DE3741947A1 - Verfahren zur herstellung von polysilanen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von polysilanenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstel
lung von Polysilanen.
Polysilane sind schon seit langer Zeit bekannt und
stellen Materialien verschiedenster Arten dar. Beispiele
für bekannte Polysilane sind lineare permethylierte
Polysilane, cyclische permethylierte Polysilane, ver
zweigte Polysilane und käfigartige permethylierte Poly
silane. Es gibt bereits Polysilane, die andere Substitu
enten als Methyl, wie Phenyl- oder Isopropylgruppen, auf
weisen, und es sind auch Polysilane bekannt, die ein Ge
misch aus Methylgruppen und anderen Substituenten enthalten,
wie Wasserstoff-, Halogen- oder Phenylsubstituenten. Weiter
gibt es Polysilane, an deren Siliciumatomen lediglich
Wasserstoffatome vorhanden sind. Die Größe der Polysilanmoleküle
kann ziemlich breit schwanken, vom Disilan bis zu den ei
gentlichen Polysilanen, bei denen eine große Anzahl an
Siliciumatomen aneinander gebunden sind. Lineare Polysilan
enthalten in ihrer Kette gewöhnlich weniger als 10 Silicium
atome, während die cyclischen und polycyclischen Polysilane
häufig über eine größere Anzahl an Siliciumatomen verfügen.
Polysilane können nach mehreren Wegen hergestellt werden.
Eines der am frühesten publizierten Verfahren wird in
US-A-2 3 80 995 beschrieben, und hiernach werden Disilane
durch Behandlung von metallischem Silicium mit einem
Alkylhalogenid unter speziellen Bedingungen erzeugt. Das
gebräuchlichste Verfahren zur Herstellung von Cyclopoly
silanen besteht in einer reduktiven Kondensation eines
Dialkyldihalogensilans mit einem Alkalimetall. Dieses Ver
fahren wird beispielsweise in US-A-4 0 52 430 beschrieben.
Enthält das Reaktionsgemisch ein Alkyltrihalogensilan,
dann können durch Cokondensation dieser Silane unter be
stimmten Bedingungen käfigartige Polysilane gebildet
werden. Ein anderes Verfahren zur Herstellung von Poly
silanen geht von niedermolekularen Polysilanen aus, welche
unter wasserfreien Bedingungen mit einem Grignard-Reagens
umgesetzt werden, wie dies beispielsweise in GB-A-2 0 81 290
beschrieben wird.
Eine der wichtigeren Anwendungen von Polysilanen ist ihr
Einsatz als Vorläufer für Siliciumcarbid. Hierzu sind be
sonders Polysilane bevorzugt, bei denen das Verhältnis von
Kohlenstoffatomen zu Siliciumatomen möglichst nahe bei 1
liegt. Für diesen Zweck braucht man käfigartige Polysilane
und verzweigte Polysilane. In GB-A-2 0 81 290 werden Poly
silane beschrieben, welche die mittlere Formel
[(CH3)2Si] [CH3Si] haben, und in diesen Polysilanen sind
0 bis 60 Molprozent Einheiten (CH3)2Si= und 40 bis 100 Mol
prozent Einheiten CH3Si≡ vorhanden, wobei an das Silicium
atom auch andere Siliciumatome und weitere Alkylreste mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder Phenylgruppen gebunden sind.
Solche Polysilane werden hergestellt, indem man die im
Rückstand des Direktprozesses, den man während der Herstel
lung von Chlorsilanen erhält, vorhandenen Polysilane mit
einem Alkyl- oder Aryl-Grignard-Reagens umsetzt. Der
Rückstand dieses Direktprozesses ist jedoch nicht rein
und wohldefiniert. Die Herstellung von Polysilanen nach dem
in GB-A-2 0 81 290 beschriebenen Verfahren erfordert daher
eine gesonderte Stufe zur Reinigung des beim Direktprozeß
anfallenden Rückstands.
In GB-A-2 0 77 710 wird ein Verfahren zur Herstellung eines
unsubstituierten Polysilans beschrieben, dessen Zusammen
setzung etwa der Formel -(SiH n )- x entspricht, worin x
eine große Zahl bedeutet und n für 1 bis 2 steht, und
dieses Verfahren besteht in einer Umsetzung einer Verbin
dung der Formel SiH m X4- m , worin X Fluor, Chlor, Brom oder
Iod ist und m für 1, 2 oder 3 steht, mit Lithium in einer
Suspension einer gegenüber den Reagentien und dem Produkt
inerten Flüssigkeit, in welcher das Polysilan unlöslich ist.
Eine Wiederholung dieses Verfahrens nach dem darin enthal
tenen Beispiel ergibt als Produkt jedoch ein sauerstoff
haltiges Silicon und kein Polysilan der allgemeinen Formel
-(SiH) x -.
Erfindunggemäß wurde nun erkannt, daß sich Polysilane der
Formel (CH3Si≡) n durch Umsetzung eines Methyltrihalogen
silans mit einem Alkalimetall wesentlich leichter als nach
dem Stand der Technik herstellen lassen. Weiter wurde
gefunden, daß sich ein ähnliches Verfahren auch zur erfolg
reichen Herstellung von Polysilanen der allgemeinen Formel
(RSi) n , worin R eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis
18 Kohlenstoffatomen bedeutet, anwenden läßt.
Die Erfindung betrifft demnach ein Verfahren zur Herstellung
von Polysilanen der allgemeinen Formel (RSi) n , worin
jeder Substituent R unabhängig eine Kohlenwasserstoffgruppe
mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen bedeutet und n für wenigstens
8 steht, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man wenigstens
ein Silan der allgemeinen Formel RSiX3, worin R wie oben
definiert ist und X ein Halogenatom bedeutet, mit einem
Alkalimetall in einem organischen, flüssigen Medium, in
welchem das Silan löslich ist, umsetzt.
Zur Erfindung gehören auch die Polysilane der allgemeinen
Formel (RSi) n , worin R und n wie oben definiert sind,
welche nach dem oben beschriebenen Verfahren hergestellt
worden sind.
In der allgemeinen Formel für diese Polysilane bedeutet R
vorzugsweise eine Alkyl-, Aryl-, Alkaryl- oder Aralkyl
gruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen. Beim erfindungsge
mäßen Verfahren wird wenigstens ein Trihalogensilan mit
einem Alkalimetall in einem organischen, flüssigen Medium
umgesetzt. Die bei diesem Verfahren verwendbaren Trihalo
gensilane haben die allgemeine Formel RSiX3, worin R eine
Alkyl-, Aryl-, Alkaryl- oder Aralkylgruppe mit 1 bis 18
Kohlenstoffatomen ist und X ein Halogenatom bedeutet und
vorzugsweise Chlor ist. Beispiele für die Gruppen R sind
Methyl, Ethyl, Isobutyl, Phenyl, Tolyl oder Phenylethyl.
Diese Silane sind in der Technik wohlbekannt, und eine
Reihe von ihnen ist auch im Handel erhältlich. Sie können
beispielsweise durch direkte Synthese unter Verwendung
von metallischem Silicium und Methylchlorid mittels
Grignard-Synthese oder durch Addition ungesättigter Alke
ne oder aromatischer Verbindungen an siliciumgebundene
Wasserstoffatome aufweisende Silane hergestellt werden.
Solche Verfahren sind wohlbekannt und werden beispiels
weise in Chemie und Technologie der Silicone von W. Noll
beschrieben. Zu Beispielen für Trihalogensilane, die beim
erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden können, ge
hören unter anderem Methyltrichlorsilan, Phenyltrichlor
silan, Butyltrichlorsilan und Dodecyltrichlorsilan. Bei
jedem der beim Verfahren verwendeten Silane sind die
Substituenten R vorzugsweise gleich.
Das beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendbare Alkali
metall kann beispielsweise Natrium, Kalium oder Lithium
sein. Lithium ist das bevorzugte Alkalimetall, da es
die höchsten Ausbeuten an Polysilanen ergibt. Die Menge
an bei dieser Umsetzung zu verwendendem Alkalimetall be
trägt wenigstens 3 Mol pro Mol angewandtem Silan.
Zur Sicherstellung einer vollständigen Umsetzung wird
ein Arbeiten mit einem 3 Mol geringfügig übersteigenden
Überschuß an Alkalimetall pro Mol Silan bevorzugt.
Das organische, flüssige Medium, in welchem die Reaktion
stattfindet, kann irgendein Lösungsmittel sein, in dem
das als Reaktant verwendete Trihalogensilan löslich ist.
Vorzugsweise ist dieses organische, flüssige Medium auch
ein Lösungsmittel für das beim Verfahren erzeugte Polysilan.
Zu solchen Lösungsmitteln gehören Kohlenwasserstofflösungs
mittel, wie Toluol oder Paraffine, Ether und stickstoff
haltige Lösungsmittel, wie Ethylendiamin, Triethylamin
oder N,N,N′,N′-Tetramethylethylendiamin. Vorzugsweise
wird Tetrahydrofuran als organisches, flüssiges Medium
verwendet. Das organische, flüssige Medium ist allgemein
kein Lösungsmittel für die gebildeten Alkalimetallhaloge
nide, und diese lassen sich daher leicht durch Filtration
abtrennen. Die Menge des beim erfindungsgemäßen Verfahren
zu verwendenden organischen, flüssigen Mediums ist nicht
kritisch, wobei die Anwendung zunehmend größerer Mengen
hiervon jedoch zur Bildung von Polysilanen mit zunehmend
niedrigerem Molekulargewicht führen kann.
