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GEBIET DER ERFINDUNG:
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Die
vorliegende Erfindung betrifft einen wärmeempfindlichen Lithografie-Druckplattenvorläufer, der
die direkte Plattenherstellung ohne Erfordernis einer Entwicklungsverarbeitung
ermöglicht
und eine lange Drucklebensdauer für Offset-Druckplatte sicherstellen
kann. Genauer betrifft die Erfindung einen Lithografie-Druckplattenvorläufer, auf
dem Bilder durch Rasterbelichtung auf Basis von digitalen Signalen
aufgezeichnet werden können,
und der nach dem Aufzeichnen der Bilder in eine Druckmaschine geladen
und dem Druckbetrieb unterworfen werden kann, ohne eine Entwicklung
der aufgezeichneten Bilder mit einem herkömmlichen flüssigen Entwickler zu durchlaufen.
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HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
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Im
allgemeinen ist eine Lithografieplatte aufgebaut aus einem oleophilen
Bildbereich, der im Druckschritt Tinte aufnimmt, und einem hydrophilen
Nichtbildbereich, der Wischwasser aufnimmt, das vor dem Tintenauftragsschritt
darauf aufgebracht wird. Zur Herstellung einer solchen Lithografieplatte
wird verbreitet eine vorsensibilisierte Platte (nachfolgend als
PS-Platte abgekürzt),
die einen wasserbenetzbaren (d.h. hydrophilen) Träger und
eine darauf aufgebrachte tintenaufnehmende Fotopolymerschicht umfasst,
als Plattenmaterial verwendet. In einem herkömmlichen Verfahren zur Herstellung
der gewünschten
Druckplatte aus einer solchen PS-Platte wird die Belichtung im allgemeinen über ein
Original, wie beispielsweise einen Lithofilm, durchgeführt, und
dann wird der Nichtbildbereich mit einem Entwickler aufgelöst und entfernt.
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Das
herkömmliche
Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer
PS-Platte erfordert einen Schritt des Entfernens des Nichtbildbereichs
durch Auflösen
nach der Belichtung. Unter den erwarteten Verbesserungen gegenüber dem üblichen
Stand der Technik ist es ein Ziel, die zusätzliche Nassverarbeitung überflüssig oder
einfach zu machen. Insbesondere in letzter Zeit war die Entsorgung
des flüssigen Abfalls,
der im Betrieb der Nassverarbeitung anfiel, in der gesamten industriellen
Welt im Hinblick auf globale Umweltbetrachtungen ein Gegenstand
von grosser Bedeutung. Daher wurde der Bedarf nach Verbesserungen in
dieser Hinsicht noch stärker.
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Ein
Verfahren, das als einfaches Plattenherstellungsverfahren als Antwort
auf diese Anforderungen vorgeschlagen wurde, umfasst die Verwendung
einer Bildaufzeichnungsschicht, die es erlaubt, die Nichtbildbereiche
eines Druckplattenvorläufers
während
des allgemeinen Druckprozesses zu entfernen und die Entwicklung
nach der Belichtung auf der Druckmaschine durchzuführen, wodurch
die schlussendliche Druckplatte erhalten wird. Das System zur Herstellung
einer Lithografiedruckplatte nach dem vorgenannten Verfahren wird als "auf-der-Druckpresse-Entwicklungssystem" bezeichnet. Als
ein spezifisches Beispiel hierfür
ist das Verfahren zu nennen, worin eine Bildaufzeichnungsschicht verwendet
wird, die in einer Wischlösung
oder einem Tintenlösungsmittel
löslich
wird, und die Nichtbildbereiche werden mechanisch durch den Kontakt
mit dem Druckzylinder oder dem Drucktuchzylinder, die in einer Druckmaschine
installiert sind, entfernt. Das auf-der-Druckpresse-Entwicklungssystem nach
dem herkömmlichen
Bildaufzeichnungsverfahren unter Verwendung von UV- oder sichtbarem
Licht hat jedoch den Nachteil, dass die Bildaufzeichnungsschicht
selbst nach der Belichtung unfixiert zurückbleibt. Daher erfordert ein
solches System mühevolle
Vorkehrungen, damit der Druckplattenvorläufer unter vollständig abschattierten
oder thermostatierten Bedingungen gelagert wird, bis er in einer Druckmaschine
installiert wird.
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Andererseits
ist es ein weiterer neuer Trend im vorliegenden Bereich, dass sich
die Technologie der Digitalisierung von Bildinformation weit verbreitet
hat, worin die Bildinformation unter Verwendung eines Computers
elektronisch verarbeitet, gespeichert und wiedergegeben wird. Darüber hinaus
sind eine Vielzahl neuer Bildwiedergabesysteme zur praktischen Anwendung
gelangt, die mit diesen Digitalisierungstechnologien Schritt halten.
Unter diesen Umständen
hat die Computer-auf-Platte-Technologie,
die die direkte Plattenherstellung durch Rasterbelichtung des Druckplattenvorläufers mit
Strahlung hoher Richtcharakteristik, wie beispielsweise Laserstrahlen,
die die digitalisierte Bildinformation übertragen, ohne einen Lithofilm
zu verwenden, erhebliche Aufmerksamkeit erhalten. Die Herstellung
von Druckplattenvorläufern,
die für
diese Technologie geeignet sind, ist ein wesentliches technisches
Problem.
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Folglich
wurde der Bedarf nach einer Vereinfachung des Plattenherstellungsbetriebs
und Durchführung
desselben in einem Trockenprozess oder ohne Verarbeitung im Hinblick
auf sowohl den Umweltschutz als auch die Anpassung an die Digitalisierung
sehr viel stärker
als bisher.
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Unter
den Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung der Rasterbelichtung,
in die die Digitalisierungstechniken leicht zu inkorporieren sind,
ist ein besonders vielversprechendes Verfahren ein Plattenherstellungsverfahren
unter Verwendung einer Feststofflaservorrichtung mit hoher Ausgangsleistung
als Bildaufzeichnungsmittel, wie beispielsweise einer Halbleiterlaservorrichtung
oder einer YAG-Laservorrichtung, da eine solche Vorrichtung seit
kurzem zu einem niedrigen Preis erhältlich ist. Im herkömmlichen
Plattenherstellungsverfahren wird die bildweise Belichtung mit niedriger
bis mittlerer Bestrahlungsintensität auf einem fotoempfindlichen
Druckplattenvorläufer
durchgeführt,
wodurch eine bildweise fotochemische Reaktion auf der Druckplattenvorläuferoberfläche hervorgerufen
wird. Als Ergebnis wird auf der Druckplattenvorläuferoberfläche eine bildweise Veränderung
der physikalischen Eigenschaften hervorgerufen, wodurch das Bild
aufgezeichnet wird. Andererseits unterliegt in dem Verfahren unter
Verwendung einer hochenergiedichten Belichtung, wie beispielsweise
der Belichtung mit einer Laservorrichtung hoher Ausgangsleistung,
die belichtete Fläche
einer instantanen konzentrierten Belichtung mit Licht mit hoher
Energiemenge, was zu einer effizienten Umwandlung der Energie des
Belichtungslichts in thermische Energie resultiert. Diese thermische
Energie bewirkt verschiedene thermische Veränderungen, wie beispielsweise
chemische Veränderung,
Phasenveränderung
und Veränderungen
der Form und Struktur, und diese Veränderungen werden zur Aufzeichnung
von Bildern ausgenutzt. Mit anderen Worten wird die Bildinformation
in Form von Lichtenergie, wie beispielsweise Laserstrahlen, zugeführt, die
Aufzeichnung der Bilder erfolgt jedoch über eine Reaktion, die durch
thermische Energie hervorgerufen wird. Im allgemeinen wird ein solches
Aufzeichnungssystem, das die Belichtung mit hoher Energiedichte
ausnutzt, als Wärmemodusaufzeichnung
bezeichnet, und die Umwandlung von Lichtenergie in Wärmeenergie
wird als Licht/Wärme-Umwandlung
bezeichnet.
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Das
Plattenherstellungsverfahren unter Anwendung eines Wärmemodus-Aufzeichnungsmittels
hat den grossen Vorteil, dass die wärmemodusempfindlichen Materialien
gegenüber
Licht herkömmlicher
Strahlungsintensität
im weitesten Sinne unempfindlich sind, und die Fixierung der Bilder,
die durch Belichtung mit hoher Bestrahlungsintensität aufgezeichnet
werden, nicht immer wesentlich ist. Anders ausgedrückt, wenn
die wärmemodusempfindlichen
Materialien zur Aufzeichnung von Bildern verwendet werden, sind
sie vor der Belichtung gegenüber
Raumlicht sicher und darüber
hinaus erfordern sie nicht immer eine Fixierung der Bilder nach
der Belichtung. Wenn eine Bildaufzeichnungsschicht von dem Typ verwendet
wird, die durch Wärmemodusbelichtung
entweder löslich
oder unlöslich
gemacht werden kann und das auf-der-Presse-Entwicklungssystem im
Plattenherstellungsschritt zur bildweisen Entfernung der belichteten
Aufzeichnungsschicht angewandt wird, wird es daher bei grafischen
Systemen möglich,
aufgezeichnete Bilder hervorzubringen, die nicht durch die Entwicklung
(die Entfernung von Nichtbildbereichen), die durchgeführt wird,
nachdem die belichtete Bildaufzeichnungsschicht für eine gewisse
Zeit dem Raumlicht ausgesetzt ist, beeinträchtigt werden.
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Daher
wird erwartet, dass die Verwendung der Wärmemodusaufzeichnung es ermöglicht,
Lithografie- Druckplattenvorläufer zu
entwerfen, die für
das auf-der-Presse-Entwicklungssystem
geeignet sind.
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Als
ein wünschenswertes
Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte auf Basis
der Wärmemodusaufzeichnung
wird ein Verfahren vorgeschlagen, worin die hydrophobe Bildaufzeichnungsschicht,
die auf einem hydrophilen Substrat bereitgestellt ist, der Wärmemodusbelichtung
unterworfen wird, wodurch deren Löslichkeit oder Dispergierbarkeit
verändert
wird, und die Nichtbildbereiche bei Bedarf durch Nassentwicklung entfernt
werden.
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Als
Beispiele für
einen in dem vorgeschlagenen Verfahren verwendbaren Lithografie-Druckplattenvorläufer offenbart
JP-B-46-27919 (der Ausdruck "JP-B", wie er hierin verwendet
wird, bedeutete eine "geprüfte japanische
Patentveröffentlichung") Druckplattenvorläufer zur
Wärmemodusaufzeichnung,
die jeweils auf einem hydrophilen Träger eine Aufzeichnungsschicht
aufweisen, deren Löslichkeit
durch Wärme
erhöht
wird, d.h. eine sogenannte positiv arbeitende Aufzeichnungsschicht,
genauer eine Aufzeichnungsschicht mit einer bestimmten Zusammensetzung,
die Saccharide oder Melamin-Formaldehyd-Harz umfasst.
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Diese
offenbarten Aufzeichnungsschichten haben jedoch eine unzureichende
Thermoempfindlichkeit und folglich ist ihre Empfindlichkeit für die Wärmemodus-Rasterbelichtung
ebenfalls unzureichend. Darüber
hinaus besteht das praktische Problem, dass sie eine geringe Diskriminierung
zwischen Hydrophobizität
und Hydrophilizität,
d.h. eine geringe Veränderung
der Löslichkeit
vor und nach der Belichtung zeigen. Wenn die Diskriminierung gering
ist, ist es erheblich erschwert, Druckplatte unter Verwendung des
auf-der-Presse-Entwicklungssystems herzustellen.
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Des
weiteren offenbart WO 98/40212 einen Lithografie-Druckplattenvorläufer, der eine hydrophile Schicht,
die ein Übergangsmetalloxidkolloid
umfasst, auf einem Substrat aufweist, das mit einer tintenaufnehmenden
Schicht beschichtet ist, die ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel umfasst
und die Plattenherstellung oder -Entwicklung ermöglicht. Die hydrophile Schicht,
die das Übergangsmetalloxidkolloid
umfasst, wird dabei durch die Wärme,
die durch das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
in den belichteten Bereichen freigesetzt wird, ablatiert. Da das
Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
auf der Substratseite vorhanden ist, wird die aus dem absorbierten
Licht umgewandelte Wärme
jedoch auch in das Substrat emittiert und kann so nicht effektiv
zur Ablation der hydrophilen Schicht, die das Kolloid umfasst, ausgenutzt
werden. Daher weist dieser Plattenvorläufer den Nachteil auf, dass
er eine geringe Empfindlichkeit besitzt. Ferner offenbaren JP-A-55-105560
(der Ausdruck "JP-A", wie er hier verwendet
wird, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte
japanische Patentanmeldung")
und WO 94/18005 jeweils einen Lithografie-Druckplattenvorläufer mit
einer hydrophilen Schicht, die ähnlich
der oben genannten zur Ablation geeignet ist, auf einem Substrat,
das mit einer oleophilen Licht/Wärme-Umwandlungsschicht
beschichtet ist. Diese Vorläufer
besitzen aus den gleichen Gründen
wie oben genannt ebenfalls eine geringe Empfindlichkeit.
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Zum
Zweck der Verbesserung des Nachteils der geringen Empfindlichkeit
und der thermisch ablatierbaren wärmeempfindlichen Lithografie-Druckplattenvorläufer, wie
oben beschrieben, sind Lithografie-Druckplattenvorläufer, die
ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
in einer hydrophilen Kolloidschicht als oberste Schicht enthalten,
in WO 99/19143 und WO 99/19144 offenbart. Diese Druckplattenvorläufer haben
tatsächlich eine
erhöhte
Empfindlichkeit, das zu der hydrophilen Schicht zugegebene Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verringert
jedoch die Filmqualität
der hydrophilen Schicht, wodurch die Druckkapazität abnimmt
oder in einigen Fällen
die hydrophilen Eigenschaften der hydrophilen Schicht verdorben
werden, wodurch ein neues eingehendes Problem hervorgerufen wird,
dass die Nichtbildbereiche während
des Druckbetriebs mit Tinte verschmutzt werden.
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Weiterhin
weisen solche herkömmlichen,
die Ablation ausnutzenden, wärmeempfindlichen
Vorläufer von
Lithografiedruckplatten das zusätzliche
Problem auf, dass die Ablationsrückstände gestreut
werden, wodurch eine Verschmutzung der Laserbelichtungsvorrichtung
und des optischen Systems hervorgerufen wird, wodurch die Auflösung abnimmt
und ferner die Rückstände aus
der Vorrichtung nach aussen verstreut werden.
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EP-0
816 070 beschreibt eine Ablationssteuerung. Nach diesen Patent weist
das wärmeempfindliche Aufzeichnungselement
eine ein hydrophiles Polymer enthaltende wasserlösliche oder wasserquellbare Schutzschicht
auf der bildgebenden Schicht auf, die auf einem hydrophilen Träger bereitgestellt
ist, und umfasst hydrophobe thermoplastische Polymerteilchen und
ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
in einem solchen Zustand, dass sie in einem hydrophilen Bindemittel
dispergiert sind. Die auf der Bildgebungsschicht bereitgestellte
Schutzschicht steuert die Ablation. Das in dem Patent beschriebene
Bildaufzeichnungsverfahren besteht jedoch darin, dass die hydrophoben
thermoplastischen Polymerteilchen durch die durch Bestrahlung mit
dem Laser freigesetzte Wärme
schmelzen, wodurch die bildgebende Schicht in Wasser unlöslich wird,
und die vom Laser unbestrahlte Fläche wird durch Entwicklung
mit Wasser oder einer wässrigen
Lösung
aufgelöst und
entfernt, wodurch die bestrahlte Fläche des Bildbereichs zurückbleibt.
