DE2511119A1 - Zusatzmittel fuer die elektroplattierung - Google Patents
Zusatzmittel fuer die elektroplattierungInfo
- Publication number
- DE2511119A1 DE2511119A1 DE19752511119 DE2511119A DE2511119A1 DE 2511119 A1 DE2511119 A1 DE 2511119A1 DE 19752511119 DE19752511119 DE 19752511119 DE 2511119 A DE2511119 A DE 2511119A DE 2511119 A1 DE2511119 A1 DE 2511119A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cyanide
- alkali metal
- sodium
- copper
- zinc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 22
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 54
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N zinc cyanide Chemical compound [Zn+2].N#[C-].N#[C-] GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 17
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 14
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 14
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- -1 alkali metal borates Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 claims description 5
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 101100286286 Dictyostelium discoideum ipi gene Proteins 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000004700 cobalt complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/58—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
zur Eingabe vom 12. März 1975 vA/ Name d. Anm. McGean Chemical Co.
Vorliegende Erfindung betrifft die elektrolytische Abscheidung von Zink-Kupferlegierungen, insbesondere Zusatzmittel zur Verwendung in Elektroplattierungsbädern für die elektrolytische Abscheidung
von Zink-Kupferlegierungen.
Elektrolytisch abgeschiedene Zink-KupferIegierungen sind für viele
Zwecke brauchbar, insbesondere als Unterlage, auf welche andere Metalle ebenfalls elektrolytisch abgeschieden werden. Für
diesen Zw«ck ist es von besonderer Bedeutung, daß die elektrolytisch
abgeschiedene Zink-Kupferleg«ierung weich, feinkörnig, reflektierend
und auch gleichförmig im Aussehen wie in anderen physikalischen Eigenschaften ist, selbst wenn sie über einen großen
Stromdichtebereich aufgetragen worden ist. Wenn diese Voraussetzungen nicht vorliegen, ist der über der Zink-Kupferlegierung
aufgetragene Metallüberzug im allgemeinen schadhaft, so daß das elektroplattierte Stück weggeworfen oder wieder aufgearbeitet
werden muß. Dies ist besonders dann der Fall, wenn der Überzug aus der Zink-Kupferlegierung grobkörnig ist, da er dann durch
den folgenden Überzug durchscheint. Es sind bereits viele Versuche unternommen worden, um diese Nachteile von Zink-Kupfer-Elektroplattierungen
zu überwinden, aber bisher nicht mit besonderem Erfolg.
Vorliegender Erfindung liegt die Entdeckung zugrunde, daß man diese Nachteile dadurch überwinden kann, daß man den üblichen
Zink-Kupfer-Elektroplattierungsädern, die im wesentlichen
Zinkcyanid, Kupfercyanid, Alkalimetallcyanid und Alkalimetallhydroxid aufweisen, gewisse Zusätze einverleibt, und so Zink-Kupferlegierungen
durch Elektroplattieren^ gebildet werden können, die die gewünschten Eigenschaften haben, und zwar unter Arbeitsbedingungen,
die eine weniger strenge Überwachung erfordern und zu weniger Abfällen führen, als es bisher der Fall war. Das erfindungsgemäße
Zusatzmittel, welches solche verbesserten Ergebnisse ermöglicht, weist im wesentlichen eine Mischung aus einem
509839/0910
M 119/1
Puffermittel auf, das in dem Elektroplattierungsbad in dem pH-Bereich
von 10 bis 13 wirksam ist und aus der Gruppe folgender Bestandteile ausgewählt ist: Borsäure, Alkalimetallborate, Alkalimetallphosphate,
Alkalimetallcarbonate und Glycin; Nickel oder Kobaltion, vorzugsweise in der Form des Metallkomplexes; und einem
löslichen Salz von Athylendiamintetraessigsäure, wobei die letztere sowohl als Aufhellungsmittel als auch als ein komplexbildendes Mittel für Nickel oder Kobalt zu wirken scheint.
Plattierungsbäder, in welchen sich das vorgenannte Zusatzmittel als besonders wirksam erwiesen hat, haben im allgemeinen die folgende
Zusammensetzung:
Zinkcyanid „ 13,5-40,4 g/l
Kupfercyanid 10,6-31,7 g/l
Natriumcyanid (frei) 30,0 - 52,5 g/l
Natriumhydroxid 15,0 - 45,0 g/l
Dieses Bad ergibt bei einer Elektroplattierung eine Zink-Kupferlegierung
folgender Zusammensetzung : 70 bis 30 % Zink zu 30 bis 70 % Kupfer. Eine bevorzugte Zusammensetzung für eine folgende
Elektroplattierung eines Metalls liegt, wie gefunden wurde, in dem Bereich von 50 bis 45 % Zink zu 50 bis 55 % Kupfer.
Das für das vorgenannte Plattierungsbad verwendete erfindungsgemäße
Zusatzmittel hat vorzugsweise folgende Zusammensetzung:
Borsäure oder Alkalimetallborat 0,010 - 40,0 g/l Nickel oder Kobaltmetall (in Form eines
Nickel- oder Kobaltkomplexes) 0,001 - 0,025 g/l
Anstelle der Borsäure oder des Alkalimetallborats kann das folgende
Zusatzmittel verwendet werden:
Alkalimetallphosphat 0,1 - 20,0 g/l
Glycin 1,0 - 15,0 g/l
Alkalimetallcarbonat 1,0 - 75,0 g/l
509839/091 0
Die Wirkung der Zusatzmittel kann, wie gefunden wurde, noch durch die Einverleibung von 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure,
vorzugsweise in der Form ihres Alkalimetallsalzes) verbessert werden, die sowohl als Aufhellungs- als auch als komplexbildendes
Mittel für das Nickel oder Kobalt wirkt.
In den folgenden Beispielen wird die Wirkung der einzelnen Bestandteile
des Zusatzmittels vorliegender Erfindung veranschaulicht, insbesondere auch, wie die Bestandteile des Plattierungsbad,es
geändert und doch die verbesserten Ergebnisse gemäß vorliegender Erfindung erzielt werden können. Es sei ausdrücklich darauf
hingewiesen, daß die Zusammensetzung des Plattierungsbades in bekannter Weise geändert werden kann, ohne daß dadurch der Rahmen
vorliegender Erfindung überschritten wird, solange die Plattierungsbedingungen
vorliegender Erfindung eingehalten werden.
Für jedes der folgenden elf Beispiele wurde die Hull-Zelle verwendet;
als Anode diente eine Legierung, die 52 % Zink und 48 % Kupfer enthielt; während der Plattierung wurde die Anode einer leichten
Luftbewegung ausgesetzt. Es wurden mit Zink überzogene, 7,62 mal 12,70 cm (3" x 5") Stahlplatten folgender Bearbeitung unterworfen;
die Plattierungstemperatur belief sich auf 22,2 bis 26,7° C:
1. 50 % HCl-Abbeizbad - 1 Minute
2. Spülen
3. Elektro-Reinigung (Umpolung) - 1 Minute
4. Eintauchen in Säure (10 % H2SO4)
5. Spülen
6. Abscheidung eines dünnen Kupferüberzuges
7. Spülen
8. Messingüberzug
9. Spülen
10. Spülen mit heißem Wasser
11e Trocknen
12. Prüfung
11e Trocknen
12. Prüfung
509839/091Q
BEISPIEL I
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz keiner
Der erhaltene Überzug war stumpf bis etwas glänzend bei Stromdichten
von 0,00535 bis 0,107 Ampere/cm (5 bis 100 amperes/ft ); der überzug war für eine folgende Plattierung unzureichend«,
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 15,0 g/l
Der erhaltene Überzug war halbglänzend und reflektierend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0749 Ampere/cm2 (5 bis 70 amperes/
ft ) und zeigte eine wesentliche Verbesserung gegenüber dem Überzug,
der ohne Zusatzmittel hergestellt worden war; aber er war für eine folgende Plattierung noch nicht zufriedenstellend.
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercayanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bei Stromdichten von 0,00535 bis O90428 Ampere/cm2 (5 bis 40 amperes/ft2), aber stumpf über
509839/0910
den restlichen Stromdichtebereich und ferner nicht zufriedenstellend
für eine folgende Plattierung.
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 15,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Natriumcarbonat 30.0 g/l
Der erhaltene Überzug war glatt, glänzend und gleichförmig und im allgemeinen ausgezeichnet über die Stromdichte von 0,00535 bis
ρ ρ
0,0856 Ampere/cm (5 bis 80 amperes/ft ), und er bildete eine
ausgezeichnete Unterlage für eine folgende Plattierung.
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercsyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumcarbonat 30,0 g/l
Borsäure 15,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetraessigsäure
(als Natriumaalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glatt, glänzend und gleichförmig, und im allgemeinen war er ausgezeichnete über den Stromdichtebereich
von 0,00535 bis 0,107 Ampere/cm2 (5 bis 100 amperes/ft2).
Für die folgenden Beispiele werden anstelle der Borsäure andere Pufferungsraittel verwendet:
509839/091 0
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumphosphat 5,0 g/l
Der erhaltene Überzug war halbglänzend, glatt und reflektierend bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0749 Ampere/cm2 (5 bis 70 am~
peres/ft2).
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l Zusatz: Natriumphosphat 5,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Athylendiamintetrae s sigsaure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bei Stromdichten von
0,00535 bis 0,0535 Ampere/cm2 (5 bis 50 amperes/ ft2), halbglänzend bei 0,0535 bis 0,107 Ampere/cm2 (50 bis
amperes/ft ) und glatt und reflektierend über den gesamten Stromdichtebereich.
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Glycin 10,0 g/l
Der erhaltene Überzug war stumpf bei Stromdichten von 0,00535 bis
5098 39/09 10
P P
0,0107 Ampere/cm (5 bis 10 amperes/ft ), halbglänzend und reflektierend
bei Stromdichten von 0,0107 bis 0,0428 Ampere/cm2 (10 bis
40 amperes/ft ) und stumpf in dem Bereich von 0,0428 bis 0,107 Amperes/cm (40 bis 100 amperes/ft ).
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Glycin 10,0 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(al Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war stumpf bei Stromdichten von 0,00535 bis
0,0107 Ampere/cm2 (5 bis 10 amperes/ft2), halbglänezend, glatt
und reflektierend bei 0,0107 bis 0,0642 Amperes/cm2 (10 bis amperes/ft2) und stumpf bei 0,0642 bis 0,107 Ampere/cm2 (6Ö bis
100 amperes/ft )♦
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz:
Borsäure 15,0 g/l
Kobaltion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetrae ssi gsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend, gleichförmig und glatt bei Stromdichten von 0,00535 bis 0,0856 Ampere/cm2 (5 bis 80 amperes/
ft2).
£0 9839/09 10
Zinkcyanid 25,5 g/l
Kupfercyanid 22,5 g/l
Natriumcyanid 64,5 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Natriumcarbonat 30,0 g/l
Der erhaltene Überzug war glänzend bis halbglänzend bei Stromdichten
von 0,00535 bis 0,0321 Ampere/cm2 (5 bis 30 amperes/ft2) und
stumpf in dem übrigen Bereich der Stromdichte (vgl. Beispiel V).
Gemäß den folgenden Beispielen sind die Mengen der Bestandteile der Plattierungsbäder als auch der der Zusätze geändert. In Jedem
Fall wurden ausgezeichnete Überzüge einer Zink~Kupferlegierung über einen weiten Bereich von Stromdichten erzielt.
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 29,6 g/l
Natriumcyanid (frei) 45,0 g/l
Natriumhydroxid 30,0 g/l
Zusatz: Borsäure 0,15 g/l
Nickeklion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 21,1 g/l
Natriumcyanid (frei) 45,0 g/l
Natriumhydroxid 33,8 g/l
Zusatz: Borsäure 0,5 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,01 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,05 g/l
509839/091 0
Zinkcyanid 22,9 g/l
Kupfercyanid 20,1 g/l
Natriumcyanid (frei) 41,3 g/l
Natriumhydroxid 28,1 g/l Zusatz: Borsäure 0,100 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,005 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,075 g/l
Zinkcyanid 18,9 g/l
Kupfercyanid 19,0 g/l
Natriumcyanid (frei) 39,8 g/l
Natriumhydroxid 30,0 g/l Zusatz: Borsäure 0,200 g/l
Nickelion (als Komplex) 0,002 g/l
Äthylendiamintetraessigsäure
(als Natriumsalz) 0,100 g/l
BEISPIEL XVI
| Zinkcyanid | 33,7 g/l | re |
| Kupfercyanid | 26,4 g/l | |
| Natriumcyanid (frei) | 58,8 g/l | |
| Natriumhydroxid | 33,8 g/l | |
| Zusatz: Borsaure | 0,150 g/l | |
| Nickelion (als Komplex) | 0,005 g/l | |
| Äthvlendiamintetraessiffsäu |
(als Natriumsalz) 0,250 g/l
Es sei darauf hingewiesen, daß anstelle der Natriumverbindung mit gleichem Erfolg äquivalente Mengen einer Kaliummetallverbindung
angewendet werden können.
t/ecket
Das wird in der Regel als Nickelkomplex mit der Äthylendiamintetraessigsäure
verwendet, in dem ein Nickelsalz einer wäß-
509839/0910
rigen Lösung dieser Säure zugesetzt wird; es können aber auch andere
bekannte Nickel komplexierende Mittel verwendet werden.
509839/091 0
Claims (1)
- Dr.-lng. E. BERKENTiLD · DIpI.-!ng. H. BeRKENFELD, Patentanwälte, KölnAnlage Aktenzeichenzur Eingabe vom 12o März 1975 vA/ Name d. Anm. McGean Chemical Co·PATENTANSPRÜCHErU Zusatzmittel für Zink-Kupfer-Elektroplattierungsbäder, gekennzeichnet durch eine Mischung aus einem Puffermittel, wie Borsäure, Alkalimetallboraten, Alkalimetallcarbonate^ Alkalimetallphosphaten und/oder Glycin, und einem M Nickel- oder Kobaltion·2«, Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auch Äthylendiamintetraessigsäure als Alkalimetallsalz enthält.3. Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestandteile in den Bädern in folgenden Mengen vorliegen: 0,01 bis 40,0 g/l Borsäure und Alkalimetallborate, 1,0 bis 75 g/l Alkalimetallcarbonate, 0,1 bis 20 g/l Alkalimetallphosphate und 1,0 bis 15,0 g/l Glycin, und ferner dadurch gekennzeichnet, daß die Metallionen in Mengen von 0,001 bis 0,025 g/ Liter an Nickelion vorliegen.4. Zusatzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Zusatzmittel 0,01 bis 40 g/l Borsäure, 0,001 bis 0,025 g/l Nickelion und 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure (als das Natriumsalz) enthält·5· Elektroplattierungsbad zur Herstellung von Zin-k-Kupferlegierungen durch elektrolytische Fällung, dadurch gekennzeichnet, daß es 13,5 bis 40,4 g/l Zinkcyanid, 10,6 bis 31,7 g/l Kupfercyanid, 30,0 bis 52,5 g/l Natriumycyanid (frei), 15 bis 45 g/l Natriumhydroxid, 0,01 bis 40,0 g/l Borsäure, 0,001 bis 0,025 g/l Nickelion und 0,01 bis 2,0 g/l Äthylendiamintetraessigsäure (als Alkalimetallsalz) enthalt.5 09839/0910
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/452,143 US3930965A (en) | 1974-03-18 | 1974-03-18 | Zinc-copper alloy electroplating baths |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2511119A1 true DE2511119A1 (de) | 1975-09-25 |
Family
ID=23795221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19752511119 Pending DE2511119A1 (de) | 1974-03-18 | 1975-03-14 | Zusatzmittel fuer die elektroplattierung |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3930965A (de) |
| CA (1) | CA1043733A (de) |
| DE (1) | DE2511119A1 (de) |
| ES (1) | ES435660A1 (de) |
| FR (1) | FR2264895B3 (de) |
| GB (1) | GB1498212A (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4042470A (en) * | 1976-10-04 | 1977-08-16 | M&T Chemicals Inc. | Brass plating |
| US4157941A (en) * | 1977-06-03 | 1979-06-12 | Ford Motor Company | Method of adherency of electrodeposits on light weight metals |
| US4386812A (en) * | 1981-07-06 | 1983-06-07 | Marathon Electric Manufacturing Corp. | Bearing lock for a dynamoelectric machine |
| US4496438A (en) * | 1983-06-24 | 1985-01-29 | Tektronix, Inc. | Bath composition and method for copper-tin-zinc alloy electroplating |
| US6284309B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-09-04 | Atotech Deutschland Gmbh | Method of producing copper surfaces for improved bonding, compositions used therein and articles made therefrom |
| PT1881090E (pt) * | 2006-07-13 | 2015-12-01 | Enthone | Composição electrolítica e processo para a deposição de uma camada de liga de zinco-níquel num substrato de ferro fundido ou de aço |
| WO2009069669A1 (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-04 | Bridgestone Corporation | 銅-亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2684937A (en) * | 1951-01-25 | 1954-07-27 | Pittsburgh Steel Co | Brass plating |
| US2916423A (en) * | 1957-06-19 | 1959-12-08 | Metal & Thermit Corp | Electrodeposition of copper and copper alloys |
| GB949602A (en) * | 1958-11-27 | 1964-02-12 | Ian Heath Ltd | Improvements relating to the electro-deposition of brass |
| GB949601A (en) * | 1958-11-27 | 1964-02-12 | Ian Heath Ltd | Improvements relating to the electro-deposition of brass |
| US2989448A (en) * | 1959-04-08 | 1961-06-20 | Daniel R France | Brass, copper-tin, and copper plating bath brightener |
-
1974
- 1974-03-18 US US05/452,143 patent/US3930965A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-03-10 CA CA221,743A patent/CA1043733A/en not_active Expired
- 1975-03-13 GB GB10418/75A patent/GB1498212A/en not_active Expired
- 1975-03-14 DE DE19752511119 patent/DE2511119A1/de active Pending
- 1975-03-15 ES ES435660A patent/ES435660A1/es not_active Expired
- 1975-03-17 FR FR7508294A patent/FR2264895B3/fr not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1498212A (en) | 1978-01-18 |
| CA1043733A (en) | 1978-12-05 |
| ES435660A1 (es) | 1978-03-16 |
| US3930965A (en) | 1976-01-06 |
| FR2264895A1 (de) | 1975-10-17 |
| FR2264895B3 (de) | 1977-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2050145A1 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Nieder schlagen einer Zinn Wismut Verbindung und elektrolytisches Bad zur Durchfuhrung des Verfahrens | |
| DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
| DE3601698C2 (de) | ||
| DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
| DE3875227T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad. | |
| DE3447813A1 (de) | Waessriges saures bad sowie ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink oder zinklegierungen | |
| DE852633C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von dichten, gut haftenden Kupferueberzuegen aus Baedern | |
| DE959242C (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Antimon oder Antimonlegierungen | |
| DE3020765A1 (de) | Alkalisches bad zum galvanischen abscheiden niederkaraetiger rosa- bis gelbfarbener goldlegierungsschichten | |
| DE1960047A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens | |
| DE1213697B (de) | Saures cyanidisches Bad, Mischung zur Herstellung des Bades und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glaenzenden Gold- oder Goldlegierungsueberzuegen | |
| DE2114119A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
| DE2511119A1 (de) | Zusatzmittel fuer die elektroplattierung | |
| DE2337848C3 (de) | Bad und Verfahren für die elektrolytische Abscheidung von Gold und Goldlegierungen | |
| DE3244092A1 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von gold und verfahren zur galvanischen abscheidung von hartgold unter seiner verwendung | |
| DE3347593C2 (de) | ||
| DE2930035A1 (de) | Waessriges galvanisches bad | |
| DE2450133A1 (de) | Verfahren und galvanisches bad zur abscheidung von nickel/eisen- und nickel/ kobalt/eisen-legierungen | |
| DE1771734A1 (de) | Verfahren zur Elektroplattierung mit Rhenium und ein Bad zur Ausfuehrung dieses Verfahrens | |
| DE2147257A1 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge | |
| DE2032867B2 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge | |
| DE1521043B2 (de) | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Gold-Palladium-Legierungen | |
| DE2635560C3 (de) | Galvanisches Zinkbad, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
| DE804278C (de) | Elektrolyt zum galvanischen Erzeugen von UEberzuegen aus Nickel und Nickellegierungen auf Metall und Nichtleitern | |
| EP0194432A1 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsüberzügen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OHJ | Non-payment of the annual fee |