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DE2345037A1 - Reinigungsverfahren - Google Patents

Reinigungsverfahren

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Publication number
DE2345037A1
DE2345037A1 DE19732345037 DE2345037A DE2345037A1 DE 2345037 A1 DE2345037 A1 DE 2345037A1 DE 19732345037 DE19732345037 DE 19732345037 DE 2345037 A DE2345037 A DE 2345037A DE 2345037 A1 DE2345037 A1 DE 2345037A1
Authority
DE
Germany
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liquid mixture
solvent
mixture
sump
liquid
Prior art date
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Granted
Application number
DE19732345037
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English (en)
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DE2345037C2 (de
Inventor
James William Tipping
Bernhard Patrick Whim
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Imperial Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imperial Chemical Industries Ltd filed Critical Imperial Chemical Industries Ltd
Publication of DE2345037A1 publication Critical patent/DE2345037A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2345037C2 publication Critical patent/DE2345037C2/de
Expired legal-status Critical Current

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    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
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    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

D R. - I N G. H. FI -\> CKE
DIPL.-HiC. H. DOHR
DiFL-If". s. STAEGER R SFP 1Q71
MÜLLERSTRAS3E 31'
Mappe 23 307 - Dr. K/by 2345037
Case MD 25435
IMPERIAL CHEMICAL INDUSTRIES LTD. London, Großbritannien
Reinigungsverfahren
Priorität: 7.9.72 - Großbritannien
Zusatz zu P 22 47 398.9
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Reinigen von verunreinigten Gegenständen und auf eine Vorrichtung hierfür.
Verunreinigte Gegenstände, insbesondere gedruckte Schaltungen, an denen Bauteile befestigt sein können, welche Polymerisolationen und Polyniarniarkierungen enthalten und an ce- nen ein Lötflußmittc.1 auf der Basis von Kolophonium haftet, nüssen gereinigt werden. Solche Gegenstände können mit halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmitteln behandelt werden, insbesondere Fluorochlorokohlenwasserstofflösungsmitteln, wie z.B. 1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan, wobei auch noch Hilfslösungsmrttel vorliegen. Insbesondere können die
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BAD ORIGINAL
Gegenstände mit azeotr-open Gemischen der Lösungsmittel oder mit Gemischen, die zur Bildung eines Azeotrop= fähig sind, behandelt werden. Es ist üblich, azeotrope Gemische beim Siedepunkt zu verwenden. Azeotrope Gemische aus dem primären Lösungsmittel mit einem Hilfslösungsmittel sind für einige Zwecke brauchbar, aber es kann der Fall sein, daß solche Gemische keine ausreichende Menge von dem Hilfslösungsmittel enthalten, um die Flußmittel wirksam zu entfernen. Azeotropbildende Gemische, welche aus einem Gemisch des primären Lösungsmittels mit einer hohen Konzentration des Hilfslösungsmittels weit über derjenigen des Azeotrops bestehen, oder Gemische von Lösungsmitteln, die kein solches Azeotrop bilden, könnten dem ersten Anschein nach das Problem lösen. Diese werden bei einer verhältnismäßig niedrigen Temperatur verwendet, nämlich in der Nähe der Raumtemperatur, beispielsweise 200C oder weniger. Ggf. kann nach einer solchen Behandlung der Gegenstand mit einem sauberen kalten Gemisch des primären Lösungsmittels und des Hilfslösungsmittels, welches sich in einem gesonderten Tank befindet, in Berührung gebracht werden, oder es kann dann der Gegenstand mit einer Flüssigkeit in Berührung gebracht werden, die aus einem Körper des Flüssigkeitsgemischs durch Verdampfen und Kondensation des Dampfs erzeugt wird, wobei der Gegenstand sich in einer Dampfzone befindet und die Flüssigkeit vom Gegenstand ablaufen gelassen wird. Bei solchen Verfahren können beträchtliche Verluste an Lösungsmittel auftreten, da eine Schicht aus kaltem Lösungsmittel an den aus der Anlage herausgenommenen Gegenständen haftet. Außerdem kann bei gewissen Anwendungen eine ausreichend intensive Entfernung von Flußmittel vom verunreinigten Gegenstand nicht erzielt werden.
Reinigungsanlagen für die Behandlung von verunreinigten Gegenständen können einen Flüssigkeitstank aufweisen, in den die Gegenstände eingetaucht werden, v/obei der Flüssigkeitstank mit einem Überlauf zu einem Sumpftank ausgerüstet ist. Dieser letztere Tank enthält eine verhältnismäßig
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kleine Menge Flüssigkeit, die am Siedepunkt gehalten wird. Der Zweck des Sumpfs besteht darin, daß die Gegenstände nicht mit der Flüssigkeit in Berührung kommen und daß darin schmutziges Lösungsmittel gesammelt wird. Dampf über dem Flüssigkeitspegel wird kondensiert und zum Flüssigkeitstank zurückgeführt, wodurch sichergestellt wird, daß sauberes Lösungsmittel im Flüssigkeitstank vorliegt, während unsauberes Lösungsmittel zum Sumpf überfließt. Die Gegenstände werden aus dem Flüssigkeitstank heraus- und dann durch eine Dampfzone gezogen und anschließend aus der Anlage entnommen. Die Verwendung von heißen oder siedenden Lösungsmittelgemischen, die hohe Konzentrationen an Hilfslösungsmitteln mit einem höheren Siedepunkt als das primäre Lösungsmittel aufweisen, in beiden Tanks solcher Anlagen ware nicht wirksam, da nämlich das HilfslÖsungsmittel aus dem Flüssigkeitstank erschöpft würde und das Hilfslösungsmittel sich im Sumpf vermehren würde. Das System ist deshalb unstabil und kann nicht die geforderte Reinigungsarbeit leisten.
Es wird nunmehr ein Verfahren zum Reinigen von verunreinigten Gegenständen vorgeschlagen, welches sich von den bisher verwendeten Verfahren wesentlich unterscheidet und welches eine wirksame Reinigung \ron verunreinigten Gegenständen bei erhöhten Temperaturen gestattet und welches auch stabil ist.
So wird also gemäß der Erfindung ein Verfahren zum Reinigen von verunreinigten Gegenständen in einem System vorgeschlagen, bei welchem ein Lösungsmittelgemisch verwendet wird, das ein halogeniertes Kohlenwasserstofflösungsmittel und ein HilfslÖsungsmittel enthält, welches mit dem genannten halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel kein Azeotrop bildet, wobei der Gegenstand mit einem ersten erhitzten Flüssigkeitsgemisch in Berührung gebracht wird, das das halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel und einen Teil des HilfslÖsungsmittels enthält, der nindestens 2,5 Gew.-Teile je 100 Gew.-Teile des halogonierten Kohlenwas-
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serstofflösungsmittels ausmacht, und bei welchem Verfahren der Gegenstand abschließend mit einem zweiten Flüssigkeitsgemisch gespült wird, das einen niedrigeren Anteil von dem Hilfslösungsmittel enthält, als er im ersten Flüssigkeitsgemisch vorliegt.
Vorzugsweise wird in das Reinigungssystem kontinuierlich oder intermittierend von einer äußeren Quelle eine Beschickung aus dem halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel und/oder dem Hilfslösungsmittel in solchen Kengen eingeführt, wie sie erforderlich sind, um die Zusammensetzung des ersten und des zweiten Flüssigkeitsgemischs im wesentlichen konstant zu halten.
Vorzugsweise wird bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens das zweite Flüssigkeitsgemisch ebenfalls erhitzt.
Es wird bevorzugt, daß mindestens ein Teil und vorzugsweise die Gesamtmenge des Kondensats aus dem Dampf des ersten und des zweiten Flüssigkeitsgemischs in einen Behälter (den Spülraum), der das zweite Flüssigkeitsgemisch enthält, zurückgeführt wird, wobei letzteres in einen Behälter überfließt, der das erste Flüssigkeitsgemisch enthält.
Gemäß einer bevorzugten Methode für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das Reinigen eines verunreinigten Gegenstands dadurch ausgeführt, daß man den Gegenstand in das erste erhitzte Flüssigkeitsgemisch eintaucht, wobei sich dieses Gemisch in einem Sumpfraum des Reinigungssystams befindet, und daß man anschließend den Gegenstand in das zweite Flüssigkeitsgemisch, welches sich in einem Spülraum des Systems befindet, überführt, wobei das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch eine gemeinsame Dampfzone aufweisen. Vorzugsweise wird das zweite Flüssigkeitsgemisch auch erhitzt. Dieses zweite Flüssigkeitsgemisch befindet sich mit dem Dampf in der Dampfzone
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über dem Sumpf und dem Spülraum und auch mit dem Gemisch im Sumpfraum im Gleichgewicht. Ggf. können mehrere Spülräume verwendet werden.
In geeigneter Weise wird der entsprechende Teil des halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittels und des Hilfslösungsmittels kontinuierlich oder intermittierend in den Sumpf und/oder den Spülraum des Reinigungssystems eingeführt .
Bei der genannten bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird mindestens ein Teil und vorzugsweise die Gesamtmenge der Flüssigkeit, die durch Kondensation von Dämpfen aus der gemeinsamen Dampfzone erhalten wird, in den Spülraum zurückgeführt. In geeigneter Weise sorgt man auch dafür, daß das Flüssigkeitsgemisch vom SpUlraum überfließt und zum Sumpfraum läuft.
