[go: up one dir, main page]

DE2840459A1 - Verfahren zur herstellung hochreiner kieselsaeure - Google Patents

Verfahren zur herstellung hochreiner kieselsaeure

Info

Publication number
DE2840459A1
DE2840459A1 DE19782840459 DE2840459A DE2840459A1 DE 2840459 A1 DE2840459 A1 DE 2840459A1 DE 19782840459 DE19782840459 DE 19782840459 DE 2840459 A DE2840459 A DE 2840459A DE 2840459 A1 DE2840459 A1 DE 2840459A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alkali metal
silica
metal silicate
reaction mixture
purity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19782840459
Other languages
English (en)
Other versions
DE2840459C2 (de
Inventor
Helmut V Dipl Chem Dr Freyhold
Wolfgang Dipl Chem D Friedmann
Alfred Dr Koester
Wolfgang Pesch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Henkel AG and Co KGaA
Original Assignee
Henkel AG and Co KGaA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Henkel AG and Co KGaA filed Critical Henkel AG and Co KGaA
Priority to DE2840459A priority Critical patent/DE2840459C2/de
Priority to GB7929421A priority patent/GB2029815B/en
Priority to US06/071,122 priority patent/US4264564A/en
Priority to JP11741279A priority patent/JPS5542294A/ja
Publication of DE2840459A1 publication Critical patent/DE2840459A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2840459C2 publication Critical patent/DE2840459C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/126Preparation of silica of undetermined type
    • C01B33/128Preparation of silica of undetermined type by acidic treatment of aqueous silicate solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Description

Henkelstraße 6j HENKELKGaA
4000 Düsseldorf, den 8. September 1978 ZR-FE/Patente
Dr. Zt/Pe
Patentanmeldung D 5842
"Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure"
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung hochreiner, körniger Kieselsäure aus wäßrigen Alkalimetallsilikatlösungen durch Ansäuern derselben, Ausfrieren und anschließendem Wiederauftauen des Reaktionsgemisches sowie Filtrieren, Waschen und Trocknen des unlöslichen Rückstandes. Die so gewonnene Kieselsäure kann aufgrund ihres hohen Reinheitsgrades als Rohstoff zur Herstellung von Quarzglas Verwendung finden.
Zur Herstellung von Quarzglas kommen im allgemeinen nur solche Rohstoffe in Frage, die einen sehr hohen Reinheitsgrad aufweisen, da Verunreinigungen des Ausgangsmaterials die Eigenschaften des erzeugten Quarzglases erheblich beeinträchtigen. Als Rohstoff verwendet
/2 030013/0347
Patentanmeldung D 584-2 2? HENKELKGaA
U ZR-FE/Patente
man üblicherweise Bergkristall, der zu mindestens 99*7 % aus SiOp besteht und vorwiegend aus Brasilien oder Madagaskar importiert wird. Die Analyse eines brasilianischen Bergkristalls ergab beispielsweise die folgende Zusammensetzung:
99,750 % SiO2
0,024 % Al2O
0,020 % Fe2O
Ό,002 % TiO2
0,013 % CaO.
(C. Döhler, Sprechsaal für Keramik, Glas, Email, Silikate, (1966) 960 - 965)·
Der durch die Entwicklung der Technik bedingte, steigende Bedarf an Quarzglas zwingt zur Suche nach anderen Rohstoffen, die den Bergkristall zu ersetzen vermögen, hinsichtlich ihres Reinheitsgrades diesem jedoch nicht nachstehen bzw. diesen sogar noch übertreffen. Als Ersatz für den Bergkristall können beispielsweise Kieselsäuren dienen, die sich bekanntlich aus Wasserglaslösungen gewinnen lassen. Doch weisen die handelsüblichen Wassergläser einen zu hohen Grad an Verunreinigungen auf, deren Eliminierung bislang nur durch technisch aufwendige Maßnahmen, zum Beispiel durch Elektrolyse, Dialyse, Elektrodialyse, Ionenaustausch, Extraktionsverfahren etc. ermöglicht werden konnte.
In der DE-AS 12 68 122 wird ein Verfahren zur Herstellung von zweidimensionaler (lepidoider) Kieselsäure aus Wasserglaslösungen beschrieben. Hierbei gießt man eine verdünnte Wasserglaslösung zu einer vorgelegten Mineralsäure, vorzugsweise Schwefelsäure, bis der pH-Wert des
030013/0347
2840453
Patentanmeldung D 5842 jf^ HENKELKGaA
S ZR-FE/Patente
Reaktionsgemisches auf 4,4 bis 4,8 eingestellt ist. Anschließend wird das Reaktionsgemisch eingefroren und wiederaufgetaut, die gebildete unlösliche Kieselsäure von der Lösung abgetrennt, ausgewaschen und getrocknet.
In der Auslegeschrift wird die nach diesem Verfahren gewonnene Kieselsäure als "rein" bezeichnet. Diese Kieselsäure weist jedoch den Nachteil auf, daß sie noch größere Mengen an Verunreinigungen in Form von Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen enthält, die sich durch bloßes Auswaschen nicht entfernen lassen (vergleiche Tabelle l). Zudem erfordert dieses Verfahren die Einhaltung eines relativ engen pH-Bereiches sowie die Verwendung stark verdünnter Wasserglaslösungen.
Aufgrund der erwähnten Verunreinigungen erscheint eine auf diese Weise gewonnene Kieselsäure als Ersatz für den Bergkristall zur Herstellung von Quarzglas wenig geeignet.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es daher, ein Verfahren zur Herstellung von hochreiner Kieselsäure aus Wasserglaslösungen zu entwickeln, die'hinsichtlich ihres Gehaltes an Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen mit Bergkristall vergleichbar ist bzw. diesen an Reinheit übertrifft .
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur Herstellung hochreiner, körniger Kieselsäure aus wäßrigen Alkalimetallsilikatlösungen durch Ansäuern derselben, Ausfrieren und anschließendem Wiederauftauen des Reaktionsgemisches sowie Filtrieren, Waschen und Trocknen des unlöslichen Rückstandes, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man konzentrierte oder verdünnte Al-
J50 kalimetallsilikatlösungen, die ein Molverhältnis
030013/03A7
Patentanmeldung D 5842 jf HENKELKGaA
£ ZR-FE/Patente
: Me2O von 2 : 1 bis 20 : 1 aufweisen, wobei Me ein Alkalimetall bedeutet, vor dem Ausfrieren mit Hilfe von mindestens einer Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen komplexierenden, in Wasser gelösten oder suspendierten organischen Säure auf einen pH-Wert im Bereich von 2,5 bis 6 sowie auf einen Gehalt an 1 bis 10 Gew.-% SiOp einstellt, mit Ausnahme solcher Säuren, die unter den Verfahrensbedingungen keine löslichen Alkalimetallsalze bilden.
Es wurde nämlich.gefunden, daß die Verwendung von Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen komplexierenden organischen Säuren unter den angeführten Verfahrensbedingungen zu einer hochreinen körnigen Kieselsäure führt, deren Reinheitsgrad mit dem des Bergkristalls durchaus vergleichbar ist bzw. diesen noch übertrifft (vergleiche Tabelle l). Darüber hinaus erleichtert die körnige Struktur der erfindungsgemäß hergestellten Kieselsäure den Verfahrensablauf hinsichtlich des Abtrennens der Mutterlauge durch Filtration sowie des Auswaschens löslicher Salze.
Für das erfindungsgemäße Verfahren können sowohl verdünnte als auch konzentrierte Alkalimetallsilikatlösungen, d.h. Wasserglaslösungen, mit einem Molverhältnis SiO2 : ΜβρΟ im Bereich von 2 : 1 bis 20 : 1 Verwendung finden. Als Alkalimetall Me kommt hierbei vorzugsweise Natrium oder Kalium in Frage. Wassergläser mit einem Molverhältnis SiO2 : Me2O von größer als 4 bedürfen eines stabilisierenden Zusatzes, beispielsweise in Form einer wasserlöslichen mono- und/oder polyquartären Stickstoffverbindung, die am quartären Stickstoffatom mindestens eine hydroxylgruppenfreie Alky!gruppe-aufweist. Derartige Stabilisierungsmittel für beständige alkaliärmere Wasserglaslösungen sind "zum Beispiel in der DE-OS 16 67 538 beschrieben.
030013/0347
Patentanmeldung D 5842 ¥ HENKELKGaA
• - - t\. ZR-FE/Patente
Bevorzugt im Sinne des erfindungsgemäßen Verfahrens sind Alkalimetallsilikatlösungen mit Molverhältnissen SiO2 : Me2O im Bereich von 3,5 bis 4:1. Dieser Bereich umfaßt die handelsüblichen Wasserglaslösungen mit dem niedrigsten Alkaligeha.lt, die gegebenenfalls auch unverdünnt eingesetzt werden können.
Zweckmäßigerweise läßt man die Alkalimetallsilikatlösung unter stetigem Rühren langsam in die vorgelegte, in Wasser gelöste oder suspendierte Säure einfließen. Das Vermischen der beiden Komponenten kann ohne Nachteil bei Raumtemperatur erfolgen; höhere Temperaturen sind im allgemeinen mit Rücksicht auf das nachfolgende Einfrieren des Reaktionsgemisches nicht zweckdienlich.
Im Hinblick auf den erwünschten hohen Reinheitsgrad des Endproduktes ist es unbedingt von Vorteil, zum Verdünnen der Wasserglaslösung und/oder zum Lösen bzw. Suspendieren der vorgelegten Säure ausschließlich destilliertes oder entionisiertes Wasser zu verwenden. Die Gesamtmenge des hierfür eingesetzten Wassers ist in jedem Falle so zu bemessen, daß das resultierende Reaktionsgemisch insgesamt einen SiO2-Gehalt im Bereich von 1 bis 10 Gew.-% aufweist. Auf diese Weise läßt sich eine vorzeitige unerwünschte Bildung von Kieselgelen im Reaktionsgemisch unterbinden. Beispielsweise lassen sich handelsübliche Alkalimetallsilikatlösungen mit einem Feststoffgehalt von weniger als 35 Gew.-^ auch unverdünnt einsetzen. In diesem Falle kann die entsprechende Menge an Wasser, die zur Einstellung des SiOg-Gehaltes im Reaktionsgemisch erforderlich ist, ausschließlich zum Lösen bzw. Suspendieren der vorgelegten Säure dienen.
/6 030013/0347
Patentanmeldung D 5842 ff HENKELKGaA
O ZR-FE/Patente
Vorzugsweise wird der SiOp-Gehalt des Reaktionsgemisches auf 5 bis 7 Gew.-^ eingestellt, da der Gehalt an Verunreinigungen im Endprodukt im allgemeinen mit steigender SiOp-Konzentration im Reaktionsgemisch anwächst. Geringere SiO2-Konzentrationen im Reaktionsgemisch hingegen bedingen größere Flüssigkeitsmengen, die wiederum einen erhöhten technischen Aufwand erfordern.
Mit dem Eingießen der Alkalimetallsilikatlösung .in die vorgelegte Säure erfolgt gleichzeitig die Einstellung des pH-Wertes im Reaktionsgemisch auf den Bereich von 2,5 bis 6. Zweckmäßigerweise verfolgt man hierbei die Änderung des pH-Wertes mit Hilfe eines geeigneten pH-Meters .
Im Interesse eines möglichst hohen Reinheitsgrades sowie einer optimalen Korngröße der gebildeten Kieselsäure ist es von Vorteil, das Reaktionsgemisch auf pH-Werte im Bereich von 3 bis 5 einzustellen.
Zum Ansäuern der Alkalimetallsilikatlösung kommen bei dem erfindungsgemäßen Verfahren nur solche organische Säuren in Frage, die Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen komplex zu binden vermögen. Hierzu können sowohl in Wasser lösliche als auch unlösliche Säuren Verwendung finden. Von wesentlicher Bedeutung ist jedoch, daß diese Säuren - ob löslich oder unlöslich - unter den angeführten Verfahrensbedingungen lösliche Alkalimetallsalze zu bilden vermögen, die sich aus der Kieselsäure durch Auswaschen entfernen lassen. Unlösliche Alkalimetallsalze werden beim nachfolgenden Ausfrieren von der Kieselsäure eingeschlossen und verbleiben somit als Verunreinigung im Endprodukt.
/7 030013/0347
Patentanmeldung D 5842 / HENKELKGaA
§ ZR-FE/Patente
Die Auswahl einer geeigneten Säure erfolgt zweckmäßigerweise indem man das erfindungsgemäße Verfahren mit der jeweiligen Säure durchführt und die so gewonnene Kieselsäure hinsichtlich ihres Gehaltes an Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen analysiert. Eine solche Analyse kann zum Beispiel durch photometrische Bestimmung der genannten Ionen nach Abrauchen der Kieselsäure mit Plußsäure erfolgen. Organische Säuren, die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignet sind, können beispielsweise aus der Gruppe der Aminopolycarbonsäuren, der Polycarbonsäuren, wozu auch Carboxylgruppen enthaltende Polymerisate und Copolymerisate zählen, der Ethergruppen enthaltenden Polycarbonsäuren sowie auch der Phosphonsäuren ausgewählt werden. Derartige Säuren können neben Carboxylgruppen noch substituierte oder umsubstituierte Hydroxylgruppen sowie gegebenenfalls weitere Substituenten aufweisen.
Unter den vorstehend genannten organischen Säuren sind die Phosphonsäuren eine zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besonders geeignete Gruppe. Insbesondere kommen hierzu solche Phosphonsäuren in Betracht, die mindestens eine Hydroxyl- und/oder Aminogruppe enthalten, beispielsweise l-Hydroxyethan-l,l-diphosphonsäure, Aminotrimethylenphosphonsäure oder Ethylendiamintetramethylenphosphonsäure. Aus der Gruppe dieser Säuren wird die 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure bevorzugt für das Verfahren gemäß der Erfindung eingesetzt, da sich mit dieser Säure ausgezeichnete Ergebnisse hinsichtlich des Reinheitsgrades der gewonnenen Kieselsäure erzielen
JO lassen.
Nach Einstellen des erwünschten pH-Wertes und SiO^-Gehaltes wird das erhaltene Reaktionsgemisch mit Hilfe einer geeigneten Kühleinrichtung eingefroren. Dieses
/8 030013/0347
Patentanmeldung D 5842 & HENKELKGaA
S[ Q ZR-FE/Patente
Einfrieren kann zum Beispiel chargenweise in Blocks oder auch kontinuierlich in Form dünner Filme erfolgen. Die Dauer sowie die zum Einfrieren anzuwendenden Temperatüren hängen von der Dimensionierung des zum Einfrieren verwendeten Gefäßes bzw. vom Volumen des einzufrierenden Reaktionsgemisches ab. Von Bedeutung ist hierbei lediglich, daß das gesamte flüssige Reaktionsgemisch in einen Festkörper überführt wird, d.h. vollständig durchfroren ist.
Anschließend wird der erhaltene Festkörper wieder aufgetaut, gegebenenfalls unter Anwendung erhöhter Temperaturen. Die gebildete körnige Kieselsäure läßt sich mit Hilfe geeigneter Filtriereinrichtungen leicht von der Mutterlauge abtrennen. Der erhaltene unlösliche Rückstand wird zweckmäßigerweise mehrfach mit einer verdünnten wäßrigen Lösung der verwendeten Säure sowie anschließend mehrfach mit destilliertem oder entionisiertem Wasser ausgewaschen. Die gewonnene hochreine Kieselsäure wird - gegebenenfalls bei erhöhter Temperatur - getrocknet.
Aufgrund des hohen Reinheitsgrades kann die erfindungsgemäß hergestellte Kieselsäure als Ausgangsmaterial zur Gewinnung von Quarzglas Verwendung finden. Darüber hinaus kommt eine solche hochreine Kieselsäure insbesondere für alle diejenigen Anwendungszwecke in Frage, bei denen besondere Reinheitsanforderungen an Kieselsäure gestellt werden, zum Beispiel zur Herstellung von Spezialgläsern, als Katalysatorträger, als Hilfsmittel in der Nahrungsmittelindustrie sowie als Zusatz zu pharmazeutischen und kosmetischen Produkten.
In den nachfolgenden Beispielen wird die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens näher erläutert«
/9 030013/0347
Patentanmeldung D 5842 jf HENKELKGaA
- * ZR-FE/Patenle
ΛΛ
Beispiel 1
3>8,2 g einer 60 ^igen wäßrigen Lösung von 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure werden mit J56l,8 g entionisiertem Wasser verdünnt. Zu dieser Lösung werden 124 g eines handelsüblichen Natronwasserglases (Molverhältnis SiOp : Na2O = 5,97; Gesamtfeststoffgehalt 28,1 %) unter stetigem Rühren langsam zugegeben. Das resultierende Reaktionsgemisch weist einen SiOg-Gehalt von 5,28 % sowie einen pH-Wert von 4,7 auf.
Dieses Reaktionsgemisch wird in einem verschließbaren 1 1-Kunststoffgefäß über 24 Stunden bei einer Temperatur von -2O0C in einer Kühltruhe gelagert. Das vollständig gefrorene Gemisch wird anschließend in einem Warmwasserbad (60 C) aufgetaut und der verbliebene feste Bodensatz über eine Nutsche abgesaugt. Der unlösliche Rückstand wird fünfmal mit je 15O ml einer 0,5 ^igen wäßrigen Lösung der 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure und danach dreimal mit je 15O ml entionisiertem Wasser gewaschen. Nach dem Trocknen bei 104°C verbleibt ein Rückstand von 29j6 g hochreiner körniger Kieselsäure.
Beispiel 2
52 g einer 50 #igen wäßrigen Lösung von Aminotrimethylenphosphonsäure werden mit 48 g entionisiertem Wasser verdünnt. Zu dieser Lösung werden 126,4 g Natronwasserglas (analog Beispiel l), verdünnt mit 5O6 g entionisiertem Wasser, unter Rühren langsam zugegeben. Das resultierende
/10 0 30 013/03 kl
Patentanmeldung D 5842 yC HENKELKGaA
% ZR-FE/Patente
Reaktionsgemisch weist einen SiO2-Gehalt von 5>29 % sowie einen pH-Wert von 4,5 auf. Dieses Reaktionsgemisch wird in einer flachen Schale über 24 Stunden bei -5°C gelagert. Die Aufarbeitung des vollständig gefrorenen Gemisches erfolgt wie in Beispiel 1 angegeben. Die Ausbeute an Kieselsäure beträgt 29,8 g.
Beispiel 3
52,6 g Ethylendiamintetramethylenphosphonsäure werden in 6j,h g destilliertem Wasser suspendiert. Zu dieser Suspension wird eine Lösung von 125 g Natronwasserglas (analog Beispiel l) in JOQ g entionisiertem Wasser unter Rühren langsam zugegeben. Das resultierende Reaktionsgemisch weist einen SiOg-Gehalt von 5,31 % SiO2 sowie einen pH-Wert von 4,42 auf. Die weitere Aufarbeitung erfolgt wie in Beispiel 1 angegeben. Die Ausbeute an Kieselsäure beträgt 28,4 g.
Beispiel 4
63>2 g Ethylendiamintetramethylenphosphonsäure werden in 136,8 g entionisiertem'Wasser suspendiert. Zu dieser Suspension wird eine Lösung von 187,06 g Natronwasserglas (analog Beispiel l) in 396,44 g entionisiertem Wasser unter Rühren langsam zugegeben. Das resultierende Reaktionsgemisch weist einen SiO2-Gehalt von 5,31 % sowie einen pH-Wert von 3*06 auf. Die weitere Aufarbeitung erfolgt wie in Beispiel 1 angegeben. Die Ausbeute an Kieselsäure beträgt 40 g
/11 03 0 0 13/0347
Patentanmeldung D 584-2
HENKELKGaA ZR-FE/Patente
Beispiel 5
94,8 g Ethylendiamintetramethylenphosphonsäure werden in 1296 g entionisiertem Wasser suspendiert. Zu dieser Suspension wird eine Lösung von 375 g Natronwasserglas (analog Beispiel l) in 6OO g entionisiertem Wasser unter Rühren langsam zugegeben. Das resultierende Reaktionsgemisoh weist einen SiOg-Gehalt von 1 % sowie einen pH-Wert von 4,39 auf. Das Ausfrieren erfolgt bei -20°C über 56 Stunden in einem 12 1-Kunststoffgefäß; die weitere Aufarbeitung analog Beispiel 1. Die Ausbeute an Kieselsäure beträgt 79.» 1 6·
Die nachstehende Tabelle 1 zeigt die Analysenergebnisse der nach den Beispielen 1 bis 5 gewonnenen Kieselsäuren bezüglich des' Gehaltes an Aluminium-, Eisen- und Titan-Ionen. Ferner enthält sie die entsprechenden Analysenwerte des verwendeten Wasserglases (Stückenglas), einer nach Beispiel 2 der DE-AS 12 68 122 gewonnenen Kieselsäure (Vergleichsbeispiel) sowie des brasilianischen Bergkristalls.
Tabelle 1: Analysenwerte (ppm)
Al Fe Ti
Beispiel 1 13 54 ^l
Beispiel 2 39 55 •u
Beispiel 3 45 60 <:l
Beispiel 4 11 50 <1
Beispiel 5 35 53 <1
Bergkristall 127 l40 12
Vergleichsbeispiel 100 274 200
Stückenglas 582 294 207
030013/0347

Claims (6)

284Ü459 Patentanmeldung D 5842 1 HENKELKGaA ZR-F£>Patente "Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure" Patentansprüche;
1. Verfahren zur Herstellung hochreiner, körniger Kieselsäure aus wäßrigen Alkalimetallsilikatlösungen durch ' Ansäuern derselben, Ausfrieren und anschließendem Wiederauftauen des Reaktionsgemisches sowie Filtrieren, Waschen und Trocknen des unlöslichen Rückstandes, dadurch gekennzeichnet, daß man konzentrierte oder verdünnte Alkalimetallsilikatlösungen, die ein MoI-verhältnis SiO2 : Me3O von 2 : 1 bis 20 : 1 aufweisen, wobei Me ein Alkalimetall bedeutet, vor dem Ausfrieren mit Hilfe von mindestens einer Aluminium-, Titan- und Eisen-Ionen komplexierenden, in Wasser gelösten oder suspendierten organischen Säure auf einen pH-Wert im Bereich von 2,5 bis 6 sowie auf einen Gehalt an 1 bis 10 Gew.-% Si02 einstellt, mit Ausnahme solcher Säuren, die unter den Verfahrensbedingungen keine löslichen Alkalimetallsalze bilden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man Alkalimetallsilikatlösungen, die ein Molverhältnis SiO2 : Me2O von 3,5 : 1 bis 4 : 1 aufweisen, verwendet.
J5. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Alkalimetallsilikatlösungen auf einen pH-Wert im Bereich von 5 bis 5 einstellt.
4. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Alkalimetallsilikatlösung auf einen Gehalt an 5 bis 7 Gew.-^ SiO3 einstellt.
/2 030013/0347
Patentanmeldung D 5842 2 HENKELKGaA
ZR-FE/Patente
5· Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man das Einstellen des pH-Wertes mit Hilfe einer Phosphonsäure vornimmt, vorzugsweise einer Phosphonsäuren die mindestens eine Hydroxyl- und/oder Aminogruppe enthält.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß man als Phosphonsäure 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure verwendet.
030013/0347
DE2840459A 1978-09-16 1978-09-16 Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure und deren Verwendung Expired DE2840459C2 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2840459A DE2840459C2 (de) 1978-09-16 1978-09-16 Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure und deren Verwendung
GB7929421A GB2029815B (en) 1978-09-16 1979-08-23 Process for the manufacture of high purity silicic acid
US06/071,122 US4264564A (en) 1978-09-16 1979-08-30 Process for the manufacture of high purity silicic acid
JP11741279A JPS5542294A (en) 1978-09-16 1979-09-14 Method of producing high purity granular silicic acid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2840459A DE2840459C2 (de) 1978-09-16 1978-09-16 Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure und deren Verwendung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2840459A1 true DE2840459A1 (de) 1980-03-27
DE2840459C2 DE2840459C2 (de) 1982-08-05

Family

ID=6049686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2840459A Expired DE2840459C2 (de) 1978-09-16 1978-09-16 Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure und deren Verwendung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4264564A (de)
JP (1) JPS5542294A (de)
DE (1) DE2840459C2 (de)
GB (1) GB2029815B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013160388A1 (de) * 2012-04-26 2013-10-31 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur herstellung eines sio2-granulats

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4584088A (en) * 1984-07-12 1986-04-22 Standard Oil Company (Indiana) Method for treating shale
JPS61178414A (ja) * 1985-01-31 1986-08-11 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカおよびその製造方法
JPS6212608A (ja) * 1985-07-11 1987-01-21 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカ及びその製造方法
GB8707526D0 (en) * 1987-03-30 1987-05-07 Unilever Plc Amorphous silicas
TW530029B (en) * 1999-11-17 2003-05-01 Akzo Nobel Nv A method for manufacturing of silica sols
HK1049824B (zh) 1999-11-17 2005-06-03 阿克佐诺贝尔公司 二氧化硅溶胶的制备方法
FR2928363B1 (fr) * 2008-03-10 2012-08-31 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitees, silices precipitees a morphologie, granulometrie et porosite particulieres et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres
JP5780580B2 (ja) * 2010-12-24 2015-09-16 地方独立行政法人青森県産業技術センター 精製粘土製造方法
FR3050195A1 (fr) * 2016-04-14 2017-10-20 Francois Parmentier Procede de synthese d'un oxyde mineral au moyen d'un acide organique insoluble dans l'eau
FR3050196A1 (fr) * 2016-10-03 2017-10-20 Francois Parmentier Procede de synthese d'un oxyde mineral au moyen d'un echangeur de cations liquide
CN113772684B (zh) * 2021-09-16 2023-04-25 安徽凤阳赛吉元无机材料有限公司 一种抗黄变的白炭黑及其制备方法
CN119080002B (zh) * 2024-10-12 2025-07-11 扎赉诺尔煤业有限责任公司 一种利用轻木与褐煤制备SiC基多孔材料的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1268122B (de) * 1964-06-03 1968-05-16 Gerhard Wulf Dipl Chem Dipl Vo Verfahren zur Herstellung von zweidimensionaler Kieselsaeure

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL134071C (de) * 1965-07-02
DE1667538B2 (de) * 1967-01-13 1977-06-02 Henkel & Cie GmbH, 4000 Düsseldorf Verfahren zur herstellung bestaendiger alkalisilikatloesungen
DE2805547C2 (de) * 1978-02-10 1987-01-08 Kali-Chemie Ag, 3000 Hannover Verfahren zur Entfernung von Eisen aus Kieselsäuregelen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1268122B (de) * 1964-06-03 1968-05-16 Gerhard Wulf Dipl Chem Dipl Vo Verfahren zur Herstellung von zweidimensionaler Kieselsaeure

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013160388A1 (de) * 2012-04-26 2013-10-31 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur herstellung eines sio2-granulats
US9902621B2 (en) 2012-04-26 2018-02-27 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing SiO2 granulate

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5542294A (en) 1980-03-25
JPS6316329B2 (de) 1988-04-08
GB2029815A (en) 1980-03-26
US4264564A (en) 1981-04-28
DE2840459C2 (de) 1982-08-05
GB2029815B (en) 1982-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2840459C2 (de) Verfahren zur Herstellung hochreiner Kieselsäure und deren Verwendung
EP0151295B1 (de) Verfahren zur Herstellung von kristallinen Alkalischichtsilikaten
DE1467019B2 (de) Verfahren zur Herstellung von feinteiliger Kieselsäure durch Umsetzung von Alkalisilikatlösungen mit Säurelösungen
DE2533614C2 (de) Verfahren zur Herstellung von zeolithischen Alkalialuminiumsilikaten
DE69607921T2 (de) Verfahren zur herstellung von halosubstituierter aromatischer säure
DE2854200B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Zirkonoxid aus technischem Calciumzirkonat
DE2709965A1 (de) Verfahren zur farbverbesserung von ruebenschnitzeln
DE2644147C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines kompakten, grobkörnigen Natriumpercarbonats
DE3879016T2 (de) Verfahren zur herstellung von wasserfreien natriumsulfid einkristallen.
DE2357172C3 (de) Verfahren zur Herstellung von kristallinem Aluminiumsulfat aus einer gesättigten Lösung von chemisch unreinem Aluminiumsulfat
DE2625631C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Alkaligoldsulfit
EP0002016A1 (de) Verfahren zur Reinigung von Ammoniumfluoridlösungen
DE69014284T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Kupferformiat.
DE2043346B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Kryolith
DE1276635B (de) Verfahren zur Herstellung von Kaliumsorbat
DE3738778A1 (de) Verfahren zur herstellung von aluminiumfluoridtrihydrat
DE1518720C3 (de) Verfahren zum Kristallisieren von Monochloressigsäure
DE1143493B (de) Stabilisieren von Schwefeltrioxyd
DE68908135T2 (de) Verfahren zur Herstellung von einem Acexamsäurederivat.
DE2159128A1 (de) Verfahren zur Gewinnung hochreiner Manganverbindungen
DE2824558A1 (de) Verfahren zur herstellung von quadratsaeure
AT243761B (de) Verfahren zur Herstellung eines reinen Kryoliths
DE737676C (de) Verfahren zur Herstellung fettsaurer Erdalkalisalze
DE801986C (de) Verfahren zur Gewinnung von reinen Galliumverbindungen
AT229301B (de) Verfahren zur Chlorierung von o-Kresol

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
D2 Grant after examination
8339 Ceased/non-payment of the annual fee