JP2000068190A

JP2000068190A - 露光データ作成方法

Info

Publication number: JP2000068190A
Application number: JP24064898A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Koike; 和範小池
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1998-08-26
Filing date: 1998-08-26
Publication date: 2000-03-03
Also published as: KR20000016957A; US6608691B1; KR100546956B1; TW417186B

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、半導体製造装置用のレチクルを設
計する際の、露光データ作成方法に関する。【解決手段】ＣＡＤ装置６０を用いた半導体製造装置
用のレチクル２３設計において、ファイル中に露光デー
タを作成する際に、未露光部３９を設け、各ファイル中
の共通する未露光部３９とともに露光データ３８を共有
化することにより、各露光データ２６、２８、３０、３
２を階層処理することを可能とし、露光データ量を削減
し、露光データ処理の効率化を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光データ作成方
法に係り、特にコンピュータによるレチクルマスク設計
時の露光データ作成方法に関する。近年の半導体集積回
路技術の分野においては、急速な技術革新に伴う集積度
の向上によって、集積回路製造装置においても技術開発
によってその性能の向上が求められている。特に、微細
加工技術の分野では、高集積化に伴う集積回路パターン
の高密度化によって、露光技術の高度化が要求される。

【０００２】本発明は、集積回路を作製する際の露光時
にレチクルと呼ばれるマスクを使用するが、このレチク
ルをＣＡＤ装置を用いて設計作製する際に、その個々の
パターンを構成する、データを処理する方法に関するも
のである。即ち、集積度の向上に伴うレチクルパターン
の高密度化によって、レチクルをパターニングする際
の、露光データ数は増大する一方であり、レチクル作製
の効率化を考えた場合、その処理方法を最適化する必要
がある。このため、露光データ量の軽減と、露光データ
を作成する際の工程およびデータ処理方法の簡略化が必
要である。

【０００３】

【従来の技術】レチクルマスク（以下単にレチクルと呼
ぶ）を設計する際の通常の方法としてＣＡＤ（Computer
Aided Design ）装置を使用することが多い。図１〜図
３にその方法の概略を示す。ＣＡＤ装置を用いてレチク
ルを設計する従来の手順は次の通りである。

【０００４】図１において、ＣＡＤ内部のホストコンピ
ュータ１０がレチクル用の設計データ（後述する）１６
をデータ処理部１２へ送り、データ処理部１２におい
て、設計データ１６を露光データ（後述する）１８に変
換し、さらに露光データ１８を露光部１４に送る。実際
の露光時においては、光源２１から発せられた光は偏光
板２２においてレチクル２３中の露光位置を制御し、露
光される。

【０００５】尚、レチクル中に形成されるパターンは、
パターンを構成する単位である図形からなるが、その図
形単体もしくはその図形の任意の数の集合体をセルと称
するものとする。従って、レチクル中のパターンは複数
のセルによって構成される。また、露光装置が半導体表
面上に各種のパターンを形成する際には、そのパターン
に対応した形状の図形をレチクル中に描画し、その結
果、レチクルは図形が描かれた領域（セルによって構成
される）とそうでない領域とに分かれることになる。そ
こでその図形を形成する方法として、ＣＡＤ装置内で、
図形の存在する領域に図形を構成するためのデータを割
り当てる。そのデータを露光データと称し、セルを構成
する。従って、図形を形成しない領域にはデータを割り
当てず、その領域を未露光領域と称する。

【０００６】ここで従来の露光データの作成方法を図２
（Ａ）〜（Ｆ）、図３（Ａ）〜（Ｆ）、図４（Ａ）、
（Ｂ）および図５に基づいて説明する。まず、露光デー
タを作成するために、その基となる設計データを作成す
る必要がある。図２（Ａ）〜（Ｆ）は設計データを作成
する工程の流れを示した図であり、図３（Ａ）〜（Ｆ）
はこれに対応する各セル内でデータが形成される様子を
示したものである。ここに図３（Ａ）〜（Ｆ）における
各セルの黒色部は、設計データを有することを示し、そ
れ以外の部分にはデータは存在しないことを示す。また
同図中、ＴＯＰセルは最上位のセルであって、その下層
にセルa 〜セルd を有し、全体が一つのライブラリーを
構成する。ただしＴＯＰセル中には設計データは存在せ
ず、セルa 〜セルd 中に設計データを形成する。

【０００７】まず、図２（Ａ）において、個々のセルと
してＡ、およびa 〜d 中に設計データ、即ち図３（Ａ）
のように、セルＡに設計データ３６を、セルa に設計デ
ータ２６を、セルb に設計データ２８を、セルc に設計
データ３０を、セルd に設計データ３２をそれぞれ作成
する。次に図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）において、ＴＯＰ
セル３４の下層に、セルＡ２４として例えば２×２配列
（縦横２列ずつ形成されたセルの配列）の領域中全体に
設計データ３６を配置する。

【０００８】さらに図２（Ｃ）及び図３（Ｃ）におい
て、ＴＯＰセル３４下層のセルＡ２４中に、セルa 内の
設計データ２６を形成し、次に図２（Ｄ）及び図３
（Ｄ）において、ＴＯＰセル３４下層のセルＡ２４中
に、セルb 内の設計データ２８を、さらに図２（Ｅ）及
び図３（Ｅ）において、セルc 内の設計データ３０を、
また図２（Ｆ）及び図３（Ｆ）において、セルd 内の設
計データ３２をそれぞれ割り当て、各セルへの設計デー
タの配置を完了する。

【０００９】図４（Ａ）は、以上の工程で作成された設
計データを処理することによって、レチクルにパターニ
ングする際に使用されるデータとして、露光データを作
成する際の手順を示したものである。即ち、図２（Ａ）
〜（Ｆ）の工程及びこれを図示した図３（Ａ）〜（Ｆ）
において作成された設計データ（図４（Ａ）１）を設計
データ反転処理装置（図１２の説明において後述する）
によって反転処理し（図４（Ａ）２）、露光データの作
成が完了する（図４（Ａ）３）。

【００１０】これを図４（Ｂ）において説明すると、実
際にレチクルにパターンを形成する際には、図４（Ｂ）
における、設計データ３６、２６、２８、３０、３２の
存在する場所で光を通過させるために、露光データの作
成においては、設計データを反転させる必要がある。即
ち、設計データの存在しない領域３８（図３参照）に露
光データを作成し、設計データの存在する領域３６、２
６、２８、３０、３２には露光データを作成しない。

【００１１】以上のように設計データを反転処理するこ
とによって、露光データに変換する流れを示したのが、
図５に示す１〜３であって、図５中の１〜３の工程は図
４（Ａ）の１〜３の工程に対応する。以上によって形成
された露光データを基に作製されたレチクルを用い、半
導体基板中の露光データを有する黒色部（図５の３中の
領域３８）に対応する部分のポジレジストが露光され、
フォトレジストパターンを形成することになる。このよ
うに、設計データの作成の際には、設計データは階層処
理されるのに対して、これを反転処理して作成される露
光データは階層処理されないため、結果として露光デー
タのデータ量が増大することになる。

【００１２】一般的に、複数のデータを有するグループ
をファイル化して保存する場合に、各々がまったく異な
るデータである場合には、各ファイルを独立させて、階
層を持たせることなく保存せざるを得ないが、共通する
データを有する場合には、その部分を共有させて、階層
化することができる。特に、データ数が膨大な場合ほ
ど、階層化することによる利点が大である。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上述
べた従来例の露光データの作成方法においては、各セル
内の露光データは互いに異なる配置をとるために、階層
処理することができない。また、階層処理するために
は、上述したように各セルに共通する露光データをそれ
ぞれのセルで保持しなければならない。このために、配
列数が増える分だけ露光データ量が増し、したがって全
体の露光データ数は膨大な量となり、また、露光データ
を作成する上でのデータの処理工程数が多く、従来の処
理方法では効率性に劣るという問題がある。

【００１４】そこで、従来の露光データ処理方法におい
て、階層処理を持たせることを試みた場合の問題点は以
下のようになる。まず、図６（Ａ）〜（Ｆ）および図７
（Ａ）〜（Ｆ）に示す、設計データの作成手順、および
ＴＯＰセル上の配列に、セルa 〜d の各セルを配置した
場合の設計データの配列は、従来方法の図２（Ａ）〜
（Ｆ）及び図３（Ａ）〜（Ｆ）の場合とまったく同様で
ある。

【００１５】次に、図９は、従来の例において２×２の
配列に配置した各セル（セルＡ、およびセルa 〜d ）
を、個々のセルに分離した状態（図９中の１）から、こ
れらの設計データを有する各セルを反転処理した状態の
露光データであるメイン１、メイン２、メイン３、メイ
ン４、メイン５を示す（図９中の３）。さらに、図８
（Ａ）１〜３、及び（Ｂ）に示すように、従来法と同様
にして、メイン１の露光データをＴＯＰセル下層の２×
２の配列に配置した上で、さらにその領域にメイン２〜
メイン５の露光データを重ねることは、露光データの領
域が重複し２重露光となり、焼き付けが不可能となる。
したがって、事実上、階層処理を組む事ができない。

【００１６】本発明では、上述した階層処理を組む方法
を提供し、増大する露光データ量を軽減した上で、露光
データを作成する際のデータ処理工程を短縮することを
目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴と
するものである。請求項１記載の発明では、ファイル中
に座標を設定し、前記座標上の座標値に対応させて露光
データを配置する工程と、前記ファイル中に前記露光デ
ータを配置しない未露光領域を設定する工程を含むこと
を特徴とする。

【００１８】露光データを座標値に対応させることによ
り露光データの指定が容易となり、また未露光領域を設
定することにより、各データファイル中の未露光領域を
共通化して１つの未露光領域用ファイルとし、未露光領
域用ファイルの下層に各露光データ用ファイルを配置す
ることにより、階層処理することが可能となるため、デ
ータ量を削減することができる。

【００１９】請求項２記載の発明では、数値によって前
記未露光領域を指定する工程を含むことを特徴とする。
また請求項３記載の発明では、前記座標値によって前記
未露光領域を指定する工程を含むことを特徴とする。さ
らに請求項４記載の発明では、露光パターンに対応する
図形もしくは任意の数の前記図形を含むセルによって前
記未露光領域を指定する工程を含むことを特徴とする。

【００２０】上記請求項２乃至４記載の各手段を講じる
ことによって、ソフトウェアによるデータ処理時の、未
露光領域を指定する際に、プログラム中で各々の未露光
データを指定する場合と比較して、未露光領域を一括し
てその総称により定義することにより、未露光領域の指
定が簡略化されるため、ソフトウェアの動作速度が向上
し、設計の効率化を図る事ができる。

【００２１】請求項５記載の発明では、露光領域を指定
する前記露光データとは異なるファイル中に前記未露光
領域を指定する工程を含むことを特徴とする。各セルに
共通する未露光領域を露光データとは異なるファイル中
に指定することによって、各セルの露光データを共通の
未露光領域の下層に階層処理することができ、従って露
光データを削減することができる。

【００２２】請求項６記載の発明では、前記露光データ
と同一のファイル中に前記未露光領域を指定する工程を
含むことを特徴とする。未露光領域を露光データと同一
のファイル中に配置することによって、未露光領域に対
応する各セルに特有の露光データのみを、未露光領域用
ファイルの下層の別ファイルに配置して階層処理をする
ことができ、またそれ以外の露光データを各セルに保持
する必要がなくなるため、データ量を削減することがで
きる。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の実施例を以下に説明す
る。レチクル中に露光データを作成する工程は、ＣＡＤ
装置によって設計データを作成した後に、画像変換処理
装置によって露光データに変換する。ここで、露光デー
タを作製する工程の説明として、ＣＡＤ装置を用いた設
計データの作製方法及び画像変換処理装置を用いた露光
データの作製方法について図１０、図１１及び図１２を
用いて説明する。

【００２４】最初に図１０において、露光データを作製
する流れの概略は、以下の通りである。即ち、ＣＡＤ装
置６０を用いて、露光データを作製する際の基準となる
設計データを作製し、パターンレイアウトを形成する。
次に、制御系の処理工程である画像処理装置６２を用い
て、ＣＡＤ装置６０において作製した設計データを露光
データに変換する。

【００２５】さらに、作製した露光データに基づいて、
光学系の処理工程である露光装置６４によってレチクル
にパターンの焼き付けを行う。以上のレチクルパターン
作製過程において、ＣＡＤ装置６０及び画像処理変換装
置６２を用いた各データの処理工程について以下図１１
及び図１２を用いて説明する。

【００２６】図１１は、上述したように、パターンレイ
アウト設計のための、設計データの作製工程を示すＣＡ
Ｄ装置６０の内部構成の概略図である。ＣＡＤ装置６０
の全体の構成は、ソフトウェア部６６及びハードウェア
部６８とよりなる。ソフトウェア部６６は、ＯＳである
ＵＮＩＸ７０、及びこのＯＳ上で動作するＳＸ７２と呼
ばれるアプリケーションプログラムを有する。

【００２７】また、ハードウェア６８の構成は以下の通
りである。即ち、外部入力としてのキーボード７４及び
マウス７６と、入力データの表示機能を有するディスプ
レイ７８と、入力データを一時的に記憶するメモリー８
０と、入力データ及び全ての処理後のデータを格納する
ハードディスク８２と、さらに入力データ等を一定の機
能をもって処理するＣＰＵ（中央演算処理装置）８４と
よりなる。

【００２８】以上の構成を有するＣＡＤ装置６０内部の
各機能は次の通りである。即ち、マウス７６あるいはキ
ーボード７４から入力されたデータは、それ自体がディ
スプレイ７８上に表示されるとともに、メモリー８０中
に一時的に記憶される。その後、ＣＰＵ８４によって一
定の処理がなされた後に、処理後のデータはハードディ
スク８２に記憶される。

【００２９】上記構成及び機能を有するＣＡＤ装置６０
を用いた設計データの形成工程は以下のようになる。キ
ーボード７４及びマウス７６より入力されたデータは、
ディスプレイ７８上に表示されるとともに、メモリー８
０中に一時的に記憶され、ソフォトウェアであるＳＸ７
２の機能によりバス８６を介した命令によって、レイア
ウトパターンを構成する設計データを形成する。設計デ
ータはハードディスク８２に記憶される。

【００３０】次に、上記の過程で形成された設計データ
が画像処理変換装置６２において、露光データに変換さ
れる工程について、図１２に基いて以下説明する。図１
２は、設計データを露光データに変換するための画像処
理装置６２の概略図である。画像処理装置６２の構成
は、ソフトウェア部８８及びハードウェア部９０とより
なる。

【００３１】ソフトウェア部８８では、ＯＳであるＵＮ
ＩＸ９２と、このＯＳ上で動作するｍｒ２９と呼ばれる
並列制御プログラムと、ｍｐｄｐと呼ばれるマスクパタ
ーンデータ処理プログラムとよりなるプログラム系９４
とが構成されている。また、ハードウェア部９０の構成
は上述したＣＡＤ装置６０の場合と同様である。

【００３２】さらに、画像処理装置６２内部の各機能及
び設計データを露光データに変換する工程は次の通りで
ある。即ち、マウス９６あるいはキーボード９８から入
力されたデータの処理条件は、それ自体がディスプレイ
１００上に表示されるとともに、メモリー１０２中に一
時的に記憶される。その後、ＣＰＵ１０４により、図１
において形成された設計データがＣＡＤ装置６０から画
像処理装置６２へ転送され、上記入力データの条件のも
とに、ＣＰＵ１０４によって演算処理され、露光データ
に変換される。そして、変換処理後の露光データはハー
ドディスク１０６に記憶格納される。

【００３３】次に本発明の目的である露光データを削減
する方法の概略について説明する。図１３（Ａ）〜
（Ｆ）、図１４（Ａ）〜（Ｆ）、図１５、図１６
（Ａ）、（Ｂ）、及び図１７は、露光時にポジレジスト
を使用する場合の、露光データの作成方法の実施例を示
す図である。全てのセルに対して共通する部分の露光デ
ータを抽出して共通ファイルとし、各セル毎に異なる露
光データの領域のみを未露光部の領域として定義し、そ
こに各セルで異なる露光データを割り当てる方法をと
る。

【００３４】まず、図１３の設計データの作成工程にお
いて、本実施例では、各セル内での未露光部の領域を割
り当てる方法として、図１３（Ａ）の工程に示すように
以下に説明する３通りの方法を示したものである。第１
の方法は図１３（Ａ）に示すように、座標値によって未
露光領域を定義する方法である。未露光領域を座標値に
よって定義することは、ＣＡＤ装置によるパターン設計
の本質的な手法であるが、第１の方法における座標値に
よる未露光領域の定義は、より簡素化した方法である。

【００３５】即ち第１の方法は図１４（Ａ）に対応し、
破線にて示した未露光領域３９を、２ヶ所の×点で示し
た４角形の対角上の２点を定めた座標によって定義する
ものである。座標による定義の具体例は本実施例におい
て後述するが、第１の方法によって、ＣＡＤ装置上で無
数の座標値によって特定される未露光領域を、２点の座
標のみによる定義に簡略化し、設計を効率化することが
できる。

【００３６】次に第２の方法は、同様に図１３（Ａ）及
び図１４（Ａ）に示すように、セルa 、セルb のごとく
セル名によって未露光領域を定義する方法である。第２
の方法を採ることによって、未露光領域を指定する場合
に、未露光領域を構成する座標値を指定する必要がな
く、未露光領域をその名前により指定することが可能と
なり、露光データ処理工程を簡略化、効率化することが
できる。

【００３７】第２の方法の例としては、未露光領域が２
点の座標値（１、２）、（３、４）により定義される場
合に、座標値に代えて例えば「セルa 」なる名前により
定義することにより、座標値における４つの数値を要し
ていた未露光領域の定義を、１つの名前によって行うこ
とができ、未露光領域の定義に要するデータ量を低減す
ることができる。

【００３８】さらに第３の方法は、図１３（Ａ）に示す
ように、レベルコードによって未露光領域を定義する方
法である。レベルコードとは、単なる数値であって、数
値によって未露光領域を定義することにより、露光デー
タ処理工程をさらに単純化することができる。レベルコ
ードによって未露光領域を定義する一例としては、以下
のようになる。

【００３９】例えば、未露光領域が２点の座標値（１、
２）、（３、４）により定義される場合に、座標値に代
えて例えば「１」なる数値により定義することにより、
座標値における４つの数値を要していた未露光領域の定
義を、１つの数値によって行うことができ、この場合に
はデータ量を４分の１に低減することができる。以下、
図１３（Ａ）〜（Ｆ）及び図１４（Ａ）〜（Ｆ）を基
に、未露光領域に設計データを割り当てる工程について
説明する。

【００４０】図１３（Ｂ）及び図１４（Ｂ）の工程で
は、ＴＯＰセルの階層下に、（Ａ）の工程で作成した設
計データ３６を有するセルＡが縦横２列ずつ、いわゆる
２×２で配列されていることを示す。このセルＡ中の、
上述した未露光領域に対して個々の設計データを有する
セルa 〜セルd を以下同図中（Ｂ）〜（Ｆ）の工程で割
り当てる工程について説明する。

【００４１】図１４（Ｂ）の工程で、例えば、セルＡお
よび２×２の配列のＴＯＰセルについて、破線で示した
領域３９は露光しない領域であり、セルＡのみを配置す
る上では共通する領域である。したがって、この領域を
あらかじめデータを保持しない領域、即ち、未露光領域
３９として見なせば、設計データを露光データに反転す
る過程においては、未露光領域３９はデータを保持せず
反転しないため、セルa 〜セルd のデータを未露光領域
３９に配置することが可能である。またこれと同時に、
共通する未露光領域３９を上層の共通ファイルとして、
その下層に各セルに特有のパターン形状を有する露光デ
ータを配置して階層処理することが可能となる。

【００４２】この過程は、例えば図１５に示すように、
セルＡに対して座標軸を設定し、未露光領域３９を座標
を用いて定める。そして他の各セルに対して、この未露
光領域３９をセルＡと相対的に同位置に設定して、これ
を各セルに共通の領域として、その下層に各セルに特有
の露光データを階層処理して配置する。ここで未露光領
域の設定方法について説明する。

【００４３】座標軸設定の具体例としては、図１５のよ
うに、未露光部領域３９を四角形ＯＸＹＺと定義し、各
点に対して、Ｏ（０，０）を原点として、Ｘ（０，１０
０）、Ｙ（１００，１００）およびＺ（１００，０）と
設定する。さらに、未露光部領域３９を２点Ｂ（１０，
５０）およびＣ（５０，１０）からなる、図中に波線で
示す四角形３９と定義する。四角形３９は、未露光部で
あるために、設計データを露光データに変換した後も反
転せず、すべてのセルに対して共通する領域となる。

【００４４】従って、例えば図１４におけるセルＡなる
ファイルは、その一部に設計データ３６があり、その他
の領域は、データの保存としては不要な領域である。そ
こで、波線によって示した領域をデータを作成しない未
露光領域として設け、データを保存するために要するＣ
ＡＤ装置中の容量を節約することができる。以下順に図
１３（Ｃ）及び図１４（Ｃ）では、セルa を未露光領域
３９のうちの一つに割り当て、同図中（Ｄ）では、さら
にセルb を他の未露光領域３９のうちの一つに割り当
て、同図中（Ｅ）では、さらにセルc を他の未露光領域
３９のうちの一つに割り当て、最後に同図中（Ｆ）で
は、さらにセルd を他の未露光領域３９のうちの一つに
割り当て、設計データの配置が完了する。

【００４５】次に、以上作成した設計データを画像処理
装置６２によって反転処理し、露光データを作成する工
程について説明する。図１６（Ａ）に示す１〜３及び図
１７に示す１〜３は、設計データを露光データに変換す
る過程の説明図であり、図１６（Ｂ）は、未露光部を含
む各セル中において、露光データの作成過程について説
明した図である。

【００４６】まず図１６（Ａ）と図１７における露光デ
ータ作成過程について説明する。図１７中の１は、破線
で示した未露光領域３９を、×印で示した２つの座標値
によって指定する場合、及び露光データ３６を各セル名
によって指定する場合である。次に図１７中の２におい
て、反転処理装置６２により上記設計データを露光デー
タに変換し、露光データの存在する領域とそうでない領
域とを相互に変換する。この際に、未露光領域中の設計
データの存在しない領域は、反転処理するデータが存在
しないので元のままである。

【００４７】さらに図１７中の３のように、以上の過程
を経て、露光データファイルであるメイン１〜メイン５
までの作成が完了する。即ち、図１６（Ｂ）に示すメイ
ン１なるファイル中の露光データは、セルＡ中の設計デ
ータ３６から、未露光部３９を除いた領域を反転処理し
た部分となり、メイン１の露光ファイル中の黒色部分４
１で示す領域である。

【００４８】また、図１４（Ａ）におけるセルａ〜セル
ｄは、露光領域を示す設計データのみからなるセルであ
り、これらを露光データに変換する際には、図１６
（Ｂ）のメイン１〜メイン５までのセルのように、周囲
に黒色部分の露光データ４１を設けることにより作成す
る。したがって、露光データ４１の作成手順としては、
次のようになる。

【００４９】まず、図１６（Ｂ）において、メイン１の
露光ファイルによって、２×２の配列のセルに焼き付け
を行い、次に、メイン２の露光ファイルによって、露光
データ４１をイメージ通りに焼き付けを行う。さらに同
様にして、メイン３からメイン５の露光ファイルによっ
て、露光データ４１をイメージ通りに焼き付けを行う。

【００５０】最後にメイン１中の未露光領域３９に、メ
イン２〜メイン５を配置して露光データの作成が完了す
る。以上の工程によって形成された露光データを基に作
製されたレチクルを用い、半導体基板中の露光データを
有する黒色部に対応する部分のポジレジストが露光さ
れ、フォトレジストパターンを形成することになる。

【００５１】これらの露光データファイルは、ＴＯＰセ
ル中の２×２配列内では、メイン１中の未露光領域３９
を各配列中に共通して有するため、当領域にメイン１〜
メイン５の露光データを配置することができ、結果的
に、全体としての露光データ量は、従来例と比較して激
減したものとなる。以上のように、未露光領域３９を共
通領域として、露光データ４１を階層処理することによ
って、露光データ量を低減し、レチクルの設計効率をも
向上させることができる。

【００５２】

【発明の効果】本発明における露光データの作成方法を
実施することにより、露光データファイル中に未露光領
域を設定することにより、露光データの階層処理化、あ
るいは露光データの共有化を図ることができ、露光デー
タ処理方法において問題であった増大したデータ量を削
減することができる。また、前記未露光領域を数値、座
標値、あるいは露光パターンに対応する図形等により指
定することによって、前記データ量の削減とともに露光
データ処理の効率化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】設計データを露光データに変換するシステムの
概念を示す図である。

【図２】従来の設計データの作成工程を示す図である。

【図３】従来法におけるＴＯＰセル上にセルa 〜d の露
光データを配置した例を示す図である。

【図４】従来法におけるデータ処理工程を示す図であ
る。

【図５】従来法における反転処理を行って露光データを
作成するイメージ図である。

【図６】従来法と同様の設計データ作成工程を示す図で
ある。

【図７】従来法と同様のＴＯＰセル上にセルa 〜d の露
光データを配置した例を示す図である。

【図８】従来法において、データに階層処理を持たせた
場合のデータ処理過程を示す図である。

【図９】従来法において、データに階層処理を持たせた
場合の、各セルごとに反転処理を行う過程を示す図であ
る。

【図１０】露光データの作成フローを示した図である。

【図１１】ＣＡＤ装置中のソフトウェア及びハードウェ
アの構成の概略図である。

【図１２】画像変換処理装置中のソフトウェア及びハー
ドウェアの構成の概略図である。

【図１３】本実施例における設計データ作成工程を示す
図である。

【図１４】本実施例におけるＴＯＰセル上にセルa 〜セ
ルd の露光データを配置した例を示す図である。

【図１５】本実施例における未露光領域を座標値によっ
て設定した例を示す図である。

【図１６】本実施例における露光データ作成工程を示す
図である。

【図１７】本実施例におけるデータを反転処理する過程
を示す図である。

【符号の説明】

１０ホストコンピューター１２データ処理部１４露光部１６、２０設計データ１８、４１露光データ２１光源２２偏光版２３レチクル２４セルＡ２６セルa ２８セルb ３０セルc ３２セルd ３４ＴＯＰセル３６露光領域３８未露光領域３９未露光領域（データ非保持領域）４０データ保持領域４２メイン１ファイル４４メイン２ファイル４６メイン３ファイル４８メイン４ファイル５０メイン５ファイル６０ＣＡＤ装置６２反転処理装置６４露光装置６６ＣＡＤ装置用ソフトウェア６８ＣＡＤ装置用ハードウェア７０、９２ＵＮＩＸプログラム７２ＳＸプログラム７４キーボード７６、９６マウス７８、１００ディスプレイ８０、１０２メモリ８２、１０６ハードディスク８４、１０４ＣＰＵ８６データバス８８画像変換処理装置用ソフトウェア９０画像変換処理装置用ハードウェア９４画像変換処理装置用プログラム系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ファイル中に座標を設定し、前記座標上
の座標値に対応させて露光データを配置する工程と、前記ファイル中に前記露光データを配置しない未露光領
域を設定する工程を含むことを特徴とする露光データの
作成方法。
【請求項２】数値によって前記未露光領域を指定する
工程を含むことを特徴とする請求項１記載の露光データ
の作成方法。
【請求項３】前記座標値によって前記未露光領域を指
定する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の露光
データの作成方法。
【請求項４】露光パターンに対応する図形もしくは任
意の数の前記図形を含むセルによって前記未露光領域を
指定する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の露
光データの作成方法。
【請求項５】露光領域を指定する前記露光データとは
異なるファイル中に前記未露光領域を指定する工程を含
むことを特徴とする請求項１記載の露光データの作成方
法。
【請求項６】前記露光データと同一のファイル中に前
記未露光領域を指定する工程を含むことを特徴とする請
求項１記載の露光データの作成方法。