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DE2301631C2 - Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung - Google Patents

Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung

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Publication number
DE2301631C2
DE2301631C2 DE19732301631 DE2301631A DE2301631C2 DE 2301631 C2 DE2301631 C2 DE 2301631C2 DE 19732301631 DE19732301631 DE 19732301631 DE 2301631 A DE2301631 A DE 2301631A DE 2301631 C2 DE2301631 C2 DE 2301631C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
etchant
copper
compound
weight
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19732301631
Other languages
English (en)
Other versions
DE2301631A1 (de
Inventor
Rainer 7033 Herrenberg Haas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Her GmbH
Original Assignee
HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE
Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Herrenberg GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH102572A external-priority patent/CH587923A5/de
Application filed by HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE, Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Herrenberg GmbH filed Critical HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE
Publication of DE2301631A1 publication Critical patent/DE2301631A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2301631C2 publication Critical patent/DE2301631C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. 23 Ol
    Patentanspruch:
    Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung zum Ätzen von Kupfer und Kupferlegierungen, insbesondere von kupferkaschierten Leitungsplatten, bei dem die Kupfer-Tetrammin-Komplexverbindung durch das von dem Ätzgut abgeätzte Kupfer zu einer unwirksamen Diammin-Komplexverbindung abgebaut und als Regenerierungsmittel für die verbrauchte Tetrammin-Komplexverbindung eine Chloridionen enthaltende Verbindung aus der Gruppe Salzsäure, Ammoniumchlorid und Natriumchlorid in Abhängigkeit von der Wichte des zu regenerierenden Ätzmittels beigegeben und entweder in Abhängigkeit von der jeweiligen Wichte und vom pH-Wert des Ätzmittels oder allein von dessen pH-Wert soviel einer ammoniakatischen Verbindung aus der Gruppe Anünoniunihydroxid und Ammoniakgas zugegeben wird, daß der pH-Wert des zu regenerierenden Ätzmittels wieder etwa 8,5—10,0 und das MoIverhältnis der Chloridionen enthaltenden Verbindung zur ammoniakhaltigen Verbindung 1 :2 beträgt, mit Dosierbehältern, welche die Regenerationsmittel enthalten und über absperrbare Leitungen mit dem Ätzmittel verbunden sind, mit einer die Wichte und den pH-Wert des Ätzmittels überprüfenden und die Zugabe der Regenerationsmitti". steuernden Meßeinrichtung nach Patent 21 40 215, dadurch gekennzeichnet, daß eine direkt an den zu einer Ätzmaschine (39) gehörigen Ätzmittelbehälter £42) anschließbare Ätzmittelumwälzleitung (43, 44, 47) vorgesehen ist, und daß die Zuführung der Regenerationsmitte! (34, 53) in die Ätzmittel-Umwälzleitung (43,44, 47) mittels Injektoren (45, 46) erfolgt, welche über die absperrbaren Leitungen (51,52) an die Dosierbehälter angeschlossen sind.
    Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung zum Ätzen von Kupfer und Kupferlegierungen, insbesondere von kupferkaschierten Leitungsplatten, bei dem die Kupfer-Tetrammin-Komplexverbindung durch das von dem Ätzgut abgeätzte Kupfer zu einer unwirksamen Diammin-Komplexverbindung abgebaut und als Regenerierungsmittel für die verbrauchte Tetrammin-Komplexverbindung eine Chloridionen enthaltende Verbindung aus der Gruppe Salzsäure, Ammoniumchlorid und Natriumchlorid in Abhängigkeit von der Wichte des zu regenerierenden Ätzmittels beigegeben und entweder in Abhängigkeit von der jeweiligen Wichte und vom pH-Wert des Ätzmittels oder allein von dessen pH-Wert so viel einer ammoniakalischen Verbindung aus der Gruppe Ammoniumhydroxid und Ammoniakgas zugegeben wird, daß der pH-Wert des zu regenerierenden Ätzmittels wieder etwa 8,5—10,0 und das Molverhältnis der Chloridionen enthaltenden Verbindung zur ammoniakhaltigen Verbindung 1 :2 beträgt, mit Dosierbehältern, welche die Regenerationsmittel enthalten und über absperrbare Leitungen mit dem Ätzmittel verbunden sind, mit einer die Wichte und den pH-Wert des Ätzmittels überprüfenden und die Zugabe des Regenerationsmittels steuernden Meßeinrichtung nach Patent 21 40 215.
    Beim Gegenstand des Hauptpatentes 21 40 215 ist diese Einrichtung Teil einer von der eigentlichen Ätzmaschine gesonderten Regenerationsanlage mit einem eigenen Reaktionsbehälter. Derartige gesonderte Regenerationsanlagen sind insbesondere dann, wenn sie bei kleineren Ätzmaschinen verwendet werden sollen, verhältnismäßig aufwendig.
    Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Einrichtung der eingangs genannten Art derart auszubilden, daß sie direkt an eine Ätzmaschine angeschlossen werden kann.
    Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine direkt an den zu einer Ätzmaschine gehörigen Ätzmittelbehälter anschließbare Ätzmittelumwälzleitung vorgesehen ist, und daß die Zuführung der Regenerationsmittel in die Ätzmittelumwälzleitung mittels Injektoren erfolgt, welche über die absperrbaren Leitungen an die Dosierbehäiter angeschlossen sind.
    Eine beispielsweise Ausführungsform einer solchen Anlage zur Regeneration des Ätzmittels in der Ätzmaschine ist auf der zur nachfolgenden Beschreibung gehörigen Zeichnung schematisch dargestellt
    Bei dieser in der Zeichnung mit 39 bezeichneten Ätzmaschine befindet sici*r das zu regenerierende Ätzmittel 5 in einem bodenseitigen Behälter 42, an dem eine eine Wichtemeßeinrichtung 30 sowie eine Umwälzpumpe 40 enthaltende Leitung 41 direkt angeschlossen ist In zwei wieder an der Leitung 41 angeschlossenen Zweigleitungen 43 und 44 befinden sich mit 45 bzw. 46 bezeichnete Injektoren, wobei diese beiden Zweigleitungen wieder in einer gemeinsamen Rückflußleitung 47 zusammenlaufen, an die eine pH-Wert-Elektrode 29 angeschlossen ist Das Ende 48 dieser Leitung 47 dagegen ist an die Maschine 39 angeschlossen und mündet oberhalb des Ätzmittelbehälters 42. An den beiden Injektoren 45 und 46 wieder sind zwei jeweils durch Magnetventile 49 und 50 absperrbare Speiseleitungen 51 und 52 angeschlossen, durch die aus nicht besonders dargestellten Vorratsbehältern einerseits in Wasser gelöstes Ammoniumchlorid 53 und andererseits Ammoniakgas 34 zugeführt wird. Die Beigabe des Ammoniumchlorides 53, von dem beispielsweise 168 Gramm in einem Liter Wasser gelöst ist, wird dabei über das Ventil 49 durch die Wichtemeßeinrichtung 30 und die Beigabe des Ammoniakgases 34 über das Ventil 50 durch die pH-Wert-Elektrode 29 gesteuert.
    Diese zuvor behandelte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Einrichtung ist dabei besonders für kleine: e Ätzmaschinen 39 geeignet und zeichnet sich durch eine sehr einfache und damit auch billige Bauart aus.
DE19732301631 1972-01-21 1973-01-13 Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung Expired DE2301631C2 (de)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
CH102572A CH587923A5 (en) 1971-03-08 1972-01-21 Etching copper/copper alloys process - using a regenerative soln contg ammonium and chloride ions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2301631A1 DE2301631A1 (de) 1973-07-26
DE2301631C2 true DE2301631C2 (de) 1985-10-24

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DE19732301631 Expired DE2301631C2 (de) 1972-01-21 1973-01-13 Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung

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DE3308849A1 (de) * 1983-03-12 1984-09-13 Didier Werke Ag Verfahren zur aufbereitung von metallhaltigen aetzloesungen und zur rueckgewinnung des metalls

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DE2301631A1 (de) 1973-07-26

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