DE4419038A1 - Mehrfachstrahlen erzeugendes Element und damit ausgerüstetes optisches Druckgerät - Google Patents
Mehrfachstrahlen erzeugendes Element und damit ausgerüstetes optisches DruckgerätInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Mehrfachstrahlen erzeu
gendes Element und ein damit ausgerüstetes optisches Druckgerät, und
insbesondere auf ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Element und ein
damit ausgerüstetes optisches Druckgerät, bei dem ein Laserstrahl in eine
Mehrzahl von Strahlen aufgeteilt wird, und eine Mehrzahl von Strahlen
parallel verarbeitet wird, um eine Verarbeitung mit hoher Geschwindig
keit zu realisieren.
Ein Laserstrahl, der auf ein Beugungsgitterelement auftrifft, wird in
mehrfach gebeugte Lichtstrahlen aufgespalten. Es gab eine Menge von
Vorschlägen, dieses Phänomen als Mehrfachstrahlen erzeugendes Element
zu verwenden, und es gab auch einige Anwendungen. Es war jedoch
schwierig, die Zahl der aufgespaltenen Strahlen zu vergrößern und die
Intensitätsverteilung der verzweigten Strahlen wirksam zu vergleichmäßi
gen.
Als Gegenmaßnahme gegen dieses Problem ist im "Technical Digest on
the 3rd Microoptics Conference", Seite 84 (1991) ein Verfahren an einem
Beugungsgitterelement zur Umwandlung eines Einzelstrahls in Mehrfach
strahlen vorgeschlagen worden. Das Verfahren schließt jedoch einen
komplizierten Herstellungsprozeß ein, wobei die Intensität eines Elek
tronenstrahls genau gesteuert werden muß, unter Verwendung vieler
Intensitätsstufen zur Bestrahlung eines Materials, das dem Elektronen
strahl ausgesetzt ist, da das Material so geformt wird, daß es ein viel
stufiges Phasenmuster hat. Ferner gibt es Beschränkungen in der Anzahl
der aufgespaltenen Strahlen, der Effizienz der Lichtausnutzung und der
Gleichmäßigkeit der Lichtintensitätsverteilung der aufgespaltenen Strahlen,
da die Anzahl der Stufen in dem mehrstufigen Phasenmuster begrenzt ist
infolge der Begrenzungen im Herstellungsprozeß.
Die Erfinder haben ein Beugungsgitterelement zur Umwandlung eines
einzelnen Strahls in Mehrfachstrahlen vorgeschlagen, wobei die Grund
phasenmuster zum Aufbau des Gitters in fraktionierten rechteckigen
Mustern mit nichteinheitlichen Breiten ausgebildet sind und die Phasen
höhe einer einzelnen Stufe haben. In diesem Verfahren, mit Hilfe des
Optimierens und Bestimmens der nichteinheitlichen Breiten in den
rechteckigen Mustern, kann die Erzielung einer ungeraden Anzahl von
Mehrfachstrahlen realisiert werden, die eine ausgezeichnete Gleichmäßig
keit und eine hohe Effizienz der Lichtausnutzung haben. Das Beugungs
gitter entsprechend diesem Verfahren kann leicht hergestellt werden, da
das Muster aus einem einschichtigen Deckmaterial gebildet wird.
Das Verfahren gemäß der obigen Erfindung kann jedoch keine gerade
Anzahl mehrfacher Strahlen erzeugen. Eine elektronische Steuerschal
tung, die mit einem optischen Gerät gemeinsam verwendet wird, ist
aufgrund einer Information konstruiert, die aus einem Byte oder acht
Bits besteht, d. h. einer geraden Zahl. Außerdem hat eine Flip-Flop-Schaltung
und/oder eine Zählschaltung, die häufig in Steuerschaltungen
verwendet werden, eine grundsätzliche Betriebsweise zur Umwandlung der
Anzahl elektrischer Impulssignale in das Doppelte oder die Hälfte der
ursprünglichen elektrischen Impulssignale. Aus diesen Gründen ist es oft
erforderlich, daß die Anzahl der Mehrfachstrahlen, die in einem opti
schen Gerät verwendet werden, eine gerade Zahl ist.
Andererseits ist es wohlbekannt, daß die Abtastung mit Hilfe einer
Mehrzahl von Laserstrahlen ein effektives Verfahren für einen Laserdrucker
hoher Geschwindigkeit ist. Beispielsweise wird in einem von den
Erfindern vorgeschlagenen Laserdrucker eine Mehrzahl von Laserstrahlen,
die durch ein Beugungsgitter erzeugt werden, in parallele Mehrfachstrah
len unter Verwendung einer Linse umgewandelt, die in einem akusto
optischen Mehrkanal-Modulator eingesetzt wird. Dann wird eine Mehr
zahl von Laserstrahlen, die durch den akusto-optischen Mehrkanal-Modu
lator moduliert sind, auf einer photosensitiven Trommel unter Verwen
dung eines rotierenden polygonalen Spiegels abgetastet.
Um die Gruppierung von Strahlpunkten in einem schrägen Winkel auf
der photosensitiven Trommel in dem oben beschriebenen optischen
System auszubilden, muß das Beugungsgitter und der akusto-optische
Mehrkanal-Modulator genau adjustiert sein, so daß ihm eine Neigung um
einen gegebenen Winkel gegenüber einer horizontalen Ebene erteilt wird.
Es ist theoretisch möglich, die beiden Einheiten gemeinsam zu adjustie
ren, aber praktisch war es außergewöhnlich schwierig. Insbesondere für
den akusto-optischen Mehrkanal-Modulator, um effizient den im ersten
Grad gebeugten Strahl unter allen einfallenden Mehrfachstrahlen zu
beugen, erfordert die Winkeladjustierung in der Ebene, die die Strahlen
beugt, d. h. die Adjustierung des Bragg-Winkels, eine extrem hohe Genau
igkeit. Außerdem war die Einstellung sehr schwierig, die Gruppierung
von Strahlpunkten in schrägem Winkel auf der photosensitiven Trommel
auszubilden.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Mehrfachstrahlen erzeu
gendes Element zu schaffen, das eine gerade Anzahl von Mehrfachstrah
len erzeugt und eine hohe und gleichmäßige Effizienz der Lichtausnut
zung zeigt, und ein optisches Druckgerät hoher Geschwindigkeit und
hoher Auflösung zu schaffen, das das Mehrfachstrahlen erzeugende
Element verwendet.
Ein anderes Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein optisches Druck
gerät bereitzustellen, das eine Lichtabtasteinheit zur Abtastung mehrfacher
Laserstrahlen unter Verwendung eines akusto-optischen Modulators
aufweist, wobei es ermöglicht wird, die Winkeladjustierungen der Grup
pierung der Lichtpunkte, die durch die Mehrfachstrahlen auf einem
Abtastmedium gebildet werden, gegenüber der Abtastrichtung leicht und
genau vorzunehmen.
Das Ziel der vorliegenden Erfindung kann erreicht werden, indem man
ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Element bereitstellt, das wiederholt
angeordnete Grundphasenmuster aufweist, wobei die Grundmuster aus
wenigstens zwei Arten rechteckiger Muster zusammengesetzt werden, die
nicht einheitliche Breiten und verschiedene Phasenhöhen aufweisen,
welches Mehrfachstrahlen mit praktisch gleichen Lichtintensitäten erzeugt,
und insbesondere die Grundphasenmuster asymmetrische Muster ohne
symmetrische Achsen sind. Hiermit kann man erreichen, eine gerade
Zahl von Mehrfachstrahlen zu erzeugen, die hohe Effizienz der Licht
ausnutzung und gleichmäßige Lichtintensität haben.
Ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Element, d. h. ein Beugungsgitter mit
Grundphasenmustern wie oben beschrieben, kann erzeugt werden durch
Übereinanderlegen einer Mehrzahl von Phasenmustern. Bei dieser
Gelegenheit haben die übereinander zu legenden Phasenmuster jeweils
verschiedene Phasenhöhen, doch jedes der Phasenmuster ist ein recht
eckiges Muster mit einer einzigen Phasenhöhe und nicht einheitlichen
Breiten.
Da das Mehrfachstrahlenelement entsprechend der vorliegenden Erfindung
hergestellt werden kann, indem man mehrere Male das Verfahren zur
Ausbildung von Mustern durchführt, die aus rechteckigen Formen auf
einem optischen Material mit einer konstanten Schichtdicke zusammen
gesetzt sind, kann es leicht hergestellt werden. Zusätzlich kann man mit
Hilfe freier Bemessung der Breiten in den rechteckigen Mustern errei
chen, daß eine gerade Anzahl von Mehrfachstrahlen erzeugt wird, die
hohe Effizienz der Lichtausnutzung und gleichmäßige Lichtintensität
haben.
Außerdem kann das Ziel der vorliegenden Erfindung erreicht werden
durch Verwendung der erzeugten Mehrfachstrahlen zusammen mit einem
akusto-optischen Mehrkanal-Modulator. Auf diese Weise kann ein opti
scher Druckapparat hoher Geschwindigkeit und hoher Auflösung realisiert
werden.
Außerdem kann das Ziel der vorliegenden Erfindung erreicht werden
durch geeignetes Rotieren eines Dove-Prismas unter Verwendung eines
Rotiermechanismus für ein Dove-Prisma. Damit kann eine Gruppierung
von Lichtpunkten auf dem Abtastmedium ausgebildet werden, mit einem
beliebigen Winkel gegen die Abtastrichtung. Daher kann die Winkelein
stellung leicht und genau durchgeführt werden. Mit anderen Worten, da
ein Dove-Prisma zwischen einem akusto-optischen Mehrkanal-Modulator
und einem rotierenden polygonalen Spiegel angeordnet ist, kann die
Beugungseffizienz des akusto-optischen Modulators hoch gehalten werden
und eine Gruppierung von Lichtpunkten kann leicht und genau auf dem
Abtastmedium ausgebildet werden mit einem beliebigen Winkel gegen die
Abtastrichtung, ohne die hohe Beugungseffizienz des akusto-optischen
Modulators zu beeinträchtigen. Daher kann man ein optisches Druckge
rät erzielen, dessen Teilung der Abtastlinien immer konstant gehalten
wird.
In den Zeichnungen sind Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt.
Es zeigen
Fig. 1 eine Ansicht eines Ausführungsbeispiels eines Grundphasenmu
sters für ein Beugungsgitter, das in einem Mehrfachstrahlen
erzeugenden Element entsprechend der vorliegenden Erfindung
verwendet wird.
Fig. 2 eine Ansicht, die das optische System zur Erzeugung von Mehr
fachstrahlen unter Verwendung eines Beugungsgitters erläutert.
Fig. 3 eine Ansicht, die die Funktion M(s) erläutert.
Fig. 4 ein Beispiel eines Berechnungsergebnisses für den Fall, wo zwei
Strahlen erzeugt werden unter Verwendung eines Mehrfachstrah
len erzeugenden Beugungsgitters entsprechend der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 5 ein Beispiel eines Berechnungsergebnisses für den Fall, wo vier
Strahlen erzeugt werden unter Verwendung eines Mehrfachstrah
len erzeugenden Beugungsgitters entsprechend der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 6 ein berechnetes Ergebnis für einen Fall, wo vier Strahlen er
zeugt werden.
Fig. 7 eine Ansicht, die die Gleichmäßigkeit in den Mehrfachstrahlen
erläutert.
Fig. 8 ein Beispiel eines Berechnungsergebnisses für den Fall, wo sechs
Strahlen erzeugt werden unter Verwendung eines Mehrfachstrah
len erzeugenden Beugungsgitters entsprechend der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 9 ein Beispiel eines Berechnungsergebnisses für den Fall, wo acht
Strahlen erzeugt werden unter Verwendung eines Mehrfachstrah
len erzeugenden Beugungsgitters entsprechend der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 10 eine Ansicht, die das Verfahren der Herstellung eines Mehrfach
strahlen erzeugenden Elements erläutert und die Querschnitts
truktur eines Mehrfachstrahlen erzeugenden Elements entspre
chend der vorliegenden Erfindung darstellt.
Fig. 11 eine Ansicht, die ein Ausführungsbeispiel eines Herstellungsver
fahrens für ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Element entspre
chend der vorliegenden Erfindung zeigt.
Fig. 12 eine Ansicht, die ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Her
stellungsverfahrens für ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Ele
ment entsprechend der vorliegenden Erfindung zeigt.
Fig. 13 eine Ansicht, die ein optisches Druckgerät unter Verwendung
eines Mehrfachstrahlen erzeugenden Elements zeigt.
Fig. 14 eine Ansicht, die die Betriebsweise eines akusto-optischen Mehr
kanal-Modulators erläutert.
Fig. 15 eine Ansicht, die die Erscheinungsform der Mehrfachpunktabta
stung zeigt.
Fig. 16 eine Ansicht, die die Wirkungsweise des Dove-Prismas erläutert.
Fig. 17 eine schematische Ansicht, die ein anderes Ausführungsbeispiel
eines optischen Druckgeräts entsprechend der vorliegenden
Erfindung zeigt.
Fig. 18 eine Ansicht, die die Betriebsweise eines akusto-optischen Modu
lators erläutert.
Die vorliegende Erfindung wird im Detail unter Bezugnahme auf Fig. 1
beschrieben.
In einem Beugungsgitter sind Grundphasenmuster wiederholt angeordnet
mit einer Teilung p. Das Grundphasenmuster 10 entsprechend der
vorliegenden Erfindung ist hergestellt durch Überlagern der Phasenmuster
8 und 9, wobei jedes der Phasenmuster 8 und 9 ein rechteckiges Muster
mit einer einzigen Phasenhöhe und ungleichförmiger Breite ist. In
diesem Ausführungsbeispiel ist das Phasenmuster 8 aus M Sektionen
rechteckiger Muster aufgebaut, die nicht einheitliche Breiten von y(1) bis
y(M) haben. Die Phasenhöhe der Phasenmuster 8 ist ay. Andererseits
ist das Phasenmuster 9 auch aus K Sektionen rechteckiger Muster zu
sammengesetzt, die nicht einheitliche Breiten von z(1) bis z(K) haben.
Die Phasenhöhe des Phasenmusters 9 ist az.
Fig. 2 zeigt ein Beispiel zur Erzeugung von vier Strahlen unter Ver
wendung eines Beugungsgitters 7. Eine Linse 3 ist so angeordnet, daß
die Position des Beugungsgitters 7 an den vorderen Brennpunkt der
Linse 3 und die Position der Bilderzeugungsebene 4 an den hinteren
Brennpunkt der Linse kommt. Ein einfallender Laserstrahl 1 auf das
Beugungsgitter 7, das als Vierstrahlerzeuger ausgebildet ist, erzeugt vier
Strahlen 6, die bestehen aus Minus erster Ordnung gebeugtem Licht,
Nullter Ordnung gebeugtem Licht, erster Ordnung gebeugtem Licht und
zweiter Ordnung gebeugtem Licht. Die ausgerichtete Teilung q der vier
Strahlen 6 auf der Bildformungsebene 4 ist konstant. Mit Hilfe der
asymmetrischen Erzeugung von gebeugten Lichtstrahlen wie in der Figur
gezeigt, kann eine gerade Anzahl von Strahlen erzeugt werden. In dem
Fall, wo ein Grundphasenmuster aus einem Phasenmuster einer einzelnen
Schicht gebildet wird, wie durch Bezugszeichen 8 in Fig. 1 gezeigt, kann
kein geeignetes asymmetrisches gebeugtes Muster erzielt werden, und eine
gerade Anzahl von Mehrfachstrahlen mit mehr als vier Strahlen kann
nicht erzeugt werden.
Das Herstellungsverfahren wird im Detail weiter unten beschrieben.
Nimmt man das Grundphasenmuster als f(ξ), die Gitterteilung des
Beugungsgitters als p, dann ist die Lichtintensitätsverteilung auf einem
Schirm, der durch das Bezugszeichen 4 in Fig. 2 angegeben ist, durch
die folgende Gleichung (1) ausgedrückt:
wobei s eine normierte Koordinate auf dem Schirm 4 ist und ausge
drückt wird als s = 2πx/(λf). Darin ist λ die Wellenlänge des ein
fallenden Lichtes und N die Gesamtzahl der Grundphasenmuster, die in
dem Beugungsgitter 7 enthalten sind. Durch Ausrechnen der Gleichung
(1) erhält man die folgende Gleichung (2):
I(s) = F(s)M(s) (2)
wobei
M(s) = |sin(psN/2)/sin(ps/2)|² (4)
Die Funktion M(s) in Gleichung (4) ist eine Funktion, die dieselben
Spitzenwerte an der Beugungsposition des Beugungsgitters 7 hat wie in
Fig. 3 gezeigt. Um aus dem Beugungsgitter mehrfach gebeugte Strahlen
mit der gleichen Lichtintensität zu erhalten, muß die Funktion F(s) in
Gleichung (3) den gleichen Wert für die mehrfach gebeugten Strahlen
haben. Um dies zu erreichen ist es wichtig, wie man die Funktion f(ξ)
bestimmt, die das Grundphasenmuster ausdrückt.
Ein Ausführungsbeispiel einer Bauart, die man durch Berechnung der
Gleichung (3) für das Grundphasenmuster entsprechend der vorliegenden
Erfindung erhält, wird unten beschrieben. Im übrigen ändert sich der
Wert der Gleichung (3) nicht, unabhängig davon, ob die Phasenhöhe ay
oder az positiven oder negativen Wert hat. Es ist auch offensichtlich,
daß der Wert der Gleichung (3) sich nicht ändert, wenn ganzzahlige
Mehrfache von 2π zur Phasenhöhe addiert werden.
(1) Betreffend ein Zweistrahlenelement, werden die in Gleichung (5)
ausgedrückten Beziehungen erhalten:
y(1)/p = 0,347,
y(2)/p = 0,653,
z(1)/p = 0,653,
z(2)/p = 0,347,
ay = 1,12 (radian),
az = 1,12 (radian) (5).
y(2)/p = 0,653,
z(1)/p = 0,653,
z(2)/p = 0,347,
ay = 1,12 (radian),
az = 1,12 (radian) (5).
Fig. 4 zeigt ein Simulationsergebnis, wiedergegeben von dem Element
dieses Bauartbeispiels unter Verwendung des optischen Systems in Fig. 2.
Die Ordinate zeigt die Lichtintensität, jedoch normiert mit der einfallen
den Lichtintensität. Die gesamte Lichtintensität der zwei Strahlen, ge
beugte Strahlen nullter Ordnung und gebeugte Strahlen erster Ordnung,
ist 75%. Unter der Annahme, daß die Gleichmäßigkeit der zwei Strah
len zulässig ist, wenn die Differenz zwischen jeder Strahlintensität und
der durchschnittlichen Lichtintensität 50% nicht überschreitet, sind die
Bauartwerte gemäß Gleichung (5) bis zu den folgenden Bereichen zuläs
sig.
0,14 < y(1)/p < 0,87,
0,13 < y(2)/p < 0,86,
0,13 < z(1)/p < 0,86,
0,14 < z(2)/p < 0,87,
0,52 < |ay| < 1,7,
0,52 < |az| < 1,7 (6).
0,13 < y(2)/p < 0,86,
0,13 < z(1)/p < 0,86,
0,14 < z(2)/p < 0,87,
0,52 < |ay| < 1,7,
0,52 < |az| < 1,7 (6).
(2) Bezüglich eines Vierstrahlenelements werden die in Gleichung (7)
ausgedrückten Beziehungen erhalten:
y(1)/p = 0,372,
y(2)/p = 0,628,
z(1)/p = 0,254,
z(2)/p = 0,443,
z(3)/p = 0,146,
z(4)/p = 0,156,
ay = 1,66,
az = 1,13 (7).
y(2)/p = 0,628,
z(1)/p = 0,254,
z(2)/p = 0,443,
z(3)/p = 0,146,
z(4)/p = 0,156,
ay = 1,66,
az = 1,13 (7).
Fig. 5 zeigt ein Simulationsergebnis, das durch das Element dieses
Bauartbeispiels unter Verwendung des optischen Systems in Fig. 2 wie
dergegeben ist. Die Ordinate zeigt die Lichtintensität, jedoch normiert
mit der einfallenden Lichtintensität. Vier Strahlen sind dargestellt durch
den gebeugten Strahl von minus erster Ordnung, gebeugten Strahl nullter
Ordnung, gebeugten Strahl + erster Ordnung und gebeugten Strahl +
zweiter Ordnung. Die gesamte Lichtintensität der vier Strahlen ist 80%,
und daher ist die Lichtausnutzung hoch. Unter der Annahme, daß die
Gleichmäßigkeit der Mehrfachstrahlen zulässig ist, wenn die Differenz
zwischen jeder Strahlenintensität und der durchschnittlichen Lichtintensität
50% nicht überschreitet, sind die Bauartwerte, die durch Gleichung (7)
ausgedrückt sind, bis zu den folgenden Bereichen gemäß Gleichung (8)
zulässig.
0,254 < y(1)/p < 0,475,
0,477 < y(2)/p < 0,76,
0,167 < z(1)/p < 0,34,
0,264 < z(2)/p < 0,554,
0,046 < z(3)/p < 0,28,
0,105 < z(4)/p < 0,23,
1,34 < |ay| < 2,12,
0,67 < |az| < 1,59 (8).
0,477 < y(2)/p < 0,76,
0,167 < z(1)/p < 0,34,
0,264 < z(2)/p < 0,554,
0,046 < z(3)/p < 0,28,
0,105 < z(4)/p < 0,23,
1,34 < |ay| < 2,12,
0,67 < |az| < 1,59 (8).
Fig. 6 zeigt ein Simulationsergebnis von Beugungsstrahlen, wenn die
Phase az = 1,13 in Gleichung (7) ersetzt ist durch az = 0,6. Die
Gleichförmigkeit der vier erzeugten Strahlen ist verschlechtert.
Die Gleichförmigkeit von Mehrfachstrahlen wird weiter unten erläutert
unter Bezugnahme auf Fig. 7.
Lichtintensität von
Beugungsstrahl minus erster Ordnung: 0,2026
Beugungsstrahl nullter Ordnung: 0,3408
Beugungsstrahl plus erster Ordnung: 0,2117
Beugungsstrahl plus zweiter Ordnung: 0,1078.
Beugungsstrahl minus erster Ordnung: 0,2026
Beugungsstrahl nullter Ordnung: 0,3408
Beugungsstrahl plus erster Ordnung: 0,2117
Beugungsstrahl plus zweiter Ordnung: 0,1078.
Die durchschnittliche Lichtintensität dieser Strahlen ist 0,2157.
Die Gleichförmigkeit ist durch die folgende Gleichung definiert:
Gleichförmigkeit = (maximaler Unterschied gegenüber der durchschnittlichen Strahlintensität) ÷ (durchschnittliche Strahlintensität) × 100.
Gleichförmigkeit = (maximaler Unterschied gegenüber der durchschnittlichen Strahlintensität) ÷ (durchschnittliche Strahlintensität) × 100.
Im Fall der Fig. 7 ist die Gleichförmigkeit 0,1251 ÷ 0,2157 × 100 =
58,0.
Der Bauartwert der vorliegenden Erfindung kann eine Gleichförmigkeit
kleiner als 50% zulassen. Wenn die Gleichförmigkeit größer als 50% ist,
wie in Fig. 7 gezeigt, entsteht unter den Strahlen Ungleichmäßigkeit, was
im Ergebnis den Druck nicht gleichmäßig macht.
(3) Betreffend eines Sechsstrahlenelements werden die in Gleichung (9)
ausgedrückten Beziehungen erhalten:
y(1)/p = 0,080,
y(2)/p = 0,059
y(3)/p = 0,297
y(4)/p = 0,565
z(1)/p = 0,37,
z(2)/p = 0,255,
z(3)/p = 0,197,
z(4)/p = 0,178,
ay = 1,344,
az = 1,68 (9).
y(2)/p = 0,059
y(3)/p = 0,297
y(4)/p = 0,565
z(1)/p = 0,37,
z(2)/p = 0,255,
z(3)/p = 0,197,
z(4)/p = 0,178,
ay = 1,344,
az = 1,68 (9).
Fig. 5 zeigt ein Simulationsergebnis, das durch das Element dieses
Bauartbeispiels unter Verwendung des optischen Systems in Fig. 2 wie
dergegeben wird. Die Ordinate zeigt die Lichtintensität, jedoch normiert
mit der einfallenden Lichtintensität. Sechs Strahlen werden erzeugt
durch gebeugten Strahl minus zweiter Ordnung, gebeugten Strahl minus
erster Ordnung, gebeugten Strahl nullter Ordnung, gebeugten Strahl plus
erster Ordnung, gebeugten Strahl plus zweiter Ordnung und gebeugten
Strahl plus dritter Ordnung. Die gesamte Lichtintensität der sechs
Strahlen ist 77%, und daher ist die Lichtausnutzung hoch. Unter der
Annahme, daß die Gleichförmigkeit der Mehrfachstrahlen zulässig ist,
wenn die Differenz zwischen jeder Strahlintensität und der durchschnitt
lichen Lichtintensität 50% nicht überschreitet, sind die Bauartwerte
gemäß Gleichung (9) für die folgenden Bereiche, die in Gleichung (10)
ausgedrückt sind, zulässig.
y(1)/p < 0,159,
y(2)/p < 0,133,
0,212 < y(3)/p < 0,368,
0,504 < y(4)/p < 0,613,
0,313 < z(1)/p < 0,447,
0,180 < z(2)/p < 0,317,
0,142 < z(3)/p < 0,271,
0,148 < z(4)/p < 0,218,
1,05 < |ay| < 1,71,
1,44 < |az| < 1,97 (10).
y(2)/p < 0,133,
0,212 < y(3)/p < 0,368,
0,504 < y(4)/p < 0,613,
0,313 < z(1)/p < 0,447,
0,180 < z(2)/p < 0,317,
0,142 < z(3)/p < 0,271,
0,148 < z(4)/p < 0,218,
1,05 < |ay| < 1,71,
1,44 < |az| < 1,97 (10).
(4) Betreffend ein Achtstrahlenelement werden die in Gleichung (11)
ausgedrückten Beziehungen erhalten.
y(1)/p = 0,297,
y(2)/p = 0,143
y(3)/p = 0,174
y(4)/p = 0,179
y(5)/p = 0,075,
y(6)/p = 0,132,
z(1)/p = 0,306,
z(2)/p = 0,155,
z(3)/p = 0,121,
z(4)/p = 0,418,
ay = 1,360,
az = 1,37 (11).
y(2)/p = 0,143
y(3)/p = 0,174
y(4)/p = 0,179
y(5)/p = 0,075,
y(6)/p = 0,132,
z(1)/p = 0,306,
z(2)/p = 0,155,
z(3)/p = 0,121,
z(4)/p = 0,418,
ay = 1,360,
az = 1,37 (11).
Fig. 9 zeigt ein Simulationsergebnis, das von dem Element dieses Bau
artbeispiels unter Verwendung des optischen Systems der Fig. 2 wie
dergegeben wird. Die Ordinate zeigt die Lichtintensität, jedoch normiert
mit der einfallenden Lichtintensität. Acht Strahlen sind erzeugt, und
zwar Beugungsstrahl minus dritter Ordnung, Beugungsstrahl minus zweiter
Ordnung, Beugungsstrahl minus erster Ordnung, Beugungsstrahl nullter
Ordnung, Beugungsstrahl plus erster Ordnung, Beugungsstrahl plus zweiter
Ordnung, Beugungsstrahl plus dritter Ordnung und Beugungsstrahl plus
vierter Ordnung. Die gesamte Lichtintensität der acht Strahlen ist 79%,
und daher ist die Lichtausnutzung hoch. Unter der Annahme, daß die
Gleichförmigkeit der Mehrfachstrahlen zulässig ist, wenn die Differenz
zwischen jeder Strahlintensität und der durchschnittlichen Lichtintensität
nicht 50% überschreitet, sind die Bauartwerte gemäß Gleichung (11)
zulässig für die folgenden Bereiche, die in Gleichung (12) ausgedrückt
sind.
0,233 < y(1)/p < 0,359,
0,086 < y(2)/p < 0,242,
0,086 < y(3)/p < 0,229,
0,101 < y(4)/p < 0,240,
0,015 < y(5)/p < 0,149,
0,098 < y(6)/p < 0,178,
0,236 < z(1)/p < 0,365,
0,071 < z(2)/p < 0,222,
0,059 < z(3)/p < 0,183,
0,380 < z(4)/p < 0,453,
1,181 < |ay| < 1,583,
1,191 < |az| < 1,59 (12).
0,086 < y(2)/p < 0,242,
0,086 < y(3)/p < 0,229,
0,101 < y(4)/p < 0,240,
0,015 < y(5)/p < 0,149,
0,098 < y(6)/p < 0,178,
0,236 < z(1)/p < 0,365,
0,071 < z(2)/p < 0,222,
0,059 < z(3)/p < 0,183,
0,380 < z(4)/p < 0,453,
1,181 < |ay| < 1,583,
1,191 < |az| < 1,59 (12).
Das Beugungsgitterelement zur Erzeugung von Mehrfachstrahlen ent
sprechend der vorliegenden Erfindung kann leicht mit der konventionellen
Schicht-Technologie und Ätztechnologie für optische Materialien herge
stellt werden. Das heißt, um beispielsweise das Phasenmuster herzustel
len, das durch das Bezugszeichen 10 in Fig. 1 angegeben ist, wird zuerst
ein Muster 211 aus optischem Material mit einer gegebenen Schichtdicke
gebildet (vgl. Fig. 10A). Dann wird auf dem Muster ein Muster 212 aus
optischem Material mit einer gegebenen Schichtdicke additiv ausgebildet,
so daß das Phasenmuster 9 in Fig. 1 gebildet wird (vgl. Fig. 10B). Als
Ergebnis hat das Element 210 gemäß Fig. 10C das Phasenmuster 10 in
Fig. 1. Wie oben beschrieben, kann der Aufbau des Beugungsgitters
entsprechend der Erfindung gebildet werden mit Hilfe des Überlagerns
jedes der Muster mit einer gegebenen Schichtdicke, das aus optischem
Material hergestellt ist, dessen Anzahl der Anzahl der Schichten ent
spricht.
Die Schichtdicke des optischen Materials e kann leicht aus der Phasen
höhe a und der folgenden Gleichung bestimmt werden:
a = (2π/λ)(n-1)e
Ein Glasmaterial kann als Substrat 200 verwendet werden, und SiO₂
oder MgF₂ kann als Schichtmaterial verwendet werden.
Fig. 11 zeigt ein detailliertes Verfahren der Herstellung des Beugungs
gitters entsprechend der vorliegenden Erfindung. Zuerst wird im Ver
fahren (1) Photoresist 202 auf ein Glassubstrat 200 aufgebracht. Im
Verfahren (2) wird eine Photomaske 204 mit einem Muster aus Chrom
(Cr) mit dem Photoresist 202 auf dem Glassubstrat kontaktiert, und das
Photoresist 202 wird mit Licht 205 belichtet. Dann im Prozeß (3) wird
das Photoresist entwickelt. Hiermit wird das Muster der Photomaske
204 auf das Photoresist 202 übertragen. Im Prozeß (4) wird SiO₂ 206
über die gesamte Oberfläche aufgebracht. Die Dicke der aufgebrachten
Schicht ist so bemessen, daß sie gleich der Phasenhöhe wird. Das
Verfahren (5) wird "Abheben" genannt, wobei das Photoresist 202 mit
einem organischen Lösungsmittel wie Alkohol abgelöst wird, um ein SiO₂
Muster 210 zu erzeugen. Im Falle, wo es notwendig ist, ein weiteres
SiO₂ Muster mit verschiedener Dicke herzustellen, wird auf das SiO₂
Muster in einem Verfahren (6) wieder Photoresist 208 aufgebracht.
Unter Rückkehr auf das Verfahren (2), bei dem das Photoresist unter
Verwendung einer anderen Photomaske belichtet wird, werden die glei
chen Verfahren wie oben beschrieben so oft wie erforderlich wiederholt.
Fig. 12 zeigt ein anderes Verfahren der Herstellung des Beugungsgitters
entsprechend der vorliegenden Erfindung unter Verwendung eines Elek
tronenstrahls. Im Verfahren (1) wird Photoresist 202 auf ein Glassub
strat 200 aufgebracht. Im Verfahren (2) wird das Photoresist 202 mit
einem Elektronenstrahl 214 bestrahlt. Dabei wird die Intensität des
Elektronenstrahls 214 variiert sowie die Einfallposition des Elektronen
strahls in der durch den Pfeil angedeuteten Richtung und der Richtung
senkrecht zu dem Pfeil abgetastet. Dann wird das von dem Elektronen
strahl bestrahlte Photoresist entwickelt, um ein Resistmuster zu erzeugen,
das verschiedene Tiefen entsprechend den Intensitäten des bestrahlenden
Elektronenstrahls aufweist. Das hergestellte Muster kann, so wie es ist,
als Mehrfachstrahlen erzeugendes Element verwendet werden. Anderer
seits kann ein Mehrfachstrahlen erzeugendes Element aus einem Material
wie Plastik durch ein Replizierverfahren hergestellt werden unter Ver
wendung des Mehrfachstrahlen erzeugenden Elements, das durch das
Verfahren gemäß Fig. 11 oder 12 hergestellt wurde, als Vorlage.
Fig. 13 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Laserdruckgeräts, das unter
Verwendung des Mehrfachstrahlen erzeugenden Elements entsprechend
der vorliegenden Erfindung optisches Drucken durchführt. Da das
optische Drucken mit Mehrfachstrahlen gleichzeitig durchgeführt wird, ist
es entsprechend der Erfindung möglich, ein Laserdruckgerät zu realisie
ren, das hohe Geschwindigkeit oder hohe Auflösung hat. Ein Laserstrahl
1, der aus einer Lasereinheit 11 emittiert wird, wird an ein Mehrfach
strahlen erzeugendes Element 2 geführt. Eine Linse 3, wie unter Be
zugnahme auf Fig. 2 beschrieben, hat die Funktion der Umwandlung der
erzeugten Mehrfachstrahlen 5 in parallele Strahlen 6 und zum Konver
gieren jeder der Strahlen in einen kleinen Punkt innerhalb eines
akusto-optischen Mehrkanal-Elements 13. Die Zeitdauer des Durchtritts von
Ultraschallwellen durch den kleinen Punkt kann verkürzt werden, da
jede der Strahlen 12 in den kleinen Punkt innerhalb des akusto-opti
schen Mehrkanal-Elements 13 konvergiert, was zur Fähigkeit der Licht
modulation mit hoher Geschwindigkeit führt.
Die grundsätzliche Wirkungsweise des akusto-optischen Mehrkanal-Ele
ments 13 wird unten beschrieben unter Bezugnahme auf Fig. 14. Eine
Mehrzahl von Übertragern 16 ist auf einem akusto-optischen Medium so
wie PbMoO₄ oder TeO₂ Kristallen individuell angeordnet, um jeden der
mehrfachen einfallenden Strahlen 16 zu modulieren. Mit anderen Wor
ten wird jedes dieser unabhängigen elektrischen Signale einem der
mehrfachen Übertrager 16 zugeführt, wobei jeder der Übertrager jeweils
einem der Signale entspricht, die unabhängig einen Schallstrahl in den
Kristall übertragen, so daß der entsprechende Lichtstrahl durch den
Schallstrahl gebeugt und moduliert wird. Das Bezugszeichen 18 in Fig.
14 bezeichnet den modulierten Lichtstrahl, den man für das optische
Drucken verwendet. Das Bezugszeichen 19 bezeichnet durchgehende
Lichtstrahlen, die an einer geeigneten Position abgefangen werden, so
daß sie das optische Druckmaterial nicht erreichen.
Zurückkehrend zur Fig. 13 bezeichnet das Bezugszeichen 25 eine Schal
tungseinheit zum Betrieb des akusto-optischen Mehrkanal-Elements 13.
Das aus dem akusto-optischen Mehrkanal-Element 13 kommende Licht
wird mit einer Linse 17 in einen Strahl mit einem geeigneten Durch
messer umgewandelt, passiert ein Dove-Prisma 20 und tritt in einen
rotierenden polygonalen Spiegel 21. Der rotierende polygonale Spiegel
21 wird gedreht, um jeweils die Mehrfachstrahlen auf einer photosensiti
ven Trommel 24 einzutasten. Eine Linse 22 konvergiert die Mehrfach
lichtstrahlen auf mehrere feine Punkte auf der photosensitiven Trommel
24.
Hier werden die Mehrfachlichtstrahlen als eine Reihe von kleinen Punk
ten im akusto-optischen Mehrkanal-Element 13 konvergiert. Unter der
Annahme, daß der Durchmesser der Punkte gleich D ist, die ausgerichte
te Teilung der Übertrager 16 gleich T ist, ist T/D größer als 1. Daher
sind die Mehrfachpunkte auf der photosensitiven Trommel 24 in diesem
Verhältnis ausgerichtet, d. h. die ausgerichtete Teilung der Punkte wird
größer als der Durchmesser der Punkte. Um den Bereich zwischen den
Abtastlinien der Mehrfachpunkte auszuschließen, die nicht von Licht
bestrahlt werden sollen, müssen die Mehrfachpunkte 15 so angeordnet
sein, daß die ausgerichtete Richtung der Punkte auf der photosensitiven
Trommel 24 einen schrägen Winkel gegen die Abtastrichtung einschließt,
die durch den Pfeil gemäß Fig, 15 angegeben ist.
Obwohl es ein Verfahren gibt, dies zu realisieren, wobei die optischen
Achsen des akusto-optischen Mehrkanal-Elements 13 und das Mehrfach
strahlen erzeugende Element 2 gleichzeitig rotiert werden, ist das Ver
fahren extrem schwierig durchzuführen, da die zu drehenden Einheiten
groß sind und auf dem akusto-optischen Element 13 hohe Genauigkeit
der Einfallposition beibehalten werden muß. Um diese Schwierigkeit zu
vermeiden, wird ein Dove-Prisma 20 in der vorliegenden Erfindung
verwendet. Bei diesem Verfahren wird das Dove-Prisma 20 um die
optische Achse als Drehachse rotiert, um in einer gegebenen ausgerichte
ten Richtung der Punkte eingestellt und adjustiert zu werden. Wie in
Fig. 16 gezeigt, hat der Bildrotationsmechanismus des Dove-Prismas 20
ein Halteglied 250 und eine Feststellschraube 252. Das Dove-Prisma 20
wird auf einen geeigneten Winkel rotiert und eingestellt, und in der
Winkelstellung unter Verwendung der Feststellschraube 252 fixiert. Das
bedeutet, daß das Licht von einem Bild 26 an der unteren Oberfläche
des Dove-Prismas 20 total reflektiert wird, um in ein Bild 27 umgewan
delt zu werden. Wenn daher das Dove-Prisma 20 in der durch den
Pfeil 28 angedeuteten Richtung gedreht wird, wird das Bild in der durch
den Pfeil 29 angedeuteten Richtung rotiert. Ein Lichtdetektor 23 erhält
die Mehrfachlichtstrahlen und erzeugt dadurch ein Signal entsprechend
jeder der Strahlen zur Verwendung als Synchronisationssignal für das
entsprechende Licht.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird be
schrieben unter Bezugnahme auf Fig. 17. Fig. 17 ist eine schematische
Ansicht eines Ausführungsbeispiels, wobei ein optisches Druckgerät in
einem Laserdrucker angewandt wird.
In diesem Ausführungsbeispiel hat ein akusto-optischer Modulator 13
einen einzelnen Übertrager. Wenn eine Mehrzahl von Signalen mit
Trägerwellenfrequenzen im Radiofrequenzband dem Modulator zugeführt
wird, wird eine Mehrzahl von gebeugten Lichtstrahlen erster Ordnung
erzeugt, und eine Mehrzahl von Lichtpunkten kann ausgebildet und auf
einer photosensitiven Trommel 24 getastet werden. Fig. 18 ist eine
Ansicht, die die Betriebsweise des akusto-optischen Modulators 13 erläu
tert. Zum Zwecke der Vereinfachung ist angenommen, daß zwei Strah
len erzeugt werden. Eine Dateneinheit 33 und eine Dateneinheit 34
modulieren jeweils Trägerfrequenzen 31 und 32, die mit einem Setzer 30
zusammengesetzt werden, um in einen Übertrager 16 eingegeben zu
werden. Wenn ein Laserstrahl 1 in den akusto-optischen Modulator 13
eingeführt wird, werden zwei gebeugte Lichtstrahlen 38, 39 durch eine
Ultraschallwelle 36 erzeugt. Mit Hilfe einer geeigneten Einstellung der
Frequenzen einer Mehrzahl von Trägerwellen können durch dieses Ver
fahren die zwei gebeugten Lichtstrahlen 38, 39 in enger Nachbarschaft
erzeugt werden. Daher kann die Gruppierung von Lichtpunkten zur
Tastung auf der photosensitiven Trommel 24 senkrecht auf die Abta
strichtung gesetzt werden. Bei dieser Gelegenheit gibt es, da die Mehr
fachpunkte in der gleichen Position in der Tastrichtung 10 gleichzeitig
getastet werden, den Vorteil, daß die Strahlen durch Datensignale modu
liert werden, die auf den gleichen synchronisierten Taktimpulsen basieren.
In diesem Fall wird ein Dove-Prisma 20 zwischen einer Linse 5 und
einem rotierenden polygonalen Spiegel 21 angeordnet. Durch Rotieren
des Dove-Primas 20 unter Verwendung eines in Fig. 16 gezeigten Ein
stellmechanismus zur Rotation des Dove-Prismas, kann die Richtung der
Punktausrichtung genau senkrecht zur Abtastrichtung gesetzt werden.
Claims (10)
1. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element mit einem Beugungsgitter, das
erzeugt ist durch wiederholtes Anordnen von Grundphasenmustern,
wobei die Grundphasenmuster aus wenigstens zwei Arten rechtecki
ger Muster mit nichteinheitlichen Breiten und verschiedenen Pha
senhöhen zusammengesetzt sind.
2. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element nach Anspruch 1, wobei die
Grundphasenmuster asymmetrische Muster sind, die keine symmetri
schen Achsen haben, um eine gerade Anzahl von Mehrfachstrahlen
zu erzeugen.
3. Optisches Druckgerät mit einem Mehrfachstrahlen erzeugenden
Element entsprechend Anspruch 1, wobei die Mehrfachstrahlen,
die durch das Mehrfachstrahlen erzeugende Element erzeugt werden,
in einen optischen Mehrkanal-Modulator eingeführt und unter Ver
wendung einer Lichtabtasteinheit abgetastet werden.
4. Optisches Druckgerät mit einem Mehrfachstrahlen erzeugenden
Element entsprechend Anspruch 2, wobei die Mehrfachstrahlen, die
durch das Mehrfachstrahlen erzeugende Element erzeugt werden, in
einen optischen Mehrkanal-Modulator eingeführt und unter Verwen
dung einer Lichtabtasteinheit abgetastet werden.
5. Optisches Druckgerät entsprechend Anspruch 3, wobei ein akusto-
optischer Mehrkanal-Modulator als optischer Mehrkanal-Modulator
verwendet wird, und ein Dove-Prisma zwischen dem akusto-optischen
Mehrkanal-Modulator und der Lichtabtasteinheit vorgesehen ist.
6. Optisches Druckgerät entsprechend Anspruch 4, wobei ein akusto-
optischer Mehrkanal-Modulator als optischer Mehrkanal-Modulator
verwendet wird, und ein Dove-Prisma zwischen dem akusto-optischen
Mehrkanal-Modulator und der Lichtabtasteinheit vorgesehen ist.
7. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element zur Erzeugung einer geraden
Zahl von Strahlen mit einem Beugungsgitter, das aus zwei Schichten
von Grundphasenmustern aufgebaut ist, wobei die erste Schicht zwei
Sektionen rechteckiger Muster mit den Breiten von y(1) und y(2)
und der Phasenhöhe ay und die zweite Schicht zwei Sektionen von
rechteckigen Mustern mit den Breiten von z(1) und z(2) und der
Phasenhöhe az aufweist, wobei
0,14 < y(1)/p < 0,87,
0,13 < y(2)/p < 0,86,
0,13 < z(1)/p < 0,86,
0,14 < z(2)/p < 0,87,wobei p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,0,52 < |ay| < 1,7,
0,52 < |az| < 1,7wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
0,13 < y(2)/p < 0,86,
0,13 < z(1)/p < 0,86,
0,14 < z(2)/p < 0,87,wobei p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,0,52 < |ay| < 1,7,
0,52 < |az| < 1,7wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
8. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element entsprechend Anspruch 2,
dessen Beugungsgitter aus zwei Schichten von Grundphasenmustern
aufgebaut ist, wobei die erste Schicht zwei Sektionen rechteckiger
Muster mit den Breiten von y(1) und y(2) und der Phasenhöhe ay,
und die zweite Schicht vier Sektionen rechteckiger Muster mit den
Breiten von z(1), z(2), z(3) und z(4) und der Phasenhöhe az auf
weist, wobei
0,254 < y(1)/p < 0,475,
0,477 < y(2)/p < 0,76,
0,167 < z(1)/p < 0,34,
0,264 < z(2)/p < 0,554,
0,046 < z(3)/p < 0,28,
0,105 < z(4)/p < 0,23,worin p die Gitterteilung des Beugungsmusters ist,1,34 < |ay| < 2,12,
0,67 < |az| < 1,59wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
0,477 < y(2)/p < 0,76,
0,167 < z(1)/p < 0,34,
0,264 < z(2)/p < 0,554,
0,046 < z(3)/p < 0,28,
0,105 < z(4)/p < 0,23,worin p die Gitterteilung des Beugungsmusters ist,1,34 < |ay| < 2,12,
0,67 < |az| < 1,59wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
9. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element entsprechend Anspruch 2,
dessen Beugungsgitter aus zwei Schichten von Grundphasenmustern
besteht, wobei die erste Schicht vier Sektionen rechteckiger Muster
mit den Breiten y(1), y(2), y(3) und y(4) und der Phasenhöhe ay
und die zweite Schicht vier Sektionen aus rechteckigen Mustern mit
den Breiten z(1), z(2), z(3) und z(4) und der Phasenhöhe az auf
weist, wobei
y(1)/p < 0,159,
y(2)/p < 0,133,
0,212 < y(3)/p < 0,368,
0,504 < y(4)/p < 0,613,
0,313 < z(1)/p < 0,447,
0,180 < z(2)/p < 0,317,
0,142 < z(3)/p < 0,271,
0,148 < z(4)/p < 0,218,worin p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,1,05 < |ay| < 1,71,
1,44 < |az| < 1,97wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
y(2)/p < 0,133,
0,212 < y(3)/p < 0,368,
0,504 < y(4)/p < 0,613,
0,313 < z(1)/p < 0,447,
0,180 < z(2)/p < 0,317,
0,142 < z(3)/p < 0,271,
0,148 < z(4)/p < 0,218,worin p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,1,05 < |ay| < 1,71,
1,44 < |az| < 1,97wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
10. Mehrfachstrahlen erzeugendes Element entsprechend Anspruch 2,
dessen Beugungsgitter aus zwei Schichten von Grundphasenmustern
besteht, wobei die erste Schicht sechs Sektionen rechteckiger Muster
mit den Breiten y(1), y(2), y(3), y(4), y(5) und y(6) und der Phasen
höhe ay und die zweite Schicht vier Sektionen aus rechteckigen
Mustern mit den Breiten z(1), z(2), z(3) und z(4) und der Phasen
höhe az aufweist, wobei
0,233 < y(1)/p < 0,359,
0,086 < y(2)/p < 0,242,
0,086 < y(3)/p < 0,229,
0,101 < y(4)/p < 0,240,
0,015 < y(5)/p < 0,149,
0,098 < y(6)/p < 0,178,
0,236 < z(1)/p < 0,365,
0,071 < z(2)/p < 0,222,
0,059 < z(3)/p < 0,183,
0,380 < z(4)/p < 0,453,worin p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,1,181 < |ay| < 1,583,
1,191 < |az| < 1,59wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
0,086 < y(2)/p < 0,242,
0,086 < y(3)/p < 0,229,
0,101 < y(4)/p < 0,240,
0,015 < y(5)/p < 0,149,
0,098 < y(6)/p < 0,178,
0,236 < z(1)/p < 0,365,
0,071 < z(2)/p < 0,222,
0,059 < z(3)/p < 0,183,
0,380 < z(4)/p < 0,453,worin p die Gitterteilung des Beugungsgitters ist,1,181 < |ay| < 1,583,
1,191 < |az| < 1,59wobei die Phasenhöhen jeweils um ganzzahlige Vielfache von 2π vergrößert oder vermindert werden dürfen.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP13483693A JP3214162B2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | 光走査装置 |
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