[go: up one dir, main page]

FI69713B - Genom bestraolning polymeriserbar blandning och av denna framstaellt straolningskaensligt kopieringsmaterial - Google Patents

Genom bestraolning polymeriserbar blandning och av denna framstaellt straolningskaensligt kopieringsmaterial Download PDF

Info

Publication number
FI69713B
FI69713B FI814092A FI814092A FI69713B FI 69713 B FI69713 B FI 69713B FI 814092 A FI814092 A FI 814092A FI 814092 A FI814092 A FI 814092A FI 69713 B FI69713 B FI 69713B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
radiation
diisocyanate
mol
polymerizable
compound
Prior art date
Application number
FI814092A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI814092L (fi
FI69713C (fi
Inventor
Ulrich Geissler
Heide Sprengel
Walter Herwig
Manfred Hasenjaeger
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of FI814092L publication Critical patent/FI814092L/fi
Publication of FI69713B publication Critical patent/FI69713B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI69713C publication Critical patent/FI69713C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/675Low-molecular-weight compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

1 69713 Säteilyn avulla polymeroituva seos ja siitä valmistettu säteilyherkkä kopiointimateriaali
Keksintö koskee säteilyn, erityisesti valon, avulla 5 polymeroituvaa seosta, joka sisältää pääasiallisina aineosinaan polymeeristä sideainetta, säteilyllä aktivoituvaa polymeroitumisinitiaattoria ja radikaalipolymeroituvaa, ainakin kaksi uretaaniryhmää sisältävän moniarvoisen hyd-roksiyhdisteen akryyli- tai metakryylihappoesteriä.
10 Tähän ryhmään kuuluvat seokset ovat tunnettuja, ja niitä käytetään etupäässä valmistettaessa säteilyherk-kiä, erityisesti valoherkkiä, kopiointimateriaaleja, jotka sopivat esimerkiksi painolaattojen, fotoresistien ja korkokuvien valmistukseen.
15 DE-hakemusjulkaisussa 20 64 079 kuvataan valossa polymeroituvia seoksia, jotka sisältävät polymeroituvana yhdisteenään ainakin yhden vapaan hydroksyyliryhmän sisältävän moniarvoisten alkoholien akrylaattien tai metakrylaat-tien, esimerkiksi hydroksietyylimetakrylaatin, ja di-iso-20 syanaattien reaktiotuotteita. Näillä seoksilla on taipumus muodostaa suhteellisen hauraita valossa kovettuvia tuotteita. Niillä on lisäksi rajoitettu säilyvyys, koska monomee-reilla on hieman kohonneissa lämpötiloissa huomattava höyryn-paine.
25 DE-hakemusjulkaisussa 23 61 041 kuvataan seoksia, jotka sisältävät samanlaisia polymeroituvia yhdisteitä, jotka sisältävät useamman kuin kaksi uretaaniryhmää ja lisäksi polyeetteriyksiköitä molekyylissään. Näillä yhdisteillä on vain rajoitettu kovettuuni s tiheys ja ne ovat 30 suhteellisen herkkiä ilman hapelle.
DE-hakemusjulkaisussa 28 22 190 kuvataan seoksia, jotka sisältävät melko suurimolekyylisiä, uretaaniryhmiä sisältäviä monomeereja ja jotka ovat monin tavoin edullisia tiettyihin tarkoituksiin, erityisesti valmistettaessa 35 kuivana siirrettäviä fotoresistikalvoja. Myös niillä saadaan, koska niiden polymeroituvien ryhmien pitoisuus molekyyli- 2 69713 yksikköä kohden on pieni, kovettumistiheydeltään rajoitettuja tuotteita.
US-patenttijulkaisussa 3 850 770 ja EP-hakeinusjulkaisussa 9967 kuvataan samanlaisia polymeroituvia oligo-5 uretaaneja.
Tällaisia polymeroituvia yhdisteitä käyttäen valmistetuilla valo- tai säteilyherkillä kopiointimateriaa-leilla on toki joukko hyviä ominaisuuksia, useimmiten kuitenkin myös tiettyjä haittapuolia. Siten, vaikka suurimole-10 kyylisiä, polyuretaaniryhmiä sisältäviä oligomeerejä käyttäen saadaan kalvoja, joilla on erinomaiset mekaaniset ominaisuudet valotettuina ja valottamattomina, on niillä saatava kovettumistiheys kuitenkin pienempi kuin tiettyjä pienimolekyylisiä monomeereja käytettäessä:. Useilla mono-15 meereilla, erityisesti yhdistettyinä edullisiin aikalisillä vesiliuoksilla kehitettäviin sideaineisiin, saadaan myös tahmeita kalvoja. Myös useimpien tunnettujen materiaalien herkkyys ilman hapelle on suurempi, kuin on toivottavaa.
20 Keksinnön päämääränä oli löytää säteilyn avulla polymeroituva seos, jolla on suuri säteilyherkkyys eikä taipumusta kiteytyä, ja jota käytettäessä saadaan lisäksi kalvoja, joiden pinta ei ole tahmea. Erityisesti tulisi seoksen säilyttää edulliset ominaisuutensa ilman hapen 25 läsnä ollessa, so. ilman hapelta suojaavaa kerrosta ja sillä tulisi olla mahdollisimman hyvä resiprookkisuus.
Keksinnön lähtökohtana on säteilyn avulla polymeroituva seos, joka sisältää pääasiallisina aineosinaan polymeeristä sideainetta, säteilyllä aktivoituvaa poly-30 meroitumisinitiaattoria ja ainakin kaksi uretaaniryhmää molekyylissään sisältävän moniarvoisen hydroksiyhdisteen akryyli- tai metakryylihappoesteriä.
Keksinnön mukainen seos on tunnettu siitä, että esteri on glyseriinimetakrylaatin tai glyseriinidiakrylaa-35 tin ja moniarvoisen isosyanaatin, joka saadaan antamalla 2-6 0H-ryhmää sisältävän polyhydroksiyhdisteen reagoida 3 69713 di-isosyanaatin lanssa, tai di-isosyanaatin reaktiotuote.
Polyhydroksiyhdisteessä on edullisesti 2 tai 3, erityisesti 2 OH-ryhmää. Se on edullisesti yhdiste, jolla on jokin seuraavista yleisistä rakenteista 5 HO-[V'2p-v(OH)v-S']m-lCpH2p-v<OH)v+l 1,0-iCpH2p-v<0H)v-°-:lmH < "0-Cr"2t-2-V(0H)v+l ' 10 H°-'CqH2q-v(°"K-O-CO-Q-COO(OH>v+1 und 15 H0-(CpH2p-0-)n- -R“- <Q> -°-(V'2p-0->nH ' joissa R" on 0, S, CR2 tai SO2, Q on fenyyli tai cqH2q tai CqH2q-2' 20 R on vety tai metyyli, Z on 0 tai NR, n on luku 0 - 20, m on luku 1-40, p on luku 2 - 20, 25 q on luku 2-10, r on luku 4 - 20, s on luku 2 - 10 ja v on luku 0-4, jolloin p, q ja s ovat ainakin 2 suurempi ja r ainakin 4 30 suurempi kuin v.
Di-isosyanaatti on yleensä yhdiste, jonka kaava on OCN-X-NCO, jossa X on hiilivetytähde, edullisesti tyydyttynyt alifaattinen tai rengasrakenteinen hiilivetytähde, jossa on 2-20 hiiliatomia.
35 Glyserinimetakrylaatin reaktiotuotteet ovat yleensä edullisempia kuin glyseriiniakrylaatin reaktiotuotteet.
4 69713
Moniarvoinen isosyanaatti, joka saadaan antamalla polyhydroksiyhdisteen reagoida di-isosyanaatin kanssa, sisältää keskimäärin 2-40, edullisesti 2-20 uretaani-ryhmää molekyylissään.
5 Sähkömagneettisena säteilynä, jolle keksinnön mukai nen yhdiste on herkkä, voidaan käyttää mitä tahansa säteilyä, jonka energia vastaa vähintään lyhytaaltoisen näkyvän valon energiaa. Valo, jonka aallonpituus on 300 - 500 nm, on edullinen, kuitenkin myös röntgen-, elektroni- ja muut 10 korpuskulaarisäteet, sekä lasersäteet sopivat polymeroin-tiin. Kussakin tapauksessa voidaan initiaattorisysteemi tehdä sopivaksi halutulle säteilylle tai herkistää sille.
Polymeroituvien uretaanien valmistukseen käytettävistä polyoleista ovat edullisia polyeetteripolyolit, erityisesti tyydyttyneet, siis yhdisteet, joiden kaava on 15 HO- C H0 (OH) (OH) -0- H. Tällöin p on edullisesti p 2p-v v v m 2-10, erityisesti 2- 4. Kun käytetään tyydyttymättömiä polyoleja, on niiden kussakin polyoliyksikössä edullisesti 4 - 10 hiiliatomia.
Tiettyihin tarkoituksiin, esimerkiksi tiettyjen 20 mekaanisten ominaisuuksien tai suuremman valoherkkyyden saavuttamiseksi, voi olla myös edullista käyttää poly-esteripolyoleja. Ne voivat olla tunnetulla tavalla muodostuneita dikarboksyylihappo- tai polyoliyksiköistä tai hydrcksikarboksyylihappoyksiköistä. Tällöin ovat edullisia 25 hydroksikarboksyylihapot, joissa q = 3- 6 .
Hydroksikarboksyylihappojen polyesteridiolit valmistetaan tavallisesti laktoneista renkaan aukaisureakti-olla vetyaktiivisen yhdisteen HO-C^^g-Z-H avulla. Tällöin s on edullisesti 2 - 6 ja Z on edullisesti happi.
30 Yksikköjen lukumäärä polyesteridioleissa ja poly- eetteridioleissa riippuu niiden itsensä ja molekyylin muiden yksiköiden luonteesta, sideaineen luonteesta ja kulloisestakin käyttötarkoituksesta. Polymeroituvat yhdisteet, joiden molekyylissä on suhteellisen pitkiä polyoliketjuja, 35 ovat sangen hydrofiilisiä ja kehittyvät hyvin nopeasti vesipitoisilla kehitteillä. Myös käytettäessä vähemmän 5 69713 hydrofiilisiä sideaineita ovat tällaisia polyeetteriryhmiä sisältävät monomeerit yleensä hyvin soveltuvia. Sitä vastoin on monomeerien, jotka sisältävät suurimolekyylisia alkyy-liryhmiä tai polyesteriryhmittymiä, yhteydessä tarpeellista käyttää hydrofiilisempiä sideaineita silloin, kun ma-5 teriaali tulee kehittää lisäämättä kehitteeseen orgaanista liuotinta. Useimmiten ovat edullisia yhdisteet, joissa m = 2 - 25, erityisesti 3 -15.
