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JP2000268152A - Icカードの製造方法 - Google Patents

Icカードの製造方法

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Publication number
JP2000268152A
JP2000268152A JP11075891A JP7589199A JP2000268152A JP 2000268152 A JP2000268152 A JP 2000268152A JP 11075891 A JP11075891 A JP 11075891A JP 7589199 A JP7589199 A JP 7589199A JP 2000268152 A JP2000268152 A JP 2000268152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
adhesive material
semiconductor chip
sheet
card
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11075891A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Saito
淳 斎藤
Kiyoshi Nakakuki
清 中久木
Kenji Kamiya
健次 神谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP11075891A priority Critical patent/JP2000268152A/ja
Publication of JP2000268152A publication Critical patent/JP2000268152A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ICカードにおいて、半導体チップに補強板
を熱硬化性プラスチックからなる接着剤によって接着す
る場合、接着剤の周りを囲わなくとも、その接着剤の加
熱硬化時に、接着剤や補強板が移動したりすることをな
くす。 【解決手段】 半導体チップ16に熱硬化性樹脂からな
る接着剤17を塗布し、この接着剤17上に補強板18
を載置した後、接着剤17を少なくとも仮硬化するまで
の時間、赤外線加熱炉21の電気ヒータ22からの輻射
熱によって加熱する。このように輻射熱で接着剤17を
加熱硬化させることにより、接着剤17を最初から熱風
炉23で加熱硬化させる場合とは異なり、風の影響を受
けることがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はメモリやCPU等の
機能を有する半導体チップに破損を防止するための補強
部材を接着した構造のICカードを製造する方法に関す
る。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】現在広く用いられてい
るキャッシュカード、クレジットカード等は、プラスチ
ックカードに磁気ストライプを塗布し、これに記録され
た情報を読み取るようにしたものである。このような磁
気記録方式のものでは、第三者によって情報が解読され
易い、記録可能な情報量が少ないなどの問題があった。
【0003】そこで、近年、メモリ、CPU等の機能を
有する半導体チップをカード状基体に実装したICカー
ドが開発され、既に実用化されている。このICカード
は、通常、回路パターンを形成して半導体チップを実装
した回路シートと、回路シート上に接着された中間シー
トと、この中間シート上に接着されたカバーシートとか
らなる3層構造とされている。
【0004】このような構造のICカードでは、曲げ力
に対して弱く、半導体チップが割れて使用不能になって
しまう場合がある。この問題を解消し、半導体チップの
耐曲げ性の向上を図るものとして、例えば半導体チップ
に補強板を接着することが考えられている。
【0005】この補強板による耐曲げ性の向上を図る場
合、接着剤としては、強度上、比較的硬い熱硬化性プラ
スチックを使用することが望ましい。そして、接着剤と
して熱硬化性プラスチックを用いた場合、接着剤を加熱
して硬化させる必要があるが、通常用いられる熱風炉を
使用して加熱硬化させると、炉内では熱風が強く吹いて
いるため、図4に示すように、硬化前の接着剤1が熱風
(矢印Aで示す)により吹き流されて、高さ方向の寸法
的安定性が損なわれたり、補強板2が半導体チップ3か
らずれてしまって半導体チップ3を補強するという所期
の目的を達成できなくなったりする。
【0006】このような問題を解消するために、図5に
示すような手順で補強板を接着することが考えられる。
すなわち、まず、プラスチックシートからなる回路基板
3上に半導体チップ4を実装し(図5(a))、次に半
導体チップ4を収容するためのくりぬき穴5を設けたプ
ラスチック製のスペーサ6を回路基板3上に接着する
(図5(b))。その後、くりぬき穴5内に熱硬化性プ
ラスチックからなる接着剤7をポッティングし(図5
(c))、その接着剤7上に補強部材としてステンレス
板8を載せる(図5(d))。そして、熱風炉9により
接着剤7を加熱して硬化させ(図5(e))、最後に、
スペーサ6の上にプラスチックフィルムからなるカバー
フィルム(図示せず)を接着する。
【0007】このような接着方法を採用すれば、接着剤
7や補強板8は、くりぬき穴5内に存在して周囲が囲ま
れているから、熱風によって流されたりするおそれがな
く、上記の問題を解消することができる。しかしなが
ら、この構成では、スペーサ6にくりぬき穴5を設ける
加工をしなければならないなど、工程数が増加するとい
う新たな問題を生ずる。
【0008】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、接着剤の周りを囲わなくとも、その接
着剤の加熱硬化時に、接着剤や補強部材が移動したりす
るおそれがなく、半導体チップに対する高い補強効果を
得ることができるICカードの製造方法を提供するにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、基板に設けられた半導体チップに熱硬化
性樹脂からなる接着剤を設け、この接着剤の上に前記補
強部材を配置した状態で、前記接着剤を少なくとも仮硬
化時間だけ輻射熱により加熱し、その後、本硬化のため
に加熱することを特徴とするものである。
【0010】この場合、設備費の低減のために、接着剤
を輻射熱により加熱した後、熱風炉によって加熱するこ
とが好ましい。また、接着剤を輻射熱で加熱する時間
(前記仮硬化時間)は、接着剤が熱風炉内の熱風によっ
て流されない程度に硬化する時間,或いは、接着剤がゲ
ル化して硬化し始めるまでの時間とすることが好まし
い。
【0011】以上の構成によれば、接着剤が流動性を帯
びている状態では輻射熱で加熱されるので、熱風炉で加
熱硬化させる場合とは異なり、風の影響を受け難く、接
着剤や補強部材が流されたりするおそれがない。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図1な
いし図3に基づいて説明する。まず、図2および図3に
示すように、ICカード11は、基板としての回路シー
ト12と、中間接着層としての中間シート13と、カバ
ーシート14とから構成されている。
【0013】上記回路シート12は、プラスチック、例
えばポリエステル系プラスチック、具体的にはPET
(ポリエチレンテレフタレート)製の厚さ100μm程
度のシートからなる。この回路シート12の一面には、
導体回路としてのコイル状の回路パターン15が形成さ
れていると共に、この回路パターン15に接続された半
導体チップ16が実装されている。そして、この半導体
チップ16上には、接着剤17を介して補強部材として
の補強板18が配設されている。なお、回路シート12
から補強板18の上面までの高さは、220μm程度と
なるように構成されている。
【0014】補強板18は、半導体チップ16を補強す
るためのもので、例えば厚さ30μm程度のステンレス
板により形成されている。接着剤17は、補強板18を
半導体チップ16に接着すると共に、補強板18と協働
して半導体チップ16を補強する機能を有する。そのた
めに、接着剤17は、接着剤として使用できるプラスチ
ックで、しかも弾性率が3〜10GPa(ギガパスカ
ル)程度の比較的硬いプラスチックが好ましく、この要
求を満たすために、熱硬化性プラスチック、この実施例
ではエポキシ系プラスチックが用いられている。
【0015】なお、この実施例では、上記コイル状の回
路パターン15は、導電性ペースト、例えばポリエステ
ル系銀ペーストを用いたスクリーン印刷手段によって形
成され、半導体チップ16は、例えば異方導電性接着剤
19によりフリップチップ実装されている。この回路パ
ターン15は、外部機器との間で信号を送受する素子、
この実施例では、電波信号を送受信するアンテナとして
機能するが、半導体チップ16に回路構成されたCPU
等の動作用電力も、この回路パターン15によって受信
される外部機器からの電波信号によって得るように構成
されている。
【0016】前記中間シート13は、熱せられると溶融
状態になって流動性を帯びるという熱溶融性を有したプ
ラスチック材料、例えばポリエステル系ホットメルト接
着剤により形成された厚さ250μm程度のシートから
なる。この中間シート13は、回路パターン15、半導
体チップ16等を保護すると共に、自身に回路シート1
2およびカバーシート14を接着する機能を有するもの
で、回路パターン15、半導体チップ16等を隙間なく
覆う。また、前記カバーシート14は、比較的軟質の中
間シート13を保護する機能を有し、例えば回路シート
12と同様に厚さ100μm程度のPET製シートから
なる。
【0017】このようなICカード11を製造するに
は、まず図1(a)示すように、回路シート12に半導
体チップ16を実装し、次に図1(b)のように、半導
体チップ16にエポキシ系プラスチックからなる接着剤
17を印刷手段或いはポティングにより塗布する。そし
て、図1(c)のように、接着剤17の上に補強板6を
載せる。
【0018】この後、回路シート12をコンベア20に
より赤外線加熱炉21内に搬入する。この赤外線加熱炉
21は、炉内の上面部に赤外線を放射する熱源として、
例えばニクロム線ヒータ、シーズヒータなどの電気ヒー
タ22を設けてなるもので、この赤外線加熱炉21内に
搬入された回路シート12は、主として電気ヒータ22
からの輻射熱によって加熱される。この赤外線加熱炉2
1での加熱により、接着剤17は硬化し始める。
【0019】この硬化は、接着剤17がゲル化すること
によって行われるが、コンベア20は、接着剤17が少
なくとも仮硬化するまでの時間、すなわち接着剤17が
ゲル化し始めることにより硬化し始めるまでの時間だけ
回路シート12が赤外線加熱炉21内にあるような移動
速度に定められている。そして、接着剤17がゲル化し
て仮硬化すると、回路シート12は赤外線加熱炉21か
ら搬出される。ここで、仮硬化状態とは、接着剤17が
次に述べる熱風炉23内の風で吹き流されたり、補強板
18が動いたりすることがない程度に硬化した状態をい
う。
【0020】この後、回路シート12は、熱風炉23に
入れられる。この熱風炉23では、回路シート12の接
着剤17は熱風を受けて加熱され、完全硬化(本硬化)
する。本実施例で使用した接着剤17の完全硬化は、2
0〜30分かかるので、その間、回路シート12は熱風
炉23内に留め置かれる。そして、接着剤17が完全硬
化したところで、回路シート12は熱風炉23から取り
出される。なお、赤外線加熱炉21および熱風炉23で
の加熱温度は、80〜160℃になっている。
【0021】次いで、回路シート12上に中間シート1
3およびカバーシート14を順に重ね、全体を図示しな
い熱プレス装置により熱圧着する。すると、中間シート
13を構成するホットメルト接着剤が加熱されて溶融
し、流動性を帯びるようになるため、溶融状態となった
ホットメルト接着剤が回路パターン15や接着剤17を
隙間なく覆う。同時に中間シート13は、上下両側から
の加圧によって厚さが均一となるように成形されて回路
シート12とカバーシート14とを接着する。そして、
その後の冷却により、中間シート13は硬化し、以上に
より回路シート12と中間シート13とカバーシート1
4とからなる3層構造のICカード11が製造される。
【0022】このようなICカード11では、回路シー
ト12とカバーシート14とがPETで形成され、中間
シート13がポリエステル系ホットメルト接着剤で形成
されていて、いずれも柔軟性を有しているので、曲げ力
が作用したとき、ICカード11は弾力性をもってしな
やかに曲がる。そして、ICカード11が曲げられた場
合、補強板18と接着剤17とにより半導体チップ16
が保護され、該半導体チップ16の破損を防止する。
【0023】このように本実施例によれば、熱硬化性プ
ラスチックからなる接着剤17が仮硬化するまで、回路
シート12は赤外線加熱炉21内に置かれ、その後、熱
風炉23に移されるので、熱風炉23内で流れの強い熱
風を受けても、接着剤17が流れたり補強板18が動い
たりするおそれがない。
【0024】なお、回路シート12を赤外線加熱炉21
から熱風炉23に移して接着剤17を完全硬化させるよ
うにした理由は、本実施例において使用した接着剤17
の完全硬化には20〜30分という長い時間を要する。
赤外線加熱炉21では、回路シート12を動かさないで
おくと、局部的に加熱されて異常高温となる恐れがある
ので、コンベア20で回路シート12を移動させる必要
がある。このため、赤外線加熱炉21だけで接着剤17
を完全硬化させようとすると、赤外線加熱炉21の長さ
を異状に長くしなければならず、実用的ではない。
【0025】これに対し、熱風炉23では、回路シート
12を定位置に止めても、局部的に加熱されるおそれが
なく、このため、熱風炉23を大規模のものにしなくと
も良く、設備費を低減できる。
【0026】なお、本発明は上記し且つ図面に示す実施
例に限定されるものではなく、以下のような拡張或いは
変更が可能である。接着剤17は、エポキシ系に限ら
ず、シリコーン系、ウレタン系などであっても良い。補
強板18は、アルミニウム、ガラスクロスなどであって
も良く、その形状も平板状のものに限られない。完全硬
化までの時間が5分以内となるような接着剤を用いれ
ば、赤外線加熱炉21のみでの硬化でも良く、熱風炉2
3での加熱硬化を省略することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例におけるICカードの製造過
程を示す断面図
【図2】ICカードの断面図
【図3】ICカードの分解斜視図
【図4】従来の問題点を説明するための断面図
【図5】問題点を解決するための従来の製造工程を示す
断面図
【符号の説明】
図中、12は回路シート(基板)、13は中間シート、
14はカバーシート、16は半導体チップ、17は接着
剤、18は補強板、21は赤外線加熱炉、23は熱風炉
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神谷 健次 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 4J040 EC001 EF001 EK031 JB02 JB10 LA06 NA20 NA21 PA18 PA20 PA30 PB05 5B035 AA08 BA03 BA05 BB09 BC00 CA01 CA03 CA23

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板に設けられた半導体チップに補強部
    材を接着した構造のICカードにおいて、 前記基板に設けられた半導体チップに熱硬化性樹脂から
    なる接着剤を設け、この接着剤の上に前記補強部材を配
    置した状態で、前記接着剤を少なくとも仮硬化時間だけ
    輻射熱により加熱し、その後、本硬化のために加熱する
    ことを特徴とするICカードの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記接着剤を輻射熱により加熱した後、
    熱風炉によって加熱することを特徴とする請求項1記載
    のICカードの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記仮硬化時間は、前記接着剤が熱風炉
    内の熱風によって流されない程度に硬化する時間である
    ことを特徴とする請求項1または2記載のICカードの
    製造方法。
  4. 【請求項4】 前記仮硬化時間は、前記接着剤がゲル化
    して硬化し始めるまでの時間であることを特徴とする請
    求項1ないし3のいずれかに記載のICカードの製造方
    法。
JP11075891A 1999-03-19 1999-03-19 Icカードの製造方法 Pending JP2000268152A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003058853A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Toppan Forms Co Ltd 非接触型icカード及びその製造方法
JPWO2016186075A1 (ja) * 2015-05-21 2018-03-01 三井化学東セロ株式会社 ガスバリア性積層体の製造方法

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JP2003058853A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Toppan Forms Co Ltd 非接触型icカード及びその製造方法
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