DE3731285C2

DE3731285C2 -

Info

Publication number: DE3731285C2
Application number: DE3731285A
Authority: DE
Inventors: Erich 8500 Nuernberg De Wenk; Konrad Dipl.-Chem. 8505 Roethenbach De Koziol
Original assignee: Conradty & Co Metallelektroden Kg 8505 Roethenbach De GmbH
Current assignee: De Nora Deutschland GmbH
Priority date: 1987-09-17
Filing date: 1987-09-17
Publication date: 1989-10-26
Also published as: DE3731285A1

Description

Die Erfindung betrifft eine dimensionsstabile Anode für die elektrolytische Gewinnung von Metallen, insbesondere von Kupfer, Zink, Kobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium oder Chrom, aus ihren wäßrigen Lösungen, mit einem Grundkörper aus Titan oder Titanlegierung und einer darauf aufgebrachten, elektrochemisch aktiven Schicht, die Iridium- und Antimonoxide enthält, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung.

Bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen wie Zink, Cobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium und/oder Chrom, insbesondere aber von Kupfer, aus deren wäßrigen, sauren Lösungen wird an der Anode Sauerstoff entwickelt. Die Anode ist hierdurch einem ständigen oxidativen Angriff ausgesetzt, der die Lebensdauer beeinträchtigt und zu einer allmählichen Erhöhung der Anodenüberspannung führt. In Extremfällen wird die Anode passiviert, so daß es unmöglich ist, die Elektrolyse fortzusetzen.

Das Phänomen der Passivierung der Anoden kann hauptsächlich durch die Bildung elektrisch nichtleitender und nichthaftender Titanoxide durch Oxidation des Titanbasismaterials mit Sauerstoff, durch die den Elektrodenüberzug aufbauende Oxidsubstanz selbst, durch die Sauerstoffdiffusions-Permeation durch den Elektrodenüberzug hindurch oder durch den Elektrolyten bedingt sein.

Bisher wurde versucht, die Bildung nichtleitender und nichthaftender Titanoxide in der Grenzfläche durch gasdichte Sperrschichten, die meistens aus Platinmetall bestanden, zu verhindern. Diese Lösung ist einerseits sehr teuer und andererseits nicht immer wirksam, da gasdichte Pt-Überzüge schwierig herstellbar sind.

Weiterhin wurde eine Vielzahl verschiedenartiger Zusammensetzungen für eine Zwischenschicht vorgeschlagen, die entweder die Titanoxidbildung verhindern oder eine haftende, elektrisch leitende Schicht bilden sollten, die weniger empfindlich auf die Oxidbildung im Untergrund reagiert.

Aus der US-PS 37 75 284 ist eine Anode bekannt, die zur anodischen Bildung von Sauerstoff geeignet ist. Sie enthält ein Substrat, das in der Zwischenschicht aus einer Platin/Iridiumlegierung oder einem Oxid eines Metalls der Platingruppe besteht, die weiterhin mit einer festen Lösung eines Nichtventilmetalloxids mit einem Ventilmetall beschichtet ist. Diese Anode besitzt eine gewisse Verbesserung der Haltbarkeit, die jedoch noch immer nicht befriedigend ist. Darüber hinaus ist die Verwendung einer teuren Zwischenschicht unwirtschaftlich.

Aus der DE-Al-31 03 168 ist eine Anode mit einem Titansubstrat bekannt, das eine erste Beschichtung aus metallischem Wismut oder Wismutoxiden auf diesem Substrat und eine zweite Beschichtung aus metallischem Iridium und Iridiumdioxid, die auf der ersten Beschichtung aufgebracht ist, aufweist. Nach Angaben dieser Offenlegungsschrift kann diese Anode mit Vorteil in verschiedenen Elektrolyse-Umgebungen und insbesondere in solchen, bei denen Sauerstoff gebildet wird, eingesetzt werden. Die Elektrode kann jedoch noch immer nicht bezüglich ihrer industriellen Anwendung im Hinblick auf deren Lebensdauer befriedigen. Dies scheint unter anderem dadurch bedingt zu sein, daß eine Verbindungsbildung des Iridiumoxids mit Wismut erfolgt, die zu Veränderungen der Struktur und Haftung der aktiven Schicht führt.

Schließlich sind aus der DD 2 20 621 auch dimensionsstabile Anoden für elektrochemische Prozesse, insbesondere für die Chloralkali-Elektrolyse bekannt geworden, bei denen auf einem Titangrundkörper eine Zwischenschicht aufgebracht ist, die aus unreduziertem und mit vorwiegend höherwertigen Oxiden eines der Elemente Niob, Tantal, Wolfram, Antimon und Cer oder deren Gemischen in einem Konzentrationsbereich von 0,1 bis 10 Mol-% dotiertem Titanoxid besteht. Auf dieser dotierten Titanoxid-Zwischenschicht befindet sich dann eine elektrochemisch aktive Schicht aus Rutheniumoxid in Kombination mit stöchiometrischem Titanoxid. Diese insbesondere für die Chloralkali-Elektrolyse vorgesehene Anode kann bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen aus deren wäßrigen Lösungen, wie z.B. Zink, Cobalt und vor allem Kupfer, im Hinblick auf die Beständigkeit der Anode, ihre Lebensdauer und auch die sich aufbauenden Überspannungen nicht befriedigen. Dies läßt sich auf verschiedenartige Umstände zurückführen, insbesondere wohl aber darauf, daß rutheniumhaltige Überzüge in derartigen Elektrolyten zur Ausbildung von gasförmigem RuO₄ unter Beeinträchtigung der Elektrodeneigenschaften neigen.

Die US-A-38 65 703, GB-B-12 44 650 und DE-A1-32 19 003 zeigen, daß man bisher der Ansicht war, daß für korrosionsbeständige Anodenbeschichtungen für Metallgewinnungselektrolysen immer Unedelmetalloxide, wie Titanoxid, Tantaloxid, Zinnoxid u. ä., als zweite Komponente neben den Edelmetallverbindungen notwendig sind, die als inerte Stoffe die aktive Edelmetallkomponente umhüllen und diese von den aggressiven Einflüssen unter Elektrolysebedingungen abschirmen und isolieren.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neuartige dimensionsstabile Anode zu schaffen, die mit hoher Lebensdauer und geringer Überspannung bei verbesserter Verankerung der Edelmetallschicht für die elektrolytische Gewinnung von Metallen aus deren wäßrigen Lösungen einsetzbar ist. Nach einem weiteren Aspekt der erfindungsgemäßen Aufgabe sollen auch Verfahren zur Herstellung solcher Anoden und deren Anwendung bereitgestellt werden.

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine dimensionsstabile Anode der eingangs genannten Art, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridum und/oder dessen Oxiden mit einer Dotierung von Antimon und/oder dessen Oxiden besteht, und daß zwischen dem Grundkörper und der elektrochemisch aktiven Schicht eine Zwischenschicht aus Antimon und/oder Antimonoxiden vorgesehen ist.

Im Rahmen der Erfindung wurde überraschend gefunden, daß eine dünne Aktivierungsschicht aus Antimon bzw. dessen Oxiden oder Gemischen hiervon auf dem Titanuntergrund in Kombination mit einem hierauf befindlichen elektrochemisch aktiven Überzug aus Iridium bzw. Iridiumoxid bzw. Gemischen hiervon mit einer Antimon(oxid)dotierung geeignet ist, Anoden zu ergeben, die eine verbesserte Haftung und verbesserte Leitfähigkeit bei hoher Lebensdauer der Anode ergeben.

Im Rahmen der Erfindung ist es bevorzugt, daß die Zwischenschicht frei von Edelmetallen bzw. deren Oxiden ist. Besonders günstige Ergebnisse werden insbesondere dann erzielt, wenn die Zwischenschicht aus Antimon und/oder dessen Oxiden besteht. Unter den Antimonoxiden ist insbesondere das Sb₂O₃ bevorzugt, wenngleich auch andere der bekannten Oxide vorliegen können.

Bei der erfindungsgemäßen Anode sind die Oberfläche des Grundkörpers, der aus Titan oder dessen Legierungen gebildet ist, und die Zwischenschicht im wesentlichen von Titanoberflächenoxiden frei. Es wird daher auch bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Anode darauf geachtet, daß die Aufbringung der Zwischenschicht und elektrochemisch aktiven Schicht, die Trocknung derselben und deren Sinterung bzw. Einbrennung derart vorgenommen wird, daß eine Oxidation des Titangrundkörpers unterbleibt.

Das Iridium bzw. dessen Oxid liegt in der aktiven Deckschicht zweckmäßig mit einem Flächengewicht von 4 bis 30 g Ir/m² vor. Besonders günstige Ergebnisse sind mit Flächengewichten im Bereich von 5 bis 15 g Ir/m² erzielbar.

Die erfindungsgemäße Elektrode enthält nicht nur Antimon bzw. dessen Oxide in der Zwischenschicht sondern auch die elektrochemisch aktive Schicht ist mit Antimon bzw. dessen Oxiden dotiert. Hierbei ist das Antimon gegenüber dem Iridium im Unterschuß vorhanden. Nach im Rahmen der Erfindung durchgeführten Untersuchungen ist es vorteilhaft, wenn das Molverhältnis von Iridium : Antimon in der aktiven Schicht dem Verhältnis 100 : 0,5-5 genügt. Besonders günstige Werte wurden dabei bei Molverhältnissen von Ir : Sb = 100 : 1-3 erzielt.

Die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridium bzw. Iridiumoxid oder Gemischen hiervon ist vorzugsweise von Ventilmetalloxiden frei. Abgesehen von üblichen Hilfsstoffen wie Haftvermittlern etc. besteht nach einer besonderen Ausführungsform der Erfindung die aktive Schicht aus Iridium bzw. -oxid mit dem Dotieranteil an Antimon bzw. dessen jeweiligen Oxiden. Als Haftvermittler für die leichtflüchtigen Antimonoxide können die üblichen Anwendung finden, wobei eine Zufügung von Kupfer als Oxid bevorzugt sein kann.

Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung ist auch das Herstellungsverfahren für die erfindungsgemäße Anode umfaßt. Üblicherweise geht man derart vor, daß man

a) das Anodensubstrat mit einer Lösung bzw. Dispersion eines Antimonsalzes mindestens einmalig beschichtet,
b) hiernach bei unter 400°C liegenden Temperaturen in einer gegebenenfalls oxidierenden Atmosphäre, z.B. Luft, erhitzt,
c) sodann mit einer Lösung oder Dispersion, die Ir- und Sb-Verbindungen enthält, beschichtet und
d) hiernach trocknet und bei Temperaturen im Bereich von 350 bis 550°C erhitzt.

Vor der Aufbringung der Lösung zur Bildung der Zwischenschicht wird üblicherweise der Untergrund rauh geätzt, um die Haftung der Iridiumbeschichtung zu begünstigen.

Die Zwischenschicht kann vorteilhaft durch das Aufbringen einer sehr verdünnten sauren Farbe hergestellt werden, die eine kleine Menge einer thermisch zersetzbaren Antimonverbindung, z.B. in Form anorganischer oder organischer Verbindungen des Antimons, enthält. Unter den einsetzbaren Antimonverbindungen ist insbesondere Antimonoxinitrat bevorzugt, da es keine oxidierenden Bedingungen erfordert, um bei der thermischen Zersetzung ein Oxid auszubilden. Der Anteil der thermisch zersetzbaren Antimonverbindung liegt zweckmäßig in 0,1 bis 0,5molarer Lösung vor, wobei jedoch auch hiervon abweichende Anteile möglich sein können. Die Beschichtungslösung enthält im allgemeinen auch ein Lösungsmittel, beispielsweise ein organisches Lösungsmittel. Als solche sind insbesondere Alkohole wie Butanol, Propanol etc. geeignet. Darüber hinaus wird der Lösung vorteilhaft eine Säure zugesetzt, die die Titanoxidfilmbildung auf dem Grundkörper während der Beschichtung soweit als möglich ausschließt. Als solche Säuren können organische Säuren oder auch beispielsweise Salzsäure dienen. Die zur Zwischenschicht führende Beschichtungslösung kann bei unter 400°C liegenden Temperaturen, vorteilhaft im Bereich zwischen 350 bis 390°C, eingebrannt werden, da unter diesen Bedingungen die Bildung von Titanoberflächenoxiden vermieden bzw. eingeschränkt werden kann. Durch die Beschichtung sollen Antimonmengen im Bereich von zweckmäßig 0,05 bis 0,5 g/m² und insbesondere bevorzugt 0,1 bis 0,2 g/m² aufgebracht werden. Diese Anteile an Antimon können normalerweise mit einer einmaligen Beschichtung erreicht werden. In Sonderfällen, wenn z.B. die Substrate nicht liegend getrocknet werden können und daher die angegebenen Flächengewichte nicht erreicht werden, kann die antimonhaltige Lösung ein zweites oder weiteres Mal aufgetragen werden.

Da sich die Antimonoxide bei der thermischen Behandlung leicht verflüchtigen, kann die antimonhaltige Farbe auch kleine Mengen an Haftvermittlern, z.B. Kupfer, enthalten. Daher können die Beschichtungslösungen für die Zwischenschicht etwa 0,05 bis 0,1 Mol Kupfer in Form seiner anorganischen oder organischen Lösungen aufweisen. Bevorzugt ist ein getrenntes Aufbringen des Haftvermittlers, z.B. Cu-Verbindungen, nach Aufbringen der antimonhaltigen Lösung.

Auf den so vorbereiteten Untergrund wird die elektrokatalytisch wirksame Deckschicht aufgebracht, die Iridium und Antimon als Oxid und/oder evtl. auch als Metall enthält.

Üblicherweise wird Iridium in Form der 0,1 bis 1molaren Lösungen von Iridiumsalzen bzw. -säuren aufgebracht. Insbesondere findet mit Vorteil Hexachloro-iridium-(4)-säure-hydrat Anwendung, dessen Lösung 0,01 bis 0,1 Mol Antimon(III)-chlorid beigemischt werden können. Des Molverhältnis von Iridium : Antimon in diesen Lösungen liegt im Bereich von 100 : 0,5-5, vorzugsweise 100 : 1-3. Diese Lösungen können mehrfach aufgetragen und jeweils bei zwischen 350 bis 500°C liegenden Temperaturen eingebrannt werden. Bei dem Endeinbrennprozeß können schließlich Temperaturen von 500 bis 550°C zweckmäßig sein. Die Beschichtungslösungen werden üblicherweise mehrfach aufgetragen bis ein Flächengewicht von 4 bis 30 g Ir/m², vorzugsweise 5 bis 15 g Ir/m², erreicht ist.

Die erfindungsgemäßen Anoden eignen sich hervorragend als sauerstoffentwickelnde Elektroden in elektrolytischen Metallgewinnungsverfahren. Hierdurch sind sie insbesondere zur Herstellung von Zink, Cobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium, Kupfer und/oder Chrom aus deren wäßrigen sauren Lösungen geeignet. Die erfindungsgemäßen Anoden weisen eine höhere Lebensdauer und eine niedrigere Überspannung nach längeren Laufzeiten als Anoden nach dem Stand der Technik auf. Auch ist es möglich, in den erfindungsgemäßen Anoden die Iridiummenge der Deckschicht gegenüber herkömmlichen Werten herabzusetzen. Schließlich überstehen die erfindungsgemäßen Anoden Abschaltvorgänge oder Niedriglastzeiten im Langzeitbetrieb besser, ohne daß sich eine Ablösung der Beschichtung ergibt. Insbesondere hat sich gezeigt, daß die Anode eine besondere Eignung für die Herstellung von Kupfer hat, bei der der Elektrolyt durch Solventextraktion von Kupfererzen gewonnen wird und den üblichen Pegel an Organika, Additiven und Verunreinigungen aufweist. Der Kupfersulfatgehalt solcher Lösungen beträgt üblicherweise 30 bis 50 g Cu/l bei einem Anteil an freier Schwefelsäure im Bereich von etwa 50 bis 100 g/1 und Elektrolyttemperaturen von 40 bis 60°C. Bei Stromdichten zwischen 200 und 1000 A/m² bei einem Anodenpotential von 1,4 bis 1,6 V (gegen NHE) beträgt der Verschleiß der erfindungsgemäßen Anoden 1 bis 1,5 mg Ir/kAh. Unter günstigen Betriebsbedingungen können sogar Verschleißraten von 0,5 mg Ir/kAh erreichbar sein.

Die Herstellung der erfindungsgemäßen Anode ist nachstehend in einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel weiter erläutert:

Beispiel 1

Ein Titanblech der Abmessung 100×10×1 mm wurde entfettet und mit 20%iger Salzsäure geätzt, gespült und getrocknet. Das so vorbereitete Titansubstrat wurde mit einer 0,1molaren Lösung von SbCl₁₃ in 20%iger Salzsäure, die 8 Vol.-% n-Butanol enthält, bestrichen, getrocknet und bei 390°C im Umluftofen 15 Minuten wärmebehandelt. Dieses Beschichten mit SbCl₁₃-Lösung wurde noch zweimal wiederholt.

Auf diese Zwischenschicht wird die aktive Deckschicht aufgebracht, indem man das Substrat mit einer Beschichtungslösung bestreicht, die 0,5 Mol Hexachloriridium(IV)-säure-Hydrat und 0,005 Mol Antimon(III)-chlorid in 20%iger Salzsäure mit 8 Vol.-% n-Butanol enthält. Nach dem Aufbürsten der Lösung wird das Substrat jeweils an der Luft getrocknet und dann 20 Minuten bei 400°C im Umluftofen wärmebehandelt. Dieser Vorgang wird 10 bis 12mal wiederholt, bis etwa 12 g Iridium, gerechnet als Metall pro m² Anodenfläche, aufgebracht sind.

Dann wird die Anode 60 Minuten bei 500°C endbehandelt. Die so hergestellte Anode wurde unter technischen Elektrolysebedingungen in einem Elektrolyten für die Kupfergewinnungselektrolyse, der 50 g Kupfer/l als Sulfat und 50 g freie Schwefelsäure/l sowie die in der Kupfergewinnungselektrolyse üblichen Zusätze und Verunreinigungen in den technisch üblichen Konzentrationen enthielt, bei einer Stromdichte von 1,2 kA/m² bei einer Temperatur von 40 bis 50°C eingesetzt.

Nach 2000 Betriebsstunden betrug das Anodenpotential gleichbleibend 1,6 V/NHE und die Verschleißrate lag bei 1,0 mg/kAh.

Beispiel 2

Ein Titanblech der Abmessung 100×10×1 mm wurde entfettet und mit 20%iger Salzsäure geätzt, gespült und getrocknet. Das so vorbereitete Titansubstrat wurde mit einer 0,1molaren Lösung von SbCl₁₃ in 20%iger Salzsäure, die 8 Vol.-% n-Butanol enthält, bestrichen und getrocknet. Anschließend wurde eine Schicht einer 0,1 molaren wäßrigen Lösung von Kupfer(II)-acetat aufgebracht, an Luft getrocknet, bis das Lösungsmittel verdunstet ist, und dann bei 390°C im Umluftofen 15 Minuten wärmebehandelt. Dieses Beschichten mit SbCl₁₃-Lösung und Kupfer(II)acetatlösung wurde noch zweimal wiederholt.

Auf diese Zwischenschicht wird die aktive Deckschicht aufgebracht, indem man das Substrat mit einer Beschichtungslösung bestreicht, die 0,5 Mol Hexachloriridium(IV)-säure-Hydrat und 0,005 Mol Antimon(III)-chlorid in 20%iger Salzsäure mit 8 Vol.-% n-Butanol enthält. Nach dem Aufbürsten der Lösung wird das Substrat jeweils an der Luft getrocknet und dann 20 Minuten bei 390°C im Umluftofen wärmebehandelt. Dieser Vorgang wird 10 bis 12mal wiederholt, bis etwa 12 g Iridium/m², gerechnet als Metall, aufgebracht sind. Bei dem ersten und zweiten Beschichtungsvorgang wird jeweils noch eine zusätzliche Schicht Kupferacetat wie oben beschrieben aufgebracht. Dann wird die Anode 60 Minuten bei 500°C endbehandelt.

Die so hergestellte Anode zeigte unter technischen Elektrolysebedingungen in einem Kupfergewinnungselektrolyten bei einer Stromdichte von 1,2 kA/m² nach 1000 Betriebsstunden ein Anodenpotential von 1,6 V/NHE. Die Verschleißrate betrug 0,8 mg/kAh.

Claims

1. Dimensionsstabile Anode für die elektrolytische Gewinnung von Metallen, insbesondere von Kupfer, Zink, Kobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium oder Chrom, aus ihren wäßrigen Lösungen, mit einem Grundkörper aus Titan oder Titanlegierung und einer darauf aufgebrachten elektrochemisch aktiven Schicht, die Iridium- und Antimonoxide enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridium und/oder dessen Oxiden mit einer Dotierung von Antimon und/oder dessen Oxiden besteht, und daß zwischen dem Grundkörper und der elektrochemisch aktiven Schicht eine Zwischenschicht aus Antimon und/oder Antimonoxiden vorgesehen ist.

2. Dimensionsstabile Anode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht frei von Edelmetall ist.

3. Dimensionsstabile Anode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus Antimon und/oder dessen Oxiden besteht.

4. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Titangrundkörper im wesentlichen von Titanoberflächenoxiden frei ist.

5. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Iridium bzw. Iridiumoxid in der aktiven Schicht mit einem Flächengewicht von 4 bis 30 g Ir/m² vorliegt.

6. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Molverhältnis von Iridium : Antimon in der aktiven Schicht dem Verhältnis 100 : 0,5-5 entspricht.

7. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die aktive Schicht von Ventilmetalloxiden frei ist.

8. Verfahren zur Herstellung der Anode nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche unter Aufbringung der Zwischenschicht auf einem Anodensubstrat aus Titan oder einer Titanlegierung und hierauf folgend der iridiumhaltigen aktiven Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß man

a) das Anodensubstrat mit einer Lösung bzw. Dispersion eines Antimonsalzes mindestens einmalig beschichtet,
b) hiernach bei unter 400°C liegenden Temperaturen in einer gegebenenfalls oxidierenden Atmosphäre erhitzt,
c) sodann mit einer Lösung oder Dispersion, die Iridium- und Antimonverbindungen enthält, beschichtet und
d) hiernach trocknet und bei Temperaturen im Bereich von 350 bis 550°C erhitzt.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine salzsaure Antimonchloridlösung für die Herstellung der Zwischenschicht verwendet wird.

10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine salzsaure Hexachloroiridium-Säurelösung mit einem Zusatz an Antimonhalogenid als Beschichtungslösung zur Herstellung der aktiven Schicht eingesetzt wird.

11. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Erhitzungsvorgänge nach Auftrag der Zwischenschicht und der aktiven Schicht schonend in einer mild oxidierenden Atmosphäre vorgenommen werden, um eine Oxidation der Titanoberfläche zu vermeiden.

12. Verwendung der Anode nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7 als sauerstoffentwickelnde Elektrode in elektrolytischen Verfahren.

13. Verwendung nach Anspruch 12 zur elektrolytischen Gewinnung von Metallen, wie Kupfer, Zink, Cobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium, und/oder Chrom aus deren wäßrigen sauren Lösungen.