[go: up one dir, main page]

DE2511119A1 - Zusatzmittel fuer die elektroplattierung - Google Patents

Zusatzmittel fuer die elektroplattierung

Info

Publication number
DE2511119A1
DE2511119A1 DE19752511119 DE2511119A DE2511119A1 DE 2511119 A1 DE2511119 A1 DE 2511119A1 DE 19752511119 DE19752511119 DE 19752511119 DE 2511119 A DE2511119 A DE 2511119A DE 2511119 A1 DE2511119 A1 DE 2511119A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
cyanide
alkali metal
sodium
copper
zinc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19752511119
Other languages
English (en)
Inventor
Charles N Abbott
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mcgean Chemical Co
Original Assignee
Mcgean Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mcgean Chemical Co filed Critical Mcgean Chemical Co
Publication of DE2511119A1 publication Critical patent/DE2511119A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/58Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Dr.-1 ng. E. BERKENFCLD · Dipl.-lng. H. bERKENFELD, Patentanwälte, Köln Anlage Aktenzeichen
zur Eingabe vom 12. März 1975 vA/ Name d. Anm. McGean Chemical Co.
Zusatzmittel für die Elektroplattierung
Vorliegende Erfindung betrifft die elektrolytische Abscheidung von Zink-Kupferlegierungen, insbesondere Zusatzmittel zur Verwendung in Elektroplattierungsbädern für die elektrolytische Abscheidung von Zink-Kupferlegierungen.
Elektrolytisch abgeschiedene Zink-KupferIegierungen sind für viele Zwecke brauchbar, insbesondere als Unterlage, auf welche andere Metalle ebenfalls elektrolytisch abgeschieden werden. Für diesen Zw«ck ist es von besonderer Bedeutung, daß die elektrolytisch abgeschiedene Zink-Kupferleg«ierung weich, feinkörnig, reflektierend und auch gleichförmig im Aussehen wie in anderen physikalischen Eigenschaften ist, selbst wenn sie über einen großen Stromdichtebereich aufgetragen worden ist. Wenn diese Voraussetzungen nicht vorliegen, ist der über der Zink-Kupferlegierung aufgetragene Metallüberzug im allgemeinen schadhaft, so daß das elektroplattierte Stück weggeworfen oder wieder aufgearbeitet werden muß. Dies ist besonders dann der Fall, wenn der Überzug aus der Zink-Kupferlegierung grobkörnig ist, da er dann durch den folgenden Überzug durchscheint. Es sind bereits viele Versuche unternommen worden, um diese Nachteile von Zink-Kupfer-Elektroplattierungen zu überwinden, aber bisher nicht mit besonderem Erfolg.
Vorliegender Erfindung liegt die Entdeckung zugrunde, daß man diese Nachteile dadurch überwinden kann, daß man den üblichen Zink-Kupfer-Elektroplattierungsädern, die im wesentlichen Zinkcyanid, Kupfercyanid, Alkalimetallcyanid und Alkalimetallhydroxid aufweisen, gewisse Zusätze einverleibt, und so Zink-Kupferlegierungen durch Elektroplattieren^ gebildet werden können, die die gewünschten Eigenschaften haben, und zwar unter Arbeitsbedingungen, die eine weniger strenge Überwachung erfordern und zu weniger Abfällen führen, als es bisher der Fall war. Das erfindungsgemäße Zusatzmittel, welches solche verbesserten Ergebnisse ermöglicht, weist im wesentlichen eine Mischung aus einem
509839/0910
M 119/1
Puffermittel auf, das in dem Elektroplattierungsbad in dem pH-Bereich von 10 bis 13 wirksam ist und aus der Gruppe folgender Bestandteile ausgewählt ist: Borsäure, Alkalimetallborate, Alkalimetallphosphate, Alkalimetallcarbonate und Glycin; Nickel oder Kobaltion, vorzugsweise in der Form des Metallkomplexes; und einem löslichen Salz von Athylendiamintetraessigsäure, wobei die letztere sowohl als Aufhellungsmittel als auch als ein komplexbildendes Mittel für Nickel oder Kobalt zu wirken scheint.
Plattierungsbäder, in welchen sich das vorgenannte Zusatzmittel als besonders wirksam erwiesen hat, haben im allgemeinen die folgende Zusammensetzung:
Zinkcyanid „ 13,5-40,4 g/l
Kupfercyanid 10,6-31,7 g/l
Natriumcyanid (frei) 30,0 - 52,5 g/l
Natriumhydroxid 15,0 - 45,0 g/l
Dieses Bad ergibt bei einer Elektroplattierung eine Zink-Kupferlegierung folgender Zusammensetzung : 70 bis 30 % Zink zu 30 bis 70 % Kupfer. Eine bevorzugte Zusammensetzung für eine folgende Elektroplattierung eines Metalls liegt, wie gefunden wurde, in dem Bereich von 50 bis 45 % Zink zu 50 bis 55 % Kupfer.