Esimerkkejä soveltuvista di-isosyanaateista ovat tolyleenidi-isosyanaatti, ksykyleenidi-isosyanaatti, nafty-10 leenidi-isosyanaatti, heksametyleenidi-isosyanaatti, syklo- heksyleeni-isosyanaatti, difenyylimetaanidi-isosyanaatti, isoforonidi-isosyanaatti, 2, 2, 4-trimetyyliheksamety-leenidi-isosyanaatti ja tolyleenidi-isosyanaatin tai di-fenyylimetaanidi-isosyanaatin (2 mol) ja polytetrahydro-15 furaanin (1 mol) reaktiotuote.
Esimerkkejä soveltuvista monomeerisista tai polymeerisistä dioleista ovat etyleeniglykoli, propyleeniglykoli, butandioli-1,4-2-etyyliheksandioli-l,6, dekandioli-1,10, 1,4-bishydroksimetyylisykloheksaani, dietyleeniglykoli, 20 trietyleeniglykoli, polyetyleeniglykoli, jonka molekyyli-paino on 200 - noin 1500, 4,41-dihydroksidifenyylieette-rin, -difenyylisulfidin, -difenyylimetaanin, -difenyy-lipropaanin tai difenyylisulfonin ja alkyleenioksidin (0 - 40 mol) reaktiotuotteet, polypropyleeniglykolit, poly-25 tetrahydrofuraani, polybutyleebiglykolit, tiodietyleenigly-koli ja ditiotrietyleeniglykoli.
Esimerkkejä soveltuvista polyestereistä ovat poly-prolaktoni, polybutyrolaktoni, polyetyleenitereftalaatti, polypropyleeniadipaatti, polybutyleeniadipaatti ja poly-30 etyleenibutyleenisebasaatti.
Yleensä ovat soveltuvia polyesteripolyolit, joiden molekyylipaino on noin 500 - 3000.
Edullisten diolien lisäksi voidaan yleensä käyttää yhdisteitä, joissa on 2 - 6 alifaattista hydroksyyliryh- 35 mää. Esimerkkejä monomeerisista yhdisteistä ovat glyserii-ni, trimetylolipropaani, pentaerytritoli, dipentaerytritoli 6971 3 ja sorbitoli. Polymeerisiksi polyhydroksiyhdisteiksi ovat soveltuvia polyesteripolyolit, kuten US-patenttijulkaisussa 3 169 945 kuvatut laktonipolyesterit, US-patenttijulkaisussa 3 641 199 kuvatut polyesterikondensaatiopolymeraa-5 tit, joilla on hydroksyyliryhmiä pääteasemassa, US-patentti-julkaisussa 3 941 117 kuvatut hydroksyyliryhmiä sisältävät polyesterit, polyeetterien ja päätehydroksyylejä sisältävien polyestereiden kappaleseospolymeraatit, kaprolaktoni-polyolit ja polysiloksaanipolyolit.
10 Polymeroituvat di- tai polyuretaanit valmistetaan itsessään tunnetulla tavalla, kuten on kuvattu esimerkiksi US-patenttijulkaisussa 3 297 745 ja DE-hakemusjulkaisuissa 20 64 079 ja 28 22 190.
Glyseriinidiesterin valmistamiseksi annetaan glysi-15 dyyliakrylaatin tai glysidyylimetakrylaatin (1 mol) ja akryyli- tai metakryylihapon (1 mol) reagoida keskenään, minkä jälkeen annetaan tämän reaktiotuotteen (1 mol) reagoida polyisosyanaatin (1 ekv) kanssa. Poly-, edullisesti di-isosyanaatti, on tällöin joko monomeeri tai reaktiotuote, 20 joka saadaan ylimäärästä monomeerista di-isosyanaattia ja polyolista. Jälkimmäisessä tapauksessa annetaan polyolikom-ponentin reagoida ennakolta halutun ylimäärän di-isosyanaattia kanssa. Tällöin saadaan yleensä homopolymeeriseok-sia. Syntyneiden monomeerien molekyylipainojen epäyhtenäi-25 syys johtaa tuotteisiin, jotka ovat hyvin viskooseja ja käytännöllisesti katsoen kiteytymättömiä.
Yllä kuvattujen uusien monomeerien lisäksi voi keksinnön mukainen seos sisältää pienehköjä määriä, so. vähemmän kuin 50 %, edullisesti vähemmän kuin 20 % monomee-30 rien kokonaismäärästä, tunnettuja monomeereja, erityisesti moniarvoisten alkoholien akryyli- tai metakryylihappoeste-reitä, jotka voivat sisältää mahdollisesti myös uretaani-sidoksia. Polymeroituvien yhdisteiden kokonaismäärä on yleensä 20 - 80, edullisesti 30 - 70 p-% seoksen kiinteästä 35 aineesta.
Fotoinitiaattoreiksi soveltuvat lukuisat aineet, esimerkiksi bentsoiini, bentsoiinieetterit, monirenkaiset 7 69713 kinonit, esimerkiksi 2-etyyliantrakinoni; akridiinijohdannaiset, esimerkiksi 9-fenyyliakridiini, 9-p-metoksifenyy-liakridiini, 9-asetyyliaminoakridiini, bents(a)akridiini; penatsiinijohdannaiset, esimerkiksi 9,10-dimetyylibents(a) 5 fenatsiini, 9-metyylibents(a)fanatsiini, 10-metoksibents(a) fenatsiini; kinoksaliinijohdannaiset, esimerkiksi 6,4',4"-trimetoksi-2,3-difenyylikinoksaliini, 4‘ ,4"-dimetoksi-2,3-difenyyli-5-atsakinoksaliini ja kinatsoliinijohdannaiset.
Fotoinitiaattoreita lisätään yleensä 0,1 - 20 p-% 10 valossa polymeroituvan seoksen kiintoaineesta.
Sideaineina voidaan käyttää lukuisia liukenevia orgaanisia polymeraatteja. Esimerkkeinä mainittakoon polyamidit, polyvinyyliesterit, polyvinyyliasetaalit, poly-vinyylieetterit, polyakryylihappoesterit, polymetakryyli-15 happoesterit, polyesterit, alkydihartsit, polyakryyliamidi, polyvinyylialkoholi, polyeteenioksidi, polymetyyliakryyli-amidi, polyvinyylipyrrolidoni, polyvinyyliformamidi, poly-vinyyliasetamidi ja mainittuja homopolymeraatteja muodostavien monomeerien seospolymeraatit.
20 Lisäksi tulevat sideaineina kyseeseen luonnonaineet tai muunnetut luonnonaineet, esimerkiksi gelatiini ja sel-luloosaeetterit.
On erityisen edullista käyttää sideaineita, jotka ovat aikalisiin vesiliuoksiin liukenevia tai ainakin sekoit-25 tuvia, sillä sellaisia sideaineita sisältävät kalvot ovat kehitettävissä edullisilla aikalisillä vesipitoisilla kehitteillä. Tällaiset sideaineet voivat sisältää esimerkiksi seuraavia ryhmiä: -COOH, -PO^i^, -SO^H, -SO2NH2, -SC^NH-CO-, tms. Esimerkkeinä mainittakoon maleinaattihartsit, N-(p-tolyy-30 lisulfonyyli) -karbamiinihappo- ( >3-metakryloyloksietyyli) -esterin polymeraatit, sekä tämän ja muiden samanlaisten monomeerien seospolymeraatit muiden monomeerien kanssa, styreeni-maleiinihappoanhydridi -seospolymeraatit, metyyli-vinyylieetterien ja maleiinihappoanhydridin tai maleiinihap-35 poesterien tai -puoliesterien seospolymeraatit, metyylimetak-ryylihappo-metakryylihappo -seospolymeraatit ja metakryyli- 8 69713 hapon, alkyylimetakrylaattien ja metyylimetakrylaatin ja/ tai styreenin, akryylinitriilin, jne. seospolymeraatit, kuten on kuvattu DE-hakemusjulkaisuissa 20 64 080 ja 23 63 806. Styreenin ja maleiinihappoanhydridin tai raale-5 iinihappoestereiden tai -puoliestereiden seospolymeraatit, mahdollisesti yhdistettyinä metyylivinyylieetterien ja maleiinihappopuoliestereiden seospolymeraatteihin, ovat erityisen edullisia.
Sideaineen määrä on yleensä 20 - 80, edullisesti 10 30 - 70 p-% seoksen aineosista.
Valossa polymeroituva seos sisältää monomeerien, sideaineiden ja fotoinitiaattoreiden lisäksi vielä mahdollisesti stabilisaattoreita tai inhibiittoreita monomeerien pimeäpolymeroitumisen estämiseksi, vedynluovuttajia, kostuk-15 keitä, pehmittimiä, herkkyyden säätäjiä, väriaineita ja värittömiä tai värillisiä pigmenttejä.
Vedynluovuttajina käytetään pääasiassa alifaattisia polyeettereitä. Nämä voivat mahdollisesti toimia myös sideaineina tai polymeroituvina monomeereina silloin, kun 20 niissä on labiileja vetyatomeja.
Voi olla edullista välttää pitkälti ilman hapen vaikutusta seoksesta valmistetun valossa polymeroituvan kopiointimateriaalin valossa polymeroituvaan kalvoon valo-polymeroinnin aikana,jotta estettäisiin ilman hapen jälki-25 diffuusio kalvoon..Tämä on normaalisti erityisen tärkeää, kun työskennellään, esimerkiksi valotettaessa projisoimalla tai lasersäteilytyksellä, ilman vakuumikopiointikehyksiä. Käytettäessä seosta ohuina kopiointikerroksina on välttämätöntä käyttää sopivaa, happea vähän läpäisevää suojakal-30 voa. Tämä voi olla itsetarttuva ja se voidaan irrottaa ennen kopiointikalvon valottamista. Tähän tarkoitukseen ovat soveltuvia esimerkiksi polyesterikalvot. Suojakalvo voi myös muodostua materiaalista, joka liukenee kehitysliuokseen tai ainakin irtoaa kovettumattomista kohdista kehityksen aikana. 35 Tähän tarkoitukseen soveltuvia materiaaleja ovat vahat, polyvinyylialkoholi, polyfosfaatit, sokerit jne.
