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Gebiet der
Erfindung
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Diese
Erfindung bezieht sich allgemein auf Halbleiterschaltungen und insbesondere
auf Halbleiterspeicherschaltungen.
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Hintergrund
der Erfindung
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Eine
Form von Halbleiterspeicher, die zumindest zwei verschiedene Widerstandszustände aufweist,
ist der Magnetoresistive Random Access Memory (im Nachfolgenden
als "MRAM" bezeichnet). Ein
entscheidender Faktor beim Lesen einer MRAM-Zelle ist der Widerstand
des Tunnelübergangs
in der MRAM-Zelle. Wenn in einem Speicherarray eine große Anzahl
von Zellen vorhanden ist, gibt es auf Grund von Abweichungen beim
Produktionsvorgang eine Verteilung von Widerstandswerten. Falls
der Widerstand des Tunnelübergangs
zu hoch ist, sieht ein Bit in dem niedrigen Widerstandszustand aus,
als befinde es sich in dem hohen Widerstandszustand. Falls hingegen
der Widerstand des Tunnelübergangs
zu niedrig ist, sieht ein Bit in dem hohen Widerstandszustand aus,
als befinde es sich in dem niedrigen Widerstandszustand. Tritt ein
solcher Fehler immer wieder auf, wird das Problem durch gewöhnliches
Testen des Speichers erkannt. Falls sich der Widerstandswert eines
Bits allerdings an der Grenze befindet, dann wird das Bit, das als
ein schwaches Bit bezeichnet wird, auf Grund von Rauschen während des
Testens manchmal richtig gelesen und manchmal falsch gelesen. Diese
Schwankung kann bei Speichern, die ein Testen während der Produktion bestehen,
bei Verwendung in einem System aber überraschend versagen, zu einem
Problem führen.
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Da
in der Speicherliteratur die Existenz schwacher Bits gründlich belegt
ist, sind bislang zahlreiche Testverfahren für DRAMs [Dynamic Random Access
Memory/dynamisches RAM], SRAMs [Static Random Access Memory/statisches
RAM] und Flash-Speicher vorgeschlagen worden. Ein Beispiel für eine Testmethode
für ein
DRAM ist das U.S.-Patent 4,468,759 mit dem Titel "Testing Method and
Apparatus for DRAM" von
Roger Kung et al. Kung offenbart die Anpassung einer gespeicherten
Spannung auf einer Dummy-DRAM-Zelle, die als eine Lesereferenz verwendet
wird, um schwache Bits zu detektieren. Die Spannung wird für Einsen
erhöht
und für
Nullen reduziert. Im Gegensatz dazu speichern MRAMs an Stelle einer
Spannung einen magnetischen Zustand. Das U.S.-Patent 5,537,358 mit
dem Titel "Flash
Memory having Adaptive Memory and Method" von Fong verwendet Spannungsunterschiede bei
Referenzbits, um schwache Bits zu kompensieren. Um ein weiteres
Beispiel für
ein Speichertestverfahren zum Identifizieren schwacher Bits handelt
es sich bei dem U.S.-Patent 6,105,152 mit dem Titel "Devices and Method
für Testing
Cell Margin of Memory Devices" von
Kevin Duesman et al. In diesem Beispiel werden während des Testens zumindest
entweder die Startzeit, die Dauer oder die Spannungspegel der Zeitsteuerungssignale
variiert, so dass sie außerhalb
spezifizierter Bereiche liegt/liegen, was dazu führt, dass Grenzspeicherzellen
versagen. Dieses Verfahren steuert oder offenbart nicht direkt,
an welchen Punkt ein Versagen eines schwachen Bits stattfindet.
Die US-A-5 731 733, auf der der Oberbegriff der Ansprüche 1, 9
basiert, offenbart ein Verfahren zum Testen eines Speichers, der
zumindest zwei Widerstandszustände
aufweist.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Es
werden ein Speicher und ein Verfahren gemäß den angehängten Ansprüchen beschrieben.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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Die
vorliegende Erfindung wird als Beispiel beschrieben und ist nicht
auf die Begleitfiguren, in denen ähnliche Verweiszeichen ähnliche
Elemente anzeigen, beschränkt.
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1 stellt
in schematischer Form einen Teil eines Speichers mit Schaltschema
zum Identifizieren schwacher Bits dar;
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2 stellt
in Flussdiagrammform ein Verfahren zum Identifizieren schwacher
Bits in einem Speicher gemäß der vorliegenden
Erfindung dar;
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3 stellt
in schematischer Form eine weitere Ausführungsform eines Teils eines
Speichers mit Schaltschema zum Identifizieren schwacher Bits dar;
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4 stellt
in schematischer Form eine weitere Ausführungsform des Speichers von 1 dar;
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5 stellt
in schematischer Form eine weitere Ausführungsform des Speichers von 3 dar; und
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6 stellt
in schematischer Form eine weitere Ausführungsform der Referenzschaltung,
die in 1, 3, 4 und 5 verwendet
wird, dar.
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Es
versteht sich für
den ausgebildeten Fachmann, dass Elemente in den Figuren der Einfachheit und
Klarheit halber dargestellt werden und nicht unbedingt maßstabgetreu
gezeichnet worden sind. Die Maße
einiger der Elemente in den Figuren können zum Beispiel bezüglich anderer
Elemente übertrieben
dargestellt sein, um das Verständnis
für die
Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung verbessern zu helfen.
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Ausführliche
Beschreibung
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1 stellt
einen Speicher 10 mit Schaltschema zum Identifizieren schwacher
Bits dar. Bei dem Speicher 10 handelt es sich um einen
Speicher mit einer Mehrzahl von Zellen, von denen jede zumindest
zwei verschiedene Widerstandszustände aufweist. Eine Speicherreferenzschaltung 12,
die einen Widerstand RR aufweist, wird in
Kombination mit einer zu testenden Speicherbitzelle 14,
die einen Widerstand RB aufweist, verwendet.
Ein erster Anschluss der Speicherbitzelle 14 ist, wie durch
Punkte angezeigt wird, mit einem ersten Referenzspannungsanschluss
gekoppelt, um eine Spannung VSS zu empfangen.
Ein zweiter Anschluss der Speicherbitzelle 14 ist, wie
durch Punkte angezeigt wird, mit einer ersten Stromelektrode in
Form einer Source eines N-Kanal Transistors 16 gekoppelt.
Alle Punkte, die den hier dargestellten Speicherzellen zugeordnet sind,
zeigen an, dass Spalten- und Zeilenauswahlschaltungseinrichtungen
(nicht dargestellt) verwendet werden, um die Speicherzelle zwischen
VSS und einen Leseverstärker, der aus einem N-Kanal Transistor 16,
einem P-Kanal Transistor 20, einem P-Kanal Transistor 22 und einem
N-Kanal Transistor 26 gebildet ist, zu koppeln. Der Transistor 16 weist
eine zweite Stromelektrode in Form eines Drain, mit einem Drain
des Transistors 20 gekoppelt, auf. Der Transistor 20 weist
eine Source auf, die mit einem Energieversorgungsspannungsanschluss
gekoppelt ist, um eine Spannung VDD zu empfangen.
Ein Gate des Transistors 20 ist an einem Knoten 24,
der ein Signal Reference Out zur Verfügung stellt, bei dem es sich
um ein Referenzausgangssignal handelt, mit einem Gate des Transistors 22 gekoppelt.
Eine Source des Transistors 22 ist mit dem VDD-Anschluss
gekoppelt. Ein Drain des Transistors 22 ist mit einem Drain des
Transistors 26 und mit dem Gate des Transistors 22 gekoppelt.
Ein Gate des Transistors 26 ist mit einem Knoten 31 in
einer Referenzschaltung 13 gekoppelt, um eine erste Referenzspannung,
VREF1, zu empfangen. Eine Source des Transistors 26 ist
mit einem ersten Anschluss einer Referenzspeicherzelle 28,
die einen Widerstand RR aufweist, gekoppelt.
Ein zweiter Anschluss der Referenzspeicherzelle 28 ist mit
dem Spannungsanschluss VSS gekoppelt. Eine Steuerelektrode
in Form eines Gates des Transistors 16 ist an einem Knoten 30 mit
einem Referenzsignal einer Referenzselektionsschaltung 18 der
Referenz schaltung 13 gekoppelt. Ein erster Eingang der
Referenzselektionsschaltung 18 empfängt eine erste Referenzspannung,
VREF1, und ein zweiter Eingang der Referenzselektionsschaltung 18 empfängt eine
zweite Referenzspannung, VREF2. Ein Steuereingang
der Referenzselektionsschaltung 18 empfängt ein TEST CONTROL-Signal.
Das TEST CONTROL-Signal kann vorzugsweise einen ersten Wert oder
einen zweiten Wert annehmen, um die Referenzspannungen VREF1 und VREF2 entsprechend
zu selektieren.
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Bei
einer üblichen
Betriebsweise ist das TEST CONTROL-Signal gesetzt, so dass der Spannungseingang
VREF1 an den Knoten 30 angelegt
wird. Auf diese Weise wird an die Gates der Transistoren 16 und 26 dieselbe
Spannung angelegt. Nehmen wir an, dass die Transistoren 16 und 26 physikalisch gleich
groß sind,
mit großen
Gate-Breite/Längeverhältnissen,
so dass die Gate/Sourcespannung durch die Schwellenspannung der
Transistoren 16 und 26 approximiert werden kann.
Auf diese Weise weisen der Bitwiderstand RB und
der Referenzwiderstand RR in etwa dieselbe
Spannung über
ihre Anschlüsse
auf. Der Bitwiderstand RB weist einen niedrigen
Widerstandszustand und einen hohen Widerstandszustand auf. Der Referenzwiderstand
RR weist einen Widerstand auf halbem Wege
zwischen dem hohen Widerstandszustand und dem niedrigen Widerstandszustand
von RB auf. Die Spannung über RR erzeugt einen Strom, IR,
der durch den Transistor 26 und zu dem Knoten 24 und
durch den Transistor 22 fließt. Der durch den Transistor 22 geleitete
Strom IR bestimmt die Spannung an dem Gate
und dem Drain des Transistors 22 als Ergebnis dessen, dass
der Transistor 22 als Diode geschaltet ist. Der Transistor 20 ist
gekoppelt, um den durch den Transistor 22 geleiteten Strom
IR zu spiegeln.
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Nehmen
wir an, dass sich der Bitwiderstand RB in
dem niedrigen Widerstandszustand befindet. Der Bitstrom IB durch die Speicherzelle 14 und
den Transistor 16 ist dann größer als der Strom durch die Referenzzelle 28,
IR. Das Endergebnis ist, dass die Spannung
an BIT OUT niedriger als die Spannung an REFERENCE OUT ist, was
einen niedrigen Widerstandszustand anzeigt.
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Nehmen
wir desgleichen an, dass sich der Bitwiderstand RB in
dem hohen Widerstandszustand befindet. Der Bitstrom IB durch
die Speicherzelle 14 und den Transistor 16 ist
dann kleiner als der Strom durch die Referenzzelle 28,
IR. Das Endergebnis ist, dass die Spannung
an BIT OUT höher
als die Spannung an REFERENCE OUT ist, was einen hohen Widerstandszustand
anzeigt.
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Auf
Grund einer Prozessungleichheit variiert der Bitwiderstand. Einige
Bits in dem niedrigen Zustand können
einen Widerstandswert aufweisen, der etwas kleiner als oder gleich
dem Referenzwert ist, und ein Standardtesten bestehen. Desgleichen
können
andere Bits in dem hohen Zustand einen Widerstand nahe dem oder
etwas größer als
der Referenzwiderstand aufweisen und somit eine Standardprüfung gerade
noch bestehen. Um diese schwachen Bits zu überprüfen, aktiviert das TEST CONTROL-Signal
einen Testmodus, so dass die Referenzselektionsschaltung 18 den
Knoten 30 mit VREF2 versorgt. Ein
geeigneter Wert von VREF2 führt dazu,
dass schwache Bits versagen. Die Speicherzelle 14 kann einen
niedrigen Zustandswiderstandswert nahe dem Referenzwiderstandswert
aufweisen, so dass IB nur etwas mehr als
IR beträgt.
Wird ein Wert von VREF2 kleiner als VREF1 angelegt, wird IB reduziert;
somit ist IB für ein schwaches Bit kleiner
als IR und das schwache Bit fällt durch. Ähnlich kann die
Speicherzelle 14 einen hohen Zustandswiderstandswert nahe
dem Referenzwiderstandswert aufweisen, so dass IB nur etwas
größer als
IR ist. Wird ein Wert von VREF2 größer als
VREF1 angelegt, wird IB erhöht; somit
ist IB für
ein schwaches Bit größer als
IR und das schwache Bit fällt durch.
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In 2 wird
ein Flussdiagramm für
den oben beschriebenen Testmodus dargestellt. Nach einem Startschritt 40 wird
in einem Schritt 42 ein niedriger Zustandswert auf das
Testbit RB geschrieben. Das Testbit RB wird in einem Schritt 44 getestet,
indem eine vorbestimmte Testreferenzspannung von VREF2 selektiert
wird, die im Wert kleiner als VREF1 ist. Falls
es sich bei dem Signal BIT OUT um einen logischen High-Pegel handelt,
weist die Speicherzelle 14 keinen Bitwiderstand von ausreichendem
Wert zum zuverlässigen
Lesen eines niedrigen Werts auf, wie in einem Schritt 46 bestimmt
und in einem Schritt 48, wo das Bit durchfällt, angezeigt
wird. Falls es sich bei dem Signal BIT OUT, das an dem Drain des
Transistors 20 zur Verfügung
gestellt wird, um einen logischen Low-Pegel handelt, weist die Speicherzelle 14 einen
Bitwiderstand von ausreichendem Wert zum zuverlässigen Lesen eines niedrigen
Werts wie in Schritt 46 bestimmt auf. Vorausgesetzt, dass
das Bit noch nicht durchgefallen ist, wird in einem Schritt 50 ein
hoher Zustandswert auf das Testbit RB geschrieben.
In einem Schritt 52 wird das Testbit RB getestet, indem
eine vorbestimmte Testreferenzspannung von VREF2 selektiert
wird, die im Wert größer als
VREF1 ist. Falls es sich bei dem Signal
BIT OUT um einen logischen Low-Pegel handelt, weist die Speicherzelle 14 keinen
Bitwiderstand von ausreichendem wert zum zuverlässigen Lesen eines hohen Werts
auf, wie in einem Schritt 54 bestimmt und in einem Schritt 48, wo
das Bit durchfällt, angezeigt
wird. Falls es sich bei dem Signal BIT OUT, das an dem Drain des
Transistors 20 zur Verfügung
gestellt wird, um einen logischen High-Pegel handelt, weist die
Speicherzelle 14 einen Bitwiderstand von ausreichendem
Wert zum zuverlässigen
Lesen eines hohen Werts auf. In einem Schritt 56 wird das
Bit durchgelassen. Gegebenenfalls kann der Test für weitere
Speicherzellen wiederholt werden.
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Es
sollte beachtet werden, dass in den Schritten 44 und 46 bestimmt
werden kann, den Test unter Verwendung verschiedener Werte für VREF1 und VREF2 zu
wiederholen. Auf diese Weise kann eine Abtastoperation ausgeführt werden,
um exakt zu ermitteln, wie nah sich der Speicherzellenwert an einem Grenzwiderstand
befindet. In ähnlicher
Weise können
die Schritte 52 und 54 unter Verwendung verschiedener
Werte für
VREF1 und VREF2 wiederholt
werden.
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In 3 wird
ein weiterer Speicher, ein Speicher 60, dargestellt, der
ein unterschiedliches Schema für
den Leseverstärker
aufweist, wobei an Stelle eines gemeinsamen Gates ein gemeinsamer
Strom verwendet wird, um für
den Leseverstärker
ein Vorspannen auszuführen.
Ein P-Kanal Transistor 64 weist eine mit einem Spannungsanschluss
VDD gekoppelte Source und ein Gate, das
an einem Knoten 62 mit einem Ausgang einer Referenzselektionsschaltung 80 einer
Referenzschaltung 77 gekoppelt ist, auf. Ein Drain des
Transistors 64 stellt ein Signal BIT OUT zur Verfügung und
ist mit einem Drain eines N-Kanal Transistors 68 gekoppelt.
Eine Source des Transistors 68 ist mit einem ersten Anschluss
einer Speicherzelle 72, die einen Bitwiderstand von RB aufweist, gekoppelt. Wie zuvor erwähnt wird,
kann die Source des Transistors 68 direkt mit der Speicherzelle 72 gekoppelt
sein oder kann über
eine Spaltenauswahl- und/oder Zei- lenauswahlschaltungseinrichtung gekoppelt
sein. Ähnlich
kann ein zweiter Anschluss der Speicherzelle 72 mit einem
Versorgungsspannungsanschluss gekoppelt sein, um VSS zu
empfangen, oder kann über
eine Spaltenauswahl- und/oder Zeilenauswahlschaltungseinrichtung
gekoppelt sein. Ein P-Kanal
Transistor 66 weist eine Source auf, die mit einem Anschluss
gekoppelt ist, um VDD zu empfangen. Ein
Gate des Transistors 66 ist mit einem Knoten 63 in
der Referenzschaltung 77 und mit einer ersten Referenzspannung
VREF1 gekoppelt, und ein Drain des Transistors 66 stellt
das Signal REFERENCE OUT zur Verfügung und ist sowohl mit einem Gate
als auch einem Drain des als Diode geschalteten N-Kanal Transistors 70 gekoppelt.
Das Gate des Transistors 70 ist an einem Knoten 78 mit
einem Gate des Transistors 68 gekoppelt. Eine Source des
Transistors 70 ist mit einem ersten Anschluss einer Referenzspeicherzelle 74,
die einen Referenzwiderstandswert von RR aufweist,
gekoppelt. Durch den Transistor 66, den Transistor 70 und
die Referenzspeicherzelle 74 wird eine Speicherreferenzschaltung 76 gebildet.
Ein zweiter Anschluss der Referenzspeicherzelle 74 ist
mit dem Anschluss gekoppelt, um die Versorgungsspannung VSS zu empfangen. Der erste Anschluss und
der zweite Anschluss der Referenzspeicherzelle 74 können direkt
mit dem Transistor 70 beziehungsweise dem Versorgungsspannungsanschluss
VSS gekoppelt sein oder können über eine
Spaltenauswahl- und/oder
Zeilenauswahlschaltungseinrichtung (nicht dargestellt) gekoppelt
sein. Ein erster Eingang der Referenzselektionsschaltung 80 ist
mit dem Signal VREF1 gekoppelt und ein zweiter
Eingang der Referenzselektionsschaltung 80 ist mit einem
Signal VREF2 gekoppelt.
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In
Betrieb spannt VREF1 den Transistor 66 mit einer
bekannten Spannung vor, um einen Referenzstrom IR1 durch
den Transistor 66 zu erzeugen. Der Strom IR1 spannt
darüber
hinaus den als Diode geschalteten Transistor 70 vor, wobei
an dem Knoten 78 eine Spannung erzeugt wird. Der Strom
IR1 setzt sich durch den Transistor 70 zu
der Referenzspeicherzelle 74 fort. Nehmen wir an, dass
die Transistoren 68 und 70 physikalisch gleich
groß sind,
mit großen
Gate-Breite/Längeverhältnissen,
so dass die Gate/Sourcespannung durch die Schwellenspannung der
Transistoren 68 und 70 approximiert werden kann.
Die Spannung über
die Referenzspeicherzelle 74 und die Bitzelle 72 ist
in etwa die gleiche. Der Bitzellenwiderstand RB erzeugt
einen Strom IB. Bei normalem Betrieb bewirkt
das Signal TEST CONTROL, dass VREF1 an den
Knoten 62 angelegt wird. Der Transistor 64 ist
so ausgelegt, dass er dem Transistor 66 entspricht, so
dass der Strom IR2 in diesem Fall derselbe
wie der Strom IR1 ist. Falls sich der Bitwiderstand
RB in dem niedrigen Zustand befindet, so
dass der Widerstand RB kleiner als der Widerstand
RR ist, dann ist der Strom IB größer als
IR1. Die Spannung an BIT OUT ist kleiner
als die Spannung des Signals REFERENCE OUT. Falls sich andrerseits
der Bitwiderstand RB in dem hohen Zustand
befindet, so dass der Widerstand RB größer ist
als der Widerstand RR, dann ist der Strom
IB kleiner als IR1.
Die Spannung an BIT OUT ist größer als
die Spannung des Signals REFERENCE OUT.
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Der
Bitwiderstand variiert auf Grund von Prozessungleichheit. Einige
Bits in dem niedrigen Zustand können
einen Widerstandswert aufweisen, der etwas kleiner als oder gleich
dem Referenzwert ist und ein Standardtesten besteht. Desgleichen
können andere
Bits in dem hohen Zustand einen Widerstand nahe dem oder etwas größer als
der Referenzwiderstand aufweisen und folglich eine Standardprüfung gerade
noch bestehen. Um diese schwachen Bits zu überprüfen, aktiviert das TEST CONTROL-Signal
einen Testmodus, so dass die Referenzselektionsschaltung 80 dem
Knoten 62 VREF2 zur Verfügung stellt.
Ein geeigneter Wert von VREF2 führt dazu,
dass schwache Bits versagen. Die Speicherzelle 72 kann einen
niedrigen Zustandswiderstandswert nahe dem Referenzwiderstandswert
aufweisen, so dass IB nur etwas mehr als
IR2 beträgt.
Wird ein Wert von VREF2 kleiner als VREF1 angelegt, wird IR2 erhöht, somit
ist IB für
ein schwaches Bit kleiner als IR2 und das
schwache Bit fällt
durch. Ähnlich
kann die Speicherzelle 72 einen hohen Zustandswiderstandswert
nahe dem Referenzwiderstandswert aufweisen, so dass IB nur etwas
kleiner ist als IR2. Ein Anlegen eines Werts
von VREF2 größer als VREF1 reduziert
IR2, somit ist IB für ein schwaches
Bit größer als
IR2 und das schwache Bit fällt durch.
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In 4 wird
eine weitere Form des Speichers 10 von 1 dargestellt.
Elemente, die zwischen 4 und 1 gemein
sind, wurden daher zu Vergleichszwecken ähnlich nummeriert. Eine Speicherreferenzschaltung 81 weist
einen P-Kanal Transistor 82 auf, der eine Source, die mit
einem Anschluss gekoppelt ist, um eine Versorgungsspannung VDD zu empfangen, aufweist. Ein Gate des Transistors 82 ist
mit einem Drain davon gekoppelt und ist mit einem Gate des Transistors 20 und
mit einem Gate eines P-Kanal Transistors 84 gekoppelt. Eine
Source des Transistors 84 ist mit dem Anschluss gekoppelt,
um die Versorgungsspannung VDD zu empfangen.
Der Drain des Transistors 82 ist mit einem Drain eines
N-Kanal Transistors 88 gekoppelt. Die erste Referenzspannung,
VREF1, und ein Knoten 31 der Referenzschaltung 13 ist
mit einem Gate des Transistors 88 und mit einem Gate eines
N-Kanal Transistors 92, die miteinander gekoppelt sind,
gekoppelt. Ein Drain des Transistors 84 ist mit einem Referenzausgangsanschluss,
REFERENCE OUT, und mit einem Drain eines Transistors 92 gekoppelt. Jeder
der Transistoren 88 und 92 hat seine Source zusammengekoppelt.
Die Source des Transistors 88 ist mit einem ersten Anschluss
einer hohen Referenzspeicherzelle 90, die einen Widerstand
RH aufweist, gekoppelt. Ein zweiter Anschluss
der Referenzspeicherzelle 90 ist mit dem Spannungsanschluss
VSS gekoppelt. Eine Source des Transistors 92 ist
mit einem ersten Anschluss einer niedrigen Referenzspeicherzelle 94,
die einen Widerstand RL aufweist, gekoppelt.
Ein zweiter Anschluss der Referenzspeicherzelle 94 ist
mit dem Versorgungsspannungsanschluss VSS gekoppelt.
Die Speicherzellen 90 und 94 sind, wie durch die
punktierten Linien angegeben wird, durch eine Spaltenauswahl- und
Zeilenauswahlschaltungseinrichtung (nicht dargestellt) zwischen
den Versorgungsspannungsanschluss VSS und
die Transistoren 88 beziehungsweise 92 gekoppelt.
Jedes übrige
Schaltschema des Speichers von 4 ist wie
vorher für 1 beschrieben
gekoppelt und weist die gleiche Elementnummerierung auf.
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In
Betrieb führt
die Speicherreferenzschaltung 81 eine gleiche Funktion
wie die Speicherreferenzzelle 12 von 1 aus.
In einer normalen Betriebsweise wird das Signal TEST CONTROL gesetzt,
so dass der Spannungseingang VREF1 an den Knoten 30 angelegt
wird. Somit wird an die Gates der Transistoren 16, 88 und 92 die
gleiche Spannung angelegt. Nehmen wir an, dass die Transistoren 16, 88 und 92 physikalisch
gleich groß sind,
mit großen Gate-Breite/Längeverhältnissen,
so dass die Gate/Sourcespannung durch die Schwellenspannung der
Transistoren 16, 88 und 92 approximiert werden
kann. Auf diese Weise weisen der Bitwiderstand RB und
die Referenzwiderstände
RH und RL in etwa
dieselbe Spannung über
ihre Anschlüsse
auf. Der Bitwiderstand RB weist einen niedrigen
Widerstandszustand und einen hohen Widerstandszustand auf. Der Referenzwiderstand
RL ist so gebildet, dass er dem niedrigen
Widerstandszustand von RB entspricht, und
der Referenzwiderstand RH ist so gebildet,
dass er dem hohen Widerstandszustand von RB entspricht.
Die Spannung über
die Parallelkombination aus RL und RH erzeugt einen Strom 2IR.
Der Strom IR fließt durch jeden der Transistoren 88 und 92.
Der durch den Transistor 82 geleitete Strom IR bestimmt die
Spannung an dem Gate und dem Drain des Transistors 82 als
Ergebnis dessen, dass der Transistor 82 als Diode geschaltet
ist. Die Transistoren 20 und 84 sind gekoppelt,
um den durch den Transistor 82 geleiteten Strom IR wiederzugeben.
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Nehmen
wir an, dass sich der Bitwiderstand RB in
dem niedrigen Widerstandszustand befindet. Der Bitstrom IB durch die Speicherzelle 14 und
den Transistor 16 ist dann größer als der Referenzstrom IR. Das Endergebnis ist, dass die Spannung
an BIT OUT niedriger als die Spannung an REFERENCE OUT ist, was
einen niedrigen Widerstandszustand anzeigt.
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Nehmen
wir desgleichen an, dass sich der Bitwiderstand RB in
dem hohen Widerstandszustand befindet. Der Bitstrom IB durch
die Speicherzelle 14 und den Transistor 16 ist
dann kleiner als der Referenzstrom IR durch
die Referenzzelle 28. Das Endergebnis ist, dass die Spannung
an BIT OUT höher
als die Spannung an REFERENCE OUT ist, was einen hohen Widerstandszustand
anzeigt.
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Auf
Grund von Prozessungleichheit variiert der Bitwiderstand. Einige
Bits in dem niedrigen Zustand können
einen Widerstandswert aufweisen, der etwas kleiner als oder gleich
dem Referenzwert ist, und eine Standardprüfung bestehen. Desgleichen können andere
Bits in dem hohen Zustand einen Widerstand nahe dem oder etwas größer als
der Referenzwiderstand aufweisen und somit einen Standardtest gerade
noch bestehen. Um diese schwachen Bits zu überprüfen, aktiviert das TEST CONTROL-Signal
einen Testmodus, so dass die Referenzselektionsschaltung 18 dem
Knoten 30 VREF2 zur Verfügung stellt.
Ein geeigneter Wert von VREF2 führt dazu,
dass schwache Bits versagen. Die Speicherzelle 14 kann einen
niedrigen Zustandswiderstandswert nahe dem Referenzwiderstandswert
aufweisen, so dass IB nur etwas mehr als
IR beträgt.
Wenn man einen Wert von VREF2 kleiner als
VREF1 anlegt, wird IB reduziert,
folglich ist IB für ein schwaches Bit kleiner
als IR und das schwache Bit fällt durch. Ähnlich kann
die Speicherzelle 14 einen hohen Zustandswiderstandswert
nahe dem Referenzwiderstandswert aufweisen, so dass IB nur
etwas größer als
IR ist. Wenn ein Wert von VREF2 größer als
VREF1 angelegt wird, wird IB erhöht, somit ist
IB für
ein schwaches Bit größer als
IR und das schwache Bit fällt durch.
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In 5 wird
eine noch weitere Form des Speichers 60 von 3 dargestellt.
Elemente, die zwischen 5 und 3 gemein
sind, sind deshalb zu Vergleichszwecken ähnlich nummeriert worden. Eine
Speicherreferenzschaltung 100 weist einen P-Kanal Transistor 102 mit
einer Source, die mit einem Energieversorgungsspannungsanschluss
gekoppelt ist, um eine Versorgungsspannung VDD zu empfangen,
auf. Ein Gate des Transistors 102 ist mit einem Knoten 63 einer
Re ferenzschaltung 77 und mit einer ersten Referenzspannung
VREF1 und mit einem ersten Eingang der Referenzselektionsschaltung 80 gekoppelt.
Ein Drain des Transistors 102 ist an einem Knoten 105 mit
einem Drain eines N-Kanal Transistors 106 gekoppelt. Ein
Gate des Transistors 106 ist an dem Knoten 105 mit
dem Gate des Transistors 68 und mit dem Drain des Transistors 106 gekoppelt. Eine
Source des Transistors 106 ist mit einem ersten Anschluss
einer Referenzspeicherzelle 112, die einen hohen Widerstandswert
RH aufweist, gekoppelt. Die Verbindung kann
entweder direkt erfolgen oder über
entweder eine Spaltenauswahlschalteinrichtung oder eine Zeilenauswahlschalteinrichtung
oder beide (nicht dargestellt) gekoppelt sein. Ein zweiter Anschluss
der Referenzspeicherzelle 112 ist entweder über eine
Spaltenauswahlschalteinrichtung oder eine Zeilenauswahlschalteinrichtung
oder beide (nicht dargestellt) gekoppelt oder ist direkt mit einem
Referenzspannungsanschluss gekoppelt, um eine Spannung VSS zu empfangen. Eine Source eines P-Kanal Transistors 104 ist
mit dem Energieversorgungsspannungsanschluss gekoppelt, um VDD zu empfangen. Ein Gate des Transistors 104 ist
mit dem Gate des Transistors 102 ebenso wie mit der ersten
Referenzspannung, VREF1, gekoppelt. Ein
Drain des Transistors 104 stellt ein Signal REFERENCE OUT
zur Verfügung
und ist mit einem Drain eines N-Kanal Transistors 108 gekoppelt.
Ein Gate des Transistors 108 ist mit dem Knoten 105 gekoppelt
und eine Source des Transistors 108 ist an einem Knoten 110 mit der
Source des Transistors 106 gekoppelt. Die Source des Transistors 108 ist
auch mit einem ersten Anschluss einer Referenzspeicherzelle 114,
die einen niedrigen Widerstandswert RL aufweist,
gekoppelt. Die Verbindung kann entweder direkt erfolgen oder über entweder eine
Spaltenauswahlschalteinrichtung oder eine Zeilenauswahlschalteinrichtung
oder beide (nicht dargestellt) gekoppelt sein. Ein zweiter Anschluss
der Referenzspeicherzelle 114 ist entweder über eine
Spaltenauswahlschalteinrichtung oder eine Zeilenauswahlschalteinrichtung
oder beide (nicht dargestellt) gekoppelt oder ist direkt mit dem
Referenzspannungsanschluss gekoppelt, um die Spannung VSS zu
empfangen.
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In
Betrieb spannt VREF1 die Transistoren 102 und 104 mit
einer bekannten Spannung vor, um durch die Transistoren 102 und 104 gleiche
Referenzströme
IR1 entsprechend zu erzeugen. Der Strom IR1 spannt darüber hinaus den als Diode geschalteten Transistor 106 vor,
wobei eine Spannung an dem Knoten 105 erzeugt wird. Der
Strom IR1 verläuft entsprechend durch die
Transistoren 106 und 108 zu den Referenzspeicherzellen 112 und 114.
Nehmen wir an, dass die Transistoren 68, 106 und 108 physikalisch
gleich groß sind,
mit großen
Gate-Breite/Längeverhältnissen,
so dass die Gate/Sourcespannung durch die Schwellenspannung der
Transistoren 68, 106 und 108 approximiert
werden kann. Die Spannungen über
die Referenzspeicherzellen 112 und 114 und die
Bitzelle 72 sind in etwa gleich. Der Bitzellenwiderstand
RB erzeugt einen Strom IB.
Bei normalem Betrieb führt
das Signal TEST CONTROL dazu, dass VREF1 an
den Knoten 62 angelegt wird. Der Transistor 64 ist
so ausgelegt, dass er den Transistoren 102 und 104 entspricht,
so dass in diesem Fall der Strom IR2 der
gleiche wie der Strom IR1 ist. Falls sich der
Bitwiderstand RB in dem niedrigen Zustand
befindet, so dass der Widerstand RB kleiner
als das Mittel der Widerstände
RH und RL ist, dann
ist der Strom IB größer als IR1.
Die Spannung an BIT OUT ist kleiner als die Spannung des Signals REFERENCE
OUT. Falls sich andrerseits der Bitwiderstand RB in
dem hohen Zustand befindet, so dass der Widerstand RB größer als
das Mittel der Widerstände
RH und RL ist, dann
ist der Strom IB kleiner als IR1.
Die Spannung an BIT OUT ist größer als
die Spannung des Signals REFERENCE OUT.
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Auf
Grund von Prozessungleichheit variiert der Bitwiderstand. Einige
Bits in dem niedrigen Zustand können
einen Widerstandswert aufweisen, der etwas kleiner als oder gleich
dem Referenzwert ist, und eine Standardprüfung bestehen. Desgleichen können andere
Bits in dem hohen Zustand einen widerstand nahe dem oder etwas größer als
der Referenzwiderstand aufweisen und eine Standardprüfung folglich
gerade noch bestehen. Um diese schwachen Bits zu überprüfen, aktiviert
das Signal TEST CONTROL einen Testmodus, so dass die Referenzselektionsschaltung 80 dem
Knoten 62 VREF2 zur Verfügung stellt.
Ein geeigneter Wert von VREF2 führt dazu,
dass schwache Bits versagen. Die Speicherzelle 72 kann einen
niedrigen Zustandswiderstandswert nahe dem Referenzwiderstandswert
aufweisen, so dass IB nur etwas mehr als
IR beträgt.
Wird ein Wert von VREF2 kleiner als VREF1 angelegt, erhöht sich IR2 und
somit ist IB für das schwache Bit kleiner
als IR2 und das schwache Bit fällt durch.
Desgleichen kann die Speicherzelle 72 einen hohen Zustandswiderstandswert
nahe dem Referenzwiderstandswert aufweisen, so dass IB nur
etwas kleiner ist als IR. Wird ein Wert
von VREF2 größer als VREF1 angelegt,
wird IR2 reduziert und folglich ist IB für
das schwache Bit größer als
IR2 und das schwache Bit fällt durch.
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In 6 wird
eine alternative Form der Referenzschaltungen 13 und 77 der 1, 3, 4 und 5,
als Referenzschaltung 13' oder 77' bezeichnet,
dargestellt. Anstatt diese Alternative für jede der 1, 3, 4 und 5 zu
wiederholen, wird aus Gründen
der Zweckmäßigkeit
eine einzige Figur dargestellt. Deshalb sind alternierende Hinweiszahlen
vorhanden. Die erste Referenzspannung, VREF1,
ist mit einem ersten Eingang der Referenzselektionsschaltung 18, 80 gekoppelt.
Die zweite Referenzspannung, VREF2, ist
mit einem zweiten Eingang der Referenzselektionsschaltung 18, 80 und
mit einem Knoten 30, 62 gekoppelt. Der Ausgang
der Referenzselektionsschaltung 18, 80 ist mit
einem Knoten 31, 63 gekoppelt. Ein Teststeuersignal,
TEST CONTROL, ist mit einem Steueranschluss der Referenzselektionsschaltung 18, 80 gekoppelt,
um zu steuern, ob durch die Referenzselektionsschaltung 18, 80 der
Eingang VREF1 oder der Eingang VREF2 an den Knoten 31, 63 angelegt
wird.
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Anstatt
VREF1 sowohl an den Knoten 31, 63 als
auch den Knoten 30, 62 anzulegen, wie es in 1, 3, 4 und 5 der
Fall ist, legt diese alternative Form in Betrieb die Referenzspannung VREF2 in normalem Modus an den Knoten 31, 63 und den
Knoten 30, 62 an. In dem Testmodus wird VREF1 an den Knoten 31, 63 angelegt
und VREF2 wird an den Knoten 30, 62 angelegt,
wie es oben beschrieben in 1, 3, 4 und 5 der
Fall ist. Wie oben erläutert
wird, ist die Funktion in dem Testmodus deshalb betrieblich für jede Ausführungsform
dieselbe.
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In
der Zwischenzeit sollte es sich verstehen, dass ein Speicher, der
Zellen mit zumindest zwei verschiedenen Widerstandszuständen aufweist,
wie z. B. ein MRAM, und Schaltschemata, die verwendet werden, um
schwache Bits, die beim Lesen falsche Werte zur Verfügung stellen
könnten,
zu identifizieren, zur Verfügung
gestellt worden sind. Dadurch, dass in einem Leseverstärker unterschiedliche
Refe renzspannungen verwendet werden, kann die Identifizierung durchgeführt werden,
ohne dass externe Faktoren, wie z. B. Temperatur und Versorgungsspannungsunterschiede,
verwendet werden, und ohne dass die Zeitsteuerungs- und Taktsignale
des Speichers modifiziert werden müssen. Das hier beschriebene
Verfahren führt
in der dargestellten Form dazu, dass der Leseverstärker unter
einer Steuerung von Logikschaltungseinrichtungen und eines zweiten Referenzspannung
oder -stroms unsymmetrisch bzw. unausgeglichen ist. Folglich ermöglicht das
hier zur Verfügung
gestellte Speichertestschaltschema eine verbesserte Zuverlässigkeit
in Betrieb und minimiert das Vorhandensein von Fehlern unerwünschter schwacher
Bits, das durch bislang bekannte Verfahren beispielhaft illustriert
wurde. Die Detektion von Grenzwiderstandsbits, die durch die vorliegende
Erfindung ermöglicht
wird, führt
zu einem zuverlässigen Speicher,
der keine Fehler auf Grund der Gegenwart schwacher Speicherzellbits
verursacht.
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Sobald
schwache Bits identifiziert worden sind, kann der Speicher durch
Verwendung von Speicherredundanz instand gesetzt werden. Abhängig von
der Anzahl der identifizierten schwachen Bits kann der Speicher über Redundanz
instand gesetzt werden oder der Speicher kann abgelehnt werden, falls
nicht ausreichend Redundanz übrig
ist.
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Es
sollte sich wohl verstehen, dass das Referenzspannungsselektionsschaltschema,
das hier durch die Referenzselektionsschaltungen 18 und 80 zur
Verfügung
gestellt wird, entweder als eine Multiplexerschaltung oder dadurch,
dass verschiedene logische Schaltungen verwendet werden, um die Funktion
zum Bereitstellen einer von zwei Referenzspannun gen von vorbestimmtem
Wert als Antwort auf ein Steuersignal zu implementieren, implementiert
werden kann.
-
Da
die Vorrichtung, die die vorliegende Erfindung implementiert, zum
größten Teil
aus elektronischen Komponenten und Schaltungen besteht, die dem
Fachmann bekannt sind, werden Schaltungsdetails nur in einem Maße erläutert, wie
es, wie oben dargestellt wird, als erforderlich betrachtet wird,
um die der vorliegenden Erfindung zu Grunde liegenden Ideen zu verstehen
und anzuerkennen und nicht von den Lehren der vorliegenden Erfindung
abzulenken oder sie zu verschleiern.
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In
der vorangehenden Spezifikation ist die Erfindung in Bezug auf spezifische
Ausführungsformen
beschrieben worden. Es versteht sich allerdings für einen
ordentlichen Fachmann, dass verschiedene Modifikationen und Änderungen
durchgeführt
werden können,
ohne dass von dem Umfang der vorliegenden Erfindung wie in den Ansprüchen unten
dargelegt abgewichen wird. Zum Beispiel kann die Schaltungsimplementierung
des Leseverstärkers, der
mit dem hier gelehrten Referenzselektionsschaltschema verwendet
wird, variiert werden und in verschiedenen Verfahren funktionieren,
um eine Datenabtastung auszuführen.
Zwar werden MOSFETs spezifischen Leitfähigkeitstyps dargestellt, doch
sollte es sich wohl verstehen, dass Änderungen in dem Leitfähigkeitstyp
durch Schalten eines ersten Leitfähigkeitstyps (N-Kanals) zu
einem zweiten Leitfähigkeitstyp
(P-Kanal) und umgekehrt oder Änderungen in
der Art von Transistoren durchgeführt werden können, um
die Zusammenschaltungsstrukturen zu implementieren. Es können Speicher
verwendet werden, die mit verschiedenen MRAM-Strukturen implementiert
sind. Der Typ von Arbeitsvorgang, der benötigt wird, um den MRAM zu pro grammieren
und zu lesen, kann variieren und mit dem hier gelehrten Verfahren verwendet
werden. Die Spezifikation und die Figuren sind demgemäß vielmehr
in einem veranschaulichenden als einem beschränkenden Sinne zu betrachten,
und es ist beabsichtigt, all solche Modifikationen innerhalb des
Umfangs der vorliegenden Erfindung zu umfassen.
-
Vorteile,
andere Nutzen und Lösungen
für Probleme
sind oben mit Bezug auf spezifische Ausführungsformen beschrieben worden.
Allerdings sind die Vorteile, Nutzen, Lösungen für Probleme und jegliche(s)
Element (Elemente), die dazu führen
können, dass
irgendein Vorteil, Nutzen oder Lösung
auftritt oder deutlicher hervortritt, nicht als ein entscheidendes,
erforderliches oder wesentliches Merkmal oder Element irgendeines
oder all der Ansprüche
auszulegen. Die Begriffe "umfasst", "umfassend", wie sie hier verwendet
werden, oder jegliche weitere Variante davon sollen eine nicht ausschließliche Angabe
umfassen, so dass ein Prozess, Verfahren, Gegenstand oder eine Vorrichtung,
eine Liste von Elementen umfassend, nicht nur diejenigen Elemente
umfasst, sondern weitere Elemente, die nicht ausdrücklich aufgeführt oder
solch einem Prozess, Verfahren, Gegenstand oder Vorrichtung eigen
sind, umfassen kann. Der Begriff "ein",
wie er hier verwendet wird, ist als eins oder mehr als eins definiert.
Der Begriff "Mehrzahl", wie er hier verwendet
wird, ist als zwei oder mehr als zwei definiert. Der Begriff "ein weiterer", wie er hier verwendet
wird, ist als zumindest ein zweiter oder mehr definiert. Die Begriffe "enthaltend" und/oder "aufweisend", sind, wie sie hier
verwendet werden, als "umfassend" definiert (d. h.
freie Ausdrucksweise). Der Begriff "gekoppelt", wie er hier verwen det wird, ist als
verbunden – und
zwar nicht zwangsläufig
direkt und nicht unbedingt mechanisch – definiert.