DE602004009846T2

DE602004009846T2 - Flachdruckplattenvorläufer

Info

Publication number: DE602004009846T2
Application number: DE602004009846T
Authority: DE
Inventors: Miki Yoshida-cho Haibara-gun Takahashi; Hidehito Yoshida-cho Haibara-gun Sasaki; Hisashi Yoshida-cho Haibara-gun Hotta
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2003-03-20
Filing date: 2004-03-19
Publication date: 2008-08-28
Anticipated expiration: 2024-03-20
Also published as: CN100577415C; EP1459888A3; EP1459888B1; ATE377505T1; CN1532051A; US20040185375A1; EP1459888A2; DE602004009846D1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft einen positiven Flachdruckplattenvorläufer, aus dem ein Bild durch Belichtung mit Infrarot-Laserlicht aufgezeichnet werden kann und bei dem sich die Löslichkeit eines belichteten Bereichs einer Aufzeichnungsschicht verändert. Insbesondere betrifft die Erfindung einen positiven Flachdruckplattenvorläufer, auf dem mit Belichtung mit Licht im nah-infraroten Bereich, wie z. B. infrarotem Laserlicht, aufgezeichnet werden kann, der die direkte Plattenherstellung aus digitalen Signalen von einem Computer oder dgl. ermöglicht und der eine hohe Druckhaltbarkeit aufweist und der keine Schaum- bzw. Schmutzbildung (scumming) im Nicht-Bildbereich zeigt.
BESCHREIBUNG VERWANDTER TECHNIKEN
Mit der kürzlichen Entwicklung von Feststofflasern und Halbleiterlasern mit einem Lichtemissionsbereich im nah-infraroten bis infraroten Bereich wurde die Aufmerksamkeit als System zur Herstellung einer Platte direkt aus digitalen Daten von Computern auf Systeme fokussiert, bei denen diese Infrarotlaser verwendet werden.
Z. B. ist ein positives Flachdruckplattenmaterial zur direkten Plattenherstellung unter Verwendung eines Infrarotlasers in der Offenlegungsschrift der japanischen Patentanmeldung (JP-A) Nr. 7-285275 offenbart. Dieses Erfindung betrifft ein Bildaufzeichnungsmaterial, das durch Zugabe eines Materials, das Licht absorbiert, um Wärme zu bilden, und einer positiven fotoempfindlichen Verbindung, wie z. B. eine Chinondiazidverbindung, zu einem Harz, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, hergestellt wird. Die positive fotoempfindliche Verbindung wirkt als Auflösungsinhibitor, der die Löslichkeit des Harzes, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, in einem Bildbereich wesentlich verringert. Im Nicht-Bildbereich wird die fotoempfindliche Verbindung durch Wärme zersetzt und zeigt keine Auflösungs-inhibierende Fähigkeiten, so dass er durch Entwicklung entfernt werden kann, um hierdurch ein Bild zu erzeugen.
Es ist bekannt, dass Oniumsalze und Verbindungen, die ein Wasserstoffbrückenbindungsnetzwerk mit schlechter Alkalilöslichkeit bilden können, eine Auflösungs-inhibierende Wirkung für ein Alkali-lösliches Polymer in einer alkalischen Lösung besitzen. Als Bildaufzeichnungsmaterialien, die mit einem Infrarotlaser verwendet werden, ist z. B. in WO 97/39894 offenbart, dass eine Zusammensetzung, bei der ein kationischer Infrarot-absorbierender Farbstoff als Auflösungsinhibitor für ein in einer alkalischen Lösung lösliches Polymer verwendet wird, einen positiven Mechanismus aufweist. Der positive Mechanismus in diesem Bildaufzeichnungsmaterial bezieht sich auf einen Mechanismus, in dem der Infrarot-absorbierende Farbstoff Laserlicht absorbiert, so dass der bestrahlte Bereich der Polymerschicht die Auflösungs-inhibierende Wirkung aufgrund der gebildeten Wärme verliert, um hierdurch ein Bild zu erzeugen.
Bezüglich des in solch einem Flachdruckplattenvorläufer verwendeten Trägers sind Untersuchungen gemacht worden, um die Oberfläche des Trägers hydrophil zu gestalten, um eine Kontaminierung des Nicht-Bildbereiches zu vermeiden. Wenn ein Metallträger, wie z. B. eine Aluminiumplatte, verwendet wird, ist über verschiedene Technologien berichtet worden, inkl. z. B. eines Verfahrens, bei dem ein anodisiertes Aluminiumsubstrat (Träger) verwendet wird, und eines Verfahrens, in dem das anodisierte Aluminiumsubstrat einer Silikatbehandlung unterzogen wird, um die Hydrophilität zu erhöhen. Jedoch sind verschiedene Behandlung zur Verbesserung der Hydrophilität nicht notwendigerweise bezüglich der Verbesserung der Affinität an eine Aufzeichnungsschicht überlegen, was zu dem Problem führt, dass die Adhäsion des Trägers an die hierauf zu bildende Aufzeichnungsschicht verringert wird und sich die Aufzeichnungsschicht unter harschen Druckbedingungen ablöst, was darin resultiert, dass eine unzureichende Druckhaltbarkeit erhalten wird.
Aus diesem Grund ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, in dem verschiedene Zwischenschichten zwischen einem Träger und einer Aufzeichnungsschicht angeordnet werden, um die Adhäsion der Oberfläche des hydrophilisierten Trägers an die Aufzeichnungsschicht zu verbessern. In solch einem Verfahren werden Materialien mit funktionellen Gruppen, die eine hohe Affinität zu Harzmaterialien, die die Aufzeichnungsschicht aufbauen, und zu der Oberfläche des Trägers aufweisen, für die Zwischenschichten verwendet, wodurch die Adhäsion im Bildbereich verbessert wird und daher eine zufriedenstellende Druckhaltbarkeit erhalten wird. Jedoch besteht hier das Problem, dass im Nicht-Bildbereich die Aufzeichnungsschicht während der Entwicklung nicht rasch entfernt wird, sondern als Restschicht auf der Oberfläche des Trägers verbleibt, und dass Tinte an die Restschicht anhaftet, was dazu führt, dass der Nicht-Bildbereich kontaminiert wird. Deshalb wird ein Träger gewünscht, der eine hohe Oberflächenhydrophilität aufweist und sowohl die Adhäsion an die Aufzeichnungsschicht im Bildbereich als auch die Entfernbarkeit der Aufzeichnungsschicht im Nicht-Bildbereich erfüllt.
Um die vorstehenden Probleme zu lösen haben die Erfinder in JP-A Nr. 10-69092 eine Flachdruckplatte vorgeschlagen, die mit einer Zwischenschicht versehen ist, die eine hochmolekulare Verbindung umfasst, die eine spezifische strukturelle Einheit enthält, wie z. B. p-Vinylbenzoesäure. Die Erfinder haben in JP-A Nr. 2000-108538 auch einen Flachdruckplattenvorläufer vorgeschlagen, der mit einer Zwischenschicht versehen ist, die ein Polymer (statistisches Polymer) enthält, das ein Monomer mit einer sauren Gruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe enthält. Diese Erfindungen besitzen bestimmte verbesserte Wirkungen. Es ist jedoch derzeit gewünscht, die Adhäsion zwischen dem Träger und der Aufzeichnungsschicht zu verbessern, um hierdurch die Druckhaltbarkeit weiter zu erhöhen und auch das Auftreten von Schaum- bzw. Schmutzbildung (scumming) im Nicht-Bildbereich effektiv zu unterdrücken.
EP-A-0 871 070 betrifft eine positiv arbeitende fotoempfindliche Lithographiedruckplatte, die ein Aluminiumsubstrat, das eine Aluminiumoxidschicht und eine mit Wasser benetzbare Schicht auf dessen Oberfläche aufweist, eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, und eine positiv arbeitende fotoempfindliche Schicht umfasst. Das Polymer in der Zwischenschicht umfasst eine Einheit (A), die mit der Aluminiumoxidschicht auf dem Aluminiumsubstrat wechselwirkt, und eine Einheit (B), die mit der mit Wasser benetzbaren Schicht auf dem Aluminiumsubstrat wechselwirkt. Die Einheit (A) kann aus einem Monomer mit einer Säuregruppe erhalten werden, während die Einheit (B) aus einem Monomer mit einer Oniumgruppe erhalten werden kann.
EP-A-0 992 850 umfasst eine Flachdruckplatte, die einen Träger, der einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen ist, eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das eine Monomereinheit mit einer Säuregruppe und eine Monomereinheit mit einer Oniumgruppe umfasst, und eine fotoempfindliche Schicht, die eine fotoempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, die gegenüber Infrarotstrahlung empfindlich ist, umfasst.
EP-A-1 276 013 betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte, umfassend die bildweise Belichtung einer vorsensiblisierten Platte mit einer Zwischenschicht, die ein Polymer umfasst, das eine säurehaltige Einheit und eine Oniumgruppe-haltige Einheit umfasst, wobei die Zwischenschicht zwischen einer fotoempfindlichen Schicht und einem Aluminiumsubstrat angeordnet ist, und die Entwicklung der bildweise belichteten Platte mit einem Entwickler, der ein anorganisches Alkalisalz und ein nicht-ionisches Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe enthält, umfasst.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Unter Berücksichtigung der vorstehend beschriebenen Umstände ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Flachdruckplattenvorläufer bereitzustellen, der die direkte Plattenherstellung durch Rasterbelichtung auf Grundlage von digitalen Signalen ermöglicht, eine hohe Druckhaltbarkeit aufweist und keine Schaum- bzw. Schmutzbildung im Nicht-Bildbereich zeigt.
Die vorliegenden Erfinder haben als Ergebnis intensiver Untersuchungen herausgefunden, dass die vorstehende Aufgabe der Erfindung gelöst werden kann, indem eine Zwischenschicht, die ein Polymer mit einer spezifischen Struktur in dessen Seitenkette enthält, zwischen einem Träger und einer Aufzeichnungsschicht angeordnet wird, und haben hierdurch die Erfindung vollendet.
Entsprechend umfasst der erfindungsgemäße Flachdruckplattenvorläufer eine Zwischenschicht, die ein Polymer (nachstehend in einigen Fällen als "spezifisches Polymer" bezeichnet) mit einer durch die folgende Formel (I) repräsentierten Struktur in dessen Seitenkette enthält, und eine gegenüber Infrarotlaser fotoempfindliche positive Aufzeichnungsschicht, die einen Infrarotabsorber enthält, welche auf einem Träger in dieser Reihenfolge angeordnet sind.
In der Formel (I) repräsentiert Y eine verbindende Gruppe, die mit eine Hauptkette des Polymers verbunden ist; R¹ repräsentiert eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist; und R² repräsentiert eine geradkettige Kohlenwasserstoffgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist.
Hierin bezeichnet der Ausdruck "auf einem Träger in dieser Reihenfolge angeordnet", dass die Zwischenschicht und die Aufzeichnungsschicht in dieser Reihenfolge auf dem Träger angeordnet sind, und dies schließt das Vorliegen von anderen Schichten (z. B. einer Schutzschicht oder einer Rückbeschichtungsschicht) nicht aus, die für spezifische Zwecke vorgesehen werden.
Der Wirkungsmechanismus der Erfindung wird wie folgt angenommen.
Es wird davon ausgegangen, dass das spezifische Polymer, das in der erfindungsgemäßen Zwischenschicht enthalten ist, stark mit der Oberfläche des Trägers Wechselwirken kann, da es die durch die Formel (I) repräsentierte Struktur aufweist, und dass die Adhäsion des Trägers an die Aufzeichnungsschicht verbessert wird, was eine verbesserte Druckhaltbarkeit ermöglicht.
Es wird auch davon ausgegangen, dass in einer gegenüber Infrarotlaser fotoempfindlichen positiven Aufzeichnungsschicht sich wegen der Wärmediffusion in den Träger während der Belichtung eine Reaktion nicht bis in die Nähe der Oberfläche des Trägers ausbreitet, was manchmal zu einer Verschlechterung der Entfernbarkeit der Aufzeichnungsschicht im Nicht-Bildbereich führt. Im Gegensatz hierzu wird davon ausgegangen, dass das Auftreten von Schaum- bzw. Schmutzbildung (scumming) im Nicht-Bildbereich effektiv unterdrückt wird, da das erfindungsgemäße spezifische Polymer eine hohe Entfernbarkeit durch eine Entwicklungslösung aufweist.
Erfindungsgemäß wird ein Flachdruckplattenvorläufer bereitgestellt, der die direkte Plattenherstellung durch Rasterbelichtung Grundlage von digitalen Signalen ermöglicht, eine hohe Druckhaltbarkeit aufweist und keine Schaum- bzw. Schmutzbildung (scumming) im Nicht-Bildbereich zeigt.
GENAUE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im Detail erklärt.
Erfindungsgemäß wird ein Flachdruckplattenvorläufer bereitgestellt, umfassend, angeordnet auf einem Träger in dieser Reihenfolge, eine Zwischenschicht, die ein Polymer mit einer durch die folgende Formel (I) repräsentierten Struktur in dessen Seitenkette enthält, und eine gegenüber Infrarotlaser fotoempfindliche positive Aufzeichnungsschicht, die einen Infrarotabsorber enthält.
In der Formel (1) repräsentiert Y eine verbindende Gruppe, die mit einer Hauptkette des Polymers verbunden ist; R¹ repräsentiert eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist; und R² repräsentiert eine geradkettige Kohlenwasserstoffgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist.
(ZWISCHENSCHICHT)
Nachstehend wird die Zwischenschicht erklärt werden, die ein Polymer (spezifisches Polymer) mit einer durch die vorstehende Formel (I) repräsentierten Struktur in dessen Seitenkette enthält.
(DURCH DIE FORMEL (I) REPRÄSENTIERTE STRUKTUR)
In der Formel (I) repräsentiert Y eine verbindende Gruppe, die mit einer Hauptkette des Polymers verbunden ist. Beispiele der durch Y repräsentierten verbindenden Gruppe umfassen subsituierte oder unsubstituierte zweibindige Kohlenwasserstoffgruppen. Die Kohlenwasserstoffgruppe kann eine oder mehrere Teilstruktur(en) aufweisen, die eine oder mehrere Heteroatome enthält (enthalten), das/die ausgewählt ist/sind aus der Gruppe, bestehend aus einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom.
In der Formel (I) repräsentiert R¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist.
Als durch R¹ repräsentierte Kohlenwasserstoffgruppe sind Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen bevorzugt. Von diesen Kohlenwasserstoffgruppen ist die Kohlenwasserstoffgruppe bevorzugt eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe.
Die am stärksten bevorzugten Ausführungsformen von R¹ sind eine Alkylgruppe und eine Arylgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert sind.
Spezifische Beispiele der durch R¹ repräsentierten Alkylgruppe umfassen geradkettige, verzweigte oder zyklische Alkylgruppen mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen, wie z. B. eine Methylgruppe, Ethylgruppe, Propylgruppe, Butylgruppe, Pentylgruppe, Hexylgruppe, Heptylgruppe, Octylgruppe, Nonylgruppe, Decylgruppe, Undecylgruppe, Dodecylgruppe, Tridecylgruppe, Hexadecylgruppe, Octadecylgruppe, Eicosylgruppe, Isopropylgruppe, Isobutylgruppe, sec-Butylgruppe, tert-Butylgruppe, Isopentylgruppe, Neopentylgruppe, 1-Methylbutylgruppe, Isohexylgruppe, 2-Ethylhexylgruppe, 2-Methylhexylgruppe, Cyclpentylgruppe, Cyclohexylgruppe, 1-Adamtylgruppe und 2-Norbornylgruppe.
Die durch R¹ repräsentierten Arylgruppen umfassen diejenigen, in denen 2 bis 4 Benzolringe einen kondensierten Ring bilden, und diejenigen, in denen ein Benzolring und ein ungesättigter fünfgliedriger Ring einen kondensierten Ring bilden.
Spezifische Beispiele der durch R¹ repräsentierten Arylgruppe umfassen Arylgruppen mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen, wie z. B. eine Phenylgruppe, Naphthylgruppe, Anthrylgruppe, Phenanthrylgruppe, Indenylgruppe, Acenabutenylgruppe, Fluorenylgruppe und Pyrenylgruppe.
In der Formel (I) repräsentiert R² eine geradkettige Kohlenwasserstoffgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist. R² kann ferner mit einem oder mehreren weiteren Substituenten substituiert sein. Beispiele des in R² einführbaren Substituenten umfassen einbindige, nicht-metallische atomare Gruppen, außer einem Wasserstoffatom. Spezifische Beispiele dieser nicht-metallischen atomaren Gruppen umfassen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl und -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N- Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylacarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidgruppe, eine N'-Alkylureidgruppe, eine N',N'-Dialylureidgruppe, eine N'-Arylureidgruppe, eine N',N'-Diarylureidgruppe, eine N'-Alkyl-N'-Arylureidgruppe, eine N-Alkylureidgruppe, eine N-Arylureidgruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureidgruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureidgruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureidgruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-arylureidgruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureidgruppe, eine N'-Aryl-N-arylureidgruppe, eine N',N'-Diaryl-N-Alkylureidgruppe und eine N',N'-Diaryl-N-arylureidgruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureidgruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureidgruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, eine N'-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Aryl-N'-alkoxycarbonylaminogruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N- arylsulfinamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppe, eine N-Acylsulfamoylgruppe und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(Alkyl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(Aryl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst und eine N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(Alkyl)) oder eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(Aryl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Alkoxysilylgruppe (-Si(Oalkyl)₃), eine Aryloxysilylgruppe (-Si(Oaryl)₃), eine Hydroxysilylgruppe (-Si(OH)₃) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Phosphongruppe (-PO₃H₂) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Dialkylphosphongruppe (-PO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphongruppe (-PO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphongruppe (-PO₃(Alkyl)(Aryl), eine Monoalkylphosphongruppe (-PO₃H(Alkyl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Monoarylphosphongruppe (-PO₃H(Aryl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)(Aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₂H(Alkyl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Aryl)) und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Arylgruppe, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe.
Von den vorstehenden Beispielen sind als in R² einführbare Substituenten eine Carboxylgruppe und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, eine Alkoxycarbonylgruppe und eine Aryloxycarbonylgruppe bevorzugt, und eine Carboxylgruppe und eine Gruppe, die ein Salz hiervon umfasst, sind besonders bevorzugt.
Bevorzugte Beispiele von R² umfassen eine Alkylengruppe und eine Phenylengruppe, welche einen Substituenten aufweisen können. Spezifische Beispiele der Kohlenwasserstoffgruppe umfassen geradkettige oder verzweigte Alkylengruppen, wie z. B. eine Methylengruppe, Ethylengruppe, Propylengruppe, Butylengruppe, Isopropylengruppe und Isobutylengruppe und Phenylengruppe. Stärker bevorzugte Ausführungsformen der Kohlenwasserstoffgruppe umfassen die vorstehenden Alkylengruppen, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert sind.
Die Carbonsäuregruppe in der Formel (I) kann ein Alklimetallsalz oder ein Ammoniumsalz bilden.
Die am stärksten bevorzugte Struktur der Formel (I) liegt vor, wenn R¹ eine Alkylgruppe ist, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist, und R² eine geradkettige Alkylengruppe ist.
Als Verfahren zum Einführen der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur in die Seitenkette des Polymers kann z. B. ein Monomer mit der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur unter Verwendung eines bekannten Verfahrens polymerisiert oder copolymerisiert werden. Andere Verfahren umfassen ein Verfahren, in dem ein Poly-p-aminostyrol mit Chloressigsäure umgesetzt wird, und ein Verfahren, in dem ein Polychlormethylstyrol mit Iminodiaectonitril umgesetzt wird, gefolgt von Hydrolyse. Das Verfahren, in dem ein Monomer mit einer durch die Formel (I) repräsentierten Struktur unter Verwendung eines bekannten Verfahrens polymerisiert oder copolymerisiert wird, ist bevorzugt, da es leichter ist, die Einführungsrate der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur zu kontrollierten.
Wenn das spezifische Polymer ein Copolymer ist, kann es irgendeines von einem statistischen Copolymer, Block-Copolymer und Pfropf-Copolymer sein.
Die Synthese des spezifischen Polymers kann durch radikalische Polymerisation erreicht werden, wobei ein Initiator verwendet wird, wie z. B. Peroxide, wie di-t-Butylperoxid und Benzoylperoxid, Persulfate, wie z. B. Ammoniumpersulfat, und Azoverbindungen, wie z. B. Azobisisobutyronitril. Der Initiator wird gemäß dem einzusetzenden Polymerisationsystem geeignet ausgewählt. Als Polymerisationssystem wird eine Polymerisation in Lösung, eine Emulsionspolymerisation oder eine Suspensionspolymerisation eingesetzt.
Beispiele des bei der Synthese zu verwendenden Polymerisationslösungsmittels umfassen Aceton, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, Diethylenglycoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, Ethylacetat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Tetrahydrofuran, Toluol und Wasser, obwohl diese nicht hierauf beschränkt sind.
Spezifische Beispiele des Monomers mit einer durch die Formel (I) repräsentierten Struktur umfassen die folgenden Verbindungen. Jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht beschränken.
Als Monomer mit einer durch die Formel (I) repräsentierten Struktur ist ein Monomer mit einer durch die folgende Formel (I-a) repräsentierten Struktur stärker bevorzugt.
Auch umfassen bevorzugte Beispiele der durch Y repräsentierten verbindenden Gruppe, die mit einer Hauptkette des Polymers verbindet, die folgenden Strukturen.
Der Gehalt der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur in dem spezifischen Polymer beträgt angesichts der ausreichenden Ausübung einer Wirkung zur Verbesserung der Druckhaltbarkeit mittels Wechselwirkung mit einem Aluminiumträger bevorzugt 5 mol% oder mehr, und stärker bevorzugt 20 mol% oder mehr.
Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht des erfindungsgemäßen spezifischen Polymers beträgt bevorzugt 500 bis 1.000.000, und stärker bevorzugt 1.000 bis 500.000.
(ANDERE MONOMERKOMPONENTEN)
Das erfindungsgemäße spezifische Polymer kann mit anderen Monomerkomponenten polymerisiert werden, um die Wechselwirkung mit dem Träger oder die Wechselwirkung mit der Aufzeichnungsschicht weiter zu verstärken. Beispiele der anderen Monomerkomponenten umfassen angesichts der Verbesserung der Adhäsion an ein hydrophil behandeltes Substrat "Monomere mit einer Oniumgruppe", angesichts der Verbesserung der Adhäsion an ein hydrophil behandeltes Substrat und angesichts der Verbesserung der Löslichkeit in einer Entwicklungslösung "Monomere mit einer Säuregruppe" und angesichts der Verbesserung der Adhäsion an die Aufzeichnungsschicht "Monomere mit einer funktionellen Gruppe, die mit der Aufzeichnungsschicht Wechselwirken kann".
<MONOMERE MIT EINER ONIUMGRUPPE>
Beispiele des Monomers mit einer Oniumgruppe können die Monomere umfassen, die durch die folgenden Formeln (A) bis (C) repräsentiert werden, obwohl diese hierauf beschränkt sind.
In den Formeln (A) bis (C) repräsentiert J eine zweibindige verbindende Gruppe. K repräsentiert eine aromatische Gruppe oder eine substituierte aromatische Gruppe. M repräsentiert ein zweibindige verbindende Gruppe. Y¹ repräsentiert ein Atom der Gruppe V im Periodensystem. Y² repräsentiert ein Atom der Gruppe VI im Periodensystem. Z^– repräsentiert ein Gegenanion. R² repräsentiert ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom; R³, R⁴, R⁵ und R⁷ repräsentieren jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine aromatische Gruppe oder eine Aralkylgruppe, die ferner Substituenten aufwiesen können. R⁶ repräsentiert eine Alkylidingruppe oder eine substituierte Alkylidingruppe. R³ und R⁴, und R⁶ und R⁷ können miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden. j, k und m repräsentieren jeweils unabhängig 0 oder 1. u repräsentiert eine ganze Zahl von 1 bis 3.
Stärker bevorzugte Beispiele von den Monomeren, die eine Oniumgruppe aufweisen und durch die Formeln (A) bis (C) repräsentiert werden, umfassen die folgenden Fälle.
J repräsentiert -COO- oder -CONH- und K repräsentiert eine Phenylengruppe oder eine substituierte Phenylengruppe. Als Substituent, der in dem Fall einzuführen ist, wenn K eine substituierte Phenylengruppe ist, sind eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe bevorzugt.
M repräsentiert eine Alkylengruppe oder eine zweibindige verbindende Gruppe, die durch die molekulare Formel C_nH_2nO, C_nH_2nS oder C_nH_2n+1N repräsentiert wird, worin n eine ganze Zahl von 1 bis 12 repräsentiert.
Y¹ repräsentiert ein Stickstoffatom oder ein Phosphoratom, und Y² repräsentiert ein Schwefelatom.
Z^– repräsentiert ein Halogenion, PF₆ ^–, BF₄ ^– oder R⁸SO₃ ^–.
R² repräsentiert ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe.
R³, R⁴, R⁵ und R⁷ repräsentieren jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine aromatische Gruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylgruppe mit 7 bis 10 Kohlenstoffatomen, wobei die Gruppen mit einem Substituenten verbunden sein können.
R⁶ ist bevorzugt eine Alkylidengruppe oder eine substituierte Alkylidengruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen. R³ und R⁴, und R⁶ und R⁷ können jeweils miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden.
j, k und m bezeichnen jeweils 0 oder 1, wobei es nicht wünschenswert ist, dass j und k gleichzeitig 0 sind.
R⁸ repräsentiert eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine aromatische Gruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylgruppe mit 7 bis 10 Kohlenstoffatomen, wobei die Gruppen mit einem Substituenten verbunden sein können.
Stärker bevorzugte Beispiele von den Monomeren, die eine Oniumgruppe aufweisen und die durch die Formeln (A) und (C) repräsentiert werden, umfassen die folgenden Fälle.
K repräsentiert eine Phenylengruppe oder eine substituierte Phenylengruppe. Wenn K eine substituierte Phenylengruppe ist, repräsentiert der Substituent ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen.
M repräsentiert eine Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen oder eine über ein Sauerstoffatom verbundene Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen.
Z^– repräsentierte in Chlorion oder R⁸SO₃ ^–. R² repräsentiert ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe. j ist 0 und k ist 1. R⁸ repräsentiert eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen.
Nachstehend werden spezifische Beispiele des Monomers mit einer Oniumgruppe, welche bevorzugt für das spezifische Polymer verwendet werden, angegeben. Jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht beschränken.
<MONOMER MIT EINER SAUREN GRUPPE>
Es wird eine Monomer mit einer sauren Gruppe erklärt werden, das bevorzugt für das spezifische Polymer verwendet wird.
Als saure Gruppe, die in dem Monomer mit einer sauren Gruppe enthalten ist, ist eine Carbonsäuregruppe, Sulfonsäuregruppe oder Phosphonsäuregruppe besonders bevorzugt, jedoch ist die saure Gruppe nicht auf diese Gruppen beschränkt.
– MONOMER MIT EINER CARBONSÄUREGRUPPE –
Es kann irgendein Monomer als Monomer mit einer Carbonsäuregruppe ohne irgendeine besondere Beschränkung verwendet werden, solange es eine polymerisierbare Verbindung ist, die eine Carbonsäuregruppe und eine polymerisierbare Doppelbindung in seiner Struktur aufweist.
Bevorzugte Beispiele des Monomers mit einer Carbonsäuregruppe umfassen die Verbindungen, die durch die folgende Formel (1) dargestellt werden:
In der Formel (1) repräsentierten R¹ bis R⁴ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine organische Gruppe, die durch die folgende Formel (2) dargestellt wird, worin zumindest eines von R¹ bis R⁴ eine organische Gruppe ist, die durch die folgenden Formel (2) repräsentiert wird.
Hier enthalten R¹ bis R⁴ angesichts der Copolymerisationsfähigkeit und der Verfügbarkeit der Ausgangsmaterialien, wenn das spezifische Polymer hergestellt wird, bevorzugt eine oder zwei organische Gruppe(n) und stärker bevorzugt eine organische Gruppe, die durch die folgende Formel (2) repräsentiert wird/werden. Außer der/denjenigen, die die organischen Gruppe(n) ist/sind, die durch die folgende Fromel (2) repräsentiert wird/werden, sind R¹ bis R⁴ angesichts der Flexibilität des als Ergebnis der Polymerisation erhaltenen spezifischen Polymers bevorzugt Alkylgruppen oder Wasserstoffatome, und besonders bevorzugt Wasserstoffatome.
Wenn R¹ bis R⁴ jeweils eine Alkylgruppe sind, sind sie aus dem gleichen Grund, wie vorstehend beschrieben, jeweils bevorzugt eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und stärker bevorzugt eine Methylgruppe. -X-COOH (2)
In der Formel (2) repräsentiert X eine Einfachbindung, eine Alkylengruppe, eine Arylengruppe, die einen Substituenten aufweisen kann, oder irgendeine der Gruppen, die durch die folgenden strukturellen Formeln (i) bis (iii) repräsentiert werden. Angesichts der Copolymerisationsfähigkeit und der Verfügbarkeit sind eine Einfachbindung, eine Arylengruppe, typischerweise eine Phenylengruppe, oder eine Gruppe, die durch die folgende strukturelle Formel (i) repräsentiert wird, bevorzugt, eine Arylengruppe oder eine Gruppe, die durch die folgende strukturelle Formel (i) repräsentiert wird, ist stärker bevorzugt, und eine Gruppe, die durch die folgende strukturelle Formel (i) repräsentiert wird, ist besonders bevorzugt.
In den Strukturen der Formeln (i) bis (iii) repräsentiert Y eine zweibindige verbindende Gruppe; Ar repräsentiert eine Arylengruppe, die einen Substituenten aufweisen kann. Als Y ist eine Alkylengruppe mit 1 bis 16 Kohlenstoffatomen oder eine Einfachbindung bevorzugt. Eine Methyleneinheit (-CH₂-) in der Alkylengruppe kann durch eine Etherbindung (-O-) eine Thioetherbindung (-S-), eine Esterbindung (-COO-) oder eine Amidbindung (-CONR-; R repräsentiert ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe) substituiert sein. Als Bindung, durch die die Methylengruppe substituiert ist, ist eine Etherbindung oder eine Esterbindung besonders bevorzugt.
Nachstehend werden besonders bevorzugte spezifische Beispiele dieser zweibindigen verbindenden Gruppen angegeben.
Nachstehend werden besonders bevorzugte Beispiele des Monomers gezeigt, das eine Carbonsäuregruppe aufweist und durch die Formel (1) repräsentiert wird. Jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht beschränken.
– MONOMERE MIT EINER SULFONSÄUREGRUPPE –
Es kann irgendeine Verbindung als Monomer mit einer Sulfonsäuregruppe ohne irgendeine besondere Beschränkung verwendet werden, solange sie eine polymerisierbare Verbindung ist, die in ihrer Struktur eine Sulfonsäuregruppe und eine polymerisierbare Doppelbindung aufweist.
Spezifische und bevorzugte Beispiele des Monomers mit einer Sulfonsäuregruppe umfassen 3-Sulfopropylacrylat, 3-Sulfopropylmethacrylat und 4-Styrolsulfonsäure.
– MONOMERE MIT EINER PHOSPHONSÄUREGRUPPE –
Es kann irgendeine Verbindung als Monomer mit einer Phosphonsäuregruppe ohne irgendeine besondere Beschränkung verwendet werden, solange sie eine polymerisierbare Verbindung ist, die in ihrer Struktur eine Phosphonsäuregruppe und eine polymerisierbare Doppelbindung aufweist.
Spezifische und bevorzugte Beispiele des Monomers mit einer Phosphonsäuregruppe umfassen saures Phosphoxyethylmethacrylat, 3-Chlor-2-säurephosphoxypropylmethacrylat und saures Phosphoxypolyoxyethylenglycolmonomethacrylat.
<ANDERE MONOMERE>
Nachstehend werden spezifische Beispiele von anderen Monomeren angegeben. Jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht beschränken

(1) Acrylamide, Methacrylamide, Acrylate, Methacrylate und Hydroxystyrole mit einer aromatischen Hydroxygruppe, wie z. B. N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid oder N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-, m- oder p- Hydroxystyrol, o- oder m-Brom-p-hydroxystyrol, o- oder m-Chlor-p-hydroxystyrol und o-, m- oder p-Hydroxyphenylacrylat oder Methacrylat.
(2) Ungesättigte Sulfonamide umfassen Acrylamide, wie z. B. N-(o-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]acrylamid und N-(2-Aminosulfonylethyl)acrylamid, Methacrylamide, wie z. B. N-(o-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]methacrylamid und N-(2-Aminosulfonylethyl)methacrylamid; Acrylate, wie z. B. o-Aminosulfonylphenylacrylat, m-Aminosulfonylphenylacrylat, p-Aminosulfonylphenylacrylat und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)acrylat; und Methacrylate, wie z. B. o-Aminosulfonylphenylmethacrylat, m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)methacrylat.
(3) Phenylsulfonylacrylamide, die einen Substituenten aufweisen können, wie z. B. Tosylacrylamid, und Phenylsulfonylmethacrylamide, die einen Substituenten aufweisen können, wie z. B. Tosylmethacrylamid.
(4) Acrylate und Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe, z. B. 2-Hydroxyethylacrylat oder 2-hydroxyethylmethacrylat.
(5) Substituierte oder nicht-substituierte Acrylate, wie z. B. Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Phenylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, 4- Hydroxybutylacrylat, Glycidylacrylat und N-Dimethylaminoethyacrylat.
(6) Substituierte oder nicht-substituierte Methacrylate, wie z. B. Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Octylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
(7) Acrylamide oder Methacrylamide, wie z. B. Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methyololmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Hexylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid, N-Nitrophenylmethacrylamid, N-Ethyl-N-phenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylmethacrylamid.
(8) Vinylether, wie z. B. Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
(9) Vinylester, wie z. B. Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat und Vinylbenzoat.
(10) Styrole, wie z. B. Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
(11) Vinylketone, wie z. B. Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
(12) Olefine, wie z. B. Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
(13) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril, Methacrylnitril und dgl.
(14) Lactongruppe(n)-haltige Monomere, wie z. B. Pantoyllacton(meth)acrylat, α-(Meth)acryloyl-γ-butyrolacton und β-(Meth)acryloyl-γ-butyrolacton.
(15) Ethylenoxidgruppe(n)-haltige Monomere, wie z. B. Polyethylenglycolmono(meth)acrylat, Polypropylenglycolmono(meth)acrylat und Methoxypolyethylenglycolmono(meth)acrylat.

