DE2445564A1 - Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohren - Google Patents
Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohrenInfo
- Publication number
- DE2445564A1 DE2445564A1 DE19742445564 DE2445564A DE2445564A1 DE 2445564 A1 DE2445564 A1 DE 2445564A1 DE 19742445564 DE19742445564 DE 19742445564 DE 2445564 A DE2445564 A DE 2445564A DE 2445564 A1 DE2445564 A1 DE 2445564A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- coating
- heated
- tubes
- tantalum
- zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 title 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003708 ampul Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 abstract description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910004537 TaCl5 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
- C23C16/08—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides
- C23C16/14—Deposition of only one other metal element
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Verfahren zur Beschichtung von Innenflächen von Hohlkörpern, insbesondere von Rohren.
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Hohlkörpern, insbesondere von Rohren.
- Bei chemischen Analyseverfahren, z.B. bei der Gas-Chromatographie, werden Hohlkörper, insbesondere Rohre, mit sehr korrosionsbeständigen Innenwandungen benötigt. Man verwendet beispielsweise Rohre aus Tantal. Deren Herstellung ist jedoch verhältnismäßig schwierig und mit einem außerordentlich hohen KOstenauSwand verbunden.
- Wünschenswert ist es, wenn man derartige Rohre beispielsweise aus V2A- oder V4A-StShl herstellen könnte, und wenn diese Rohre dann innen mit Tantal beschichtet würden. Dies war bislang jedoch nicht-möglich, da sich Tantal galvanisch nicht abschaden läßt.
- Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem Innenwandungen von lIohlkörpere, insbesondere von Rohren, auch mit galvanisch nicht abscheidbaren Substanzen beschichtet werden können. Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der eingangs genannten Aufgelöst, welches erfindungsgemäß entsprechend den Kennzeichen des Patentanspruches 1 ausgebildet ist.
- Bei der Erfindung dient also ein CVD-Verfahren (chemical vapor deposition) zur Beschichtung der Innenflächen. Bei einem OVD-Verfahren werden mindestens zwei gas- oder dampfförmige Reaktanten in einen evakuierten Reaktionsaum eingegeben, wobei üich auf einem im allgemeinen beheizten Substrat ein chemisches Reaktionsprodukt der Reaktanten niedersihlägt.
- Um eine ungleichmäßige Schichtdicke zu vermeiden, diese könnte dadurch entstehen, daß in der Nühe der Öffnung des Hohlkörper3, z.B. in der Nähe des Rohrendes, eine verstärkte Abscheidung stattfindet, wird der Hohlkörper zonenweise erhitzt. Damit erfolgt eine Abscheidung nur innerhalb der erhitzten Zone. Bei Hohlkörpern aus elektrisch leitenden Materialien kann die zonenweise Erhitzung mittels einer Induktionsspule erfolgen, bei Hohlkörpern aus nicht leitenden Materialien beispielsweise mittels eines Ringbrenners oder eines Ringgebläses.
- Im folgenden werden Ausführungsbeisiele der Erfindung anhand der Figur erläutert.
- In der Figur ist dargestellt, wie ein Metallrohr 1 gemäß der Erfindung mit Tantal beschichtet werden kann. Tantal wird gemäß der folgenden Reaktion niedergeschlagen: Die Reaktizistemperatur muB dabei über 60O0C liegen. Da Tantalchlorid (TaCl5) an Luft nicht beständig ist, wird es zuvor im Vakuum von ca. 10 ' Torr in Ampullen gefüllt, die anschließend zugeschmolzen werden. Die Ahfüllmenge beträgt pro Ampulle ca. 1 bis 3 Gramm.
- In der Figur wird nun das zu beschichtende Rohr mit zwei Flanschen 31 32 vakuumdicht verbunden und evakuiert. Die Vakuumpumpe ist nicht dargestellt, die Pumprichtung ist durch Pfeile 10, 11 angedeutet. über den Flansch 31 kann Wasserstoff in das Rohr 1 eingefüllt werden. Innerhalb dieses Flansches befindet sich eine Ampulle 33 mit antalchlorldO Diese Ampulle kann, z.B. mittels eines Magneten 34, zerstört werden, so daß Tantalchlorid vom Wasserstoffstrom in das Rohr 1 befördert wird, d.h. der lYasserstoffstrom stellt oinen Trägergasstrom dar.
- Vor Zerstörung der Ampulle wird das Rohr 1 auf ca. 10-5 Torr evakuiert. Dann wird das Rohr mit Wasserstoff geflutet, bis sich ein Druck von ca. 400 Torr einstellt, im Flansch 31 ist der Wasserstoffdruck höher, z.B. 780 Torr. Durch den geringen Unterdruck im Rohr 1, bzw. im Flansch 32, erreicht man einen hinreichend gleichmäßigen Wasserstoffstrom durch das Rohr 1.
- Jetzt wird die Ampulle zerstört, damit wird Tantalohlorid durch das Rohr 1 gesaugt. Mittels einer Heizung, æ.B. ein Heizband, kann das Tantalchlorid vorgeheizt werden. Mittels der beweglichen Induktionsspule 5, die an eine entsprechende Wechselspannungsquelle unschließbar ist, kann das Rohr 1 zonenweise auf ca. 6000C bis 80000 erhitzt werden. Damit schlägt sich nun auf den Rohrinnenwänden Tantal im Bereiche der erhitzten Zone nieder. Wird das Tantalchlorid mittels der Heizung 36 auf ca. 12000 erhitzt, so scheidet sich bei einer Strömung des Wasserstoffstromes von ca. 1 l/min bei einem Rohrdurchmesser von ca. 1,5 mm in ca. 3 Minuten eine Tantalschicht mit einer Dicke von ca. 100 nm ab.
- In der Figur ist das zu beschichtende Rohr 1 in einem elektrisch nicht leitenden B5antelrohr 4, das z.B. aus Quarzglas besteht, angeordnet. Durch dieses Mantelrohr kann über zwei Öffnungen ein Schutzgas, z.B. Argon oder Stickstoff, geleitet werden, dadurch wird ein Oxidieren der Außenflächen des Rohres 1 auf Grund der hohen Abscheidetemperaturen verhindert. Der Schutzgasstrom ist durch die Pfei.le 41, 42 angedeutet.
- Das Verfahren gemäß der Erfindung ermöglicht es vorteilhafterweise auch die Beschichtung der Rohrinnenwande bei sehr engen Rohren, z.B. ist auch die Innenbeschichtung von Kapillaren mit einem Innendurchmesser von-0,1 mm leicht möglich.
- Vorteilhafterweise wird mit dem Verfahren der Erfindung eine sehr gut haftende, dichte Tantalschicht sehr gleichmäßiger Dicke erreicht.
- Mit dem Verfahren gemäß der Erfindung können vorteilhafterweise auch andere Beschichtungen hergestelLt werden, z.B. Nickel-, Kupfer-, Uitan-, tIolybdan- und Wolframschichten, aber auch Karbid-, Nitrid- und Oxidschichten. Diese Oberflächen werden durch Zersetzung von Metall-Aetylacetonaten, Carbonylen und Halogeniden hergestellt. Auch in diesen Fällen wird durch das zonenweise Erhitzen des zu beschichtenden Hohlkörpers eine Beschichtung sehr gleichmäßiger Dicke erreicht.
- Beispielsweise können die folgenden Reaktionen ausgenutzt werden.
- Der jeweils auf der linken Seite der Reaktionsgleichungen zuerst genannte Stoff befindet sich dabei in der Ampulle 33. Der senkrechte Pfeil # hinter einem Element bzw. einer Verbindung bedeutet, daß dieser Stoff auf dem Hohlkörper abgeschieden wird.
- 2 ist jeweils die Abscheidetemperatur, auf die der Hohlkörper zonenweise erhitzt wird.
- Co(C5H7O2)2 + Wasserstoff Co # + Aceton + Kohlenwasserstoffe T = 350°C Cr(05X702)2 + Wasserstoff Cr-Karbid # + Aceton + Eohlenwasserstoffe T = 60000 Al(C5H702)2 1- Wasserstoff Al-Oxid # + Acoton + Kohlenwasserstoffe T = 4000C statt Wasserstoff kann hier auch ein Gemisch aus Wasserstoff und Stickstoff verwandt werden.
- 2 + Wasserstoff + Methan T = 9000C TiC # + HCL ES ist ersichtlich, daß es nur auf die Re@@tivbewegung des zu beschichtenden HohLkörpers gegenüber der Indukti.onsspuSe 5 bzw. gegenüber dem Ringbrenner oder dem Ringgebläse ankommt.
- In der Figur ist duch Pfeile symbolisiert, daß die Induktionsspule 5 bewegt wird. Ebenso ist es möglich, das Rohr 1 mit den Planschen 31, 32 gegenüber der Induktionsspule zu bewegen.
- 4 Patentansprüche 1 Figur
Claims (4)
- Patentansprüche 1. Verfahren zur Beschichtung von Hohlkörpern, insbesondere von Rohren, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß ein CVD-Verfahren (chemical vapor deposition) angewandt wird, daß die Hohlkörper zonenweise auf eine Abscheidetemperatur erhitzt werden, so daß nur auf den jeweils erhitzten Zonen die Beschichtung erfolgt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß Metall-Acetylacetonate, Metall-Carbonyle oder Metall-Ilalogenide in einem Trägergasstrom zersetzt werden
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t , daß Innenflächen von Rohren (1) mit Tantal beschichtet werden9 wobei nach Evicuierung dieses Rohres ein Wasserstoffstrom durch das Rohr gesaugt wird, daß diesem Wasserstoffstrom aus einer zerstörbaren Ampulle (33) Tantalchlorid (TaCl5) beigemengt wird, und daß dieses Rohr zonenweise mittels einer Heizung (5) auf eine Abscheidetemperatur T>60000 erhitzt wird.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t , daß jeweils Rohrabschnitte von einer Länge zwischen 1 cm -5 cm auf die Abscheidetemperatur erhit-st werden.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19742445564 DE2445564A1 (de) | 1974-09-24 | 1974-09-24 | Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19742445564 DE2445564A1 (de) | 1974-09-24 | 1974-09-24 | Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohren |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2445564A1 true DE2445564A1 (de) | 1976-04-01 |
Family
ID=5926592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19742445564 Withdrawn DE2445564A1 (de) | 1974-09-24 | 1974-09-24 | Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohren |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2445564A1 (de) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2718518A1 (de) * | 1977-04-26 | 1978-11-02 | Siemens Ag | Verfahren zum abscheiden einer schicht auf der innenseite von hohlraeumen eines werkstueckes |
| DE2829568A1 (de) * | 1978-07-05 | 1980-01-31 | Hermann C Starck Berlin Werk G | Verfahren zur gleichmaessigen abscheidung von refraktaermetallschichten in rohren aus der gasphase, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| FR2431548A1 (fr) * | 1978-07-17 | 1980-02-15 | Ch Gi | Installation pour la cementation au gaz de surfaces cylindriques interieures |
| DE3141567A1 (de) * | 1981-10-20 | 1983-05-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum herstellen von schichten aus hochschmelzenden metallen bei niedrigen substrattemperaturen |
| US4411861A (en) * | 1977-08-19 | 1983-10-25 | Kraftwerk Union Aktiengesellschaft | Method for protecting the casing tubes of nuclear reactor fuel rods |
| EP0770702A1 (de) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | DECHEMA Deutsche Gesellschaft für Chemisches Apparatewesen, Chemische Technik und Biotechnologie e.V. | Verfahren zur Erhöhung der Korrosionsbeständigkeit von Legierungen auf der Basis TiAl |
| DE19959845B4 (de) * | 1998-12-10 | 2012-11-29 | Stefan Laure | Plasmagenerator |
| DE102014019238A1 (de) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Hochschule München | Beschichtung der Innenwandung von schlauchförmigen Substraten |
| EP3009210A4 (de) * | 2013-06-13 | 2017-01-25 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Ta-pulver, herstellungsverfahren dafür und granuliertes ta-pulver |
-
1974
- 1974-09-24 DE DE19742445564 patent/DE2445564A1/de not_active Withdrawn
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2718518A1 (de) * | 1977-04-26 | 1978-11-02 | Siemens Ag | Verfahren zum abscheiden einer schicht auf der innenseite von hohlraeumen eines werkstueckes |
| FR2388895A1 (fr) * | 1977-04-26 | 1978-11-24 | Siemens Ag | Procede de depot d'une couche sur la face interne de cavites d'une piece |
| US4411861A (en) * | 1977-08-19 | 1983-10-25 | Kraftwerk Union Aktiengesellschaft | Method for protecting the casing tubes of nuclear reactor fuel rods |
| DE2829568A1 (de) * | 1978-07-05 | 1980-01-31 | Hermann C Starck Berlin Werk G | Verfahren zur gleichmaessigen abscheidung von refraktaermetallschichten in rohren aus der gasphase, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| FR2431548A1 (fr) * | 1978-07-17 | 1980-02-15 | Ch Gi | Installation pour la cementation au gaz de surfaces cylindriques interieures |
| DE3141567A1 (de) * | 1981-10-20 | 1983-05-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum herstellen von schichten aus hochschmelzenden metallen bei niedrigen substrattemperaturen |
| EP0770702A1 (de) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | DECHEMA Deutsche Gesellschaft für Chemisches Apparatewesen, Chemische Technik und Biotechnologie e.V. | Verfahren zur Erhöhung der Korrosionsbeständigkeit von Legierungen auf der Basis TiAl |
| DE19959845B4 (de) * | 1998-12-10 | 2012-11-29 | Stefan Laure | Plasmagenerator |
| EP3009210A4 (de) * | 2013-06-13 | 2017-01-25 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Ta-pulver, herstellungsverfahren dafür und granuliertes ta-pulver |
| DE102014019238A1 (de) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Hochschule München | Beschichtung der Innenwandung von schlauchförmigen Substraten |
| DE102014019238B4 (de) * | 2014-12-19 | 2026-01-22 | Hochschule München | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung einer Innenwandung eines schlauchförmigen Substrats |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3687720T2 (de) | Verfahren zum herstellen multimetallischer ueberzuege aus amorphen legierungen. | |
| EP0887438B1 (de) | Verfahren zur Oberflächenvergütung innerer Oberflächen von Hohlkörpern und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
| DE2445564A1 (de) | Verfahren zur beschichtung von innenflaechen von hohlkoerpern, insbesondere von rohren | |
| DE2718518C3 (de) | Verfahren zum Abscheiden einer Schicht auf der Innenseite von Hohlräumen eines Werkstückes | |
| DE2330545B2 (de) | Verfahren und vorrichtung zum abscheiden von karbiden durch bedampfen | |
| DE19929184A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren für das Aufbringen von diamantartigem Kohlenstoff (DLC) oder anderen im Vakuum abscheidbaren Materialien auf ein Substrat | |
| DE3738993A1 (de) | Verfahren zur glimmentladungsaktivierten reaktiven abscheidung von metall aus einer gasphase | |
| US3031338A (en) | Metal deposition process and apparatus | |
| DE2523257A1 (de) | Verfahren zur gleichzeitigen beschichtung der innenflaechen mehrerer rohre mit tantal | |
| DE3516078A1 (de) | Verfahren zur glimmentladungsaktivierten reaktiven abscheidung von elektrisch leitendem material aus einer gasphase | |
| DE19958474A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle | |
| DE3141567C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von aus Tantal, Wolfram oder Molybdän bestehenden Schichten bei niedrigen Temperaturen und Verwendung dieser Schichten | |
| DE1925929A1 (de) | Verfahren zum chemischen Niederschlagen von relativ dicken Schichten aus isotropem Bornitrid aus dem Dampf | |
| EP2145977A2 (de) | Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat | |
| DE69028771T2 (de) | Verfahren zum Herstellen selbsttragender Formkörper aus feuerfestem Metall | |
| EP1427265A2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrates und Beschichtung auf einem Substrat | |
| DE1954366B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von harten UEberzuegen aus Titan- und/oder Tantalverbindungen | |
| EP0320706B1 (de) | Verfahren zur Herstellung korrosions-, verschleiss- und pressfester Schichten | |
| EP1994198A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten einer innenflaeche einer hohlen endlosgeometrie, insbesondere eines rohres | |
| WO2012034605A1 (de) | Brenner | |
| DE1621280C2 (de) | Gasplattierverfahren zur Herstellung von harten Überzügen | |
| AT399726B (de) | Einrichtung zur aufbringung diamantartiger kohlenstoffschichten auf ein substrat | |
| DE10341020B4 (de) | Verfahren zum Innenbeschichten von Hohlkörpern | |
| DE102016100625A1 (de) | Vorrichtung zum Bereitstellen eines Prozessgases in einer Beschichtungseinrichtung | |
| DE19959845B4 (de) | Plasmagenerator |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OI | Miscellaneous see part 1 | ||
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |