JP2000097886A - X-ray fluorescence analyzer - Google Patents
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- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 56
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 93
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000013507 mapping Methods 0.000 abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 カセットに収納されるウエハを試料とする蛍
光X線分析装置において、サイズや形状が異なる複数種
類のカセットに対してもマッピングができる装置を提供
する。
【解決手段】 搬入されたカセット6 の種類が入力さ
れ、その種類に応じてカセット6 が載置されたカセット
台14を回転手段19により所定の方向に設定し、昇降手段
20により昇降させ、所定の検知高さおよび検知方向にお
いてカセット6 またはウエハ1 を検知する検知手段21か
らの検知信号に基づいて、搬入されたカセット6 におけ
るウエハ1 の収納された高さを求める制御手段28を備え
る。
(57) Abstract: An object of the present invention is to provide an X-ray fluorescence spectrometer that uses a wafer housed in a cassette as a sample and that can perform mapping for a plurality of types of cassettes having different sizes and shapes. Kind Code: A1 A type of a loaded cassette is input, and a cassette table on which the cassette is mounted is set in a predetermined direction by a rotating means according to the type, and a lifting means is provided.
Control for obtaining the stored height of the wafer 1 in the loaded cassette 6 based on the detection signal from the detecting means 21 for detecting the cassette 6 or the wafer 1 in the predetermined detection height and direction in the predetermined detection height and direction. Means 28 are provided.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に1次X線を
照射して発生した蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分
析装置において、特にカセットに収納されるウエハを試
料とする装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray fluorescence analyzer for measuring the intensity of X-ray fluorescence generated by irradiating a sample with primary X-rays, and particularly to an apparatus using a wafer stored in a cassette as a sample. It is about.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、いわゆる蛍光X線分析装置を
用いて、半導体ウエハの汚染分析等が行われているが、
ウエハは円板状で、6インチ、8インチ、300mm(1
2インチ)等多種類の直径のものがあり、それぞれ、ウ
エハの直径に応じた所定の寸法形状のカセットに収納さ
れて取り扱われる。ここで、図5に示すように、カセッ
ト6には、左右の側壁6cの内側に1枚ずつウエハ1を
収納する棚が多数形成されており、例えば、6インチ、
8インチ用のカセット6A,6Bにはウエハが25枚ま
で収納でき、300mm用のカセット6Cにはウエハが1
3枚まで収納できるが、分析対象のウエハ1が収納され
たカセット6において、ウエハ1の収納枚数や収納位置
は通常カセット6ごとに異なる。2. Description of the Related Art Conventionally, contamination analysis of a semiconductor wafer has been performed using a so-called fluorescent X-ray analyzer.
The wafer is disk-shaped, 6 inches, 8 inches, 300 mm (1
There are various diameters such as 2 inches), each of which is stored in a cassette having a predetermined size and shape according to the diameter of the wafer and handled. Here, as shown in FIG. 5, the cassette 6 is formed with a number of shelves for storing the wafers 1 one by one inside the left and right side walls 6c.
The 8-inch cassettes 6A and 6B can store up to 25 wafers, and the 300-mm cassette 6C holds one wafer.
Although up to three wafers can be stored, the number of stored wafers 1 and the storage positions of the cassettes 6 storing the wafers 1 to be analyzed are usually different for each cassette 6.
【0003】したがって、カセット6が装置に搬入され
カセット台に載置されると、収納されたウエハ1を1枚
ずつロボットハンドで搬出入して試料台で分析を行うた
めには、ウエハ1がカセット6の何番目の棚に収納され
ているか、換言すれば、例えばカセット台の上面からど
の高さに収納されているかを判定する必要があり、これ
をカセット6におけるウエハ1のマッピングという。ま
た、カセット6の開口した前面(入出口)6aからウエ
ハ1を搬出入すべく、カセット6の入出口6aがロボッ
トハンドに対向するように、カセット6を位置決めして
カセット台に載置する必要もある。Therefore, when the cassette 6 is loaded into the apparatus and placed on the cassette table, the stored wafers 1 are loaded and unloaded one by one by the robot hand and analyzed on the sample table. It is necessary to determine the number of the shelf in the cassette 6, in other words, for example, the height of the cassette 6 from the upper surface of the cassette table. This is called mapping of the wafer 1 in the cassette 6. Further, in order to load and unload the wafer 1 from the open front surface (entrance / exit) 6a of the cassette 6, the cassette 6 needs to be positioned and placed on the cassette table so that the entrance / exit 6a of the cassette 6 faces the robot hand. There is also.
【0004】これに対し、カセット6の底部の寸法形状
は、カセット6のサイズすなわち収納するウエハ1の直
径に応じて規格で定まっていることから、従来は、その
底部の寸法形状に応じたアダプターを共通のカセット台
に適用して、各サイズのカセット6を位置決めして載置
していた。そして、例えば、カセット6が搬入されるカ
セット室で、水平な所定の検知方向においてカセット6
を挟んで対向したLEDと光センサを昇降させ、ウエハ
1の側面でLEDからの光が遮られることによりウエハ
1を検知して、マッピングを行っていた。On the other hand, since the size and shape of the bottom of the cassette 6 are determined in accordance with the size of the cassette 6, that is, the diameter of the wafers 1 to be stored, conventionally, an adapter corresponding to the size and shape of the bottom is conventionally used. Was applied to a common cassette table, and the cassettes 6 of each size were positioned and mounted. Then, for example, in the cassette chamber into which the cassette 6 is loaded, the cassette 6 is detected in a predetermined horizontal detection direction.
The LED and the optical sensor opposed to each other are moved up and down, and the light from the LED is blocked on the side surface of the wafer 1 to detect the wafer 1 and perform mapping.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の装
置では、カセット6のサイズごとに適切なアダプターを
選択して使用しなければカセット台に位置決めして載置
できず、分析手順が煩雑になる。また、カセット6の基
本的な形状はサイズに応じて規格で定められているもの
の、カセット6におけるウエハ1のない高さで、水平な
LEDの光がカセット6の側壁6cに遮られずに対向す
る光センサに達する方向は、カセット6のサイズによ
り、またサイズが同一でもメーカーによる形状の相違に
より必ずしも共通しない。すなわち、複数種類のカセッ
ト6に対し、収納したウエハ1を検知するのに適切な前
記検知方向を統一できず、ある種類のカセット6に対応
させて検知方向を定めると、サイズや形状が異なる他の
種類のカセット6に対しては、カセット6の側壁6cを
検知してしまいマッピングができない場合がある。However, in this conventional apparatus, unless an appropriate adapter is selected and used for each size of the cassette 6, it cannot be positioned and mounted on the cassette table, and the analysis procedure becomes complicated. Become. Further, although the basic shape of the cassette 6 is defined by the standard according to the size, the light of the horizontal LED is opposed to the height of the cassette 6 without the wafer 1 without being blocked by the side wall 6c of the cassette 6. The direction in which the optical sensor reaches the optical sensor is not always the same depending on the size of the cassette 6 and the difference in shape between manufacturers even if the size is the same. That is, the detection direction suitable for detecting the stored wafer 1 cannot be unified for a plurality of types of cassettes 6, and if the detection direction is determined corresponding to a certain type of cassette 6, the size and shape may differ. In some cases, the side wall 6c of the cassette 6 is detected and mapping cannot be performed on the cassette 6 of the type.
【0006】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、カセットに収納されるウエハを試料とする蛍光
X線分析装置において、サイズや形状が異なる複数種類
のカセットに対してもマッピングができる装置を提供す
ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems. In a fluorescent X-ray analyzer using a wafer stored in a cassette as a sample, mapping is performed even for a plurality of types of cassettes having different sizes and shapes. It is an object of the present invention to provide a device capable of performing such operations.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の蛍光X線分析装置は、複数の所定の直径
のウエハを試料とし、前記所定の直径のうちの一の直径
のウエハが収納された所定の種類のカセットが搬入され
るカセット室と、そのカセット室に設けられ、収納され
たウエハの直径に応じてカセットを所定の位置に位置決
めする位置決め手段を有し、カセットが載置されるカセ
ット台とを備える。In order to achieve the above object, an X-ray fluorescence spectrometer according to claim 1 uses a plurality of wafers having a predetermined diameter as a sample, and uses one of the predetermined diameters as a sample. A cassette chamber into which a predetermined type of cassette containing wafers is loaded, and positioning means provided in the cassette chamber for positioning the cassette at a predetermined position in accordance with the diameter of the stored wafers; And a cassette table to be placed.
【0008】また、この装置は、前記カセット台を回転
させる回転手段と、前記カセット台を昇降させる昇降手
段と、前記カセット室での所定の検知高さおよび検知方
向において、カセットまたはウエハを検知する検知手段
と、以下の制御手段とを備える。制御手段は、搬入され
たカセットの種類が入力されると、その種類に応じて前
記カセット台を前記回転手段により所定の方向に設定
し、前記昇降手段により昇降させ、前記検知手段からの
検知信号に基づいて搬入されたカセットにおけるウエハ
の収納された高さを求める。The apparatus further comprises a rotating means for rotating the cassette table, an elevating means for elevating the cassette table, and detecting a cassette or a wafer at a predetermined detection height and direction in the cassette chamber. It comprises a detecting means and the following control means. When the type of the loaded cassette is input, the control unit sets the cassette table in a predetermined direction by the rotation unit according to the type, moves the cassette table up and down by the lifting unit, and outputs a detection signal from the detection unit. Then, the stored height of the wafer in the loaded cassette is obtained based on the above.
【0009】請求項1の装置によれば、カセット台が、
サイズに応じてカセットを所定の位置に位置決めする位
置決め手段を有しているので、単一のカセット台でアダ
プター等を用いることなく、各サイズのカセットを位置
決めして載置できる。そして、制御手段により、入力さ
れたカセットの種類に応じてカセット台を回転手段で回
転させて、ウエハを固定された検知手段で検知するのに
適切な所定の方向に設定し、昇降手段でカセット台を昇
降させて検知手段からの検知信号に基づきマッピングを
行うので、サイズや形状が異なる複数種類のカセットに
対してもマッピングができる。According to the first aspect of the present invention, the cassette table comprises:
Since there is a positioning means for positioning the cassette at a predetermined position according to the size, cassettes of each size can be positioned and mounted on a single cassette table without using an adapter or the like. Then, the control means rotates the cassette table in accordance with the type of the input cassette by the rotating means, sets the wafer in a predetermined direction suitable for detecting the wafer by the fixed detecting means, and sets the cassette in the elevating means. Since the mapping is performed based on the detection signal from the detection means by moving the table up and down, mapping can be performed on a plurality of types of cassettes having different sizes and shapes.
【0010】請求項2の蛍光X線分析装置は、制御手段
が行う制御の内容のみが、請求項1の装置と異なる。す
なわち、請求項2の装置の制御手段は、前記カセット台
を前記昇降手段により所定の高さに設定し、前記回転手
段により回転させ、前記検知手段からの検知信号に基づ
いて、前記検知手段でウエハを検知するのに適切な方向
に設定し、前記昇降手段により昇降させ、前記検知手段
からの検知信号に基づいて搬入されたカセットにおける
ウエハの収納された高さを求める。The X-ray fluorescence analyzer according to the second aspect is different from the first aspect only in the content of the control performed by the control means. That is, the control means of the apparatus according to claim 2 sets the cassette table at a predetermined height by the elevating means, rotates the cassette table by the rotating means, and based on the detection signal from the detecting means, The wafer is set in an appropriate direction for detection, is moved up and down by the elevating means, and the stored height of the wafer in the loaded cassette is obtained based on a detection signal from the detecting means.
【0011】請求項2の装置によれば、まず、請求項1
の装置と同様に、単一のカセット台でアダプター等を用
いることなく、各サイズのカセットを位置決めして載置
できる。そして、制御手段により、カセット台を昇降手
段で所定の高さに設定して回転手段で回転させ、検知手
段からの検知信号に基づいて、ウエハを固定された検知
手段で検知するのに適切な方向に設定してから、昇降手
段でカセット台を昇降させて検知手段からの検知信号に
基づきマッピングを行うので、搬入したカセットの種類
を入力しなくても、サイズや形状が異なる複数種類のカ
セットに対してマッピングができる。According to the apparatus of claim 2, first, claim 1
In the same manner as in the above device, cassettes of each size can be positioned and mounted on a single cassette table without using an adapter or the like. Then, the control means sets the cassette table at a predetermined height by the elevating means, rotates it by the rotating means, and detects a wafer by the fixed detecting means based on a detection signal from the detecting means. After setting the direction, the cassette table is moved up and down by the elevating means and mapping is performed based on the detection signal from the detecting means, so there is no need to input the type of the loaded cassette, and multiple types of cassettes with different sizes and shapes Can be mapped to
【0012】請求項3の蛍光X線分析装置は、請求項2
の装置において、前記制御手段が、さらに、搬入された
カセットにおけるウエハの直径を求める。請求項3の装
置によれば、制御手段により、マッピング時の検知信号
の間隔を収納されたウエハの高さ間隔に換算し、それに
基づいてカセットの棚のピッチを算出でき、搬入したカ
セットの種類を入力しなくても、自動的に、カセットに
収納されたウエハの直径が求められるので、その後のロ
ボットハンドによるウエハの試料台への移動等の分析に
必要な動作が円滑に行われる。According to a third aspect of the present invention, there is provided an X-ray fluorescence analyzer.
In the apparatus described above, the control means further obtains the diameter of the wafer in the loaded cassette. According to the apparatus of the third aspect, the control means can convert the interval of the detection signal at the time of mapping into the height interval of the stored wafers and calculate the pitch of the cassette shelf based on the converted interval. The diameter of the wafer stored in the cassette is automatically obtained without inputting the data, so that the operation necessary for the analysis such as the subsequent movement of the wafer to the sample table by the robot hand is smoothly performed.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1実施形態の装
置について説明する。まず、この装置の構成について説
明する。この装置は、図2の平面図に示すように試料た
るウエハ1が載置される試料台2と、試料1に1次X線
3を照射するX線管等のX線源4と、試料1から発生し
た蛍光X線の強度を測定するSSD等の検出手段5とを
備えている。この装置は、いわゆる全反射蛍光X線分析
装置であり、1次X線3はウエハ1の表面にほぼ平行に
微小な入射角で入射し、検出手段5はウエハ1の上方に
設置される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described below. First, the configuration of this device will be described. As shown in the plan view of FIG. 2, the apparatus includes a sample table 2 on which a sample wafer 1 is mounted, an X-ray source 4 such as an X-ray tube for irradiating the sample 1 with primary X-rays 3, And a detecting means 5 such as an SSD for measuring the intensity of the fluorescent X-rays generated from the device 1. This apparatus is a so-called total reflection X-ray fluorescence spectrometer, in which primary X-rays 3 are incident on the surface of the wafer 1 almost in parallel at a small incident angle, and the detecting means 5 is installed above the wafer 1.
【0014】また、この装置は、6インチ、8インチま
たは300mmのウエハ1を試料とし、それらがそれぞれ
収納された6インチサイズ、8インチサイズまたは30
0mmサイズのカセット6が、カセット室7に搬入され
る。試料台2とカセット室7の間には、カセット6の入
出口(開口し、紙面に垂直な左側の面)6aから、ウエ
ハ1を1枚ずつ試料台2へ搬出入するロボットハンド8
を備えている。X線源4の前部が収納されるX線源室1
0と、カセット室7は、試料台1、ロボットハンド8が
設けられる試料室9と連通し、図示しない真空ポンプ等
の減圧手段で減圧される。カセット室7を減圧する際に
は、蓋11が閉められる。なお、X線源室10と試料室
9は断面で示し、各室10,7,9のさらに外側の装置
の筐体等は図示を省略している。This apparatus uses a 6-inch, 8-inch, or 300-mm wafer 1 as a sample and stores the wafer 1 in a 6-inch, 8-inch, or 30-mm size.
The cassette 6 having a size of 0 mm is carried into the cassette chamber 7. A robot hand 8 for carrying in / out the wafers 1 one by one from the entrance / exit (opened, left side surface perpendicular to the paper surface) 6a of the cassette 6 between the sample stage 2 and the cassette chamber 7.
It has. X-ray source room 1 in which the front part of X-ray source 4 is stored
0, the cassette chamber 7 communicates with the sample table 1 and the sample chamber 9 in which the robot hand 8 is provided, and the pressure is reduced by a pressure reducing means such as a vacuum pump (not shown). When the pressure in the cassette chamber 7 is reduced, the lid 11 is closed. It should be noted that the X-ray source chamber 10 and the sample chamber 9 are shown in cross section, and the housings and the like of the devices further outside the chambers 10, 7, 9 are not shown.
【0015】カセット室7近傍の側面図を図1に示す。
カセット室7は、筒状の側壁12と底部13と前記蓋1
1に囲まれた空間として形成され、カセット6が載置さ
れるカセット台14が備えられる。なお、側壁12、底
部13および蓋11は、断面で示す。図1のA方向の矢
視図である図3に示すように、カセット台14は略正方
形の板状で、後述するようにカセット6をそのサイズに
応じて所定の位置に位置決めする位置決め手段、すなわ
ち位置決めブロック15,16,17および位置決めピ
ン18がねじ止めされている。FIG. 1 is a side view showing the vicinity of the cassette chamber 7.
The cassette chamber 7 includes a cylindrical side wall 12, a bottom 13, and the lid 1.
1, a cassette table 14 on which the cassette 6 is placed is provided. In addition, the side wall 12, the bottom part 13, and the lid 11 are shown in cross sections. As shown in FIG. 3, which is a view in the direction of arrow A in FIG. 1, the cassette table 14 has a substantially square plate shape, and positioning means for positioning the cassette 6 at a predetermined position according to its size, as will be described later. That is, the positioning blocks 15, 16, 17 and the positioning pins 18 are screwed.
【0016】図1に示すように、この装置は、カセット
台14を回転させる回転手段19と、カセット台14を
昇降させる昇降手段20と、カセット室7での所定の検
知高さおよび検知方向において、カセットまたはウエハ
を検知する検知手段21とを備えている。回転手段19
は、回転軸22とスライダ移動部23からなる。カセッ
ト台14の中心に下方に鉛直に延びる回転軸22が固定
され、回転軸22は、上方ではカセット室底部13に軸
受け24を介して回転および鉛直移動自在に支持され、
下方ではスライダ移動部23の一端近傍に回転自在に支
持されている。As shown in FIG. 1, this apparatus comprises a rotating means 19 for rotating the cassette table 14, an elevating means 20 for raising and lowering the cassette table 14, and a predetermined detection height and a predetermined detection direction in the cassette chamber 7. , Detecting means 21 for detecting a cassette or a wafer. Rotating means 19
Comprises a rotating shaft 22 and a slider moving unit 23. A rotating shaft 22 that extends vertically downward is fixed to the center of the cassette table 14, and the rotating shaft 22 is supported by the cassette chamber bottom 13 via a bearing 24 so as to be rotatable and vertically movable above the cassette shaft 14,
Below, it is rotatably supported near one end of the slider moving part 23.
【0017】スライダ移動部23の他端近傍にはモータ
が内蔵され、ベルト等を介して前記回転軸22を回転さ
せる。昇降手段20はいわゆるスライダユニットを用い
たもので、スライダ移動部23とスライダ固定部24か
らなり、スライダ固定部24は内蔵したモータやボール
ねじ等によりレール24aに沿ってスライダ移動部23
を鉛直方向に昇降させる。スライダ固定部24は、背板
24bおよびフレーム25を介して、カセット室底部1
3に固定され、カセット室底部13は、装置全体のフレ
ームに固定されている。A motor is built in the vicinity of the other end of the slider moving section 23, and rotates the rotary shaft 22 via a belt or the like. The elevating means 20 uses a so-called slider unit, and includes a slider moving portion 23 and a slider fixing portion 24. The slider fixing portion 24 is moved along the rail 24a by a built-in motor, a ball screw, or the like.
Is raised and lowered in the vertical direction. The slider fixing portion 24 is connected to the cassette chamber bottom 1 via a back plate 24b and a frame 25.
3 and the cassette chamber bottom 13 is fixed to the frame of the entire apparatus.
【0018】検知手段21は、LED26および光セン
サ27からなり、カセット室7における所定の検知高さ
および検知方向において、カセット室7の外側に設置さ
れている。LED26からの光は、カセット室側壁12
の透明な窓部12aを通過して、カセット6またはウエ
ハ1に遮られなければ、対向する窓部12aを通過して
光センサ27に受光される。すなわち、光センサ27が
受光しないことにより、カセット6またはウエハ1を検
知する。The detecting means 21 comprises an LED 26 and an optical sensor 27, and is installed outside the cassette chamber 7 at a predetermined detection height and a predetermined detection direction in the cassette chamber 7. The light from the LED 26 is transmitted to the cassette chamber side wall 12.
If the light passes through the transparent window 12a and is not blocked by the cassette 6 or the wafer 1, the light passes through the opposite window 12a and is received by the optical sensor 27. That is, the cassette 6 or the wafer 1 is detected when the optical sensor 27 does not receive light.
【0019】さらに、この装置は、以下の制御手段28
を備えている。制御手段28は、カセット台14を昇降
手段20により所定の高さに設定し、回転手段19によ
り回転させ、検知手段21からの検知信号に基づいて、
検知手段21でウエハ1を検知するのに適切な方向に設
定する。そして、カセット台14を昇降手段20により
昇降させ、検知手段21からの検知信号に基づいて搬入
されたカセット6におけるウエハ1の収納された高さお
よび直径を求める。Further, this apparatus has the following control means 28
It has. The control means 28 sets the cassette table 14 at a predetermined height by the elevating means 20, rotates the cassette table 14 by the rotating means 19, and based on the detection signal from the detecting means 21,
The direction is set so that the detection means 21 can detect the wafer 1. Then, the cassette table 14 is moved up and down by the elevating means 20, and based on the detection signal from the detecting means 21, the height and diameter of the loaded cassette 6 in which the wafer 1 is stored are obtained.
【0020】次に、この装置の動作について説明する。
カセット6を搬入する前には、カセット台14はカセッ
ト室7の蓋11の直下の高さにあり、例えば図3に示す
方向(図3での上方が図2での試料室9側)を向いてい
る。カセット6を搬入する際には、蓋11が開かれ、分
析対象のウエハ1を収納した6インチサイズ、8インチ
サイズまたは300mmサイズのいずれかのカセット6が
カセット台14に載置される。ここで、例えば8インチ
サイズのカセット6Bの底面は、図6の底面図の斜線部
に示すような形状であり、これに対し、図3のカセット
台14の4つの位置決めブロック15Bの当たり面15
Baが当接して図3の左右方向に位置決めし、2つの位
置決めブロック17の当たり面17aが当接して上下方
向に位置決めする。Next, the operation of this device will be described.
Before the cassette 6 is loaded, the cassette table 14 is located at a height immediately below the lid 11 of the cassette chamber 7, for example, in the direction shown in FIG. 3 (the upper side in FIG. 3 is the sample chamber 9 side in FIG. 2). It is suitable. When loading the cassette 6, the lid 11 is opened, and a 6-inch, 8-inch, or 300 mm-size cassette 6 containing the wafer 1 to be analyzed is placed on the cassette table 14. Here, for example, the bottom surface of the 8-inch size cassette 6B has a shape as shown by hatching in the bottom view of FIG. 6, whereas the bottom surface of the four positioning blocks 15B of the cassette table 14 of FIG.
Ba contacts to position in the left-right direction in FIG. 3, and the contact surfaces 17a of the two positioning blocks 17 contact to perform positioning in the vertical direction.
【0021】6インチサイズのカセット6Aの場合は、
底面が8インチサイズと同様の形状でやや小さいので、
上下方向の位置決めは8インチサイズと同様になされ、
左右方向の位置決めは4つの位置決めブロック15A,
16の当たり面15Aa,16aでなされる。300mm
サイズのカセット6Cの場合は、底部の3か所にほぼ中
心を向いたV溝を有し、位置決めは上下左右の両方向と
もに、V溝に対応した3つの位置決めピン18(図1の
B方向の矢視図である図4参照)でなされる。このよう
に、第1実施形態の装置によれば、カセット台14が、
サイズに応じてカセット6を所定の位置に位置決めする
位置決め手段15,16,17,18を有しているの
で、単一のカセット台14でアダプター等を用いること
なく、各サイズのカセット6をカセット台14に対して
位置決めして載置できる。In the case of a 6-inch cassette 6A,
Since the bottom is a little smaller with the same shape as the 8-inch size,
Vertical positioning is done in the same way as 8 inch size,
The positioning in the left-right direction is performed by four positioning blocks 15A,
The contact surfaces 15Aa and 16a are provided. 300mm
In the case of the cassette 6C having the size, V-grooves which are substantially oriented toward the center are provided at three places on the bottom, and the positioning is performed by three positioning pins 18 corresponding to the V-grooves (in the direction B in FIG. (See FIG. 4 which is an arrow view). Thus, according to the apparatus of the first embodiment, the cassette table 14
Since there are positioning means 15, 16, 17, and 18 for positioning the cassette 6 at a predetermined position in accordance with the size, the cassette 6 of each size can be set on the single cassette table 14 without using an adapter or the like. It can be positioned and mounted on the table 14.
【0022】さて、カセット6がカセット台14に載置
され、マッピングを行うべき旨が入力されると、制御手
段28は、まず、カセット台14を昇降手段20により
下降させて所定の高さに設定する。この所定の高さと
は、載置されたカセット6のサイズやメーカーによる形
状の相違にかかわらず、その高さでカセット6を適切に
回転させれば、LED26からの光がカセット6にもウ
エハ1にも遮られずに光センサ27に受光されるような
カセット台14の高さをいう。When the cassette 6 is placed on the cassette base 14 and a message to the effect that mapping is to be performed is input, the control means 28 first lowers the cassette base 14 by the elevating means 20 to a predetermined height. Set. This predetermined height means that, regardless of the size of the loaded cassette 6 or the difference in shape depending on the manufacturer, if the cassette 6 is appropriately rotated at that height, the light from the LED 26 will cause the wafer The height of the cassette table 14 which is received by the optical sensor 27 without being interrupted.
【0023】この所定の高さは、通常、カセット6の最
も下の棚のやや下の部分が前記検知手段21の検知高さ
(図1において1点鎖線で示す高さ)にくるような高さ
においてあらかじめ決めておくことができる。この所定
の高さを決めるために、必要であれば、300mmのカセ
ット6Cの底部のV溝が載る位置決めピン18(図4)
の高さを変えて、カセット台14に載置したときの30
0mmのカセット6Cのカセット台上面からの高さを調整
することもできる。なお、この段階で、蓋11を閉じ
て、カセット室7を減圧することができる。The predetermined height is usually such that the lower part of the lowermost shelf of the cassette 6 comes to the detection height of the detection means 21 (the height indicated by a dashed line in FIG. 1). You can decide beforehand. In order to determine the predetermined height, if necessary, a positioning pin 18 (FIG. 4) on which a V-groove on the bottom of the 300 mm cassette 6C is placed.
30 when placed on the cassette table 14 with the height of
It is also possible to adjust the height of the 0 mm cassette 6C from the upper surface of the cassette table. At this stage, the pressure in the cassette chamber 7 can be reduced by closing the lid 11.
【0024】次に、制御手段28は、カセット台14を
回転手段19により回転させ、検知手段21からの検知
信号に基づいて、検知手段21でウエハ1を検知するの
に適切な方向に設定する。具体的には、光センサ27が
受光する方向、すなわち、カセット6の最も下の棚のや
や下の高さに照射されるLED26からの光がカセット
6に遮られずに光センサ27に受光される方向で回転を
止めて、カセット台14の方向を設定する。このカセッ
ト台14の適切な方向とは、通常、載置されたカセット
6の前記入出口6aとそれに対向する背面の開口部6b
(図2)が、検知手段21の検知方向に貫かれる方向で
ある。Next, the control means 28 rotates the cassette table 14 by the rotation means 19 and sets the direction to an appropriate direction for detecting the wafer 1 by the detection means 21 based on the detection signal from the detection means 21. . Specifically, the light from the LED 26 irradiating the direction in which the optical sensor 27 receives light, that is, the light slightly lower than the lowest shelf of the cassette 6 is received by the optical sensor 27 without being blocked by the cassette 6. The rotation of the cassette table 14 is stopped in the direction shown in FIG. The appropriate direction of the cassette table 14 usually means the entrance 6a of the loaded cassette 6 and the opening 6b on the rear surface facing the entrance 6a.
(FIG. 2) is a direction penetrated in the detection direction of the detection means 21.
【0025】そして、制御手段28は、カセット台14
を昇降手段20により下降させ、検知手段21からの検
知信号に基づいて搬入されたカセット6におけるウエハ
1の収納された高さを求める。具体的には、カセット台
14を下降させて検知手段21の検知高さにウエハ1が
くれば、それに遮られて光センサ27が受光しなくなる
から、例えばカセット台14の上面を基準として光セン
サ27が受光しない高さが、搬入されたカセット6にお
いてウエハ1が収納されている高さとして求められる。The control means 28 controls the cassette table 14
Is lowered by the elevating means 20, and the stored height of the wafer 1 in the loaded cassette 6 is obtained based on the detection signal from the detecting means 21. More specifically, if the wafer 1 comes to the detection height of the detection means 21 by lowering the cassette table 14, the wafer 1 is blocked by the wafer 1 and the light sensor 27 stops receiving light. The height at which the wafer 27 is not received is determined as the height at which the wafer 1 is stored in the loaded cassette 6.
【0026】光センサ27が受光しない時間が、ウエハ
1の厚さに対応する時間よりも長くなった場合は、カセ
ット6を検知したのであるから、カセット台14の下降
を止め、マッピングを終了する。このように、第1実施
形態の装置によれば、制御手段28等により、カセット
台14を、ウエハ1を固定された検知手段21で検知す
るのに適切な方向に設定してから、マッピングを行うの
で、搬入したカセット6の種類を入力しなくても、サイ
ズや形状が異なる複数種類のカセット6に対してマッピ
ングができる。If the time during which the optical sensor 27 does not receive light is longer than the time corresponding to the thickness of the wafer 1, since the cassette 6 has been detected, the lowering of the cassette table 14 is stopped, and the mapping is terminated. . As described above, according to the apparatus of the first embodiment, after the cassette table 14 is set by the control unit 28 or the like in an appropriate direction for detecting the wafer 1 by the fixed detection unit 21, mapping is performed. Therefore, mapping can be performed for a plurality of types of cassettes 6 having different sizes and shapes without inputting the type of the loaded cassette 6.
【0027】さらに、制御手段28は、搬入されたカセ
ット6におけるウエハ1の収納された高さを求めるだけ
でなく、カセット台14を昇降手段20により下降させ
たときの検知手段21からの検知信号に基づいて、ウエ
ハ1の直径を求める。具体的には、あらかじめ、制御手
段28に各サイズのカセット6の棚のピッチを入力して
おけば、マッピング時の光センサ27が受光しないとい
う検知信号の間隔を収納されたウエハ1の高さ間隔に換
算し、その公約数となる棚のピッチを有するカセット6
のサイズすなわち収納されたウエハ1の直径が求められ
る。したがって、搬入したカセット6の種類を入力しな
くても、自動的に、カセット6に収納されたウエハ1の
直径が求められ、その後の図2のロボットハンド8によ
るウエハ1の試料台2への移動等の分析に必要な動作が
円滑に行われる。Further, the control means 28 not only obtains the stored height of the wafer 1 in the loaded cassette 6 but also detects the detection signal from the detection means 21 when the cassette table 14 is lowered by the lifting / lowering means 20. The diameter of the wafer 1 is obtained based on More specifically, if the pitch of the shelves of the cassettes 6 of each size is previously input to the control means 28, the height of the wafer 1 in which the interval of the detection signal indicating that the optical sensor 27 does not receive light during mapping is stored. A cassette 6 having a pitch of shelves that is converted into an interval and is a common divisor
, That is, the diameter of the stored wafer 1. Therefore, the diameter of the wafer 1 stored in the cassette 6 is automatically obtained without inputting the type of the loaded cassette 6, and the robot hand 8 shown in FIG. Operations required for analysis such as movement are smoothly performed.
【0028】以上のように、搬入されたカセット6にお
けるウエハ1の収納された高さおよびウエハ1の直径が
求められると、制御手段28は、カセット6の入出口6
aがロボットハンド8に対向するように、回転手段19
(図1)でカセット台14(図1)を回転させる。そし
て、例えば最も上のウエハ1をロボットハンド8で入出
口6aから搬出するのに適切な高さに、昇降手段20
(図1)でカセット台14(図1)を上昇させ、そのウ
エハ1について、ロボットハンド8での試料台2への移
動、X線源4からの1次X線3の照射、検出手段5での
蛍光X線の強度の測定、ロボットハンド8でのカセット
6への収納が行われる。以降、位置の高い順に、昇降手
段20(図1)でのカセット台14(図1)の上昇から
カセット6への収納までの手順を繰り返して、各ウエハ
1の分析がなされる。As described above, when the height at which the wafer 1 is stored and the diameter of the wafer 1 in the loaded cassette 6 are obtained, the control means 28 controls the entrance 6 of the cassette 6
a so that the rotation means 19a faces the robot hand 8.
The cassette table 14 (FIG. 1) is rotated in (FIG. 1). Then, for example, the elevating means 20 is set to a height suitable for carrying out the uppermost wafer 1 from the entrance 6a by the robot hand 8.
The cassette table 14 (FIG. 1) is raised (FIG. 1), the wafer 1 is moved to the sample table 2 by the robot hand 8, the primary X-rays 3 are radiated from the X-ray source 4, and the detection unit 5 is moved. The measurement of the intensity of the fluorescent X-rays in step S1 and the accommodation in the cassette 6 by the robot hand 8 are performed. Thereafter, the procedure from the raising of the cassette table 14 (FIG. 1) by the lifting / lowering means 20 (FIG. 1) to the storage in the cassette 6 is repeated in the descending order of the position, and the analysis of each wafer 1 is performed.
【0029】なお、ウエハ1のロボットハンド8でのカ
セット6からの搬出、カセット6への収納が正常に行わ
れたか否かを、そのウエハ1の収納位置が検知高さにな
るように昇降手段20(図1)でカセット台14(図
1)を昇降させて、確認することができる。ここで、第
1実施形態の装置では、減圧され試料室9と連通するカ
セット室7でウエハ1を検知するので、真空雰囲気を維
持したまま迅速に、ウエハ1の搬出入が正常に行われた
か否かを確認でき、搬出入のやり直しもできる。各ウエ
ハ1の分析が終了すれば、カセット室7の減圧が解除さ
れ、蓋11が開かれ、昇降手段20(図1)でカセット
台14(図1)が閉じたときの蓋11の直下の高さまで
上昇させられる。オペレータは、カセット6を装置から
搬出する。It is to be noted that whether or not the wafer 1 has been unloaded from the cassette 6 by the robot hand 8 and stored in the cassette 6 has been normally determined by raising and lowering means so that the stored position of the wafer 1 is at the detection height. At 20 (FIG. 1), the cassette table 14 (FIG. 1) can be moved up and down for confirmation. Here, in the apparatus of the first embodiment, since the wafer 1 is detected in the cassette chamber 7 which is decompressed and communicates with the sample chamber 9, whether or not the loading and unloading of the wafer 1 is normally performed quickly while maintaining the vacuum atmosphere. Can be checked, and the loading and unloading can be performed again. When the analysis of each wafer 1 is completed, the pressure in the cassette chamber 7 is released, the lid 11 is opened, and the lid 11 is opened immediately below the lid 11 when the cassette table 14 (FIG. 1) is closed by the lifting / lowering means 20 (FIG. 1). Can be raised to height. The operator unloads the cassette 6 from the apparatus.
【0030】次に、本発明の第2実施形態の装置につい
て説明する。この装置は、制御手段38が行う制御の内
容のみが、第1実施形態の装置と異なる。図1の第2実
施形態の装置の制御手段38は、搬入されたカセット6
の種類が入力されると、その種類に応じてカセット台1
4を回転手段19により所定の方向に設定し、昇降手段
20により昇降させ、検知手段21からの検知信号に基
づいて搬入されたカセット6におけるウエハ1の収納さ
れた高さを求める。Next, an apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described. This device differs from the device of the first embodiment only in the content of the control performed by the control means 38. The control means 38 of the apparatus according to the second embodiment shown in FIG.
Is input, the cassette table 1 is set according to the type.
4 is set in a predetermined direction by the rotating means 19, moved up and down by the elevating means 20, and based on the detection signal from the detecting means 21, the stored height of the wafer 1 in the loaded cassette 6 is obtained.
【0031】つまり、この装置に対しては、マッピング
にあたり搬入するカセット6の種類を入力することが必
要で、制御手段38は、その種類に応じてカセット台1
4を回転手段19により所定の方向に設定する。この所
定の方向とは、前述した検知手段21でウエハ1を検知
するのに適切な方向で、第1実施形態の装置においては
制御手段28がこれを見出したが、第2実施形態の装置
においては、カセット6の種類ごとにあらかじめ制御手
段38に入力されている。なお、前述したように、検知
手段21でウエハ1を検知するのに適切な方向は、カセ
ット6のサイズが同一でもメーカーによる形状の相違に
より異なる場合もあるから、カセット6の種類は、カセ
ット6のサイズの他メーカーによる形状の相違も考慮し
て分別したものであることが必要である。That is, for this apparatus, it is necessary to input the type of the cassette 6 to be carried in at the time of mapping, and the control means 38 controls the cassette table 1 according to the type.
4 is set in a predetermined direction by the rotating means 19. The predetermined direction is a direction suitable for detecting the wafer 1 by the detection unit 21 described above. In the apparatus of the first embodiment, the control unit 28 finds this, but in the apparatus of the second embodiment, Are input to the control means 38 in advance for each type of the cassette 6. As described above, the appropriate direction for detecting the wafer 1 by the detecting means 21 may be different depending on the shape of the cassette 6 even if the size of the cassette 6 is the same. It is necessary to sort them in consideration of the difference in shape between different sizes and manufacturers.
【0032】カセット台14を所定の方向に設定した
後、または設定しつつ、制御手段38は、カセット台1
4を昇降手段20により下降させて、ウエハ1の検知を
開始すべき前記所定の高さ、例えばカセット6の最も下
の棚のやや下の部分が検知手段21の検知高さにくるよ
うな高さに設定する。以降、第1実施形態の装置の制御
手段28と同様に、第2実施形態の装置の制御手段38
は、カセット台14を昇降手段20により下降させ、検
知手段21からの検知信号に基づいて搬入されたカセッ
ト6におけるウエハ1の収納された高さを求め、マッピ
ングを行う。After or while setting the cassette table 14 in a predetermined direction, the control means 38 controls the cassette table 1
4 is lowered by the elevating means 20 so that the predetermined height at which the detection of the wafer 1 is to be started, for example, a height at which the lower part of the lowermost shelf of the cassette 6 comes to the detected height of the detecting means 21. Set to Thereafter, similarly to the control unit 28 of the device of the first embodiment, the control unit 38 of the device of the second embodiment
Moves the cassette table 14 down by the elevating means 20, finds the stored height of the wafer 1 in the loaded cassette 6 based on the detection signal from the detecting means 21, and performs mapping.
【0033】以上のように、第2実施形態の装置によれ
ば、まず、第1実施形態の装置と同様に、単一のカセッ
ト台14でアダプター等を用いることなく、各サイズの
カセット6を位置決めして載置できる。そして、制御手
段38により、入力されたカセット6の種類に応じてカ
セット台14を回転手段19で回転させて、ウエハ1を
固定された検知手段21で検知するのに適切な所定の方
向に設定し、マッピングを行うので、サイズや形状が異
なる複数種類のカセット6に対してもマッピングができ
る。また、真空雰囲気を維持したまま迅速に、カセット
6におけるウエハ1の搬出入が正常に行われたか否かを
確認でき、搬出入のやり直しもできる点についても、第
1実施形態の装置と同様である。As described above, according to the apparatus of the second embodiment, first, similarly to the apparatus of the first embodiment, the cassettes 6 of each size are stored on the single cassette table 14 without using an adapter or the like. Can be positioned and placed. The control means 38 rotates the cassette table 14 by the rotation means 19 in accordance with the type of the input cassette 6, and sets the wafer 1 in a predetermined direction suitable for detection by the fixed detection means 21. Since mapping is performed, mapping can be performed on a plurality of types of cassettes 6 having different sizes and shapes. In addition, it is possible to quickly confirm whether or not the wafer 1 has been properly loaded / unloaded into / from the cassette 6 while maintaining the vacuum atmosphere, and to carry out the loading / unloading again, similarly to the apparatus of the first embodiment. is there.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、カセットに収納されるウエハを試料とする蛍光X
線分析装置において、サイズや形状が異なる複数種類の
カセットに対してもマッピングができる。As described above in detail, according to the present invention, a fluorescent X-ray sample using a wafer stored in a cassette as a sample is provided.
In a line analyzer, mapping can be performed on a plurality of types of cassettes having different sizes and shapes.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の第1、第2実施形態の蛍光X線分析装
置のカセット室近傍の側面図である。FIG. 1 is a side view of the vicinity of a cassette chamber of a fluorescent X-ray analyzer according to first and second embodiments of the present invention.