Der Gehalt der vorstehend erwähnten anderen Monomere in dem spezifischen Polymer beträgt bevorzugt 95 mol% oder weniger, und stärker bevorzugt 80 mol% oder weniger.
Von den vorstehend erwähnten anderen Monomeren werden stärker bevorzugt (4) Acrylate und Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe, (5) Acrylate oder (6) Methacrylate copolymerisiert.
Nachstehend werden spezifische Beispiele (P-1 bis P-21) des erfindungsgemäßen spezifischen Polymers gezeigt. Jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht beschränken.
Der Gehalt des spezifischen Polymers in der Zwischenschicht beträgt bevorzugt 50 bis 100 Massen%, und stärker bevorzugt 80 bis 100 Massen, bezogen auf die gesamten festen Inhaltsstoffe, die die Zwischenschicht aufbauen.
(BILDUNG DER ZWISCHENSCHICHT)
Die erfindungsgemäße Zwischenschicht kann durch Auftragen einer Beschichtungslösung (Zwischenschicht-bildende Beschichtungslösung), in der jede Komponente der Zwischenschicht gelöst ist, auf den Träger, der später beschrieben werden wird, unter Verwendung von verschiedenen Verfahren angeordnet werden. Obwohl keine besondere Beschränkung bezüglich des Verfahrens zum Auftragen der Beschichtungslösung für die Zwischenschicht besteht, umfassen typische Beispiele von Beschichtungsverfahren die folgenden Verfahren.
Spezifisch umfassen Beispiele von Beschichtungsverfahren (1) ein Beschichtungsverfahren, in dem eine Lösung, hergestellt durch Auflösen des erfindungsgemäßen spezifischen Polymers in einem organischen Lösungsmittel, wie z. B. Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, einer Mischung dieser Lösungsmittel oder einem gemischten Lösungsmittel, das diese organischen Lösungsmittel und Wasser umfasst, auf den Träger aufgetragen wird, gefolgt von Trocknen, um die Schicht zu bilden, und (2) ein Beschichtungsverfahren, in dem der Träger in eine Lösung, hergestellt durch Auflösen des erfindungsgemäßen spezifischen Polymers in einem organischen Lösungsmittel, wie z. B. Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, einer Mischung dieser Lösungsmittel oder einem gemischten Lösungsmittel, das diese organischen Lösungsmittel umfasst, eingetaucht wird, gefolgt von Waschen mit Wasser oder Luft und Trocknen, um die Zwischenschicht zu bilden.
In dem vorstehenden Beschichtungsverfahren (1) kann eine Lösung, in der die Konzentration der Gesamtmenge der vorstehenden Verbindungen 0,005 bis 10 Massen% beträgt, unter Verwendung von verschiedenen Verfahren aufgetragen werden. Als Mittel zur Beschichtung kann irgendein Mittel verwendet werden, wie z. B. eine Beschichtung mit einem Stabbeschichter (bar coater), Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung oder Fliessbeschichtung. Auch beträgt im Beschichtungsverfahren (2) die Konzentration der Lösung 0,005 bis 20 Massen, und bevorzugt 0,01 bis 10 Massen, die Eintauchtemperatur beträgt 0 bis 70°C und bevorzugt 5 bis 60°C, und die Eintauchzeit beträgt 0,1 bis 5 Minuten und bevorzugt 0,5 bis 120 Sekunden.
Der pH-Wert der vorstehenden Zwischenschicht-bildenden Beschichtungslösung wird unter Verwendung von basischen Materialien, wie z. B. Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid, anorganischen Säuren, wie z. B. Salzsäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure und Salpetersäure, und verschiedenen organischen Säurematerialien, wie z. B. organischen Sulfonsäuren, z. B. Nitrobenzolsulfonsäure und Naphthalinsulfonsäure, organischen Phosphonsäuren, z. B. Phenylphosphonsäure, und organischen Carbonsäuren, z. B. Benzoesäure, Coumarinsäure und Maleinsäure, und organischen Chloriden, wie z. B. Naphthalinsulfonylchlorid und Benzolsulfonylchlorid, eingestellt. Die Beschichtungslösung kann im pH-Bereich von 0 bis 12 und bevorzugt von 0 bis 6 verwendet werden.
Auch kann ein UV-Licht, sichtbares Licht und Infrarotlicht-absorbierendes Material zu der Zwischenschicht-bildenden Beschichtungslösung zugegeben werden, um die Farbtonreproduzierbarkeit einer Flachdruckplatte zu verbessern.
Erfindungsgemäß beträgt die Beschichtungsmenge der Zwischenschicht nach dem Trocknen geeigneterweise 1 bis 100 mg/m², und bevorzugt 2 bis 70 mg/m².
(AUFZEICHNUNGSSCHICHT)
Nun wird die erfindungsgemäße, gegenüber Infrarotlaser fotoempfindliche positive Aufzeichnungsschicht (nachstehend, falls notwendig, als "Aufzeichnungsschicht" bezeichnet) beschrieben. Die Aufzeichnungsschicht wird vorzugsweise aufgebaut, indem (A) ein Alkali-lösliches Harz, (B) ein Infrarotabsorber und, falls erforderlich, (C) andere Komponenten vermischt werden. Nacheinander wird nun jede Komponente, die in der Aufzeichnungsschicht enthalten ist, erklärt werden.
((A) ALKALI-LÖSLICHES HARZ)
Die erfindungsgemäße Aufzeichnungsschicht enthält bevorzugt ein Alkali-lösliches Harz. Das Alkali-lösliche Harz umfasst Homopolymere, die eine saure Gruppe in einer Hauptkette und/oder Seitenkette in dem Polymer aufweisen, Copolymere dieser Polymere oder Mischungen von diesen Polymeren und Copolymeren.
Unter Berücksichtigung der Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung und der Entwicklung von Auflösungs-inhibierender Fähigkeit sind von diesen Polymeren und Copolymeren diejenigen bevorzugt, die die sauren Gruppen, die durch die folgenden (1) bis (6) repräsentiert werden, in ihrer Hauptkette und/oder Seitenkette aufweisen.

(1) Phenolische Hydroxylgruppen (-Ar-OH)
(2) Sulfonamidgruppen (-SO₂NH-R)
(3) Substituierte saure Sulfonamidgruppen (nachstehend als "aktive Imidgruppe" bezeichnet) (-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R und -CONHSO₂R)
(4) Carbonsäuregruppen (-CO₂H)
(5) Sulfonsäuregruppen (-SO₃H)
(6) Phosphorsäuregruppen (-OPO₃H₂)

Bei den obigen (1) bis (6) repräsentiert Ar eine zweibindige Aryl-Verknüpfungsgruppe, die einen Substituenten aufweisen kann, und R repräsentiert ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Substituenten aufweisen kann.
Von den Alkali-löslichen Harzen, die eine aus den obigen (1) bis (6) ausgewählte saure Gruppe aufweisen, sind unter Berücksichtigung der ausreichenden Sicherstellung der Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung, der Entwicklungsfreiheit und der Schichtfestigkeit Alkali-lösliche Harze bevorzugt, die (1) eine phenolische Hydroxylgruppe, (2) eine Sulfonamidgruppe oder (3) eine aktive Imidgruppe aufweisen, und insbesondere bevorzugt sind Alkali-lösliche Harze, die (1) eine phenolische Hydroxylgruppe oder (2) eine Sulfonamidgruppe aufweisen.
Als Alkali-lösliches Harz mit einer sauren Gruppe, die aus den vorstehenden (1) bis (6) ausgewählt ist, können die folgenden Harze beispielhaft genannt werden.

(1) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe können Novolakharze, wie z. B. ein Kondensationspolymer aus Phenol und Formaldehyd, ein Kondensationspolymer aus m-Cresol und Formaldehyd, ein Kondensationspolymer von p-Cresol und Formaldehyd, ein Kondensationspolymer von m-/p-gemischtem Cresol und Formaldehyd und ein Kondensationspolymer aus Phenol, Cresol (m-, p- oder m-/p-Mischung) und Formaldehyd und ein Kondensationspolymer aus Pyrogallol und Aceton umfassen. Auch können als Beispiele Copolymere genannt werden, die durch Copolymerisieren einer Verbindung mit einer phenolischen Hydroxylgruppe an ihrer Seitenkette erhalten werden. Ferner kann auch ein Copolymer verwendet werden, das durch Copolymerisieren einer Verbindung erhalten wird, die eine phenolische Hydroxylgruppe in ihrer Seitenkette aufweist. Beispiele der Verbindung mit einer phenolischen Hydroxygruppe können ein Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder Hydroxystyrol umfassen.
(2) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer Sulfonamidgruppe umfassen Polymere, die sich aus einer Minimum-Struktureinheit als grundlegender Strukturkomponente aufbauen, die aus einer Verbindung mit einer Sulfonamidgruppe erhalten wird. Beispiele der vorstehend erwähnten Verbindung umfassen Verbindungen mit einer oder mehreren Sulfonamidgruppe(n), in der/denen zumindest ein Wasserstoffatom mit einem Stickstoffatom gebunden ist, und mit einer oder mehr polymerisierbaren ungesättigten Gruppen in einem Molekül. Von diesen Verbindungen sind Verbindungen mit niedrigem Molekulargewicht, die eine Acryloylgruppe, Allylgruppe oder Vinyloxygruppe und eine mono-substituierte Aminosulfonylgruppe oder substituierte Sulfonyliminogruppe in einem Molekül aufweisen, bevorzugt. Beispiele dieser Verbindungen umfassen die Verbindungen, die durch die folgenden Formeln (i) bis (v) repräsentiert werden.

In den Formeln (i) bis (v) repräsentieren X¹ und X² jeweils unabhängig voneinander -O- oder -NR⁷-. R¹ und R⁴ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder -CH₃. R², R⁵, R⁹, R¹² und R¹⁶ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, die einen Substituenten aufweisen können. R³, R⁷ und R¹³ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, die einen Substituenten aufweisen können. R⁶ und R¹⁷ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, die einen Substituenten aufweisen können. R⁸, R¹⁰ und R¹⁴ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder -CH₃. R¹¹ und R¹⁵ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, die einen Substituenten aufweisen können. Y¹ und Y² repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Einfachbindung oder CO.
Von den durch die Formeln (i) bis (v) repräsentierten Verbindungen werden beim erfindungsgemäßen Flachdruckplattenvorläufer insbesondere m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p- Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid oder dgl. bevorzugt verwendet.

(3) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer aktiven Imidgruppe umfassen Polymere, die durch eine Minimum-Struktureinheit als grundlegender Strukturkomponente aufgebaut werden, die aus einer Verbindung mit einer aktiven Imidgruppe erhalten wird. Beispiele solch einer Verbindung umfassen Verbindungen mit einer oder mehreren aktiven Imidgruppe(n), die durch die folgende strukturelle Formel dargestellt wird, und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppe(n) in einem Molekül.
Spezifisch wird bevorzugt N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid, N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid oder dgl. verwendet.
(4) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer Carbonsäuregruppe umfassen Polymere, die aus einer Minimum-Struktureinheit als grundlegender Strukturkomponente aufgebaut werden, die aus einer Verbindung mit einer oder mehreren Carbonsäuregruppe(n) oder einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppe(n) in einem Molekül erhalten wird.
(5) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer Sulfonsäuregruppe umfassen Polymere, die aus einer Minimum-Struktureinheit als grundlegender Strukturkomponente aufgebaut werden, die aus einer Verbindung mit einer oder mehreren Sulfonsäuregruppe(n) und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppe(n) in einem Molekül erhalten wird.
(6) Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer Sulfonsäuregruppe umfassen Polymere, die aus einer Minimum-Struktureinheit als grundlegender Strukturkomponente aufgebaut werden, die aus einer Verbindung mit einer oder mehreren Phosphorsäuregruppe(n) und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppe(n) in einem Molekül erhalten wird.

Die Minimum-Struktureinheit, die das für die Aufzeichnungsschicht verwendete Alkali-lösliche Harz aufbaut und die eine aus den vorstehenden (1) bis (6) ausgewählte saure Gruppe aufweist, ist nicht auf nur einen Typ beschränkt, sondern es kann auch ein Copolymer verwendet werden, das durch Polymerisieren von zwei oder mehr Minimum-Struktureinheiten mit der gleichen sauren Gruppe oder zwei oder mehr Minimum-Struktureinheiten mit unterschiedlichen sauren Gruppen erhalten wird.
Als vorstehendes Copolymer sind diejenigen bevorzugt, die die Verbindung, die polymerisiert werden soll und die eine aus dem vorstehenden (1) bis (6) ausgewählte saure Gruppe aufweist, in einer Menge von 10 mol% oder mehr enthalten, und stärker bevorzugt sind diejenigen, die die Verbindung in einer Menge von 20 mol% oder mehr enthalten. Wenn die Menge der Verbindung weniger als 10 mol% beträgt, besteht die Tendenz, dass die Entwicklungsfreiheit nur unzureichend verbessert werden kann.
Wenn die Verbindung copolymerisiert und ein Copolymer als Alkali-lösliches Harz verwendet wird, können erfindungsgemäß andere Verbindungen außer den vorstehenden sauren Gruppen (1) bis (6) als zu copolymerisierende Verbindung verwendet werden. Beispiele der anderen Verbindungen außer den sauren Gruppen (1) bis (6) umfassen Verbindungen, die unter den folgenden (m1) bis (m12) angegeben sind, obwohl sie nicht herauf beschränkt sind.

(m1) Acylate und Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe, wie z. B. 2-Hydroxyethylacrylat oder 2-Hydroxyethylmethacrylat.
(m2) Alkylacrylate, wie z. B. Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat und Glycidylacrylat.
(m3) Alkylmethacrylate, wie z. B. Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat und Glycidylmethacrylat.
(m4) Acrylamide oder Methacrylamide, wie z. B. Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
(m5) Vinylether, wie z. B. Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
(m6) Vinylester, wie z. B. Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat und Vinylbenzoat.
(m7) Styrole, wie z. B. Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
(m8) Vinylketone, wie z. B. Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phneylvinylketon.
(m9) Olefine, wie z. B. Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
(m10) N-Vinylpyrrolidon, Acrylnitil und Methacrylnitril und dgl.
(m11) Ungesättigte Imide, wie z. B. Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
(m12) Ungesättigte Carbonsäuren, wie z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itakonsäure.

Angesichts der herausragenden Bilderzeugungsfähigkeit bei der Belichtung mit z. B. Infrarotlaserlicht weit das Alkali-lösliche Harz bevorzugt eine phenolische Hydroxylgruppe auf. Bevorzugte Beispiele des Alkali-löslichen Harzes umfassen Novolakharze, wie z. B. Phenol-Formaldehydharze, m-Cresol-Formaldehydharze, p-Cresol-Formaldehydharze, m-/p-gemischte Cresol-Formaldehydharze und Phenol/Cresol (m-, p- oder m-/p-gemischter Typ)-Mischung-Formaldehydharze und Pyrogallol-Acetonharze.
Auch umfassen weitere Beispiele des Alkali-löslichen Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe Kondensationspolymere aus einem Phenol mit einer Alkylgruppe von 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituenten und einem Formaldehyd, wie z. B. t-Butylphenol-Formaldehydharze und Octylphenol-Formaldehydharze, wie sie in US-Patent 4,123,279 beschrieben sind.
Das Alkali-lösliche Harz besitzt angesichts der Bilderzeugungsfähigkeit bevorzugt ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht von 500 oder mehr, und stärker bevorzugt 1.000 bis 700.000. Das zahlengemittelte Molekulargewicht des Harzes beträgt bevorzugt 500 oder mehr und stärker bevorzugt 750 bis 650.000. Der Dispersionsgrad (gewichtsgemitteltes Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) beträgt bevorzugt 1,1 bis 10.
Diese Alkali-löslichen Harze können entweder allein oder in Kombinationen von zwei oder mehr verwendet werden.
Wenn zwei oder mehr Alkali-lösliche Harze kombiniert werden, können ein Kondensationspolymer aus einem Phenol mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituenten und Formaldehyd, wie z. B. ein Kondensationspolymer von t-Butylphenol und Formaldehyd und ein Kondensationspolymer von Octylphenol und Formaldehyd, wie in US-Patent 4,123,279 beschrieben, und ein Alkali-lösliches Harz mit einer Phenolstruktur, die eine Elektronen-ziehende Gruppe an einem aromatischen Ring aufweist, wie in JP-A Nr. 2000-241972 beschrieben, das von den jetzigen Erfindern bereits vorgeschlagen wurde, kombiniert werden.
Als Alkali-lösliches Harz sind hochmolekulare Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxylgruppe bevorzugt, und Novalkharze sind stärker bevorzugt, weil die Bilderzeugungsfähigkeit verbessert ist, was dadurch begründet ist, dass in einem unbelichteten Teil eine starke Wasserstoffbrückenbindungsfähigkeit herbeigeführt wird, wohingegen in einem belichteten Bereich ein Teil der Wasserstoffbrückenbindungen leicht gebrochen werden, und es besteht ein großer Unterschied in der Entwicklungsfähigkeit zwischen dem unbelichteten Teil und dem belichteten Teil, verglichen mit einer Nicht-Silikat-Entwicklungslösung.
Unter Berücksichtigung der Haltbarkeit, der Empfindlichkeit und der Bilderzeugungsfähigkeit beträgt der Gesamtgehalt des Alkali-löslichen Harzes, das in der Aufzeichnungsschicht enthalten ist, bevorzugt 30 bis 98 Massen, und stärker bevorzugt 40 bis 95 Massen.
((B) INFRAROTABSORBER)
Die erfindungsgemäße Aufzeichnungsschicht enthält einen Infrarotabsorber. Es kann irgendein Material als Infrarotabsorber ohne eine besondere Beschränkung bezüglich des Absorptionswellenlängenbereiches verwendet werden, solange es optische Strahlungsenergie absorbiert, um Wärme zu generieren. Unter Berücksichtigung der Einsetzbarkeit mit einem leicht erhältlichen Hochleistungslaser umfassen bevorzugte Beispiele des Infrarotabsorbers infrarotabsorbierende Farbstoffe oder Pigmente mit einem Absorptionsmaximum im Wellenlängenbereich von 760 nm bis 1.200 nm.
Als infrarotabsorbierender Farbstoff können käuflich erhältliche Farbstoffe und bekannte Farbstoffe, die in der Literatur beschrieben sind, z. B. in "Senryo Binran (DYE HANDBOOK)" (herausgegeben von Organic Synthetic Chemistry Association, veröffentlicht 1970), eingesetzt werden. Spezifische Beispiele des infrarotabsorbierenden Farbstoffes umfassen Azofarbstoffe, Metallkomplex-Azofarbstoffe, Pyrazolon-Azofarbstoffe, Naphthochinon-Farbstoffe, Antrachinon-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe, Methin-Farbstoffe, Cyanin-Farbstoffe, Squarilium-Farbstoffe, Pyryliumsalze, Metallthiolatkomplexe, Oxonol-Farbstoffe, Diimmonium-Farbstoffe, Aminium-Farbstoffe und Croconium-Farbstoffe.
Bevorzugte Beispiele des Farbstoffes umfassen Cyanin-Farbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-125246 , 59-84356 , 59-202829 und 60-78787 beschrieben sind, Methin-Farbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-173696 , 58-181690 und 58-194595 beschrieben sind, Naphthochinon-Farbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-112793 , 58-224793 , 59-48187 , 59-73996 , 60-52940 und 60-63744 beschrieben sind, Squarilium-Farbstoffe, die in JP-A Nr. 58-112792 beschrieben sind, und Cyanin-Farbstoffe, die in GB-Patent Nr. 434,875 beschrieben sind.
Es werden auch bevorzugt nah-infrarotabsorbierende Sensibilisierer verwendet, die in US-Patent Nr. 5,156,938 beschrieben sind. Auch werden bevorzugt ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, beschrieben in US-Patent Nr. 3,881,924 , ein Trimethinthiapyryliumsalz, beschrieben in JP-A Nr. 57-142645 ( US-Patent Nr. 4,327,169 ), Verbindungen vom Pyryliumtyp, beschrieben in JP-A Nrn. 58-181051 , 58-220143 , 59-41363 , 59-84248 , 59-84249 , 59-146063 und 69-146061 , Cyanin-Farbstoffe, beschrieben in JP-A Nr. 69-216146 , Pentamethinthiopyryliumsalze und dgl., beschrieben in US-Patent Nr. 4,283,475 und Pyryliumverbindungen, offenbart in JP-B Nrn. 5-13514 und 5-19702 , verwendet.
Andere bevorzugte Beispiele des infrarotabsorbierenden Farbstoffs umfassen nah-infrarotabsorbierende Farbstoffe, die durch die Formeln (I) und (II) in US-Patent Nr. 4,756,993 beschrieben sind.
Von diesen Farbstoffen umfassen besonders bevorzugte Beispiele des infrarotabsorbierenden Farbstoffes Cyanin-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Oxonol-Farbstoffe, Squarilium-Farbstoffe, Pyrylium-Farbstoffe, Thiopyrylium-Farbstoffe und Nickelthiolatkomplexe. Darüber hinaus sind die durch die folgenden Formeln (a) bis (e) repräsentierten Farbstoffe wünschenswert, weil diese Farbstoffe bezüglich der Licht-in-Wärme-Umwandlungseffizienz überlegen sind, und die Cyanin-Farbstoffe, die durch die folgende Formel (a) repräsentiert werden, sind am stärksten bevorzugt, weil diese Farbstoffe eine starke Wechselwirkung mit dem Alkali-löslichen Harz sicherstellen, wenn sie in der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsschicht verwendet werden, und sie sind auch bezüglich der Stabilität und Ökonomie überlegen.
In der Formel (a) repräsentiert X¹ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -NPh₂, X²-L¹ oder eine nachstehend gezeigte Gruppe, worin X² ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom repräsentiert und L¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, einen aromatischen Ring mit einem Heteroatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die ein Heteroatom enthält, repräsentiert. Hier repräsentiert das Heteroatom N, S, O, ein Halogenatom oder Se. Xa^– ist wie Za^– definiert, das später beschrieben werden wird, und R³ repräsentiert einen Substituenten, der aus einem Wasserstoffatom, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe und einem Halogenatom ausgewählt ist.
R¹ und R² repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen. Angesichts der Lagerungsstabilität der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht ist es bevorzugt, dass R¹ und R² jeweils unabhängig voneinander eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 oder mehr Kohlenstoffatomen repräsentieren. Ferner ist es besonders bevorzugt, dass R¹ und R² miteinander binden, um einen 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Ring zu bilden.
Ar¹ und Ar^t, die gleich oder verschieden sein können, repräsentieren jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Substituenten aufweisen kann. Bevorzugte Beispiele der aromatischen Kohlenwasserstoffgruppe umfassen einen Benzolring und einen Naphthalinring. Bevorzugte Beispiele des Substituenten umfassen Kohlenwasserstoffgruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, Halogenatome und Alkoxygruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Y¹ und Y², die gleich oder verschieden sein können, repräsentieren jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. R³ und R⁴, die gleich oder verschieden sein können, repräsentieren jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Substituenten aufweisen kann und 20 oder weniger Kohlenstoffatome aufweist. Bevorzugte Beispiele der Substituenten umfassen Alkoxygruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, Carboxylgruppen und Sulfogruppen. R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Angesichts der Verfügbarkeit der Ausgangsmaterialien ist ein Wasserstoffatom bevorzugt.
Za^– repräsentiert ein Gegenanion. Za^– ist nicht notwendig, wenn der durch die Formel (a) repräsentierte Cyanin-Farbstoff einen anionischen Substituenten in seiner Struktur aufweist, so dass keine Ladungsneutralisation erforderlich ist. Angesichts der Lagerungsstabilität der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht sind bevorzugte Beispiele von Za^– ein Halogenion, ein Perchlorsäureion, ein Tetrafluorboration, ein Hexafluorphosphation, ein Carbonsäureion und ein Sulfonsäureion. Angesichts der wechselseitigen Löslichkeit mit einem Alkali-löslichen Harz und der Löslichkeit in der Beschichtungslösung sind ein Halogenion oder ein organisches Säureion, wie z. B. ein Carbonsäureion oder ein Sulfonsäureion, bevorzugt, und ein Sulfonsäureion ist stärker bevorzugt, und ein Arylsulfonsäureion ist besonders bevorzugt.
Spezifische Beispiele des Cyanin-Farbstoffes, der erfindungsgemäß bevorzugt verwendet wird, umfassen neben den nachstehend beispielhaft angegebenen diejenigen, die in Paragraphen Nr. [0017] bis [0019] von JP-A Nr. 2001-133969 , Paragraphen Nr. [0012] bis [0038] von JP-A-Nr. 2002-40638 und Paragraphen Nr. [0012] bis [0023] von JP-A-Nr. 2002-23360 beschrieben sind.
In der Formel (b) repräsentiert L eine Methinkette mit 7 oder mehr konjugierten Kohlenstoffatomen, worin die Methinkette Substituenten aufweisen kann, wobei diese Substituenten miteinander verbunden sein können, um eine zyklische Struktur zu bilden. Zb⁺ repräsentiert ein Gegenkation. Bevorzugte Beispiele des Gegenkations umfassen Ammonium-, Jodonium-, Sulfonium-, Phosphonium-, Pyridinium- und Alkalimetall-Kationen (Na⁺, K⁺ und Li⁺). R⁹ bis R¹⁴ und R¹⁵ bis R²⁰ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, einen Substituenten, der ausgewählt ist aus einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Carbonylgruppe, einer Thiogruppe, einer Sulfonylgruppe, einer Sulfinylgruppe, einer Oxygruppe und einer Aminogruppe, oder einen Substituenten, der aus einer Kombination von zwei oder mehr dieser Gruppen besteht, und sie können miteinander verbunden sein, um eine zyklische Struktur zu bilden. Angesichts der Verfügbarkeit und der Wirkungen sind hier diejenigen durch die Formel (b) Repräsentierten bevorzugt, worin L eine Methinkette mit 7 konjugierten Kohlenstoffatomen repräsentiert und alle von R⁹ bis R¹⁴ und R¹⁵ bis R²⁰ Wasserstoffatome repräsentieren.
Spezifische Beispiele des durch die Formel (b) repräsentierten Farbstoffs, der erfindungsgemäß bevorzugt verwendet wird, umfassen die nachstehend beispielhaft Angegebenen.
In der Formel (c) repräsentieren Y³ und Y⁴ jeweils unabhängig voneinander ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, ein Selenatom oder ein Telluratom. M repräsentiert eine Methinkette mit 5 oder mehr konjugierten Kohlenstoffatomen. R²¹ bis R²⁴ und R²⁵ bis R²⁸, die gleich oder verschieden sein können, repräsentieren jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Carbonylgruppe, eine Thiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Oxygruppe oder eine Aminogruppe. Za^– repräsentiert ein Gegenanion und besitzt die gleiche Bedeutung wie in Formel (a).
Spezifische Beispiele des Farbstoffs, der erfindungsgemäß bevorzugt verwendet werden kann und der durch die Formel (c) repräsentiert wird, umfassen die nachstehend beispielhaft Angegebenen.
In der Formel (d) repräsentieren R²⁹ bis R³¹ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe. R³³ und R³⁴ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe, eine substituierte Oxygruppe oder ein Halogenatom. n und m bezeichnen jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 4. R²⁹ und R³⁰, oder R³¹ und R³² können miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden, und auch können R²⁹ und/oder R³⁰ und R³³, oder R³¹ und/oder R³² und R³⁴ miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden. Wenn mehrere R³³ oder R³⁴ vorliegen, können darüber hinaus die R³³ oder R³⁴ untereinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden X² und X³ repräsentieren jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe. Zumindest eines von X² und X³ repräsentiert ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe. Q repräsentiert eine Trimethingruppe oder eine Pentamethingruppe, die einen Substituenten aufweisen können, und sie können eine zyklische Struktur in Verbindung mit einer zweibindigen organischen Gruppe bilden. Zc^– repräsentiert ein Gegenanion und besitzt die gleiche Bedeutung wie Za^– in Formel (a).
Spezifische Beispiele des Farbstoffes, der erfindungsgemäß bevorzugt verwendet wird und der durch die Formel (d) repräsentiert wird, umfassen die nachstehend beispielhaft Angegebenen.
In der Formel (e) repräsentieren R³⁵ und R⁵⁰ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Carbonylgruppe, eine Thiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Oxygruppe, eine Aminogruppe oder eine Oniumsalzstruktur, wobei diese Gruppen oder die Struktur einen Substituenten aufweisen können, wenn ein Substituent eingeführt werden kann. M repräsentiert zwei Wasserstoffatome, ein Metallatom, eine Halometallgruppe oder eine Oxymetallgruppe. Als Beispiele des hier enthaltenen Metallatoms werden die Atome der Gruppen IA, IIA, IIIB oder IVB und die Übergangsmetalle der ersten, zweiten oder dritten Periode im Periodensystem als auch Lanthanoidelemente angegeben. Von diesen Materialien sind Kupfer, Magnesium, Eisen, Zink, Kobalt, Aluminium, Titan und Vanadium bevorzugt.
Spezifische Beispiele des Farbstoffes, der erfindungsgemäß bevorzugt verwendet werden kann und der durch Formel (e) repräsentiert wird, umfassen die nachstehend beispielhaft Angegebenen.
Beispiele des Pigments, das als erfindungsgemäßer Infrarotabsorber verwendet wird, umfassen käuflich erhältliche Pigmente und Pigmente, die in Color Index (C. I.) Handbuch, "Saishin Ganryo Binran (Latest Pigment Handbook)" (herausgegeben von Japan Pigment Technology Society, veröffentlicht 1977), Saishin Gannryo Oyo Gjyutu (Latest Pigment Applied Technology)" (CMC Publishing Co., Ltd., veröffentlicht 1986) und "Insatsu Ink Gijyutsu (Printing Ink Technology)" (CMC Publishing Co., Ltd., veröffentlicht 1984) beschrieben sind.
Beispiele von Typen des Pigments umfassen schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orange Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente und andere, inklusive Polymer-gebundener Farbstoffe. Spezifisch können als Pigment-unlösliche Azopigmente, Azobeizenpigmente kondensierte Azopigmente, Chelat-Azopigmente, Pigmente vom Phthalocyanintyp, Pigmente vom Anthrachinontyp, Pigmente vom Perylen- oder Perinontyp, Pigmente vom Thioindigotyp, Pigmente vom Chinacridontyp, Pigmente vom Dioxazintyp, Pigmente vom Isoindolinontyp, Pigmente vom Chinophthalontyp, färbende Beizenpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß verwendet werden. Von diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
Diese Pigmente können verwendet werden, ohne dass sie oberflächenbehandelt wurden, oder nachdem sie oberflächenbehandelt wurden. Als Oberflächenbehandlungsverfahren werden ein Verfahren, in dem die Oberfläche mit einem Harz oder Wachs beschichtet wird, ein Verfahren, in dem ein Tensid angehaftet wird, und ein Verfahren, in dem eine reaktive Substanz (z. B. ein Silankupplungsmittel, eine Epoxyverbindung und Polyisocyanat) an die Oberfläche des Pigments gebunden wird, berücksichtigt. Die vorstehend erwähnten Oberflächenbehandlungsverfahren sind in "Kinzoku Sekken no Seishitsu to Oyo (Quality and Application of Metal Soaps)" (Saiwai Shobo), "Insatsu Ink Gijyutsu (Printing Ink Technology)" (CMC Publishing Co., Ltd., veröffentlicht 1984) und "Saishin Ganryo Oyo Gijyutsu (Latest Pigment Apply Technology)" (CMC Publishing Co., Ltd., veröffentlicht 1986) beschrieben.
Der Partikeldurchmesser des Pigments beträgt unter Berücksichtigung der Stabilität und der Gleichförmigkeit einer Aufzeichnungsschicht, wenn die Pigmentdispersion in einer Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht für einen Flachdruckplattenvorläufer verwendet wird, bevorzugt 0,01 μm bis 10 μm, stärker bevorzugt 0,05 μm bis 1 μm, und besonders bevorzugt 0,1 μm bis 1 μm. Wenn der Partikeldurchmesser weniger als 0,01 μm beträgt, ist dies unter Berücksichtung der Stabilität, wenn die Pigmentdispersion in einer Beschichtungslösung für eine Aufzeichnungsschicht für einen Flachdruckplattenvorläufer verwendet wird, nicht wünschenswert, wohingegen, wenn der Partikeldurchmesser 10 μm überschreitet, dies angesichts der Gleichförmigkeit der Bildaufzeichnungsschicht nicht wünschenswert ist.
Als Verfahren zum Dispergieren des Pigments können bekannte Dispergiertechnologien verwendet werden, die für die Herstellung von Tinte und Tonern verwendet werden. Beispiele einer Dispergiermaschine umfassen eine Ultraschall-Dispergiermaschine, eine Sandmühle, einen Attritor, eine Perlenmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, einen Disperser, eine Kd-Mühle, eine Kolloidmühle, einen Dynatron, eine Dreiwalzenmühle und einen Druckkneter. Die Details dieser Maschinen sind in "Saishin Ganryo Oyo Gijyutsu (Latest Pigment Apply Technology)" (CMC Publishing Co., Ltd., veröffentlicht 1986) beschrieben.
Angesichts der Empfindlichkeit, der Gleichförmigkeit der Aufzeichnungsschicht und der Druckhaltbarkeit können diese Pigmente und Farbstoffe in einer Menge von 0,01 bis 50 Massen% und bevorzugt 0,1 bis 10 Massen, zugegeben werden, bezogen auf die gesamten festen Inhaltsstoffe, die die Aufzeichnungsschicht aufbauen. Im Fall eines Farbstoffs kann dieser besonders bevorzugt in einer Menge von 0,5 bis 10 Massen% zugegeben werden, und im Falle eines Pigments kann dies besonders bevorzugt in einer Menge von 0,1 bis 10 Massen% zugegeben werden.
((C) ANDERE KOMPONENTEN)
Falls notwendig können ferner verschiedene Additive zu der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsschicht zugegeben werden.
Es ist bevorzugt, eine Substanz (zersetzbarer Auflösungsinhibitor), wie z. B. insbesondere ein Oniumsalz, eine o-Chinondiazidverbindung oder ein Alkylsulfonat, die wärmezersetzbar ist und die Löslichkeit des Alkali-löslichen Harzes in einem nicht-zersetzten Zustand wesentlich verringert, zu kombinieren, um die Auflösungs-inhibierende Fähigkeit eines Bildbereiches in einer Entwicklerlösung zu verbessern. Als zersetzbarer Auflösungsinhibitor sind Oniumsalze, wie z. B. ein Diazoniumsalz, Jodoniumsalz und Sulfoniumsalz und Ammoniumsalz, und o-Chinondiazidverbindungen bevorzugt, Oniumsalze, wie z. B. ein Diazoniumsalz, ein Jodoniumsalz und ein Sulfoniumsalz, sind stärker bevorzugt, und es ist besonders bevorzugt, ein Diazoniumsalz als wärmezersetzbaren Auflösungsinhibitor zuzugeben.
Bevorzugte Beispiele des erfindungsgemäß verwendeten Oniumsalzes umfassen Diazoniumsalze, beschrieben in S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), T. S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980) und JP-A Nr. 5-158230 , Ammoniumsalze, beschrieben in US-Patent Nrn. 4,069,055 und 4,069,056 und JP-A Nr. 3-140140 , Phosphoniumsalze, beschrieben in D. C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokyo, Oktober (1988) und US-Patent Nrn. 4,069,055 und 4,069,056 , Jodoniumsalze, beschrieben in J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, 28. Nov., S. 31 (1988), EP Nr. 104,143 und US-patent Nrn. 5,041,358 und 4,491,628 und JP-A nrn. 2-150848 und 2-296514 , Sulfoniumsalze, beschrieben in J. V. Crivello et al., Polymer J. 17, 73 (1985), J. V. Crivello at al., J. org. Chem., 43, 3055 (19878), W. R. Watt et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), J. V. Crivello et al., Polymer Bull., 14, 279 (1985), J. V. Crivello et al., Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), EP Nrn. 370,693 , 233,567 , 297,443 und 297,442 , US-Patent Nrn. 4,933,377 , 3,902,114 , 5,041,358 , 4,491,628 , 4,760,013 , 4,734,444 und 2,833,827 und DE Nrn. 2,904,626 , 3,604,580 und 3,604,581 , Selenoniumsalze, beschrieben in J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10(60), 1307 (1977), J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., und Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) und Arsoniumsalze, beschrieben in C. S. Wen et al., The, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokyo, Okt. (1988).
Angesichts der Auflösungs-inhibierenden Fähigkeit und der Wärmezersetzbarkeit sind von diesen Oniumsalzen Diazoniumsalze besonders bevorzugt. Die Diazoniumsalze, die durch die Formel (I), beschrieben in JP-A Nr. 5-158230 , dargestellt werden, und Diazoniumsalze, die durch die Formel (1), beschieben in JP-A Nr. 11-143064 , dargestellt werden, sind besonders bevorzugt, und Diazoniumsalze, die eine kleine Absorptionswellenlänge im Bereich sichtbaren Lichts aufweisen und die durch die Formel (1), beschrieben in JP-A Nr. 11-143064 , dargestellt werden, sind am stärksten bevorzugt.
Beispiele des Gegenanions des Oniumsalzes umfassen Tetrafluorborsäure, Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 5-Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2- Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure. Von diesen Säuren sind Alkyl-aromatische Sulfonsäuren, wie z. B. Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, besonders bevorzugt.
Bevorzugte Beispiele der Chinondiazide umfassen o-Chinondiazidverbindungen. Die erfindungsgemäß verwendete o-Chinondiazidverbindung ist eine Verbindung mit zumindest einer o-Chinondiazidgruppe, und sie weist durch Wärmezersetzung eine erhöhte Alkalilöslichkeit auf. Als o-Chinondiazidverbindung können Verbindungen mit verschiedenen Strukturen verwendet werden. Das o-Chinondiazid unterstützt die Löslichkeit einer fotoempfindlichen Schicht durch beide Wirkungen, das sowohl das o-Chinanondiazid die Fähigkeit verliert, die Auflösung eines Bindemittels zu inhibieren, wenn es wärmezersetzt wird, und dass das o-Chinondiazid selbst sich zu einem Alkali-löslichen Material verändert. Als erfindungsgemäß zu verwendende o-Chinondiazidverbindung können z. B. die Verbindungen verwendet werden, die in J. Corser "Light-sensitive Systems" (John Wiley & Sons. Inc.) S. 339–352 beschrieben sind. Insbesondere sind Sulfonate oder Sulfonsäureamide von o-Chinondiazid, die erhalten werden durch Umsetzen von o-Chinondiazid mit aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminoverbindungen, bevorzugt. Es werden auch bevorzugt ein Ester aus Benzochinon(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon(1,2)-diazid-5-sulfonsäurechlorid und einem Pyrogallol-Acetonharz und ein Ester aus Benzochinon(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonsäurechlorid und einem Phenol-Formaldehydharz verwendet, die in US-Patent Nrn. 3,046,120 und 3,188,210 beschrieben sind.
Ferner werden auch bevorzugt ein Ester aus Naphtochinon(1,2)-diazid-4-sulfonsäurechlorid und einem Phenol-Formaldehydharz oder einem Cresol-Formaldehydharz und ein Ester aus Naphthochinon-(1,2)-diazid-4-sulfonsäurechlorid und einem Pyrogallol-Acetonharz verwendet. Über andere, bekannte und nützliche o-Chinondiazidverbindungen wird in einer Anzahl von Patenten berichtet. Beispiele dieser o-Chinondiazidverbindungen umfassen diejenigen, die in JP-A Nrn. 47-5303 , 48-63802 , 48-63803 , 48-96575 , 49-38701 und 48-13354 , JP-B Nrn. 41-11222 , 45-9610 und 49-17481 und US-Patent Nrn. 2,797,213 , 3,454,400 , 3,544,323 , 3,573,917, 3 , 674,917 , 3,674,495 und 3,785,825 , GB-Patent Nrn. 1,227,602 , 1,251,345 , 1,267,005 , 1,329,888 und 1,330,932 und DE Nr. 854,890 beschrieben sind.
Die Menge des als zersetzbarer Auflösungsinhibitor zuzugebenden Oniumsalzes und/oder der o-Chinondiazidverbindung beträgt bevorzugt 0,1 bis 10 Massen, stärker bevorzugt 0,1 bis 5 Massen, und besonders bevorzugt 0,2 bis 2 Massen, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Aufzeichnungsschicht, wenn die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung für eine Aufzeichnungsschicht einer Flachdruckplatte verwendet wird. Diese Verbindungen können als Mischungen von mehreren Typen verwendet werden, obwohl sie auch einzeln verwendet werden können.
Die zuzugebenden Menge der Additive, außer der o-Chinondiazidverbindung, beträgt bevorzugt 0 bis 5 Massen%, stärker bevorzugt 0 bis 2 Massen%, und besonders bevorzugt 0,1 bis 1,5 Massen. Die Additive und das erfindungsgemäß verwendete Bindemittel sind vorzugsweise in der gleichen Schicht enthalten.
Auch kann ein Auflösungsinhibitor ohne Zersetzbarkeit zusammen verwendet werden. Bevorzugte Beispiele des Auflösungsinhibitors umfassen Sulfonate, Phosphate, aromatische Carboxylate, aromatische Disulfone, Carbonsäureanhydride, aromatische Ketone, aromatische Aldehyde, aromatische Amine und aromatische Ester, wie im Detail in JP-A Nr. 10-268512 beschrieben, saure, farbentwicklungsfähige Farbstoffe, die ein Laktongerüst, ein N,N-Diarylamidgerüst oder ein Diarylmethyliminogerüst aufweisen, und die als Färbemittel fungieren, wie im Detail in JP-A Nr. 11-190903 beschrieben, und nicht-ionische Tenside, die im Detail in JP-A 2000-105454 beschrieben sind.
Darüber hinaus kann zusammen ein Polymer verwendet werden, das aus einer Polymerkomponente erhalten wird, die aus einem (Meth)acrylatmonomer mit zwei oder drei Perfluoralkylgruppen mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen in seinem Molekül besteht, wie in JP-A Nr. 2000-187318 beschrieben, um die Unterscheidung (Unterscheidung zwischen hydrophoben Eigenschaften/hydrophilen Eigenschaften) eines Bildes zu verbessern und die Beständigkeit gegenüber Oberflächenkratzern zu erhöhen. Die zuzugebende Menge solch einer Verbindung beträgt bevorzugt 0,1 bis 10 Massen% und stärker bevorzugt 0,5 bis 5 Massen, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Aufzeichnungsschicht, wenn die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung für eine Aufzeichnungsschicht einer Flachdruckplatte verwendet wird.
Erfindungsgemäß kann eine Verbindung zugegeben werden, die den statischen Reibungskoeffizienten der Oberfläche verringert, um ihr Kratzfestigkeit zu verleihen. Spezifische Beispiele der Verbindung umfassen Ester aus langkettigen Alkylcarbonsäuren, wie in US-Patent Nr. 6,117,913 beschrieben. Die zuzugebende Menge solch einer Verbindung beträgt bevorzugt 0,1 bis 10 Massen%, und stärker bevorzugt 0,5 bis 5 Massen%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Aufzeichnungsschicht der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte.
Erfindungsgemäß kann auch, falls notwendig, eine Verbindung enthalten sein, die eine saure Gruppe mit niedrigem Molekulargewicht aufweist. Beispiele der sauren Gruppe umfassen eine Sulfonsäuregruppe, eine Carbonsäuregruppe und eine Phosphorsäuregruppe. Von diesen Gruppen in eine Verbindung mit einer Sulfonsäuregruppe bevorzugt. Spezifische Beispiele solch einer Verbindung umfassen aromatische Sulfonsäuren, wie z. B. p-Toluolsulfonsäure und Naphthalinsulfonsäure, und aliphatische Sulfonsäuren.
Daneben können zyklische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren zusammen verwendet werden, um die Empfindlichkeit weiter zu erhöhen. Als zyklisches Säureanhydrid können Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlophthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid verwendet werden, wie in US-Patent Nr. 4,115,128 beschrieben. Beispiele der Phenole umfassen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroyxbenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan, 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan. Beispiele der organischen Säuren umfassen Sulfonsäuren, Sulfonsäuren, Alkylsulfate, Phosphonsäuren, Phosphate und Carbonsäuren, wie in JP-A Nrn. 60-88942 und 2-96755 beschrieben. Spezifische Beispiele der organischen Säuren umfassen p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfonsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphsphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluolsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erutinsäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure. Der Anteil der zyklischen Säureanhydride, Phenole und organischen Säuren in der Aufzeichnungsschicht, wenn diese Verbindungen zu der Aufzeichnungsschicht des Flachdruckplattenvorläufers zugegeben werden, beträgt bevorzugt 0,05 bis 20 Massen%, stärker bevorzugt 0,1 bis 15 Massen% und besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Massen%.
Auch können zu der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsschicht nicht-ionische Tenside, wie in JP-A Nrn. 62-251740 und 3-208514 beschrieben, amphotere Tenside, wie in JP-A Nrn. 59-121044 und 4-13149 beschrieben, Verbindungen vom Siloxantyp, wie in EP Nr. 950517 beschrieben, und fluorhaltige Monomere, wie in JP-A Nr. 11-288093 beschrieben, und Copolymere hiervon zugegeben werden, um die Prozessstabilität gegenüber den Entwicklungsbedingungen zu erweitern.
Spezifische Beispiele von nicht-ionischen Tensiden umfassen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Monoglyceridstearat und Polyoxyethylennonylphenylether. Spezifische Beispiele von amphoteren Tensiden umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, und solche vom 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und N-tetradecyl-N,N-betain-Typ (z. B. erhältlich unter der Handelsmarke: Amorgen K, hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Als Verbindung vom Siloxantyp sind Block-Copolymere von Dimethylsiloxan und einem Polyalkylenoxid bevorzugt. Spezifische Beispiele der Verbindung vom Siloxantyp umfassen Polyalkylenoxid-modifizierte Silikone, wie z. B. DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732 und DBP-534, hergestellt von Chisso Corporation, und Tego Glide 100, hergestellt von Tego in Deutschland.
Der Anteil der vorstehenden nicht-ionischen Tenside und der amphoteren Tenside in der Aufzeichnungsschicht beträgt bevorzugt 0,05 bis 15 Massen% und stärker bevorzugt 0,1 bis 5 Massen%.
Zu der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsschicht können ein Ausdruckmittel (printing-out agent), um ein sichtbares Bild unmittelbar nach der Erwärmung durch Belichtung zu erhalten, und Farbstoffe oder Pigmente als Bildfärbemittel zugegeben werden.
Typische Beispiele des Ausdruckmittels umfassen Kombinationen von Verbindungen (Foto-säure-freisetzenden Mitteln), die durch Erwärmen bei der Belichtung eine Säure freisetzen, und organischen Farbstoffen, die zur Salzbildung befähigt sind. Spezifische Beispiele von diesen Kombinationen umfassen Kombinationen von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid und Salz-bildenden organischen Farbstoffen, wie in JP-A Nrn. 50-36209 und 53-8128 beschrieben, und Kombinationen von Trihalomethylverbindungen und Salz-bildenden organischen Farbstoffen, wie in JP-A Nrn. 53-36223 , 54-74728 , 60-3626 , 61-143748 , 61-151644 und 63-58440 beschrieben. Solch eine Trihalomethylverbindung umfasst Verbindungen vom Oxazoltyp und Verbindungen vom Triazintyp, die beide bezüglich der Stabilität über die Zeit überlegen sind und ein klares Ausdrucksbild bereitstellen.
Als Färbemittel für ein Bild können Farbstoffe, die sich von den vorstehenden Salz-bildenden organischen Farbstoffen unterscheiden, verwendet werden. Als bevorzugte Beispiele, inklusive der Salz-bildenden organischen Farbstoffe, können Öl-lösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe beispielhaft angegeben werden. Beispiele dieser Farbstoffe umfassen Ölgelb #101, Ölgelb #103, Ölpink #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS und Ölschwarz T-505 (hergestellt von Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria-Reinblau, Kristrallviolett (CI42555), Methylviolett (CI42535), Ethylviolett, Rhodamin B (CI145170B), Malachitgrün (CI42000) und Methylenblau (CI520015). Die Farbstoffe, die in JP-A Nr. 62-293247 beschrieben sind, sind besonders bevorzugt. Diese Farbstoffe können in einem Anteil von 0,01 bis 10 Massen%, und bevorzugt 0,1 bis 3 Massen%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Aufzeichnungsschicht, zugegeben werden. Falls notwendig wird ferner erfindungsgemäß ein Weichmacher zugegeben, um einem Beschichtungsfilm Flexibilität zu verleihen. Als Weichmacher werden Oligomere oder Polymer von Butylphthyl, Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexalphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, Acrylsäure oder Methacrylsäure verwendet.
Neben den vorstehenden Verbindungen können bedarfsabhängig Epoxyverbindungen, Vinylether und ferner Phenolverbindungen mit einer Hydroxymethylgruppe und Phenolverbindungen mit einer Alkoxymethylgruppe, wie in JP-A Nr. 8-276558 beschrieben, und Vernetzungsverbindungen mit einer Alkali-Auflösungs-inhibierenden Wirkung, wie in JP-A Nr. 11-160860 beschrieben, bereitgestellt von den vorliegenden Erfindern, in geeigneter Weise zugegeben werden.
(BILDUNG DER AUFZEICHNUNGSSCHICHT)
Die erfindungsgemäße Aufzeichnungsschicht kann durch Auflösen jeder Komponente, die die Aufzeichnungsschicht aufbaut, und durch Auftragen der resultierenden Lösung auf einen geeigneten Träger gebildet werden.
Beispiele des hier zu verwendenden Lösungsmittels umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton und Toluol, obwohl es nicht hierauf beschränkt ist. Diese Lösungsmittel können entweder einzeln oder durch Vermischen verwendet werden.
Die Konzentration der vorstehenden Komponenten (Gesamtfeststoffgehalt, inklusive Additive) in dem Lösungsmittel beträgt bevorzugt 1 bis 50 Massen.
Die Beschichtungsmenge (Feststoffgehalt), die erhalten wird, nachdem die Beschichtungslösung auf einen Träger aufgetragen und getrocknet wurde, beträgt allgemein bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m², obwohl dies von der Verwendung abhängt. Wenn sich die Beschichtungsmenge verringert, erhöht sich die scheinbare Empfindlichkeit, jedoch verschlechtern sich die Filmeigenschaften der fotoempfindlichen Schicht (Aufzeichnungsschicht).
Beispiele des Beschichtungsverfahrens umfassen eine Beschichtung mit einem Stabbeschichter (bar coater), Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Florfließbeschichtung, Eintauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Klingenbeschichtung und Walzenbeschichtung, obwohl verschiedene Verfahren verwendet werden können.
Zu der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsschicht kann ein Tensid zugegeben werden, um die Beschichtbarkeit zu verbessern, z. B. ein Tensid vom Fluortyp, wie es in JP-A Nr. 62-170950 beschrieben ist. Die zuzugebende Menge des Tensids beträgt bevorzugt 0,01 bis 1 Massen%, und stärker bevorzugt 0,05 bis 0,5 Massen%, bezogen auf die gesamten festen Inhaltsstoffe, die die Aufzeichnungsschicht aufbauen.
(STRUKTUR DER AUFZEICHNUNGSSCHICHT)
Die erfindungsgemäße Aufzeichnungsschicht kann eine Multischichtstruktur aufweisen, z. B. eine Zweischichtstruktur, die eine Harzschicht aus einem Alkali-löslichen Polymer als unterer Schicht (auf der Trägerseite) und die vorstehend erwähnte Aufzeichnungsschicht als obere Schicht umfasst.
Dies führt dazu, dass die Empfindlichkeit gegenüber einem Infrarotlaser erhöht wird, da die Aufzeichnungsschicht (obere Schicht), deren Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung durch die Belichtung reduziert wird, auf oder in der Nähe der zu belichtenden Oberfläche angeordnet ist und die durch Belichtung mit Infrarotlaserlicht generierte Wärme nicht in den Träger diffundiert, so dass sie effektiv verwendet wird, weil diese Harzschicht (untere Schicht) zwischen dem Träger und der Aufzeichnungsschicht vorliegt und als Isolationsschicht fungiert, und es ist daher möglich, eine hohe Sensibilisierung zu erreichen.
Es wird auch angenommen, dass ein Bild mit guter Unterscheidbarkeit gebildet wird und die Stabilität über die Zeit sichergestellt wird, weil in einem belichteten Teil die Aufzeichnungsschicht (obere Schicht), die für eine alkalische Entwicklungslösung undurchdringbar geworden ist, als Schutzschicht für die Harzschicht (untere Schicht) fungiert. Es wird auch angenommen, dass die Löslichkeit in der Entwicklungslösung verbessert wird, z. B., dass die Harzschicht sich rasch ohne Bildung eines Restfilms und dgl. löst, sogar wenn eine Entwicklungslösung mit verringerter Aktivität verringert wird, was zu herausragender Entwicklungsfähigkeit führt, weil in einem unbelichteten Teil eine ungehärtete Bindemittelkomponente gelöst wird und in einer Entwicklungslösung rasch dispergiert wird und die Harzschicht (untere Schicht), die angrenzend an den Träger vorliegt, aus einem alkalilöslichen Polymer aufgebaut ist.
(TRÄGER)
Als Träger für erfindungsgemäße Flachdruckplatte wird ein dimensional stabiles Plattenmaterial verwendet. Beispiele des Trägermaterials umfassen Papier, Papier, auf dem Kunststoffe (z. B. Polyethylen, Polypropylen und Polystyrol) laminiert sind, Metallplatten (z. B. Aluminium, Zink und Kupfer), Kunststofffolien (z. B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Buttersäurecellulosebutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal) und Papiere oder Kunststofffolien, auf denen ein wie vorstehend erwähntes Metall laminiert oder abgeschieden ist.
Als erfindungsgemäßes Trägermaterial ist eine Polyesterfolie oder eine Aluminiumplatte bevorzugt. Von diesen Materialien ist eine Aluminiumplatte besonders bevorzugt, die dimensional stabil und relativ preisgünstig ist. Bevorzugte Aluminiumplatten sind eine reine Aluminiumplatte und eine Legierungsplatte, die Aluminium als Hauptkomponente und eine kleine Menge von anderen Elementen enthält. Ferner können Kunststofffolien verwendet werden, auf denen Aluminium laminiert oder abgeschieden ist. Beispiele der anderen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, umfassen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan. Der Gehalt dieser anderen Elemente in der Legierung beträgt höchstens 10 Massen%. Erfindungsgemäß bevorzugtes Aluminium ist reines Aluminium. Weil es jedoch schwierig ist, vollständig reines Aluminium aufgrund einer Beschränkung der Raffinationstechnologien herzustellen, kann Aluminium verwendet werden, das eine kleine Menge anderer Elemente enthält. Die erfindungsgemäß eingesetzte Aluminiumplatte ist nicht bezüglich ihrer Zusammensetzung spezifiziert, und es können in geeigneter Weise Aluminiumplatten aus konventionell bekannten und allgemein verwendeten Materialien verwendet werden. Die Dicke der Aluminiumplatte beträgt etwa 0,1 mm 0,6 mm, bevorzugt 0,15 mm bis 0,4 mm, und besonders bevorzugt 0,2 mm bis 0,3 mm.
Falls gewünscht wird vor dem Aufrauen der Aluminiumplatte eine Entfettungsbehandlung unter Verwendung von z. B. einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel oder einer wässrigen Alkalilösung durchgeführt, um Walzöl von der Oberfläche zu entfernen.
Die Aufraubehandlung der Oberfläche der Aluminiumplatte wird unter Verwendung von verschiedenen Verfahren durchgeführt, z. B. mit einem Verfahren, in dem die Oberfläche mechanisch aufgeraut wird, einem Verfahren, in dem die Oberfläche gelöst und elektrochemisch aufgeraut wird, und einem Verfahren, in dem die Oberfläche selektiv chemisch aufgelöst wird. Als mechanisches Verfahren können bekannte Verfahren verwendet werden, wie z. B. ein Kugel-Schleifverfahren, ein Bürsten-Schleifverfahren, ein Strahl-Schleifverfahren und ein Polierscheiben-Schleifverfahren. Auch kann das elektrochemische Aufrauverfahren ein Verfahren umfassen, in dem Gleichstrom oder Wechselstrom in einem Salzsäure- oder Salpetersäure-Elektrolyten eingesetzt wird. Es kann auch ein Verfahren eingesetzt werden, das aus einer Kombination dieser beiden besteht, wie in JP-A Nr. 54-63902 offenbart.
Die auf diese Weise Oberflächen-aufgeraute Aluminiumplatte kann einer anodischen Oxidationsbehandlung durch eine Alkaliätzbehandlung und Neutralisierungsbehandlung unterzogen werden, falls dies nötig ist, um die Feuchtigkeits-Rückhaltekraft und die Abriebbeständigkeit der Oberfläche zu erhöhen. Als für die anodische Oxidationsbehandlung der Aluminiumplatte verwendeter Elektrolyt können verschiedene Elektrolyte verwendet werden, die einen porösen Oxidfilm bilden können, und im allgemeinen können Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine gemischte Säure hieraus verwendet werden. Die Konzentration dieser Elektrolyten wird in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten bestimmt.
Obwohl die Prozessbedingungen der anodischen Oxidation nicht umfassend spezifiziert werden können, weil sie in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten variieren, sind im allgemeinen die folgenden Bedingungen geeignet: die Konzentration der Elektrolytlösung beträgt 1 bis 80 Massen, die Lösungstemperatur beträgt 5 bis 70°C, die Stromdichte beträgt 5 bis 60 A/dm², die Spannung beträgt 1 bis 100 V und die Elektrolysezeit beträgt 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Wenn die Menge das anodischen Oxidfilms weniger als 1,0 g/m² beträgt, wird eine unzureichende Druckhaltbarkeit erhalten, und ein Nicht-Bildteil wird leicht zerkratzt, und es besteht die Neigung, dass sogenannter "Fehlerschmutz" ("flaw dirt") auftritt, was ein Phänomen ist, dass Tinte sich während des Druckens an fehlerhafte Teile anhaftet.
Nach der vorstehenden anodischen Oxidationsbehandlung wird, falls gewünscht, eine hydrophile Behandlung der Oberfläche des Trägers durchgeführt. Beispiele der erfindungsgemäß verwendeten hydrophilen Behandlung umfassen ein Alkalimetallsilikatverfahren (mit z. B. einer wässrigen Natriumsilikatlösung), wie in US-Patenten Nrn. 2,714,066 , 3,181,461 , 3,280,734 und 3,9902,734 beschrieben. In diesem Verfahren wird der Träger durch Eintauchen behandelt, oder er wird elektrolytisch in einer wässrigen Natriumsilikatlösung behandelt. Außer den vorstehend Erwähnten werden ein Behandlungsverfahren unter Verwendung von Kaliumfluorzirkonat, wie in JP-B Nr. 36-22063 offenbart, und ein Behandlungsverfahren unter Verwendung einer Polyvinylphosphonsäure, wie in US-Patent Nrn. 3,276,868 , 4,153,461 und 4,689,272 offenbart, verwendet.
Als besonders bevorzugte Behandlung des Trägers ist es bevorzugt, die Aluminiumplatte durch eine mechanische Oberflächenaufraubehandlung, eine Alkaliätzbehandlung, eine Behandlung zur Belagsentfernung (desmutting treatment) unter Verwendung einer Säure, einer elektrochemischen Oberflächenaufraubehandlung unter Verwendung eines Elektrolyten, der Salpetersäure enthält, und einer elektrochemischen Oberflächenaufraubehandlung unter Verwendung einer wässrigen Lösung, die Salzsäure enthält, nacheinander zu verarbeiten. Der auf diese Weise behandelte Träger besitzt eine sehr große Oberfläche.
Obwohl der Grund, warum die erfindungsgemäße Zwischenschicht eine stärker bevorzugte Wirkung entwickelt, wenn sie auf einen wie vorstehend behandelten Träger angeordnet ist, nicht vollkommen verstanden ist, wird angenommen, dass die erfindungsgemäße Zwischenschicht die Oberfläche eines Substrats wegen der Wechselwirkung mit dem Substrat ausreichend bedecken kann, sogar bei einem Träger mit einer sehr großen Oberfläche, und dass es daher möglich ist, die Adhäsion zwischen der Aufzeichnungsschicht (fotoempfindliche Schicht) und dem Träger zu erhöhen und auch die Schaumbildungseigenschaften (scumming property) eines Nicht-Bildbereiches zu verbessern.
Obwohl der Flachdruckplattenvorläufer durch verschiedene Behandlungsverfahren, die der Aufzeichnungsschicht entsprechen, zu einer Flachdruckplatte verarbeitet wird, wird er bevorzugt zu einer Flachdruckplatte unter Verwendung eines Entwicklungsverfahrens geformt, bei dem eine Entwicklungslösung verwendet wird, die im wesentlichen kein Alkalimetallsilikat enthält. Spezifisch ist der erfindungsgemäße Flachdruckplattenvorläufer bevorzugt einer, der mit einer Entwicklungslösung behandelt werden muss, die im wesentlichen kein Alkalimetallsilikat enthält. Dieses Verfahren ist im Detail in JP-A Nr. 11-109637 beschrieben. Erfindungsgemäß können die in dieser Veröffentlichung beschriebenen Inhalte eingesetzt werden.
Der auf die vorstehende Weise hergestellte positive Flachdruckplattenvorläufer wird gewöhnlich einer Bildbelichtung und einer Entwicklungsbehandlung unterzogen.
Als Lichtquelle von Strahlen, die für die Bildbelichtung verwendet werden, sind Lichtquellen mit einer Emissionswellenlänge im nah-infraroten bis infraroten Bereich bevorzugt, und ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser sind besonders bevorzugt.
Als Entwicklungslösung und als Regeneratorlösung (replenishing solution) für den erfindungsgemäßen Flachdruckplattenvorläufer können konventionell bekannte wässrige Alkalilösungen verwendet werden.
Beispiele der Alkalilösungen umfassen Lösungen von anorganischen Alkalisalzen, wie z. B. Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat, Diammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydoxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid. Auch werden organische Alkalimittel verwendet, wie z. B. Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin. Diese Alkalimittel werden entweder einzeln oder in Kombinationen von zwei oder mehr verwendet.
Von diesen Alkalimitteln sind besonders bevorzugte Entwicklungslösungen wässrige Silikatlösungen, wie z. B. wässrige Lösungen von Natriumsilikat oder Kaliumsilikat. Dies ist so, weil die Entwicklungseigenschaften durch das Verhältnis von Siliciumoxid (SiO₂), was eine Komponente des Silikats ist, zu Alkalimetalloxid (M₂O) und durch die Konzentrationen von beiden kontrolliert werden können. Z. B. werden effektiv Alkalimetallsilikate verwendet, wie sie in JP-A Nr. 54-62004 und JP-B Nr. 57-7427 beschrieben sind.
Darüber hinaus ist es bekannt, dass im Fall der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine die gleiche wie die Entwicklungslösung oder eine wässrige Lösung (Regeneratorlösung) mit einer höheren Alkalistärke als die Entwicklungslösung zu der Entwicklungslösung zugegeben wird, wodurch eine große Anzahl von Flachdruckplattenvorläufern behandelt werden kann, ohne die Entwicklungslösung in dem Entwicklungstank für eine lange Zeitspanne auszutauschen. Erfindungsgemäß wird dieses Herstellungssystem auch bevorzugt eingesetzt. Falls notwendig, können in die Entwicklungslösung und in die Regeneratorlösung verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel eingemischt werden, um die Entwicklungsfähigkeit zu fördern oder zu unterdrücken, Entwicklungsreste zu dispergieren und die Affinität des Druckplatten-Bildbereichs zu Tinte zu erhöhen.
Bevorzugte Beispiele des Tensids enthalten anionische, kationische, nicht-ionische und amphotere Tenside. Falls notwendig, können darüber hinaus ein Reduktionsmittel, wie z. B. ein Natriumsalz oder ein Kaliumsalz einer anorganischen Säure, wie z. B. Hydrochinon, Resorcin, schwefelige Säure und schweflige Säure-Hydrosäure, eine organische Carbonsäure, ein Antischaummittel und ein Wasserenthärter in die Entwicklungslösung und die Regeneratorlösung eingemischt werden.
Die unter Verwendung der wie vorstehend erwähnten Entwicklungslösung und Regeneratorlösung entwickelte Druckplatte wird einer Nachbehandlung unterzogen, die unter Verwendung von Spülwasser, einer Spüllösung, die Tenside und dgl. enthält, und einer Schutzgummilösung, die Gummiarabikum und ein Stärkederivat enthält, durchgeführt wird. Für die erfindungsgemäß einzusetzende Nachbehandlung können diese Behandlungen in verschiedenen Kombinationen verwendet werden.
In den Gebieten der Plattenherstellung und des Druckens ist in den letzten Jahren weit verbreitet eine automatische Entwicklungsmaschine für Druckplattenmaterialien wegen der Rationalisierung und Standardisierung der Plattenherstellungsarbeiten verwendet worden. Diese automatische Entwicklungsmaschine wird gewöhnlich durch einen Entwicklungsbereich und einen Nachbehandlungsbereich aufgebaut, die eine Einheit zum Befördern des Druckplattenmaterials, Gefäße für jede Verarbeitungslösung und eine Sprüheinheit umfassen, worin jede herangepumpte Verarbeitungslösung aus einer Sprühdüse gesprüht wird, während die belichtete Druckplatte horizontal befördert wird, um die Entwicklungsbehandlung durchzuführen. Auch ist kürzlich ein Verfahren bekannt geworden, in dem ein Druckplattenvorläufer durch eine Führungswalze innerhalb einer Flüssigkeit befördert wird, wobei er in ein Verarbeitungslösungsgefäß eingetaucht wird, das mit einer Verarbeitungslösung gefüllt ist. Bei solch einer automatischen Behandlung kann die Behandlung unter Zuführen einer Regeneratorlösung zu jeder Verarbeitungslösung entsprechend dem Durchsatz und der Betriebszeit durchgeführt werden. Auch kann ein sogenanntes Einmal-Behandlungssystem (disposable treating system) eingesetzt werden, indem die Behandlung unter Verwendung einer im wesentlichen ungebrauchten Verarbeitungslösung durchgeführt wird.
Wenn beim erfindungsgemäßen Flachdruckplattenvorläufer ein unnötiger Bildbereich (z. B. eine Filmkantenspur auf einem Originalbildfilm) auf der Flachdruckplatte vorliegt, die durch Bildbelichtung, Entwicklung und Waschen mit Wasser und/oder Spülen und/oder Gummierzeichnen (gumming drawing) erhalten wird, wird der unnötige Druckbereich ausgelöscht. Solch eine Auslöschung wird bevorzugt unter Verwendung eines Verfahrens durchgeführt, in dem eine Auslöschlösung, wie sie z. B. in JP-B Nr. 2-13293 beschrieben ist, auf den unnötigen Bildbereich aufgetragen wird und für eine festgelegte Zeitspanne stehengelassen wird, gefolgt von Waschen mit Wasser. Es kann ein Verfahren, wie es in JP-A Nr. 59-174842 beschrieben ist, eingesetzt werden, worin der unnötige Bildteil mit aktivierten Strahlen, die durch eine optische Faser geleitet werden, bestrahlt und dann entwickelt wird.
Die auf die obige Weise erhaltene Flachdruckplatte kann einem Druckschritt unterzogen werden, nachdem, falls gewünscht, ein Schutzgummi aufgetragen ist. Wenn eine Flachdruckplatte mit höherer Druckhaltbarkeit erhalten werden soll, wird die Flachdruckplatte einer Brennbehandlung unterzogen.
Wenn die Flachdruckplatte einem Brennen unterzogen wird, ist es bevorzugt, sie vor dem Brennen mit einer Oberflächeneinstelllösung zu behandeln, wie in JP-B Nrn. 61-2518 und 55-28062 und JP-A Nrn. 62-31859 und 61-159655 beschrieben.
Als Brennverfahren können ein Verfahren, in dem ein Schwamm oder ein absorbierender Stoff, der mit der Oberflächeneinstelllösung imprägniert ist, verwendet wird, um diese Lösung auf die Flachdruckplatte aufzutragen, oder in dem die Druckplatte in ein Gefäß, das mit der Oberflächeneinstelllösung gefüllt ist, eingetaucht wird, um die Lösung auf die Druckplatte aufzutragen, und ein Verfahren, in dem die Lösung unter Verwendung eines automatischen Beschichters aufgetragen wird, eingesetzt werden. Es ergeben sich bessere Ergebnisse, wenn die Beschichtungsmenge unter Verwendung eines Rakels oder einer Rakelwalze nach dem Beschichten gleichförmig gestaltet wird.
Die Menge der Oberflächeneinstelllösung beträgt allgemein geeigneterweise 0,03 bis 0,8 g/m² (Trockenmenge). Die Flachdruckplatte, auf die die Oberflächeneinstelllösung aufgetragen ist, wird, falls notwendig, getrocknet und dann mit einem Brennprozessor (z. B. ein Brennprozessor: "BP-1300", käuflich erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) oder dgl. auf eine hohe Temperatur erwärmt. Die Erwärmungstemperatur und die Zeit betragen in diesem Fall bevorzugt 180 bis 300°C bzw. 1 bis 20 Minuten, obwohl dies von der Art der Komponenten, die ein Bild erzeugen, abhängt.
BEISPIELE
Die vorliegende Erfindung wird durch Beispiele genauer erklärt. Diese sollen die Erfindung jedoch nicht beschränken.
(SYNTHESE DES MONCMERS (M-1))
Das Monomer (M-1) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
23,1 g (0,58 mol) NaOH wurden allmählich zu einem 1-l-Dreihalskolben gegeben, der gefüllt war mit 46,55 g (0,35 mol) Iminodiessigsäure, 350 ml MeOH und 350 ml H₂O, während die Mischung bei 60°C gerührt wurde. Dann wurde die Hälfte von 53,5 g (0,35 mol) Chlormethylstyrol über 30 Minuten zu der Mischung zugetropft, ferner wurden 23,1 g (0,58 mol) NaOH zugegeben, und die zweite Hälfte des Chlormethylstyrols wurde zu der Mischung zugetropft. Ferner wurde die resultierende Mischung bei 60°C für 3 Stunden umgesetzt, und dann wurde die Reaktionslösung zu 1/3 der Originalmenge durch Entfernen von Lösungsmittelkomponenten reduziert, gefolgt von Extraktion mit Methylethylketon. Die Wasserphase wurde durch Zugabe von konzentrierter Salzsäure auf einen pH-Wert von 2 bis 3 eingestellt. Der ausgefallene weiße Feststoff wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um 29,3 g (Ausbeute: 33,6%) des Monomers (M-1) zu erhalten. Die Struktur des Monomers (M-1) ist nachstehend gezeigt.
(SYNTHESE DES SPEZIFISCHEN Polymers (P-5))
Das spezifische Polymer (P-5) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
Eine Lösung, die 12,4 g (50,0 mmol) des vorstehend synthetisierten Monomers (M-1), 7,41 g (50,0 mmol) Paravinylbenzoesäure, 1,152 g (5,0 mmol) V601 und 37,1 g DMAc enthielt, wurde über 2 Stunden bei 75°C in einer Stickstoffatmosphäre in einen 200 ml-Dreihalskolben zugetropft, in dem sich 9,3 g DMAc befanden, und die Mischung wurde für weitere 5 Stunden umgesetzt. Die Reaktionslösung wurde aus Ethylacetat umkristallisiert, gefolgt von Filtration und Trocknen, um 17,9 g des spezifischen Polymers (P-5) zu erhalten.
(SYNTHESE DES SPEZIFISCHEN POLYMERS (P-6))
Das spezifische Polymer (P-6) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
Eine Lösung, die 12,5 g (50,0 mmol) des vorstehend synthetisierten Monomers (M-1), 12,69 g (50,0 mmol) Vinylbenzyltriethylammoniumchlorid, 1,152 g (5,0 mmol) V601 und 47,0 g DMAc enthielt, wurde über 2 Stunden bei 75°C unter einer Stickstoffatmosphäre zu einem 200 ml-Dreihalskolben zugetropft, in dem sich 11,7 g DMAc befanden, und die Mischung wurde für weiter 5 Stunden umgesetzt. Die Reaktionslösung wurde aus Aceton umkristallisiert, gefolgt von Filtration und Trocknen, um 20,5 g des spezifischen Polymers (P-6) zu erhalten.
(SYNTHESE DES SPEZIFISCHEN POLYMERS (P-11))
Das spezifische Polymer (P-11) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
Eine Lösung, die 4,99 g (20 mmol) des vorstehenden synthetisierten Monomers (M-1), 3,81 g (15 mmol) Vinylbenzyltriethylammoniumchlorid, 1,95 g (15 mmol) Hydroxyethylmethacrylat, 0,576 g (2,5 mmol) V601 und 47,0 g DMAc enthielt, wurde über 2 Stunden bei 75°C unter einer Stickstoffatmosphäre zu einem Dreihalskolben zugetropft, in dem sich 5 g DMAc befanden, und die Mischung wurde für weitere 5 Stunden umgesetzt. Die Reaktionslösung wurde aus Aceton umkristallisiert, gefolgt von Filtration und Trocknen, um 9,8 g des spezifischen Polymers (P-11) zu erhalten.
(SYNTHESE DES SPEZIFISCHEN POLYMERS (P-12))
Das spezifische Polymer (P-12) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
Eine Lösung, die 4,99 g (20 mmol) des vorstehenden Monomers (M-1), 3,81 g (15 mmol) Vinylbenzyltriethylammoniumchlorid, 3,68 g (15 mmol) Light Ester HOMS (hergestellt von Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 0,576 g (2,5 mmol) V601 und 30,0 g DMAc enthielt, wurde über 2 Stunden bei 75°C unter einer Stickstoffatmosphäre zu einem Dreihalskolben zugetropft, in dem sich 5 g DMAc befanden, und die Mischung wurde für weitere 5 Stunden umgesetzt. Die Reaktionslösung wurde aus Aceton umkristallisiert, gefolgt von Filtration und Trocknen, um 9,8 g des spezifischen Polymers (P-12) zu erhalten.
(SYNTHESE DES SPEZIFISCHEN POLYMERS (P-21))
Das spezifische Polymer (P-21) wurde auf die folgende Weise synthetisiert.
Eine Lösung, die 4,99 g (20 mmol) des vorstehenden Monomers (M-1), 3,81 g (15 mmol) Vinylbenzyltriethylammoniumchlorid, 1,5 g (15 mmol) Methylmethacrylat, 0,576 g (2,5 mmol) V601 und 33,0 g DMAc enthielt, wurde über 2 Stunden bei 75°C unter einer Stickstoffatmosphäre zu einem Dreihalskolben zugetropft, in dem sich 8,2 g DMAc befanden, und die Mischung wurde für weitere 5 Stunden umgesetzt. Die Reaktionslösung wurde aus Aceton umkristallisiert, gefolgt von Filtration und Trocknen, um 9,6 g des spezifischen Polymers (P-21) zu erhalten.
[BEISPIELE 1 BIS 5]
(HERSTELLUNG DES SUBSTRATS)
Die nachstehend gezeigten Behandlungen wurden unter Verwendung einer 0,3 mm dicken Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 durchgeführt, um den Träger 1 und den Träger 2 herzustellen.
(a) MECHANISCHE OBERFLÄCHENAUFRAUBEHANDLUNG
Die mechanische Oberflächenaufraubehandlung wurde mit einer rotierenden walzenähnlichen Nylonbürste unter Zuführung einer Suspension eines Schleifmittels (Silikasand) mit einer spezifischen Dichte von 1,12 als Schleifmittelaufschlämmungslösung und Wasser als Schleifmittelaufschlämmung zur Oberfläche der Aluminiumplatte durchgeführt. Der mittlere Partikeldurchmesser des Schleifmittels betrug 8 μm, und der maximale Partikeldurchmesser des Schleifmittels betrug 50 μm. Das Material der Nylonbürste war 6·10 Nylon, worin die Borstenlänge 50 mm und der Borstendurchmesser 0,3 mm betrugen. Die Nylonbürste wurde durch Öffnen von Löchern in einem Edelstahlzylinder mit einem Durchmesser von 300 mm und durch dichtes Einpflanzen von Borsten erhalten. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Trägerwalzen (Durchmesser: 200 mm) unter der Bürste betrug 300 mm. Die Bürstenwalze wurde gegen die Aluminiumplatte gepresst, bis die Belastung auf eine Belastung erhöht worden war, die um 7 kW größer als diejenige, bevor sie gegen die Aluminiumplatte gepresst wurde, war. Die Rotationsrichtung der Bürste war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Die Rotationszahl der Bürste betrug 200 U/min.
(b) ALKALIÄTZBEHANDLUNG
Die vorstehend erhaltene Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterzogen, die mit einer wässrigen NaOH-Lösung (Konzentration: 26 Massen%, Aluminiumionenkonzentration: 6,5 Massen%) bei 70°C durch Sprühen durchgeführt wurde, um 6 g/m² der Aluminiumplatte zu ätzen, gefolgt von Spülen mit Leitungswasser durch Sprühen.
(c) BELAGSENTFERNUNG (desmutting treatment)
Die Belagsentfernung wurde mit einer 1 massen%igen Salpetersäurelösung (die 0,5 Massen% Aluminiumionen enthielt), die bei 30°C gehalten wurde, durch Sprühen durchgeführt, gefolgt von Spülen mit Wasser durch Sprühen. Als wässrige Salpetersäurelösung, die bei der Belagsentfernung verwendet wurde, wurde eine Abfalllösung verwendet, die in einem Schritt zum Durchführen der elektrochemischen Oberflächenaufraubehandlung mit Wechselstrom in einer wässrigen Salpetersäurelösung erhalten wurde.
(d) ELEKTROCHEMISCHE OBERFLÄCHENAUFRAUBEHANDLUNG
Die Elektrochemische Oberflächenaufraubehandlung wurde kontinuierlich bei einem Wechselstrom von 60 Hz durchgeführt. Die zu diesem Zeitpunkt verwendete Elektrolytlösung war eine wässrige Lösung, die 10,5 g/l Salpetersäure (enthaltend 5 g/l Aluminiumionen) enthielt, und die Temperatur dieser Elektrolytlösung betrug 50°C. Die elektrochemische Aufraubehandlung wurde unter Verwendung einer Kohlenstoffelektrode als Gegenelektrode durchgeführt, wobei als Wechselstromquelle eine solche mit einer trapezoidalen rechteckigen Wechselstromwellenform verwendet wurde, worin die Zeit TP, die erforderlich ist, damit der Stromwert von 0 einen Peak erreicht, 0,8 msec betrug und deren Wellenverhältnis (duty ratio) 1:1 betrug. Als Hilfsanode wurde Ferrit verwendet. Das verwendete Elektrolytgefäß war vom radialen Zellentyp.
Die Stromdichte betrug 30 A/dm² als Peak-Strom, und die Elektrizitätsmenge betrug 220 C/dm² als Gesamtmenge der Elektrizität, wenn die Aluminiumplatte als Anode fungierte. Separat wurden 5% des Stroms, der aus der Stromquelle floss, zu der Hilfsanode zugeleitet.
Danach wurde die Aluminiumplatte durch Sprühen mit Leitungswasser gespült.
(e) ALKALIÄTZBEHANDLUNG
Die Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterzogen, die bei 32°C unter Verwendung einer wässrigen Lösung, die 26 Massen% NaOH und 6,5 Massen% Aluminiumionen enthielt, durch Sprühen durchgeführt wurde, um die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,20 g/m² zu ätzen, um die Belagskomponenten zu entfernen, die im wesentlichen Aluminiumhydroxid enthalten und die gebildet werden, wenn die vorstehende elektrochemische Oberflächenaufraubehandlung mit Wechselstrom durchgeführt wird, und auch, um den Kantenteil der gebildeten Vertiefung zu Ätzen, um hierdurch den Kantenteil abzurunden. Dann wurde die Aluminiumplatte gut durch Spülen mit Leitungswasser gespült.
(f) BELAGSENTFERNUNG (desmutting treatment)
Es wurde eine wässrige 15 massen%ige Salpetersäurelösung (die 4,5 Massen% Aluminiumionen enthielt) verwendet, um die Belagsentfernung bei 30°C durch Sprühen durchzuführen, gefolgt von Waschen mit Wasser durch Sprühen. Als wässrige Salpetersäurelösung, die bei der Belagsentfernung verwendet wurde, wurde eine Abfalllösung aus einem Schritt zum Durchführen der elektrochemischen Oberflächenaufraubehandlung mit Wechselstrom in einer wässrigen Salpetersäurelösung verwendet.
(g) ELEKTROCHEMISCHE OBERFLÄCHENAUFRAUBEHANDLUNG
Die elektrochemische Oberflächenaufraubehandlung wurde kontinuierlich mit Wechselstrom von 60 Hz durchgeführt. Die zu diesem Zeitpunkt verwendete Elektrolytlösung war eine wässrige Lösung, die 7,5 g/l Salzsäure enthielt (enthaltend 5 g/l Aluminiumionen), und die Temperatur dieser Elektrolytlösung betrug 35°C. Die Wechselstromquelle besaß eine trapezoidale, rechteckige Wellenform. Die elektrochemische Oberflächenaufraubehandlung wurde mit einer Kohlenstoffelektrode als Gegenelektrode durchgeführt. Als Hilfsanode wurde Ferrit verwendet. Das verwendete Elektrolytgefäß war vom radialen Zellentyp.
Die Stromdichte betrug 25 A/dm² als Peak-Strom und die Elektrizitätsmenge betrug 50 C/dm² als Gesamtmenge der Elektrizität, wenn die Aluminiumplatte als Anode fungierte.
Dann wurde die Aluminiumplatte durch Sprühen mit Leitungswasser gewaschen.
(h) ALKALIÄTZBEHANDLUNG
Die Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterzogen, die bei 32°C unter Verwendung einer wässrigen Lösung, die 26 Massen% NaOH und 6,5 Massen% Aluminiumionen enthielt, durch Sprühen durchgeführt wurde, um die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,10 g/m² zu ätzen, um die Belagskomponenten zu entfernen, die im wesentlichen Aluminiumhydroxid enthielten und die gebildet wurden, wenn die vorstehende elektrochemische Oberflächenaufraubehandlung mit Wechselstrom durchgeführt wurde, und auch, um den Kantenteil der gebildeten Vertiefung zu ätzen, um hierdurch den Kantenteil abzurunden. Dann wurde die Aluminiumplatte durch Sprühen mit Leitungswasser gespült.
(i) BELAGSENTFERNUNG
Es wurde eine wässrige, 25 massen%ige Schwefelsäurelösung (enthaltend 0,5 Massen% Aluminiumionen) verwendet, um die Belagsentfernung bei 60°C durch Sprühen durchzuführen, gefolgt von Spülen durch Sprühen von Leitungswasser.
(j) ANODISCHE OXIDATIONSBEHANDLUNG
Als Elektrolytlösung wurde Schwefelsäure verwendet. Alle Elektrolytlösungen enthielten 170 g/l Schwefelsäure (inklusive 0,5 Massen% Aluminuimionen) und wurden bei 43°C verwendet. Dann wurde der Träger durch Sprühen von Leitungswasser gespült.
Die Stromdichten betrugen jeweils etwa 30 A/dm². Die Menge des letztendlichen Oxidfilms betrug 2,7 g/m².
(k) ALKALIMETALLSILIKATBEHANDLUNG
Der durch die anodische Oxidationsbehandlung erhaltene Aluminiumträger wurde in ein Behandlungsgefäß für 10 Sekunden eingetaucht, das mit einer 1 massen%igen wässrigen Lösung von Nr. 3 Natriumsilikat, die bei 30°C gehalten wurde, gefüllt war, um eine Alkalimetallsilikatbehandlung (Silikatbehandlung) durchzuführen. Danach wurde der Träger durch Sprühen von Leitungswasser gespült. Die in diesem Fall anzuhaftende Menge des Silikats betrug 3,5 mg/dm².
<TRÄGER 1>
Die vorstehenden Schritte (a) bis (k) wurden in dieser Reihenfolge durchgeführt, worin die Ätzmenge im Schritt (e) zu 3,5 g/m² eingestellt wurde, um den Träger 1 herzustellen.
<TRÄGER 2>
Die vorstehenden Schritte (a) bis (k) wurden in dieser Reihenfolge auf die gleiche Weise wie bei der Herstellung des Trägers 1 durchgeführt, außer dass auf die Schritte (g), (h) und (i) verzichtet wurde, um den Träger 2 herzustellen.
(BILDUNG EINER ZWISCHENSCHICHT)
Die folgende Zwischenschicht-bildende Beschichtungslösung wurde auf den wie vorstehend erwähnt hergestellten Träger 1 aufgetragen und dann bei 80°C für 15 Sekunden getrocknet, um eine Zwischenschicht anzuordnen. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 15 mg/m². <ZWISCHENSCHICHT-BILDENDE BESCHICHTUNGSLÖSUNG>