Die parallel zum thermischen Schmelzen der Polymerteilchen in der
bestrahlten Fläche
sekundär
auftretende Ablation verschlechtert dabei die Bildfläche, wodurch
eine Verschlechterung der Druckqualität hervorgerufen wird. Da das
der Fall ist, fungiert die Schutzschicht so, dass sie diese Ablation
steuert. Im Gegensatz dazu besteht das Ablationsverfahren in der
Entfernung der laserbestrahlten Fläche durch Ablation; als Ergebnis
ist die Erzeugung von Abbrand im Ablationsverfahren unvermeidlich.
Als Massnahme zur Steuerung der Abbrandstreuung wurde bisher eine
Ablationsabbrandfalle an der Belichtungsvorrichtung installiert.
Es ist jedoch schwierig, die Abbrandverschmutzung vollständig zu
vermeiden, auch wenn eine Falle installiert ist.
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Während das
grafische System, in dem die Wärmemodus-Bildaufzeichnung
angewandt wird, dahingehende Vorteile aufweist, dass die Maschinenplatte
direkt von einer kamerafertigen Kopie ohne jeglichen Film hergestellt
und die Entwicklung ausgelassen werden kann, weist sie jedoch auch
Nachteile auf, wie oben erwähnt.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
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Ein
erfindungsgemässes
Ziel ist daher die Lösung
der Probleme herkömmlicher
Wärmemodus-Plattenherstellungsverfahren,
bei denen die Laserbestrahlung zur Aufzeichnung von Bildern verwendet
wird. Genauer ist es ein erfindungsgemässes Ziel, einen wärmeempfindlichen
Lithografie-Druckplattenvorläufer
bereitzustellen, der zur Kurzzeitrasterbelichtung geeignet ist,
direkt in eine Druckmaschine ohne Entwicklung installiert und dem
Druckbetrieb unterworfen werden kann, und eine hohe Drucklebensdauer
und Verschmutzungsfreiheit (d.h. keine Fleckbildung) der Lithografiedruckplatte
sicherstellt.
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Ein
weiteres erfindungsgemässes
Ziel ist die Bereitstellung eines wärmeempfindlichen Lithografie-Druckplattenvorläufers, der
die Steuerung der Ablation (Streuung) einer wärmeempfindlichen Schicht bei Belichtung
mit Laserstrahlen ermöglicht,
wodurch die Verschmutzung der Belichtungsvorrichtung und des optischen
Systems einschliesslich der Lichtquelle verringert wird.
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Noch
ein weiteres erfindungsgemässes
Ziel ist die Bereitstellung eines wärmeempfindlichen Lithografie-Druckplattenvorläufers, der
die Ausnutzung der Ablation als bildgebendes Mittel ohne Verschlechterung
der Druckplatteneigenschaften, einschliesslich einer Verringerung
der Empfindlichkeit, ermöglicht,
und die Steuerung von Ablationsabbrand aus der wärmeempfindlichen Schicht bei
Belichtung mit Laserstrahlung erlaubt, wodurch eine verringerte
Verschmutzung der Belichtungsvorrichtung und des optischen Systems
sichergestellt wird.
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Als
Ergebnis unserer intensiven Studien der vorgenannten Gegenstände wurde
gefunden, dass die Ausbildung einer wasserlöslichen Überzugsschicht auf einer hydrophilen
Schicht die Streuung der hydrophilen Schicht zum Zeitpunkt der Ablation
ohne nachteilige Beeinträchtigung
der Empfindlichkeit, der Druckkapazität, der Druckeignung und der
Eignung zur auf-der-Presse-Entwicklung steuern kann. Ferner wurde
entdeckt, dass bei Bereitstellung einer wasserlöslichen Überzugsschicht, die ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
enthält,
als oberste Schicht über
einer hydrophilen Schicht die hohe Empfindlichkeit beibehalten werden
kann, ohne dass die Druckkapazität
und Druckeignung abnehmen, und die Ablation (Streuung) der hydrophilen
Schicht gesteuert werden kann. Auf Grundlage dieser Entdeckungen
wurde die Erfindung erhalten.
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Genauer
sind die erfindungsgemässen
Ausführungsformen
wie folgt:
- (1) Wärmeempfindlicher Lithografie-Druckplattenvorläufer, der
eine auf einem Substrat, das eine tintenaufnehmende Oberfläche besitzt
oder mit einer tintenaufnehmenden Schicht beschichtet ist, bereitgestellte
hydrophile Schicht umfasst; der Plattenvorläufer weist ferner eine wasserlösliche Überzugsschicht
auf der hydrophilen Schicht auf, und die hydrophile Schicht ist
eine dreidimensional vernetzte hydrophile Schicht, deren erwärmte Fläche leicht
durch eine Sprühlösung oder
Tinte entfernt wird, wenn sie dem Druckbetrieb unterworfen wird.
- (2) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1), worin die Überzugsschicht
ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
umfasst.
- (3) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1) oder (2), worin mindestens eine aus der hydrophilen Schicht
und der tintenaufnehmenden Schicht ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel umfasst.
- (4) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1), (2) oder (3), worin die vernetzte hydrophile Schicht ein Kolloid aus
mindestens einer Verbindung umfasst, die ausgewählt ist aus Oxiden oder Hydroxiden
von Beryllium, Magnesium, Aluminium, Silicium, Titan, Bor, Germanium,
Zinn, Zirkon, Eisen, Vanadium, Antimon und Übergangsmetallen.
- (5) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1), (2) oder (3), worin die vernetzte hydrophile Schicht ein Kolloid
aus mindestens einer Verbindung, ausgewählt aus Oxiden oder Hydroxiden
von Beryllium, Magnesium, Aluminium, Silicium, Titan, Bor, Germanium,
Zinn, Zirkon, Eisen, Vanadium, Antimon und Übergangsmetallen, und ein hydrophiles
Harz umfasst.
- (6) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1), (2) oder (3), worin die vernetzte hydrophile Schicht ein Kolloid
aus mindestens einer Verbindung, ausgewählt aus Oxiden oder Hydroxiden
von Beryllium, Magnesium, Aluminium, Silicium, Titan, Bor, Germanium,
Zinn, Zirkon, Eisen, Vanadium, Antimon und Übergangsmetallen, und ein Vernetzungsmittel
für das
Kolloid umfasst.
- (7) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(1), (2) oder (3), worin die vernetzte hydrophile Schicht ein Kolloid
aus mindestens einer Verbindung, ausgewählt aus Oxiden oder Hydroxiden
von Beryllium, Magnesium, Aluminium, Silicium, Titan, Bor, Germanium,
Zinn, Zirkon, Eisen, Vanadium, Antimon und Übergangsmetallen, ein hydrophiles
Harz und ein Vernetzungsmittel für
das Kolloid umfasst.
- (8) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(5) oder (7), worin das hydrophile Harz eine hochmolekulare Verbindung
mit Hydroxylgruppen oder Carboxylgruppen ist.
- (9) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(5) oder (7), worin das hydrophile Harz ein Hydroxyalkylacrylat-Homo- oder -Copolymer
oder ein Hydroxyalkylmethacrylat-Homo- oder -Copolymer ist.
- (10) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(6) oder (7), worin das Vernetzungsmittel ein anfängliches
hydrolytisches Kondensationsprodukt von Tetraalkoxysilan, Trialkoxysilylpropyl-N,N,N-trialkylammoniumhalogenid
oder Aminopropyltrialkoxysilan ist.
- (11) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(4) bis (10), worin das Kolloid ein Sol ist, das ein hydrolytisches
Kondensationsprodukt von Dialkoxysilan, Trialkoxysilan, Tetraalkoxysilan
oder eine Mischung davon umfasst.
- (12) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(4) bis (10), worin das Kolloid ein Sol ist, das ein hydrolytisches
Kondensationsprodukt von Aluminium-, Titan- oder Zirkontetraalkoxid
umfasst.
- (13) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(4) bis (10), worin das Kolloid ein Kolloid ist, das eine organische
Lösungsmittellösung enthält.
- (14) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(13), worin das organische Lösungsmittel
Methanol oder Ethanol ist.
- (15) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin das Substrat eine Polyethylenterephthalat-
oder Polycarbonatfolie ist.
- (16) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin das Substrat ein Aluminium- oder Stahlblatt
ist, das mit einem tintenaufnehmenden, organischen, hochmolekularen
Harz beschichtet ist.
- (17) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin das Substrat ein Aluminium- oder Stahlblatt
ist, das mit einer oleophilen Kunststoffolie laminiert ist.
- (18) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin das Substrat ein Papier ist, das mit einem
tintenaufnehmenden organischen Polymer beschichtet ist, oder ein
Papier, das mit einer oleophilen Kunststoffolie laminiert ist.
- (19) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin die Überzugsschicht
ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
und ein wasserlösliches
Harz umfasst.
- (20) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(2), worin das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
einen wasserlöslichen
Farbstoff mit einer Absorption im Infrarotbereich oder ein Pigment,
dessen Oberfläche
mit einer wasserlöslichen
Verbindung bedeckt ist, darstellt.
- (21) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Ausführungsform
(20), worin der wasserlösliche
Farbstoff ein Cyaninfarbstoff mit mindestens einer Gruppe, ausgewählt aus
einer Sulfonsäuregruppe,
einem Alkalimetallsalz davon und einem Aminsalz davon, ist.
- (22) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin die Überzugsschicht
eine Dicke von 0,05–4,0 μm besitzt.
- (23) Wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss mindestens
einer der Ausführungsformen
(1), (2) oder (3), worin die vernetzte hydrophile Schicht eine Dicke
von 0,1 bis 3 μm
aufweist.
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Gemäss den erfindungsgemässen Ausführungsformen
entwickelt das in die Überzugsschicht
inkorporierte Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
bei Belichtung mit Laserstrahlung Wärme, und die entwickelte Wärme konvertiert
die dreidimensional vernetzte, hydrophile Schicht, die unter der Überzugsschicht
vorhanden ist, in einen solchen Zustand, dass sie aufgrund der Anwesenheit
der Überzugsschicht
keine Ablation (Streuung) entwickelt, aber leicht durch eine später verwendete
Benetzungslösung
oder Tinte entfernt wird. Der Bereich, der der Konversion durch
die Wärme
unterworfen wurde, wird von der darunterliegenden tintenaufnehmenden Schicht
entfernt (d.h. abgeschält),
wodurch die Bildfläche
erzeugt wird. Obwohl die Einzelheiten dieses Mechanismus noch nicht
nachgewiesen sind, wird das oben beschriebene Phänomen erfindungsgemäss durch
den Begriff "ablationsartige
Entfernung oder Freisetzung" ausgedrückt. Tatsächlich wird
die Ablation (Streuung) der hydrophilen Schicht durch die Überzugsschicht,
die als oberste Schicht vorhanden ist, gesteuert, und es scheint,
dass die Adhäsion
der hydrophilen Schicht an der tintenaufnehmenden Schicht verringert
wird, wodurch die Bilderzeugung zum Zeitpunkt des Druckens ermöglicht wird.
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Erfindungsgemäss wird
die hydrophile Schicht, deren ablationsartige Ablösung von
der tintenaufnehmenden Schicht bewirkt wurde, durch eine zum Zeitpunkt
des Druckens verwendete Benetzungslösung oder Tinte entfernt. Selbstverständlich wird
die Überzugsschicht
vor der Entfernung der abgelösten
(d.h. abgeschälten)
Fläche
der hydrophilen Schicht durch eine Benetzungslösung entfernt. Gleichzeitig
mit der Entfernung der Überzugsschicht
kann die hydrophile Schicht im Zustand der ablationsartigen Ablösung entfernt
werden. Wenn die hydrophile Schicht entfernt ist, erscheint die
tintenaufnehmende Schicht als darunterliegende Schicht und bildet
den Bildbereich. Andererseits bleibt die unbelichtete Fläche des
Druckplattenvorläufers
hydrophil wie sie ist, so dass sie Wasser aufnimmt und Tinte abstösst. Auf
diese Weise wird der belichtete Druckplattenvorläufer auf einer Druckmaschine
entwickelt und kann gleichzeitig den Druckvorgang ausführen. Bei
der Plattenherstellung erfordert die vorliegende Druckplatte keine
Nassverarbeitung mit einem Entwickler im Gegensatz zu herkömmlichen
Lithografiedruckplatten. Mit anderen Worten kann die Lithografiedruckplatte
ohne Entwicklung hergestellt werden.
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Für den Zeitraum
von der Belichtung des Druckplattenvorläufers bis zur Installation
der Druckplatte in einer Druckmaschine passiert es häufig, dass
die Druckplatte für
viele Stunden an der Luft stehen bleibt oder mit tintenbeschmutzten
Händen
gehandhabt wird, was zu einer Adhäsion oleophiler Substanzen
auf der Druckplattenoberfläche
führt.
Die vorliegende Erfindung schützt
jedoch die hydrophile Schicht, die zur Nichtbildfläche wird,
vor der Adhäsion
oleophiler Substanzen, indem die wasserlösliche Überzugsschicht als oberste
Schicht bereitgestellt wird, so dass zum Zeitpunkt des Druckens
keine Verschmutzung entwickelt wird.
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Darüber hinaus
ermöglicht
die Zugabe eines Licht/Wärme-Umwandlungsmittels
in die Überzugsschicht
die direkte Übertragung
der darin erzeugten Wärme
in die hydrophile Schicht, die unter der Überzugsschicht bereitgestellt
ist, und folglich kann die entwickelte Wärme mit nahezu der gleichen
Effizienz ausgenutzt werden wie in dem Fall, dass das Mittel zu
der hydrophilen Schicht zugegeben ist. Als Ergebnis findet erfindungsgemäss nahezu
keine Verringerung der Empfindlichkeit statt. Demzufolge ist es
erfindungsgemäss
möglich,
die Streuung der hydrophilen Schicht, die durch Ablation hervorgerufen
wird, zu steuern, während
die Empfindlichkeit beibehalten wird. Durch Steuerung der durch
die Ablation hervorgerufenen Streuung werden die Laserbelichtungsvorrichtung
und das optische System einschliesslich der Lichtquelle verschmutzungsfrei und
daher wird die Installation irgendeines besonderen Ablationsabbrandfängers an
der Apparatur überflüssig.
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Folglich
werden die grundlegenden Probleme von verarbeitungsfreien direkten
Druckplatten durch Bereitstellung der Überzugsschicht gleichzeitig
gelöst.
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Wie
bereits erwähnt,
kommt es regelmässig
vor, dass die Druckplatte für
einen Zeitraum von der Belichtung des Druckplattenvorläufers bis
zur Installation der Druckplatte in einer Druckmaschine an der Luft
für zahlreiche
Stunden stehen bleibt oder mit tintenverschmutzten Händen gehandhabt
wird, was zu einer Adhäsion
oleophiler Substanzen an der Plattenoberfläche führt. Bezüglich der Schutzmassnahmen
gegen solche Verschmutzungen durch Anhaftung von oleophilen Substanzen
bei herkömmlichen
Systemen, die eine Entwicklungsverarbeitung durchführen, wird
die Plattenoberfläche
dadurch geschützt,
dass sie mit einer wasserlöslichen
Substanz im Gummierungsschritt als letztem Schritt des Verfahrens
bedeckt wird. Andererseits wurde bei verarbeitungsfreien Druckplatten
eine solche verschmutzungsverhindernde Massnahme nie ergriffen; als
Ergebnis wird die hydrophile Oberflächenschicht direkt verschmutzt
und es besteht eine Neigung zur Schmutzbildung. Erfindungsgemäss wird
die hydrophile Schicht, die zum Nichtbildbereich wird, jedoch durch die
wasserlösliche Überzugsschicht,
die als oberste Schicht bereitgestellt wird, vor der Adhäsion oleophiler Substanzen
geschützt,
so dass zum Zeitpunkt des Druckvorgangs keine Schmutzbildung hervorgerufen
wird.
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Auf
diese Weise kann auch das weitere grundlegende Problem, das mit
verarbeitungsfreien direkten Druckplatte verbunden ist, gleichzeitig
durch Bereitstellung der Überzugsschicht
gelöst
werden.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
DER ERFINDUNG:
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Die
Ausführungsformen
zur Durchführung
der Erfindung werden nachfolgend detailliert dargestellt.
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Die
erfindungsgemäss
verwendete, wasserlösliche Überzugsschicht
kann leicht zum Zeitpunkt des Druckvorgangs entfernt werden und
enthält
ein Harz, ausgewählt
aus wasserlöslichen,
organischen oder anorganischen hochmolekularen Verbindungen. Die
wasserlöslichen,
organischen oder anorganischen Harze (hochmolekulargewichtige Verbindungen),
die hierin verwendbar sind, sind Harze, die beim Aufschichten und Trocknen
zur Filmbildung in der Lage sind, und Beispiele schliessen Polyvinylacetat
(mit einem Hydrolyseverhältnis
von mindestens 65 %), Polyacrylsäure
und Alkalimetall- oder
Aminsalze davon, Polyacrylsäure-Copolymere
und Alkalimetall- oder Aminsalze davon, Polymethacrylsäure und
Alkalimetall- oder Aminsalze davon, Polymethacrylsäure-Copolymer und Alkalimetall-
oder Aminsalze davon, Polyacrylamid und Polyacrylamid-Copolymere,
Polyhydroxyethylacrylat, Polyvinylpyrrolidon und Polyvinylpyrrolidon-Copolymere,
Poly(vinylmethylether), Polyvinylmethylether-Maleinsäureanhydrid-Copolymer,
Poly(2-acrylamid-2-methyl-1-propansulfonsäure) und Alkalimetall- oder
Aminsalze davon, Poly-2-acrylamid-2-methyl-1-propansulfonsäure-Copolymere
und Alkalimetall- oder
Aminsalze davon, Gummi arabicum, Cellulosederivate (wie Carboxymethylcellulose,
Carboxyethylcellulose und Methylcellulose) und Modifikationen davon,
weisses Dextrin, Pullulan und enzymatisch zersetztes verethertes
Dextrin ein. Diese Harze können
in Abhängigkeit
vom gewünschten
Verwendungszweck in Form einer Mischung aus zwei oder mehreren davon
verwendet werden.
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Darüber hinaus
kann das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
erfindungsgemäss
in der wasserlöslichen Überzugsschicht
enthalten sein, und gleichzeitig kann das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
ferner in der hydrophilen Schicht. und/oder der tintenaufnehmenden
Schicht enthalten sein.
-
Oder
das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
kann in der hydrophilen Schicht und/oder der tintenaufnehmenden
Schicht enthalten sein, und ferner kann das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
gleichzeitig in der wasserlöslichen Überzugsschicht
enthalten sein.
-
Das
erfindungsgemäss
verwendete Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
kann eine Substanz sein, die zur Absorption von Licht von 700 nm
oder höheren
Wellenlängen
in der Lage ist, und folglich sind verschiedene Arten von Pigmenten
und Farbstoffen verwendbar. Beispiele für verwendbare Pigmente als
das vorgenannte Mittel schliessen kommerziell erhältliche
Pigmente ein, sowie die Pigmente, die beschrieben sind in Color
Index (C.I.) Handbook, Saishin Ganryo Binran ("Newest Handbook of Pigments"), zusammengestellt
von Nippon Ganryo Kyokai, veröffentlicht
1977, Saishin Ganryo Ohyo Gijutsu ("Newest Application Arts of Pigments"), veröffentlicht
von CMC Shuppan, 1986, und Insatsu Ink Gijutsu ("Techniques for Printing Ink"), veröffentlicht
von CMC Shuppan, 1984.
-
Als
Pigmenttypen sind Schwarzpigmente, Braunpigmente, Rotpigmente, Violettpigmente,
Blaupigmente, Grünpigmente,
Fluoreszenzpigmente, Metallpulverpigmente und polymergebundene Farbstoffe
als Beispiele zu nennen. Genauer schliessen Beispiele für die verwendbaren
Pigmente unlösliche
Azopigmente, Azobeizenpigmente, kondensierte Azopigmente, Chelatazopigmente,
Phthalocyaninpigmente, Anthrachinonpigmente, Perylen- und Perynonpigmente, Thioindigopigmente,
Chinacridonpigmente, Dioxazinpigmente, Isoindolinonpigmente, Chinophthalonpigmente,
Farbbeizenpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente,
natürliche
Pigmente, Fluoreszenzpigmente, anorganische Pigmente und Russ ein.
-
Diese
Pigmente können
ohne Oberflächenbehandlung
verwendet werden, oder nachdem sie einer Oberflächenbehandlung unterworfen
wurden. Beispiele für
ein Oberflächenbehandlungsverfahren
schliessen das Verfahren der Aufschichtung eines hydrophilen oder
oleophilen Harzes auf die Pigmentoberfläche, das Verfahren des Anhaftens
eines Tensids an die Pigmentoberfläche und das Verfahren der Bindung
einer reaktiven Substanz (z.B. eines Silicasols, eines Aluminiumsols,
eines Silan-Kupplungsmittels,
einer Epoxyverbindung, einer Polyisocyanatverbindung) an die Pigmentoberfläche ein.
Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind
beschrieben in Kinzoku Sekken no Seishitu to Ohyo ("Properties of Metallic
Soap and Application thereof"),
veröffentlicht
von Miyuki Shobo, Insatu Ink Gijutu ("Techniques for Printing Ink"), veröffentlicht
von CMC Shuppan, 1984, und Saishin Ganryo Ohyo Gijutu ("Newest Application
Arts of Pigments"),
veröffentlicht
von CMC Shuppan, 1986. Unter diesen Pigmenten sind die Pigmente,
die zur Absorption von Strahlung im Infrarot- oder Nahinfrarotbereich
in der Lage sind, besonders bevorzugt, da der diese enthaltende
Druckplattenvorläufer
eine Eignung zur Bestrahlung mit Laservorrichtungen, die Infrarot-
oder Nahinfrarotstrahlung emittieren, geeignet sein kann.
-
Als
Pigmente, die Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlung absorbieren, können in
vorteilhafter Weise Russ, mit hydrophilem Harz beschichteter Russ
und silicasolmodifizierter Russ verwendet werden. Unter diesen Pigmenten
ist Russ, der einer Oberflächenbehandlung
mit hydrophilem Harz oder Silicasol unterworfen wurde, besonders
geeignet, da er eine gute Kompatibilität oder Dispergierbarkeit mit
wasserlöslichen
Harzen und keine nachteiligen Auswirkungen auf die hydrophilen Eigenschaften
besitzt.
-
Die
Korngrösse
des Pigments liegt wünschenswerterweise
im Bereich von 0,01–1 μm, vorzugsweise 0,01–0,5 μm. Bei der
Dispergierung von Pigmentkörnern
können
herkömmliche
Dispergierungstechniken angewandt werden, die zur Tintenherstellung
oder Tonerherstellung verwendet werden. Beispiele für eine dabei verwendbare
Dispergiervorrichtung schliessen einen Ultraschalldispergierer,
eine Sandmühle,
einen Attritor, eine Perlmühle,
eine Supermühle,
eine Kugelmühle,
einen Pralltellermühle,
einen Disperser, eine KD-Mühle, eine
Kolloidmühle,
ein Dynatron, eine Drei-Walzen-Mühle und
einen Druckkneter ein. Details hierzu sind in Saishin Ganryo Ohyo
Gijutsu ("Newest
Application Arts of Pigments"),
veröffentlicht
von CMC Shuppan, 1986, beschrieben.
-
Andererseits
können
als Farbstoffe kommerziell erhältliche
Farbstoffe und literaturbekannte Farbstoffe [z.B. Senryo Binran
("Handbook of Dyes"), zusammengestellt
von Yuki Gousei Kagaku Kyokai, veröffentlicht 1970] verwendet
werden. Beispiele hierfür
schliessen Azofarbstoffe, Metallkomplexazofarbstoffe, Pyrazolonazofarbstoffe,
Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe,
Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe ein.
Unter diesen sind diejenigen Farbstoffe, die zur Absorption von
Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlung in der Lage sind, besonders
bevorzugt, da der Druckplattenvorläufer, der diese enthält, die
Eignung zur Bestrahlung mit Laservorrichtungen, die Infrarot- oder
Nahinfrarotstrahlung emittieren, besitzen können.
-
Genauer
schliessen die erfindungsgemäss
verwendbaren Infrarot- oder Nahinfrarotlicht absorbierenden Farbstoffe
die Cyaninfarbstoffe ein, die z.B. in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356,
JP-A-59-202829 und JP-A-60-78787 offenbart sind, die Methinfarbstoffe,
die in z.B. JP-A-58-173696, JP-A-58-181690 und JP-A-58-194595 offenbart
sind, die Naphthochinonfarbstoffe, die in z.B. JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187,
JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744 offenbart sind, die
Squaryliumfarbstoffe, die in z.B. JP-A-58-112792 offenbart sind,
die in GB-PS 434 875 offenbarten Cyaninfarbstoffe und die Farbstoffe,
die in
US-PS 4 756
993 als diejenigen der Formeln (I) und (II) offenbart sind:
worin R
1,
R
2, R
3, R
4, R
5, und R
6 jeweils eine substituierte oder unsubstituierte
Alkylgruppe darstellen; Z
1 und Z
2 sind jeweils Atome, die einen substituierten
oder unsubstituierten Benzol- oder Naphthalinring vervollständigen (d.h.
Phenyl- oder Naphthalingruppe); L ist eine substituierte oder unsubstituierte
Methingruppe und der Substituent an jeder Methingruppe kann eine
Alkylgruppe sein, die nicht mehr als 8 Kohlenstoffatome enthält, ein Halogenatom
oder eine Aminogruppe, oder die Substituenten an zwei unterschiedlichen
Methingruppen können
zur Vervollständigung
eines substituierten oder unsubstituierten Cyclohexen- oder Cyclopentenrings
miteinander kombiniert sein, worin der Substituenten an dem Ring
eine Alkylgruppe sein kann, die nicht mehr als 6 Kohlenstoffatome
enthält,
oder ein Halogenatom; X ist eine anionische Gruppe; n ist 1 oder
2, und darüber hinaus
weist mindestens eines von R
1, R
2, R
3, R
4,
R
5, R
6, Z
1 und Z
2 einen Substituenten
auf, der eine Säuregruppe
oder ein Alkalimetall- oder Aminsalz davon enthält.
worin R
11 eine
substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte
oder unsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte
heterocyclische Gruppe ist; R
12 und R
15 sind jeweils ein Wasserstoffatom oder
eine Gruppe, die als Substituent für ein Wasserstoffatom geeignet
ist; R
13 und R
14 sind
jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine substituierte
oder unsubstituierte Alkoxygruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte
Alkylgruppe, jedoch ist der Fall, dass R
13 =
R
14 = H ist, ausgeschlossen; und R
16 und R
17 sind jeweils
eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte
oder unsubstituierte Arylgruppe, eine Acylgruppe oder eine Sulfonylgruppe,
oder R
16 und R
17 sind
miteinander unter Vervollständigung eines 5-
oder 6-gliedrigen Nichtmetallrings miteinander kombiniert.
-
Ferner
können
auch die in US-PS 5 156 938 offenbarten Nahinfrarot-Absorptionssensibilisatoren
in vorteilhafter Weise verwendet werden. Zusätzlich können in besonders vorteilhafter
Weise die substituierten Arylbenzo(thio)pyrylliumsalze, wie in
US-PS 3 881 924 offenbart,
die in JP-A-57-142646 (
US-PS
4 327 169 ) offenbarten Trimethinthiapyryliumsalze, die
in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248,
JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061 offenbarten Pyrylliumverbindungen, die
in JP-A-59-216146 offenbarten Cyaninfarbstoffe, die in
US-PS 4 283 475 offenbarten
Pentamethinthiopyrylliumsalze, die in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702
offenbarten Pyrylliumverbindungen und Epolight III-178, Epolight
III-130 und Epolight III-125 (Markennamen, Produkte von Epolin Co.,
Ltd.) verwendet werden.
-
Unter
diesen Farbstoffen sind die wasserlöslichen Cyaninfarbstoffe der
vorgenannten Formel (I) besonders bevorzugt.
-
Beispiele
für solche
Cyaninfarbstoffe sind nachfolgend angegeben:
-
-
-
-
-
-
-
Diese
Farbstoffe und Pigmente werden in einem Anteil von 1–70 Gew.%,
vorzugsweise 2–50
Gew.%, und im Fall der Farbstoffe weiter bevorzugt 2–50 Gew.%,
besonders bevorzugt 2–30
Gew.%, und im Fall der Pigmente besonders bevorzugt 2–50 Gew.%,
zu den Gesamtfeststoffen in der Zusammensetzung zur Ausbildung der Überzugsschicht
zugegeben. Wenn der zugegebene Anteil an Farbstoff(en) oder Pigment(en)
unterhalb des vorgenannten Bereichs liegt, wird die Empfindlichkeit
gering, wohingegen oberhalb des vorgenannten Bereichs die Gleichförmigkeit
der Schicht verlorengeht und die Haltbarkeit der Schicht abnimmt.
-
Wenn
die Überzugsschicht
durch Aufschichten einer wässrigen
Zusammensetzung gebildet wird, können
zum Zweck der Sicherstellung der Gleichförmigkeit der Beschichtung Tenside
zugegeben werden, von denen der Hauptteil ein nichtionisches Tensid
ist. Beispiele für
ein verwendbares nichtionisches Tensid zu diesem Zweck schliessen
Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid,
Polyoxyethylennonylphenylether und Polyoxyethylendodecylether ein.
-
Der
geeignete Anteil des nichtionischen Tensids an den gesamten Feststoffen
in der Überzugsschicht beträgt 0,05–5 Gew.%,
vorzugsweise 1–3
Gew.%.
-
Die
geeignete Dicke der erfindungsgemäss verwendeten Überzugsschicht
beträgt
0,05–4,0 μm, vorzugsweise
0,1–1,0 μm. Wenn die Überzugsschicht
zu dick ist, wird die Zeit, die im Druckbetrieb zu ihrer Entfernung
erforderlich ist, zu lang, und das quantitativ eluierte, wasserlösliche Harz
beeinträchtigt
die Benetzungslösung,
wodurch Druckfehler, wie beispielsweise Walzenabstreifungen und fehlende
Tinteneinfärbung
im Bildbereich hervorgerufen werden. Wenn die Überzugsschicht andererseits
zu dünn
ist, neigt sie dazu, schlechte Filmqualität aufzuweisen.
-
Die
vorliegende hydrophile Schicht mit einer dreidimensional vernetzten
Struktur ist eine Schicht, die in einer Benetzungslösung, die
für ein
Lithografieverfahren unter Verwendung von Wasser und/oder Tinte
verwendet wird, unlöslich
ist, und es ist wünschenswert,
dass die hydrophile Schicht ein wie unten beschriebenes Kolloid
umfasst. Genauer enthält
das Kolloid als einen Bestandteil das Sol/Gel-Umwandlungssystem
eines Oxids oder Hydroxids von Beryllium, Magnesium, Aluminium,
Silicium, Titan, Bor, Germanium, Zinn, Zirkonium, Eisen, Vanadium,
Antimon oder eines Übergangsmetalls.
