチルホウ酸、エチルホウ酸、ｉ−プ
ロピルホウ酸、ｎ−ブチルホウ酸、ｎ−ペンチルホウ
酸、シクロペンチルホウ酸、ｎ−ヘキシルホウ酸、シク
ロヘキシルホウ酸、フェニルホウ酸、２−フルオロフェ
ニルホウ酸、３−フルオロフェニルホウ酸、４−フルオ
ロフェニルホウ酸、２−クロロフェニルホウ酸、３−ク
ロロフェニルホウ酸、４−クロロフェニルホウ酸、２−
ブロモフェニルホウ酸、３−ブロモフェニルホウ酸、４
−ブロモフェニルホウ酸、３，５−ジフルオロフェニル
ホウ酸、２，３−ジクロロフェニルホウ酸、３，４−ジ
クロロフェニルホウ酸、２，４−ジクロロフェニルホウ
酸、３，５−ジクロロフェニルホウ酸、３，５−ジブロ
モフェニルホウ酸、３−クロロ−４−フルオロフェニル
ホウ酸、３，４，５−トリフルオロフェニルホウ酸、
３，４，５−トリクロロフェニルホウ酸、３，４，５−
トリブロモフェニルホウ酸、２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニルホウ酸、２−トリルホウ酸、３−ト
リルホウ酸、４−トリルホウ酸、４−エチルフェニルホ
ウ酸、３，４−キシリルホウ酸、メシチルホウ酸、２−
トリフルオロメチルフェニルホウ酸、３−トリフルオロ
メチルフェニルホウ酸、４−トリフルオロメチルフェニ
ルホウ酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルホウ酸、２−アニシルホウ酸、３−アニシルホウ酸、
４−アニシルホウ酸、３−ニトロフェニルホウ酸、４−
ニトロフェニルホウ酸、３−アミノフェニルホウ酸、２
−カルボキシフェニルホウ酸、４−カルボキシフェニル
ホウ酸、３−アセトアミドフェニルホウ酸、２−ホルミ
ルフェニルホウ酸、３−ホルミルフェニルホウ酸、４−
ホルミルフェニルホウ酸、２−メチルチオフェニルホウ
酸、４−メチルチオフェニルホウ酸、４−ビフェニルホ
ウ酸、１，２−フェニレンジホウ酸、１，３−フェニレ
ンジホウ酸、１，４−フェニレンジホウ酸、４，４'−
ビフェニレンジホウ酸、１−ナフチルホウ酸、２−ナフ
チルホウ酸、２−チエニルホウ酸、３−チエニルホウ
酸、５−クロロ−２−チエニルホウ酸、２−フリルホウ
酸、３−フリルホウ酸、２−ベンゾフラニルホウ酸、３
−ベンゾフラニルホウ酸等のホウ酸誘導体が挙げられ、
としては、例えばメチルホウ酸、エチルホウ酸、ｉ−プ
ロピルホウ酸、ｎ−ブチルホウ酸、ｎ−ペンチルホウ
酸、シクロペンチルホウ酸、ｎ−ヘキシルホウ酸、シク
ロヘキシルホウ酸、フェニルホウ酸、２−フルオロフェ
ニルホウ酸、３−フルオロフェニルホウ酸、４−フルオ
ロフェニルホウ酸、２−クロロフェニルホウ酸、３−ク
ロロフェニルホウ酸、４−クロロフェニルホウ酸、２−
ブロモフェニルホウ酸、３−ブロモフェニルホウ酸、４
−ブロモフェニルホウ酸、３，５−ジフルオロフェニル
ホウ酸、２，３−ジクロロフェニルホウ酸、３，４−ジ
クロロフェニルホウ酸、２，４−ジクロロフェニルホウ
酸、３，５−ジクロロフェニルホウ酸、３，５−ジブロ
モフェニルホウ酸、３−クロロ−４−フルオロフェニル
ホウ酸、３，４，５−トリフルオロフェニルホウ酸、
３，４，５−トリクロロフェニルホウ酸、３，４，５−
トリブロモフェニルホウ酸、２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニルホウ酸、２−トリルホウ酸、３−ト
リルホウ酸、４−トリルホウ酸、４−エチルフェニルホ
ウ酸、３，４−キシリルホウ酸、メシチルホウ酸、２−
トリフルオロメチルフェニルホウ酸、３−トリフルオロ
メチルフェニルホウ酸、４−トリフルオロメチルフェニ
ルホウ酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルホウ酸、２−アニシルホウ酸、３−アニシルホウ酸、
４−アニシルホウ酸、３−ニトロフェニルホウ酸、４−
ニトロフェニルホウ酸、３−アミノフェニルホウ酸、２
−カルボキシフェニルホウ酸、４−カルボキシフェニル
ホウ酸、３−アセトアミドフェニルホウ酸、２−ホルミ
ルフェニルホウ酸、３−ホルミルフェニルホウ酸、４−
ホルミルフェニルホウ酸、２−メチルチオフェニルホウ
酸、４−メチルチオフェニルホウ酸、４−ビフェニルホ
ウ酸、１，２−フェニレンジホウ酸、１，３−フェニレ
ンジホウ酸、１，４−フェニレンジホウ酸、４，４'−
ビフェニレンジホウ酸、１−ナフチルホウ酸、２−ナフ
チルホウ酸、２−チエニルホウ酸、３−チエニルホウ
酸、５−クロロ−２−チエニルホウ酸、２−フリルホウ
酸、３−フリルホウ酸、２−ベンゾフラニルホウ酸、３
−ベンゾフラニルホウ酸等のホウ酸誘導体が挙げられ、
【００１９】ジメチルボリン酸、ジエチルボリン酸、ジ
フェニルボリン酸、ビス（３，４，５−トリフルオロフ
ェニル）ボリン酸、ビス（２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロフェニル）ボリン酸、ビス(４−メチルフェニ
ル) ボリン酸、ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボリン酸等のボリン酸誘導体が挙げら
れ、
フェニルボリン酸、ビス（３，４，５−トリフルオロフ
ェニル）ボリン酸、ビス（２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロフェニル）ボリン酸、ビス(４−メチルフェニ
ル) ボリン酸、ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボリン酸等のボリン酸誘導体が挙げら
れ、
【００２０】トリメチルボラン、トリエチルボラン、ト
リフェニルボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロ
フェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニル）ボラン、トリス(４−メチルフェ
ニル)ボラン、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボラン、トリス（３−ニトロフェニ
ル）ボラン、
リフェニルボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロ
フェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニル）ボラン、トリス(４−メチルフェ
ニル)ボラン、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボラン、トリス（３−ニトロフェニ
ル）ボラン、
【００２１】ジメトキシフェニルボラン、２-フェニル
−１，３，２−ジオキサボロラン、２−フェニル―４，
４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロ
ラン、ジメトキシ−(４−メチルフェニル)ボラン、２-
(４−メチル)フェニル−１，３，２−ジオキサボロラ
ン、２-(４−メチル)フェニル−４，４，５，５−テト
ラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン、ジメトキシ
−(３，４，５−トリフルオロフェニル)ボラン、２-
(３，４，５−トリフルオロ)フェニル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、２−(３，４，５−トリフルオロ)フェ
ニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、ジメトキシ−(２，３，４，５，６−
ペンタフルオロフェニル)ボラン、２-(２，３，４，
５，６−ペンタフルオロ)フェニル−１，３，２−ジオ
キサボロラン、２−(２，３，４，５，６−ペンタフル
オロ)フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，
３，２−ジオキサボロラン、ジメトキシ−(３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル)ボラン、２-(３，５−
ビストリフルオロメチル)フェニル−１，３，２−ジオ
キサボロラン、２−(３，５−ビストリフルオロメチル)
フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２
−ジオキサボロラン、ジメトキシ−(３−ニトロフェニ
ル)ボラン、２-(３−ニトロ)フェニル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、２−(３−ニトロ)フェニル−４，４，
５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン
等が挙げられる。
−１，３，２−ジオキサボロラン、２−フェニル―４，
４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロ
ラン、ジメトキシ−(４−メチルフェニル)ボラン、２-
(４−メチル)フェニル−１，３，２−ジオキサボロラ
ン、２-(４−メチル)フェニル−４，４，５，５−テト
ラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン、ジメトキシ
−(３，４，５−トリフルオロフェニル)ボラン、２-