9 69713
Keksinnön mukaisilla seoksilla saadaan valossa poly-meroituvia kalvoja, jotka ovat hyvin valoherkkiä. Tämä on mahdollista myös käytettäessä hapelta suojaavaatelvoa. Kalvot eivät osoita ilman suojakalvoakaan liimautumistaipumus-5 ta, ja ne ovat valotettuina aikalisiä kehitteitä ja happamia alkoholisia huuhteluvesiä kestäviä.
Uudet polyglykoliyksiköitä sisältävät polymeroituvat uretaanit tekevät sitä paitsi mahdolliseksi kehityksen vesipitoisilla aikalisillä kehitteillä vaikuttamatta hai-10 tallisesti kalvojen kehitteiden kestävyyteen. Tällaisia po-lymeroituvia uretaaneja sisältävillä valossa polymeroitu-villa kalvoilla varustetut painolaatat voidaan kehittää upottamalla kehitteellä täytettyyn altaaseen.
Valoherkkien materiaalien valmistus keksinnön 15 mukaista seosta käyttäen tapahtuu tunnetulla tavalla. Siten se voidaan sekoittaa liuottimeen ja liuos tai dispersio levittää valamalla, ruiskuttamalla, upottamalla tai telojen avulla esikäsitellylle alustalle kalvoksi ja sen jälkeen kuivata.
20 Kalvon alustan valinta määräytyy valoherkän materi aalin käyttötarkoituksen mukaan. Laakapainolaattojen valmistukseen käytetään tavallisesti alumiinia, jolla on edullisesti anodisesti aikaan saatu huokoinen oksidikerros. Alumiini on tarkoituksenmukaista karheuttaa ennen anodisointia 25 mekaanisesti, kemiallisesti tai elektrolyyttisesti. Anodi-sointi tehdään tunnetulla tavalla, esimerkiksi rikki- ja/ tai fosforihapossa, edullisesti sellaisissa olosuhteissa, 2 että oksidikerroksen pintapainoksi tulee noin 0,5-10 g/m .
Oksidikerros esikäsitellään edullisesti ennen va-30 loherkän kalvon levittämistä painoteknisten ominaisuuksien parantamiseksi, erityisesti hydrofiilisyyden lisäämiseksi, esimerkiksi silikaateilla tai polyvinyylifosfonihapolla.
Alumiinin ja alumiinilejeerinkien lisäksi voidaan käyttää myös terästä, sinkkiä, kuparia, nikkeliä, kromite-35 rästä tai kromikuparia, piistä termisesti kasvatettuja tai erotettuja -iidioksidikerroksia tai lisättyjä oksidi- 10 6971 3 kerroksia, muovikalvoja,esimerkiksi polyeteeniterefta-laatista tai selluloosa-asetaatista valmistettuja, tai silkkipainoalustoja, esimerkiksi perlon- tai nikkeliverkko-ja.
5 Kopiomateriaalien valotus tehdään tavanomaisesti, esimerkiksi kontaktivalotuksella läpinäkyvän originaalin läpi. Tällöin käytetään tavallisia valonlähteitä, kuten hiilikaarilamppuja, ksenonlamppuja, metallihalogenideilla varustettuja elohopea-korkeapainelamppuja, tms. Valotus 10 voidaan tehdä myös laservalolla, esimerkiksi argon-ionila-serilla.
Valotettujen kopiomateriaalien kehitys tehdään tavanomaisesti pesemällä pois valottumattomat kalvon kohdat kehitteellä. Kehitteen koostumus määräytyy valoherkän 15 kalvon luonteen ja liukoisuuden mukaan. Soveltuvia kehitteitä ovat orgaaniset liuottimet tai liuotinseokset, vesi, joka voi sisältää pieniä määriä orgaanisia liuottimia tai kostukkeita ja erityisesti alkaliset vesiliuokset, jotka voivat sisältää puskuroivia suoloja, esimerkiksi alkali-20 fosfaatteja tai -silikaatteja, orgaanisia liuottimia, kostukkeita, väriaineita ja muita tavanomaisia lisäaineita. Edullisia ovat kehitteet, jotka eivät sisällä orgaanisia liuottimia.
Keksinnön mukaiset seokset soveltuvat erityisesti 25 esiherkistetyiksi kopioittateriaaleiksi soveltuville alustoille levitettäviksi offsetpainolaattojen fotomekaaniseen valmistukseen. Ne soveltuvat lisäksi kuivaresistikalvojen, korkokuvien, silkkipainosabluunoiden ja värikokeilukalvo-jen valmistukseen, lisäksi on käyttö nesteresistina mah-30 dollista. Ne ovat käyttökelpoisia myös nopeasti kuivuvina päällystysmassoina, hampaantäyttömassoina, liima-aineina ja kovien, termostabiilien mallien valmistukseen.
Seuraavat esimerkit kuvaavat keksinnön mukaisen seoksen valmistustapoja ja sen käyttöä valossa polymeroituvien 35 kopiointimateriaalien valmistuksessa. Prosenttisuudet ja määräsuhteet on, ellei toisin ole mainittu, annettu paino-yksikköinä.
11 6971 3
Esimerkki 1
Painolaattojen alustana käytettiin elektrokemial-lisesti karheudettua ja anodisoitua alumiinia, jonka oksi-dikerroksen pintapaineo oli 2 g/m2, ja joka oli esikäsi-5 telty polyvinyylifosfonihapon vesiliuoksella.
Liuos, joka sisälsi 2 po (paino-osaa) osittain alkanolilla esteröityä sty-reenimaleiinihappoanhydridi-seospolymeraattia, jonka keskimääräinen molekyylipaino on 20 000 ja 10 happoluku 200.
2 po alla kuvattua diuretaania, 0,125 po 9-fenyyliakridiinia, 0,05 po sinistä väriainetta (saatu yhdistämällä 2,4-dinitro- 6-klooribentseenidiatsoniumsuolaa ja 2-metoksi-5- 15 asetyyliamino-N-syaanietyyli-N-hydroksietyyliani- liinia, 25 po butanonia ja 12 po butyyliasetaattia, levitettiin linkoamalla yllä kuvatulle alustalle. Sen jäl- 20 keen laattaa kuivattiin 2 min 100°C:ssa kiertoilmakuivaus- 2 kaapissa. Pintapainoksi saatiin 3,7 - 4 g/m . Saatu paino-laatta valotettiin 5 kW:n metallihalogenidilampulla 110 cm:n etäisyydeltä lampun ja vakuumikopiokehyksen välissä 13-por-taisen valotusasteikon (tiheyden lisäykset 0,15)läpi 40 s.
25 Sen jälkeen laatta kehitettiin käsin kehitteellä, jonka koostumus oli seuraava: 3,0 po natriummetasilikaetti x9 H20:a, 0,03 po ei-ionista kostuketta (kookosrasva-alkoholi-poly-oksietyleenieetteri, jossa noin 8 oksietyleeniyk-30 sikköä), 0,003 po vaahdonestäjää, 0,02 po nitriilitrietikkahappoa, 0,053 po strontiumkloridia x 6 H20, 96,894 po täysin suolatonta vettä.
35 Saatiin 5 täysin kovettunutta asteikkoporrasta.
12 6971 3
Glyseriinidimetakrylaatin valmistus
Seokseen, joka sisälsi 860,9 g (10 mdl) metakryyli-happoa, 21,4 g bentsyylitrietyyliammoniumkloridia ja 5 g p-metoksifenolia, lisättiin sekoittaen 3 tunnin aikana 5 1282,5 g (9 mol) glysidyylimetakrylaattia 75-85°C:ssa pisa roittaan. Sekoitettiin vielä 2 h 80°C;ssa, liuos kaadettiin jatkuvasti laimennettuun natriumbikarbonaattiliuokseen ja sekoitettiin jonkin aikaa. Orgaaninen kerros erotettiin ja pestiin toistamiseen natriumbikarbonaattiliuoksella. Tuote 10 kuivattiin natriumsulfaatilla ja stabiloitiin suodatuksen jälkeen p-metoksifenolilla (15 g). Fraktiotislattiin pieninä annoksina (n. 150 g) 0,07 mbar:n paineessa hauteen lämpötilan ollessa 140°C. Kp (0,08 mbar) 115°C. Saanto 1541 g = 75 % teoreettisesta.
15 Tislatessa tapahtuu osittainen polymeroituminen.
Analyysi: laskettu: C: 57,89 H: 7,02 saatu: C: 57,7 H, 7,05 laskettu: 0H-luku: 245,8; Br-luku:491,6; saippuoitu-20 misluku: 140 saatu: 0H-luku 247; Br-luku: 489 ; saippuoitu- misluku: 135
Diuretaanin synteesi
Kolmikaulakolviin, joka oli varustettu sekoittimel-25 la, palautusjäähdyttimellä (CaCl2-kuivausputkella) ja tipu-tussuppilolla, laitettiin 336,4 g (2 mol) heksametyleenidi-isosyanaattia ja 4 g bentsokinonia butanonissa (350 g). Ka-talysaattoriliuoksen (0,85 g rauta(III)asetyyliasetonaattia ja 0,06 g trietyyliamiinia butanonissa (40 ml) lisäyksen 30 jälkeen lisättiin pisaroittaan 913 g (4 mol) glyseriinidi- metakrylaattia butanonissa (900 g) 2,5 tunnin aikana 80°C:ssa.
Sekoitettiin vielä 2 h 80°C:ssa, lisättiin 8 ml etanolia ja sekoitettiin vielä 1 h 80°C:ssa. Noin 50 % diuretaanin butanoniliuos käytettiin suoraan päällystysliuoksen 35 valmistukseen.
13 6971 3
Esimerkki 2
Esimerkin 1 mukaiseen päällystysliuokseen lisättiin 0,04 po amorfista hyvin huokoista piihappoa (keskimääräinen hiukkaskoko 8,um, ja liuos levitettiin linkoamalla alus- / 2 5 talle siten, öttä pintapainoksi tuli 4 g/m .
Laatta käsiteltiin edelleen esimerkin 1 mukaisesti.
Saatiin 5 täysin kovettunutta asteikkoporrasta.
Painolaatalla saatiin tavanomaisessa märkäpainossa 170 000 arkin painos, alkoholimärkäpainossa 70 000 arkkia.
