DE3248121A1 - Hochleistungs-katodenanordnung fuer die erzeugung von mehrfachschichten - Google Patents
Hochleistungs-katodenanordnung fuer die erzeugung von mehrfachschichtenInfo
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Description
21. Dezember 1982 82521
LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Straße 504
Bonner Straße 504
5000 Köln - 51
Hochleistungs-Katodenanordnung für die Erzeugung von Mehrfachschichten
Die Erfindung betrifft eine Hochleistungs-Katodenanordnung für die Erzeugung von Mehrfachschichten aus unterschiedlichen
Targetmaterialien auf Substraten unter Verwendung von Magnetfeldgeneratoren für Magnetfelder5 deren Feldlinien
über dem Targetmaterial in sich geschlossene Entladungsrä'ume
begrenzen, mit einer Transporteinrichtung für die Substrate.
ORIGINAL INSPECTED
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Hochleistungs-Katoden der vorstehend beschriebenen Art sind sowohl mit ebenen als auch mit gewölbten Targetoberflächen
bekannt, sie werden auch als "Magnetrons" bezeichnet. Ein derartiges Magnetron mit ebener Targetfläche ist in der
DE-OS 30 47 113 beschrieben.
Bei derartigen Magnetrons ist hinter der Targetplatte
mindestens ein Magnetfeldgenerator angeordnet, der sowohl als Elektromagnet ausgebildet als auch aus einer Gruppierung
von Permanentmagneten bestehen kann. Die einzelnen Pole oder Polschuhe bilden in sich geschlossene Ringe, Rechtecke oder
Ovale, die ineinander liegend angeordnet sind, so daß die Pole der einen Polarität außen und diejenigen der
anderen Polarität innen liegen. Dies führt zur Ausbildung eines dreidimensionalen, zu einem Kreis, Rechteck oder
Oval geschlossenen Tunnels von bogenförmigen Feldlinien, deren beiderseitige Fußpunkte in der Targetoberfläche
liegen. Die Folge ist eine Konzentrierung der Glimmentladung auf einen Bereich innerhalb des "Tunnels", und
zwar durch beträchtliche Erhöhung der KoIlisionswahrschein!ichkeit
von Elektronen und Ionen, wodurch die Zerstäubungsrate des Targetmaterials und damit die
Kondensationsrate auf den Substraten auf den zehn- bis zwanzig-fachen Wert erhöht wird. Aus diesem Grunde werden
derartige Magnetrons auch als Hochleistungs-Katoden bezeichnet.
Man hat bisher mit derartigen Katoden auch bereits Mehrfachschichten
aus unterschiedlichen Targetmaterialien
erzeugt, indem man eine entsprechende Anzahl von Magnetrons,
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die jeweils aus einem Magnetron-Grundkörper, einem Magnetfeldgenerator
und einer Targetplatte bestanden, in einer Reihe hintereinander angeordnet.und die Substrate nacheinander
unter sämtlichen Magnetrons hindurchbewegt hat. Auf diese Weise entstanden nacheinander Schichten aus den
einzelnen Targetmaterialien, die jedoch streng voneinander getrennt waren. Ein besonders bekanntes Anwendungsgebiet
ist die Herstellung von infrarotreflektierenden Fensterscheiben,
die als erste Schicht einen Haftvermittler, als zweite Schicht die eigentliche infrarotreflektierende
Schicht und als dritte Schicht eine Schutz- u. Interferenzschicht aufweisen.
Die Einzelschichten besitzen dabei keine übergangszone, so daß die Haftfestigkeit zwischen den einzelnen
Schichten für bestimmte technische Anwendungsfälle, bei denen hohe mechanische Kräfte auf das Schichtensystem einwirken,
nicht ausreichend ist.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Hochlei stungs-Katodenanordnung der eingangs beschriebenen Art
anzugeben, mit der allmählich ineinander übergehende Mehrfachschichten erzeugbar sind. Es geht dabei darum, zur
Erhöhung der Haftfestigkeit eine sogenannte "Verzahnung" für die einzelnen Schichtmaterialien herbeizuführen. Eine
solche Maßnahme war mit den bisher bekannten Magnetrons wegen der streng voneinander getrennten Magnetfelder und
der Targetplatten nicht möglich.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der eingangs beschriebenen Hochleistungs-Katodenanordnung erfindungsgemäß
dadurch, daß mindestens zwei unterschiedliche Target-
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materialien im Bereich mindestens eines Magnetfeldgenerators,
der mindestens einen in sich geschlossenen Entladungsraum ausbildet, an mindestens einer Grenzlinie aneinanderstoßen
und daß die Transportrichtung der Substrate senkrecht zu der mindestens einen Grenzlinie verläuft.
Durch die erfindungsgemäße Maßnahme erstreckt sich der aus
Magnetfeldlinien gebildete "Tunnel" über mindestens zwei unterschiedliche Targetmaterialien, die auch unmittelbar
aneinanderstossen. Durch diese Maßnahme kann die Glimmentladung
nicht entweichen, so daß die hohe Zerstäubungsrate erhalten bleibt. Da nun die zerstäubten Partikel des Targetmaterials sich nicht nur in normaler Richtung von der
Targetoberfläche entfernen, sondern durch einen Streueffekt
auch unter nahezu beliebigen Raumwinkeln hiervon, findet im Bereich der Grenzlinie eine gründliche Durchmischung der
Partikel der einzelnen Targetmaterialien statt, die mit
zunehmender Entfernung von der Grenzlinie aufgrund statistischer Wahrscheinlichkeiten zu- bzw. abnimmt. Infolge
der Transportrichtung der Substrate senkrecht zu dieser Grenzlinie bildet sich hierdurch zwischen den
unterschiedlichen Targetmaterialien auf dem Substrat eine
Obergangszone mit kontinuierlichem Übergang aus, in der
sich die einzelnen Targetmaterialien verzahnen. Hierdurch
wird die Haftfestigkeit beträchtlich erhöht.
Es ist zwar durch die DE-OS 22 43 708 bekannt, eine
Magnetronanordnung entweder aus einer Kreisscheibe und einem diese mit Abstand umgebenden Kreisring oder aus zwei halbkreisförmigen Scheiben aufzubauen, die gleichfalls einen
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Spalt zwischen sich freilassen. Der einzige, in sich geschlossene
Feldlinientunnel erstreckt sich dabei über beide KatodentefIe, die mit Wechselspannung (Hochfrequenz)
versorgt werden. Da hierbei die Katodenteile ständig unterschiedliche Potentiale relativ zueinander einnehmen,
ist der Luftspalt dazwischen aus Isolationsgründen unbedingt erforderlich. DarUberhinaus bestehen die beiden
Katodenteile aus dem gleichen Werkstoff, so daß weder die Möglichkeit noch die Problemstellung gegeben ist, in
einem Übergangsbereich sogenannte Misch-Schichten zu erzeugen.
Es ist gemäß der weiteren Erfindung besonders vorteilhaft, wenn die Targetmaterialien mindestens zwei planparallele
Platten mit rechteckigem bzw. quadratischem Grundriß bilden und wenn die Platten innerhalb des mindestens einen
Entladungsraums unmittelbar aneinanderstoßen.
Ein AusfUhrungsbeispiel des Erfindunpsgegenstandes wird
nachfolgend anhand der einzigen Figur näher erläutert.
Die' Figur zeigt eine Hochleistungs-Katodenanordnung 1,
die mittels eines DurchfUhrungsisolators 2, der als Tragstütze
ausgebildet ist, an der oberen ßegrenzungswand einer nicht dargestellten Vakuumkammer befestigt ist.
Die Hochleistungs-Katodenanordnung 1 besitzt einen Katoden-Grundkörper 3, der in an sich bekannter Weise als quaderförmige
Wanne ausgebildet ist und in dem sich der weiter oben beschriebene Magnetfeldgenerator befindet.
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374Ö \'l'\
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Der Katodengrundkörper ist weiterhin von einer Kühlflüssigkeit durchströmt, um die Betriebstemperatur
niedrig zu halten.
Auf der unteren ebenen Begrenzungsfläche des Katodenkörpers
3 sind zwei voneinander verschiedene Targetmaterialien 4 und 5 in Form zweier planparalleler
Platten mit rechteckigem Grundriß so befestigt, daß sie in gut wärmeleitender Verbindung mit dem Katodengrundkörper
3 stehen.
Die weiter oben beschriebene, an sich bekannte, Ausbildung
des Magnetfeldgenerators führt zur Erzeugung eines in sich geschlossenen Entladungsraums 6, der sich
über beide Targetmaterialien 4 und 5 erstreckt.
Einige der Magnetfeldlinien sind als Bögen dargestellt.