(３，４，５−トリフルオロ)フェニル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、２−(３，４，５−トリフルオロ)フェ
ニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、ジメトキシ−(２，３，４，５，６−
ペンタフルオロフェニル)ボラン、２-(２，３，４，
５，６−ペンタフルオロ)フェニル−１，３，２−ジオ
キサボロラン、２−(２，３，４，５，６−ペンタフル
オロ)フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，
３，２−ジオキサボロラン、ジメトキシ−(３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル)ボラン、２-(３，５−
ビストリフルオロメチル)フェニル−１，３，２−ジオ
キサボロラン、２−(３，５−ビストリフルオロメチル)
フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２
−ジオキサボロラン、ジメトキシ−(３−ニトロフェニ
ル)ボラン、２-(３−ニトロ)フェニル−１，３，２−ジ
オキサボロラン、２−(３−ニトロ)フェニル−４，４，
５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン
等が挙げられる。
【００２２】一般式（３）で示されるホウ酸多量体にお
いてｎは１以上の整数であるが、通常、1〜５程度の整
数である。ホウ酸多量体（３）の具体例としては、例え
ば上記一般式（２）で示されるボラン類のうち、ホウ酸
誘導体もしくはボリン酸誘導体の無水物が挙げられる。
いてｎは１以上の整数であるが、通常、1〜５程度の整
数である。ホウ酸多量体（３）の具体例としては、例え
ば上記一般式（２）で示されるボラン類のうち、ホウ酸
誘導体もしくはボリン酸誘導体の無水物が挙げられる。
【００２３】一般式（４）で示されるボロキシン誘導体
の具体例としては、例えばトリメチルボロキシン、トリ
エチルボロキシン、トリフェニルボロキシン、トリス
（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボロキシン、ト
リス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）
ボロキシン、トリス(４−メチルフェニル) ボロキシ
ン、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボロキシン、トリス（３−ニトロフェニル）ボロ
キシン等が挙げられる。
の具体例としては、例えばトリメチルボロキシン、トリ
エチルボロキシン、トリフェニルボロキシン、トリス
（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボロキシン、ト
リス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）
ボロキシン、トリス(４−メチルフェニル) ボロキシ
ン、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボロキシン、トリス（３−ニトロフェニル）ボロ
キシン等が挙げられる。
【００２４】ボラン類（２）、ホウ酸多量体（３）、ま
たはボロキシン誘導体（４）の好ましいものとしては、
例えば、メチルホウ酸、ｎ−ブチルホウ酸、フェニルホ
ウ酸、３−フルオロフェニルホウ酸、４−フルオロフェ
ニルホウ酸、４−クロロフェニルホウ酸、４−ブロモフ
ェニルホウ酸、３，５−ジクロロフェニルホウ酸、３−
クロロ−４−フルオロフェニルホウ酸、４−トリルホウ
酸、３−トリフルオロメチルフェニルホウ酸、４−トリ
フルオロメチルフェニルホウ酸、３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニルホウ酸、３−アニシルホウ酸、
３−ニトロフェニルホウ酸、４−カルボキシフェニルホ
ウ酸、３−アセトアミドフェニルホウ酸、３−ホルミル
フェニルホウ酸、４−ホルミルフェニルホウ酸、４−メ
チルチオフェニルホウ酸、２−ナフチルホウ酸、１，４
−フェニレンジホウ酸、ジフェニルボリン酸、ビス（４
−メチルフェニル）ボリン酸、およびそれらの多量体
（無水物）、トリフェニルボラン、トリス(４−メチル
フェニル)ボラン、トリフェニルボロキシン、トリス
（４−メチルフェニル）ボロキシン等が挙げられる。ま
た、特に好ましくは、フェニルホウ酸、４−トリルホウ
酸、およびそれらの無水物、トリフェニルボロキシン、
トリス(４−メチル)フェニルボロキシンが挙げられる。
たはボロキシン誘導体（４）の好ましいものとしては、
例えば、メチルホウ酸、ｎ−ブチルホウ酸、フェニルホ
ウ酸、３−フルオロフェニルホウ酸、４−フルオロフェ
ニルホウ酸、４−クロロフェニルホウ酸、４−ブロモフ
ェニルホウ酸、３，５−ジクロロフェニルホウ酸、３−
クロロ−４−フルオロフェニルホウ酸、４−トリルホウ
酸、３−トリフルオロメチルフェニルホウ酸、４−トリ
フルオロメチルフェニルホウ酸、３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニルホウ酸、３−アニシルホウ酸、
３−ニトロフェニルホウ酸、４−カルボキシフェニルホ
ウ酸、３−アセトアミドフェニルホウ酸、３−ホルミル
フェニルホウ酸、４−ホルミルフェニルホウ酸、４−メ
チルチオフェニルホウ酸、２−ナフチルホウ酸、１，４
−フェニレンジホウ酸、ジフェニルボリン酸、ビス（４
−メチルフェニル）ボリン酸、およびそれらの多量体
（無水物）、トリフェニルボラン、トリス(４−メチル
フェニル)ボラン、トリフェニルボロキシン、トリス
（４−メチルフェニル）ボロキシン等が挙げられる。ま
た、特に好ましくは、フェニルホウ酸、４−トリルホウ
酸、およびそれらの無水物、トリフェニルボロキシン、
トリス(４−メチル)フェニルボロキシンが挙げられる。
【００２５】なお、一般式（２）で示されるボラン類の
うち、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6のうち一つがヒドロキシ基である
ようなボリン酸誘導体、もしくは二つがヒドロキシ基で
あるホウ酸誘導体においては、一般式（３）もしくは一
般式（４）で示されるような多量体（無水物）を形成す
ることもあるが、本発明においては単量体、多量体、ま
たはそれらの混合物のいずれも使用することができる。
うち、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6のうち一つがヒドロキシ基である
ようなボリン酸誘導体、もしくは二つがヒドロキシ基で
あるホウ酸誘導体においては、一般式（３）もしくは一
般式（４）で示されるような多量体（無水物）を形成す
ることもあるが、本発明においては単量体、多量体、ま
たはそれらの混合物のいずれも使用することができる。
【００２６】次に、本発明に用いることができる含窒素
芳香族化合物について説明する。本発明に用いることが
できる含窒素芳香族化合物としては、例えばピリジン、
キノリン、イソキノリン、４−ジメチルアミノピリジ
ン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，
３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、
２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジ
ン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリ
ジン、５−エチル−２−メチルピリジン等が挙げられ
る。好ましいものとしては、２−ピコリン、２，３−ル
チジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６
−ルチジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エ
チル−２−メチルピリジン等のアルキル基で置換された
ピリジン類が挙げられ、その中でも特に５−エチル−２
−メチルピリジンが好ましい。
芳香族化合物について説明する。本発明に用いることが
できる含窒素芳香族化合物としては、例えばピリジン、
キノリン、イソキノリン、４−ジメチルアミノピリジ
ン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，
３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、
２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジ
ン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリ
ジン、５−エチル−２−メチルピリジン等が挙げられ
る。好ましいものとしては、２−ピコリン、２，３−ル
チジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６
−ルチジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エ
チル−２−メチルピリジン等のアルキル基で置換された
ピリジン類が挙げられ、その中でも特に５−エチル−２