10 Esimerkki 3 Päällystysliuos valmistettiin sekoittamalla 1 po metyylimetakrylaatti-metakryylihappo-seospolyme- raattia, molekyylipaino 30 000 ja happoluku 117, 1 po esimerkin 1 mukaista seospolymeraattia, 15 2 po glyseriinidimetakrylaatista (2 mol) ja 2,2,4-tri- metyyliheksametyleenidi-isosyanaatista (1 mol) muodostunutta diuretaania, 0,125 po 9-fenyyliakridiinia, 0,07 po esimerkin 1 mukaista väriainetta, 20 0,04 po esimerkin 2 mukaista piihappoa, 28 po butanonia ja 12 po butyyliasetaattia, ja levitettiin esimerkin 1 mukaiselle alumiinialustalle linkoamalla siten, että pintapaino kuivana oli 5 g/m2.
25 Valotus, kehitys ja tarkastelu tehtiin esimerkin 1 mukaisesti. Saatiin 4 täysin kovettunutta asteikkoporrasta. Esimerkki 4
Esimerkin 1 mukaiselle alustalle levitettiin linkoamalla liuos, jonka koostumus oli seuraava, siten, että pinta-30 paino oli kuivauksen jälkeen 1,8 g/m^: 2 po esimerkin 1 mukaista seospolymeraattia, 1,6 po alla kuvattua oligouretaania, 0,05 po esimerkin 1 mukaista väriainetta, 0,5 po 9-fenyyliakridiinia, 35 25 po butanonia, 12 po butyyliasetaattia ja 20 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä.
14 6971 3
Valotus ja kehitys tehtiin esimerkin 1 mukaisesti. Saatiin 7 täysin kovettunutta asteikkoporrasta.
Painolaatta voidaan kehittää myös kehitealtaassa.
Sitä varten se ripustettiin valotuksen jälkeen esimerkin 1 5 mukaisella kehitteellä täytettyyn altaaseen. Noin 2 min:n kuluttua laatta oli kehittynyt. Se piti vain huuhtoa vedellä.
Oligouretaanin synteesi
Kolmikaulakolviin, joka oli varustettu sekoittimel-10 la, palautusjäähdyttäjällä, johon oli asennettu kuivausput-ki, ja tiputussuppilolla, laitettiin 336,4 g (2 mol) heksa-metyleenidi-isosyanaattia butanonissa (660 g).
Kun oli lisätty katalysaattorina toimiva liuos, joka sisälsi 15 0,07 g rauta(III)asetyyliasetonaattia, 0,005 g trietyyliamiinia ja 5 ml butanonia, lisättiin pisaroittain 400 g (1 mol) polyetyleeniglykoli 400:a butanoniin (339 g) liuotettuna 1,5 h:n aikana 70°C:ssa. 20 Suodosta pidettiin sitten 2 h 70°C:n lämpötilassa.
Lisättiin 4 g bentsokinonia ja 5 ml yllä kuvattua kataly-saattoriliuosta, ja sitten pisaroittain liuos, joka sisälsi 456,5 g (2 mol) esimerkin 1 mukaista glyseriinidimetakry-laattia butanonissa (330 g), tunnin aikana 70°C:ssa. Lisä-25 yksen jälkeen sekoitettiin vielä 2,5 h 70°C:ssa, lisättiin 20 ml etanolia ja seosta pidettiin vielä tunti 70°C:ssa.
Kun liuotin oli tislattu pois, seos ravisteltiin veden (5 1) kanssa. Lisäämällä noin 200 ml 15 % NaCl-liuos-ta estettiin emulsion muodostuminen. Kun tuote oli eristet-30 ty etyyliasetaattiin (500 ml), se pestiin vielä uudelleen vedellä (5 1). Orgaaninen kerros erotettiin, laimennettiin 2, 1 1:11a etyyliasetaattia ja kuivattiin natriumsulfaatilla.
Lisäämällä 1,4 1 petrolieetteriä (kp. 40-80°C) laskeutui öljymäinen tuote, joka sekoitettiin etyyliasetaat-35 tiin (2 1) ja laskeutettiin uudelleen petrolieetterillä (1,1 1).
15 6971 3
Kun seos oli stabiloitu p-metoksifenolilla (2,4 g, noin 0,3 %), poistettiin jäljellä oleva liuotin käyttäen hauteen lämpötilaa 40°C.
Saanto: 674 g = 56,5 % teoreettisesta.
5 Saadun tuotteen molekyylipainojakautuma määritettiin geelikromatografisesti käyttäen vertailuaineena esimerkin 1 mukaista diuretaania.
Määrityksen mukaan tuote sisälsi seuraavia homologeja: 4 uretaaniryhmää, noin 15 %; 6 uretaaniryhmää, 10 noin 24 %; ja yli 6 uretaaniryhmää, noin 58,5 %.
Esimerkki 5
Esimerkin 5 mukaisesti päällystetty laattaa varustettiin kuivatuksen jälkeen polyvinyylialkoholi-suojaker-roksella, jonka pintapaino oli 4 g/m^.
15 Tästä laatasta otetut näytteet valotettiin metalli- halogenidilampulla 13-portaisen valotusasteikon (tiheyden lisäykset 0,15) läpi 5, 10, 20 tai 40 s ja kehitettiin esimerkin 1 mukaisella kehitteellä.
Lisäkokeessa lämmitettiin samanlaisesta laatasta 20 otettuja näytteitä valotuksen jälkeen 5 s 100°C:ssa kierto-ilmakuivauskaapissa, ja sitten ne kehitettiin.
Seuraava taulukko osoittaa, että kalvo toimii voimakkaasti resiprookkisesti ja että jälkilämmityksen seurauksena on selvä täysin kovettuneiden asteikkoportaiden 25 lukumäärän nousu.
Asteikkoportaat Valotusaika (s) _ 5 ilO I 20 40__ ilman jälkilämmitystä 3(4) 5 7(8) 9 (10) 30 jälkilämmitettynä 9 (10) 10(11) 12 (13) 13
Verrattaessa 40 s valotetun painolaatan täysin kovettuneita asteikkoportaita suojakalvoa käytettäessä (9 (10)) vastaavan ilman suojakalvoa olevaan laattaan 35 (7; esimerkki 4) huomataan, että kalvo on vain vähäisessä määrin herkkä hapelle.
16 6971 3
Muista monomeereista (esimerkiksi trimetylolietaa-nitriasylaatista) valmistetut kalvot kovettuvat hapon vaikuttaessa (so. ilman suojakalvoa) selvästi vähemmän kuin suojakalvolla varustettuina. (4 asteikkoporrasta ilman, 5 9 asteikkoporrasta suojakalvolla varustettuna, 40 s:n valotusajalla).
Esimerkki 6
Esimerkin 1 mukaiselle alustalle levitettiin linkoamalla liuokset, joiden koostumus oli seuraava siten, että 2 10 pintapaino kuivauksen jälkeen oli 2,5 g/m : 2 po esimerkin 1 mukaista seospolymeraattia, 1,6 po jotakin seuraavista yhdisteitä a) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol), heksametylee-nidi-isosyanaatin (2 mol) ja polyetyleeniglykoli 200:n 15 (1 mol) muodostamaa oligouretaania, b) vastaavaa, mutta polyetyleeniglykoli 300:a (1 mol) sisältävää oligouretaania, c) vastaavaa, mutta polyetyleeniglykoli 600:a (1 mol) sisältävää oligouretaania, 20 d) vastaavaa mutta polyetyleeniglykoli 1000:a (1 mol) sisältävää oligouretaania, e) vastaavaa, mutta dipropyleeniglykolia (1 mol) sisältävää oligouretaania, f) vastaavaa, mutta polypropyleeniglykoli 400:a 25 (1 mol) sisältävää oligouretaania, 0,5 po 9-fenyyliakridiinia, 0,05 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 23 po butanonia, 12 po butyyliasetaattia ja 30 12 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä.
Laattoja valotettiin 40 s ja kehitettiin esimerkin 1 mukaisella kehitteellä.
Saatiin seuraavat lukumäärät täysin kovettuneita asteikkoportaita: 6971 3
Monomeeri Kehitysaika (s) Asteikkoportaat 5 * 15 5 (6) 3 10 6 (7) C c b 8 (9) 5 4 (5) " « 3 ,4) 10 £ 30 „
Esimerkki 7
Valmistettiin päällystysliuos seuraavista ainek- 15 sista: 2 po esimerkin 1 mukaista seospolymeraattia, 2 po jotakin seuraavista monomeereista a) 2,2-bis-/4-(2-akryloyloksipropoksi)-fenyylij-propaania, 20 b) trimetylolietaanitriakrylaattia, c) 2,2,4-trimetyyliheksametyleenidi-isosyanaatin (1 mol) ja hydroksietyylimetakrylaatin (2 mol) reaktiotuotetta, d) trietyleeniglykolin (1 mol), 2,2,4-trimetyyli 25 heksametyleenidi-isosyanaatin (2 mol) ja hyd roksietyylimetakrylaatin (2 mol) reaktiotuotetta , e) esimerkin 1 mukaista diuretaania, f) esimerkin 4 mukaista oligiuretaania, 30 0,125 po 9-fenyyliakridiinia, 0,05 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 27 po butanonia ja 12 po butyyliasetaattia ja levitettiin se elektrolyyttisesti karheutetulle ja anodi- 35 soidulle alumiinille linkoamalla siten, että pintapainoksi 2 kuivana saatiin 3,5 g/m . Laattoja valotettiin 10, 20 ja 40 18 6971 3 s ja sen jälkeen kehitettiin käsin 90 s esimerkin 1 mukaisella kehitteellä.
Toisessa kokeessa laattoja pidettiin 1 h 100°C:ssa kiertoilmakuivauskaapissa, valotettiin sen jälkeen 40 s 5 ja kehitettiin 90 s. Tulokset on koottu seuraavaan taulukkoon : 10 Mono- Kehitys- ] Valotusaika (s) meeri aika (s) f-----r------------------------ I 10 20 40 40 (lh _____________________________! __ 100"C) j I Asteikkoportaat 15 a 30 2 (3 ) 3 (4 ) 4 (5 ) 3 b 20 2 3 4 0 c 20 3 (4 ) 3 (4 ) 4 (5 ) 2 (3 ) d 25 2 4 5 5 20 ] e 20 135 5 1_________£_1_5_________1 2 (3) 1 4 (5) 1 6 (7) 1 6(7)1
On selvästi nähtävissä, että neljällä vertailumono-25 meerilla on sekä kehitysaikaa, resiprookkisuutta että haihtuvuutta (100°C -koe) koskevia heikkouksia verrattuna tässä esitettyihin yhdisteisiin (e, f).
Esimerkki 8
Liuos, joka sisälsi 30 6/5 po n-heksyylimetakrylaatin, metakryylihapon ja sty reenin (60:30:10) terpolymeraattia, keskimääräinen molekyylipaino noin 35 000, 5,6 po esimerkin 1 mukaista diuretaania, 0,2 po 9-fenyyliakridiinia, 35 0,02 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 25 po butanonia ja 3 po etanolia, 19 6971 3 levitettiin linkoamalla kaksisuuntaisesti venytetylle ja lämpökiinnitetylle polyetyleenitereftalaattifoliolle, jonka paksuus oli 25/um siten, että kuivauksen jälkeen saa- / 2 tiin pintapaino 33 g/m .
5 Siten valmistettu kuivavastuskalvo laminoitiin tavanomaisella laminointilaitteella 120°C:ssa 35^um paksulle kuparikaivolle kiinnitetylle Phenoplasti-pääl-lystysainelevylle ja valotettiin 20 s tavanomaisella valo-tuslaitteella. Originaalina oli viivaoriginaali, jonka 10 viivojen leveys ja välimatka oli jopa 80^,um.
Valotuksen jälkeen polyesterikalvo poistettiin ja kalvo kehitettiin esimerkin 1 mukaisella kehitteellä suih-kukehityslaitteella 90 s.
Laatta huuhdottiin sitten 30 s vesijohtovedellä, 15 syövytettiin 30 s 15 % ammoniumperoksidisulfaattiliuoksel-la, huuhdottiin uudelleen vedellä, upotettiin 30 s:ksi 10 % rikkihappoon ja galvanoitiin sitten peräkkäin seuraavissa elektrolyyttikylvyissä.
1) 30 min kuparielektrolyyttikylvyssä (valmistaja 20 Schlötter, Geislingen/Steige, Typ "Glanzkupfer-Bad") 2
Virrantiheys: 2,5 A/dm
Metallinen kertyminen: noin 15^um Lämpötila: huoneen lämpötila 2) 10 min nikkelikylvyssä (Typ "Norma", valmistaja 25 Sohlötter, Geislingen/Steige) 2
Virrantiheys: 4 A/dm
Metallin kertyminen: 10^,um
Lämpötila: 50°C
Levy ei osoittanut minkäänlaista muuttumista tai 30 vaurioitumista.
Levyltä voitiin sitten poistaa kalvo 5 % KOH-liuoksella 50°C:ssa, ja vapautunut kupari voitiin syövyttää pois tavallisilla syövytteillä.
Esimerkki 9 35 Esimerkin 8 mukainen rasistiliuos levitettiin linkoa malla 35^,um paksulle kuparifoliolle kiinnitetylle Phenoplast- 20 6 9 7 1 3 2 päällystyslevylle ja kuivattiin (30 g/m ).
Laatta valotettiin, kehitettiin ja galvanoitiin esimerkin 8 mukaisesti, mutta nikkelikylvyn sijasta tehtiin seuraavasti: 5 15 min lyijytinakylvyssä (La, valmistaja Schlötter,
Geislingen/Steige)
Virrantiheys: 2 A/dm^
Metallin kertyminen: 15^,um Lämpötila: huoneen lämpötila 10 Tämäkään levy ei osoittanut minkäänlaista muuttumista tai vaurioitumista, ja siitä voitiin poistaa kalvo KOH-liuoksella, ja se voitiin syövyttää tavallisilla syövyt-teillä.
Esimerkki 10 15 Liuos, joka sisälsi 6.5 po esimerkin 8 mukaista terpolymeraattia, 5.6 po esimerkin 4 mukaista oligouretaania, 0,2 po 9-fenyyliakridiinia, 0,02 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 20 25 po butanonia ja 3 po etanolia, levitettiin linkoamalla puhdistetulle alustalle, joka muodostui eristeaineesta ja 35^,um paksusta kuparisesta pintakalvosta, siten, että päällysteen paksuudeksi kuivana 25 saatiin 4^,um. Kalvo kuivattiin 2 min 100°C:ssa kiertoilma-kuivauskaapissa. Sen jälkeen valotettiin 5 kW:n lampulla 40 s. Originaalina oli esimerkin 8 mukainen viivaoriginaali. Valotuksen jälkeen laatta kehitettiin 0,8 % soodaliuoksella suihkukehityslaitteella 45 s.
30 Laatta huuhdottiin, syövytettiin ja galvanoitiin seuraavasti: 1) 8 min esimerkin 8 mukaisessa kuparikylvyssä "Glanzkupferbad" 2
Virrantiheys: 2,5 A/dm 35 Metallin kertyminen: noin 4^um Lämpötila: huoneen lämpötila 21 6971 3 2) 2 min esimerkin 8 mukaisessa nikkelikylvyssä "Norma" 2
Virrantiheys: 4 A/dm
Metallin kertyminen: noin 2<um O '
5 Lämpötila: 50 C
Minkäänlaisia muutoksia ei esiintynyt.
Laatasta voitiin poistaa kalvo 5 % KOH-liuoksella, ja vapautunut kupari voitiin syövyttää pois tavallisilla syövytteillä.
10 Esimerkki 11
Esimerkin 1 mukaiselle alustalle levitettiin linkoamalla liuokset, joiden koostumukset olivat seuraavat, si- 2 ten, että saatiin pintapaino 2,2 g/m .
2 po styreeni/maleiinihappoanhydridi-seospolymeraattia 15 (1:1, molekyylipaino 50 000), joka oli saanut reagoida hydroksietyylimetakrylaatin kanssa(reagoineen tuotteen M = noin 80 000), 2 po jotakin seuraavista monomeereista a) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol) ja heksamety- 20 leenidi-isosyanaatin (1 mol) muodostamaa diuretaa- nia b) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol), heksamety-leenidi-isosyanaatin (2mol) ja polytetrahydrofu-randiolin (1 mol) muodostamaa oligouretaania 25 (kaupallinen tuote, jonka molekyylipaino on 1000) c) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol), heksametylee-nidi-isosyanaatin (2 mol) ja polykaprolaktondiolin (1 mol) muodostamaa oligouretaania (M = 830) 30 d) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol), heksamety- leenidi-isosyanaatin (2 mol) ja polyetyleeniglyko-li 400:n (1 mol) muodostamaa oligouretaania, e) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol), heksamety -leenidi-isosyanaatin (2 mol) ja 4,4'-dihydroksi-35 difenyylisulfonin (1 mol) muodostamaa oligoure taania, 22 6971 3 f) vastaavaa, mutta bisfenoli A:a (1 mol) sisältävää oligouretaania, g) vastaavaa oligouretaania, joka sisältää 1 mol bisfenoli A:n (1 mol) ja etyleenioksidin (2 mol) 5 reaktiotuotetta, h) vastaavaa oligouretaania, joka sisältää 1 mol bisfenoli A:n (1 mol) ja etyleenioksidin (8 mol) reaktiotuotetta, i) vastaavaa oligouretaania, joka sisältää 1 mol 10 bisfenoli A:n (1 mol) ja etyleenioksidin (16 mol) reak tio t uo te t ta, k) diuretaania, joka sisältää 1 mol heksametyleeni-di-isosyanaattia ja 2 mol glysidyylimetakrylaatin (1 mol) ja akryylihapon (1 mol) reaktiotuotetta, 15 1) diuretaania, joka muodostuu glyseriinidiakry- laatista (2 mol) ja heksametyleenidi-isosyanaatista (1 mol), m) tetrauretaania, joka sisältää 2 mol glyseriini-metakrylaattia ja 1 mol tolyleenidi-isosyanaatin 20 (2 mol) reaktiotuotetta ( M = noin 2000), 0,7 po 9-fenyyliakridiinia, 0,07 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 32 po butanonia, 12 po butyyliasetaattia ja 12 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä.
25 Laattoja valotettiin 40 s esimerkin 1 mukaisesti ja kehitettiin esimerkin 1 mukaisella kehitteellä.
Seuraavassa taulukossa on annettu asteikkoportaiden lukumäärät ja kehitysajat: 23 6971 3
Monomeeri Kehitysaika(s) Asteikkoportaat 7 7 (8) b 7 10 (11) 5 c 7 9 (10) d 5 10 ° 5 2 (3) 1 > 30 2 9 > 30 3 (4 ) 10 h 7 8 (9) 1 7 Π k 5 7 (3) 1 5 5 (6 ) j_5 m 7 10(11)
Esimerkki 12
Kun esimerkissä 11 annettu sideaine korvataan styree-ni/maleiinihappomonoallyyliesteri-kopolymeerillä (M = noin 20 64 000), saadaan muuten samanlaisella koostumuksella monomeerille (a) (esimerkki 11) 6 (7) ja monomeerille (c) 8 (9) täysin kovettunutta asteikkoporrasta. Kehitysaika on molemmissa tapauksissa alle 5 s.
Esimerkki 13 25 Valmistettiin päällystysliuokset seuraavista aine osista : 1,6 po esimerkin 1 mukaista seospolymeraattia, 0,4 po metyylivinyylieetteri-maleiinihappomonobutyyli- esteriseospolymeraattia, happoluku 260, 30 2 po jotakin seuraavista monomeereistä: a) glyseriinidimetakrylaatin (2 mol) ja heksamety-leenidi-isosyanaatin (1 mol) reaktiotuotetta, b) glyseriinidimetakrylaatin (3 mol), heksamety-leenidi-isosynaatin (3 mol) ja trimetylolietaanin 35 (1 mol) reaktiotuotetta, 24 6971 3 0,7 po 9-fenyyliakridiinia, 0,07 po esimerkin 1 mukaista atsoväriainetta, 30 po butanonia 12 po butyyliasetaattia ja 5 12 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä ja levitettiin ne linkoamalla elektrolyyttisesti karheute- tulle ja anodisoidulle alumiinille siten, että pintapai- 2 noksi kuivana tuli 2,5 g/m .
Laattoja valotettiin 40 s ja kehitettiin esimerkin 10 1 mukaisella kehitteellä.
Saatiin seuraavat lukumäärät täysin kovettuneita asteikkoportaita.
Monomeeri Kehitysaika (s) Asteikko- _ _ portaat 15 a 10 6 (7) b 30 6 (7) c 35 5 (7)
Esimerkki 14 20 Ohuelle piilevylle, jolla oli l^um paksu piidioksidikerros, levitettiin linkoamalla päällystysliuos, joka sisälsi 6,5 po esimerkin 8 mukaista terpolymeraattia, 5,0 po esimerkin 1 mukaista diuretaania, 25 0,7 po 9-fenyyliakridiinia, 0,125 po sinistä väriainetta, joka on valmistettu yhdistä mällä 2,4-dinitro-6-klooribentseenidiatsoniumsuo-laa ja 2-metoksi-5-asetyyliamino-N,N-dietyyliani-liiniä, 30 30 po butanolia ja 28 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 2 siten, että pintapainoksi kuivana tuli 1 g/m (kuivaus 10 min, 80°C).
Näyte valotettiin 6 s valotuslaitteella kuvio 2 35 (l,5^um) originaalin läpi (säteilyvoimakkuus 8,4 mW/cm ), 25 6971 3 ja kehitettiin sitten 45 s 0,8 % natriumkarbonaattiliuoksel-la. Sen jälkeen syövytettiin kalvo käsittelemällä 10 min seoksella, joka sisälsi 70 g ammoniumfluoridia, 31 ml 40 % fluorivetyhappoa ja 105 ml deionisoitua vettä, 23°C:ssa, 5 ja sitten kalvo poistettiin käsittelemällä 2 min seoksella, joka sisälsi 300 ml 98 % rikkihappoa ja 50 ml 35 % vetyperoksidiliuosta, 110°C:ssa.
Kuviot, joiden koko oli l,5^,um, toistuivat terävä-reunaisina.

Claims (6)

  1. 26 6971 3
  2. 1. Säteilyn avulla polymeroituva seos, joka sisältää pääasiallisina aineosinaan 5 a) polymeeristä sideainetta, b) säteilyllä aktivoituvaa polymeroitumisinitiaatto- ria ja c) vähintään kaksi uretaaniryhmää molekyylissään sisältävän moniarvoisen hydroksiyhdisteen akryyli- tai metak- 10 ryylihappoesteriä, tunnettu siitä, että esteri on glyseriinidimetakrylaatin tai glyseriinidiakrylaatin ja moniarvoisen isosyanaatin, joka on saatu antamalla poly-hydroksiyhdisteen, jossa on 2-6 OH-ryhmää, reagoida di-isosyanaatin kanssa,tai di-isosyanaatin reaktiotuote. 15 2. Säteilyn avulla polymeroituva patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että polyhydroksi-yhdiste on yhdiste, jonka kaava on jokin seuraavista: ,n HO_[Cp"2P-v(0ll>v-S-]m-lVl2p-v(0,l)v+l m» W H°-tcp'Vv(0,1>v-°-:iraH - HO‘CrH2r-2-v(OH)v+l '
  3. 25 H0-CsH2s-v(°',1VZ,~C°-CqH2q'°)n"n ' HO-1 cq" 2q-v 1 °H ) v-0-C0-Q-C°0 lm-CqK2q_v (OH )„ +1 -νννΟ-Ό-νν0-^ ’ 30 6971 3 27 joissa R" on 0, S, CR2 tai SC>2, Q on fenyleeni, CqH2q tai CqH2g_2, R on vety tai metyyli, 5. on 0 tai NR, n on luku 0 - 20, m on luku 1 - 40, p on luku 2 - 20, q on lukh 2 - 10, ln r on luku 4-20, s on luku 2 - 10 ja v on luku 0-4, jolloin p, q ja s ovat ainakin 2 suurempia ja r ainakin 4 suurempi kuin v. 15 3. Säteilyn avulla polymeroituva patenttivaatimuk sen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että esteri sisältää 2-40 uretaaniryhmää.
  4. 4. Säteilyn avulla polymeroituva patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä,että esteri on me- 20 takryylihappoesteri.
  5. 5. Säteilyn avulla polymeroituva patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että di-isosya-naatti on yhdiste, jonka kaava en OCN-X-NCO, jossa X on hiilivetytähde, jossa on 2-20 hiiliatomia.
  6. 6. Valossa polymeroituva kopiointimateriaali, jossa on kalvon alusta ja valossa polymeroituva kalvo, joka sisältää pääasiallisina aineosinaan a) polymeeristä sideainetta, b) säteilyllä aktivoituvaa polymeroitumisiniti- 30 aattoria ja c) vähintään kaksi uretaaniryhmää molekyylissään sisältävän moniarvoisen hydroksiyhdisteen akryyli- tai metakryylihappoesteriä, tunnettu siitä,että esteri on glyseriinidimetakrylaatin tai glyseriinidiakrylaatin 35 ja moniarvoisen isosyanaatin, joka on saatu antamalla po-lyhydroksiyhdisteen, jossa on 2-6 OH-ryhmää, reagoida di-isosyanaatin kanssa, tai di-isosyanaatin reaktiotuote. 28 6971 3
FI814092A 1980-12-22 1981-12-18 Genom bestraolning polymeriserbar blandning och av denna framstaellt straolningskaensligt kopieringsmaterial FI69713C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3048502 1980-12-22
DE19803048502 DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1980-12-22 Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI814092L FI814092L (fi) 1982-06-23
FI69713B true FI69713B (fi) 1985-11-29
FI69713C FI69713C (fi) 1986-03-10

Family

ID=6119968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI814092A FI69713C (fi) 1980-12-22 1981-12-18 Genom bestraolning polymeriserbar blandning och av denna framstaellt straolningskaensligt kopieringsmaterial

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4458007A (fi)
EP (1) EP0054700B1 (fi)
JP (1) JPS57128716A (fi)
KR (1) KR880002258B1 (fi)
AT (1) ATE11834T1 (fi)
AU (1) AU546028B2 (fi)
BR (1) BR8108300A (fi)
CA (1) CA1186432A (fi)
DE (2) DE3048502A1 (fi)
DK (1) DK567881A (fi)
ES (1) ES508216A0 (fi)
FI (1) FI69713C (fi)
HK (1) HK76485A (fi)
IL (1) IL64600A (fi)
MY (1) MY8600250A (fi)
NO (1) NO814376L (fi)
ZA (1) ZA818728B (fi)

Families Citing this family (309)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5971048A (ja) * 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
US4615665A (en) * 1983-05-06 1986-10-07 Dentsply International Inc. Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer
JPS59204837A (ja) * 1983-05-09 1984-11-20 Asahi Chem Ind Co Ltd 光重合性積層体及びそれを用いたレジスト像形成方法
JPS608100A (ja) * 1983-06-28 1985-01-16 旭化成株式会社 吹き付け食刻方法
US4691045A (en) * 1984-12-06 1987-09-01 Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. Hydroxyl group-containing (meth)acrylate oligomer, prepolymer therefrom, and method for use thereof
JPS61179216A (ja) * 1985-02-04 1986-08-11 Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd 光硬化性樹脂組成物
US4717740A (en) * 1985-05-17 1988-01-05 M&T Chemicals Inc. Aqueous alkaline developable, UV curable urethane acrylate compounds and compositions useful for forming solder mask coatings
US4614704A (en) * 1985-06-21 1986-09-30 M&T Chemicals Inc. Stable UV curable compositions comprising triphenyl phosphite for forming solder mask coatings of high cure depth
US4874799A (en) * 1985-05-17 1989-10-17 M&T Chemicals Inc. Aqueous akaline developable, UV curable urethane acrylate compounds and compositions useful for forming liquid 100 percent solids, solvent-free solder mask coatings
US4690502A (en) * 1985-07-08 1987-09-01 Desoto, Inc. Ultraviolet curable optical glass fiber coatings from acrylate terminated, end-branched polyurethane polyurea oligomers
US4806574A (en) * 1985-07-22 1989-02-21 Desoto, Inc. Ultraviolet curable coatings for optical glass fiber based on a polyfunctional core
US4798852A (en) * 1985-10-29 1989-01-17 Desoto, Inc. Ultraviolet curable coatings for optical glass fiber
DE3540480A1 (de) * 1985-11-15 1987-05-21 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
DE3615613A1 (de) * 1986-05-09 1987-11-12 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3615612A1 (de) * 1986-05-09 1987-11-12 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
GB8622266D0 (en) * 1986-09-16 1986-10-22 Vickers Plc Printing plate precursors
US4816315A (en) * 1987-02-05 1989-03-28 The Goodyear Tire & Rubber Company Shaped skin for decorative parts
DE3710281A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710282A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743457A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5006436A (en) * 1988-09-20 1991-04-09 Atochem North America, Inc. UV curable compositions for making tentable solder mask coating
GB2298209B (en) 1992-01-21 1996-11-06 Du Pont Improvements in or relating to photopolymerisable components of radiation sensitive compositions
JP3638660B2 (ja) * 1995-05-01 2005-04-13 松下電器産業株式会社 感光性樹脂組成物、それを用いたサンドブラスト用感光性ドライフィルム及びそれを用いた食刻方法
US5837422A (en) * 1995-07-25 1998-11-17 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate employing it
EP0763779A3 (en) * 1995-09-18 1997-07-30 Mitsubishi Chem Corp Unsaturated urethane derivatives, photopolymerizable compositions containing them and photosensitive lithographic printing plate
US5962189A (en) * 1996-12-19 1999-10-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive composition containing photosensitive polyamide and thiazoline photoinitiator and negative working photosensitive element
US5821032A (en) * 1996-12-19 1998-10-13 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive polymer composition and negative working photosensitive element containing three photocrosslinkable polymers
US5879858A (en) * 1996-12-19 1999-03-09 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive polymer composition containing photosensitive polyamide and negative working photosensitive element
US5925498A (en) * 1997-06-16 1999-07-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive polymer composition and element containing photosensitive polyamide and mixture of acrylates
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
JP4013532B2 (ja) * 2001-11-26 2007-11-28 東亞合成株式会社 光学部材用活性エネルギー線硬化型組成物
US7282321B2 (en) 2003-03-26 2007-10-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
JP2005028774A (ja) 2003-07-07 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷方法
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
KR101073620B1 (ko) * 2004-05-07 2011-10-14 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
EP1602982B1 (en) 2004-05-31 2013-12-18 FUJIFILM Corporation Planographic printing method
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
DE602005005403T2 (de) 2004-08-24 2009-04-23 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4429116B2 (ja) 2004-08-27 2010-03-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP4418725B2 (ja) 2004-09-24 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2007055224A (ja) 2005-01-26 2007-03-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体
US7858291B2 (en) 2005-02-28 2010-12-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP2006259351A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Toppan Printing Co Ltd 感光性組成物及びカラーフィルタ
JP4538350B2 (ja) 2005-03-18 2010-09-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法
JP4574506B2 (ja) 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
JP4368323B2 (ja) 2005-03-25 2009-11-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4524235B2 (ja) 2005-03-29 2010-08-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4701042B2 (ja) 2005-08-22 2011-06-15 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4694324B2 (ja) 2005-09-09 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2008163081A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Fujifilm Corp レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
JP4945432B2 (ja) 2006-12-28 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2447779A1 (en) 2007-01-17 2012-05-02 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
EP1972440B1 (en) 2007-03-23 2010-06-23 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1974914B1 (en) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP1975710B1 (en) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975706A3 (en) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080306221A1 (en) * 2007-06-08 2008-12-11 Ppg Industries Ohio, Inc. (meth)acrylate functional polyurethane and method of making
JP5376844B2 (ja) 2007-06-21 2013-12-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US8426102B2 (en) 2007-06-22 2013-04-23 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2011643B1 (en) 2007-07-02 2010-10-13 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
EP2207062B1 (en) 2007-07-17 2012-09-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
ATE475906T1 (de) 2007-09-28 2010-08-15 Fujifilm Corp Negatives lichtempfindliches material und negativer planographischer druckplattenvorläufer
