JP2000258124A - 干渉計測装置及び格子干渉式エンコーダ - Google Patents
干渉計測装置及び格子干渉式エンコーダInfo
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Abstract
る小型かつ簡素な装置を実現する。 【解決手段】 可干渉光源からのレーザー光を光学式プ
ローブ状偏光プリズムにより2分割し、それぞれの光路
を経由した光束の波面の位相を変調し、互いに直交する
直線偏光として波面を重ね合わせた後に、非偏光ビーム
スプリッタで反射し、開口板を通って、4分割回折格子
27で4つの等価な光束に振幅分割する。この光束は、
予め部分的にエッチング処理して4つの段差を設けた水
晶板28の異なる部分を透過し、各透過光束を偏光板3
2bにより45度偏光成分が取り出され、各干渉光束が
受光素子45の4つの領域45a〜45dに受光され
て、4つの位相差信号が得られる。
Description
tomation)等の産業用機器において、位相差信号を発生
して高精度に長さや角度を測定する干渉計測装置及び格
子干渉式エンコーダに関するものである。
しては、レーザー干渉計やインクリメンタルエンコーダ
が利用されている。これらの装置は位置ずれをパルス列
に変換し、このときのパルス数を計数することによって
相対位置ずれを検出するものである。このとき、移動方
位も検出する必要があるために、通常では2つ以上の位
相差信号A相、B相を出力して、1周期の正弦波信号を
360度として90度の位相ずれが与えられる。
コーダやレーザー干渉計においては、2つの検出光学系
をその空間的な位置をずらして配置することによってA
相、B相の位相差信号を発生する方式や、互いに直交す
る偏光光束同士を1/2波長板を介して干渉させ、2光
束間の波面の位相差に対応して偏光方位が回転する1つ
の直線偏光光束に変換してから更に複数光束に分割し、
それぞれ異なる方位に偏光軸をずらして配置した偏光板
を透過させて位相差信号光束を発生する方式が知られて
いる。
離センサの斜視図を示し、可干渉光源1からのレーザー
光Lは、コリメータレンズ2、非偏光ビームスプリッタ
3を通り、プローブ状偏光プリズム4の偏光面4aにお
いて偏光される。偏光面4aで反射されたS偏波光は、
スライダ5に向けてプローブ状偏光プリズム4を出射
し、スライダ5の被測定面5aで反射され、再び元の光
路を戻ってプローブ状偏光プリズム4の偏光面4aに至
る。
プローブ状偏光プリズム4の上面の基準ミラー面4bで
反射されて同様に偏光面4aに戻る。この両偏波光は偏
光面4aにおいて再合成されて、プローブ状偏光プリズ
ム4内を進み、非偏光ビームスプリッタ3で反射され、
1/4波長板6、開口板7の開口を通り、4分割回折格
子8により振幅分割される。これら振幅分割された光束
はそれぞれ偏光板9a〜9dを通り、受光素子10の4
つの領域10a〜10dに受光される。そして、このと
きの干渉信号によってスライダ5の微小変位が測定され
る。
来例においては、偏光板9a〜9dの配置等によって位
相ずれを与えているために、アライメント誤差や偏光板
9a〜9dの製造誤差があると位相差信号が安定しない
という可能性がある。一方、直交する直線偏光同士の干
渉の場合には、1/4波長板6や4つの偏光板9a〜9
d等の光学部品の配置にスペースを必要とするために、
装置が大型化しかつこれら全部の組立て調整が必要であ
る。
数の安定した位相差信号を一括して検出する小型で組立
てが容易な干渉計測装置を提供することにある。
干渉式エンコーダ等の計測装置を提供することにある。
の本発明に係る干渉計測装置は、可干渉光束を2分割
し、それぞれの光路を経由した光束の波面の位相を変調
して互いに直交する直線偏光光束とし、該直線偏光光束
の波面を再び重ね合わせるための光学部材と、該光学部
材により重ね合わせた光束を複数じ光束に分割する光分
割部材と、1枚の基板上に前記複数の光束の入射位置に
応じて所定の段差を形成した水晶板と、該水晶板を透過
した各光束を45度偏光成分で取り出す偏光板と、該偏
光板により取り出した各光束を受光して複数の互いに異
なる干渉位相信号を発生する受光手段とを有することを
特徴とする。
偏光光束を重ね合わせた光束を4つの分割光束とする光
分割手段と、これらの4つの分割光束に互いに1/4波
長の整数倍の位相差を与えるための所定の段差を形成し
た水晶板と、該水晶板を介した各分割光束が入射する4
5度方位に光学軸を有する偏光板と、該偏光板を介した
各光束の干渉による明暗信号として4相プッシュプル信
号を形成するための4つの受光素子とを有することを特
徴とする。
を2分割し、それぞれの光路を経由した光束の波面の位
相を変調して互いに直交する直線偏光光束とし、該直線
偏光光束の波面を再び重ね合わせる光学部材と、2つの
直交する波面の直線偏光を1つの回転する直線偏光に合
成するための光学部材と、該光学部材により合成された
直線偏光光束を複数光束に分割する光分割手段と、1枚
の基板上に前記複数光束の入射位置に応じて所定の偏光
透過特性を有するように格子の向きを変えて形成した格
子板と、該格子板により取り出した各光束を受光して複
数の異なる干渉位相信号を発生する受光手段とを有する
ことを特徴とする。
干渉光束から相対移動する回折格子によって発生させた
互いに異なる次数の回折光を、互いに直交する直線偏光
光束として波面を重ね合わせるための光学部材と、該光
学部材により重ね合わせた光束を複数の光束に分割する
光分割部材と、1枚の基板上に前記複数の光束の入射位
置に応じて所定の段差を形成した水晶板と、該水晶板を
透過した各光束を45度偏光成分で取り出す偏光板と、
該偏光板により取り出した各光束を受光して複数の互い
に異なる干渉位相信号を発生する受光手段とを有するこ
とを特徴とする。
干渉光束を相対移動する回折格子に照明して得られた互
いに異なる次数の回折光を、互いに直交する直線偏光格
子として重ね合わせるための光学部材と、2つの直交す
る波面の直線偏光を1つの回転する直線偏光に合成する
ための光学部材と、該光学部材により合成した直線偏光
光束を複数光束に分割する光分割手段と、1枚の基板上
に前記複数光束の入射位置に応じて所定の偏光透過特性
を有するように格子の向きを変えて形成した格子板と、
該格子板により取り出した各光束を受光して複数の異な
る干渉位相信号を発生する受光手段とを有することを特
徴とする。
重ね合わせた光束を複数光束に分割する光分割手段と、
前記複数光束間に所定の位相差を与えるために光束の入
射位置に応じた光路差を設けた光透過部材と、該光透過
部材を透過した前記複数光束が入射する偏光板とを有
し、該偏光板から明暗の位相の異なる干渉光束を出射す
ることを特徴とする。
重ね合わせた光束を1つの回転する直線偏光光束とする
手段と、該回転する直線偏光光束を複数光束に分割する
光分割手段と、前記複数光束間に所定の位相差を与える
ために光束の入射位置に応じた偏光透過性を備えた光透
過部材とを有し、該光透過部材から明暗の位相の異なる
干渉光束を出射することを特徴とする。
例に基づいて詳細に説明する。図1は第1の実施例の斜
視図を示し、非接触距離センサ20においては、レーザ
ーダイオード等の可干渉光源21、コリメータレンズ2
2、非偏光ビームスプリッタ23、光学式プローブ状偏
光プリズム24が順次に配列され、プローブ状偏光プリ
ズム24は偏光ビームスプリッタ面24aと基準ミラー
面24bを有し、偏光面24aの反射方向のプローブ状
偏光プリズム24の前面に、被測定部位であるスライダ
側面25が配置されている。
は、開口板26、千鳥状位相回折格子等の4分割回折格
子板27、1つの基板に厚さが異なる4つの領域28a
〜28dを有する位相差水晶板28、45度方位に光学
軸を有する45度方位偏光板29、4つの受光領域30
a〜30dを有する4分割受光素子30が順次に配列さ
れている。
Lは、コリメータレンズ22により略集光光とされ、非
偏光ビームスプリッタ23を通って、プローブ状偏光プ
リズム24の偏光ビームスプリッタ面24aにおいて透
過光と反射光に分割される。偏光面24aを反射したS
偏波光は、スライダ側面25に向けてプローブ状偏光プ
リズム24を出射し、スライダ側面25で反射され、そ
の反射光は元の光路を通ってプローブ状偏光プリズム2
4の偏光面24aまで戻される。一方、偏光面24aを
透過したP偏波光は、プローブ状偏光プリズム24内部
の基準ミラー面24bで反射され、同様に偏光面24a
まで戻される。
4の偏光面24aにおいて合成され、後述する偏光干渉
光学系によって干渉光束の明暗信号となる。プローブ状
偏光プリズム24とスライダ側面25との距離が変化し
た場合には、偏光面24aで分離した2つの光束の往復
の光路長差が可干渉光源21の波長の整数倍となる毎
に、その明暗が変化する。即ち、可干渉光源21として
波長0.78μmのレーザーダイオードを使用すれば、
スライダ側面25との距離が0.39μmずれると、明
暗が正弦波状に1周期分変化する。
号に変換され、スライダ側面25との距離を予め明暗の
中間となるような距離に設定しておけば、スライダ側面
25との距離が微小に変化すると電気信号レベルが敏感
に変化する。従って、この正弦波状の電気信号レベルの
変化を利用して、波長0.39μmの1つの正弦波を数
10の位相に分割可能な分解能の公知の電気回路を使用
して、0.01μm程度の分解能で距離変化を検出する
ことができる。また、2相の90度位相差明暗信号があ
れば、公知の電気的な内挿回路を使用して1つの正弦波
を数10〜数100の位相に分割することができるの
で、更に高分解能な0.001μmの分解能で距離変化
を検出することができる。
方法を示し、プローブ状偏光プリズム24から出射する
段階では、2つの光束の波面は重ね合わさってはいる
が、互いに直交する波面の直線偏光光束であり、干渉し
て明暗信号とはならない。これらの光束は、非偏光ビー
ムスプリッタ23で反射され、開口板26の開口を通っ
て、4分割回折格子板27によりそれぞれ直交した2つ
の直線偏光光束を含む4つの等価な光束に振幅分割され
る。このとき、これらの4つの光束は強度のみが分割に
より低下した状態で進行と共に分離してゆき、適切な空
間に配置された水晶板28に入射する。
れており、f軸とs軸の2つの光学軸を有し、この間で
屈折率に差があるために、光の電磁波における電界成分
がf軸に平行に入射した直線偏波成分は、s軸に平行に
入射した直線偏波成分に比べて位相が進んで射出され
る。このときの位相差Γ(deg)は、可干渉光源21
の波長をλ、水晶の異常光線の屈折率をne、水晶の常
光線の屈折率をno、水晶板28の厚さをtとして、次
式で表される。 Γ=(360/λ)・(ne−no)t
線屈折率neが対応し、f軸に平行な直線偏波光束に対
して常光線屈折率noが対応する。水晶の屈折率の代表
的な値はne=1.5477、no=1.5387なの
で、位相差Γ=90(deg)を満たすtを求めると、
λ=0.78μm、ne=1.5477、no=1.5
387を代入すると次のようになる。 t=λ/{4(ne―no)}=21.67μm
示すように光学軸であるf軸がS偏波方向になるように
配置され、田の字状の4つの異なる厚さになるようにエ
ッチング処理によって段差が設けられており、4分割さ
れた光束はそれぞれの領域28a〜28dの中に入射し
て裏面から透過する。領域28aは段差加工されていな
い部分で水晶基板の元の厚さになっており、領域28b
は領域28aに比較してS偏光成分のみ波面の位相が9
0度遅れるように、Δt=21.67μm相当を弗酸に
よりエッチング加工されている。
成分のみ波面の位相が180度遅れるように、2・Δt
相当をエッチング加工されており、領域28dは領域2
8aに比較してS偏光成分のみ波面の位相が270度遅
れるように3・Δt相当をエツチング加工されている。
これらの3つの段差は、2・Δtの段差のエッチングを
領域28c、28dにおいて1回行い、Δtの段差のエ
ッチングを領域28a、28dにおいて1回行うことに
よって達成される。
水晶板28の元の厚さ及び光学軸の配置により、P、S
偏波間でS偏波の波面の位相が相対的に進んでおり、こ
の進み量をΔΦとする。領域28bを透過した光束
(P、S)は、水晶板28の元の厚さよりエッチングに
よってΔtだけ薄くなっているので、S偏波の波面の位
相の進みが90度だけ戻されて、位相の進み量はΔΦ−
90度である。
水晶板28の元の厚さよりエッチングによって2・Δt
だけ薄くなっているので、S偏波の波面の位相の進みが
180度だけ戻されて、位相の進み量はΔΦ−180度
である。領域28dを透過した光束(P,S)は、水晶
板28の元の厚さよってエッチングによる3・Δtだけ
薄くなっているので、S偏波の波面の位相の進みが27
0度だけ戻されて、位相の進み量はΔΦ−270度であ
る。
た光束(P,S)は、45度方位に光学軸を有する偏光
板29により45度偏光成分が抽出されるが、このP、
S偏波はそれぞれ位相情報を有したまま45度直線偏波
に変換されるので、干渉を引き起こして明暗信号光束と
なる。このとき、それぞれの領域28a〜28dから射
出した光束のP、S間の位相差は、λ/4の整数倍毎に
ずれているために、干渉光の明暗のタイミング(位相)
は1/4周期毎にずれる。従って、これらそれぞれの干
渉光束が4つの受光素子30a〜30dに入射すること
によって、同時に4つの位相差信号が得られる。この4
つの干渉光束は1/4周期毎の位相ずれがあるために、
90度位相差信号のA+相、B+相、A−相、B−相と
なり、これは4相プッシュプル信号である。
差水晶板28、45度方位偏光板29、4分割受光素子
30a〜30dを整然と配置するだけなので、複数の微
小な偏光板等を配置する作業等が不要となり、非常に簡
単かつ小型な装置を実現することができる。特に、1つ
の大きな基板毎に回折格子27、水晶板28、偏光板2
9を半導体プロセスと同様の方法で加工し、最後に切断
することによって容易に実現することができる。
の斜視図を示し、本実施例の水晶板31は、左右方向で
2つの異なる厚さになるようにエッチング処理により段
差が形成されて、光学軸であるf軸がS偏波方向になる
ように配置されている。この水晶板31は2つずつ4分
割された光束がそれぞれ領域31a、31bに入射し、
裏面から透過するようにされており、領域31aは段差
加工されていない部分で、水晶基板の元の厚さになって
いる。また、領域31bは領域31aに比較して、S偏
光成分のみがλ/4波面の位相が遅れるように段差加工
されており、この段差はλ/2分の段差のエッチングを
領域31bに1回行うことにより達成される。また、本
実施例の偏光板32は、45度方位に光学軸を有する偏
光板32aと135度方位に光学軸を有する偏光板32
bが上下方向に配置されている。
光束(P,S)の内、左側の光束は水晶板31の領域3
1aを通り右側の光束は領域31bを通る。このとき、
領域31aを透過した光束(P,S)は、水晶板31の
元の厚さ及び光学軸の配置により、P、S偏波間でS偏
波の波面の位相が相対的に進んでおり、この進み量をΔ
Φとする。領域31bを透過した光束(P,S)は、水
晶板31の元の厚さよりエッチングによりΔtだけ薄く
なっているので、S偏波の波面の位相の進みがλ/4だ
け戻されて、位相の進み量はΔΦ−λ/4である。
を透過した光束(P,S)の内、上側の2光束は45度
方位に偏光板32aを通り、下側の2光束は135度方
位に偏光板32bを通って、それぞれ45度偏光成分又
は135度偏光成分が抽出されるが、このときP、S偏
波がそれぞれ位相情報を有したまま、45度又は135
度の直線偏波に変換され、干渉を引き起こして明暗信号
光束となる。
束P、S間の波面位相はλ/4ずれているので、偏光板
32aの透過光束の干渉光束の明暗のタイミング(位
相)は、領域31aの透過光束に比べて領域31bの透
過光束が1/4周期進む。また、偏光板32bの透過光
束の干渉光束の明暗のタイミング(位相)は、領域31
a透過光束に比べて領域31bの透過光束が1/4周期
進む。ここで、偏光板32aの透過光束の明暗位相と偏
光板32bの透過光束の明暗位相は互いに180度位相
がずれているので、4つの明暗光束の位相は0度、90
度、180度、270度となり、第1の実施例と同様に
4相プッシュプル信号となる。
差水晶板31、45度方位偏光板32a、135度方位
偏光板32b、4分割受光素子30a〜30dを整然と
配置するだけで、極めて簡単かつ小型に構成することが
できる。特に、水晶板31は1回のエッチング処理によ
り加工することができ、偏光板32aと偏光板32bを
隣り合わせに張り合わせることによって、比較的簡便に
組立調整を行うことができる。
相対移動する回折格子に照明し、異なる次数の回折光を
取り出して干渉位相信号を発生する格子干渉式エンコー
ダに適用することができる。また、他の一般的な格子干
渉方式のエンコーダや干渉計測装置にも適用することも
可能である。
触センサ20においては、図1の場合と同様にレーザー
ダイオード等の可干渉光源21、コリメータレンズ2
2、非偏光ビームスプリッタ23、光学式プローブ状偏
光プリズム24が順次に配置され、プローブ状偏光プリ
ズム24は偏光ビームスプリッタ面24aと基準ミラー
面24bを有し、偏光面24aの反射方向のプローブ状
偏光プリズム24の前面に、非測定部位であるスライダ
側面25が配置されている。
は、1/4波長板41、開口板42、千鳥状位相回折格
子等の4分割回折格子板43、1つの基板状に4つの格
子44a〜44dがその配列方位を45度ずつずらして
形成されている偏光板マスク44、4つの領域45a〜
45dを有する4分割受光素子45が順次に配列されて
いる。
Lは、図1の場合と同様に、プローブ状偏光プリズム2
4の偏光ビームスプリッタ面24aにおいて透過光と反
射光に分割される。偏光面24aを反射したS偏波光
は、スライダ側面25に向けてプローブ状偏光プリズム
24を射出し、スライダ側面25で反射され、プローブ
状偏光プリズム24の偏光面24aまで戻される。一
方、偏光面24aを透過したP偏波光は、同様に偏光面
24aまで戻される。
4の偏光面24aにおいて合成され、後述する偏光干渉
光学系によって干渉光束の明暗信号となる。プローブ状
偏光プリズム24とスライダ側面25との距離が変化し
た場合には、偏光面24aで分離した2つの光束の往復
の光路長差が可干渉光源21の波長の整数倍となる後と
に、その明暗が変化する。
号に変換され、図1の場合と同様に、高分解能で距離変
化を検出することができる。
の発生方法を示し、プローブ状偏光プリズム24から射
出する段階では、2つの光束の波面は重なり合ってはい
るが、互いに直交する波面の直線偏光光束であり、干渉
して明暗信号とはならない。これらは非偏光ビームスプ
リッタ23で反射され、1/4波長板41を透過して、
それぞれが逆向きの円偏光に変換され、それらのベクト
ル合成された波面は1つの直線偏光となる。またその直
線偏光の偏波面の向きは2光束間の位相差に依存し、2
光束間で位相が360度ずれると、偏波面は180度回
転する。
口板42の開口を通って、4分割回折格子板43によ
り、それぞれ等価な直線偏光光束に振幅分割される。こ
のときこれら4つの光束は強度のみが分割により低下し
た状態で信号と共に分離してゆき、適切な空間に配置さ
れた4分割回折格子板43に入射する。
として機能するため、予めフォトリソグラフィプロセス
等によって、ガラス板上に形成する際に自在にデザイン
することが可能である。この実施例では、4相明暗信号
を得るために90度ずつ明暗位相のずれた干渉信号を必
要としているので、4つの光束が透過する領域ごとに、
金属格子線の配列方位を45度ずつずらして形成してあ
る。また、格子線のピッチは可干渉光源の波長より十分
に小さくしている。
合と、一致する場合で、透過光が最大、最小になるの
で、4つの領域ごとに明暗のタイミングが異なる位相差
信号が得られる。
42、4分割回折格子板43、4分割受光素子45a〜
45dを整然と配置するだけなので極めて簡単かつ小型
に構成することができ位相差が高精度に確定する。
相対移動する回折格子に照明し、異なる次数の回折光を
取り出して干渉信号を発生する格子干渉式エンコーダに
適用することができる。また、他の一般的な格子干渉方
式のエンコーダや干渉計測装置にも適用することができ
る。
計測装置及び格子干渉式エンコーダは、光学系を極めて
簡素にかつ小型に実現することができ、かつ複数の安定
した位相差信号を一括して検出して、高精度の計測を行
うことができる。
計測装置を実現可能とする。
ある。
ある。
である。
Claims (10)
- 【請求項1】 可干渉光束を2分割し、それぞれの光路
を経由した光束の波面の位相を変調して互いに直交する
直線偏光光束とし、該直線偏光光束の波面を再び重ね合
わせるための光学部材と、該光学部材により重ね合わせ
た光束を複数じ光束に分割する光分割部材と、1枚の基
板上に前記複数の光束の入射位置に応じて所定の段差を
形成した水晶板と、該水晶板を透過した各光束を45度
偏光成分で取り出す偏光板と、該偏光板により取り出し
た各光束を受光して複数の互いに異なる干渉位相信号を
発生する受光手段とを有することを特徴とする干渉計測
装置。 - 【請求項2】 前記水晶板の段差tは、λを可干渉光束
の波長、neを異常光屈折率、noを常光屈折率、Nを
整数としたときに、t=λ/{4N・(ne−no)}と
した請求項1に記載の干渉計測装置。 - 【請求項3】 直線偏光光束を重ね合わせた光束を4つ
の分割光束とする光分割手段と、これらの4つの分割光
束に互いに1/4波長の整数倍の位相差を与えるための
所定の段差を形成した水晶板と、該水晶板を介した各分
割光束が入射する45度方位に光学軸を有する偏光板
と、該偏光板を介した各光束の干渉による明暗信号とし
て4相プッシュプル信号を形成するための4つの受光素
子とを有することを特徴とする干渉計測装置。 - 【請求項4】 可干渉光束を2分割し、それぞれの光路
を経由した光束の波面の位相を変調して互いに直交する
直線偏光光束とし、該直線偏光光束の波面を再び重ね合
わせる光学部材と、2つの直交する波面の直線偏光を1
つの回転する直線偏光に合成するための光学部材と、該
光学部材により合成された直線偏光光束を複数光束に分
割する光分割手段と、1枚の基板上に前記複数光束の入
射位置に応じて所定の偏光透過特性を有するように格子
の向きを変えて形成した格子板と、該格子板により取り
出した各光束を受光して複数の異なる干渉位相信号を発
生する受光手段とを有することを特徴とする干渉計測装
置。 - 【請求項5】 前記格子板は1つの平面上の複数の領域
に分けて、金属パターンから成る透過、非透過の格子パ
ターンが記録されていて、これらの格子線の方位が領域
ごとに互いに異なるように記録された光学素子を利用し
たものであることを特徴とする請求項4に記載の干渉計
測装置。 - 【請求項6】 可干渉光束から相対移動する回折格子に
よって発生させた互いに異なる次数の回折光を、互いに
直交する直線偏光光束として波面を重ね合わせるための
光学部材と、該光学部材により重ね合わせた光束を複数
の光束に分割する光分割部材と、1枚の基板上に前記複
数の光束の入射位置に応じて所定の段差を形成した水晶
板と、該水晶板を透過した各光束を45度偏光成分で取
り出す偏光板と、該偏光板により取り出した各光束を受
光して複数の互いに異なる干渉位相信号を発生する受光
