JP2000035151A - Process gas supply unit - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は上記問題点を解決し、コンパクト化
したプロセスガス供給ユニットを提供することを目的と
する。
【解決手段】 入力開閉弁と、マスフローコントローラ
と、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記入口開閉弁及び前記出口開閉弁とが入力電
磁弁17、出力電磁弁19であって、中空状のボビン4
1の外周に巻線されたコイル32と、ボビン41の中空
部に上側から装着され下側に突き出した固定鉄心40
と、コイル32に通電されたときに固定鉄心40に吸引
される可動鉄心33と、内周が可動鉄心に固設され外周
が電磁弁本体に固設されコイルに通電されていないとき
に可動鉄心を弁シート35が弁座39に当接する方向に
付勢する板バネ34とを有している。
(57) [Problem] To solve the above problems and to provide a compact process gas supply unit. SOLUTION: In a process gas supply unit having an input on-off valve, a mass flow controller, and an outlet on-off valve, the inlet on-off valve and the outlet on-off valve are an input solenoid valve 17, an output solenoid valve 19, and are hollow. Bobbin 4
1 and a fixed core 40 attached to the hollow portion of the bobbin 41 from above and protruding downward.
A movable core 33 attracted to the fixed core 40 when the coil 32 is energized; and a movable core when the inner periphery is fixed to the movable core and the outer periphery is fixed to the solenoid valve body and the coil is not energized. And a leaf spring 34 that urges the valve seat 35 in the direction in which the valve seat 35 contacts the valve seat 39.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳
細には、電磁弁を用いて全体をコンパクト化したプロセ
スガス供給ユニットに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process gas supply unit used in a semiconductor manufacturing process, and more particularly, to a compact process gas supply unit using an electromagnetic valve.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチ
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。そして、半導体製造
工程が、複数枚のウェハをバッチ処理する方法から、ウ
ェハを1枚づつ処理する枚葉処理方法に移行するように
なり、プロセスガス供給ユニットの小型化がより強く要
求されている。プロセスガス供給ユニットを小型化する
ために、本出願人は、特許第2568365号公報によ
り、ブロック状のマニホールドに供給弁、パージ弁、真
空弁を上からボルトにより連結するプロセスガス供給ユ
ニットを提案している。2. Description of the Related Art Conventionally, a process gas supply unit for supplying a process gas such as an etching gas in a semiconductor manufacturing process has been developed. The semiconductor manufacturing process has shifted from a method of batch processing a plurality of wafers to a single wafer processing method of processing wafers one by one, and there is a strong demand for a smaller process gas supply unit. . In order to reduce the size of the process gas supply unit, the present applicant has proposed a process gas supply unit in which a supply valve, a purge valve, and a vacuum valve are connected to a block-shaped manifold by bolts from above according to Japanese Patent No. 2568365. ing.
【0003】図4に上記マニホールドを用いたプロセス
ガス供給ユニットの構成を示す。このユニットは、図5
の回路図を具体化したものである。先ず図5の回路図を
説明する。プロセスガスは、図において左端から入り、
右端から出る。手動弁1に逆止弁2が接続し、逆止弁2
にレギュレータ3が接続している。レギュレータ3は、
エアオペレーション弁である入力弁5に接続している。
レギュレータ3と入力弁5との流路の途中に圧力計4が
接続している。入力弁5は、マスフローコントローラ8
の入力ポートに接続している。また、マスフローコント
ローラ8の入力ポートには、エアオペレーション弁であ
るパージ弁6、逆止弁7を介してパージガス源が接続し
ている。マスフローコントローラ8の出力ポートは、エ
アオペレーション弁である出力弁10に接続している。
また、マスフローコントローラ8の出力ポートには、エ
アオペレーション弁である真空弁9を介して真空源であ
る真空ポンプが接続している。出力弁10は、手動弁1
1に接続している。手動弁11の出口が、半導体製造工
程の真空チャンバに接続している。FIG. 4 shows a configuration of a process gas supply unit using the above-mentioned manifold. This unit is shown in FIG.
1 is a specific example of the circuit diagram of FIG. First, the circuit diagram of FIG. 5 will be described. The process gas enters from the left end in the figure,
Exit from the right end. Check valve 2 is connected to manual valve 1 and check valve 2
Is connected to the regulator 3. Regulator 3
It is connected to an input valve 5 which is an air operation valve.
A pressure gauge 4 is connected in the middle of the flow path between the regulator 3 and the input valve 5. The input valve 5 is a mass flow controller 8
Connected to the input port of A purge gas source is connected to an input port of the mass flow controller 8 via a purge valve 6 and a check valve 7 which are air operation valves. An output port of the mass flow controller 8 is connected to an output valve 10 which is an air operation valve.
A vacuum pump as a vacuum source is connected to an output port of the mass flow controller 8 via a vacuum valve 9 as an air operation valve. The output valve 10 is a manual valve 1
Connected to 1. The outlet of the manual valve 11 is connected to a vacuum chamber in a semiconductor manufacturing process.