【図2】同装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the same device.
【図3】図1のA方向の矢視図である。FIG. 3 is a view in the direction of arrow A in FIG. 1;
【図4】図1のB方向の矢視図である。FIG. 4 is a view in the direction of arrow B in FIG. 1;
【図5】ウエハを収納したカセットを示す斜視図であ
る。FIG. 5 is a perspective view showing a cassette containing wafers.
【図6】8インチサイズのカセットの底面図である。FIG. 6 is a bottom view of an 8-inch cassette.
1…ウエハ(試料)、2…試料台、3…1次X線、6…
カセット、7…カセット室、14…カセット台、15,
16,17,18…位置決め手段、19…回転手段、2
0…昇降手段、21…検知手段、28,38…制御手
段。1. Wafer (sample), 2. Sample table, 3. Primary X-ray, 6.
Cassette, 7: cassette room, 14: cassette stand, 15,
16, 17, 18 positioning means, 19 rotating means, 2
0: elevating means, 21: detecting means, 28, 38: controlling means.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G001 AA01 BA04 CA01 GA13 JA08 JA09 JA12 JA14 JA20 KA01 LA11 MA05 PA01 PA07 PA11 PA12 PA14 PA16 PA30 QA01 4M106 AA01 BA20 CA29 DG02 DG03 DG05 DG16 DG28 DH01 5F031 CA02 HA58 HA59 JA03 JA14 JA22 MA33 PA16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2G001 AA01 BA04 CA01 GA13 JA08 JA09 JA12 JA14 JA20 KA01 LA11 MA05 PA01 PA07 PA11 PA12 PA14 PA16 PA30 QA01 4M106 AA01 BA20 CA29 DG02 DG03 DG05 DG16 DG28 DH01 5F031 CA02 HA58 JA59 MA33 PA16
Claims (3)
射して発生した蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析
装置において、 複数の所定の直径のウエハを試料とし、 前記所定の直径のうちの一の直径のウエハが収納された
所定の種類のカセットが搬入されるカセット室と、 そのカセット室に設けられ、収納されたウエハの直径に
応じてカセットを所定の位置に位置決めする位置決め手
段を有し、カセットが載置されるカセット台と、 そのカセット台を回転させる回転手段と、 前記カセット台を昇降させる昇降手段と、 前記カセット室での所定の検知高さおよび検知方向にお
いて、カセットまたはウエハを検知する検知手段と、 搬入されたカセットの種類が入力され、その種類に応じ
て前記カセット台を前記回転手段により所定の方向に設
定し、前記昇降手段により昇降させ、前記検知手段から
の検知信号に基づいて搬入されたカセットにおけるウエ
ハの収納された高さを求める制御手段とを備えたことを
特徴とする蛍光X線分析装置。1. An X-ray fluorescence analyzer for measuring the intensity of X-ray fluorescence generated by irradiating a sample placed on a sample stage with primary X-rays, wherein a plurality of wafers having a predetermined diameter are used as samples. A cassette chamber into which a cassette of a predetermined type in which a wafer of one of the predetermined diameters is stored is loaded, and the cassette is provided in the cassette chamber and is positioned at a predetermined position in accordance with the diameter of the stored wafer. A cassette table on which a cassette is placed, a rotating means for rotating the cassette table, an elevating means for elevating and lowering the cassette table, a predetermined detection height in the cassette chamber and In the detection direction, a detection means for detecting a cassette or a wafer, and a type of the loaded cassette are input, and the cassette table is moved in a predetermined direction by the rotating means according to the type. X-ray fluorescence spectrometer, comprising: a control unit for determining the height at which wafers are stored in a cassette loaded based on a detection signal from the detection unit. .
射して発生した蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析
装置において、 複数の所定の直径のウエハを試料とし、 前記所定の直径のうちの一の直径のウエハが収納された
所定の種類のカセットが搬入されるカセット室と、 そのカセット室に設けられ、収納されたウエハの直径に
応じてカセットを所定の位置に位置決めする位置決め手
段を有し、カセットが載置されるカセット台と、 そのカセット台を回転させる回転手段と、 前記カセット台を昇降させる昇降手段と、 前記カセット室での所定の検知高さおよび検知方向にお
いて、カセットまたはウエハを検知する検知手段と、 前記カセット台を前記昇降手段により所定の高さに設定
し、前記回転手段により回転させ、前記検知手段からの
検知信号に基づいて、前記検知手段でウエハを検知する
のに適切な方向に設定し、前記昇降手段により昇降さ
せ、前記検知手段からの検知信号に基づいて搬入された
カセットにおけるウエハの収納された高さを求める制御
手段とを備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。2. An X-ray fluorescence analyzer for irradiating a sample placed on a sample stage with primary X-rays to measure the intensity of X-ray fluorescence generated, wherein a plurality of wafers having a predetermined diameter are used as samples. A cassette chamber into which a cassette of a predetermined type in which a wafer of one of the predetermined diameters is stored is loaded, and the cassette is provided in the cassette chamber and is positioned at a predetermined position in accordance with the diameter of the stored wafer. A cassette table on which a cassette is placed, a rotating means for rotating the cassette table, an elevating means for elevating and lowering the cassette table, a predetermined detection height in the cassette chamber and A detecting means for detecting a cassette or a wafer in a detecting direction; and setting the cassette table at a predetermined height by the elevating means, rotating by the rotating means, Based on the detection signal, the direction is set to an appropriate direction for detecting the wafer by the detection means, the wafer is moved up and down by the elevating means, and the wafer stored in the cassette carried in based on the detection signal from the detection means. An X-ray fluorescence spectrometer comprising: a control unit for obtaining a height.
ウエハの直径を求める蛍光X線分析装置。3. The X-ray fluorescence analyzer according to claim 2, wherein the control unit further obtains a diameter of a wafer in the loaded cassette.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000097886A true JP2000097886A (en) | 2000-04-07 |
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ID=17429214
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP3270828B2 (en) | 2002-04-02 |
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