手段とを有することを特徴とする格子干渉式エンコー
ダ。 - 【請求項7】 可干渉光束を相対移動する回折格子に照
明して得られた互いに異なる次数の回折光を、互いに直
交する直線偏光格子として重ね合わせるための光学部材
と、2つの直交する波面の直線偏光を1つの回転する直
線偏光に合成するための光学部材と、該光学部材により
合成した直線偏光光束を複数光束に分割する光分割手段
と、1枚の基板上に前記複数光束の入射位置に応じて所
定の偏光透過特性を有するように格子の向きを変えて形
成した格子板と、該格子板により取り出した各光束を受
光して複数の異なる干渉位相信号を発生する受光手段と
を有することを特徴とする格子干渉式エンコーダ。 - 【請求項8】 直線偏光光束を重ね合わせた光束を複数
光束に分割する光分割手段と、前記複数光束間に所定の
位相差を与えるために光束の入射位置に応じた光路差を
設けた光透過部材と、該光透過部材を透過した前記複数
光束が入射する偏光板とを有し、該偏光板から明暗の位
相の異なる干渉光束を出射することを特徴とする光学装
置。 - 【請求項9】 直線偏光光束を重ね合わせた光束を1つ
の回転する直線偏光光束とする手段と、該回転する直線
偏光光束を複数光束に分割する光分割手段と、前記複数
光束間に所定の位相差を与えるために光束の入射位置に
応じた偏光透過性を備えた光透過部材とを有し、該光透
過部材から明暗の位相の異なる干渉光束を出射すること
を特徴とする光学装置。 - 【請求項10】 複数の光束に対して並列して作用し、
複数の互いに異なる位相決定手段を一体的に有すること
を特徴とする光学素子。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008286518A (ja) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Hitachi Ltd | 変位計測方法とその装置 |
| JP2009535609A (ja) * | 2006-04-28 | 2009-10-01 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 画像の記録及び表面の調査のための方法及び装置 |
| WO2011043354A1 (ja) * | 2009-10-05 | 2011-04-14 | 太陽誘電株式会社 | 変位計測方法及び変位計測装置 |
| JP2012177701A (ja) * | 2012-04-11 | 2012-09-13 | Hitachi Ltd | 表面計測方法とその装置 |
| US9573569B2 (en) | 2009-10-05 | 2017-02-21 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Regenerative brake device and motor-assisted vehicle provided with the same |
| CN112630879A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-09 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种相位延迟元件及相位延迟装置 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4846909B2 (ja) * | 2000-02-15 | 2011-12-28 | キヤノン株式会社 | 光学式エンコーダ及び回折格子の変位測定方法 |
| JP2004212243A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-07-29 | Canon Inc | 格子干渉型光学式エンコーダ |
| US7230717B2 (en) * | 2003-08-28 | 2007-06-12 | 4D Technology Corporation | Pixelated phase-mask interferometer |
| JP2006163291A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Canon Inc | 光学素子及びその製造方法 |
| US7466426B2 (en) * | 2005-12-14 | 2008-12-16 | General Electric Company | Phase shifting imaging module and method of imaging |
| JP4852318B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2012-01-11 | 株式会社マグネスケール | 変位検出装置、偏光ビームスプリッタ及び回折格子 |
| JP5523664B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-06-18 | 株式会社ミツトヨ | 干渉計 |
| JP5381371B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2014-01-08 | 株式会社リコー | 偏光分離デバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
| TWI417519B (zh) * | 2009-12-10 | 2013-12-01 | Ind Tech Res Inst | 干涉相位差量測方法及其系統 |
| EP2792996A1 (en) * | 2013-04-17 | 2014-10-22 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Interferometric distance sensing device and method |
| CN109238148B (zh) * | 2018-09-13 | 2020-10-27 | 清华大学 | 一种五自由度外差光栅干涉测量系统 |
Family Cites Families (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3316799A (en) * | 1962-11-07 | 1967-05-02 | Barnes Eng Co | Two axis autocollimator using polarized light |
| DE2127483A1 (de) | 1971-06-03 | 1972-12-14 | Leitz Ernst Gmbh | Verfahren zur interferentiellen Messung von Langen, Winkeln, Gangunter schieden oder Geschwindigkeiten |
| FR2615281B1 (fr) * | 1987-05-11 | 1996-08-23 | Canon Kk | Dispositif de mesure d'une distance en mouvement relatif de deux objets mobiles l'un par rapport a l'autre |
| US5172186A (en) * | 1990-07-03 | 1992-12-15 | Konica Corporation | Laser interferometry length measuring an apparatus employing a beam slitter |
| DE4033013C2 (de) * | 1990-10-18 | 1994-11-17 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Polarisationsoptische Anordnung |
| JP3066923B2 (ja) * | 1991-07-29 | 2000-07-17 | キヤノン株式会社 | エンコーダ及びこれを有するシステム |
| US5283434A (en) | 1991-12-20 | 1994-02-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Displacement detecting device with integral optics |
| GB9127191D0 (en) * | 1991-12-21 | 1992-02-19 | T & N Technology Ltd | Flanged bearings |
| JP3658763B2 (ja) | 1992-02-07 | 2005-06-08 | ソニー株式会社 | 光磁気記憶装置用光ピックアップ装置 |
| EP0561015A1 (de) * | 1992-03-17 | 1993-09-22 | International Business Machines Corporation | Interferometrische Phasenmessung |
| US5390022A (en) | 1992-04-07 | 1995-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Displacement information detection apparatus for receiving a divergent light beam |
| JP2899165B2 (ja) | 1992-05-15 | 1999-06-02 | キヤノン株式会社 | ドップラー速度計及び変位情報検出装置 |
| JP3254737B2 (ja) | 1992-06-17 | 2002-02-12 | キヤノン株式会社 | エンコーダー |
| JP3478567B2 (ja) | 1992-09-25 | 2003-12-15 | キヤノン株式会社 | 回転情報検出装置 |
| JPH06194123A (ja) | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Canon Inc | 変位検出装置 |
| JP3210111B2 (ja) | 1992-12-24 | 2001-09-17 | キヤノン株式会社 | 変位検出装置 |
| JP3173208B2 (ja) | 1993-01-29 | 2001-06-04 | キヤノン株式会社 | 変位測定装置 |
| JP3083019B2 (ja) | 1993-03-05 | 2000-09-04 | キヤノン株式会社 | 光学装置及び速度情報検出装置 |
| US5424535A (en) * | 1993-04-29 | 1995-06-13 | The Boeing Company | Optical angle sensor using polarization techniques |
| JP3082516B2 (ja) | 1993-05-31 | 2000-08-28 | キヤノン株式会社 | 光学式変位センサおよび該光学式変位センサを用いた駆動システム |
| US5502466A (en) | 1993-06-29 | 1996-03-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Doppler velocimeter and position information detection apparatus for use with objects having variations in surface depth |