Das für das vorgenannte Plattierungsbad verwendete erfindungsgemäße Zusatzmittel hat vorzugsweise folgende Zusammensetzung:
Borsäure oder Alkalimetallborat 0,010 - 40,0 g/l Nickel oder Kobaltmetall (in Form eines Nickel- oder Kobaltkomplexes) 0,001 - 0,025 g/l
Anstelle der Borsäure oder des Alkalimetallborats kann das folgende Zusatzmittel verwendet werden:
Alkalimetallphosphat 0,1 - 20,0 g/l
Glycin 1,0 - 15,0 g/l
Alkalimetallcarbonat 1,0 - 75,0 g/l
509839/091 0
Die Wirkung der Zusatzmittel kann, wie gefunden wurde, noch durch die Einverleibung von 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure, vorzugsweise in der Form ihres Alkalimetallsalzes) verbessert werden, die sowohl als Aufhellungs- als auch als komplexbildendes Mittel für das Nickel oder Kobalt wirkt.
In den folgenden Beispielen wird die Wirkung der einzelnen Bestandteile des Zusatzmittels vorliegender Erfindung veranschaulicht, insbesondere auch, wie die Bestandteile des Plattierungsbad,es geändert und doch die verbesserten Ergebnisse gemäß vorliegender Erfindung erzielt werden können. Es sei ausdrücklich darauf hingewiesen, daß die Zusammensetzung des Plattierungsbades in bekannter Weise geändert werden kann, ohne daß dadurch der Rahmen vorliegender Erfindung überschritten wird, solange die Plattierungsbedingungen vorliegender Erfindung eingehalten werden.
Für jedes der folgenden elf Beispiele wurde die Hull-Zelle verwendet; als Anode diente eine Legierung, die 52 % Zink und 48 % Kupfer enthielt; während der Plattierung wurde die Anode einer leichten Luftbewegung ausgesetzt. Es wurden mit Zink überzogene, 7,62 mal 12,70 cm (3" x 5") Stahlplatten folgender Bearbeitung unterworfen; die Plattierungstemperatur belief sich auf 22,2 bis 26,7° C:
1. 50 % HCl-Abbeizbad - 1 Minute
2. Spülen
3. Elektro-Reinigung (Umpolung) - 1 Minute
4. Eintauchen in Säure (10 % H2SO4)
5. Spülen
6. Abscheidung eines dünnen Kupferüberzuges
7. Spülen
8. Messingüberzug
9. Spülen
10. Spülen mit heißem Wasser
11e Trocknen
12. Prüfung
509839/091Q
BEISPIEL I
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz keiner
Der erhaltene Überzug war stumpf bis etwas glänzend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,107 Ampere/cm (5 bis 100 amperes/ft ); der überzug war für eine folgende Plattierung unzureichend«,
BEISPIEL II
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 15,0 g/l
Der erhaltene Überzug war halbglänzend und reflektierend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0749 Ampere/cm2 (5 bis 70 amperes/ ft ) und zeigte eine wesentliche Verbesserung gegenüber dem Überzug, der ohne Zusatzmittel hergestellt worden war; aber er war für eine folgende Plattierung noch nicht zufriedenstellend.
BEISPIEL III
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercayanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bei Stromdichten von 0,00535 bis O90428 Ampere/cm2 (5 bis 40 amperes/ft2), aber stumpf über
509839/0910
den restlichen Stromdichtebereich und ferner nicht zufriedenstellend für eine folgende Plattierung.
BEISPIEL IV
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 15,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Natriumcarbonat 30.0 g/l
Der erhaltene Überzug war glatt, glänzend und gleichförmig und im allgemeinen ausgezeichnet über die Stromdichte von 0,00535 bis
ρ ρ
0,0856 Ampere/cm (5 bis 80 amperes/ft ), und er bildete eine ausgezeichnete Unterlage für eine folgende Plattierung.
BEISPIEL V
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercsyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumcarbonat 30,0 g/l
Borsäure 15,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetraessigsäure
(als Natriumaalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glatt, glänzend und gleichförmig, und im allgemeinen war er ausgezeichnete über den Stromdichtebereich von 0,00535 bis 0,107 Ampere/cm2 (5 bis 100 amperes/ft2).
Für die folgenden Beispiele werden anstelle der Borsäure andere Pufferungsraittel verwendet:
509839/091 0
BEISPIEL VI
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumphosphat 5,0 g/l
Der erhaltene Überzug war halbglänzend, glatt und reflektierend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0749 Ampere/cm2 (5 bis 70 am~ peres/ft2).
BEISPIEL VII
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l Zusatz: Natriumphosphat 5,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetrae s sigsaure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0535 Ampere/cm2 (5 bis 50 amperes/ ft2), halbglänzend bei 0,0535 bis 0,107 Ampere/cm2 (50 bis amperes/ft ) und glatt und reflektierend über den gesamten Stromdichtebereich.
BEISPIEL VIII
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Glycin 10,0 g/l
Der erhaltene Überzug war stumpf bei Stromdichten von 0,00535 bis
5098 39/09 10
P P
0,0107 Ampere/cm (5 bis 10 amperes/ft ), halbglänzend und reflektierend bei Stromdichten von 0,0107 bis 0,0428 Ampere/cm2 (10 bis 40 amperes/ft ) und stumpf in dem Bereich von 0,0428 bis 0,107 Amperes/cm (40 bis 100 amperes/ft ).
BEISPIEL IX
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Glycin 10,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(al Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war stumpf bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0107 Ampere/cm2 (5 bis 10 amperes/ft2), halbglänezend, glatt und reflektierend bei 0,0107 bis 0,0642 Amperes/cm2 (10 bis amperes/ft2) und stumpf bei 0,0642 bis 0,107 Ampere/cm2 (6Ö bis 100 amperes/ft )♦
BEISPIEL X
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz:
Borsäure 15,0 g/l
Kobaltion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetrae ssi gsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend, gleichförmig und glatt bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0856 Ampere/cm2 (5 bis 80 amperes/ ft2).
£0 9839/09 10
BEISPIEL XI
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumcarbonat 30,0 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bis halbglänzend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0321 Ampere/cm2 (5 bis 30 amperes/ft2) und stumpf in dem übrigen Bereich der Stromdichte (vgl. Beispiel V).
Gemäß den folgenden Beispielen sind die Mengen der Bestandteile der Plattierungsbäder als auch der der Zusätze geändert. In Jedem Fall wurden ausgezeichnete Überzüge einer Zink~Kupferlegierung über einen weiten Bereich von Stromdichten erzielt.
BEISPIEL XII
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 29,6 g/l
Natriumcyanid (frei) 45,0 g/l
Natriumhydroxid 30,0 g/l
Zusatz: Borsäure 0,15 g/l
Nickeklion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
BEISPIEL XIII
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 21,1 g/l
Natriumcyanid (frei) 45,0 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 0,5 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,01 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
509839/091 0
BEISPIEL XIV
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 20,1 g/l
Natriumcyanid (frei) 41,3 g/l
Natriumhydroxid 28,1 g/l Zusatz: Borsäure 0,100 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,075 g/l
BEISPIEL XV
Zinkcyanid 18,9 g/l
Kupfercyanid 19,0 g/l
Natriumcyanid (frei) 39,8 g/l
Natriumhydroxid 30,0 g/l Zusatz: Borsäure 0,200 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,002 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,100 g/l
BEISPIEL XVI
Zinkcyanid 33,7 g/l re
Kupfercyanid 26,4 g/l
Natriumcyanid (frei) 58,8 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsaure 0,150 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthvlendiamintetraessiffsäu
(als Natriumsalz) 0,250 g/l
Es sei darauf hingewiesen, daß anstelle der Natriumverbindung mit gleichem Erfolg äquivalente Mengen einer Kaliummetallverbindung angewendet werden können.
t/ecket
Das wird in der Regel als Nickelkomplex mit der Äthylendiamintetraessigsäure verwendet, in dem ein Nickelsalz einer wäß-
509839/0910
rigen Lösung dieser Säure zugesetzt wird; es können aber auch andere bekannte Nickel komplexierende Mittel verwendet werden.
Patentansprüche :
509839/091 0

Claims (1)

  1. Dr.-lng. E. BERKENTiLD · DIpI.-!ng. H. BeRKENFELD, Patentanwälte, Köln
    Anlage Aktenzeichen
    zur Eingabe vom 12o März 1975 vA/ Name d. Anm. McGean Chemical Co·
    PATENTANSPRÜCHE
    rU Zusatzmittel für Zink-Kupfer-Elektroplattierungsbäder, gekennzeichnet durch eine Mischung aus einem Puffermittel, wie Borsäure, Alkalimetallboraten, Alkalimetallcarbonate^ Alkalimetallphosphaten und/oder Glycin, und einem M Nickel- oder Kobaltion·
    2«, Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auch Äthylendiamintetraessigsäure als Alkalimetallsalz enthält.
    3. Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestandteile in den Bädern in folgenden Mengen vorliegen: 0,01 bis 40,0 g/l Borsäure und Alkalimetallborate, 1,0 bis 75 g/l Alkalimetallcarbonate, 0,1 bis 20 g/l Alkalimetallphosphate und 1,0 bis 15,0 g/l Glycin, und ferner dadurch gekennzeichnet, daß die Metallionen in Mengen von 0,001 bis 0,025 g/ Liter an Nickelion vorliegen.
    4. Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Zusatzmittel 0,01 bis 40 g/l Borsäure, 0,001 bis 0,025 g/l Nickelion und 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure (als das Natriumsalz) enthält·
    5· Elektroplattierungsbad zur Herstellung von Zin-k-Kupferlegierungen durch elektrolytische Fällung, dadurch gekennzeichnet, daß es 13,5 bis 40,4 g/l Zinkcyanid, 10,6 bis 31,7 g/l Kupfercyanid, 30,0 bis 52,5 g/l Natriumycyanid (frei), 15 bis 45 g/l Natriumhydroxid, 0,01 bis 40,0 g/l Borsäure, 0,001 bis 0,025 g/l Nickelion und 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure (als Alkalimetallsalz) enthalt.
    5 09839/0910
DE19752511119 1974-03-18 1975-03-14 Zusatzmittel fuer die elektroplattierung Pending DE2511119A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/452,143 US3930965A (en) 1974-03-18 1974-03-18 Zinc-copper alloy electroplating baths

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2511119A1 true DE2511119A1 (de) 1975-09-25

Family

ID=23795221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19752511119 Pending DE2511119A1 (de) 1974-03-18 1975-03-14 Zusatzmittel fuer die elektroplattierung

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3930965A (de)
CA (1) CA1043733A (de)
DE (1) DE2511119A1 (de)
ES (1) ES435660A1 (de)
FR (1) FR2264895B3 (de)
GB (1) GB1498212A (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4042470A (en) * 1976-10-04 1977-08-16 M&T Chemicals Inc. Brass plating
US4157941A (en) * 1977-06-03 1979-06-12 Ford Motor Company Method of adherency of electrodeposits on light weight metals
US4386812A (en) * 1981-07-06 1983-06-07 Marathon Electric Manufacturing Corp. Bearing lock for a dynamoelectric machine
US4496438A (en) * 1983-06-24 1985-01-29 Tektronix, Inc. Bath composition and method for copper-tin-zinc alloy electroplating
US6284309B1 (en) 1997-12-19 2001-09-04 Atotech Deutschland Gmbh Method of producing copper surfaces for improved bonding, compositions used therein and articles made therefrom
PT1881090E (pt) * 2006-07-13 2015-12-01 Enthone Composição electrolítica e processo para a deposição de uma camada de liga de zinco-níquel num substrato de ferro fundido ou de aço
WO2009069669A1 (ja) * 2007-11-26 2009-06-04 Bridgestone Corporation 銅-亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2684937A (en) * 1951-01-25 1954-07-27 Pittsburgh Steel Co Brass plating
US2916423A (en) * 1957-06-19 1959-12-08 Metal & Thermit Corp Electrodeposition of copper and copper alloys
GB949602A (en) * 1958-11-27 1964-02-12 Ian Heath Ltd Improvements relating to the electro-deposition of brass
GB949601A (en) * 1958-11-27 1964-02-12 Ian Heath Ltd Improvements relating to the electro-deposition of brass
US2989448A (en) * 1959-04-08 1961-06-20 Daniel R France Brass, copper-tin, and copper plating bath brightener

Also Published As

Publication number Publication date
GB1498212A (en) 1978-01-18
CA1043733A (en) 1978-12-05
ES435660A1 (es) 1978-03-16
US3930965A (en) 1976-01-06
FR2264895A1 (de) 1975-10-17
FR2264895B3 (de) 1977-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2050145A1 (de) Verfahren zum elektrolytischen Nieder schlagen einer Zinn Wismut Verbindung und elektrolytisches Bad zur Durchfuhrung des Verfahrens
DE1496917A1 (de) Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege
DE3601698C2 (de)
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE3875227T2 (de) Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad.
DE3447813A1 (de) Waessriges saures bad sowie ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink oder zinklegierungen
DE852633C (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von dichten, gut haftenden Kupferueberzuegen aus Baedern
DE959242C (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Antimon oder Antimonlegierungen
DE3020765A1 (de) Alkalisches bad zum galvanischen abscheiden niederkaraetiger rosa- bis gelbfarbener goldlegierungsschichten
DE1960047A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens
DE1213697B (de) Saures cyanidisches Bad, Mischung zur Herstellung des Bades und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glaenzenden Gold- oder Goldlegierungsueberzuegen
DE2114119A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens
DE2511119A1 (de) Zusatzmittel fuer die elektroplattierung
DE2337848C3 (de) Bad und Verfahren für die elektrolytische Abscheidung von Gold und Goldlegierungen
DE3244092A1 (de) Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von gold und verfahren zur galvanischen abscheidung von hartgold unter seiner verwendung
DE3347593C2 (de)
DE2930035A1 (de) Waessriges galvanisches bad
DE2450133A1 (de) Verfahren und galvanisches bad zur abscheidung von nickel/eisen- und nickel/ kobalt/eisen-legierungen
DE1771734A1 (de) Verfahren zur Elektroplattierung mit Rhenium und ein Bad zur Ausfuehrung dieses Verfahrens
DE2147257A1 (de) Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge
DE2032867B2 (de) Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge
DE1521043B2 (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Gold-Palladium-Legierungen
DE2635560C3 (de) Galvanisches Zinkbad, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
DE804278C (de) Elektrolyt zum galvanischen Erzeugen von UEberzuegen aus Nickel und Nickellegierungen auf Metall und Nichtleitern
EP0194432A1 (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsüberzügen

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee