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DE2829568A1 - Verfahren zur gleichmaessigen abscheidung von refraktaermetallschichten in rohren aus der gasphase, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents

Verfahren zur gleichmaessigen abscheidung von refraktaermetallschichten in rohren aus der gasphase, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens

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DE2829568A1
DE2829568A1 DE19782829568 DE2829568A DE2829568A1 DE 2829568 A1 DE2829568 A1 DE 2829568A1 DE 19782829568 DE19782829568 DE 19782829568 DE 2829568 A DE2829568 A DE 2829568A DE 2829568 A1 DE2829568 A1 DE 2829568A1
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DE
Germany
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pipe
tube
evaporator
coated
gas
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DE19782829568
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Dietmar Dipl Ing Dr Fister
Rudolf Maizinger
Guenter Dipl Chem Dr Wagner
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HC Starck GmbH
Original Assignee
HC Starck GmbH
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Publication date
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/045Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates

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Description

  • Verfahren zur gleichmäßigen Abscheidung von Refraktär-
  • metallschichten in Rohren aus der Gasphase, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung von gleichmäßigen, festhaftenden Schichten refraktärer Metalle auf induktiv erhitzten Metallrohr-Innenflächen durch Gasphasenreduktion ihrer Halogenide mit Wasserstoff, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
  • Die Beschichtung der Innenoberfläche von Rohren mit korrosionsfesten und/oder temperaturbeständigen und/oder verschleißfesten Refraktärmetallen ist für die chemische Industrie und Kerntechnik von besonderem Interesse.
  • Bei der Herstellung von Schichten und tberzügen auf großen Flächen durch Abscheidung aus der Gasphase tritt allgemein das Problem auf, die Zusammensetzung und Strömung des Reaktionsgasgemisches so zu steuern, daß eine gleichmäßige Beschichtung der ganzen Pläche erfolgt.
  • Bekannte Verfahren zur Innenbeschichtung von Rohren arbeiten mit beweglichen Induktionsspulen zum zonenweisen Erhitzen des Rohres, wie z.B. in der US-PS 3 031 338 und der DU-OS 2 445 564 beschrieben. Bei diesen Verfahren wird eine Induktionsspule während der Behandlung in Axialrichtung bewegt, wobei ein flaches Temperaturprofil im Grenzbereich der eigentlichen Heizzone entsteht. Die bereits beschichteten bzw. noch zu beschichtenden Oberflächen des Innenrohres sind infolgedessen mit dem Reaktionsgasgemisch bzw. dem Abgas unterhalb der benötigten Abscheidungstemperatur in Kontakt, was einerseits zu einer Subhalogenidbildung, andererseits zur Korrosion der Metalloberflächen führt. In beiden allen liefert diese unerwünschte Nebenreaktion schlecht h ~uende und poröse Schichten. Dabei muß Unterdruck angewandt werden und die Dosierung des Halogeniddampfes ist schwierig, so daß die Rartialdrucke der Xeaktionspartner auf ein geeignetes Verhältnis eingestellt werden müssen.
  • Ein-weiteres Verfahren ist aus der US-PS 2 604 395 bekannt, bei dem Refraktärmetallschichten auf verschiedenen metallischen Substraten bei konstanten Temperatur- und Strömungsverhältnissen im Ofenraum abgeschieden werden, eine gleichmäßige Schichtverteilung auf größeren Oberflächen ist dabei kaum zu erreichen.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung so auszubilden, daß aus einem über die erhitzte Substratoberfläche strömenden reaktiven Gasgemisch eine gleichmäßige Schicht abgeschieden wird, wobei die Reaktionsgaszusammensetzung über die gesamte Abscheidungsdauer konstant gebalten oder entsprechend den Abscheidungserfordernissen gezielt verändert wird Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß das zu beschichtenden Metallrohr mittels einer festen, in ihren Windungsabständen jedoch veränderlichen und justierbaren Induktidnsspule erhitzt wird und dabei mit einem Halogenidverdampfer gasdicht verbunden ist, in den während des Prozesses ein mit dem Metallhalogenid beladenes Schiffchen mit gesteuerter Geschwindigkeit zur Dosierung des Halogeniddampfes eingeführt wird und in den zur EInstellung des Reaktionsgasgemisches Wasserstoff eingeleitet wird, wobei während der Beschichtung der Gasaustritt bei leichtem Innenüberdruck gegen die Außenatmosphäre offen ist.