Das Verfahren kann bei jeder Temperatur durchgeführt
werden, wobei die Reaktionstemperatur vorzugsweise jedoch
auf unter 50°C gehalten wird. Die Reaktion verläuft
exotherm und wird vorzugsweise bei Raumtemperatur begon
nen, wobei während der Reaktion keine Wärmezufuhr von außen
erforderlich ist. Eine Temperaturerhöhung ist gewöhnlich
auch mit einer Erhöhung des Molekulargewichts der gebildeten
Polysilane verbunden. Hierdurch können Polysilane entstehen,
die in dem organischen, flüssigen Medium unlöslich sind.
Nach erfolgter Umsetzung bis zum jeweils gewünschten Aus
maß kann man das Polysilan durch jede geeignete Methode
aus dem Reaktionsgemisch gewinnen. Ist das Polysilan in
dem flüssigen, organischen Medium unlöslich, in welchem
die Reaktion stattgefunden hat, dann läßt es sich einfach
durch Filtration des Reaktionsgemisches gewinnen. Dies
wird vorzugsweise dann getan, nachdem andere unlösliche Be
standteile, wie die als Nebenprodukt gebildeten Alkalime
tallhalogenide, entfernt worden sind, was beispielsweise
durch Abschöpfen oder Dekantieren erfolgen kann. Je
nach der Art der Reaktionskomponenten kann das feste Neben
produkt zur Oberfläche des Gemisches schwimmen und das
Polysilan zu einem Absetzen neigen. Ist das Polysilan
im Lösungsmittel löslich, dann lassen sich die sonstigen
unlöslichen Komponenten durch Filtration abtrennen, und
das im Lösungsmittel zurückbleibende Polysilan kann durch
Waschen gereinigt oder zu einem Pulver getrocknet werden.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten Polysilane
sind feste Materialien mit dreidimensionaler Struktur, in
welcher jedes Siliciumatom an wenigstens ein anderes Silicium
atom und möglicherweise an eine Gruppe R gebunden ist. Die
genaue Struktur dieser Polysilane ist noch nicht bekannt,
doch wird angenommen, daß hierzu auch Dodekahedronstruk
turen und offene käfigartige Strukturen gehören. In diesen
Polysilanen (RSi) n kann R eine Alkyl-, Aryl-, Alkaryl-
oder Aralkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sein.
Vorzugsweise steht R für eine C1 bis C6-Alkylgruppe oder
eine Phenylgruppe. Der Index n in der allgemeinen Formel
(RSi) n hat einen Wert von wenigstens 8. Für den Index n
gibt es eigentlich keine obere Grenze, doch werden bei sehr
hohem Wert für den Index n die Polysilane dann in dem or
ganischen, flüssigen Medium unlöslich. Je nach Art des
Substituenten R hat der Index n einen Wert von 8 bis etwa
100. Bedeutet R beispielsweise eine Phenylgruppe, dann
ist der Wert des Index n vorzugsweise 8 bis etwa 30, da
solche Phenylpolysilane dann in dem organischen, flüssigen
Medium löslich sind. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfah
ren erhältlichen Polysilane, welche in Kohlenwasserstoff
lösungsmitteln, Etherlösungsmitteln oder stickstoffhaltigen
Lösungsmitteln löslich sind, lassen sich leichter formen,
bevor man sie zu Gegenständen aus Siliciumcarbid verarbeitet,
so daß solche Polysilane besonders bevorzugt sind.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Beispielen
weiter erläutert. Die darin enthaltenen Teil- und
Prozentangaben sind als Gewichtsangaben zu verstehen. Die
Abkürzung Me bedeutet eine Methylgruppe, während die
Abkürzung tBu für eine tertiäre Butylgruppe steht und die
Abkürzung Ph eine Phenylgruppe darstellt.
Eine Suspension von Li (2,8 g, 0,4 Mol) in 100 ml Tetra
hydrofuran (THF) wird langsam mit einer Lösung von PhSiCl3
(27,6 g, 0,13 Mol) in 100 ml THF versetzt. Das Gemisch er
wärmt sich während des Verlaufs der exothermen Reaktion
und wird dunkelbraun. Nach Zugabe der gesamten Lösung wird
das Gemisch weitere drei Stunden bei Umgebungstemperatur
gerührt. Der Überschuß an Li und an gebildetem LiCl wird
abfiltriert, und das Filtrat wird in 800 ml Methanol ge
gossen. Der entstandene Niederschlag wird abfiltriert, mit
Wasser und Methanol gewaschen und unter Vakuum getrocknet.
Hierdurch erhält man 10,58 g eines festen Polysilans, Eine
Analyse dieses Materials ergibt einen Gehalt an 67,35% C
und 4,71% H. Es weist ein durch GPC bestimmtes Molekular
gewicht von 2276 auf. Eine IR- und NMR-Analyse zeigt die
Anwesenheit von Ph sowie Si-Ph- und Si-Si-Bindungen.
Eine Suspension von Li (5,11 g, 0,73 Mol) in 100 ml Tetra
hydrofuran (THF) wird langsam mit einer Lösung von MeSiCl3
(30 g, 0,20 Mol) in 100 ml THF versetzt. Das Gemisch er
wärmt sich während des Verlaufs der exothermen Reaktion,
wodurch das THF zum Sieden kommt. Der Rest der Lösung wird
derart zugesetzt, daß das Reaktionsgemisch unter Rück
flußsieden bleibt. Hierauf wird das Reaktionsgemisch
weitere zwei Stunden bei Umgebungstemperatur gerührt. Zur
Zerstörung des Überschusses an Li wird 1 l Methanol zuge
setzt. Die Feststoffe werden abfiltriert, mit Wasser und
Methanol gewaschen und unter Vakuum getrocknet. Hierdurch
erhält man 8,6 g eines festen Polysilans, das in THF un
löslich ist. Eine Elementaranalyse dieses Materials er
gibt 26,51% C und 6,12% H.
Eine Suspension von Li (2,13 g, 0,3 Mol) in 100 ml
N,N,N′,N′-Tetramethylendiamin (TMEDA) wird unter Kühlung
auf -10°C langsam mit einer Lösung von MeSiCl3 (14,2 g,
0,095 Mol) in 50 ml TMEDA versetzt. Das Gemisch wird wäh
rend der Zugabe durch äußere Kühlung auf -10°C ge
halten. Nach Zusatz der gesamten Lösung wird das Gemisch
zuerst weitere 5 Stunden bei -10°C und dann drei Stunden
bei Umgebungstemperatur gerührt. Der Überschuß an Li und
an gebildetem LiCl wird abfiltriert, und das Filtrat wird
in 1000 ml Methanol gegossen. Der entstandene Niederschlag
wird abfiltriert, mit Wasser und Methanol gewaschen und
unter Vakuum getrocknet. Hierdurch erhält man 3,21 g eines
festen Polysilans. Eine Elementaranalyse dieses Materials
ergibt 27,02% C und 6,25% H. Es weist ein durch GPC
bestimmtes Molekulargewicht von 1548 auf. Eine IR- und
NMR-Analyse zeigt die Anwesenheit von Me sowie von Si-Me-
und Si-Si-Bindungen.
Eine Suspension von Li (2,25 g, 0,32 Mol) in 100 ml Tetra
hydrofuran (THF) wird langsam mit einer Lösung von
t-BuSiCl3 (18,62 g, 0,097 Mol) in 100 ml THF versetzt. Das
Gemisch erwärmt sich während des Verlaufs der exothermen
Reaktion und wird dunkelbraun. Nach Zugabe der gesamten
Lösung wird das Gemisch weitere sechs Stunden bei Umge
bungstemperatur gerührt. Der Überschuß an Li und an gebil
detem LiCl wird abfiltriert, und das Filtrat wird in 1000 ml
Methanol gegossen. Der entstandene Niederschlag wird ab
filtriert, mit Wasser und Methanol gewaschen und unter
Vakuum getrocknet. Hierdurch erhält man 6,86 g eines
festen Polysilans. Eine Analyse dieses Materials ergibt
einen Gehalt an 54,95% C und 9,83% H. Es weist ein durch
GPC bstimmtes Molekulargewicht von 5854 auf. Eine IR-
und NMR-Analyse zeigt die Anwesenheit von t-Bu und Si-C-
Bindungen.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung von Polysilanen der allgemeinen
Formel (RSi) n , worin jeder Substituent R unabhängig
eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoff
atomen bedeutet und n für wenigstens 8 steht,
dadurch gekennzeichnet,
daß man wenigstens ein Silan der allgemeinen Formel
RSiX3, worin R wie oben definiert ist und X ein Halo
genatom bedeutet, mit einem Alkalimetall in einem orga
nischen flüssigen Medium, in welchem das Silan löslich
ist, umsetzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Alkalimetall Lithium ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß das organische, flüssige Medium Tetrahydrofuran
ist.
4. Verfahren nach irgendeinem der vorhergehenden An
sprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß das organische, flüssige Medium ein Medium ist,
in welchem das als Produkt erhaltene Polysilan löslich
ist.
5. Verfahren nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Substituent R eine Alkyl-, Aryl-, Alkaryl- oder
Aralkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen bedeutet.
6. Verfahren nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Substituenten R jeweils gleich sind und X ein
Chloratom ist.
7. Verfahren nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Umsetzung bei unter 50°C durchgeführt wird.
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