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5448416B2 (ja) 2007-10-31 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
EP2218756B1 (en) 2007-11-01 2013-07-31 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, curable color composition, color filter and method for producing the same
EP2058123B1 (en) 2007-11-08 2012-09-26 FUJIFILM Corporation Resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
CN101855026A (zh) 2007-11-14 2010-10-06 富士胶片株式会社 干燥涂布膜的方法和制造平版印刷版前体的方法
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
JP5241252B2 (ja) 2008-01-29 2013-07-17 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5137618B2 (ja) 2008-02-28 2013-02-06 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5409045B2 (ja) 2008-02-29 2014-02-05 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
CN101978004B (zh) 2008-03-17 2013-11-06 富士胶片株式会社 颜料分散组合物、着色感光性组合物、光固化性组合物、滤色器、液晶显示元件及固体摄像元件
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
US7923197B2 (en) 2008-03-25 2011-04-12 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5264427B2 (ja) 2008-03-25 2013-08-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5183268B2 (ja) 2008-03-27 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009244421A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
EP2105298B1 (en) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
JP5173528B2 (ja) 2008-03-28 2013-04-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5322575B2 (ja) 2008-03-28 2013-10-23 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
JP4914864B2 (ja) 2008-03-31 2012-04-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5305793B2 (ja) 2008-03-31 2013-10-02 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
US20090260531A1 (en) 2008-04-18 2009-10-22 Fujifilm Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2010156945A (ja) 2008-08-22 2010-07-15 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5364513B2 (ja) 2008-09-12 2013-12-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版用現像液及び平版印刷版の製造方法
JP5398282B2 (ja) 2008-09-17 2014-01-29 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製造方法、及びレリーフ印刷版
JP5466462B2 (ja) 2008-09-18 2014-04-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2010097175A (ja) 2008-09-22 2010-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
BRPI0918828A2 (pt) 2008-09-24 2018-04-24 Fujifilm Corporation método de preparação de placa de impressão litográfica
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP2010102322A (ja) 2008-09-26 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
JP5140540B2 (ja) 2008-09-30 2013-02-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
JP5313115B2 (ja) 2008-11-26 2013-10-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法、平版印刷版原版用現像液、及び、平版印刷版原版現像用補充液
EP2204698B1 (en) 2009-01-06 2018-08-08 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5175763B2 (ja) 2009-02-16 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP5535692B2 (ja) 2009-03-17 2014-07-02 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
JP2010243517A (ja) 2009-03-31 2010-10-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
JP5449866B2 (ja) 2009-05-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5586333B2 (ja) 2009-06-09 2014-09-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
WO2011037005A1 (ja) 2009-09-24 2011-03-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2011090295A (ja) 2009-09-24 2011-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5346755B2 (ja) 2009-09-24 2013-11-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
CN104892462B (zh) * 2009-11-03 2017-08-22 科思创德国股份有限公司 新型非结晶甲基丙烯酸酯、其的制备和应用
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP5541913B2 (ja) 2009-12-25 2014-07-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2011148292A (ja) 2009-12-25 2011-08-04 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2339402A1 (en) 2009-12-28 2011-06-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2339401B1 (en) 2009-12-28 2016-02-17 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
JP5322963B2 (ja) 2010-01-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5588887B2 (ja) 2010-01-29 2014-09-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5346845B2 (ja) 2010-02-26 2013-11-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液
EP2549331B1 (en) 2010-03-19 2015-11-11 FUJIFILM Corporation Color developing photosensitive composition, lithographic printing original plate, and method for producing same
JP2011221522A (ja) 2010-03-26 2011-11-04 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5049366B2 (ja) 2010-03-29 2012-10-17 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
EP2554381B1 (en) 2010-03-30 2018-05-02 FUJIFILM Corporation Method for producing lithographic printing plate
AU2011236976B2 (en) 2010-03-31 2014-08-14 Fujifilm Corporation Developer for processing planographic printing plate precursor, method for preparing planographic printing plate using the developer, and method for printing
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
EP2383118B1 (en) 2010-04-30 2013-10-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP5572576B2 (ja) 2010-04-30 2014-08-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
JP5457955B2 (ja) 2010-06-28 2014-04-02 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、及び、レリーフ印刷版の製版方法
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
JP5651554B2 (ja) 2010-08-27 2015-01-14 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法
JP5789448B2 (ja) 2010-08-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2012073594A (ja) 2010-08-31 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2012068357A (ja) 2010-09-22 2012-04-05 Eastman Kodak Co 平版印刷版原版
JP5656784B2 (ja) 2010-09-24 2015-01-21 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5205483B2 (ja) 2011-02-04 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5211187B2 (ja) 2011-02-28 2013-06-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5186574B2 (ja) 2011-02-28 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP3001249B1 (en) 2011-02-28 2019-12-25 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursors and processes for preparing lithographic printing plates
JP5244987B2 (ja) 2011-02-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
WO2012133382A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5301015B2 (ja) 2011-07-25 2013-09-25 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5743783B2 (ja) 2011-07-27 2015-07-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン
JP5255100B2 (ja) 2011-07-29 2013-08-07 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP5438074B2 (ja) 2011-08-12 2014-03-12 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
EP2565037B1 (en) 2011-08-31 2014-10-01 Fujifilm Corporation Process for producing flexographic printing plate precursor for laser engraving, and process for making flexographic printing plate
EP2757417B1 (en) 2011-09-15 2016-05-25 FUJIFILM Corporation Method for recycling wastewater produced by plate-making process
JP5401522B2 (ja) 2011-09-15 2014-01-29 富士フイルム株式会社 コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム
BR112014007169A2 (pt) 2011-09-26 2017-04-04 Fujifilm Corp processo para fazer placa de impressão litográfica
CN103827749B (zh) 2011-09-26 2018-06-15 富士胶片株式会社 平版印刷版的制版方法
JP5690696B2 (ja) 2011-09-28 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5604398B2 (ja) 2011-09-30 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5740275B2 (ja) 2011-09-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
JP5819275B2 (ja) 2011-11-04 2015-11-24 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
CN103135345A (zh) 2011-11-28 2013-06-05 富士胶片株式会社 激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用柔性印刷版原版及其制法、及柔性印刷版及其制版法
JP5466689B2 (ja) 2011-11-30 2014-04-09 富士フイルム株式会社 フレキソ印刷版用樹脂組成物、フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP5463346B2 (ja) 2011-12-26 2014-04-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
WO2013125315A1 (ja) 2012-02-20 2013-08-29 富士フイルム株式会社 製版処理廃液の濃縮方法およびリサイクル方法
CN104159976B (zh) 2012-02-23 2016-10-12 富士胶片株式会社 发色性组合物、发色性固化组合物、平版印刷版原版及制版方法、以及发色性化合物
JP5711168B2 (ja) 2012-02-27 2015-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP5715975B2 (ja) 2012-02-29 2015-05-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
BR112014024167B1 (pt) 2012-03-29 2022-08-09 Fujifilm Corporation Precursor da chapa de impressão litográfica e seu método de impressão
JP2013240998A (ja) 2012-04-27 2013-12-05 Fujifilm Corp レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法及びレリーフ印刷版
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
WO2014045783A1 (ja) 2012-09-20 2014-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
BR112015006578A2 (pt) 2012-09-26 2019-12-17 Fujifilm Corp precursor da chapa de impressão litográfica e método de fabricação da chapa
BR112015006131A2 (pt) 2012-09-26 2019-11-19 Fujifilm Corp precursor de chapa de impressão litográfica e método de fabricação de chapas de chapa de impressão litográfica
KR20150081315A (ko) 2012-11-30 2015-07-13 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 이미지 센서칩의 제조방법 및 이미지 센서칩
WO2014084289A1 (ja) 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ
CN104823085B (zh) 2012-12-03 2017-10-27 富士胶片株式会社 红外线截止滤波器及其制造方法、固体摄影装置、遮光膜的形成方法
CN104854699B (zh) 2012-12-03 2017-09-01 富士胶片株式会社 固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置
KR20150090142A (ko) 2012-12-28 2015-08-05 후지필름 가부시키가이샤 적외선 반사막 형성용의 경화성 수지 조성물, 적외선 반사막과 그 제조 방법, 적외선 차단 필터, 및 이것을 이용한 고체 촬상 소자
WO2014104137A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
KR20150097681A (ko) 2013-02-19 2015-08-26 후지필름 가부시키가이샤 근적외선 흡수성 조성물, 근적외선 차단 필터와 그 제조 방법, 및 카메라 모듈과 그 제조 방법
EP2963495B1 (en) 2013-02-27 2019-06-05 FUJIFILM Corporation Infrared-sensitive chromogenic composition, infrared-curable chromogenic composition, lithographic printing plate precursor, and plate formation method
EP2975461B1 (en) 2013-03-14 2017-08-16 Fujifilm Corporation Concentrating method for platemaking waste fluid and recycling method
JP2015047744A (ja) 2013-08-30 2015-03-16 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法及びレリーフ印刷版
JP2015047743A (ja) 2013-08-30 2015-03-16 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製版方法及びフレキソ印刷版
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
EP3045320A4 (en) 2013-09-13 2017-05-31 Fujifilm Corporation Method for manufacturing flexographic printing original plate for laser engraving, method for manufacturing flexographic printing plate, and laser engraving resin composition
JPWO2015046297A1 (ja) 2013-09-26 2017-03-09 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP2015123714A (ja) 2013-12-27 2015-07-06 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版の製版方法
EP3101475B1 (en) 2014-01-31 2018-03-21 FUJIFILM Corporation Infrared-sensitive color developing composition, lithographic printing original plate, plate making method for lithographic printing plate, and infrared-sensitive color developer
CN105960335B (zh) 2014-02-04 2020-12-11 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版的制版方法以及印刷方法
DE102014202902A1 (de) * 2014-02-18 2015-08-20 Evonik Industries Ag Verfahren zur Herstellung von hochreinem Glycerindimethacrylat
JP6061911B2 (ja) 2014-02-27 2017-01-18 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版の製版方法
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
JP6510726B2 (ja) 2016-02-29 2019-05-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
WO2018092661A1 (ja) 2016-11-16 2018-05-24 富士フイルム株式会社 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
WO2018133972A1 (de) 2017-01-20 2018-07-26 Evonik Röhm Gmbh Lagerstabiles glycerin(meth)acrylatcarbonsäureester
WO2018159626A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN110382558B (zh) 2017-02-28 2024-09-13 富士胶片株式会社 固化性组合物、平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及化合物
CN110268333A (zh) 2017-02-28 2019-09-20 富士胶片株式会社 平版印刷版的制作方法
JP6934939B2 (ja) 2017-05-31 2021-09-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
JPWO2018221134A1 (ja) 2017-05-31 2020-03-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法
WO2018221457A1 (ja) 2017-05-31 2018-12-06 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、ポリマー前駆体、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
JP6956787B2 (ja) 2017-06-12 2021-11-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、有機ポリマー粒子、及び、感光性樹脂組成物
CN110809521B (zh) 2017-06-30 2022-01-07 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
WO2019013268A1 (ja) 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
EP3683605B1 (en) 2017-09-15 2022-07-06 FUJIFILM Corporation Composition, film, laminate, infrared transmission filter, solid-state imaging device and infrared sensor
WO2019151361A1 (ja) 2018-01-31 2019-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN112533764B (zh) 2018-07-31 2023-05-02 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其层叠体、平版印刷版的制版方法及平版印刷方法
JPWO2020026957A1 (ja) 2018-07-31 2021-08-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、捨て版原版
EP3611155A1 (en) 2018-08-16 2020-02-19 Evonik Operations GmbH Preparation of (meth)acrylic acid esters
WO2020045586A1 (ja) 2018-08-31 2020-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、硬化性組成物
KR102420769B1 (ko) 2018-09-20 2022-07-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화막, 적외선 투과 필터, 적층체, 고체 촬상 소자, 센서, 및 패턴 형성 방법
EP3858629B1 (en) 2018-09-28 2024-10-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method for making a printing plate
JP7150040B2 (ja) 2018-09-28 2022-10-07 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、および半導体デバイス
WO2020067373A1 (ja) 2018-09-28 2020-04-02 富士フイルム株式会社 印刷用原版、印刷用原版積層体、印刷版の製版方法、及び印刷方法
WO2020090995A1 (ja) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020090996A1 (ja) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3893054A4 (en) 2018-12-05 2022-01-05 FUJIFILM Corporation PATTERN MAKING METHOD, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE AND DEVICE
KR102577538B1 (ko) 2018-12-05 2023-09-12 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 경화막, 적층체, 및 디바이스
CN113474178B (zh) 2019-01-31 2023-09-15 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP3904100B1 (en) 2019-01-31 2025-09-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
CN113382869B (zh) 2019-01-31 2023-02-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP3900943B1 (en) 2019-01-31 2024-10-16 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor, method of preparing a planographic printing plate, and planographic printing method
KR102647598B1 (ko) 2019-03-15 2024-03-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 반도체 디바이스, 및, 폴리머 전구체
CN114072290B (zh) 2019-06-28 2024-04-30 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114051459B (zh) 2019-06-28 2024-07-23 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114096914A (zh) 2019-06-28 2022-02-25 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
WO2020262696A1 (ja) 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN120742621A (zh) 2019-06-28 2025-10-03 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114096421B (zh) 2019-06-28 2023-09-15 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JP7282885B2 (ja) 2019-06-28 2023-05-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262686A1 (ja) 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP4024097B1 (en) 2019-08-29 2024-05-22 FUJIFILM Corporation Composition, film, near-infrared cut-off filter, pattern formation method, laminate, solid-state imaging element, infrared sensor, image display device, camera module and compound
JPWO2021039253A1 (fi) 2019-08-30 2021-03-04
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
CN114450175B (zh) 2019-09-30 2024-09-03 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114531860B (zh) 2019-09-30 2024-01-30 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP4039489B1 (en) 2019-09-30 2025-05-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and planographic printing method
TWI859361B (zh) 2019-11-21 2024-10-21 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
EP4082791B1 (en) 2019-12-27 2024-10-16 FUJIFILM Corporation Lithographic printing method
WO2021172453A1 (ja) 2020-02-28 2021-09-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JPWO2022138880A1 (fi) 2020-12-25 2022-06-30
TW202244147A (zh) 2021-03-19 2022-11-16 日商富士軟片股份有限公司 膜及光感測器
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
KR102627683B1 (ko) 2021-08-31 2024-01-23 후지필름 가부시키가이샤 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 처리액
EP4397502A4 (en) 2021-08-31 2024-11-27 FUJIFILM Corporation LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR WITH DEVELOPMENT ON A MACHINE AND METHOD FOR PRODUCING A PRINTING PLATE
JP7354479B1 (ja) 2021-12-23 2023-10-02 富士フイルム株式会社 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物
JPWO2023162687A1 (fi) 2022-02-24 2023-08-31
WO2023190064A1 (ja) 2022-03-29 2023-10-05 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス
WO2024071237A1 (ja) 2022-09-30 2024-04-04 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス
WO2024070963A1 (ja) 2022-09-30 2024-04-04 富士フイルム株式会社 膜の製造方法、感光性樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、及び積層体
TW202424051A (zh) 2022-09-30 2024-06-16 日商富士軟片股份有限公司 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法、積層體的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件
JP2025132837A (ja) 2024-02-29 2025-09-10 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び化合物
WO2026008653A1 (en) 2024-07-02 2026-01-08 FUJIFILM Electronic Materials (EUROPE) N.V. Photosensitive polyimide precursor composition, cured film, laminate, method for producing cured film and semiconductor device

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3850770A (en) * 1969-10-24 1974-11-26 Kansai Paint Co Ltd Radiation curable compositions from acrylurethane resins
US3689308A (en) * 1970-12-21 1972-09-05 Ford Motor Co Unsaturated polyester-hydroxy functional,graded-rubber paint and process
DE2300371C3 (de) * 1973-01-05 1979-04-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare Druckplatte für den Flexodruck
US4210713A (en) * 1973-02-01 1980-07-01 Nippon Paint Co., Ltd. Photo-curable composition for coating containing an unsaturated urethane modified polymer
US4098918A (en) * 1973-02-05 1978-07-04 Ppg Industries, Inc. Method of polymerizing non-linear urethane diacrylates using radiation
US3954584A (en) * 1973-06-20 1976-05-04 Kansai Paint Company Photopolymerizable vinylurethane liquid composition
JPS5756490B2 (fi) * 1974-06-14 1982-11-30
US4120721A (en) * 1977-06-02 1978-10-17 W. R. Grace & Co. Radiation curable compositions for coating and imaging processes and method of use
JPS5936254B2 (ja) * 1977-07-26 1984-09-03 帝人株式会社 フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物
DE2737406A1 (de) * 1977-08-19 1979-02-22 Bayer Ag Strahlenhaertbare bindemittel
DE2822190A1 (de) * 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
US4198238A (en) * 1978-06-22 1980-04-15 Hercules Incorporated Photopolymerizable composition
GB2030584B (en) * 1978-10-03 1983-03-23 Lankro Chem Ltd Photopolymerisable solder resist compositions

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0232293B2 (fi) 1990-07-19
DE3168946D1 (en) 1985-03-28
IL64600A0 (en) 1982-03-31
AU546028B2 (en) 1985-08-08
KR830008201A (ko) 1983-11-16
FI814092L (fi) 1982-06-23
EP0054700B1 (de) 1985-02-13
ES8307384A1 (es) 1983-07-01
HK76485A (en) 1985-10-18
IL64600A (en) 1985-05-31
JPS57128716A (en) 1982-08-10
KR880002258B1 (ko) 1988-10-20
CA1186432A (en) 1985-04-30
DE3048502A1 (de) 1982-07-22
US4458007A (en) 1984-07-03
AU7873681A (en) 1982-07-01
ES508216A0 (es) 1983-07-01
EP0054700A2 (de) 1982-06-30
NO814376L (no) 1982-06-23
ZA818728B (en) 1982-11-24
DK567881A (da) 1982-06-23
EP0054700A3 (en) 1983-03-16
ATE11834T1 (de) 1985-02-15
MY8600250A (en) 1986-12-31
FI69713C (fi) 1986-03-10
BR8108300A (pt) 1982-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI69713B (fi) Genom bestraolning polymeriserbar blandning och av denna framstaellt straolningskaensligt kopieringsmaterial
US4977066A (en) Alkenylphosphonic and -phosphinic acid esters, process for their preparation, and a radiation-polymerizable mixture containing said compounds
CA1152245A (en) Photopolymerizable unsaturated polyester mixture for copying material
US3895949A (en) Photosensitive element comprising photopolymerizable layer and protective layer
US5085975A (en) Radiation sensitive composition utilizing ethylenically unsaturated perfluoroalkyl group-containing compounds and reproduction layers produced therefrom
KR880001434B1 (ko) 방사선에 의한 중합성 조성물
EP0851299B1 (en) Photosensitive lithographic printing plate
EP0071789B2 (de) Für die Herstellung von Photoresistschichten geeignetes Schichtübertragungsmaterial
JPH02226149A (ja) 光重合性化合物、それを含む光重合性混合物及びそれから製造された光重合性複写材料
DE3931525B4 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung
JPH0352855B2 (fi)
US5006443A (en) Radiation sensitive reproduction composition and element with perfluoroalkyl group containing polymer
US5336585A (en) Photosensitive resin composition for use in forming a relief structure
JP2645110B2 (ja) 光重合可能な混合物
US4724195A (en) Perfluoroalkyl group-containing copolymers and reproduction layers produced therefrom
JPH05506731A (ja) 厚膜抵抗剤中での使用のための抵抗剤物質
JPH01245245A (ja) 凸版印刷版用感光性樹脂組成物
DE3604402A1 (de) Lichtempfindliche harzmasse
US3882168A (en) Photopolymerizable compounds
JPS5933893B2 (ja) 協力作用を有する光開始剤系を含む感光性複写組成物
JPH0356961A (ja) 照射重合性混合物およびそれを含む記録材料
TW588216B (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing plates
KR970005054B1 (ko) 감광성 수지 조성물
JPS60263142A (ja) 光重合可能な組成物
DE2337645C3 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT