DE3731285A1 - Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben - Google Patents
Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselbenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine dimensionsstabile Anode für
die elektrolytische Gewinnung von Metallen aus deren
wäßrigen Lösungen mit einem Titan(legierungs)grundkörper,
einer Zwischenschicht und einer elektrochemisch aktiven,
iridiumhaltigen Schicht, ein Verfahren zu ihrer
Herstellung sowie deren Verwendung.
Bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen wie Zink,
Cobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium und/oder Chrom,
insbesondere aber von Kupfer, aus deren wäßrigen, sauren
Lösungen wird an der Anode Sauerstoff entwickelt. Die
Anode ist hierdurch einem ständigen oxidativen Angriff
ausgesetzt, der die Lebensdauer beeinträchtigt und zu
einer allmählichen Erhöhung der Anodenüberspannung führt.
In Extremfällen wird die Anode passiviert, so daß es
unmöglich ist, die Elektrolyse fortzusetzen.
Das Phänomen der Passivierung der Anoden kann
hauptsächlich durch die Bildung elektrisch nichtleitender
und nichthaftender Titanoxide durch Oxidation des
Titanbasismaterials mit Sauerstoff, durch die den
Elektrodenüberzug aufbauende Oxidsubstanz selbst, durch
die Sauerstoffdiffusions-Permeation durch den
Elektrodenüberzug hindurch oder durch den Elektrolyten
bedingt sein.
Bisher wurde versucht, die Bildung nichtleitender und
nichthaftender Titanoxide in der Grenzfläche durch
gasdichte Sperrschichten, die meistens aus Platinmetall
bestanden, zu verhindern. Diese Lösung ist einerseits sehr
teuer und andererseits nicht immer wirksam, da gasdichte
Pt-Überzüge schwierig herstellbar sind.
Weiterhin wurde eine Vielzahl verschiedenartiger
Zusammensetzungen für eine Zwischenschicht vorgeschlagen,
die entweder die Titanoxidbildung verhindern oder eine
haftende, elektrisch leitende Schicht bilden sollten, die
weniger empfindlich auf die Oxidbildung im Untergrund
reagiert.
Aus der US-PS 37 75 284 ist eine Anode bekannt, die zur
anodischen Bildung von Sauerstoff geeignet ist. Sie
enthält ein Substrat, das in der Zwischenschicht aus einer
Platin/Iridiumlegierung oder einem Oxid eines Metalls der
Platingruppe besteht, die weiterhin mit einer festen
Lösung eines Nichtventilmetalloxids mit einem Ventilmetall
beschichtet ist. Diese Anode besitzt eine gewisse
Verbesserung der Haltbarkeit, die jedoch noch immer nicht
befriedigend ist. Darüber hinaus ist die Verwendung einer
teuren Zwischenschicht unwirtschaftlich.
Aus der DE-Al-31 03 168 ist eine Anode mit einem
Titansubstrat bekannt, das eine erste Beschichtung aus
metallischem Wismut oder Wismutoxiden auf diesem Substrat
und eine zweite Beschichtung aus metallischem Iridium und
Iridiumdioxid, die auf der ersten Beschichtung aufgebracht
ist, aufweist. Nach Angaben dieser Offenlegungsschrift
kann diese Anode mit Vorteil in verschiedenen
Elektrolyse-Umgebungen und insbesondere in solchen, bei
denen Sauerstoff gebildet wird, eingesetzt werden. Die
Elektrode kann jedoch noch immer nicht bezüglich ihrer
industriellen Anwendung im Hinblick auf deren Lebensdauer
befriedigen. Dies scheint unter anderem dadurch bedingt zu
sein, daß eine Verbindungsbildung des Iridiumoxids mit
Wismut erfolgt, die zu Veränderungen der Struktur und
Haftung der aktiven Schicht führt.
Schließlich sind aus der DD 2 20 621 auch dimensionsstabile
Anoden für elektrochemische Prozesse, insbesondere für die
Chloralkali-Elektrolyse bekannt geworden, bei denen auf
einem Titangrundkörper eine Zwischenschicht aufgebracht
ist, die aus unreduziertem und mit vorwiegend
höherwertigen Oxiden eines der Elemente Niob, Tantal,
Wolfram, Antimon und Cer oder deren Gemischen in einem
Konzentrationsbereich von 0,1 bis 10 Mol% dotiertem
Titanoxid besteht. Auf dieser dotierten
Titanoxid-Zwischenschicht befindet sich dann eine
elektrochemisch aktive Schicht aus Rutheniumoxid in
Kombination mit stöchiometrischem Titanoxid. Diese
insbesondere für die Chloralkali-Elektrolyse vorgesehene
Anode kann bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen
aus deren wäßrigen Lösungen, wie z.B. Zink, Cobalt und vor
allem Kupfer, im Hinblick auf die Beständigkeit der Anode,
ihre Lebensdauer und auch die sich aufbauenden
Überspannungen nicht befriedigen. Dies läßt sich auf
verschiedenartige Umstände zurückführen, insbesondere wohl
aber auch darauf, daß rutheniumhaltige Überzüge in
derartigen Elektrolyten zur Ausbildung von gasförmigem
RuO4 unter Beeinträchtigung der Elektrodeneigenschaften
neigen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
eine neuartige dimensionsstabile Anode zu schaffen, die
mit hoher Lebensdauer und geringer Überspannung für die
elektrolytische Gewinnung von Metallen aus deren wäßrigen
Lösungen einsetzbar ist. Nach einem weiteren Aspekt der
erfindungsgemäßen Aufgabe sollen auch Verfahren zur
Herstellung solcher Anoden und deren Anwendung
bereitgestellt werden.
Diese Aufgabe wird durch die Schaffung einer
dimensionsstabilen Anode der eingangs genannten Art
gelöst, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die
Zwischenschicht Antimon und/oder dessen Oxide enthält und
die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridum und/oder
dessen Oxiden mit einer Dotierung von Antimon und/oder
dessen Oxiden gebildet ist.
Im Rahmen der Erfindung wurde überraschend gefunden, daß
eine dünne Aktivierungsschicht aus Antimon bzw. dessen
Oxiden oder Gemischen hiervon auf dem Titanuntergrund in
Kombination mit einem hierauf befindlichen elektrochemisch
aktiven Überzug aus Iridium bzw. Iridiumoxid bzw.
Gemischen hiervon mit einer Antimon(oxid)dotierung
geeignet ist, Anoden zu ergeben, die eine verbesserte
Haftung und verbesserte Leitfähigkeit bei hoher
Lebensdauer der Anode ergeben.
Im Rahmen der Erfindung ist es bevorzugt, daß die
Zwischenschicht frei von Edelmetallen bzw. deren Oxiden
ist. Besonders günstige Ergebnisse werden insbesondere
dann erzielt, wenn die Zwischenschicht aus Antimon
und/oder dessen Oxiden besteht. Unter den Antimonoxiden
ist insbesondere das Sb2O3 bevorzugt, wenngleich auch
andere der bekannten Oxide vorliegen können.
Bei der erfindungsgemäßen Anode sind die Oberfläche des
Grundkörpers, der aus Titan oder dessen Legierungen
gebildet ist, und die Zwischenschicht im wesentlichen von
Titanoberflächenoxiden frei. Es wird daher auch bei der
Herstellung der erfindungsgemäßen Anode darauf geachtet,
daß die Aufbringung der Zwischenschicht und
elektrochemisch aktiven Schicht, die Trocknung derselben
und deren Sinterung bzw. Einbrennung derart vorgenommen
wird, daß eine Oxidation des Titangrundkörpers unterbleibt.
Das Iridium bzw. dessen Oxid liegt in der aktiven
Deckschicht zweckmäßig mit einem Flächengewicht von 4 bis
30 g Ir/m2 vor. Besonders günstige Ergebnisse sind mit
Flächengewichten im Bereich von 5 bis 15 g Ir/m2
erzielbar.