【0004】次に、図4により、図5の回路を具体化し
た構成を説明する。全ての機器は、取付パネルD上にボ
ルト止めされている。手動弁1は、ブラケットY1によ
り取付パネルDに固定されている。手動弁1の両端に
は、配管1a,1b及び継手Mが接続している。下流側
の配管1b、継手Mには、逆止弁2が接続している。逆
止弁2は、継手M、配管3aを介してレギュレータ3に
接続している。レギュレータ3は、ブラケットY2(構
成はブラケットY1と同じ)により取付パネルDに固定
されている。レギュレータ3の右端には、継手Mを介し
て三叉配管5a,4aが接続している。三叉配管4aに
は圧力計4が接続している。三叉配管5aには、継手M
を介してマニホールドZ1に接続している。マニホール
ドZ1の上面には入力弁5及びパージ弁6が取り付けら
れている。またマニホールドZ1のパージ弁6のポート
には、配管6a、継手Mを介して逆止弁7が接続してい
る。逆止弁7は、継手Mを介して図示しないパージガス
源に接続されている。ここで、逆止弁7から配管6aま
での流路は、マニホールドZ1に形成されている。[0004] Next, referring to FIG. 4, a configuration embodying the circuit of FIG. 5 will be described. All equipment is bolted onto the mounting panel D. The manual valve 1 is fixed to the mounting panel D by a bracket Y1. To both ends of the manual valve 1, pipes 1a and 1b and a joint M are connected. The check valve 2 is connected to the downstream pipe 1b and the joint M. The check valve 2 is connected to the regulator 3 via a joint M and a pipe 3a. The regulator 3 is fixed to the mounting panel D by a bracket Y2 (the configuration is the same as the bracket Y1). Three-pronged pipes 5a and 4a are connected to the right end of the regulator 3 via a joint M. The pressure gauge 4 is connected to the three-pronged pipe 4a. The three-pronged pipe 5a has a joint M
Is connected to the manifold Z1. An input valve 5 and a purge valve 6 are mounted on the upper surface of the manifold Z1. A check valve 7 is connected to a port of the purge valve 6 of the manifold Z1 via a pipe 6a and a joint M. The check valve 7 is connected to a purge gas source (not shown) via a joint M. Here, the flow path from the check valve 7 to the pipe 6a is formed in the manifold Z1.
【0005】マニホールドZ1は、プレートX1により
取付パネルDに固定されている。また、マニホールドZ
1には、マスフローコントローラブロックNが接続され
ている。マスフローコントローラブロックNの上面に
は、マスフローコントローラ8が付設されている。マス
フローコントローラブロックNの右端は、真空弁9及び
出力弁10が上面に取り付けられたマニホールドZ2
(構成はマニホールドZ1と同じ)に接続している。マ
ニホールドZ2は、プレートX2により取付パネルDに
固定されている。真空弁9は、真空源である真空ポンプ
に接続している。ここで、真空源からの流路は、プレー
トX2(構成はプレートX1と同じ)に形成されてい
る。マニホールドZ2は、継手M、配管11aを介して
手動弁11に接続している。手動弁11は、ブラケット
Y3(構成はブラケットY1と同じ)により取付パネル
Dに固定されている。手動弁11の右端は、配管11
b、継手Mを介して真空チャンバへと接続している。[0005] The manifold Z1 is fixed to the mounting panel D by a plate X1. Also, manifold Z
1 is connected to a mass flow controller block N. On the upper surface of the mass flow controller block N, a mass flow controller 8 is attached. The right end of the mass flow controller block N is a manifold Z2 on which the vacuum valve 9 and the output valve 10 are mounted on the upper surface.
(The configuration is the same as that of the manifold Z1). The manifold Z2 is fixed to the mounting panel D by a plate X2. The vacuum valve 9 is connected to a vacuum pump as a vacuum source. Here, the flow path from the vacuum source is formed in the plate X2 (the configuration is the same as that of the plate X1). The manifold Z2 is connected to the manual valve 11 via a joint M and a pipe 11a. The manual valve 11 is fixed to the mounting panel D by a bracket Y3 (the configuration is the same as the bracket Y1). The right end of the manual valve 11 is
b, connected to a vacuum chamber via joint M
【0006】ここで、従来、マスフローコントローラと
しては、市販されている製品が用いられている。市販の
マスフローコントローラは、質量流量センサ部、流量制
御弁部、コントローラ部より構成され、ホストコンピュ
ータからコントローラに与えられた流量値を維持するた
めに、コントローラ部が質量流量センサ部からの出力に
基づいて、流量制御弁部を制御する。そして、従来のマ
スフローコントローラシステムにおいては、マスフロー
コントローラの上流側に流体圧力を検出するための圧力
センサと、流体圧力を一定にするためのレギュレータ
と、流体を完全遮断するための遮断弁を別に設けてい
る。Here, conventionally, commercially available products have been used as mass flow controllers. A commercially available mass flow controller includes a mass flow sensor unit, a flow control valve unit, and a controller unit.The controller unit is based on an output from the mass flow sensor unit in order to maintain a flow value given from the host computer to the controller. Thus, the flow control valve is controlled. In the conventional mass flow controller system, a pressure sensor for detecting the fluid pressure, a regulator for keeping the fluid pressure constant, and a shutoff valve for completely shutting off the fluid are separately provided upstream of the mass flow controller. ing.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プロセスガス供給ユニットには次のような問題があっ
た。 (1)入力弁、パージ弁、出力弁、及び真空弁として使
用される開閉弁が、圧縮空気により駆動されるエアオペ
レーション弁であるため、各弁に対して空気配管が必要
であり、そのため、プロセスガス供給ユニットに多数の
エア配管が引き回されることとなり、プロセスガス供給
ユニットのコンパクト化を実現するときに問題であっ
た。さらに、エアオペレーション弁を駆動するエアを制
御するための電磁弁が必要であり、余分な空間を占拠す
る問題があった。However, the conventional process gas supply unit has the following problems. (1) Since the on-off valves used as the input valve, the purge valve, the output valve, and the vacuum valve are air operation valves driven by compressed air, air piping is required for each valve. A large number of air pipes are routed to the process gas supply unit, which is a problem when realizing a compact process gas supply unit. Further, an electromagnetic valve for controlling air for driving the air operation valve is required, and there has been a problem that an extra space is occupied.
【0008】ここで、従来何故、電磁式開閉弁が用いら
れずに、エアオペレーション弁が使用されていたかとい
うと、従来の電磁弁では、可動鉄心がボビン中空部内を
摺動するため、摺動部からパーティクルが発生するから
であり、半導体工程でパーティクルが発生すると半導体
製品の歩留まりが低下する問題があったからである。Here, the reason why the air operation valve has been used instead of using the electromagnetic on-off valve in the past is as follows. In the conventional solenoid valve, the movable iron core slides in the hollow portion of the bobbin. This is because particles are generated from the part, and when particles are generated in the semiconductor process, there is a problem that the yield of semiconductor products is reduced.
【0009】(2)従来のマスフローコントローラで
は、圧力センサと、レギュレータと、完全遮断弁とが、
マスフローコントローラと別体で設けられているので、
余分な空間が必要であり、コンパクト化の要求に応えら
れない問題があった。また、マスフローコントローラで
は、質量流量センサとして細管を用いているため、腐食
性ガス等を流したときに詰まりが発生する。この場合、
マスフローコントローラ全体を交換しなければならず、
マスフローコントローラの単価が高いため問題であっ
た。(2) In the conventional mass flow controller, a pressure sensor, a regulator, and a complete shutoff valve are
Since it is provided separately from the mass flow controller,
Extra space is required, and there is a problem that the demand for compactness cannot be met. Further, in the mass flow controller, since a thin tube is used as a mass flow sensor, clogging occurs when a corrosive gas or the like flows. in this case,
The entire mass flow controller must be replaced,
This was a problem because the unit price of the mass flow controller was high.
【0010】本発明は上記問題点を解決し、コンパクト
化したプロセスガス供給ユニットを提供することを目的
とする。An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a compact process gas supply unit.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構
成を有している。 (1)入口開閉弁と、マスフローコントローラと、出口
開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、
前記入口開閉弁及び前記出口開閉弁とが電磁式開閉弁で
あって、中空状のボビンの外周に巻線されたコイルと、
ボビンの中空部に上側から装着され下側に突き出した固
定鉄心と、コイルに通電されたときに固定鉄心に吸引さ
れる可動鉄心と、内周が可動鉄心に固設され外周が電磁
弁本体に固設されコイルに通電されていないときに可動
鉄心を弁シートが弁座に当接する方向に付勢する板バネ
とを有している。In order to achieve the above object, a process gas supply unit according to the present invention has the following configuration. (1) In a process gas supply unit having an inlet on-off valve, a mass flow controller, and an outlet on-off valve,
The inlet on-off valve and the outlet on-off valve are electromagnetic on-off valves, a coil wound around the outer periphery of a hollow bobbin,
A fixed core attached to the hollow part of the bobbin from above and protruding downward, a movable core attracted to the fixed core when the coil is energized, and an inner periphery fixed to the movable core and an outer periphery fixed to the solenoid valve body And a leaf spring for urging the movable iron core in a direction in which the valve seat comes into contact with the valve seat when the coil is not energized.
【0012】(2)(1)に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記プロセスガス供給ユニットに備
えられる2以上の前記電磁式開閉弁を制御するコントロ
ーラに対して、メインコントローラが制御信号をシリア
ル送信することを特徴とする。(2) In the process gas supply unit described in (1), the main controller serially transmits a control signal to a controller that controls two or more of the electromagnetic on-off valves provided in the process gas supply unit. It is characterized by doing.
【0013】(3)入口開閉弁と、マスフローコントロ
ーラと、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニッ
トにおいて、マスフローコントローラが、プロセスガス
の圧力を検出するための圧力センサとプロセスガスの質
量流量を検出するための質量流量センサとを備えるセン
サパックと、プロセスガスの圧力を調節する電磁式圧力
制御弁と、プロセスガスの流量を調節する電磁式流量制
御弁とを有している。(3) In a process gas supply unit having an inlet opening / closing valve, a mass flow controller, and an outlet opening / closing valve, the mass flow controller detects a pressure of the process gas and a mass flow rate of the process gas. A sensor pack including a mass flow sensor for controlling the pressure of the process gas, an electromagnetic pressure control valve for adjusting the pressure of the process gas, and an electromagnetic flow control valve for adjusting the flow rate of the process gas.
【0014】上記構成を有するプロセスガス供給ユニッ
トの作用を説明する。電磁式開閉弁を使用しているた
め、駆動用のエア配管を全く必要としないため、プロセ
スガス供給ユニット全体をコンパクト化できる。コイル
に通電すると、可動鉄心は、ボビンから下側に突き出し
ている固定鉄心に吸引され、弁体が弁座から離間する。
このとき、可動鉄心は、板バネにより支持されており、
可動鉄心は固定鉄心と接触しないため、パーティクルが
発生しない。コイルへの通電を遮断すると、可動鉄心
は、板バネの復帰力により弁座に当接する方向に付勢さ
れ、弁座に当接する。このときにも、可動鉄心は、何に
も接触しないため、パーティクルが発生することがな
い。The operation of the process gas supply unit having the above configuration will be described. Since an electromagnetic on-off valve is used, no driving air piping is required, and the entire process gas supply unit can be made compact. When the coil is energized, the movable core is attracted to the fixed core projecting downward from the bobbin, and the valve element is separated from the valve seat.
At this time, the movable iron core is supported by a leaf spring,
Since the movable core does not contact the fixed core, no particles are generated. When the energization of the coil is cut off, the movable iron core is urged in the direction in which it comes into contact with the valve seat by the return force of the leaf spring, and comes into contact with the valve seat. Also at this time, since the movable iron core does not contact anything, no particles are generated.
【0015】また、メインコントローラは、端子ボック
スに対して、シリアル信号を伝送しているので、配線が
少なくて済むため、プロセスガス供給ユニット全体の構
成をコンパクト化することができる。Further, since the main controller transmits the serial signal to the terminal box, the number of wirings can be reduced, so that the entire configuration of the process gas supply unit can be made compact.