Deren Verlauf bestimmt auch die Lage der Pole bzw. Polschuhe
hi η t e r den Targetmaterialien. Die alle
äußeren Fußpunkte der Feldlinien miteinander verbindende geschlossene Linie bestimmt die Lage des Poles bzw. der
Pole einer Polarität, die alle innenliegenden Fußpunkte verbindende geschlossene Linie bestimmt die Lage des jeweils
anderen Poles bzw. der anderen Pole. Es versteht sich, daß die eingezeichneten Feldlinien nur symbolisch
für eine unendliche Zahl von Feldlinien stehen und daß die Fußpunkte aller Feldlinien nicht nur auf zwei geschlossenen
Linien liegen sondern sich über die in der Figur sichtbare Targetoberfläche verteilen. Beim Betrieb
der Vorrichtung ergibt sicH jedoch infolge des konzentrierten Entladungsraums 6 ein örtlich stark erhöhter Verbrauch
der Targetmaterialien, der zu einer grabenförmigen Ver-
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tiefung an der Stelle der eingezeichneten Feldlinien führt. Innerhalb bzw. unterhalb dieses Entladungsraums 6 stossen
die beiden Targetmaterialien 4 und 5 an einer gemeinsamen
Grenzlinie 7 unmittelbar aneinander.
Unterhalb der Hochleistungs-Katodenanordnuno 1 befindet
sich eine Transporteinrichtung 8 für die Substrate 9. Die Transporteinrichtung kann als Endlosförderer, oder aber
auch als eine Rollenstraße ausgeführt sein, über die die Substrate einzeln oder auf plattenförmigen Trägern
geführt werden. Die Transportrichtung der Transporteinrichtung 8 ist durch einen Pfeil 1Θ vorgegeben. Diese
Transportrichtung verläuft senkrecht zu der sich quer über die gesamte Breite des Katodengrundkörpers 3 erstreckenden
Grenzlinie 7, so daß die einzelnen Substrate nacheinander in den Bestäubungsbereich des Targetmaterials
bzw. 5 gelangen. Es versteht sich, daß das Verhältnis der einzelnen Schichtdicken etwa dem Verhältnis der Längenausdehnung
der Targetmaterialien 4 und 5, in Transportrichtung gesehen, entspricht, vorausgesetzt, daß die Zerstäubungsrate
für beide Targetmaterialien etwa gleich groß ist. Etwaige Unterschiede in den Zerstäubungsraten können
durch eine entsprechende Verlegung der Grenzlinie 7 kompensiert werden. In jedem Falle entsteht dann eine
Übergangs- oder Mischschicht zwischen den beiden Targetmaterialien,
wenn das betreffende Substrat 9 unter der Grenzlinie 7 hindurchläuft.
Es ist natürlich möglich, mehr als zwei, beispielsweise drei oder vier unterschiedliche Targetmaterialien zu verwenden,
sofern die dann mehrfach vorhandenen Grenzlinien zwischen
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den einzelnen Targetmaterialien jeweils im Bereich eines
Entladungsraums liegen. Es ist auch möglich, innerhalb des gesamten Katodengrundkörpers mehr als einen Magnetfeldgenerator
bzw. mehr als einen Entladungsraum vorzu-
sehen, wobei dann lediglich dafür Sorge zu tragen ist, daß die Entladungsräume im Bereich der Grenzlinien nicht
unterbrochen sind.
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Claims (2)
- 21. Dezember 1982 82521-X-ANSPROCHE:Hochleistungs-Katodenanordnung für die Erzeugung von Mehrfachschichten aus unterschiedlichen Targetmaterialien auf Substraten unter Verwendung von Magnetfeldgeneratoren für Magnetfelder, deren FeIdlinien über dem Targetmaterial in sich geschlossene Entladungsräume begrenzen, mit einer Transporteinrichtung für die Substrate, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei unterschiedliche Targetmaterialien (4, 5) im Bereich mindestens eines Magnetfeldge.nerators, der mindestens einen in sich geschlossenen Entladungsraum (6) ausbildet, an mindestens einer Grenzlinie (7) aneinanderstossen und daß die Transportrichtung der Substrate (9) senkrecht zu der mindestens einen Grenzlinie verläuft.
- 2. Hochleistungs-Katodenanordnunp nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetmaterialien (4, 5) mindestens zwei planparallele Platten mit rechteckigen bzw. quadratischen Grundriß bilden und daß die Platten innerhalb des.mindestens einen Entladungsraumes (6) aneinanderstoßen.-VORIGINAL INSPECTED
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| DE19823248121 DE3248121A1 (de) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Hochleistungs-katodenanordnung fuer die erzeugung von mehrfachschichten |
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