Die erfindungsgemäße Elektrode enthält nicht nur Antimon
bzw. dessen Oxide in der Zwischenschicht sondern auch die
elektrochemisch aktive Schicht ist mit Antimon bzw. dessen
Oxiden dotiert. Hierbei ist das Antimon gegenüber dem
Iridium im Unterschuß vorhanden. Nach im Rahmen der
Erfindung durchgeführten Untersuchungen ist es
vorteilhaft, wenn das Molverhältnis von Iridium : Antimon
in der aktiven Schicht dem Verhältnis 100 : 0,5-5 genügt.
Besonders günstige Werte wurden dabei bei Molverhältnissen
von Ir : Sb=100 : 1-3 erzielt.
Die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridium bzw.
Iridiumoxid oder Gemischen hiervon ist vorzugsweise von
Ventilmetalloxiden frei. Abgesehen von üblichen
Hilfsstoffen wie Haftvermittlern etc. besteht nach einer
besonderen Ausführungsform der Erfindung die aktive
Schicht aus Iridium bzw. -oxid mit dem Dotieranteil an
Antimon bzw. dessen jeweiligen Oxiden. Als Haftvermittler
für die leichtflüchtigen Antimonoxide können die üblichen
Anwendung finden, wobei eine Zufügung von Kupfer als Oxid
bevorzugt sein kann.
Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung ist auch das
Herstellungsverfahren für die erfindungsgemäße Anode
umfaßt. Üblicherweise geht man derart vor, daß man
- a) das Anodensubstrat mit einer Lösung bzw. Dispersion eines Antomonsalzes mindestens einmalig beschichtet,
- b) hiernach bei unter 400°C liegenden Temperaturen in einer gegebenenfalls oxidierenden Atmosphäre, z.B. Luft, erhitzt,
- c) sodann mit einer Lösung oder Dispersion, die Ir- und Sb-Verbindungen enthält, beschichtet und
- d) hiernach trocknet und bei Temperaturen im Bereich von 350 bis 550°C erhitzt.
Vor der Aufbringung der Lösung zur Bildung der
Zwischenschicht wird üblicherweise der Untergrund rauh
geätzt, um die Haftung der Iridiumbeschichtung zu
begünstigen.
Die Zwischenschicht kann vorteilhaft durch das Aufbringen
einer sehr verdünnten sauren Farbe hergestellt werden, die
eine kleine Menge einer thermisch zersetzbaren
Antimonverbindung, z.B. in Form anorganischer oder
organischer Verbindungen des Antimons, enthält. Unter den
einsetzbaren Antimonverbindungen ist insbesondere
Antimonoxinitrat bevorzugt, da es keine oxidierenden
Bedingungen erfordert, um bei der thermischen Zersetzung
ein Oxid auszubilden. Der Anteil der thermisch
zersetzbaren Antimonverbindung liegt zweckmäßig in 0,1 bis
0,5 molarer Lösung vor, wobei jedoch auch hiervon
abweichende Anteile möglich sein können. Die
Beschichtungslösung enthält im allgemeinen auch ein
Lösungsmittel, beispielsweise ein organisches
Lösungsmittel. Als solche sind insbesondere Alkohole wie
Butanol, Propanol etc. geeignet. Darüber hinaus wird der
Lösung vorteilhaft eine Säure zugesetzt, die die
Titanoxidfilmbildung auf dem Grundkörper während der
Beschichtung soweit als möglich ausschließt. Als solche
Säuren können organische Säuren oder auch beispielsweise
Salzsäure dienen. Die zur Zwischenschicht führende
Beschichtungslösung kann bei unter 400°C liegenden
Temperaturen, vorteilhaft im Bereich zwischen 350 bis
390°C, eingebrannt werden, da unter diesen Bedingungen die
Bildung von Titanoberflächenoxiden vermieden bzw.
eingeschränkt werden kann. Durch die Beschichtung sollen
Antimonmengen im Bereich von zweckmäßig 0,05 bis
0,5 g/m2 und insbesondere bevorzugt 0,1 bis 0,2 g/m2
aufgebracht werden. Diese Anteile an Antimon können
normalerweise mit einer einmaligen Beschichtung erreicht
werden. In Sonderfällen, wenn z.B. die Substrate nicht
liegend getrocknet werden können und daher die angegebenen
Flächengewichte nicht erreicht werden, kann die
antimonhaltige Lösung ein zweites oder weiteres Mal
aufgetragen werden.
Da sich die Antimonoxide bei der thermischen Behandlung
leicht verflüchtigen, kann die antimonhaltige Farbe auch
kleine Mengen an Haftvermittlern, z.B. Kupfer, enthalten.
Daher können die Beschichtungslösungen für die
Zwischenschicht etwa 0,05 bis 0,1 Mol Kupfer in Form
seiner anorganischen oder organischen Lösungen aufweisen.
Bevorzugt ist ein getrenntes Aufbringen des
Haftvermittlers, z.B. Cu-Verbindungen, nach Aufbringen der
antimonhaltigen Lösung.
Auf den so vorbereiteten Untergrund wird die
elektrokatalytisch wirksame Deckschicht aufgebracht, die
Iridium und Antimon als Oxid und/oder evtl. auch als
Metall enthält.
Üblicherweise wird Iridium in Form der 0,1 bis 1 molaren
Lösungen von Iridiumsalzen bzw. -säuren aufgebracht.
Insbesondere findet mit Vorteil
Hexachloro-iridium-(4)-säure-hydrat Anwendung, dessen
Lösung 0,01 bis 0,1 Mol Antimon(III)-chlorid beigemischt
werden können. Des Molverhältnis von Iridium : Antimon in
diesen Lösungen liegt im Bereich von 100 : 0,5-5,
vorzugsweise 100 : 1-3. Diese Lösungen können mehrfach
aufgetragen und jeweils bei zwischen 350 bis 500°C
liegenden Temperaturen eingebrannt werden. Bei dem
Endeinbrennprozeß können schließlich Temperaturen von 500
bis 550°C zweckmäßig sein. Die Beschichtungslösungen
werden üblicherweise mehrfach aufgetragen bis ein
Flächengewicht von 4 bis 30 g Ir/m2, vorzugsweise 5 bis
15 g Ir/m2, erreicht ist.
Die erfindungsgemäßen Anoden eignen sich hervorragend als
sauerstoffentwickelnde Elektroden in elektrolytischen
Metallgewinnungsverfahren. Hierdurch sind sie insbesondere
zur Herstellung von Zink, Cobalt, Eisen, Nickel, Mangan,
Cadmium, Kupfer und/oder Chrom aus deren wäßrigen sauren
Lösungen geeignet. Die erfindungsgemäßen Anoden weisen
eine höhere Lebensdauer und eine niedrigere Überspannung
nach längeren Laufzeiten als Anoden nach dem Stand der
Technik auf. Auch ist es möglich, in den erfindungsgemäßen
Anoden die Iridiummenge der Deckschicht gegenüber
herkömmlichen Werten herabzusetzen. Schließlich überstehen
die erfindungsgemäßen Anoden Abschaltvorgänge oder
Niedriglastzeiten im Langzeitbetrieb besser, ohne daß sich
eine Ablösung der Beschichtung ergibt. Insbesondere hat
sich gezeigt, daß die Anode eine besondere Eignung für die
Herstellung von Kupfer hat, bei der der Elektrolyt durch
Solventextraktion von Kupfererzen gewonnen wird und den
üblichen Pegel an Organika, Additiven und Verunreinigungen
aufweist. Der Kupfersulfatgehalt solcher Lösungen beträgt
üblicherweise 30 bis 50 g Cu/l bei einem Anteil an freier
Schwefelsäure im Bereich von etwa 50 bis 100 g/1 und
Elektrolyttemperaturen von 40 bis 60°C. Bei Stromdichten
zwischen 200 und 1000 A/m2 bei einem Anodenpotential von
1,4 bis 1,6 V (gegen NHE) beträgt der Verschleiß der
erfindungsgemäßen Anoden 1 bis 1,5 mg Ir/kAh. Unter
günstigen Betriebsbedingungen können sogar Verschleißraten
von 0,5 mg Ir/kAh erreichbar sein.
Die Herstellung der erfindungsgemäßen Anode ist
nachstehend in einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel
weiter erläutert:
Ein Titanblech der Abmessung 100×10×1 mm wurde entfettet
und mit 20%-iger Salzsäure geätzt, gespült und
getrocknet. Das so vorbereitete Titansubstrat wurde mit
einer 0,1 molaren Lösung von SbCl13 in 20%-iger
Salzsäure, die 8 Vo1.% n-Butanol enthält, bestrichen,
getrocknet und bei 390°C im Umluftofen 15 Minuten
wärmebehandelt. Dieses Beschichten mit SbCl13-Lösung
wurde noch zweimal wiederholt.
Auf diese Zwischenschicht wird die aktive Deckschicht
aufgebracht, indem man das Substrat mit einer
Beschichtungslösung bestreicht, die 0,5 Mo1
Hexachloriridium(IV)-säure-Hydrat und 0,005 Mol
Antimon(III)-chlorid in 20%-iger Salzsäure mit 8 Vol.%
n-Butanol enthält. Nach dem Aufbürsten der Lösung wird das
Substrat jeweils an der Luft getrocknet und dann 20
Minuten bei 400°C im Umluftofen wärmebehandelt. Dieser
Vorgang wird 10 bis 12 mal wiederholt, bis etwa 12 g
Iridium, gerechnet als Metall pro m2 Anodenfläche,
aufgebracht sind.
Dann wird die Anode 60 Minuten bei 500°C endbehandelt.
Die so hergestellte Anode wurde unter technischen
Elektrolysebedingungen in einem Elektrolyten für die
Kupfergewinnungselektrolyse, der 50 g Kupfer/l als Sulfat
und 50 g freie Schwefelsäure/l sowie die in der
Kupfergewinnungselektrolyse üblichen Zusätze und
Verunreinigungen in den technisch üblichen Konzentrationen
enthielt, bei einer Stromdichte von 1,2 kA/m2 bei einer
Temperatur von 40 bis 50°C eingesetzt.
Nach 2000 Betriebsstunden betrug das Anodenpotential
gleichbleibend 1,6 V/NHE und die Verschleißrate lag bei
1,0 mg/kAh.
Ein Titanblech der Abmessung 100×10×1 mm wurde entfettet
und mit 20%-iger Salzsäure geätzt, gespült und
getrocknet. Das so vorbereitete Titansubstrat wurde mit
einer 0,1 molaren Lösung von SbCl13 in 20%-iger
Salzsäure, die 8 Vol.% n-Butanol enthält, bestrichen und
getrocknet. Anschliessend wurde eine Schicht einer 0,1
molaren wässrigen Lösung von Kupfer(II)-acetat
aufgebracht, an Luft getrocknet, bis das Lösungsmittel
verdunstet ist, und dann bei 390°C im Umluftofen 15
Minuten wärmebehandelt. Dieses Beschichten mit
SbCl13-Lösung und Kupfer(II)acetatlösung wurde noch
zweimal wiederholt.
Auf diese Zwischenschicht wird die aktive Deckschicht
aufgebracht, indem man das Substrat mit einer
Beschichtungslösung bestreicht, die 0,5 Mol
Hexachloriridium(IV)-säure-Hydrat und 0,005 Mol
Antimon(III)-chlorid in 20%-iger Salzsäure mit 8 Vol.%
n-Butanol enthält. Nach dem Aufbürsten der Lösung wird das
Substrat jeweils an der Luft getrocknet und dann 20
Minuten bei 390°C im Umluftofen wärmebehandelt. Dieser
Vorgang wird 10 bis 12 mal wiederholt, bis etwa 12 g
Iridium/m2, gerechnet als Metall, aufgebracht sind. Bei
dem ersten und zweiten Beschichtungsvorgang wird jeweils
noch eine zusätzliche Schicht Kupferacetat wie oben
beschrieben aufgebracht. Dann wird die Anode 60 Minuten
bei 500°C endbehandelt.