−メチルピリジンが好ましい。
【００２７】本発明で用いることができるホウ素化合物
と含窒素芳香族化合物の組み合わせとしては、上記に例
示した化合物の組み合わせが挙げられるが、この中でも
フェニルホウ酸と５−エチル−２−メチルピリジンの組
み合わせ、４−トリルホウ酸と５−エチル−２−メチル
ピリジンの組み合わせ、トリフェニルボロキシンと５−
エチル−２−メチルピリジンの組み合わせ、トリス（４
−メチルフェニル）ボロキシンと５−エチル−２−メチ
ルピリジンの組み合わせが総合的に特に好ましい。
と含窒素芳香族化合物の組み合わせとしては、上記に例
示した化合物の組み合わせが挙げられるが、この中でも
フェニルホウ酸と５−エチル−２−メチルピリジンの組
み合わせ、４−トリルホウ酸と５−エチル−２−メチル
ピリジンの組み合わせ、トリフェニルボロキシンと５−
エチル−２−メチルピリジンの組み合わせ、トリス（４
−メチルフェニル）ボロキシンと５−エチル−２−メチ
ルピリジンの組み合わせが総合的に特に好ましい。
【００２８】本発明は、通常溶媒中で行われ、反応温度
の範囲は通常５０〜２５０℃程度、好ましくは１００〜
２００℃程度である。反応時間の範囲は、瞬時〜４８時
間程度、好ましくは１〜２４時間程度である。反応に用
いられる溶媒としては、ヘプタン、オクタン、リグロイ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素
類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル
類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド
類、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エ
チレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のアルコ−
ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
の範囲は通常５０〜２５０℃程度、好ましくは１００〜
２００℃程度である。反応時間の範囲は、瞬時〜４８時
間程度、好ましくは１〜２４時間程度である。反応に用
いられる溶媒としては、ヘプタン、オクタン、リグロイ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素
類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル
類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド
類、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エ
チレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のアルコ−
ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
【００２９】用いられる含窒素芳香族化合物の量は、一
般式 （１）で示されるカルボン酸誘導体１モルに対し
て通常、０．０１モル〜溶媒量であり、好ましくは０．
１〜２０モル程度である。ホウ素化合物の使用量は、ホ
ウ素換算で一般式（１）で示されるカルボン酸誘導体ま
たはその塩１モルに対し、通常０．０００１〜５モル程
度、好ましくは０．００１〜３モル程度である。なお、
一般式（１）で示されるカルボン酸誘導体は国際特許公
開ＷＯ９８／１７６３２号公報記載の公知化合物である
か、または該公報に記載の方法に準じる方法で製造する
ことができる。また、一般式（１）で示されるカルボン
酸誘導体またはその塩には、二重結合に由来する幾可異
性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオ
マーが存在するが、本発明には、いずれの異性体、また
はその混合物も用いることができる。
般式 （１）で示されるカルボン酸誘導体１モルに対し
て通常、０．０１モル〜溶媒量であり、好ましくは０．
１〜２０モル程度である。ホウ素化合物の使用量は、ホ
ウ素換算で一般式（１）で示されるカルボン酸誘導体ま
たはその塩１モルに対し、通常０．０００１〜５モル程
度、好ましくは０．００１〜３モル程度である。なお、
一般式（１）で示されるカルボン酸誘導体は国際特許公
開ＷＯ９８／１７６３２号公報記載の公知化合物である
か、または該公報に記載の方法に準じる方法で製造する
ことができる。また、一般式（１）で示されるカルボン
酸誘導体またはその塩には、二重結合に由来する幾可異
性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオ
マーが存在するが、本発明には、いずれの異性体、また
はその混合物も用いることができる。
【００３０】本発明において、原料、溶媒等は一括に仕
込んでもよいが、一般式（１）で示されるカルボン酸誘
導体、含窒素芳香族化合物等を数回に分けて仕込んで反
応を行うこともできる。
込んでもよいが、一般式（１）で示されるカルボン酸誘
導体、含窒素芳香族化合物等を数回に分けて仕込んで反
応を行うこともできる。
【００３１】反応終了後の反応液は、そのまま濃縮操作
に付すか、反応液を塩酸、硫酸等の鉱酸の水溶液で洗浄
した後、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行
ない、必要ならば再結晶、カラムクロマトグラフィー等
の操作によって精製することにより、一般式（５）で示
されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができ
る。
に付すか、反応液を塩酸、硫酸等の鉱酸の水溶液で洗浄
した後、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行
ない、必要ならば再結晶、カラムクロマトグラフィー等
の操作によって精製することにより、一般式（５）で示
されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができ
る。
【００３２】また、本発明においては共沸脱水または／
および乾燥剤を存在下に反応を行うこともできる。この
場合の乾燥剤としては、モレキュラーシーブ等のゼオラ
イト類、シリカゲル、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸銅等が挙げられ、好ましくは
モレキュラーシーブ等のゼオライト類、さらに好ましく
はモレキュラーシーブ３Ａが挙げられる。なお、固体の
乾燥剤を添加した場合は濾過によりこれを除いた後、上
記の後処理操作を行うことにより、一般式（５）で示さ
れるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
および乾燥剤を存在下に反応を行うこともできる。この
場合の乾燥剤としては、モレキュラーシーブ等のゼオラ
イト類、シリカゲル、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸銅等が挙げられ、好ましくは
モレキュラーシーブ等のゼオライト類、さらに好ましく
はモレキュラーシーブ３Ａが挙げられる。なお、固体の
乾燥剤を添加した場合は濾過によりこれを除いた後、上
記の後処理操作を行うことにより、一般式（５）で示さ
れるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
【００３３】一般式（５）で示されるピリダジン−３−
オン誘導体の具体例を以下の表２に示すが、本発明によ
り製造できるピリダジン−３−オン誘導体はこれらに限
定されるものではない。
オン誘導体の具体例を以下の表２に示すが、本発明によ
り製造できるピリダジン−３−オン誘導体はこれらに限
定されるものではない。
【００３４】一般式（５）で示されるピリダジン−３−
オン誘導体化合物
オン誘導体化合物
【表２】
【００３５】
【発明の効果】本発明により、例えば優れた除草活性を
有するピリダジン−３−オン誘導体を純度、収率よく製
造することができる。
有するピリダジン−３−オン誘導体を純度、収率よく製
造することができる。
【００３６】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。 （実施例１）３−カルボキシル−２−トリフルオロメチ
ル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロ
ロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾ
ン）（化合物１−２）５．６２ｇ、フェニルホウ酸０．
３８ｇ、モレキュラーシーブ４Ａ（粉末品）２．７０
ｇ、トルエン１６．１４ｇ、５−エチル−２−メチルピ
リジン２．８２ｇを仕込み、１１０から１１５℃で１０
時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、メタノール１
０．０ｇを加え、上澄み液をＬＣによる内部標準法にて
分析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５
−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオ
ロメチルピリダジン−３−オン（化合物３−２）の収率
は９１．２％であった。（内部標準法；あらかじめ単離
した目的物とピーク面積の基準となる標準物質の組成を
変えた溶液を調整し、液体クロマトグラフィー分析によ
る検出強度を測定し、目的物と標準物質との重量比とピ
ーク面積比から検量線を作成しておく。続いて、反応終
了後の反応液の一定量に、標準物質を一定量正確に添加
して、液体クロマトグラフィー分析を行い、得られた目
的物のピークと標準物質のピークとの面積比から、検量
線を用いて反応液中の目的物の濃度を算出する方法をい
う。なお、標準物質としてはエトキシベンゼンを用い
た。以下同じ）
く説明するが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。 （実施例１）３−カルボキシル−２−トリフルオロメチ
ル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロ
ロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾ
ン）（化合物１−２）５．６２ｇ、フェニルホウ酸０．
３８ｇ、モレキュラーシーブ４Ａ（粉末品）２．７０
ｇ、トルエン１６．１４ｇ、５−エチル−２−メチルピ
リジン２．８２ｇを仕込み、１１０から１１５℃で１０
時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、メタノール１
０．０ｇを加え、上澄み液をＬＣによる内部標準法にて
分析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５
−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオ
ロメチルピリダジン−３−オン（化合物３−２）の収率
は９１．２％であった。（内部標準法；あらかじめ単離
した目的物とピーク面積の基準となる標準物質の組成を
変えた溶液を調整し、液体クロマトグラフィー分析によ
る検出強度を測定し、目的物と標準物質との重量比とピ
ーク面積比から検量線を作成しておく。続いて、反応終
了後の反応液の一定量に、標準物質を一定量正確に添加
して、液体クロマトグラフィー分析を行い、得られた目
的物のピークと標準物質のピークとの面積比から、検量
線を用いて反応液中の目的物の濃度を算出する方法をい
う。なお、標準物質としてはエトキシベンゼンを用い
た。以下同じ）
【００３７】（実施例２〜２１）実施例１において、フ
ェニルホウ酸０．３８ｇの代わりに、以下の（表３）に
示すホウ酸化合物を使用した以外は実施例１と同様に操
作した。反応マスの上澄み液を内部標準法にて分析した
ところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチル
ピリダジン−３−オンの収率は、（表３）に示す通りで
あった。
ェニルホウ酸０．３８ｇの代わりに、以下の（表３）に
示すホウ酸化合物を使用した以外は実施例１と同様に操
作した。反応マスの上澄み液を内部標準法にて分析した
ところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチル
ピリダジン−３−オンの収率は、（表３）に示す通りで
あった。
【表３】
【００３８】（実施例２２）実施例１１において、３−
ニトロフェニルホウ酸を０．７５ｇ、５−エチル−２−
メチルピリジンを３．７６ｇ用いた以外は実施例１１と
同様に操作した。反応マスの上澄み液を内部標準法にて
分析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５
−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオ
ロメチルピリダジン−３−オンの収率は９１．６％であ
った。
ニトロフェニルホウ酸を０．７５ｇ、５−エチル−２−
メチルピリジンを３．７６ｇ用いた以外は実施例１１と
同様に操作した。反応マスの上澄み液を内部標準法にて
分析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５
−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオ
ロメチルピリダジン−３−オンの収率は９１．６％であ
った。
【００３９】（実施例２３）３−カルボキシル−２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）９．４３ｇ、フェニルホウ酸０．３１
ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）８．９７ｇ、ト
ルエン４４．７２ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン
４．６９ｇを仕込み、１１４℃で７時間攪拌した。反応
マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュラーシーブ
を除去し、得られたろ液を液体クロマトグラフィーによ
る内部標準法にて分析したところ、２−（２−フルオロ
−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル
−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オンの収率
は９３．５％であった。
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）９．４３ｇ、フェニルホウ酸０．３１
ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）８．９７ｇ、ト
ルエン４４．７２ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン
４．６９ｇを仕込み、１１４℃で７時間攪拌した。反応
マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュラーシーブ
を除去し、得られたろ液を液体クロマトグラフィーによ
る内部標準法にて分析したところ、２−（２−フルオロ
−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル
−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オンの収率
は９３．５％であった。
【００４０】（実施例２４）実施例２３において、フェ
ニルホウ酸を０．６１ｇ、５−エチル−２−メチルピリ
ジンを１８．８３ｇを用いた以外は、実施例２３と同様
に操作し、得られたろ液をＬＣによる内部標準法にて分
析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−
ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オンの収率は９８．２％であっ
た。
ニルホウ酸を０．６１ｇ、５−エチル−２−メチルピリ
ジンを１８．８３ｇを用いた以外は、実施例２３と同様
に操作し、得られたろ液をＬＣによる内部標準法にて分
析したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−
ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オンの収率は９８．２％であっ
た。
【００４１】（実施例２５）３−カルボキシル−２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）４．６２ｇ、フェニルホウ酸０．５５
ｇ、モレキュラーシーブ４Ａ（粉末品）８．０９ｇ、ト
ルエン８０．６９ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン
２．８３ｇを仕込み、１０９から１１２℃に加熱した。
３時間後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル
−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ
−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）
４．６１ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン１．８４
ｇを仕込んだ。さらに３時間後、３−カルボキシル−２
−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナー
ル−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシ
フェニルヒドラゾン）４．５９ｇ、５−エチル−２−メ
チルピリジン１．８８ｇを仕込んだ。さらに３時間後、
３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル−２−ヒド
ロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ−２−フル
オロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）４．６１
ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン１．８５ｇを仕込
み、同じ温度で１１時間加熱した。反応マスを室温まで
冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを除去し、得ら
れたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析したところ、
２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジ
ン−３−オンの収率は８８．０％であった。
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）４．６２ｇ、フェニルホウ酸０．５５
ｇ、モレキュラーシーブ４Ａ（粉末品）８．０９ｇ、ト
ルエン８０．６９ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン
２．８３ｇを仕込み、１０９から１１２℃に加熱した。
３時間後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル
−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ
−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）
４．６１ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン１．８４
ｇを仕込んだ。さらに３時間後、３−カルボキシル−２
−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナー
ル−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシ
フェニルヒドラゾン）４．５９ｇ、５−エチル−２−メ
チルピリジン１．８８ｇを仕込んだ。さらに３時間後、
３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル−２−ヒド
ロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ−２−フル
オロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）４．６１
ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン１．８５ｇを仕込
み、同じ温度で１１時間加熱した。反応マスを室温まで
冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを除去し、得ら
れたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析したところ、
２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジ
ン−３−オンの収率は８８．０％であった。
【００４２】（実施例２６）実施例２５において、共沸
脱水しながら反応を行う以外は、実施例２５と同様に操
作した。得られたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析
したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
チルピリダジン−３−オンの収率は９２．１％であっ
た。
脱水しながら反応を行う以外は、実施例２５と同様に操
作した。得られたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析
したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
チルピリダジン−３−オンの収率は９２．１％であっ
た。
【００４３】（実施例２７）実施例２６において、トル
エンの代わりにモノクロロベンゼン８０．７６ｇ用いる
以外は、実施例２６と同様に操作した。得られたろ液を
ＬＣによる内部標準法にて分析したところ、２−（２−
フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４
−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オ
ンの収率は９３．７％であった。
エンの代わりにモノクロロベンゼン８０．７６ｇ用いる
以外は、実施例２６と同様に操作した。得られたろ液を
ＬＣによる内部標準法にて分析したところ、２−（２−
フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４
−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オ
ンの収率は９３．７％であった。
【００４４】（実施例２８）３−カルボキシル−２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）５．６５ｇ、フェニルホウ酸０．７３
ｇ、モレキュラーシーブ3Ａ（粉末品）２１．５２ｇ、
トルエン１０７．４１ｇ、５−エチル−２−メチルピリ
ジン３．７５ｇを仕込み、１１３から１１５℃に加熱し
た。３時間後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−ク
ロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾ
ン）５．６３ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン２．
５１ｇを仕込んだ。さらに３時間後、３−カルボキシル
−２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタ
ナール−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロ
キシフェニルヒドラゾン）５．６３ｇ、５−エチル−２
−メチルピリジン２．５０ｇを仕込んだ。さらに３時間
後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル−２−
ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ−２−
フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）５．６
６ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン２．４９ｇを仕
込み、同じ温度で６時間加熱した。反応マスを室温まで
冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを除去し、得ら
れたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析したところ、
２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジ
ン−３−オンの収率は９９．３％であった。
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）５．６５ｇ、フェニルホウ酸０．７３
ｇ、モレキュラーシーブ3Ａ（粉末品）２１．５２ｇ、
トルエン１０７．４１ｇ、５−エチル−２−メチルピリ
ジン３．７５ｇを仕込み、１１３から１１５℃に加熱し
た。３時間後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−ク
ロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾ
ン）５．６３ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン２．
５１ｇを仕込んだ。さらに３時間後、３−カルボキシル
−２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタ
ナール−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロ
キシフェニルヒドラゾン）５．６３ｇ、５−エチル−２
−メチルピリジン２．５０ｇを仕込んだ。さらに３時間
後、３−カルボキシル−２−トリフルオロメチル−２−
ヒドロキシ−１−ブタナール−１−（４−クロロ−２−
フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）５．６
６ｇ、５−エチル−２−メチルピリジン２．４９ｇを仕
込み、同じ温度で６時間加熱した。反応マスを室温まで
冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを除去し、得ら
れたろ液をＬＣによる内部標準法にて分析したところ、
２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジ
ン−３−オンの収率は９９．３％であった。
【００４５】（実施例２９）実施例２３において、５−
エチル−２−メチルピリジン４．６９ｇの代わりに２，
６−ルチジン８．１０ｇを用い、１１５〜１１６℃で１
５時間攪拌した以外は実施例２３と同様に操作した。ろ
液を液体クロマトグラフィーによる内部標準法にて分析
したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
チルピリダジン−３−オンの収率は９０．９％であっ
た。
エチル−２−メチルピリジン４．６９ｇの代わりに２，
６−ルチジン８．１０ｇを用い、１１５〜１１６℃で１
５時間攪拌した以外は実施例２３と同様に操作した。ろ
液を液体クロマトグラフィーによる内部標準法にて分析
したところ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
チルピリダジン−３−オンの収率は９０．９％であっ
た。
【００４６】（実施例３０）３−カルボキシル−２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）１６．６８ｇ、フェニルホウ酸０．５
５ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）１６．２４
ｇ、トルエン８０．８３ｇ、２−ピコリン１２．６１ｇ
を仕込み、１１４〜１１５℃で７時間攪拌した。反応マ
スを室温まで冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを
除去し、得られたろ液を液体クロマトグラフィーによる
内部標準法にて分析したところ、２−（２−フルオロ−
４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−
５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オンの収率は
９１．０％であった。
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）１６．６８ｇ、フェニルホウ酸０．５
５ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）１６．２４
ｇ、トルエン８０．８３ｇ、２−ピコリン１２．６１ｇ
を仕込み、１１４〜１１５℃で７時間攪拌した。反応マ
スを室温まで冷却後、濾過によりモレキュラーシーブを
除去し、得られたろ液を液体クロマトグラフィーによる
内部標準法にて分析したところ、２−（２−フルオロ−
４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−
５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オンの収率は
９１．０％であった。
【００４７】（実施例３１）３−カルボキシル−２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）１６．４８ｇ、トリフェニルボロキシ
ン０．４８ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）１
６．３７ｇ、トルエン８４．９１ｇ、５−エチル−２−
メチルピリジン１７．０６ｇを仕込み、１１４〜１１５
℃で６時間攪拌した。反応マスを室温まで冷却後、濾過
によりモレキュラーシーブを除去し、得られたろ液を液
体クロマトグラフィーによる内部標準法にて分析したと
ころ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピ
リダジン−３−オンの収率は９３．６％であった。
リフルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェ
ニルヒドラゾン）１６．４８ｇ、トリフェニルボロキシ
ン０．４８ｇ、モレキュラーシーブ３Ａ（粉末品）１
６．３７ｇ、トルエン８４．９１ｇ、５−エチル−２−
メチルピリジン１７．０６ｇを仕込み、１１４〜１１５
℃で６時間攪拌した。反応マスを室温まで冷却後、濾過
によりモレキュラーシーブを除去し、得られたろ液を液
体クロマトグラフィーによる内部標準法にて分析したと
ころ、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピ
リダジン−３−オンの収率は９３．６％であった。
【００４８】（実施例３２）実施例３１においてトリフ
ェニルボロキシン０．４８ｇの代わりにジフェニルボリ
ン酸０．８１ｇを用いた以外は実施例３１と同様に操作
した。反応マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュ
ラーシーブを除去し、得られたろ液を液体クロマトグラ
フィーによる内部標準法にて分析したところ、２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オンの収率は９３．４％であった。
ェニルボロキシン０．４８ｇの代わりにジフェニルボリ
ン酸０．８１ｇを用いた以外は実施例３１と同様に操作
した。反応マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュ
ラーシーブを除去し、得られたろ液を液体クロマトグラ
フィーによる内部標準法にて分析したところ、２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オンの収率は９３．４％であった。
【００４９】（実施例３３）実施例３１においてトリフ
ェニルボロキシン０．４８ｇの代わりにトリフェニルボ
ラン１．１４ｇを用いた以外は実施例３１と同様に操作
した。反応マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュ
ラーシーブを除去し、得られたろ液を液体クロマトグラ
フィーによる内部標準法にて分析したところ、２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オンの収率は９５．４％であった。
ェニルボロキシン０．４８ｇの代わりにトリフェニルボ
ラン１．１４ｇを用いた以外は実施例３１と同様に操作
した。反応マスを室温まで冷却後、濾過によりモレキュ
ラーシーブを除去し、得られたろ液を液体クロマトグラ
フィーによる内部標準法にて分析したところ、２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オンの収率は９５．４％であった。
【００５０】（参考例１）３−カルボキシル−２−トリ
フルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１
−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニ
ルヒドラゾン） ０．３１５ｇを窒素気流下、酢酸１．
０ｍｌおよびピリジン１．０ｍｌに溶解し１２０℃で８
時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧
濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈し
た。該希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹
水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾
過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に
付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピ
リダジン−３−オン０．２２７ｇを得た。
フルオロメチル−２−ヒドロキシ−１−ブタナール−１
−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニ
ルヒドラゾン） ０．３１５ｇを窒素気流下、酢酸１．
０ｍｌおよびピリジン１．０ｍｌに溶解し１２０℃で８
時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧
濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈し
た。該希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹
水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾
過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に
付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピ
リダジン−３−オン０．２２７ｇを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 織田 佳明 東京都中央区新川２丁目27番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4H039 CA42 CH20
Claims (20)
- 【請求項１】一般式（１） [式中、 Ｒ2は水素原子またはC1−C3アルキル基を表
し、Ｒ3は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、Ｑ
は置換されていてもよいフェニル基を表わす。]で示さ
れるカルボン酸誘導体またはその塩を、含窒素芳香族化
合物とホウ素化合物の存在下に閉環反応させることを特
徴とする一般式（５） (式中、Ｒ2、Ｒ3およびＱは前記と同じ意味を表わす。)
で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項２】ホウ素化合物が、一般式（２） ［式中Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または相異なってヒドロキ
シ基、 C1−C6アルコキシ基、C1−C6アルキル基、フェ
ニル基（該フェニル基はハロゲン原子、C1−C4アルキル
基、C1−C3ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、カルボキシ基、 C1−C3アミド基、ホ
ルミル基、C1−C3アルキルチオ基、ジヒドロキシボリル
基、もしくはベンゼン環上がジヒドロキシボリル基で置
換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよ
い）、ナフチル基（該ナフチル基はハロゲン原子、C1−
C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロアルキル基で置換さ
れていてもよい）、チエニル基（該チエニル基はハロゲ
ン原子、もしくはC1−C4アルキル基で置換されていても
よい）、フリル基（該フリル基はハロゲン原子、もしく
はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい）、または
ベンゾフラニル基（該ベンゾフラニル基のベンゼン環は
ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、もしくはC1−C3ハロ
アルキル基で置換されていてもよい）を表し、Ｒ4とＲ5
が互いに結合して環を形成していてもよい。］で示され
るボラン類、あるいは一般式（３） （式中Ｒ4、Ｒ5は前記と同じ意味を表し、 Ｒ4とＲ5が
互いに結合して環を形成していてもよい。ｎは１以上の
整数を表わす。）で示されるホウ酸多量体、あるいは一
般式（４） （式中Ｒ4は前記と同じ意味を表わす。）で示されるボ
ロキシン誘導体のいずれかまたはそれらの混合物である
請求項１記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項３】一般式（１）および（５）において、Ｑが
一般式（６） [式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは
ハロゲン原子を表し、Ｗは水素原子またはＺＲ1基を表
わす。ここでＺは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ1
は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル
基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アル
ケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル
基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル
基、C2−C8（アルコキシアルキル）基、C2−C8（アルキ
ルチオアルキル）基、カルボキシC1−C6アルキル基、
（C1−C8アルコキシ）カルボニルC1−C6アルキル基、
｛（C1−C4アルコキシ）C1−C4アルコキシ｝カルボニル
C1−C6アルキル基、（C3−C8シクロアルコキシ）カルボ
ニルC1−C6アルキル基、または、｛（C1−C6アルコキ
シ）カルボニルC1−C6アルキル｝オキシカルボニルC1−
C6アルキル基を表わす。）]である請求項１または２記
載のピリダジン−3−オン誘導体の製造法。 - 【請求項４】一般式（６）において、Ｚが酸素原子であ
る請求項３に記載のピリダジン−3−オン誘導体の製造
法。 - 【請求項５】一般式（６）において、Ｗがヒドロキシ基
である請求項３に記載のピリダジン−３−オン誘導体の
製造法。 - 【請求項６】一般式（６）において、Ｘがフッ素原子で
ある請求項３から５のいずれかに記載のピリダジン−３
−オン誘導体の製造法。 - 【請求項７】一般式（６）において、Ｘがフッ素原子で
あり、Ｙが塩素原子である請求項３から５のいずれかに
記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項８】一般式（１）および（５）において、Ｒ2
およびＲ3が水素原子又はメチル基である請求項１から
７のいずれかに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製
造法。 - 【請求項９】一般式（１）および（５）において、Ｒ2
がメチル基、Ｒ3が水素原子である請求項１から７のい
ずれかに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１０】含窒素芳香族化合物が、アルキル基で置
換されていてもよいピリジンである請求項１から９のい
ずれかに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１１】含窒素芳香族化合物が、５−エチル−２
−メチルピリジンである請求項１から９のいずれかに記
載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１２】一般式（２）で示されるボラン類が、フ
ェニルホウ酸または４−トリルホウ酸である請求項１か
ら１１のいずれかに記載のピリダジン−３−オン誘導体
の製造法。 - 【請求項１３】一般式（４）で示されるボロキシン誘導
体が、トリフェニルボロキシンまたはトリス（４−メチ
ルフェニル）ボロキシンである請求項２から１１のいず
れかに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１４】含窒素芳香族化合物が、５−エチル−２
−メチルピリジンであり、一般式（２）で示されるボラ
ン類が、フェニルホウ酸である請求項１から９のいずれ
かに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１５】含窒素芳香族化合物が、５−エチル−２
−メチルピリジンであり、一般式（４）で示されるボロ
キシン誘導体が、トリフェニルボロキシンである請求項
１から９のいずれかに記載のピリダジン−３−オン誘導
体の製造法。 - 【請求項１６】ホウ素化合物を、一般式（１）で示され
るカルボン酸誘導体またはその塩１モルに対し、ホウ素
換算で０．００１〜３モルの割合で用いることを特徴と
する請求項１から１５のいずれかに記載のピリダジン−
３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１７】共沸脱水もしくは／および乾燥剤存在下
に反応を行うことを特徴とする請求項１から１６のいず
れかに記載のピリダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項１８】乾燥剤がモレキュラーシーブであること
を特徴とする請求項１７に記載のピリダジン−３−オン
誘導体の製造法。 - 【請求項１９】モレキュラーシーブがモレキュラーシー
ブ３Ａであることを特徴とする請求項１８に記載のピリ
ダジン−３−オン誘導体の製造法。 - 【請求項２０】１００〜２００℃で反応を行うことを特
徴とする請求項１から１９のいずれかに記載のピリダジ
ン−3−オン誘導体の製造法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17246499A JP3890816B2 (ja) | 1998-12-09 | 1999-06-18 | ピリダジン−３−オン誘導体の製造法 |
| US09/857,033 US6500951B1 (en) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Process for preparing pyridazin-3-on derivatives |
| IL14323999A IL143239A0 (en) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Process for preparing pyridazin-3-on derivatives |
| KR1020017007207A KR100661779B1 (ko) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | 피리다진-3-온 유도체의 제조 방법 |
| BRPI9916028-5A BR9916028B1 (pt) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | processo para preparar derivados de piridazin-3-ona. |
| PCT/JP1999/006842 WO2000034249A1 (en) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Process for preparing pyridazin-3-on derivatives |
| CNB998159743A CN1204126C (zh) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | 哒嗪－3－酮衍生物的制备方法 |
| AU15128/00A AU1512800A (en) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Process for preparing pyridazin-3-on derivatives |
| EP99957420A EP1137641B1 (en) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Process for preparing pyridazin-3-on derivatives |
| ARP990106213A AR021563A1 (es) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Proceso de preparacion de derivados de piridazi-3-non |
| DE69921849T DE69921849T2 (de) | 1998-12-09 | 1999-12-07 | Verfahren zur herstellung von pyridazin-3-on-derivaten |
| IL143239A IL143239A (en) | 1998-12-09 | 2001-05-20 | Process for preparing a history of pyridazin-3-one |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35027498 | 1998-12-09 | ||
| JP10-350274 | 1998-12-09 | ||
| JP17246499A JP3890816B2 (ja) | 1998-12-09 | 1999-06-18 | ピリダジン−３−オン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000229948A true JP2000229948A (ja) | 2000-08-22 |
| JP3890816B2 JP3890816B2 (ja) | 2007-03-07 |
Family
ID=26494812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17246499A Expired - Fee Related JP3890816B2 (ja) | 1998-12-09 | 1999-06-18 | ピリダジン−３−オン誘導体の製造法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6500951B1 (ja) |
| EP (1) | EP1137641B1 (ja) |
| JP (1) | JP3890816B2 (ja) |
| KR (1) | KR100661779B1 (ja) |
| CN (1) | CN1204126C (ja) |
| AR (1) | AR021563A1 (ja) |
| AU (1) | AU1512800A (ja) |
| BR (1) | BR9916028B1 (ja) |
| DE (1) | DE69921849T2 (ja) |
| IL (2) | IL143239A0 (ja) |
| WO (1) | WO2000034249A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106316962B (zh) * | 2015-07-01 | 2020-03-10 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 3-芳基哒嗪酮类化合物、制备方法、农药组合物及用途 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AR009380A1 (es) | 1996-10-21 | 2000-04-12 | Sumitomo Chemical Co | Proceso de preparacion de un derivado de piridazin-3-ona, util como herbicida, acido carboxilico de utilizacion en el mismo, sal de este ultimo y proceso para preparar dicho acido carboxilico |
| ZA978995B (en) | 1996-10-21 | 1998-08-25 | Sumitomo Chemical Co | Production of pyridazine herbicide |
| DE19754348A1 (de) | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Ciba Geigy Ag | Neue Herbizide |
| CA2327806A1 (en) | 1998-04-09 | 1999-10-21 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituted phenyl pyridazinones |
-
1999
- 1999-06-18 JP JP17246499A patent/JP3890816B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-07 US US09/857,033 patent/US6500951B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-07 AU AU15128/00A patent/AU1512800A/en not_active Abandoned
- 1999-12-07 KR KR1020017007207A patent/KR100661779B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-07 IL IL14323999A patent/IL143239A0/xx active IP Right Grant
- 1999-12-07 DE DE69921849T patent/DE69921849T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 BR BRPI9916028-5A patent/BR9916028B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-12-07 EP EP99957420A patent/EP1137641B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 CN CNB998159743A patent/CN1204126C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-07 AR ARP990106213A patent/AR021563A1/es active IP Right Grant
- 1999-12-07 WO PCT/JP1999/006842 patent/WO2000034249A1/en not_active Ceased
-
2001
- 2001-05-20 IL IL143239A patent/IL143239A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL143239A0 (en) | 2002-04-21 |
| JP3890816B2 (ja) | 2007-03-07 |
| AU1512800A (en) | 2000-06-26 |
| AR021563A1 (es) | 2002-07-24 |
| EP1137641B1 (en) | 2004-11-10 |
| US6500951B1 (en) | 2002-12-31 |
| IL143239A (en) | 2006-08-01 |
| EP1137641A1 (en) | 2001-10-04 |
| CN1204126C (zh) | 2005-06-01 |
| DE69921849T2 (de) | 2005-12-08 |
| DE69921849D1 (de) | 2004-12-16 |
| KR20010080737A (ko) | 2001-08-22 |
| WO2000034249A1 (en) | 2000-06-15 |
| BR9916028A (pt) | 2001-08-28 |
| BR9916028B1 (pt) | 2010-09-08 |
| CN1334805A (zh) | 2002-02-06 |
| KR100661779B1 (ko) | 2006-12-28 |
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|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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