| JP3028716B2 (ja) | 1993-09-29 | 2000-04-04 | キヤノン株式会社 | 光学式変位センサ |
| JP3530573B2 (ja) | 1994-04-27 | 2004-05-24 | キヤノン株式会社 | 光学式変位センサ |
| CA2122782C (en) * | 1994-05-03 | 1999-07-27 | Wojtek J. Bock | Apparatus for measuring an ambient physical parameter applied to a highly birefringent sensing fiber and method |
| JP3495783B2 (ja) * | 1994-05-13 | 2004-02-09 | キヤノン株式会社 | エンコーダ |
| JP3491969B2 (ja) | 1994-06-27 | 2004-02-03 | キヤノン株式会社 | 変位情報測定装置 |
| JP3513247B2 (ja) | 1994-07-11 | 2004-03-31 | キヤノン株式会社 | 周波数シフター及びそれを用いた光学式変位計測装置 |
| JP3450446B2 (ja) | 1994-08-03 | 2003-09-22 | キヤノン株式会社 | 光学式変位検出装置 |
| US5815267A (en) | 1994-09-09 | 1998-09-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Displacement information measuring apparatus in which a light-receiving condition on a photodetector is adjustable |
| JPH08210814A (ja) | 1994-10-12 | 1996-08-20 | Canon Inc | 光学式変位測定装置 |
| JPH08219812A (ja) | 1995-02-15 | 1996-08-30 | Canon Inc | 変位情報検出装置、変位情報検出用スケール及びこれを用いたドライブ制御装置 |
| DE69622297T2 (de) | 1995-02-21 | 2002-11-21 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Vorrichtung zur Bestimmung einer Verschiebung und deren Verwendung in einer Einrichtung zur Antriebsregelung |
| US5796470A (en) | 1995-02-28 | 1998-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Frequency shifter and optical displacement measuring apparatus using the frequency shifter |
| JP3492012B2 (ja) | 1995-03-09 | 2004-02-03 | キヤノン株式会社 | 変位情報検出装置 |
| JP3548275B2 (ja) | 1995-05-12 | 2004-07-28 | キヤノン株式会社 | 変位情報測定装置 |
| JPH08304430A (ja) | 1995-05-12 | 1996-11-22 | Canon Inc | 周波数シフタ及びそれを用いた光学式変位計測装置 |
| EP0831679B1 (en) * | 1995-06-05 | 2008-10-01 | Musashino Kikai Co., Ltd. | Power supply for multielectrode discharge |
| US6229140B1 (en) | 1995-10-27 | 2001-05-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Displacement information detection apparatus |
| JP3647135B2 (ja) | 1996-04-15 | 2005-05-11 | キヤノン株式会社 | 光学式変位情報測定装置 |
| US6151185A (en) | 1996-09-05 | 2000-11-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting apparatus, positioning apparatus, and information recording apparatus using the same |
| DE19652113A1 (de) * | 1996-12-14 | 1998-06-18 | Johannes Prof Dr Schwider | Echtzeitinterferometer mit "phase shift"-Auswertung in "single-frame"-Technik |
| US6075235A (en) * | 1997-01-02 | 2000-06-13 | Chun; Cornell Seu Lun | High-resolution polarization-sensitive imaging sensors |
| US6631047B2 (en) * | 1997-09-22 | 2003-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Interference device, position detecting device, positioning device and information recording apparatus using the same |