– In Tabelle 1 beschriebenes spezifisches Polymer 0,3 g

– Methanol 100 g

– Wasser 1 g
(BILDUNG EINER AUFZEICHNUNGSSCHICHT)
– SYNTHESE DES COPOLYMERS 1 –
Ein 500 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kühler und einem Tropftrichter ausgerüstet war, wurde mit 31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril gefüllt, und die Mischung wurde unter Kühlen in einem Eiswasserbad gerührt. Es wurden 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin zu der Mischung über etwa 1 Stunde zugetropft, wobei der Tropftrichter verwendet wurde. Nachdem die Zugabe vollendet war, wurde das Eiswasserbad entfernt und die Mischung wurde bei Raumtemperatur für 30 Minuten gerührt.
Es wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zu der Reaktionsmischung zugegeben, die dann für 1 Stunde unter Erwärmen bei 70°C in einem Ölbad gerührt wurde. Nachdem die Reaktion beendet war, wurde diese Mischung in 1 1 Wasser unter Rühren des Wassers hineingegossen, und die resultierende Mischung wurde für 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um den Niederschlag zu sammeln, der dann mit 500 ml Wasser zu einer Aufschlämmung geformt wurde. Diese Aufschlämmung wurde filtriert und der resultierende Feststoff wurde getrocknet, um einen weißen Feststoff aus N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid zu erhalten (Ausbeute: 46,9 g).
Als nächstes wurde ein 200 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kühler und einem Tropftrichter ausgerüstet war, mit 4,61 g (0,0192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,58 g (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylonitril und 20 g N-Dimethylacetamid gefüllt, und die Mischung wurde unter Erwärmen bei 65°C in einem Heißwasserbad gerührt. Es wurden 0,15 g 2,2'-Azobis(2,4-dimethylvaleronitril) (Handelsname: "B-65", hergestellt von Wako Pure Chemical Co., Ltd.) als Initiator zu dieser Mischung zugegeben, die dann für 2 Stunden unter einer Stickstoffatmosphäre gerührt wurde, wobei die Mischung bei 65°C gehalten wurde. Ferner wurde eine Mischung aus 4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,58 g Methylmethacrylat, 0,80 g Acrylonitril, 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g des vorstehenden "V-65" zu dieser Reaktionsmischung über 2 Stunden über den Tropftrichter zugetropft. Nachdem die Zugabe vollendet war, wurde die resultierende Mischung weiterhin bei 65°C für 2 Stunden gerührt. Nachdem die Reaktion beendet war, wurden 40 g Methanol zu der Reaktionsmischung zugegeben, die dann gekühlt wurde, und die resultierende Mischung wurde in 2 1 Wasser unter Rühren des Wassers gegossen, und dann wurde die Mischung für 30 Minuten gerührt. Der Niederschlag wurde abfiltriert und getrocknet, um 15 g eines weißen Feststoffs zu erhalten. Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht (bezogen auf Polystyrol) dieses spezifischen Copolymers 1 wurde mittels Gelpermeationschromatographie gemessen und zu 54.000 bestimmt.
(BILDUNG DER AUFZEICHNUNGSSCHICHTEN IN DEN BEISPIELEN 1 UND 3 BIS 7)

Die folgende Aufzeichnungsschicht-bildende Beschichtungslösung 1 wurde auf den vorstehend erhaltenen Träger (jeder Typ ist in Tabelle 1 beschrieben) so aufgetragen, dass die Beschichtungsmenge 0,85 g/m² betrug, und dann bei 110°C für 50 Sekunden in einem PERFECT OVENPH200, hergestellt von TAIBAI, getrocknet, wobei die Umluftkontrolle (Wind Control) auf 7 eingestellt wurde. Danach wurde die Aufzeichnungsschicht-bildende Beschichtungslösung 2 auf die Aufzeichnungsschicht 1 so aufgetragen, dass die Beschichtungsmenge 0,30 g/m² betrug, und dann bei 120°C für 1 Minute getrocknet, um die Flachdruckplattenvorläufer der Beispiele 1 und 3 bis 7 zu erhalten. <AUFZEICHNUNGSSCHICHT-BILDENDE BESCHICHTUNGSLÖSUNG 1>

– Das vorstehend erwähnte Copolymer 1	2,133 g
– Cyanin-Farbstoff A (folgende Struktur)	0,109 g
– 4,4'-Bishydroxyphenylsulfon	0,126 g
– Tetrahydrophthalsäureanhydrid	0,190 g
– p-Toluolsulfonsäure	0,008 g
– 3-Methoxy-4-diazophenylaminhexafluorphosphat	0,030 g
– Ethylviolett (das Gegenion wurde gegen ein 6-Hydroxy-2-naphthalinsulfonsäureanion ausgetauscht)	0,100 g
– MEGAFAC F780 (Tensid, das den Beschichtungsoberflächenzustand verbessert, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)	0,035 g
- Methylethylketon	25,38 g
– 1-Methoxy-2-propanol	13,0 g
– γ-Butyrolacton	13,2 g

Cyanin-Farbstoff A

<AUFZEICHNUNGSSCHICHT-BILDENDE BESCHICHTUNGSLÖSUNG 2>

– m-, p-Cresol-Novolak (m/p-Verhältnis = 6/4, gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 4.500, enthaltend 0,8 Massen% unreagiertes Cresol)	0,3478 g
– vorstehend beschriebener Cyanin-Farbstoff A	0,0192 g
– nachstehend beschriebenes Oniumsalz B	0,0115 g
– MEGAFAC F780 (Tensid, das den Beschichtungsoberflächenzustand verbessert, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)	0,022 g
– Methylethylketon	13,07 g
– 1-Methoxy-2-propanol	6,79 g

Oniumsalz B

(BILDUNG DER AUFZEICHNUNGSSCHICHTEN DER BEISPIELE 2, 8 UND 9)

Die folgende Beschichtungslösung 3 für eine bilderzeugende Schicht wurde auf den vorstehend erhaltenen Träger 1 so aufgetragen, dass die Beschichtungsmenge 1,2 g/m² betrug, um die Flachdruckplattenvorläufer der Beispiele 2, 8 und 9 zu erhalten. <AUFZEICHNUNGSSCHICHT-BILDENDE LÖSUNG 3>

– m-, p-Cresol-Novolak (m/p-Verhältnis = 6/4, gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 7.300, enthaltend 0,4 Massen% unreagiertes Cresol)	0,93 g
– Vinylpolymer (1), nachstehend beschrieben	0,07 g
– Infrarotabsorber, nachstehend beschrieben (Cyanin-Farbstoff A)	0,017 g
– Infrarotabsorber, nachstehend beschrieben (Cyanin-Farbstoff B)	0,023 g
– 2,4,6-Tris(hexyloxy)benzoldiazonium-2-hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonat	0,01 g
– p-Toluolsulfonsäure	0,003 g
– Cyclohexan-1,2-dicarbonsäureanhydrid	0,06 g
– Farbstoff, erhalten durch Ersetzen des Gegenanions von Victoriablau BOH durch ein 1-Naphthalinsulfonsäureanion	0,015 g
– Tensid vom Fluortyp (MEGAFACE F-176, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)	0,02 g
– Methylethylketon	15 g
– 1-Methoxy-2-propanol	7 g

[VERGLEICHSBEISPIEL 1]
Der Flachdruckplattenvorläufer des Vergleichsbeispiels 1 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten, außer dass das folgende Vergleichspolymer (PA-1) anstelle des spezifischen Polymers (P-1) in der Zwischenschicht-bildenden Beschichtungslösung des Beispiels 1 verwendet wurde.
[VERGLEICHSBEISPIEL 2]
Der Flachdruckplattenvorläufer des Vergleichsbeispiels 2 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten, außer dass die Zwischenschicht nicht wie in Beispiel 1 vorgesehen wurde.
[BEWERTUNG]
Jeder der in den Beispielen 1 bis 9 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2 erhaltene Flachdruckplattenvorläufer wurde bezüglich der Bilderzeugungsfähigkeit, der Druckhaltbarkeit, der Gegenwart oder Abwesenheit von Schaumbildung (scumming) im Nicht-Bildbereich und der Lagerungsstabilität (Druckhaltbarkeit und Gegenwart oder Abwesenheit von Schaumbildung im Nicht-Bildbereich über die Zeit) auf die folgende Weise bewertet.
1. BILDERZEUGUNGSFÄHIGKEIT
Jeder der in den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhaltene Flachdruckplattenvorläufer wurde mit einer Oberflächenenergie von 140 mJ/cm² mit einem Trendsetter 3244, hergestellt von CREO, bildweise belichtet. Als nächstes wurde jeder in den Beispielen 1 bis 6 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2 erhaltene Flachdruckplattenvorläufer mit einer Entwicklungslösung "DT-1" für eine PS-Platte, welches eine Entwicklungslösung ist, die im wesentlichen kein Alkalimetallsilikat enthält und von Fuji Photo Film Co., Ltd. hergestellt wird, in einer automatischen Entwicklungsmaschine 900 NP entwickelt, und es wurde dann bewertet, ob das Bild exakt reproduziert wurde, oder nicht.
Der Flachdruckplattenvorläufer des Beispiels 7 wurde auf die gleiche Weise wie vorstehend mit einer Entwicklungslösung (Entwicklungslösung "DP-4" für eine PS-Platte, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), die ein Alkalimetallsilikat enthielt, entwickelt und bewertet.
Jeder in den Beispielen 8 und 9 erhaltene Flachdruckplattenvorläufer wurde mit einer Entwicklungslösung "LH-DS" für eine PS-Platte, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., unter Standard-Verwendungsbedingungen entwickelt und bewertet.
Die Bewertungsstandards waren wie folgt: Wenn ein Bild mit sehr großer Schärfe auf Grundlage von digitalen Informationen gebildet worden war, wurde dies als "A" definiert, wenn keine praktischen Probleme vorlagen, wurde dies als "B" definiert, wenn kein Bild präzise geformt worden war, wurde dies als "C" definiert, und wenn kein Bild gebildet worden war, wurde dies als "D" definiert.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
2. BEWERTUNG DER SCHAUMBILDUNGSEIGENSCHAFTEN (SCUMMING PROPERTY) EINES NICHT-BILDBEREICHES
Es wurde jeder Flachdruckplattenvorläufer, der durch Durchführen der gleichen Belichtungs- und Entwicklungsbehandlung wie vorstehend unter 1 erhalten wurde, verwendet, um das Drucken in einem Mitsubishi Dia Modell F2-Drucker (hergestellt von MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.) unter Verwendung von DIC-GEOS (s) roter Tinte durchzuführen, um die Blanket-Schaumbildung (blanket scumming) visuell zu bewerten, nachdem 10.000 Blätter gedruckt worden waren.
Der Bewertungsstandard war die folgt. Wenn keine Schaumbildung beobachtet wurde, wurde dies als "A" definiert, wenn nahezu keine Schaumbildung beobachtet wurde, wurde dies als "B" definiert, wenn geringe Schaumbildung beobachtet wurde, wurde dies als "C" definiert, und wenn eine signifikante Schaumbildung beobachtet wurde, wurde dies als "D" bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
3. BEWERTUNG DER DRUCKHALTBARKEIT
Jeder Flachdruckplattenvorläufer, der durch Durchführung der gleichen Belichtungs- und Entwicklungsbehandlung wie vorstehend unter 1 erhalten wurde, wurde verwendet, um das Drucken in einem Lithron-Drucker, hergestellt von Komori Corporation, unter Verwendung von DIC-GEOS (N) chinesischer Tinte, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc., durchzuführen, um die Druckhaltbarkeit durch de Anzahl der Ausdrucke zu bewerten, bei der visuell bestätigt wurde, dass die Dichte eines flächigen Bildes begann, sich zu verringern. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
4. LAGERUNGSSTABILITÄT
Die erhaltenen Plattenvorläufer wurden bei 35°C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 75 für 21 Tage gelagert, um die Druckhaltbarkeit und die Schaumbildungseigenschaften eines Nicht-Bildteils mit dem gleichen Verfahren wie vorstehend unter 2 und 3 zu bewerten. Diejenigen, die eine kleine Veränderung dieser Eigenschaften von vor bis nach der Lagerung zeigten, wurden so bewertet, dass sie eine bessere Langzeitstabilität besitzen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Wie in Tabelle 1 gezeigt, wurde gefunden, dass die Flachdruckplattenvorläufer der Beispiele, die das spezifische Polymer in der Zwischenschicht enthalten, bezüglich der Bilderzeugungsfähigkeit und auch bezüglich der Druckhaltbarkeit und der Schaumbildungseigenschaft eines Nicht-Bildbereiches überlegen sind. Das Polymer (PA-1), das in Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, ist ein Polymer, das gewöhnlich in der Zwischenschicht von konventionellen Flachdruckplattenvorläufern verwendet wird. Aus einem Vergleich zwischen dem Vergleichsbeispiel 1 und dem Beispiel 1, die unter den gleichen Bedingungen mit Ausnahme der Zwischenschicht hergestellt wurden, ist ersichtlich, dass die Druckhaltbarkeit weiter verbessert ist, während eine gute Bilderzeugungsfähigkeit und Schaumbildungseigenschaft eines Nicht-Bildbereiches beibehalten werden, indem das spezifisches Polymer in der Zwischenschicht enthalten ist. Es ist auch ersichtlich, dass das Vergleichsbeispiel 2, bei dem keine Zwischenschicht vorgesehen wurde, den Beispielen bezüglich der Druckhaltbarkeit und der Schaumbildungseigenschaft eines Nicht-Bildbereichs unterlegen ist.
Auch veränderten sich bei den erfindungsgemäßen Flachdruckplattenvorläufern weder die Druckhaltbarkeit noch die Schaumbildungseigenschaften eines Nicht-Bildbereiches über die Zeit, und daher wurde gefunden, dass sie bezüglich der Langzeitstabilität überlegen sind. Im Gegensatz hierzu ist ersichtlich, dass sich sowohl die Druckhaltbarkeit als auch die Schaumbildungseigenschaft eines Nicht-Bildbereiches des Flachdruckplattenvorläufers des Vergleichsbeispiels 1 über die Zeit verschlechterten.
Darüber hinaus ist ersichtlich, dass die erfindungsgemäßen Flachdruckplattenvorläufer in einer Entwicklungsbehandlung mit irgendeiner Entwicklungslösung gut entwickelt werden können.

Claims

Flachdruckplattenvorläufer, umfassend auf einem Träger in dieser Reihenfolge angeordnet eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das eine durch die folgende Formel (I) repräsentierte Struktur in dessen Seitenkette aufweist, und eine gegenüber Infrarotlaser fotoempfindliche, positive Aufzeichnungsschicht, die einen Infrarotabsorber enthält:
worin Y eine verbindende Gruppe darstellt, die mit einer Hauptkette des Polymers verbunden ist; R¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellt, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist, und R² eine geradkettige Kohlenwasserstoffgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist, ist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in der Formel (I) R¹ eine Alkylgruppe ist, die mit einer Carbonsäuregruppe substituiert ist, und R² eine geradkettige Alkylengruppe ist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur eine durch die folgende Formel (I-a) repräsentierte Struktur ist
und die durch Y dargestellte verbindende Gruppe eine Struktur ist, die aus den folgenden Strukturen ausgewählt ist:
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin der Gehalt der durch die Formel (I) repräsentierten Struktur in dem Polymer 5 mol% oder mehr beträgt.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin das Polymer ein Polymer ist, das durch Copolymerisieren eines Monomers, das die durch die Formel (I) repräsentierte Struktur aufweist, mit einem anderen Monomer erhalten wird.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 5, worin das andere Monomer ein Monomer ist, das eine Oniumgruppe aufweist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 5, worin das andere Monomer ein Monomer ist, das eine saure Gruppe aufweist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 5, worin das andere Monomer ein Monomer ist, das eine funktionelle Gruppe aufweist, die mit der Aufzeichnungsschicht Wechselwirken kann.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin der Gehalt des Polymers in der Zwischenschicht 50 bis 100 Massen% beträgt, bezogen auf die gesamten festen Inhaltsstoffe, die die Zwischenschicht aufbauen.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin das gewichtsgemittelte Molekulargewicht des Polymers 500 bis 1.000.000 beträgt.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin die Beschichtungsmenge der Zwischenschicht nach dem Trocknen 1 bis 100 mg/m² beträgt.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin die Aufzeichnungsschicht ein Alkali-lösliches Harz enthält.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 12, worin das Alkali-lösliche Harz eine saure Gruppe aufweist, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einer phenolischen Hydroxylgruppe, einer Sulfonamidgruppe, einer substituierten sauren Sulfonamidgruppe, einer Carbonsäuregruppe, einer Sulfonsäuregruppe und einer Phosphorsäuregruppe besteht.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin der Infrarotabsorber ein Cyaninfarbstoff ist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin die Aufzeichnungsschicht eine Multischichtstruktur aufweist.
Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin der Träger ein Träger ist, der einer hydrophilisierenden Behandlung unter Verwendung eines Alkalimetallsilikats unterzogen worden ist.