Die so hergestellte Anode zeigte unter technischen
Elektrolysebedingungen in einem
Kupfergewinnungselektrolyten bei einer Stromdichte von
1,2 kA/m2 nach 1000 Betriebsstunden ein Anodenpotential
von 1,6 V/NHE. Die Verschleißrate betrug 0,8 mg/kAh.
Claims (14)
1. Dimensionsstabile Anode für die elektrolytische
Gewinnung von Metallen aus deren wäßrigen Lösungen mit
einem Titan(legierungs)grundkörper, einer
Zwischenschicht und einer hierauf befindlichen
elektrochemisch aktiven, iridiumhaltigen Schicht,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Zwischenschicht Antimon und/oder dessen Oxide enthält
und die elektrochemisch aktive Schicht aus Iridum
und/oder dessen Oxiden mit einer Dotierung von Antimon
und/oder dessen Oxiden gebildet ist.
2. Dimensionsstabile Anode nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht
frei von Edelmetall ist.
3. Dimensionsstabile Anode nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht
aus Antimon und/oder dessen Oxiden besteht.
4. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der
Titangrundkörper im wesentlichen von
Titanoberflächenoxiden frei ist.
5. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Iridium bzw.
Iridiumoxid in der aktiven Schicht mit einem
Flächengewicht von 4 bis 30 g Ir/m2 vorliegt.
6. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Molverhältnis
von Iridium:Antimon in der aktiven Schicht dem
Verhältnis 100 : 0,5-5 entspricht.
7. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die aktive Schicht
von Ventilmetalloxiden frei ist.
8. Dimensionsstabile Anode nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die aktive Schicht
aus Iridium und Antimon bzw. deren Oxiden besteht.
9. Verfahren zur Herstellung der Anode nach einem oder
mehreren der vorhergehenden Ansprüche unter
Aufbringung der Zwischenschicht auf einem
Anodensubstrat aus Titan oder einer Titanlegierung und
hierauffolgend der iridiumhaltigen aktiven Schicht,
dadurch gekennzeichnet, daß man
- a) das Anodensubstrat mit einer Lösung bzw. Dispersion eines Antimonsalzes mindestens einmalig beschichtet,
- b) hiernach bei unter 400°C liegenden Temperaturen in einer gegebenenfalls oxidierenden Atmosphäre erhitzt,
- c) sodann mit einer Lösung oder Dispersion, die Iridium- und Antimonverbindungen enthält, beschichtet und
- d) hiernach trocknet und bei Temperaturen im Bereich von 350 bis 550°C erhitzt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, daß eine salzsaure
Antimonchloridlösung für die Herstellung der
Zwischenschicht verwendet wird, die ggf. zusätzlich
Haftvermittler enthält.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, daß eine salzsaure
Hexachloroiridium-Säurelösung mit einem Zusatz an
Antimonhalogenid als Beschichtungslosung zur
Herstellung der aktiven Schicht eingesetzt wird.
12. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Erhitzungsvorgänge nach Auftrag der
Zwischenschicht und der aktiven Schicht schonend in
einer mild oxidierenden Atmosphäre vorgenommen werden,
um eine Oxidation der Titanoberfläche im wesentlichen
zu vermeiden.
13. Verwendung der Anode nach einem oder mehreren der
Ansprüche 1 bis 8 als sauerstoffentwickelnde Elektrode
in elektrolytischen Verfahren.
14. Verwendung nach Anspruch 13 zur elektrolytischen
Gewinnung von Metallen, wie Kupfer, Zink, Cobalt,
Eisen, Nickel, Mangan, Cadmium, und/oder Chrom aus
deren wäßrigen sauren Lösungen.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873731285 DE3731285A1 (de) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873731285 DE3731285A1 (de) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3731285A1 true DE3731285A1 (de) | 1989-04-06 |
| DE3731285C2 DE3731285C2 (de) | 1989-10-26 |
Family
ID=6336260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19873731285 Granted DE3731285A1 (de) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | Dimensionsstabile anode, verfahren zu deren herstellung und verwendung derselben |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3731285A1 (de) |
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| DE3731285C2 (de) | 1989-10-26 |
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