【0016】センサパックの圧力センサがガスの圧力を
検出し、電磁式圧力制御弁の弁開度が検出した圧力に基
づいて制御され、ガス圧力が所定値に保持される。ま
た、センサパックの質量流量センサがガスの質量流量を
検出し、電磁式流量制御弁の弁開度が検出した質量流量
に基づいて制御される。これにより、従来の圧力計、レ
ギュレータ、マスフローコントローラ、完全遮断弁が為
していた機能を、本発明のセンサパック、電磁式圧力制
御弁、電磁式質量流量制御弁が為すことができる。従っ
て、プロセスガス供給ユニット全体をコンパクト化する
ことができる。また、質量流量センサに詰まり等が発生
したときには、センサパックを交換すれば済むので、交
換が容易であり、かつコストダウンを図ることができ
る。The pressure sensor of the sensor pack detects the gas pressure, and the valve opening of the electromagnetic pressure control valve is controlled based on the detected pressure, and the gas pressure is maintained at a predetermined value. In addition, the mass flow sensor of the sensor pack detects the mass flow of the gas, and the valve opening of the electromagnetic flow control valve is controlled based on the detected mass flow. As a result, the functions performed by the conventional pressure gauge, regulator, mass flow controller, and complete shutoff valve can be performed by the sensor pack, the electromagnetic pressure control valve, and the electromagnetic mass flow control valve of the present invention. Therefore, the entire process gas supply unit can be made compact. Further, when the mass flow sensor becomes clogged or the like, it is sufficient to replace the sensor pack, so that the replacement is easy and the cost can be reduced.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るプロセスガス
供給ユニットを具体化した実施の形態を図面を参照して
詳細に説明する。本発明の1つの実施の形態であるプロ
セスガス供給ユニットの全体構成図を図1に示す。ブロ
ック20に左側から、入力電磁弁17、パージ電磁弁1
8、圧力制御電磁弁12、センサパック13、流量制御
電磁弁14、出力電磁弁19が上側からボルトにより取
り付けられている。ここで、センサパック13内には、
プロセスガスの圧力を検出するための圧力センサ15、
プロセスガスの質量流量を検出するためのマスフローメ
ータ16が収納されている。これらのうち、圧力制御電
磁弁12、センサパック13及び流量制御電磁弁14に
より、マスフローコントローラ11が構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a process gas supply unit according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an overall configuration diagram of a process gas supply unit according to one embodiment of the present invention. From the left side of the block 20, the input solenoid valve 17, the purge solenoid valve 1
8, a pressure control solenoid valve 12, a sensor pack 13, a flow control solenoid valve 14, and an output solenoid valve 19 are attached by bolts from above. Here, in the sensor pack 13,
A pressure sensor 15 for detecting the pressure of the process gas,
A mass flow meter 16 for detecting the mass flow rate of the process gas is housed. Among them, the pressure control solenoid valve 12, the sensor pack 13, and the flow rate control solenoid valve 14 constitute the mass flow controller 11.
【0018】ブロック20には、入力電磁弁17の入力
ポートと接続する入力流路21、入力電磁弁17の出力
ポートとパージ電磁弁18の入力ポートとを接続する入
力パージ流路22、パージ電磁弁18にパージガスを供
給するパージ流路23、パージ電磁弁18の出力ポート
と圧力制御電磁弁12の入力ポートとを接続するパージ
圧力流路24、圧力制御電磁弁12の出力ポートと流量
制御電磁弁14の入力ポートとを接続しつつセンサパッ
ク13内の圧力センサ15及びマスフローメータ16に
連通するセンサ流路25、流量制御電磁弁14の出力ポ
ート出力電磁弁19の入力ポートとを接続する流量出力
流路26、出力電磁弁19の出力ポートと接続する出力
流路27が形成されている。The block 20 includes an input flow path 21 connected to the input port of the input electromagnetic valve 17, an input purge flow path 22 connecting the output port of the input electromagnetic valve 17 to the input port of the purge electromagnetic valve 18, A purge passage 23 for supplying a purge gas to the valve 18, a purge pressure passage 24 connecting an output port of the purge solenoid valve 18 and an input port of the pressure control solenoid valve 12, an output port of the pressure control solenoid valve 12, and a flow control solenoid. A sensor flow path 25 communicating with the pressure sensor 15 and the mass flow meter 16 in the sensor pack 13 while connecting the input port of the valve 14, an output port of the flow control solenoid valve 14, and a flow rate connecting the input port of the output solenoid valve 19. An output flow path 27 connected to the output flow path 26 and the output port of the output solenoid valve 19 is formed.
【0019】また、端子ボックス29の入力ポートに
は、圧力センサ15、マスフローメータ16及びメイン
コントローラ30が接続している。端子ボックス29と
メインコントローラ30とを接続する信号線には、シリ
アル信号が転送される。端子ボックス29は、シリアル
信号を受けて、各電磁弁にパラレル信号として出力する
シリアルーパラレル変換器としての機能を有している。
また、圧力センサ15及びマスフローメータ16から受
けた信号をシリアル信号としてメインコントローラ30
に送信する機能を有している。また、端子ボックス29
の出力ポートには、入力電磁弁17、パージ電磁弁1
8、圧力制御電磁弁12、流量制御電磁弁14、出力電
磁弁19のコイル部が接続している。The input port of the terminal box 29 is connected to the pressure sensor 15, the mass flow meter 16, and the main controller 30. A serial signal is transferred to a signal line connecting the terminal box 29 and the main controller 30. The terminal box 29 has a function as a serial-parallel converter that receives a serial signal and outputs it as a parallel signal to each solenoid valve.
In addition, signals received from the pressure sensor 15 and the mass flow meter 16 are converted into serial signals as serial signals.
Has the function of transmitting to Also, the terminal box 29
The output ports of the input solenoid valve 17 and the purge solenoid valve 1
8. The coil portions of the pressure control solenoid valve 12, the flow control solenoid valve 14, and the output solenoid valve 19 are connected.
【0020】次ぎに、入力電磁弁17、パージ電磁弁1
8、圧力制御電磁弁12、流量制御電磁弁14、及び出
力電磁弁19として使用される電磁弁の基本構造を説明
する。図2に電磁弁31の断面図を示す。中空状のボビ
ン41の外周に巻線されたコイル32のボビン41中空
部に、上側から固定鉄心40が装着されボビン41の下
側からボビンの外に突き出している。コイル32に通電
されると、固定鉄心が電磁石となる。弁部本体38に
は、入力流路36、出力流路37及び入力流路36の端
部に弁座39が形成されている。弁座39に当接または
離間する位置に弁体33が、板バネ34に保持されてい
る。弁体33及び板バネ34の詳細拡大図を図3に示
す。図3(a)が板バネ側からみた平面図であり、
(b)が(a)のAA断面図である。Next, the input solenoid valve 17 and the purge solenoid valve 1
8. The basic structure of a solenoid valve used as the pressure control solenoid valve 12, the flow control solenoid valve 14, and the output solenoid valve 19 will be described. FIG. 2 shows a sectional view of the solenoid valve 31. A fixed iron core 40 is mounted on the bobbin 41 hollow portion of the coil 32 wound around the outer periphery of the hollow bobbin 41 from above, and protrudes out of the bobbin from below the bobbin 41. When the coil 32 is energized, the fixed iron core becomes an electromagnet. The valve body 38 has an input flow path 36, an output flow path 37, and a valve seat 39 formed at an end of the input flow path 36. The valve body 33 is held by a leaf spring 34 at a position where it comes into contact with or separates from the valve seat 39. FIG. 3 shows a detailed enlarged view of the valve element 33 and the leaf spring 34. FIG. 3A is a plan view seen from the leaf spring side,
(B) is AA sectional drawing of (a).
【0021】板バネ34は、図3(a)に示すように、
エッチングにより中がくり抜かれた構造となっている。
そして、板バネ34の中央に弁体33がスポット溶接に
より結合されている。板バネ34の外周は、弁本体33
に挟まれて固定されているが、くり抜かれた後の残って
いる部分がバネの役割をするため、弁体33は、軸心方
向に移動可能であり、また、移動した場合には、板バネ
34は、常に図3(b)の状態に戻そうとする復帰力を
弁体33に付勢する。また、金属製である弁体33の弁
座39に当接する部分には、ゴムやプラスチックからな
る弾性体の弁シート35が接着剤等により固着されてい
る。The leaf spring 34 is, as shown in FIG.
The structure is hollowed out by etching.
The valve body 33 is connected to the center of the leaf spring 34 by spot welding. The outer periphery of the leaf spring 34 is
The valve body 33 can be moved in the axial direction because the remaining portion after being hollowed out functions as a spring. The spring 34 constantly urges the valve body 33 with a return force for returning to the state shown in FIG. An elastic valve sheet 35 made of rubber or plastic is fixed to a portion of the valve body 33 made of metal, which is in contact with the valve seat 39, with an adhesive or the like.
【0022】次ぎに、上記構成を有するプロセスガス供
給ユニットの作用について説明する。始めに、電磁弁3
1の作用を説明する。コイル32に通電されると、固定
鉄心40に磁界が発生し、固定鉄心が電磁石となり、弁
体33を吸引する。その吸引力が、弁体33を現在位置
に保持しようとする板バネ34の復帰力に打ち勝つこと
により弁体33が上向きに移動して、弁シート35が弁
座39から離間する。このとき、板バネ34は、図3
(a)に示す残っている部分が変形するだけであり、弁
体33はどこにも接触していないため、摺動する部分が
全くなく、パーティクルが発生することがない。これに
より、入力流路36と出力流路37とが連通してプロセ
スガスが流れる。Next, the operation of the process gas supply unit having the above configuration will be described. First, solenoid valve 3
1 will be described. When the coil 32 is energized, a magnetic field is generated in the fixed iron core 40, and the fixed iron core becomes an electromagnet to attract the valve element 33. The suction force overcomes the return force of the leaf spring 34 that attempts to hold the valve body 33 at the current position, so that the valve body 33 moves upward, and the valve seat 35 separates from the valve seat 39. At this time, the leaf spring 34
Only the remaining portion shown in (a) is deformed, and the valve body 33 is not in contact with any part. Therefore, there is no sliding portion and no particles are generated. As a result, the input flow path 36 and the output flow path 37 communicate with each other, and the process gas flows.
【0023】ここで、コイル32に通電する電流値を単
純なオンオフにすれば、電磁弁も単純なオンオフ弁とな
る。入力電磁弁17、パージ電磁弁18、出力電磁弁1
9は、単純なオンオフ弁である。また、コイル32を吸
引力に対する電流値の比例帯が大きい特性のものにし、
電流信号を変えることにより、電磁弁31を流量制御弁
として機能させることが可能である。圧力制御電磁弁1
2、流量制御電磁弁14は、流量制御弁である。Here, if the value of the current supplied to the coil 32 is simply turned on and off, the solenoid valve also becomes a simple on / off valve. Input solenoid valve 17, Purge solenoid valve 18, Output solenoid valve 1
9 is a simple on / off valve. Further, the coil 32 has a characteristic in which the proportional band of the current value to the attraction force is large,
By changing the current signal, the solenoid valve 31 can function as a flow control valve. Pressure control solenoid valve 1
2. The flow control solenoid valve 14 is a flow control valve.
【0024】次ぎに、コイル32への通電を遮断する
と、固定鉄心40内の磁界がなくなり、弁体33を吸引
している力がなくなるため、板バネ34の復帰力によ
り、弁体33が下向きの力を受け、弁シート35が弁座
39に所定の力で当接する。この動きにおいても、板バ
ネ34は、図3(a)に示す残っている部分が変形する
だけであり、弁体33はどこにも接触していないため、
摺動する部分が全くなく、パーティクルが発生すること
がない。これにより、入力流路36と出力流路37とが
遮断されプロセスガスが遮断される。Next, when the power supply to the coil 32 is cut off, the magnetic field in the fixed iron core 40 disappears, and the force for attracting the valve body 33 disappears. , The valve seat 35 contacts the valve seat 39 with a predetermined force. Also in this movement, the leaf spring 34 only deforms the remaining portion shown in FIG. 3A, and the valve body 33 does not contact anywhere.
There is no sliding portion, and no particles are generated. Thereby, the input flow path 36 and the output flow path 37 are shut off, and the process gas is shut off.
【0025】次ぎに、図1のプロセスガス供給ユニット
の作用を説明する。真空チャンバにプロセスガスを供給
するときは、メインコントローラ30は、端子ボックス
29にシリアル信号を送信し、端子ボックス29は、シ
リアル信号をパラレル信号に変換して、パージ電磁弁1
8を閉じた状態で入力電磁弁17及び出力電磁弁19を
開く。これにより、プロセスガスがセンサパック13内
を流れ出す。圧力センサ15は、プロセスガスの圧力を
検出し、コントローラ29に入力する。また、マスフロ
ーメータ16は、プロセスガスの質量流量を検出し、端
子ボックス29を介してメインコントローラ30に入力
する。メインコントローラ30は、圧力センサ15が検
出した圧力に基づいて、端子ボックス29を介して圧力
制御電磁弁12を制御してプロセスガスの圧力を所定値
に保持する。また、メインコントローラ30は、マスフ
ローメータ16が検出した質量流量に基づいて、端子ボ
ックス29を介して流量制御電磁弁14を制御してプロ
セスガスの質量流量を所定値に保持する。通常、プロセ
スガスの圧力及び質量流量が所定値になるまでは、その
ガスは、廃棄され、圧力及び質量流量が所定値になった
後、真空チャンバに供給される。Next, the operation of the process gas supply unit of FIG. 1 will be described. When supplying the process gas to the vacuum chamber, the main controller 30 transmits a serial signal to the terminal box 29, and the terminal box 29 converts the serial signal into a parallel signal, and converts the serial signal into a parallel signal.
The input solenoid valve 17 and the output solenoid valve 19 are opened with the 8 closed. As a result, the process gas flows out of the sensor pack 13. The pressure sensor 15 detects the pressure of the process gas and inputs the detected pressure to the controller 29. The mass flow meter 16 detects the mass flow rate of the process gas and inputs the detected mass flow rate to the main controller 30 via the terminal box 29. The main controller 30 controls the pressure control solenoid valve 12 via the terminal box 29 based on the pressure detected by the pressure sensor 15 to maintain the pressure of the process gas at a predetermined value. Further, the main controller 30 controls the flow control solenoid valve 14 via the terminal box 29 based on the mass flow rate detected by the mass flow meter 16 to maintain the mass flow rate of the process gas at a predetermined value. Usually, until the pressure and the mass flow rate of the process gas reach a predetermined value, the gas is discarded, and is supplied to the vacuum chamber after the pressure and the mass flow rate reach the predetermined values.
【0026】次ぎに、メインコントローラ30は、ガス
供給停止の指令を受けると、端子ボックス29を介して
出力電磁弁19及び入力電磁弁17を遮断する。その
後、パージ電磁弁18を開いて、ブロック20の流路内
等に残留しているプロセスガスを吸引し、また窒素ガス
パージを行うことを繰り返すことにより、ブロック20
内流路等に残留しているプロセスガスを窒素ガスに置換
する。Next, when receiving a command to stop gas supply, the main controller 30 shuts off the output solenoid valve 19 and the input solenoid valve 17 via the terminal box 29. Thereafter, the purge solenoid valve 18 is opened, the process gas remaining in the flow path of the block 20 and the like is sucked, and the nitrogen gas purge is repeatedly performed, thereby repeating the block 20.
The process gas remaining in the inner passage and the like is replaced with nitrogen gas.
【0027】以上詳細に説明したように、本実施の形態
のプロセスガス供給ユニットによれば、入力開閉弁と、
マスフローコントローラと、出口開閉弁とを有するプロ
セスガス供給ユニットにおいて、前記入口開閉弁及び前
記出口開閉弁とが入力電磁弁17、出力電磁弁19であ
って、中空状のボビン41の外周に巻線されたコイル3
2と、ボビン41の中空部に上側から装着され下側に突
き出した固定鉄心40と、コイル32に通電されたとき
に固定鉄心40に吸引される可動鉄心33と、内周が可
動鉄心に固設され外周が電磁弁本体に固設されコイルに
通電されていないときに可動鉄心を弁シート35が弁座
39に当接する方向に付勢する板バネ34とを有してい
るので、エアオペレーション弁を使用していないため、
駆動用のエア配管を全く必要としないため、プロセスガ
ス供給ユニット全体をコンパクト化できる。As described in detail above, according to the process gas supply unit of the present embodiment, the input on-off valve,
In a process gas supply unit having a mass flow controller and an outlet on-off valve, the inlet on-off valve and the outlet on-off valve are the input solenoid valve 17 and the output solenoid valve 19, and are wound around the outer periphery of a hollow bobbin 41. Coil 3
2, a fixed core 40 attached to the hollow portion of the bobbin 41 from above and protruding downward, a movable core 33 attracted to the fixed core 40 when the coil 32 is energized, and an inner periphery fixed to the movable core. A leaf spring 34 for biasing the movable iron core in a direction in which the valve seat 35 comes into contact with the valve seat 39 when the coil is not energized. Since no valve is used,
Since no driving air piping is required, the entire process gas supply unit can be made compact.
【0028】また、本実施の形態のプロセスガス供給ユ
ニットによれば、プロセスガス供給ユニットに備えられ
る2以上の前記電磁式開閉弁を制御するコントローラに
対して、メインコントローラが制御信号をシリアル送信
しているので、配線が少なくて済むため、プロセスガス
供給ユニット全体の構成をコンパクト化することができ
る。Further, according to the process gas supply unit of the present embodiment, the main controller serially transmits a control signal to a controller for controlling the two or more electromagnetic on-off valves provided in the process gas supply unit. Therefore, the number of wirings can be reduced, and the configuration of the entire process gas supply unit can be made compact.
【0029】また、本実施の形態のプロセスガス供給ユ
ニットによれば、入口開閉弁と、マスフローコントロー
ラと、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニット
において、マスフローコントローラが、プロセスガスの
圧力を検出するための圧力センサ15とプロセスガスの
質量流量を検出するためのマスフローメータ16とを備
えるセンサパック13と、プロセスガスの圧力を調節す
る圧力制御電磁弁12と、プロセスガスの流量を調節す
る流量制御電磁弁14とを有しているので、従来の圧力
計、レギュレータ、マスフローコントローラ、完全遮断
弁が為していた機能を、本実施の形態のセンサパック1
3、圧力制御電磁弁12、流量制御電磁弁14が為すこ
とができ、プロセスガス供給ユニット全体をコンパクト
化することができる。また、マスフローメータ16に詰
まり等が発生したときには、センサパック13を交換す
れば済むので、交換が容易であり、かつコストダウンを
図ることができる。According to the process gas supply unit of the present embodiment, in the process gas supply unit having the inlet on-off valve, the mass flow controller, and the outlet on-off valve, the mass flow controller detects the pressure of the process gas. Sensor 13 having a pressure sensor 15 for detecting the mass flow rate of the process gas, a pressure control solenoid valve 12 for adjusting the pressure of the process gas, and a flow control for adjusting the flow rate of the process gas The sensor pack 1 according to the present embodiment has the functions of the conventional pressure gauge, the regulator, the mass flow controller, and the complete shut-off valve because of having the solenoid valve 14.
3. The pressure control solenoid valve 12 and the flow control solenoid valve 14 can be used, and the whole process gas supply unit can be made compact. Further, when the mass flow meter 16 becomes clogged or the like, the sensor pack 13 need only be replaced, so that the replacement is easy and the cost can be reduced.
【0030】なお、本発明は上記実施の形態に何ら限定
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲に
おいて以下のように実施することもできる。例えば、上
記各実施の形態では、圧力センサ15及びマスフローメ
ータ16をセンサパック13内に固定し、マスフローメ
ータ16が故障したときにセンサパック13として全体
を交換しているが、センサパック13内のマスフローメ
ータ16のみ交換して、圧力センサ15をそのまま使用
しても良い。It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment at all, and can be carried out as follows without departing from the spirit of the present invention. For example, in each of the above embodiments, the pressure sensor 15 and the mass flow meter 16 are fixed in the sensor pack 13, and when the mass flow meter 16 fails, the entire sensor pack 13 is replaced. The pressure sensor 15 may be used as it is by replacing only the mass flow meter 16.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明のプロセスガス供給ユニットによ
れば、入力開閉弁と、マスフローコントローラと、出口
開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、
前記入口開閉弁及び前記出口開閉弁とが電磁弁であっ
て、中空状のボビンの外周に巻線されたコイルと、ボビ
ンの中空部に上側から装着され下側に突き出した固定鉄
心と、コイルに通電されたときに固定鉄心に吸引される
可動鉄心と、内周が可動鉄心に固設され外周が電磁弁本
体に固設されコイルに通電されていないときに可動鉄心
を弁シートが弁座に当接する方向に付勢する板バネとを
有しているので、エアオペレーション弁を使用していな
いため、駆動用のエア配管を全く必要としないため、プ
ロセスガス供給ユニット全体をコンパクト化できる。According to the process gas supply unit of the present invention, in a process gas supply unit having an input on-off valve, a mass flow controller, and an outlet on-off valve,
The inlet opening and closing valve and the outlet opening and closing valve are solenoid valves, a coil wound around the outer periphery of a hollow bobbin, a fixed iron core mounted on the hollow portion of the bobbin from above and protruding downward, and a coil. The movable iron core is attracted to the fixed iron core when energized, and the inner seat is fixed to the movable iron core, the outer periphery is fixed to the solenoid valve body, and the valve seat seats the movable iron core when the coil is not energized. Since it has a leaf spring that urges in the direction in which it comes into contact with the device, no air operation valve is used, and no driving air piping is required, so that the entire process gas supply unit can be made compact.
【図1】本発明の1実施の形態であるプロセスガス供給
ユニットの全体構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a process gas supply unit according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明のプロセスガス供給ユニットで使用され
る電磁弁の構造を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a solenoid valve used in the process gas supply unit of the present invention.
【図3】電磁弁で使用される弁体及び板バネの詳細拡大
図である。FIG. 3 is a detailed enlarged view of a valve body and a leaf spring used in the solenoid valve.
【図4】従来のプロセスガス供給ユニットの全体構成を
示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an overall configuration of a conventional process gas supply unit.
【図5】図4の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of FIG. 4;
12 圧力制御電磁弁 13 センサパック 14 流量制御電磁弁 15 圧力センサ 16 マスフローメータ 17 入力電磁弁 18 パージ電磁弁 19 出力電磁弁 29 端子ボックス 30 メインコントローラ 33 弁体 34 板バネ 12 Pressure control solenoid valve 13 Sensor pack 14 Flow control solenoid valve 15 Pressure sensor 16 Mass flow meter 17 Input solenoid valve 18 Purge solenoid valve 19 Output solenoid valve 29 Terminal box 30 Main controller 33 Valve body 34 Leaf spring
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3H065 AA01 BB11 CA07 3H066 AA01 BA12 BA17 BA38 3H106 DA07 DA13 DA23 DB02 DB12 DB23 DB32 DB38 DC02 DC17 DD03 EE30 EE34 EE42 EE48 FB11 FB12 FB40 GA24 GC26 KK01 KK31 5F004 AA16 BC03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3H065 AA01 BB11 CA07 3H066 AA01 BA12 BA17 BA38 3H106 DA07 DA13 DA23 DB02 DB12 DB23 DB32 DB38 DC02 DC17 DD03 EE30 EE34 EE42 EE48 FB11 FB12 FB40 GA24 GC26 KK01 KK31 503004 A
Claims (3)
と、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットに
おいて、 前記入口開閉弁及び前記出口開閉弁とが、電磁式開閉弁
であって、 中空状のボビンの外周に巻線されたコイルと、 前記ボビンの中空部に上側から装着され下側に突き出し
た固定鉄心と、 前記コイルに通電されたときに、前記固定鉄心に吸引さ
れる可動鉄心と、 内周が前記可動鉄心に固設され、外周が電磁弁本体に固
設され、前記コイルに通電されていないときに、前記可
動鉄心を前記弁シートが弁座に当接する方向に付勢する
板バネとを有することを特徴とするプロセスガス供給ユ
ニット。1. A process gas supply unit having an inlet on-off valve, a mass flow controller, and an outlet on-off valve, wherein the inlet on-off valve and the outlet on-off valve are electromagnetic on-off valves, and a hollow bobbin. A coil wound around an outer periphery of the bobbin, a fixed core mounted on the hollow portion of the bobbin from above and protruding downward, and a movable core attracted to the fixed core when the coil is energized. A leaf spring whose periphery is fixed to the movable core, whose outer periphery is fixed to the solenoid valve body, and which urges the movable core in a direction in which the valve seat comes into contact with the valve seat when the coil is not energized. And a process gas supply unit.
ニットにおいて、 前記プロセスガス供給ユニットに備えられる2以上の前
記電磁式開閉弁を制御するコントローラに対して、メイ
ンコントローラが制御信号をシリアル送信することを特
徴とするプロセスガス供給ユニット。2. The process gas supply unit according to claim 1, wherein the main controller serially transmits a control signal to a controller that controls two or more of the electromagnetic on-off valves provided in the process gas supply unit. A process gas supply unit, characterized in that:
と、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットに
おいて、 前記マスフローコントローラが、 プロセスガスの圧力を検出するための圧力センサとプロ
セスガスの質量流量を検出するための質量流量センサと
を備えるセンサパックと、 プロセスガスの圧力を調節する電磁式圧力制御弁と、 プロセスガスの流量を調節する電磁式流量制御弁とを有
することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。3. A process gas supply unit having an inlet opening / closing valve, a mass flow controller, and an outlet opening / closing valve, wherein the mass flow controller detects a pressure of the process gas and a mass flow rate of the process gas. Process gas supply, comprising: a sensor pack having a mass flow sensor for controlling the pressure of a process gas; an electromagnetic pressure control valve for adjusting a pressure of a process gas; and an electromagnetic flow control valve for adjusting a flow rate of a process gas. unit.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10137284A JP2000035151A (en) | 1998-05-13 | 1998-05-20 | Process gas supply unit |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-130173 | 1998-05-13 | ||
| JP13017398 | 1998-05-13 | ||
| JP10137284A JP2000035151A (en) | 1998-05-13 | 1998-05-20 | Process gas supply unit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000035151A true JP2000035151A (en) | 2000-02-02 |
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ID=26465369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP10137284A Pending JP2000035151A (en) | 1998-05-13 | 1998-05-20 | Process gas supply unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000035151A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007508503A (en) * | 2003-10-09 | 2007-04-05 | エマーソン エレクトリック カンパニー | Valve assembly |
| JP2007138972A (en) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Ckd Corp | Process gas control valve deposit removal method and process gas control valve control apparatus |
| JP2011501798A (en) * | 2007-10-17 | 2011-01-13 | オーリンス・レイシング・エービー | Buffer valve with spring mechanism |
| JP2011013819A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ckd Corp | Gas supply unit and gas supply device |
| JP2011159931A (en) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Ckd Corp | Electromagnetic coil, electron lens, and electromagnetic valve |
| CN105840904A (en) * | 2016-06-14 | 2016-08-10 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | High-speed repetitive pulse type radial flow trace gas supply valve |
| JP2020051475A (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-02 | 株式会社フジキン | Solenoid valve, flow rate control device, fluid control device, and semiconductor manufacturing device |
-
1998
- 1998-05-20 JP JP10137284A patent/JP2000035151A/en active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007508503A (en) * | 2003-10-09 | 2007-04-05 | エマーソン エレクトリック カンパニー | Valve assembly |
| US8100382B2 (en) | 2003-10-09 | 2012-01-24 | Brooks Instrument, LLP | Valve assembly |
| KR101176825B1 (en) * | 2003-10-09 | 2012-08-24 | 브룩스 인스트러먼트, 엘엘씨, | Valve assembly |
| JP2007138972A (en) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Ckd Corp | Process gas control valve deposit removal method and process gas control valve control apparatus |
| JP2011501798A (en) * | 2007-10-17 | 2011-01-13 | オーリンス・レイシング・エービー | Buffer valve with spring mechanism |
| JP2011013819A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ckd Corp | Gas supply unit and gas supply device |
| JP2011159931A (en) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Ckd Corp | Electromagnetic coil, electron lens, and electromagnetic valve |
| CN105840904A (en) * | 2016-06-14 | 2016-08-10 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | High-speed repetitive pulse type radial flow trace gas supply valve |
| JP2020051475A (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-02 | 株式会社フジキン | Solenoid valve, flow rate control device, fluid control device, and semiconductor manufacturing device |
| JP7242029B2 (en) | 2018-09-25 | 2023-03-20 | 株式会社フジキン | Solenoid valves, flow control devices, fluid control devices and semiconductor manufacturing equipment |
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