In einigen Fällen
kann das Kolloid ein Kolloid sein, das einen Komplex aus zwei oder
mehr der oben beschriebenen chemischen Elemente umfasst. In dem Kolloid
bilden die Atome eines chemischen Elements, wie oben beschrieben, über Sauerstoffatome
eine Netzwerkstruktur und gleichzeitig weisen sie auch ungebundene
Hydroxyl- und Alkoxygruppen auf. Während ein guter Teil aktiver
Alkoxy- und Hydroxylgruppen
im anfänglichen
Stadium der hydrolytischen Kondensation in dem Kolloid vorhanden
sind, nehmen die Kolloidteilchen mit fortschreitender Reaktion an
Grösse
zu und werden inaktiv. Die Kolloidteilchen haben einen Durchmesser
von üblicherweise
2–500
nm. Im Fall von Silica sind sphärische
Kolloidteilchen mit einem Durchmesser von 5–100 nm zur erfindungsgemässen Verwendung
geeignet. Darüber
hinaus sind auch Kolloidteilchen mit einer Federform von 100 nm × 10 nm
Grösse,
wie beispielsweise bei einem Aluminiumkolloid, zur erfindungsgemässen Verwendung
wirksam.
-
Ferner
können
Kolloidteilchen mit einer Perlenkettenform, die 50–400 nm
lang ist und aus sphärischen Teilchen
mit einem Durchmesser von 10–50
nm besteht, erfindungsgemäss
verwendet werden.
-
Während das
oben genannte Kolloid alleine verwendet werden kann, kann es auch
als Mischung mit einem hydrophilen Harz verwendet werden. Zur Förderung
der Vernetzungsreaktion kann ein Kolloidvernetzungsmittel zugegeben
werden.
-
In
allgemeinen Fällen
enthält
das Kolloid einen Stabilisator. Als Stabilisator wird eine Verbindung
mit einer anionischen Gruppe zu positiv geladenen Kolloiden zugegeben,
wohingegen eine Verbindung mit einer kationischen Gruppe zu negativ
geladenen Kolloiden zugegeben wird. Beispielsweise sind die zu negativ
geladenen Siliconkolloiden zugegebenen Stabilisatoren Aminverbindungen,
und diejenigen, die positiv geladenen Alkaloiden zugegeben werden,
sind starke Säuren,
wie beispielsweise Salzsäure
und Essigsäure.
Die meisten dieser Kolloide bilden bei Raumtemperatur transparente
Schichten, wenn sie auf Substrate aufgebracht werden. Die vollständige Gelierung
der Kolloidbeschichtung kann jedoch nicht nur durch Verdampfung des
Kolloidlösungsmittels
erzielt werden. Daher wird die Kolloidbeschichtung auf eine Temperatur
erwärmt,
die die Entfernung des Stabilisators ermöglicht, wodurch eine eng vernetzte
dreidimensionale Struktur gebildet wird, und wird so zu einer erfindungsgemäss geeigneten
hydrophilen Schicht.
-
Gemäss einem
weiteren gangbaren Weg wird ein geeigneter Solzustand direkt aus
einem Ausgangsmaterial (z.B. Di-, Tri- und/oder Tetraalkoxysilan)
durch hydrolytische Kondensationsreaktion ohne Verwendung des oben
genannten Stabilisators erzeugt. Das dabei erzeugte Sol wird wie
es ist auf ein Substrat aufgeschichtet und dann zur Vervollständigung
der Reaktion getrocknet. In diesem Fall kann die dreidimensionale Vernetzung
bei einer niedrigeren Temperatur erzielt werden als im Fall der
Verwendung von Stabilisatoren.
-
Darüber hinaus
sind auch die Kolloide, die durch Dispergieren geeigneter hydrolytischer
Kondensationsprodukte in organischen Lösungsmitteln hergestellt werden,
wodurch sie stabilisiert werden, erfindungsgemäss geeignet. Durch einfaches
Verdampfen der Lösungsmittel
aus solchen Kolloiden werden dreidimensional vernetzte Filme gebildet.
Durch Auswahl eines niedrigsiedenden Lösungsmittels, wie beispielsweise
Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Ethylenglykolmonomethylether,
Ethylenglykolmonoethylether oder Methylethylketon, wird die Trocknung
bei Raumtemperatur ermöglicht.
Insbesondere kann ein Kolloid in einem Methanol- oder Ethanollösungsmittel
leicht bei einer niedrigen Temperatur gehärtet werden und ist daher erfindungsgemäss geeignet.
-
Als
hydrophile Harze, die zusammen mit den oben beschriebenen Kolloiden
verwendet werden, sind Harze mit hydrophilen Gruppen, wie beispielsweise
Hydroxyl-, Carboxyl-, Hydroxyethyl-, Hydroxypropyl-, Amino-, Aminoethyl-,
Aminopropyl- und Carboxymethylgruppen, bevorzugt.
-
Beispiele
für solche
hydrophilen Harze schliessen Gummi arabicum, Kasein, Gelatine, Stärkederivate, Carboxymethylcellulose
und Natriumsalze davon, Celluloseacetat, Natriumalginat, Vinylacetat-Maleinsäure-Copolymere, Styrol-Maleinsäure-Copolymere,
Polyacrylsäuren
und Salze davon, Polymethacrylsäuren
und Salze davon, Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer und -Copolymere,
Hydroxyethylacrylat-Homopolymer und -Copolymere, Hydroxypropylmethacrylat-Homopolymer
und -Copolymere, Hydroxypropylacrylat-Homopolymer und -Copolymere,
Hydroxybutylmethacrylat-Homopolymer und -Copolymere, Hydroxybutylacrylat-Homopolymer
und -Copolymere, Polyethylenglykole, Hydroxypropylpolymere, Polyvinylalkohol
und hydrolysierte Polyvinylacetate mit einem Hydrolysegrad von mindestens
60 Gew.%, vorzugsweise mindestens 80 Gew.%, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral,
Polyvinylpyrrolidon, Acrylamid-Homopolymer und -Copolymere, Methacrylamid-Homopolymer
und -Copolymere und N-Methylolacrylamid-Homopolymer und -Copolymere
ein.
-
Unter
diesen hydrophilen Harzen sind die Polymere, die Hydroxylgruppen
enthalten, aber in Wasser nicht löslich sind, wie beispielsweise
Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer
und -Copolymere und Hydroxyethylacrylat-Copolymere, besonders bevorzugt.
-
Bei
der kombinierten Verwendung des hydrophilen Harzes, wie oben beschrieben,
und des Kolloids ist der geeignete Anteil des wasserlöslichen
hydrophilen Harzes 40 Gew.% oder weniger der gesamten Feststoffe in
der hydrophilen Schicht, wohingegen derjenige des wasserunlöslichen
hydrophilen Harzes 20 Gew.% oder weniger der gesamten Feststoffe
in der hydrophilen Schicht beträgt.
-
Diese
hydrophilen Harze können
wie sie sind verwendet werden, zum Zweck der Erhöhung der Druckkapazität der resultierenden
Druckplatte können
jedoch Vernetzungsmittel für
die hydrophilen Harze, die keine Kolloide sind, verwendet werden.
Beispiele für
ein Vernetzungsmittel für
hydrophile Harze schliessen Formaldehyd, Glyoxal, anfängliche
hydrolytische Kondensationsprodukte von Polyisocyanat und Tetraalkoxysilanen, Dimethylolharnstoff
und Hexamethylolmelamin ein.
-
Neben
dem Kolloid des Oxids oder Hydroxids, wie oben beschrieben, und
den hydrophilen Harzen, wie oben beschrieben, kann zu der vorliegenden
hydrophilen Schicht ein Vernetzungsmittel zur Förderung der Vernetzung des
Kolloids zugegeben werden. Geeignete Beispiele für ein solches Vernetzungsmittel
schliessen ein anfängliches
hydrolytisches Kondensationsprodukt von Tetraalkoxysilan, Trialkoxysilylpropyl-N,N,N-trialkylammoniumhalogenid
und Aminopropyltrialkoxysilan ein. Der geeignete Anteil eines solchen
Vernetzungsmittels beträgt
5 Gew.% oder weniger der gesamten Feststoffe in der hydrophilen
Schicht.
-
Zu
der vorliegenden hydrophilen Schicht kann das hydrophile Licht/Wärme-Umwandlungsmittel,
das zu der Überzugsschicht
wie oben erwähnt
zugegeben wird, ferner zum Zweck der Erhöhung der thermischen Empfindlichkeit
zugegeben werden. Besonders wünschenswerte
Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
sind wasserlösliche,
Infrarotlicht absorbierende Farbstoffe, insbesondere Cyaninfarbstoffe
der vorgenannten Formel (I), die Sulfonsäuregruppen oder Alkalimetall-
oder Aminsalze von Sulfonsäuregruppen
enthalten. Der geeignete Anteil an Pigment oder Farbstoff, der als
Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
zugegeben wird, beträgt
1–70 Gew.%,
vorzugsweise 2–50
Gew.%, und im Fall des Farbstoffs weiter bevorzugt 2–50 Gew.%,
besonders bevorzugt 2–30
Gew.%, und im Fall des Pigments besonders bevorzugt 2–50 Gew.%,
bezogen auf die gesamten Feststoffe in der hydrophilen Schicht.
Wenn das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
zu der Überzugsschicht
zugegeben wird, kann das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
erfindungsgemäss
bei Bedarf zu der hydrophilen Schicht zugegeben werden, und die
Menge des Licht/Wärme-Umwandlungsmittels
kann kleiner sein als üblich.
Wenn die zugegebene Menge unterhalb des vorgenannten Bereichs liegt,
wird die Empfindlichkeit gering, wohingegen oberhalb des vorgenannten
Bereichs die hydrophilen Eigenschaften der hydrophilen Schicht verdorben
werden und ihre Gleichförmigkeit
und Haltbarkeit verringert wird.
-
Die
geeignete Beschichtungsdicke der vorliegenden dreidimensional vernetzten
hydrophilen Schicht beträgt
0,1–3 μm, vorzugsweise
0,5–2 μm. Wenn die
Beschichtung zu dünn
ist, wird die Haltbarkeit der hydrophilen Schicht schlecht, und
die resultierende Druckplatte hat eine unterlegene Druckkapazität. Wenn
die Beschichtung andererseits zu dick ist, ist zur ablationsartigen
Ablösung
der hydrophilen Schicht von der tintenaufnehmenden Schicht als darunterliegende
Schicht viel Energie erforderlich. Anders ausgedrückt wird
eine lange Aufzeichnungszeit erforderlich, wenn ein Laser zur Belichtung
verwendet wird, wodurch die Produktivität bei der Plattenherstellung
gesenkt wird. Im Fall der Aufzeichnung mit einem kommerziell erhältlichen
Halbleiterlaser vom allgemeinen Typ ist eine Energie von 300–400 mJ/cm2 erforderlich, wenn die Dicke etwa 0,5 μm beträgt, und
wenn die Dicke etwa 1,5 μm
beträgt,
ist eine Energie von 400–500
mJ/cm2 erforderlich.
-
Als
das vorliegende Substrat, das eine tintenaufnehmende Oberfläche aufweist
oder mit einer tintenaufnehmenden Schicht beschichtet ist, kann
ein dimensionsstabiles blattförmiges
Material verwendet werden. Geeignete Beispiele für ein solches Material schliessen
Papier, mit einem oleophilen Kunststoff (z.B. Polyethylen, Polypropylen,
Polystyrol) laminiertes Papier, ein Metallblech (z.B. ein Blech
aus Aluminium, Zink, Kupfer, Nickel oder rostfreiem Stahl), ein
Metallblech wie oben beschrieben, das mit einem tintenaufnehmenden,
organischen, hochmolekulargewichtigen Harz beschichtet ist, eine
Kunststoffolie (z.B. eine Folie aus Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat,
Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat,
Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen,
Polycarbonat oder Polyvinylacetal), eine Folie aus dem Kunststoff,
wie oben beschrieben, die mit einem tintenaufnehmenden, organischen,
hochmolekulargewichtigen Harz beschichtet ist, und Papier oder eine
Kunststoffolie, worauf das tintenaufnehmende Metall wie oben beschrieben
laminiert oder dampfabgeschieden ist, ein.
-
Unter
diesen Materialien sind die bevorzugt verwendeten Substrate eine
Polyethylenterephthalatfolie, eine Polycarbonatfolie, ein Aluminium-
oder restfreies Stahlblech, das mit einem tintenaufnehmenden, organischen,
hochmolekulargewichtigen Harz beschichtet ist, und ein Aluminium-
oder rostfreies Stahlblatt, das mit einer oleophilen Kunststoffolie
laminiert ist.
-
Das
geeigneterweise erfindungsgemäss
verwendete Aluminiumblech ist ein Reinaluminiumblech oder ein Aluminiumlegierungsblech,
das Spurenmengen fremder Metalle enthält, auf dessen Oberfläche eine
tintenaufnehmende hochmolekulargewichtige Verbindung aufgeschichtet
oder eine tintenaufnehmende Kunststoffolie laminiert ist. Als Beispiele
für in
der Aluminiumlegierung enthaltene Fremdmetalle sind beispielhaft
Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut,
Nickel und Titan zu nennen. Der Gehalt dieser Fremdmetalle in der
Legierung beträgt
10 Gew.% oder weniger. Erfindungsgemäss kann jedoch ein in geeigneter
Weise aus bisher bekannten und weit verbreitet verwendeten Aluminiumblechen
ausgewähltes
Aluminiumblech verwendet werden.
-
Bei
Verwendung eines Aluminiumblechs als vorliegendes Substrat ist es
wünschenswert,
dass die Blechoberfläche
einer Körnungsbehandlung
unterzogen wird. Wenn das Aluminiumblech mit einer organischen hochpolymerhaltigen
tintenaufnehmenden Schicht beschichtet wird, kann die Körnungsbehandlung
in einfacher Weise die Adhäsion
der Blechoberfläche
an der tintenaufnehmenden Schicht sicherstellen. Bevor die Aluminiumblechoberfläche durch
die Körnungsbehandlung
aufgerauht wird, wird zur Entfernung von Walzenöl von der Blechoberfläche eine
Entfettungsbehandlung mit einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel
oder einer wässrigen
Alkalilösung
durchgeführt.
-
Die
Körnung
der Aluminiumblechoberfläche
kann unter Verwendung verschiedener Verfahren bewirkt werden, wie
beispielsweise mit einem mechanischen Körnungsverfahren, einem Verfahren
der Körnung
der Blechoberfläche
durch elektrochemisches Auflösen
und ein Verfahren der selektiven Auflösung der Blechoberfläche durch
chemische Mittel. Bezüglich
des mechanischen Körnungsverfahrens
können
bekannte Verfahren, wie beispielsweise ein Kugelschleifverfahren,
ein Bürstenschleifverfahren,
ein Sandstrahlschleifverfahren und ein Polierschleifverfahren angewandt
werden. Als chemisches Körnungsverfahren
wird vorteilhafterweise das Verfahren angewandt, das in JP-A-54-31187
offenbart ist, worin das Aluminiumblech in eine gesättigte wässrige Lösung eines
Mineralsäurealuminiumsalzes
eingetaucht wird. Als elektrochemisches Körnungsverfahren wird in vorteilhafter
Weise das Verfahren der Körnung
durch Anlegen von Gleichstrom oder Wechselstrom an einen Elektrolyten,
der eine Säure,
wie beispielsweise Salzsäure
oder Salpetersäure
enthält,
angewandt. Ferner kann ein elektrolytisches Körnungsverfahren unter Verwendung
einer gemischten Säure,
wie in JP-A-54-63902 offenbart, angewandt werden.
-
Die
Körnungsbehandlung
gemäss
einem beliebigen der oben genannten Verfahren wird wünschenswerterweise
so durchgeführt,
dass die Aluminiumblechoberfläche
eine Zentrallinien-Durchschnittsoberflächenrauhigkeit (Ra) im Bereich
von 0,3–1,0 μm aufweist.
-
Das
gekörnte
Aluminiumblech wird einer Alkaliätzbehandlung
mit einer wässrigen
Lösung
unterworfen, die z.B. Kaliumhydroxid oder Natriumhydroxid enthält, und
ferner bei Bedarf einer Neutralisierungsbehandlung, und dann nach
Wunsch einer anodischen Oxidationsbehandlung zur Erhöhung der
Abriebbeständigkeit.
-
Zur
anodischen Oxidationsbehandlung eines Aluminiumblechs können verschiedene
Elektrolyten verwendet werden, die zur Erzeugung einer porösen oxidierten
Schicht in der Lage sind. Im allgemeinen können Schwefelsäure, Salzsäure, Oxalsäure, Chromsäure und
eine Mischung aus zwei oder mehr derselben als ein solcher Elektrolyt
verwendet werden. Die geeignete Elektrolytkonzentration kann in
Abhängigkeit
von den verwendeten Elektrolytspezies gewählt werden.
-
Die
Bedingungen für
die anodische Oxidationsbehandlung sind in Abhängigkeit von dem verwendeten Elektrolyten
veränderlich,
so dass sie nicht verallgemeinert werden können. Nach normalen Standards
für die anodische
Oxidation beträgt
die geeignete Elektrolytkonzentration jedoch 1–80 Gew.%, die Elektrolytlösungstemperatur
ist 5–70°C, die Stromdichte
beträgt
5–60 A/dm2, die Spannung beträgt 1–100 V und die Elektrolysezeit
beträgt
10 Sekunden bis 5 Minuten.
-
Die
geeignete Menge der gebildeten oxidierten Schicht beträgt 1,0–5,0 g/m2, insbesondere 1,5–4,0 g/m2.
-
Die
Dicke des erfindungsgemäss
verwendeten Substrats liegt in der Grössenordnung von 0,05–0,6 mm,
vorzugsweise 0,1–0,4
mm, besonders bevorzugt 0,15–0,3
mm.
-
Die
organischen Polymere, die als tintenaufnehmende Schicht auf die
vorliegende Substratoberfläche aufgeschichtet
werden können,
sind Polymere, die in Lösungsmitteln
löslich
sind und zur Ausbildung oleophiler Schichten in der Lage sind. Ferner
sind solche Polymere vorzugsweise in dem Lösungsmittel unlöslich, das
in der Beschichtungszusammensetzung zur Erzeugung einer hydrophilen
Schicht als oberste Schicht verwendet wird. In einigen Fällen sind
jedoch Polymere, die in der Lage sind, in dem Lösungsmittel, das für die Beschichtung
der oberen Schicht verwendet wird, zu quellen, vorteilhaft, da sie
eine exzellente Haftfähigkeit
an der oberen Schicht zeigen. In einem anderen Fall der Verwendung
organischer Polymere, die in dem Lösungsmittel, das für die Beschichtung
der oberen Schicht verwendet wird, löslich sind, ist es wünschenswert,
dass die Polymerschicht vorab durch z.B. Zugabe eines Vernetzungsmittels
gehärtet
wird.
-
Beispiele
für ein
geeignetes organisches Polymer schliessen Polyester, Polyurethan,
Polyharnstoff, Polyimid, Polysiloxan, Polycarbonat, Phenoxyharz,
Epoxyharz, Phenol-Formaldehyd-Harz, Alkylphenol-Formaldehyd-Harz, Polyvinylacetat, Acrylharz
und Acryl-Copolymere,
Polyvinylphenol, Polyvinyl-halogeniertes Phenol, Methacrylharz und
Methacryl-Copolymere, Acrylamid- Copolymere,
Methacrylamid-Copolymere, Polyvinylformal, Polyamid, Polyvinylbutyral,
Polystyrol, Celluloseesterharz, Polyvinylchlorid und Polyvinylidenchlorid
ein. Unter diesen Polymeren sind Harze, die in ihren Seitenketten
Hydroxylgruppen, Carboxylgruppen, Sulfonamidogruppen oder Trialkoxysilylgruppen
aufweisen, gegenüber
den anderen bevorzugt, da sie eine hohe Haftfähigkeit gegenüber sowohl
dem Substrat als auch der hydrophilen Schicht als der oberen Schicht
aufweisen und sie in einigen Fällen
leicht durch Vernetzungsmittel gehärtet werden. Zusätzlich werden
in vorteilhafter Weise Acrylnitril-Copolymere, Polyurethan und Copolymere,
die Sulfonamido- oder Hydroxylgruppen in ihren Seitenketten enthalten,
die durch Diazoharz fotogehärtet
werden, verwendet.
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Neben
den oben beschriebenen Polymeren sind auch Novolakharze und Kresolharze,
die hergestellt werden durch Kondensationsreaktion zwischen Formaldehyd
und Phenolverbindungen, wie beispielsweise Phenol, Kresol (m-Kresol,
p-Kresol oder einer m-Kresol/p-Kresol-Mischung), einer Phenol/Kresol-Mischung (einer
Phenol/m-Kresol-, Phenol/p-Kresol- oder Phenol/m-Kresol/p-Kresol-Mischung),
phenolmodifiziertem Xylol, tert-Butylphenol, Octylphenol, Resorcinol,
Pyrogallol, Catechol, Chlorphenol (m-Chlorphenol oder p-Chlorphenol),
Bromphenol (m-Bromphenol oder p-Bromphenol), Salicylsäure und
Phloroglucinol, und Harze, die durch Kondensation von Aceton und
den oben beschriebenen Phenolverbindungen hergestellt werden, geeignet.
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Als
Beispiele für
andere geeignete hochmolekulargewichtige Verbindungen sind beispielhaft
Copolymere zu nennen, die konstituierende Einheiten einiger Monomere,
ausgewählt
aus den folgenden Familien (1) bis (12), enthalten, und deren Molekulargewicht
im Bereich von 1 × 104
bis 2,0 × 105 liegt.
- (1) aromatische
Hydroxylgruppen enthaltende Acrylamide, Methacrylamide, Acrylsäureester
und Methacrylsäureester,
und Hydroxystyrole, wie N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
o-, m- und p-Hydroxystyrol, o-, m- und p-Hydroxyphenylacrylate und
o-, m- und p-Hydroxyphenylmethacrylate;
- (2) aliphatische Hydroxylgruppen enthaltende Acrylsäureester
und Methacrylsäureester,
wie 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxyethylmethacrylat;
- (3) unsubstituierte oder substituierte Acrylsäureester,
wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat,
Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Phenylacrylat, Benzylacrylat,
2-Chlorethylacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, Glycidylacrylat und
N-Dimethylaminomethylacrylat;
- (4) unsubstituierte oder substituierte Methacrylsäureester,
wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat,
Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Octylmethacrylat,
Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorthylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat,
Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat;
- (5) Acrylamide und Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid,
N-Methylolacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid,
N-Ethylmethacarylamid, N-Hexylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid,
N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylacrylamid,
N-Phenylmethacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Benzylmethacrylamid,
N-Nitrophenylacrylamid, N-Nitrophenylmethacrylamid, N-Ethyl-N-phenylacrylamid
und N-Ethyl-N-phenylmethacrylamid;
- (6) Vinylether, wie beispielsweise Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether,
Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether
und Phenylvinylether;
- (7) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat
und Vinylbenzoat;
- (8) Styrole, wie Styrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol;
- (9) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon
und Phenylvinylketon;
- (10) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und
Isopren;
- (11) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril
und Methaacrylnitril; und
- (12) Acrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid,
N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]acrylamid
und N-(2-Aminosulfonylethyl)acrylamid, Methacrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid,
N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid,
N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]methacrylamid und N-(2-Aminosulfonylethyl)methacrylamid,
ungesättigte
Sulfonamide von Acrylaten, wie o-Aminosulfonylphenylacrylat, m-Aminosulfonylphenylacrylat,
p-Aminosulfonylphenylacrylat und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)acrylat
und ungesättigte
Sulfonamide von Methacrylaten, wie o-Aminosulfonylphenylmethacrylat,
m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat
und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)methacrylat.
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Das
oben beschriebene organische Polymer wird in einem geeigneten Lösungsmittel
aufgelöst,
auf das Substrat aufgeschichtet und dann getrocknet, wodurch eine
tintenaufnehmende Schicht auf dem Substrat bereitgestellt wird.
Darin wird das organische Polymer, obwohl es alleine in dem Lösungsmittel
aufgelöst
werden kann, im allgemeinen zusammen mit einem Vernetzungsmittel,
einem Adhäsionshilfsmittel,
einem farbgebenden Mittel, anorganischen oder organischen feinen
Teilchen, einem Beschichtungsoberflächenverbesserer oder einem
Weichmacher verwendet. Zu der tintenaufnehmenden Schicht kann ferner
ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
zur Erhöhung
der Empfindlichkeit und ein thermisch farbgebendes oder farblöschendes
System zur Erzeugung eines Bildabdrucks nach der Belichtung zugegeben
werden.
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Beispiele
für das
Vernetzungsmittel für
organische Polymere schliessen Diazoharz, aromatische Azidverbindungen,
Epoxyharz, Isocyanatverbindungen, Blockisocyanatverbindungen, anfängliche
hydrolytische Kondensationsprodukte von Tetraalkoxysilanen, Glyoxal,
Aldehydverbindungen und Methylolverbindungen ein.
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Als
Adhäsionshilfsmittel,
das in der tintenaufnehmenden Schicht verwendbar ist, ist das Diazoharz
aufgrund seiner exzellenten Haftfähigkeit gegenüber sowohl
dem Substrat als auch der tintenaufnehmenden Schicht bevorzugt.
Darüber
hinaus sind Silan-Kupplungsmittel, Isocyanatverbindungen und Kupplungsmittel von
Titantyp geeignet.
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Als
farbgebendes Mittel können
allgemeine Farbstoffe und Pigmente verwendet werden. Insbesondere
schliessen Beispiele für
geeignete Farbstoffe Rhodamin 6G-chlorid, Rhodamin B-chlorid, Kristallviolett,
Malachitgrünoxalat,
Oxazin-4-perchlorat, Chinizarin, 2-(α-Naphthyl)-5-phenyloxazol und
Cumarin-4 ein, wohingegen Beispiele für die geeigneten Pigmente Triphenylmethanfarbstoffe,
Diphenylmethanfarbstoffe, Oxazinfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Iminonaphthochinonfarbstoffe,
Azomethinfarbstoffe und Anthrachinonfarbstoffe einschliessen, die
repräsentiert
werden durch Ölgelb
#101, Ölgelb
#103, Ölpink
#312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz
BY, Ölschwarz
BS, Ölschwarz
T-505 (alle vorstehend beschriebenen Farbstoffe sind Produkte von
Orient Kagaku Kogyo K.K.), Victoriareinblau, Kristallviolett (CI42555),
Methylviolett (CI42535), Ethylviolett, Methylenblau (CI52015), Patentreinblau
(hergestellt von Sumitomo Mikuni Kagaku K.K.), Brilliantblau, Methylgrün, Erythricin
B, basisches Fuchsin, m-Kresolpurpur, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon
und Cyano-p-diethylaminophenylacetanilid.
Zusätzlich
können
auch in vorteilhafter Weise die Farbstoffe verwendet werden, die
in JP-A-62-293247 und JP-A-9-179290 offenbart sind.
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Wenn
die oben beschriebenen farbgebenden Materialien zu der tintenaufnehmenden
Schicht zugegeben werden, liegt ihr Anteil an den gesamten Feststoffkomponenten
in der aufnahmefähigen
Schicht im allgemeinen bei etwa 0,02–10 Gew.%, vorzugsweise etwa
0,1–5
Gew.%. Ferner können
die allgemein als Beschichtungsoberflächenverbesserer bekannten fluorhaltigen
Tenside und Silicontenside verwendet werden. Genauer sind Tenside,
die Perfluoralkylgruppen oder Dimethylsiloxangruppen enthalten,
geeignet, da sie den Beschichtungsoberflächenzustand verbessern können.
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Die
erfindungsgemäss
verwendbaren anorganischen oder organischen feinen Pulver schliessen
kolloidales Silica und kolloidales Aluminium mit einer Teilchengrösse von
10–100
nm ein, und ferner inaktive Teilchen mit grösseren Durchmessern als Kolloide,
wie beispielsweise Silicateilchen, Silicateilchen mit hydrophob gemachten
Oberflächen,
Aluminateilchen, Titandioxidteilchen und andere Schwermetallteilchen,
Ton und Talk. Die Zugabe dieser anorganischen oder organischen feinen
Pulver zu der tintenaufnehmenden Schicht kann die Haftfähigkeit
gegenüber
der dreidimensional vernetzten, hydrophilen Schicht als obere Schicht
verbessern, wodurch die Druckkapazität der resultierenden Druckplatte
erhöht
wird. Der geeignete Anteil dieser feinen Pulver in der tintenaufnehmenden
Schicht beträgt
80 Gew.% oder weniger, vorzugsweise 40 Gew.% oder weniger der gesamten
Feststoffkomponenten.
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Die
vorliegende tintenaufnehmende Schicht kann bei Bedarf ferner einen
Weichmacher zur Vermittlung von Flexibilität des aufgeschichteten Films
enthalten. Beispiele für
einen zu diesem Zweck verwendbaren Weichmacher schliessen Polyethylenglykol,
Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat,
Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat
und Acryl- oder Methacrylsäureoligomere
oder -polymere ein.
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Zum
Zweck der Unterscheidung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen durch
Belichtung ist es bevorzugt, ein farbgebendes oder farbauslöschendes
System zu der vorliegenden tintenaufnehmenden Schicht zuzugeben.
Als Beispiele für
ein solches System sind die kombinierte Verwendung eines thermisch
säureerzeugenden
Mittels, wie beispielsweise einer Diazoverbindung oder eines Diphenyliodoniumsalzes,
und eines Leukofarbstoffs (wie Leukomalachitgrün, Leukokristallviolett oder
Kristallviolettlacton) und die kombinierte Verwendung eines thermisch
säureerzeugenden
Mittels und eines pH-Wert-veränderlichen
Farbstoffs (wie beispielsweise Ethylviolett oder Viktoriareinblau
BOH) zu nennen. Ferner ist auch die Kombination eines säurefarbentwickelbaren
Farbstoffs und eines sauren Binders, wie in
EP 897134 offenbart, wirksam. In diesem
Fall wird die Bindung im farbstoffbildenden Aggregat durch Erwärmen unter
Erzeugung des Lactonkörpers
gebrochen, wodurch eine Veränderung
von farbig zu farblos bewirkt wird.
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Die
geeignete Zugabemenge des farbgebenden oder farblöschenden
Systems beträgt
10 Gew.% oder weniger, vorzugsweise 5 Gew.% oder weniger, bezogen
auf die gesamten Feststoffkomponenten in der aufnehmenden Schicht.
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Zum
Zweck der Erhöhung
der thermischen Empfindlichkeit kann die vorliegende tintenaufnehmende Schicht
ferner ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
enthalten. Die in diesem Fall geeigneten Licht/Wärme-Umwandlungsmittel sind,
obwohl sie die oben beschriebenen Infrarot absorbierenden Farbstoffe
und Pigmente sein können,
oleophile Farbstoffe und Pigmente. Insbesondere sind Russ und die
oleophilen Cyaninfarbstoffe, die aus den durch Formel (I) repräsentierten
ausgewählt
werden, gegenüber
den anderen bevorzugt. Beispiele für solche oleophilen Cyaninfarbstoffe
sind nachfolgend angegeben.
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Die
geeignete Zugabemenge des Licht/Wärme-Umwandlungsmittels (nämlich Farbstoff
oder Pigment) beträgt
1–70 Gew.%,
vorzugsweise 2–50
Gew.%, und im Fall des Farbstoffs weiter bevorzugt 2–50 Gew.%, besonders
bevorzugt 2–30
Gew.%, und im Fall des Pigments besonders bevorzugt 2–50 Gew.%,
bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponenten in der tintenaufnehmenden
Schicht.
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Wenn
der zugegebene Anteil an Farbstoff oder Pigment höher ist
als der vorgenannte obere Grenzwert, zeigt die Schicht eine schlechte
Gleichförmigkeit
und Haltbarkeit, und wenn der Anteil niedriger ist als der untere
Grenzwert, nimmt die Empfindlichkeit ab.
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Beispiele
für das
zur Ausbildung der vorliegenden tintenaufnehmenden Schicht durch
Beschichtung verwendbare Lösungsmittel
schliessen Alkohole (wie Methanol, Ethanol, Propylalkohol, Ethylenglykol,
Diethylenglykol, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Ethylenglykolmonomethylether,
Propylenglykolmonomethylether und Ethylenglykolmonoethylether),
Ether (wie Tetrahydrofuran, Ethylenglykoldimethylether, Propylenglykoldimethylether
und Tetrahydrofuran), Ketone (wie Aceton, Methylethylketon und Acetylaceton),
Ester (wie Methylacetat und Ethylenglykolmonomethylmonoacetat),
Amide (wie Formamid, N-Methylformamid, Pyrrolidon und N-Methylpyrrolidon), γ-Butyrolacton,
Methyllactat und Ethyllactat ein. Diese Lösungsmittel können einzeln
oder als Mischung aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Bei der Herstellung einer Beschichtungslösung für die tintenaufnehmende Schicht
ist es angemessen, die Konzentration der Gesamtkomponenten (Gesamtheit
der festen Bestandteile einschliesslich Zusatzstoffe) in einem Lösungsmittel
im Bereich von 1–50 Gew.%
einzustellen. Die Beschichtung zur Ausbildung der tintenaufnehmenden
Schicht kann nicht nur unter Verwendung des oben beschriebenen organischen
Lösungsmittels
erfolgen, sondern auch mit einer wässrigen Emulsion. Im letztgenannten
Fall ist es geeignet, dass die Emulsion eine Konzentration im Bereich
von 5–50 Gew.%
aufweist.
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Die
Dicke der vorliegenden tintenaufnehmenden Schicht nach dem Aufschichten
und Trocknen beträgt üblicherweise
mindestens 0,1 μm,
obwohl sie nicht sonderlich beschränkt ist. Im Fall der Bereitstellung
der tintenaufnehmenden Schicht auf einem Metallblech ist die geeignete
Schichtdicke mindestens 0,5 μm,
da die Schicht auch als Wärmeisolator
fungiert. Wenn die tintenaufnehmende Schicht zu dünn ist,
wird die erzeugte Wärme
in das Metallblech abgeführt
und im Ergebnis nimmt die Empfindlichkeit ab. Im Fall eines hydrophilen Metallblechs
muss die tintenaufnehmende Schicht abriebbeständig sein und folglich kann
die Schicht keine Druckkapazität
sicherstellen, wenn sie zu dünn
ist. Im Fall der Verwendung einer Kunststoffolie als Substrat ist es
andererseits lediglich erforderlich, dass die tintenaufnehmende
Schicht als eine adhäsive
Schicht für
die obere Schicht dient, und folglich kann die Schicht eine geringere
Dicke aufweisen als im Fall der Verwendung eines Metallblechs, genauer
eine Dicke von mindestens 0,05 μm.
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Als
nächstes
wird das Verfahren zur Plattenherstellung unter Verwendung des vorgenannten
wärmeempfindlichen
Lithografie-Druckplattenvorläufers
dargestellt.
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Der
Lithografie-Druckplattenvorläufer
wird direkt der bildweisen wärmeempfindlichen
Aufzeichnung durch beispielsweise einen Thermokopf unterworfen oder
durchläuft
eine Belichtung vom Licht/Wärme-Umwandlungstyp,
wie beispielsweise eine Belichtung mit 700–1.200 nm Infrarotstrahlung,
die von einem Feststofflaser, einem Halbleiterlaser, einer Blitzlampe
mit hoher Lichtintensität,
wie beispielsweise einer Xenon-Entladungslampe,
oder einer Infrarotlampe emittiert wird.
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Im
Belichtungsfall können
die Bilder entweder durch Flächenbelichtung
oder nach einem Rasterverfahren aufgezeichnet werden. Das Flächenbelichtungsverfahren
ist ein Verfahren der Bestrahlung des Druckplattenvorläufers mit
Infrarotstrahlung oder einem Blitzlicht hoher Strahlungsintensität, wie beispielsweise
mit einer Xenon-Entladungslampe,
wodurch Wärme
durch Licht/Wärme-Umwandlung erzeugt
wird. Wenn eine Flächenbelichtungslichtquelle,
wie beispielsweise eine Infrarotlampe, verwendet wird, liegt die
geeignete Belichtung, auch wenn sie mit der Bestrahlungsintensität variabel
ist, im allgemeinen im Bereich von 0,1–10 J/cm2,
vorzugsweise 0,1–1
J/cm2, in Einheiten der Flächenbelichtungsintensität vor der
Modifizierung mit Bildern vor dem Drucken. Wenn das verwendete Substrat
transparent ist, kann der Belichtungsvorgang auch von der Rückseite
des Substrats durch das Substrat hindurch erfolgen. Es ist wünschenswert,
eine solche Bestrahlungsintensität
auszuwählen,
dass die vorgenannte Belichtungsintensität in einer Belichtungszeit
von 0,01–1 msek,
vorzugsweise 0,01–0,1
msek, erreicht wird. Wenn die Bestrahlungszeit lang ist, ist es
erforderlich, die Bestrahlungsintensität zu erhöhen, da die Geschwindigkeit
der Erzeugung der thermischen Energie in Konkurrenz zur Diffusionsgeschwindigkeit
der erzeugten thermischen Energie steht.
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Bei
der Rasterbelichtung wird eine Lichtquelle verwendet, die zur Erzeugung
infrarotreicher Laserstrahlen geeignet ist, und die Bilder werden
durch Rastern des Druckplattenvorläufers mit den durch die Bildinformation
modulierten Laserstrahlen gezeichnet. Beispiele für eine hierbei
verwendbare Laserstrahlquelle schliessen eine Halbleiterlaservorrichtung,
eine He-Ne-Laservorrichtung, eine He-Cd-Laservorrichtung und eine
YAG-Laservorrichtung ein. Die geeignete Laserausgangsleistung für die Rasterbelichtung
beträgt 0,1–300 W.
Wenn die Belichtung mit einer gepulsten Laservorrichtung durchgeführt wird,
ist es jedoch wirksam, dass die Vorrichtung eine Peakleistung von
mindestens 1.000 W, vorzugsweise 2.000 W, besitzt. Die geeignete
Belichtung in diesen Laserrasterfällen beträgt 0,1–10 J/cm2,
vorzugsweise 0,3–1
J/cm2, in Einheiten der Flächenbelichtungsintensität vor der
Modulierung mit Bildern zum Drucken.
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Nach
der bildweisen Belichtung kann der vorliegende Druckplattenvorläufer ohne
jegliche weitere Verarbeitung in eine Druckmaschine geladen werden.
Bei Beginn des Druckbetriebs mit Tinte und Wasser wird die Überzugsbeschichtung
durch die Benetzungslösung
und gleichzeitig die belichtete Fläche der hydrophilen Schicht
entfernt. Als Ergebnis nimmt die tintenaufnehmende Schicht in der
Fläche,
die durch die Entfernung der hydrophilen Schicht freigelegt wird,
Tinte auf, wodurch es möglich
wird, in den Druckvorgang einzutreten.
-
Nachfolgend
wird die vorliegende Erfindung detaillierter unter Bezugnahme auf
die nachfolgenden Beispiele dargestellt. Die Erfindung ist jedoch
nicht als auch diese Beispiele beschränkt anzusehen.
-
BEISPIEL I-1
-
Herstellung eines Aluminiumsubstrats:
-
Ein
0,24 mm dickes, gewalztes Blech aus JISA1050-Aluminiummaterial, das 99,5 Gew.% Aluminium, 0,01
Gew.% Kupfer, 0,03 Gew.% Titan, 0,3 Gew.% Eisen und 0,1 Gew.% Silicium
enthielt, wurde unter Verwendung einer rotierenden Nylon (6,10-Nylon)-Bürste und
einer 20 Gew.%-igen wässrigen
400 mesh-Bimssteinsuspension (hergestellt von Kyoritsu Yogyo) einer
Oberflächenkörnungsbehandlung
unterzogen und sorgfältig
mit Wasser gewaschen. Dieses Blech wurde durch Eintauchen in eine
15 Gew.%-ige Natriumhydroxidlösung
(die 4,5 Gew.% Aluminium enthielt) geätzt, bis die aufgelöste Aluminiummenge
5 g/m2 erreichte, und dann mit fliessendem
Wasser gewaschen. Das so geätzte
Blech wurde mit 1 Gew.%-iger Salpetersäure neutralisiert und dann
wurde eine elektrolytische Oberflächenaufrauhungsbehandlung mit
einer 0,7 Gew.%-igen wässrigen
Salpetersäurelösung (die
0,5 Gew.% Aluminium enthielt) durch Anlegen einer rechtwinkligen
Wechselstromspannung von 10,5 V Anodenspannung und 9,3 V Kathodenspannung
(Stromverhältnis
r = 0,90, die Stromwellenform ist in JP-B-58-5796 offenbart) unter
solchen Bedingungen durchgeführt,
dass die Strommenge an der Anode 160 C/dm2 betrug.
Nach Spülen
mit Wasser wurde das Aluminiumblech ferner durch Eintauchen in eine
10 Gew.%-ige wässrige
Natriumhydroxidlösung,
die bei 35°C
gehalten wurde, geätzt,
bis die aufgelöste
Aluminiummenge 1 g/m2 erreichte, gefolgt
von Waschen. Ferner wurde das Blech durch Eintauchen in eine 30
Gew.%-ige wässrige
Schwefelsäurelösung, die
auf 50°C
erhitzt war, entschmutzt und dann mit Wasser gewaschen.
-
Darüber hinaus
wurde das so behandelte Aluminiumblech einer anodisch oxidierenden,
porösen
Filmbildungsbehandlung unter Verwendung eines Gleichstroms in einer
20 Gew.%-igen wässrigen
Schwefelsäurelösung bei
35°C (Aluminiumgehalt:
0,8 Gew.%) unterzogen. Genauer wurde die Elektrolyse bei einer Stromdichte
von 13 A/dm2 durchgeführt und die Elektrolysezeit
wurde so gesteuert, dass 2,7 g/m2 einer
anodischen Oxidationsschicht gebildet wurden.
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Das
so behandelte Blech wurde mit Wasser gewaschen, für 30 Sekunden
in eine auf 70°C
erwärmte, 0,2
Gew.%-ige wässrige
Natriumsilicatlösung
eingetaucht, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet.
-
Das
so erhaltene Aluminiumsubstrat wies eine Reflexionsdichte von 0,30,
gemessen mit einem Macbeth-Reflexionsdensitometer
RD920, und eine Zentrallinien-Durchschnittsoberflächenrauhigkeit
von 0,58 um auf.
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Synthese eines organischen
Polymers für
die tintenaufnehmende Schicht:
-
In
einen 200 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kondensator und
einem Tropftrichter ausgerüstet
war, wurden 4,61 g (0,0192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid,
2,94 g (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylnitril
und 20 g N,N-Dimethylacetamid gegeben und unter Erwärmen auf
65°C mittels
eines heissen Wasserbades gerührt.
Zu dieser Mischung wurden 0,15 g eines Polymerisationsinitiators
V-65 (Markenname, ein Produkt von Wako Pure Chemical Industries,
Ltd.) zugegeben und dann wurde in einem Stickstoffstrom bei auf
65°C gehaltener
Temperatur für
2 Stunden gerührt.
Zu der resultierenden Reaktionsmischung wurde eine Mischung aus
4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g Ethylmethacrylat,
0,80 g Acrylnitril, N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 (ein Polymerisationsinitiator,
hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) tropfenweise über den
Tropftrichter innerhalb eines Zeitraums von 2 Stunden zugegeben.
Nach Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurde die Mischung für weitere
2 Stunden bei 65°C
gerührt.
Bei Beendigung der Reaktion wurden 40 g Methanol zugegeben, dann
wurde abgekühlt
und unter Rühren
in 2 l Wasser gegossen. Nach weiterem 30-minütigem Rühren wurde die Reaktionsmischung
abfiltriert und getrocknet, wodurch 15 g weisser Feststoff erhalten
wurden. Durch Gelpermeationschromatografie wurde bestätigt, dass
das so hergestellte N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid-Copolymer ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht
von 53.000 (mit Polystyrolstandard) aufwies.
-
Herstellung eines tintenaufnehmenden
Substrats:
-
Eine
Portion von 3 g des vorgenannten N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid-Copolymers
wurde in einem gemischten Lösungsmittel,
das aus 9,5 g γ-Butyrolacton,
3 g Methyllactat, 22,5 g Methylethylketon und 22 g Propylenglykolmonomethylether
gebildet wurde, aufgelöst
und mittels eines Stabbeschichters in einer Beschichtungsmenge von
24 ml/m2 auf das vorgenannte Aluminiumsubstrat
aufgeschichtet. Dann wurde die Beschichtung durch 1-minütiges Erwärmen auf
100°C getrocknet.
Auf diese Weise wurde ein Aluminiumsubstrat hergestellt, das mit
einer tintenaufnehmenden Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 1 g/m2 aufwies, ausgerüstet war.
-
Herstellung eines wärmeempfindlichen
Lithografie-Druckplattenvorläufers:
-
Eine
Mischung aus 1 g einer 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer (Gewichtsdürchschnitts-Molekulargewicht:
250.000), 3 g Methanolsilica (einem Kolloid, das 30 Gew.% 10–20 nm-Silicateilchen in
Methanol enthält,
hergestellt von Nissan Chemicals Industries, Ltd.) und 16 g Methanol
wurde auf die vorgenannte tintenaufnehmende Schicht, die auf dem
Substrat bereitgestellt wurde, in einer Beschichtungsmenge von 24
ml/m2 aufgeschichtet und dann bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
Auf diese Weise wurde eine dreidimensional vernetzte hydrophile
Schicht mit einer Trockenbedeckung von etwa 1 g/m2 auf
der tintenaufnehmenden Schicht erzeugt.
-
Auf
diese hydrophile Schicht wurde eine wässrige Lösung, die aus 20 g einer 5
%-igen Lösung
von Acrylsäure-Homopolymer (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht:
25.000), 0,2 g eines wasserlöslichen
Cyaninfarbstoffs (I-31), der oben dargestellt wurde, und 0,025 g
Polyoxyethylennonylphenylether gebildet wurde, in einer Beschichtungsmenge
von 12 ml/m2 aufgeschichtet und dann bei
100°C für 2 Minuten
getrocknet, wodurch eine Überzugsschicht
mit einer Trockenbedeckung von etwa 0,6 g/m2 auf
der hydrophilen Schicht erzeugt wurde. Auf diese Weise wurde ein
wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer hergestellt.
-
Herstellung einer Lithografiedruckplatte:
-
Der
vorgenannte Lithografie-Druckplattenvorläufer wurde in einem 40W Trend
Setter, hergestellt von Canadian CREO Corp. (eine Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W-Halbleiterlaser
ausgerüstet
war, der Licht von 830 nm emittiert) installiert, und es wurde eine
Laserenergie von 300 mJ/cm2 darauf aufgebracht. Der so laserbestrahlte
Druckplattenvorläufer
wurde in einer Harris-Druckmaschine montiert und einem Druckvorgang
unterworfen, wobei eine ätzhaltige
(etch-containing), 10 Vol.%-ige, wässrige Isopropylalkohollösung als
Benetzungslösung
zusätzlich
zur Tinte verwendet wurde. Als Ergebnis wurden 10.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
BEISPIEL 2-2
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass die 3 g Methanolsilica durch 4,5 g einer
20 Gew.%-igen kolloidalen Methanollösung von ZrO2·SiO2, Glassca 401 (Markenname, ein Produkt von
Nichiban Kenkyusho) ersetzt wurden. Unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel I-1 wurde dieser Plattenvorläufer belichtet, in der Harris-Druckmaschine
montiert und dann dem Druckvorgang unterworfen. Als Ergebnis wurden
10.000 Blatt verschmutzungsfreier, qualitativ hochwertiger Abzüge erhalten.
-
BEISPIEL 2-3
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer hergestellt,
ausser dass die Menge des verwendeten Methanolsilicas von 3 g auf
4,5 g und die Menge der 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer von 1 g auf 1,5 g verändert wurde.
Die vernetzte hydrophile Schicht des so hergestellten Druckplattenvorläufers wies eine
Trockenbedeckung von 1,5 g/m2 auf. Dieser
Plattenvorläufer
wurde in einem 40W Trend Setter von Canadian CREO Corp. (einer Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W-Halbleiterlaser
ausgerüstet
war, der Licht von 830 nm emittierte) installiert, und dann wurde
eine Laserenergie von 450 mJ/cm2 darauf
aufgebracht. Der so laserbestrahlte Druckplattenvorläufer wurde
in einer Harris-Druckmaschine montiert und einem Druckvorgang unterworfen,
wobei eine ätzhaltige,
10 Vol.%-ige, wässrige
Isopropylalkohollösung
als Benetzungslösung zusätzlich zur
Tinte verwendet wurde. Als Ergebnis wurden 25.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
BEISPIEL I-4
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass 1 g der 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer durch 1 g einer 10 %-igen
Ethylenglykolmonomethyletherlösung
eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Methylmethacrylat (70:30, nach Gewicht)-Copolymers
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht:
200.000) ersetzt wurde. Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
I-1 wurde dieser Plattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 15.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
BEISPIEL I-5
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass 1 g der 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer durch 2 g einer 10 %-igen
Ethylenglykolmonomethyletherlösung
eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylsäure (90:10, nach Gewicht)-Copolymers
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 300.000)
ersetzt wurde. Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel I-3
wurde dieser Plattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 20.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
BEISPIELE I-6 BIS I-10
-
Entsprechend
dem in Beispiel I-1 hergestellten tintenaufnehmenden Substrat wurden
tintenaufnehmende Substrate jeweils wie folgt hergestellt:
-
Anstelle
des in Beispiel I-1 verwendeten N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid-Copolymers
wurde in Beispiel I-6 ein Phenoxyharz "Phenotot YP-50" (Markenname, ein Produkt von Toto Kasei
K.K.) verwendet, in Beispiel I-7 wurde ein Polyvinylformalharz "Denka Formal #200" (Markenname, ein
Produkt von Electro Chemical Industry Co., Ltd.) verwendet, in Beispiel
I-8 wurde ein Polyurethanharz "Estan
#5715" (Markenname, ein
Produkt von Monsanto Corp.) verwendet, in Beispiel I-9 wurde ein
gesättigtes
Copolyesterharz "Kemmit K-1294" (Markenname, ein
Produkt von Toray Industries Inc.) verwendet und in Beispiel I-10
wurde ein Methylmethacrylat/Methacryloxypropyltriethoxysilan (60:40
% nach Gewicht)-Copolymer
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 85.000) verwendet. Jedes
Harz wurde in einer Menge von 3,0 Gew.-Teilen in einem gemischten Lösungsmittel,
das aus 37 Gew.-Teilen
Methylethylketon und 20 Gew.-Teilen Propylenglykolmonomethylether
gebildet wurde, aufgelöst
und hierzu wurden 0,04 Gew.-Teile eines fluorhaltigen Tensids "Megafac F-177" (Markenname, ein
Produkt von Dai-Nippon
Ink & Chemicals,
Inc.) zugegeben. Jede so hergestellte Lösung wurde auf das in Beispiel
I-1 hergestellte Aluminiumsubstrat in einer Beschichtungsmenge von 24
ml/m2 mittels eines Stabbeschichters aufgeschichtet.
Anschliessend wurde die Beschichtung durch 1-minütiges Erwärmen auf 100°C getrocknet,
wodurch die tintenaufnehmende Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 1 g/m2 auf dem Aluminiumsubstrat erzeugt
wurde. In der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass das in Beispiel I-1 hergestellte Substrat
durch die jeweiligen obigen Aluminiumsubstrate ersetzt wurde. Unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel I-1 wurde jeder dieser
Druckplattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden in jedem Fall 10.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher
Qualität
erhalten.
-
BEISPIEL I-11
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass eine 0,2 mm dicke Polyethylenterephthalatfolie
anstelle des in Beispiel I-1 hergestellten Aluminiumsubstrats verwendet
wurde. Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel I-1 wurde dieser
Plattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 10.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
BEISPIEL I-12
-
Die
unten beschriebene Beschichtungszusammensetzung wurde auf das in
Beispiel I-1 hergestellte Aluminiumsubstrat in einer Menge von 24
ml/m2 mittels eines Stabbeschichters aufgeschichtet
und dann für
1 Minute bei 100°C
getrocknet, wodurch ein Aluminiumsubstrat erzeugt wurde, das mit
einer tintenaufnehmenden Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 1 g/m2 ausgerüstet war.
-
-
Dann
wurde die gesamte Oberfläche
des so gebildeten Substrats mittels einer 3 kW-UV-Lampe belichtet,
wodurch eine dreidimensional vernetzte Struktur darin erzeugt wurde.
Das so hergestellte Substrat wurde anstelle des mit der tintenaufnehmenden
Schicht beschichteten Aluminiumsubstrats aus Beispiel I-1 verwendet.
In der gleichen Weise wie in Beispiel I-1, mit Ausnahme dieses Austauschs,
wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer hergestellt.
-
Unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel I-1 wurde dieser Druckplattenvorläufer belichtet,
in der Harris-Druckmaschine
montiert und dann dem Druckvorgang unterworfen. Als Ergebnis wurden
10.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hohe Qualität erhalten.
-
BEISPIEL I-13
-
Auf
dem mit der tintenaufnehmenden Schicht beschichteten Substrat aus
Beispiel I-1 wurde eine Beschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung
in einer Menge von 24 ml/m2 aufgeschichtet
und bei 100°C
für 1 Minute
getrocknet, wodurch eine dreidimensional vernetzte hydrophile Schicht
mit einer Trockenbedeckung von etwa 1 g/m2 gebildet
wurde. Ferner wurde diese hydrophile Schicht mit der gleichen Überzugsschicht
wie in Beispiel I-1 beschichtet, wodurch ein wärmeempfindlicher Vorläufer einer
Lithografiedruckplatte hergestellt wurde. Unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel I-1 wurde dieser Plattenvorläufer belichtet, in der Harris-Druckmaschine
montiert und dann dem Druckvorgang ausgesetzt. Als Ergebnis wurden
20.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher Qualität erhalten.
-
-
BEISPIEL I-14
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass die Beschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung
anstelle der Beschichtungslösung
für die Überzugsschicht
aus Beispiel I-1 verwendet wurde. Unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel I-1 wurde dieser Plattenvorläufer belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert
und dann dem Druckvorgang ausgesetzt. Als Ergebnis wurden 10.000
Blatt verschmutzungsfreier Abzüge
hoher Qualität erhalten.
-
-
BEISPIEL I-15
-
Ein
N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid/Methylmethacrylat/Acrylnitril/2-Hydroxymethylmethacrylat
(40:10:30:20 % nach Gewicht)-Copolymer in einer Menge von 3 g wurde
in einem gemischten Lösungsmittel
aus 50 g Ethylenglykolmonomethylether und 47 g Methylethylketon
aufgelöst
und in einer Menge von 20 ml/m2 auf das
gleiche Aluminiumsubstrat, wie es in Beispiel I-1 verwendet wurde,
aufgeschichtet und anschliessend für 1 Minute bei 100°C getrocknet.
Auf diese Weise wurde ein Aluminiumsubstrat hergestellt, das mit
einer tintenaufnehmenden Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 0,6 g/m2 ausgerüstet war.
-
Dann
wurde ein Sollösung
hergestellt, indem 18 g Tetraethoxysilan, 32 g Ethanol, 32 g gereinigtes Wasser
und 0,02 g Salpetersäure
in ein Becherglas gegeben und für
1 Stunde bei Raumtemperatur gerührt wurden.
Eine Beschichtungslösung,
die aus einer Portion von 3 g der oben hergestellten Sollösung, 4
g einer 10 %-igen wässrigen
Lösung
von Polyvinylalkohol "PVA
117" (Markenname,
ein Produkt von Kuraray Co., Ltd.), 8 g einer 20 %-igen wässrigen
Lösung
eines kolloidalen Silicas "Snowtex
C" (Markenname,
ein Produkt von Nissan Chemicals Industries, Ltd.), 8 g gereinigtem
Wasser und 0,04 g Polyoxyethylennonylphenylether gebildet wurde,
wurde in einer Menge von 20 ml/m2 auf das
vorgenannte, mit einer tintenaufnehmenden Schicht beschichtete Aluminiumsubstrat
mittels eines Stabbeschichters aufgeschichtet und dann für 5 Minuten bei
100°C getrocknet.
Auf diese Weise wurde eine hydrophile Schicht mit einer Trockenbedeckung
von etwa 2 g/m2 gebildet. Auf diese hydrophile
Schicht wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel I-14 die gleiche Überzugsschicht,
wie sie in Beispiel I-14 verwendet wurde, aufgebracht, wodurch ein
wärmeempfindlicher
Vorläufer einer
Lithografiedruckplatte hergestellt wurde. Dieser Plattenvorläufer wurde
in einen 40W Trend Setter von Canadian CREO Corp. (eine Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W-Halbleiterlaser ausgerüstet war, der Licht von 830
nm emittiert) installiert und dann wurde eine Laserenergie von 600
mJ/cm2 aufgebracht. Die so belichtete Platte
wurde in der Harris-Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 40.000 Blatt verschmutzungsfreier
Abzüge
hoher Qualität
erhalten.
-
BEISPIEL II-1
-
Herstellung eines Aluminiumsubstrats:
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein Aluminiumsubstrat
hergestellt.
-
Synthese eines organischen
Polymers für
die tintenaufnehmende Schicht:
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein organisches Polymer,
das für
die tintenaufnehmende Schicht verwendet wurde, synthetisiert.
-
Herstellung eines tintenaufnehmenden
Substrats:
-
Das
Aluminiumsubstrat mit einer tintenaufnehmenden Schicht wurde in
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 hergestellt.
-
Herstellung eines wärmeempfindlichen
Vorläufers
für eine
Lithografiedruckplatte:
-
Eine
Mischung aus 1 g einer 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht:
250.000), 3 g Methanolsilica (einem Kolloid, das 30 Gew.% 10–20 nm-Silicateilchen in
Methanol enthält,
hergestellt von Nissan Chemicals Industries, Ltd.), 0,08 g Cyaninfarbstoff
(I-31), wie oben dargestellt, und 16 g Methanol wurde auf die auf
dem Substrat bereitgestellte, vorgenannte tintenaufnehmende Schicht
aufgeschichtet und dann für
1 Minute bei 100°C
getrocknet. Auf diese Weise wurde eine dreidimensional vernetzte
hydrophile Schicht mit einer Trockenbedeckung von etwa 1 g/m2 auf der tintenaufnehmenden Schicht erzeugt.
-
Auf
diese hydrophile Schicht wurde eine wässrige Lösung, die aus 20 g einer 5
%-igen Lösung
von Polyacrylsäure
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 25.000) und 0,025 g Polyoxyethylennonylphenylether
gebildet wurde, aufgeschichtet und dann für 2 Minuten bei 100°C getrocknet,
wodurch eine Überzugsschicht
mit einer Trockenbedeckung von etwa 0,6 g/m2 auf
der hydrophilen Schicht erzeugt wurde. Auf diese Weise wurde ein
wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt.
-
Herstellung einer Lithografiedruckplatte:
-
Der
vorgenannte Lithografie-Druckplattenvorläufer wurde in einem 40W Trend
Setter, hergestellt von Canadian CREO Corp. (eine Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W- Halbleiterlaser
ausgerüstet
war, der Licht von 830 nm emittiert) installiert, und es wurde eine
Laserenergie von 300 mJ/cm2 darauf aufgebracht.
Der so laserbestrahlte Druckplattenvorläufer wurde in einer Harris-Druckmaschine
montiert und einem Druckvorgang unterworfen, wobei eine ätzhaltige,
10 Vol.%-ige, wässrige
Isopropylalkohollösung
als Benetzungslösung zusätzlich zur
Tinte verwendet wurde. Als Ergebnis wurden 10.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten.
-
VERGLEICHSBEISPIEL II-1
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel I-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
als Vergleich hergestellt, ausser dass die Überzugsschicht nicht bereitgestellt
wurde. Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 wurde
dieser Druckplattenvorläufer
mit einem Laser bestrahlt, in der gleichen Druckmaschine montiert
und dann dem Druckvorgang unterworfen. Nach Bestrahlung mit dem
Laser wurde durch Beobachtung der Plattenoberfläche festgestellt, dass die
hydrophile Schicht eine offenkundige Streuung durch Ablation in
den bestrahlten Bereichen hervorrief. Obwohl 10.000 Druckabzüge durch
den Druckvorgang erhalten wurden, wiesen die Drucksachen Fingerabdruckflecken
auf, von denen angenommen wird, dass sie durch die Berührung mit
tintenverschmutzten Fingern bei der Montage der Platte auf der Druckmaschine
hervorgerufen wurden.
-
BEISPIEL II-2
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer hergestellt,
ausser dass die 3 g Methanolsilica durch 4,5 g einer 20 Gew.%-igen
kolloidalen Methanollösung
von ZrO2·SiO2,
Glassca 401 (Markenname, ein Produkt von Nichiban Kenkyusho) ersetzt
wurden. Dieser Plattenvorläufer
wurde unter den gleichen Bedingungen belichtet wie in Beispiel II-1.
Nach der Belichtung wurde die Plattenoberfläche beobachtet und dadurch
wurde bestätigt,
dass die Bereiche, auf die Energie aufgebracht wurde, nahezu keine
Streuspuren durch Ablation aufwiesen. Dann wurde der belichtete
Plattenvorläufer in
einer Harris-Druckmaschine montiert und unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel II-1 dem Druckbetrieb unterworfen. Als Ergebnis
wurden 10.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher Qualität erhalten.
-
BEISPIEL II-3
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Vorläufer
einer Lithografiedruckplatte hergestellt, ausser dass die verwendete
Menge an Methanolsilica von 3 g auf 4,5 g, die verwendete Menge
der 10 % Ethylenglykolmonomethyletherlösung von 2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer
von 1 g auf 1,5 g verändert
und der Cyaninfarbstoff (I-31) als Licht/Wärme-Umwandlungsmittel durch den zuvor dargestellten
Cyaninfarbstoff (I-32) ersetzt wurde. Die vernetzte hydrophile Schicht
des so hergestellten Druckplattenvorläufers wies eine Trockenbedeckung
von 1,5 g/m2 auf. Dieser Plattenvorläufer wurde
in einem 40W Trend Setter von Canadian CREO Corp. (eine Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W-Halbleiterlaser ausgerüstet war, der Licht von 830
nm emittiert) installiert und dann wurde eine Laserenergie von 450
mJ/cm2 aufgebracht. Durch Beobachtung der Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung wurde bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren. Der
bestrahlte Plattenvorläufer
wurde in einer Harris-Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang
unterworfen, wobei eine ätzhaltige
10 Vol.%-ige wässrige
Lösung
von Isopropylalkohol als Benetzungslösung zusätzlich zur Tinte verwendet
wurde. Als Ergebnis wurden 25.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher
Qualität
erhalten.
-
BEISPIEL II-4
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass 1 g der 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer durch 1 g einer 10 %-igen
Ethylenglykolmonomethyletherlösung
eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Methylmethacrylat (70:30 % nach
Gewicht)-Copolymers (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 200.000) ersetzt wurde.
Dieser Druckplattenvorläufer
wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 belichtet.
Durch Beobachtung der Plattenoberfläche nach der Belichtung wurde
bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren. Dann
wurde der belichtete Plattenvorläufer
in einer Harris-Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 unterworfen. Als Ergebnis
wurden 15.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher Qualität erhalten.
-
BEISPIEL II-5
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass 1 g der 10 %-igen Ethylenglykolmonomethyletherlösung von
2-Hydroxyethylmethacrylat-Homopolymer durch 2 g einer 10 %-igen
Ethylenglykolmonomethyletherlösung
eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylsäure (90:10, nach Gewicht)-Copolymers
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 300.000)
ersetzt wurde. Dieser Druckplattenvorläufer wurde unter den gleichen
Bedingungen wie in Beispiel II-3 belichtet. Durch Beobachtung der
Plattenoberfläche
nach der Belichtung wurde bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren. Dann
wurde der belichtete Plattenvorläufer
in einer Harris-Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-3 unterworfen. Als Ergebnis
wurden 20.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher Qualität erhalten.
-
BEISPIELE II-6 BIS II-10
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurden die jeweiligen Überzugsschichten
bereitgestellt, ausser dass die Polyacrylsäure in Beispiel II-6 durch
Natriumpolymethacrylat (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 15.000), in Beispiel
II-7 durch Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad: 88 mol-%, Polymerisationsgrad: 1.000),
in Beispiel II-8 durch Poly(2-acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure) (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht:
15.000) und in Beispiel II-9 durch Polyacrylamid (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 10.000)
ersetzt wurde, und in Beispiel II-10 die 5 %-ige wässrige Polyacrylsäurelösung durch
eine Mischung aus einer 4,5 %-igen wässrigen Polyvinylalkohollösung (Verseifungsgrad:
98,8 mol-%, Polymerisationsgrad: 500) und einer 0,5 %-igen wässrigen
Polyacrylsäurelösung (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht:
25.000) ersetzt wurde. Die weiteren Bestandteile dieses wärmeempfindlichen
Lithografie-Druckplattenvorläufers waren
die gleichen wie in Beispiel II-1. Jeder dieser Plattenvorläufer wurde
mit einem Laser unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1
bestrahlt. Durch Beobachtung der Plattenoberfläche nach der Bestrahlung wurde
bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren. Dann
wurde jeder bestrahlte Plattenvorläufer in einer Harris-Druckmaschine montiert
und dem Druckbetrieb unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
II-1 unterworfen, wodurch 10.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher
Qualität
geliefert wurden.
-
BEISPIELE II-11 BIS II-15
-
Entsprechend
dem in Beispiel II-1 hergestellten tintenaufnehmenden Substrat wurden
tintenaufnehmende Substrate jeweils wie folgt hergestellt:
-
Anstelle
des in Beispiel II-1 verwendeten N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid-Copolymers
wurde in Beispiel II-11 ein Phenoxyharz "Phenotot YP-50" (Markenname, ein Produkt von Toto Kasei
K.K.) verwendet, in Beispiel II-12 wurde ein Polyvinylformalharz "Denka Formal #200" (Markenname, ein
Produkt von Electro Chemical Industry Co., Ltd.) verwendet, in Beispiel
II-13 wurde ein Polyurethanharz "Estan
#5715" (Markenname,
ein Produkt von Monsanto Corp.) verwendet, in Beispiel II-14 wurde
ein gesättigtes
Copolyesterharz "Kemmit
K-1294" (Markenname,
ein Produkt von Toray Industries Inc.) verwendet und in Beispiel
II-15 wurde ein Methylmethacrylat/Methacryloxypropyltriethoxysilan
(60:40 % nach Gewicht)-Copolymer
(Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht: 85.000) verwendet. Jedes
Harz wurde in einer Menge von 3,0 Gew.-Teilen in einem gemischten Lösungsmittel,
das aus 37 Gew.-Teilen
Methylethylketon und 20 Gew.-Teilen Propylenglykolmonomethylether
gebildet wurde, aufgelöst
und hierzu wurden 0,04 Gew.-Teile eines fluorhaltigen Tensids "Megafac F-177" (Markenname, ein
Produkt von Dai-Nippon
Ink & Chemicals,
Inc.) zugegeben. Jede so hergestellte Lösung wurde auf das in Beispiel
II-1 hergestellte Aluminiumsubstrat in einer Beschichtungsmenge von
24 ml/m2 mittels eines Stabbeschichters
aufgeschichtet. Anschliessend wurde die Beschichtung durch 1-minütiges Erwärmen auf
100°C getrocknet,
wodurch die tintenaufnehmende Schicht mit einer Trockenbedeckung
von etwa 1 g/m2 auf dem Aluminiumsubstrat
erzeugt wurde. In der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde
ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass das in Beispiel II-1 hergestellte Substrat
durch die jeweiligen obigen Aluminiumsubstrate ersetzt wurde. Unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 wurde jeder dieser
Druckplattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden in jedem Fall 10.000 Blatt verschmutzungsfreier
Abzüge
hoher Qualität
erhalten. Darüber
hinaus wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
-
BEISPIELE II-16 BIS II-18
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurden tintenaufnehmende
Substrate hergestellt, ausser dass ihre jeweiligen Beschichtungszusammensetzungen
für die
tintenaufnehmende Schicht von derjenigen aus Beispiel II-1 dahingehend
unterschiedlich waren, dass ferner ein Cyaninfarbstoff als Licht/Wärme-Umwandlungsmittel
zugegeben wurde.
-
Genauer
war die Formulierung jeder Beschichtungszusammensetzung wie folgt:
-
-
Als
vorgenannter Cyaninfarbstoff wurden die Cyanfarbstoffe (I-33), (I-34)
und (I-37), die zuvor dargestellt wurden, in Beispiel II-16, Beispiel
II-17 bzw. Beispiel II-18 verwendet.
-
Auf
jedes dieser tintenaufnehmenden Substrate wurden die gleiche hydrophile
Schicht und die gleiche Überzugsschicht
wie in Beispiel II-3 aufgeschichtet. Jeder der so hergestellten
Druckplattenvorläufer
wurde mittels der gleichen Plattensetzvorrichtung wie in Beispiel
II-1 so belichtet, dass eine Energie von 400 mJ/cm2 darauf
aufgebracht wurde, und dann in der Harris-Druckmaschine montiert,
gefolgt vom Druckvorgang. Als Ergebnis wurden in jedem Fall 10.000
Blatt verschmutzungsfreier Abzüge
hoher Qualität
erhalten. Darüber
hinaus wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
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BEISPIEL II-19
-
In
der gleichen Weise wie in Beispiel II-1 wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer
hergestellt, ausser dass eine 0,2 mm dicke Polyethylenterephthalatfolie
anstelle des in Beispiel II-1 hergestellten Aluminiumsubstrats verwendet
wurde. Unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 wurde dieser
Plattenvorläufer
belichtet, in der Harris-Druckmaschine montiert und dann dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 10.000 Blatt verschmutzungsfreier,
qualitativ hochwertiger Abzüge
erhalten. Darüber hinaus
wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach der Bestrahlung bestätigt, dass
nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
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BEISPIEL II-20
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Die
unten beschriebene Beschichtungszusammensetzung wurde auf das in
Beispiel II-1 hergestellte Aluminiumsubstrat in einer Menge von
24 ml/m2 mittels eines Stabbeschichters
aufgeschichtet und dann für
1 Minute bei 100°C
getrocknet, wodurch ein Aluminiumsubstrat erzeugt wurde, das mit
einer tintenaufnehmenden Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 1 g/m2 ausgerüstet war.
-
-
Dann
wurde die gesamte Oberfläche
des so gebildeten Substrats mittels einer 3 kW-UV-Lampe belichtet,
wodurch eine dreidimensional vernetzte Struktur darin erzeugt wurde.
Das so hergestellte Substrat wurde anstelle des mit der tintenaufnehmenden
Schicht beschichteten Aluminiumsubstrats aus Beispiel II-1 verwendet.
In der gleichen Weise wie in Beispiel II-1, mit Ausnahme dieses
Austauschs, wurde ein wärmeempfindlicher
Lithografie-Druckplattenvorläufer hergestellt.
-
Unter
den gleichen Bedingungen wie in Beispiel II-1 wurde dieser Druckplattenvorläufer belichtet,
in der Harris-Druckmaschine
montiert und dann dem Druckvorgang unterworfen. Als Ergebnis wurden
10.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hohe Qualität erhalten.
Darüber
hinaus wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
-
BEISPIEL II-21
-
Auf
dem mit der tintenaufnehmenden Schicht beschichteten Substrat aus
Beispiel II-1 wurde eine Beschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung
in einer Menge von 24 ml/m2 aufgeschichtet
und bei 100°C
für 1 Minute
getrocknet, wodurch eine dreidimensional vernetzte hydrophile Schicht
mit einer Trockenbedeckung von etwa 1 g/m2 gebildet
wurde. Ferner wurde diese hydrophile Schicht mit der gleichen Überzugsschicht
wie in Beispiel II-1 beschichtet, wodurch ein wärmeempfindlicher Vorläufer einer
Lithografiedruckplatte hergestellt wurde. Unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel II-1 wurde dieser Plattenvorläufer belichtet, in der Harris-Druckmaschine
montiert und dann dem Druckvorgang ausgesetzt. Als Ergebnis wurden
20.000 Blatt verschmutzungsfreier Abzüge hoher Qualität erhalten.
Darüber
hinaus wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
-
-
BEISPIEL II-22
-
Ein
N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid/Methylmethacrylat/Acrylnitril/2-Hydroxymethylmethacrylat
(40:10:30:20 % nach Gewicht)-Copolymer in einer Menge von 3 g wurde
in einem gemischten Lösungsmittel
aus 50 g Ethylenglykolmonomethylether und 47 g Methylethylketon
aufgelöst
und in einer Menge von 20 ml/m2 auf das
gleiche Aluminiumsubstrat, wie es in Beispiel II-1 verwendet wurde,
aufgeschichtet und anschliessend für 1 Minute bei 100°C getrocknet.
Auf diese Weise wurde ein Aluminiumsubstrat hergestellt, das mit
einer tintenaufnehmenden Schicht mit einer Trockenbedeckung von
etwa 0,6 g/m2 ausgerüstet war.
-
Dann
wurde ein Sollösung
hergestellt, indem 18 g Tetraethoxysilan, 32 g Ethanol, 32 g gereinigtes Wasser
und 0,02 g Salpetersäure
in ein Becherglas gegeben und für
1 Stunde bei Raumtemperatur gerührt wurden.
Eine Beschichtungslösung,
die aus einer Portion von 3 g der oben hergestellten Sollösung, 4
g einer 10 %-igen wässrigen
Lösung
von Polyvinylalkohol "PVA
117" (Markenname,
ein Produkt von Kuraray Co., Ltd.), 8 g einer 20 %-igen wässrigen
Lösung
eines kolloidalen Silicas "Snowtex
C" (Markenname,
ein Produkt von Nissan Chemicals Industries, Ltd.), 0,10 g Cyaninfarbstoff
(I-31), 8 g gereinigtem Wasser und 0,04 g Polyoxyethylennonylphenylether
gebildet wurde, wurde in einer Menge von 20 ml/m2 auf
das vorgenannte, mit einer tintenaufnehmenden Schicht beschichtete
Aluminiumsubstrat mittels eines Stabbeschichters aufgeschichtet
und dann für
5 Minuten bei 100°C
getrocknet. Auf diese Weise wurde eine hydrophile Schicht mit einer
Trockenbedeckung von etwa 2 g/m2 gebildet.
Auf diese hydrophile Schicht wurde in der gleichen Weise wie in
Beispiel II-3 die gleiche Überzugsschicht,
wie sie in Beispiel II-3 verwendet wurde, aufgebracht, wodurch ein
wärmeempfindlicher
Vorläufer
einer Lithografiedruckplatte hergestellt wurde. Dieser Plattenvorläufer wurde in
einen 40W Trend Setter von Canadian CREO Corp. (eine Plattensetzmaschine,
die mit einem 40 W-Halbleiterlaser ausgerüstet war, der Licht von 830
nm emittiert) installiert und dann wurde eine Laserenergie von 600
mJ/cm2 aufgebracht. Die so belichtete Platte
wurde in der Harris-Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang
unterworfen. Als Ergebnis wurden 40.000 Blatt verschmutzungsfreier
Abzüge
hoher Qualität
erhalten. Darüber
hinaus wurde durch Beobachtung jeder Plattenoberfläche nach
der Bestrahlung bestätigt,
dass nahezu keine Streuspuren durch Ablation vorhanden waren.
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ERFINDUNGSGEMÄSSE VORTEILE:
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Die
Probleme der herkömmlichen,
die Laserbelichtung ausnutzenden Wärmemodus-Plattenherstellungsverfahren
können
durch die erfindungsgemässen
Ausführungsformen
gelöst
werden. Genauer besitzen die vorliegenden Lithografie-Druckplattenvorläufer die
Eignung zur Kurzzeitrasterbelichtung und können in einer Druckmaschine
montiert werden, ohne eine Entwicklungsverarbeitung zu durchlaufen
und können
direkt dem Druckbetrieb unterworfen werden. Die aus den vorliegenden
Vorläufern
hergestellten Druckplatte besitzen eine grosse Druckkapazität und entwickeln
kaum Verschmutzungen. Darüber
hinaus können
die erfindungsgemässen
wärmeempfindlichen
Schichten daran gehindert werden, durch Laserbelichtung zu ablatieren (zu
streuen), so dass die Verschmutzung der Belichtungsvorrichtung,
einschliesslich des optischen Systems, durch gestreute Materie wirksam
vermieden werden kann.