| JPH11351813A (ja) | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Canon Inc | 干渉装置及びそれを用いた位置検出装置 |
| US6674066B1 (en) | 1999-04-16 | 2004-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Encoder |
| US6304330B1 (en) * | 1999-10-06 | 2001-10-16 | Metrolaser, Inc. | Methods and apparatus for splitting, imaging, and measuring wavefronts in interferometry |
-
1999
- 1999-03-12 JP JP06679899A patent/JP4365927B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-10 US US09/523,312 patent/US6657181B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 EP EP00105083A patent/EP1037019A3/en not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-04-30 US US10/425,680 patent/US7034947B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-01-20 US US11/335,565 patent/US7375820B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009535609A (ja) * | 2006-04-28 | 2009-10-01 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 画像の記録及び表面の調査のための方法及び装置 |
| JP2008286518A (ja) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Hitachi Ltd | 変位計測方法とその装置 |
| US8860946B2 (en) | 2007-05-15 | 2014-10-14 | Hitachi, Ltd. | Polarizing different phases of interfered light used in a method and apparatus for measuring displacement of a specimen |
| WO2011043354A1 (ja) * | 2009-10-05 | 2011-04-14 | 太陽誘電株式会社 | 変位計測方法及び変位計測装置 |
| JPWO2011043354A1 (ja) * | 2009-10-05 | 2013-03-04 | 太陽誘電株式会社 | 変位計測方法及び変位計測装置 |
| US8730483B2 (en) | 2009-10-05 | 2014-05-20 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Interferometric measurement of displacement in axial direction of a grating |
| US9573569B2 (en) | 2009-10-05 | 2017-02-21 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Regenerative brake device and motor-assisted vehicle provided with the same |
| JP2012177701A (ja) * | 2012-04-11 | 2012-09-13 | Hitachi Ltd | 表面計測方法とその装置 |
| CN112630879A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-09 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种相位延迟元件及相位延迟装置 |
| CN112630879B (zh) * | 2020-12-25 | 2022-09-30 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种相位延迟元件及相位延迟装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1037019A3 (en) | 2001-11-07 |
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| JP4365927B2 (ja) | 2009-11-18 |
| US7375820B2 (en) | 2008-05-20 |
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| US7034947B2 (en) | 2006-04-25 |
| US6657181B1 (en) | 2003-12-02 |
| EP1037019A2 (en) | 2000-09-20 |
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