  • Im folgenden wird eine bevorzugte Ausführungsform des Verfahrens an Hand der Figuren erläutert. Dabei zeigt Fig. 1 schematisch eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung, Fig. 2 den Temperaturverlauf längs des Rohres, und Fig. 3 die erzielte Schichtdicke längs des Rohres.
  • Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird durch Einstellung der Abstände der Windungen der Induktionsspule und/oder durch zusätzliche Außenspülung und/oder durch Einstellung der Strömungsgeschwindigkeit zu Beginn des Verfahrens ein Temperaturverlauf eingestellt, bei dem die Temperatur von der Einleitstelle bis zur Austrittsstelle leicht absinkt, während später die Temperatur im ersten Drittel des Rohres auf einen merklich tieferen Wert eingestellt, im mittleren Drittel etwa auf oder etwas unter den Anfangswert angehoben und im letzten Drittel auf dem angehobenen Wert gehalten wird. Weiterhin kann es zweckmäßig sein, daß durch Verdünnung des Reaktionsgasgemisches mit Inertgas eine gleichmäßige Abscheidung des Refraktärmetalls aus der Gasphase erreicht wird.
  • Zur Erzielung definierter Beschichtungszonen. wird vorteilhafterweise ein Einleit- und Abdeckrohr verwendet.
  • Die Beeinflussung der Strömungsgeschwindigkeit kann durch ein Regulierventil und/oder durch den Einbau eines zentrierten Metallkerns erreicht werden, durch den der freie Rohrquerschnitt verringert wird, vorzugsweise auf 1/3 bis 1/5, und dadurch die zur Beschichtung notwendige Gasströmungsgeschwindigkeit erreicht wird.
  • Die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens enthält eine einfache, jedoch sehr zuverlässig arbeitende Dosiervorrichtung für das Metallhalogenid sowie eine Heizeinrichtung, deren Intensität längs des zu beschichtenden Rohres in einfacher Weise eingestellt werden kann.
  • Im folgenden wird eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung anhand der Figur 1 beschrieben.
  • In das zu beschichtende Rohr 1 ist oben ein Einleitrohr 4 eingesteckt, dessen Außendurchmesser geringer ist als der Innendurchmesser des zu beschichtenden Rohres, so daß zwischen ihnen ein Ringraum verbleibt. Auf das Rohr 1 ist ein 2-Stück 2 aufgesetzt, dessen seitliche Einführöffnung 21 durch ein Ventil verschließbar ist.
  • Diese Öffnung hat Verbindung mit dem Ringraum zwischen den Rohren 1 und 4. Das Rohr 1 ist von einem Schutzrohr 5 aus schweschmelzendem Glas oder Quarz umgeben und an ihren oberen Enden sind dieses Schutzrohr 5 und das beschichtete Rohr 1 über eine Dichtung 6 aus temperatur- und korrosionsbeständigem Dichtungsmaterial, z.B. einem H?FE-Band, verbunden und abgedichtet.
  • Das untere Ende des Schutzrohres 5 ist offen, so daß zwischen dem zu beschichtendem Rohr 1 und diesem Schutzrohr ein Gas frei austreten kann, das am oberen Ende dieses Schutzrohres durch eine durch ein Ventil verschließbare Leitung 22 eingeleitet werden kann Um das Schutzrohr 5 ist eine Induktionsspule 8 angeordnet, deren Windungsabstände gleichmäßig oder in vorbestimmter Weise ungleichmäßig verändert werden können. So können beispielsweise an einer beliebigen, vorbestimmten Stelle die Windungsabstände kleiner oder größer als im übrigen Teil der Spule gewählt werden. Hierzu ist åede Windung mit einem Halter 28 verbunden, der in einer Schiene 29 verschiebbar gelagert und in einer gewünschten Stellung arretierbar ist. Der obere Teil des Schutzrohres 5 ist von Heizeinrichtungen 12, 13 und 14 umgeben, die eine Vorheizzone bilden.
  • Auf dem T-Stück 2 sitzt ein Verdampfer 3, der durch nicht dargestellte Einrichtungen auf einer gewünschten Temperatur gehalten werden kann. In den Einlaß des Verdampfers 3 führt ein Rohr in dem ein Schiffchen 16 mittels einer Schubstange 20 und einer Zahnstange 17 in und aus dem heißen Teil des Verdampfers 3 be wegt werden kann. Die Bewegung wird durch einen Getriebemotor 18 über die Zahnstange 17 eingeleitet. Der Anfang dieses Rohres ist über eine Flanschdichtung 19 mit einem Kopfstück verbunden9 in das zwei durch Ventile 24 und 25 regulierbare Zuleitungen führen. Eine weitere Leitung dient zur Absaugung, wobei diese durch ein Ventil 26 ver: meßbare Leitung mit einem Absaugge bläse 15 verbunden ist.
  • Das untere Ende des zu beschichtenden Rohres 1 ist durch ein dbdeckrohr 9 verschlossen, dessen Außendurchmesser einige 1/10 mm kleiner ist als der Innendurchmesser des zu beschichtenden Rohres.
  • Das Abdeckrohr ist an seinem unteren Ende aufgeweitet und dann in das zu beschichtende Rohr eingepreßt. Das Abdeckrohr 9 enthält eine Kapillare 10, durch die soviel Wasserstoff oder Inertgas geleitet werden kann, daß die Schicht exakt endet und keine Luft durch den Preßsitz des Abdeckrohres eindringen kann. Das am Rohrende austretende überschüssige Reaktionsgas wird über einen Gaswäscher 11 abgesaugt.
  • Diese oben beschriebene Vorrichtung wird so betrieben, daß zunächst durch das Abdeckrohr Wasserstoff eingeleitet und auch das Schutzrohr mit Wasserstoff gespült wird. Anschließend wird Metallhalogenid in das Schiffchen gegeben, die Heizung eingeschaltet und durch das T-Stück Wasserstoff eingeleitet, um zu verhindern, daß eventuell verdampfendes Halogenid in das zu beschichtende Rohr gelangt. Dieser Wasserstoff wird solange über den Verdampfer abgesaugt (15), bis die erforderliche Beschichtungstemperatur erreicht ist. Das Schiffchen wird dann langsam mit vorbestimmter Geschwindigkeit in die heiße Zone des Verdampfers eingeschoben und die Hauptmenge Wasserstoff über das Schiffchen in den Verdampfer eingeleitet und durch das T-Stück nur noch soviel, daß eine Rückdiffusion des Beschichtungsgasgemisches in den nicht zu beschichtenden Teil des Rohres verhindert wird.
  • Die Induktionsheizung wird ebenfalls eingeschaltet und der Abstand der Windungen entsprechend reguliert. Nach gewisser Zeit wird ein Verdünnungsgas, z.B. Helium, zusätzlich eingeleitet und die Heizungen entsprechend nachreguliert.
  • Ein gleichmäßiges Metallhalogenidangebot im Reaktionsgas während der gesamten Beschichtungszeit wird durch folgende Anordnung erreicht: In einem Verdampfer 3 aus Reinnickel oder einem anderen korrosionsbeständigem Werkstoff wird ein mit einer bestimmten Menge Metallhalogenid gleichmäßig gefülltes Schiffchen 16 über eine Zahnstange 17 durch einen Getriebemotor 18 bewegt. Der einseitige offene Verdampfer wird nach der Beschickung mit dem gefüllten Schiffchen mit einem O-Ring-gedichteten Flansch 19 verschlossen. Durch eine ebenfalls abgedichtete Schubstange 20 wird das Schiffchen kontinuierlich von der kalten in die heiße Zone des Verdampfers geschoben.
  • Die vollständige Verdampfung der Halogenide hat gegenüber den bekannten Verfahren der Einspeisung über den Dampfdruck unterhalb des Schmelz- oder Siedepunktes den großen Vorteil, daß die Ralogenidkonzentration im Beschichtungsgasgemisch auf einfache Weise über die Vorschubgeschwindigkeit des Schiffchens im Verdampfer eingestellt werden kann.
  • Da die Halogenidverdampfung von der Schiffchenform beeinflußt wird, muß durch Verdampfungsversuche die notwendige Vorschubgeschwindigkeit ermittelt werden.
  • Zur Erzielung von gleichmäßigen, gut haftenden und duktilen Refraktarmetallschichten sind sehr reine Gase erforderlich. Es muß daher einerseits auf die Dichtigkeit der Apparatur und andererseits auf eine ausreichende Gasreinigung größtes Augenmerk gelegt werden.
  • Die gleichmäßige Schichtverteilung bei Rohren mit großem Durchmesser/Längen-Verhältnis wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren durch eine axiale Temperaturveränderung während der Beschichtung erreicht (Fig. 2). Die axiale emperaturverteilung am Beschichtungsbeginn (Fig. 2, Kurve 1) wird durch Veränderung der Windungsabstände der Induktionsspule eingestellt.
  • Im weiteren Verfahrensverlauf wird durch abgestufte Verdünnung des Reaktionsgasgemisches mittels Schutzgas und die dadurch hervorgerufene Erhöhung der Strömungsgeschwindigkeit des Reaktionsgasgemisches und zusätzlicher Erhöhung der Wasserstoffströmungsgeschwindigkeit im Schutzrohr 5 ein axialer Temperaturverlauf erreicht, wie er in Fig. 2, Kurve 2 dargestellt ist.
  • Um bei größeren Rohrquerschnitten die erforderlichen Gasmengen zu verringern, kann durch ein genau zentriertes Kernstück der freie Rohrquerschnitt reduziert werden.
  • Einzelheiten des betriebs dieser Vorrichtung sind aus den folgenden Beispielen ersichtlich.
  • Beispiel 1: Ein 2650 mm langes Edelstahlrohr mit einem Innendurchmesser von 6,6 mm und einem Außendurchmesser von 7,6 mm wird innen auf einer genau vorgeschriebenen Länge von 1100 mm mit einer ca.
  • 25,im dicken Niobschicht versehen. Die Lage der Schicht im Rohr ist ebenfalls genau vorgeschrieben. Außerhalb der beschichteten Zone darf kein Niob abgeschieden werden.
  • Das Rohr wird wie oben beschrieben in die Beheizungsvorrichtung eingebaut und mit dem Verdampfer verbunden. Durch das 2-Stück werden zu Beginn des Versuches ca. 300 l/h Wasserstoff eingeleitet und davon ca. 100 l/h über den Verdampfer abgesaugt.
  • In das Quareschiffchen werden 23 g Nach5 eingewogen und gleichmäßig verteilt. Diese Handhabung muß in einem Handschuhkasten unter trockenem Inertgas erfolgen, da das Chlorid sehr hygroskopisch ist. Danach wird das Schiffchen rasch in den Verdampfer gebracht und dieser mit dem Flansch 19 verschlossen. Die Schubstange aus Nickel wird in die Zahnstange der Vorschubeinrichtung eingelegt. Durch Das Abdeckrohr werden 120 l/h Wasserstoff geleitet und auch das Quarzhüllrohr bereits vor Beginn der Aufheizphase mit Wasserstoff gespült. Na=h dieser Spülung des gesamten Reaktionsraumes (Ventile 21-25 offen) wird die Heizung des Verdampfers, des T-Stückes und der Vorwärmzone eingeschaltet und auf folgende Temperaturen eingestellt: Verdampfer 250 0 2-Stück 250 0 Vorhzg. 1 (12) 300 °C Vorhzg. 2 (13) 400 °C Vorhzg. 3 (14) 500 00. -t Nach Erreichen der angegebenen Temperaturen wird die Induktionsheizung für das zu beschichtende Rohr eingeschaltet. Die für den Beschichtungsbeginn erforderliche axiale Temperaturver teilung im zu beschichtenden Rohrabschnitt wurde in Vorversuchen durch Veränderung der Windungsabstände der beweglichen Induktionsspule auf 790 + 10 °C eingestellt.
  • Das Ventil 26 wird nun geschlossen und 1000 l/h Wasserstoff über den Verdampfer in das System geleitet. Die über das T-Stück geleitete Wasserstoffmenge wird auf 40 l/h reduziert.
  • Das NbCl5-Schiffchen, welches sich während dieser Anfangsphase in der kalten Zone des Verdampfers befunden hat, wird nun an den Anfang der Verdampfungszone 27 gebracht und der Vorschub eingeschaltet. Die Vorschubgeschwindigkeit ist für die gesamte Abscheidungsdauer konstant 2 mm/min. Nach 20 min. wird begonnen, stufenweise Helium (innerhalb von 5 min. von 0 auf 1100 l/h) über den Verdampfer in das System zu leiten.'Durch Erniedrigung der Strömungsgeschwindigkeit der H2-Außenspülung wird die Temperatur der zu beschichtenden Rohrzone in dieser Phase konstant gehalten. Nach weiteren 10 min. wird die Heliummenge auf 1400 l/h gesteigert und die H2-AuBenspülung so verstärkt, daß im ersten Drittel der zu beschichtenden Rohrzone die Temperatur auf 760 + 10 0C sinkt. Die Endzone des Rohres bleibt konstant auf 780 + 10 po. Diese Bedingungen werden jetzt während 80 min. eingehalten. Das heißt, daß innerhalb von ca. 2 Stunden das Quarz schiffchen mit 23 g NbC15 vollständig in die heiße Verdampferzone eingeschoben und das Chlorid verdampft wird. Um zu verhindern,- daß sich Chloridreste auf der abgeschiedenen Niobschicht absetzen, wird nach der Beschichtung eine Nachreduktionszeit von 10 min. mit reinem Wasserstoff angeschlossen. Es werden dazu die gleichen Bedingungen wie zu Beginn der Beschichtung eingestellt, nämlich am Ende der Nachfahrzeit wird wieder ca.
  • 1100 l/h Helium eingeleitet und die Wasserstoffzufuhr gestoppt (Schließen der Ventile 1). Nach der Entfernung des Wasserstoffs durch das strömende Helium (Gefahr der Versprödung der Schicht durch Wasserstoff bei der Abkühlung) werden die Heizungen ausgeschaltet und das Rohr abkühlen gelassen. Die erzielte Schichtdicke ist aus Fig. 3 ersichtlich, die zeigt, daß mit diesem Beschichtungsverfahren die Einhaltung von sehr engen Schichtdickentoleranzen möglich ist.
  • Beispiel 2: Ein 1000 mm langes Stahlrohr mit einem Innendurchmesser von 85 mm und einer Wandstärke von 10 mm wird mit einer 100 jun dicken Tantalschicht versehen.
  • Das zu beschichtende Rohr wird mit einem geeigneten Reduzierstück an den Verdampfer angeschlossen und in die induktive Beheizungsvorrichtung eingebaut. 3000 g UaCl5 werden in einem Nickelschiffohen in den Verdampfer eingebracht, dieser verschlossen und wie in Beispiel 1 an die Vorschubeinrichtung angeschlossen.
  • In der Aufheizphase werden 300 l/h Wasserstoff über den Verdampfer durch das zu beschichtende Rohr geleitet. Um eine Verzunderung der Außenseite des Rohres zu vermeiden, wird zwischen Stahlrohr und Quarzhüllrohr 500 l/h Wasserstoff geleitet.
  • Nachdem die Beschichtungstemperatur von 780 0C erreicht ist, wird der Verdampfer und das Reduzierstück auf 300 oO erwärmt, das TaCl5-Schiffchen langsam in die heiße Zone des Verdampfers eingeschoben und ein Gasgemisch von 1000 l/h H2 und 1500 l/h Helium oder Argon über den Verdampfer durch das zu beschichtende Rohr geleitet. Nach 2 Stunden wird die Heliummenge auf 2000 l/h gesteigert und die Temperatur in der unteren Hälfte des Rohres auf 800 - 810 OC gesteigert. Nach weiteren 2 Stunden wird die Wasserstoffzufunr gestoppt und unter Helium abkühlen gelassen.
  • Die Abweichungen von der Soll-Schichtdicke liegen auf den gesamten Beschichtungslänge bei + 5 Jim.
  • Beispiel 3: Innenbeschichtung eines hochfesten Stahlrohres (300 mm lang, Innendurchmesser 30 mm, Wandstärke 5 mm) mit einer 50 pm starken Wolframschicht.
  • Das zu beschichtende Rohr (tiberlänge 20 mm) wird mit einem einfachen Anschlußstück mit Gewinde an einen geeigneten Gasmischbehälter angeschlossen (z.B. Verdampfer aus den vorhergehenden Beispielen). Im Innern des Rohres befindet sich ein genau zentrierter Metallkern mit einem Durchmesser von 15 mm und einer Länge von 800 mm. Dieser Kern ist an den in das zu beschichtende Rohr ragenden Gaseinleitstutzen des Anschlußstücks angeschraubt.
  • Der Eintritt des Reaktionsgasgemisches erfolgt radial durch Bohrungen in diesem Stutzen im Bereich der Uberlänge des Rohres.
  • Das zu beschichtende Rohr wird anschließend in ein Gasschutzrohr ( 50 mm, ß = 900 mm), um welches die Induktionsspule angeordnet ist, eingehängt. Dieses Schutzrohr wird mit dem Anschlußstück des Gasmischbehälters dicht verbunden (z.B. PTFE-Band).
  • In der Aufheizphase werden 100 l/h Wasserstoff durch das zu beschic-htende Rohr und ca. 100 l/h Wasserstoff oder Inertgas zwischen Glasrohr und dem zu beschichtenden Rohr durchgeleitet. Nach Erreichen der Beschichtungstemperatur von 520 OC werden 3,5 l/h WF6 und 400 l/h H2 und 800 l/h He über den Gasmischbehälter in das Rohr geleitet. Die Außenspülung mit Wasserstoff wird auf 200 l/h eingestellt. Nach einer Stunde Beschichtungszeit wird die Wasserstoffmenge im Reaktionsgas auf 600 l/h,der Heliumanteil auf 900 l/h gesteigert. Dadurch wird die Rohrtemperatur im ersten Drittel auf 500 OC gesenkt. Nach einer weiteren Stunde wird zusätzlich die Außenspülung auf 500 l/h Wasserstoff erhöht und damit die Hauptabscheidungszone in das 3. Drittel des zu beschichtenden Rohres verschoben.
  • Nach insgesamt 3 Stunden Beschichtungszeit wird die WF6 und Heliumzufuhr gestoppt und unter langsamer H2-Strömung abkühlen gelassen.
  • Die axialen Schichtdickenabweichungen betragen + 5 µm.

Claims (9)

  1. PATENTANSPRÜCHE 1. Verfahren zur Abscheidung von gleichmäßigen, festhaftenden Schichten refraktärer Metalle auf induktiv erhitzten Metallrohr-Innenflächen durch Gasphasenreduktion ihrer Halogenide mit Wasserstoff, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß das zu beschichtende Metallrohr mittels einer festen, in ihren Windungsabständen jedoch veränderlichen und justierbaren Induktionsspule erhitzt wird und dabei mit einem Halogenidverdampfer gasdicht verbunden ist, in den während des Prozesses ein mit dem Metallhalogenid beladenes Schiffchen mit gesteuerter Geschwindigkeit zur Dosierung des Halogeniddampfes eingeführt wird und in den zur Einstellung des Reaktionsgasgemisches Wasserstoff eingeleitet wird, wobei während der Beschichtung der Gasaustritt bei leichtem Innenüberdruck gegen die Außenatmosphäre offen ist.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch zusätzliche Außenspülung des (innen zu beschichtenden) Rohres mit strömendem Wasserstoff oder Inertgas während des Prozesses ein axiales Temperaturprofil entsprechend der Kurve 2 in Fig. 2 eingestellt wird, das den Erfordernissen einer gleichmäßigen Beschichtungsdicke gerecht wird.
  3. 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich durch Änderung der Strömungsgeschwindigkeit des Reaktionsgases im Innern des zu beschichtenden Rohres ein axiales Temperaturprofil (auf der Oberfläche des Rohres) entsprechend der Kurve 2 in Fig. 2 eingestellt wird, das den Erfordernissen einer gleichmäßigen Beschichtung genügt.
  4. 4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß durch Verdünnung des Reaktionsgasgemisches mit Inertgas eine gleichmäßige Abscheidung des Refraktärmetalls aus der Gasphase erreicht wird.
  5. 5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Einleit- und Abdeckrohr verwendet, um vorbestimmte Zonen eines Rohres innen zu beschichten.
  6. 6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß durch Einbau eines zentrierten Metallkerns der freie Rohrquerschnitt verringert wird, vorzugsweise auf 1/3 bis 1/5, und dadurch die zur Beschichtung notwendige Gasströmungsgeschwindigkeit erreicht wird.
  7. 7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens mit einer Zuführeinrichtung für den Netallhalogeniddampf und einer Heizvorrichtung für das zu beschichtende Rohr, dadurch gekennzeichnet, daß die Zuführeinrichtung aus einem beheizbaren Verdampfer (3) besteht, in dessen Einlaß ein Rohr mündet, in dem ein zur Aufnahme des Netallhalogenids dienendes Schiffchen (16) angebracht ist, das über eine Stange (20, 17) von einer Endstellung in einer kalten Zone vor dem Verdampfer in eine andere Endstellung verschiebbar ist, die in einer heißen Zone innerhalb des Verdampfers liegt.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7 mit einer Induktionsheizspule zur Aufheizung des zu beschichtenden Rohres, dadurch gekennzeichnet, daß die Abstände der Windungen einzeln oder in Gruppen oder insgesamt mittels einer Verstelleinrichtung einstellbar sind.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß zum Verschluß des unteren Endes des zu beschichtenden Rohres ein mit Preßsitz in das Rohr eingeschobenes Abdeckrohr (9) vorgesehen ist, in dem eine Kapillare (10) angeordnet ist, die am oberen Ende des Abdeckrohres mündet.
DE19782829568 1978-07-05 1978-07-05 Verfahren zur Abscheidung von gleichmäßigen, festhaftenden Schichten hochschmelzender Metalle auf induktiv erhitzten Metallrohr-Innenflächen durch Gasphasenreduktion sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens Expired DE2829568C2 (de)

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