Vorzugsweise enthält das zuerst genannte Flüssigkeitsgemisch mindestens 5 Gew.-Teile von dem Hilfslösungsmittel je 100 Gew.-Teile Gesamtgemisch.
Von den halogenierten Kohlenwasserstoffen, die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden können, sollen Fluorochlorokohlenwasserstoffe erwähnt werden, und zwar insbesondere solche, die zwei oder drei Kohlenstoffatome enthalten, wie z.B. 1,1,2,2-Tetrachloro-i,2-difluoroäthan. 1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan ergibt besonders gute Resultate.
Beispiele für Hilfslösungsmittel, die gemeinsam mit dem halogenierten Kohlenwasserstoff verwendet werden können, sind Alkohole (die mit dem halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel kein Azeotrop bilden), wie z.B. n-Butanolj Alkoxyalkohole, wie z.B. 2-Methoxyäthanol, 2-Äthoxyäthanol und 2-Butoxyäthanol; und cyclische Äther, wie z.B. 1,4-Dioxan. Die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten
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nicht-azeotropen Losun^smittelgemische sind solche, die nicht das Vermögen besitzen, ein Azeotrop zu bilden. Beispielsweise umfassen sie nicht Gemische aus 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan mit einer hohen Konzentration an Isopropylalkohol, welche bei einer Fraktionierung ein Azeotrop aus dem genannten Trichlorofluoroäthan und einer kleinen Menge Isopropylalkohol ergeben.
Wenn beispielsweise 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan im Sumpfraum verwendet wird, dann ist die Konzentration des Hilfslösungsmittels in geeigneter Weise nicht größer als 90 Gew.-%, bezogen auf das darin befindliche Flüssigkeitsgemisch. Es wird bevorzugt, daß die genannte Konzentration des Hilfslösungsmittels nicht größer als 70 % ist, und es wird besonders bevorzugt, daß diese Konzentration nicht größer als 40 Gew.-% ist, bezogen auf das Flüssigkeitsgemisch im Sumpfraum.
Die Konzentration des Hilfslösungsmittels im Spültank unterscheidet sich von derjenigen des Flüssigkeitsgemischs im Sumpfraum. Das FlUssigkeitsgemisch im SpUlraum besitzt, wenn sich einmal stabile Bedingungen eingestellt haben, eine Konzentration an Hilfslösungsmittel im primären halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel, die im allgemeinen 0,5 bis 10 Gew.-5< des genannten Flüssigkeitsgemischs entspricht. Bei der Durchführung des vorliegenden Verfahrens liegt, wenn eine Zufuhr von einer äußeren Beschickung des primären Lösungsmittels und des Hilfslösungsmittels durchgeführt wird, dieses zweite FlUssigkeitsgemisch im Gleichgewicht mit dem ersten Flüssigkeitsgemisch im Sumpfraum und mit dem Dampf in der gemeinsamen Dampfzone, d.h., daß die Zusammensetzung des genannten zweiten Flüssigkeitsgemischs im wesentlichen konstant ist, während diejenige im Sumpf raum und des Dampfs in der gemeinsamen Zone im wesentlichen konstant bleibt.
Die Konzentration des Hilfslösungsmittels im halogenierten
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Kohlenwasserstofflösungsmittel im Sumpfraum und im Spülraum richtet sich auch nach dem jeweils verwendeten Hilfslösungsmittel. Wenn beispielsweise 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan als primäres Lösungsmittel verwendet wird, dann können brauchbare Resultate beispielsweise erhalten werden, wenn man eine Konzentration von 15 bis 25 Gew.-% n-Butanol (Hilfslösungsmittel), bezogen auf das gesamte Flüssigkeitsgemisch im Sumpfraum, und 1 bis 1,5 Gew.-76 n-Butanol im Spülraum verwendet, wobei beide Flüssigkeiten sieden. In ähnlicher Weise kann günstig eine Konzentration von 8 bis 12 Gew.-% 1,4-Dioxan im Sumpfraum und von 2 bis 4 Gew.-90 1,4-Dioxan im Spülraum verwendet werden, wobei beide Flüssigkeiten am Siedepunkt verwendet werden.
Die äußere Beschickung an halogeniertem Kohlenwasserstofflösungsmittel und Hilfslösungsmittel, die im System verwendet wird, richtet sich nach den jeweils verwendeten Lösungsmitteln. Die beiden Lösungsmittel können gesondert in den Sumpfraum und/oder Spülraum eingeführt werden, oder es kann ein vorgebildetes Lösungsmittelgemisch verwendet . werden. Die Menge der in das System eingeführten Lösungsmittel ist vorzugsweise diejenige, welche erforderlich ist, um den Pegel im Sumpfraum konstant zu halten.
Die Lösungsmittelgemische im Sumpfraum und im Spülraum werden auf einer Temperatur höher als die Raumtemperatur gehalten (letztere ist in einigen Klimata 20 C). Gewöhnlich werden die Gemische auf einer Temperatur von mindestens 3O0C und vorzugsweise mindestens i-0 C gehalten. Es wird noch mehr bevorzugt, die Lösufigsmittelgemische beim Siedepunkt zu halten, in welchem Falle Gemische, die 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan als primäres Lösungsmittel enthalten, oftmals eine Temperatur im Bereich von 45 bis 500C oder mehr aufweisen.
Das Eintauchen des verunreinigten Gegenstands in das genannte erhitzte Flüssigkeitsgenisch, welches kein Azeotrop
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bildet, im Sumpfraum des Reinigungssystems alleine oder zusammen mit dem weiteren Eintauchen in das genannte erhitzte Flüssigkeitsgemisch im Spillraum stellt u.a. ein ungewöhnliches Merkmal des vorliegenden Verfahrens dar.
Andere Lösungsmittel oder Zusätze können der Lösungsmittelzusammensetzung, die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendet wird, zugegeben werden, sofern dies erwünscht ist, um die Reinigungskraft' oder Lösekraft zu modifizieren. Geeignete Zusätze sind kationische, anionische und nicht-ionische Detergentien. In einigen Fällen kann auch Wasser zugegeben werden, insbesondere, wenn die Zusammensetzung ein Detergenz enthält. Dies ist aber nicht wesentlich. Es ist gewöhnlich unnötig, Stabilisatoren in den Lösungsmittelgemischen zu verwenden. Es ist jedoch möglich, daß Stabilisatoren unter korrosiven Bedingungen erwünscht sind, wie z.B. wenn die Lösungsmittelgemische mit Leichtmetallen, wie z.B. Zink oder Aluminium, in Berührung kommen.
Das vorliegende Verfahren ist bei einer großen Reihe von Anwendungen für die Reinigung von verunreinigten Gegenständen brauchbar, wie z.B. bei der Entfernung von zähen Lötflußmitteln von elektrischen Ausrüstungen. Insbesondere eignet es sich zur Entfernung von Flußmitteln von Ausrüstungen, die sich auf einem Kunststoff- oder Harzsubstrat befinden, wobei die Platten oder die darauf befindlichen Bauteile nicht beschädigt werden sollen.
Bei einem anderen Verfahren für die Durchführung .des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein verunreinigter Gegenstand mit dem genannten ersten erhitzten Flüssigkeitsgemisch in einem Reinigungssystem, welches einen Raum (Sumpfraum) aufweist, in Berührung gebracht, worauf dann der Gegenstand in die Dampfzone über dem genannten Raum gezogen und darin mit dem zweiten Flüssigkeitsgemisch gespült wird, welches durch Kondensation von Dämpfen aus der genannten Dampfzone gebildet wird. Bei einer Abwandlung dieses Ver-
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fahrens wird der verunreinigte Gegenstand, nach dem Eintauchen in das erste erhitzte Flüssigkeitsgemisch durch und aus der genannten Dampfzone gezogen, über der Dampfzone, aber innerhalb des Reinigungsbehälters abkühlen gelassen und dann wieder zur Dampfzone zurückgeführt, wo er durch das genannte zweite Flüssigkeitsgemisch gespült wird, welches durch direkte Kondensation von Dämpfen aus der genannten Dampfzone auf dem genannten abgekühlten Gegenstand gebildet wird.
Bei einer anderen Variante des erfindungsgemäßen.Verfahrens befinden sich das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch in voneinander getrennten Räumen und besitzen außerdem keine gemeinsame Dampfzone, wobei kondensierte Flüssigkeit aus dem Dampf über dem ersten erhitzten Gemisch zum zweiten erhitzten Gemisch zurückgeführt wird.
Eine geeignete Vorrichtungstype, die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden kann, ist in der beigefügten Zeichnung (Fig. 1) dargestellt, welche in schematischer Ansicht einen Vertikalschnitt darstellt" und welche nicht maßstabsgetreu ist. Gemäß der Zeichnung ist ein Behälter(1) in einen Sumpfraum (2) und einen Spülraum (4) durch eine Wand (3) getrennt. Der Sumpfraum (2)enthält einen Körper eines ersten Gemischs (welches kein Azeotrop bildet) mit ausreichender Tiefe, daß die verunreinigten Gegenstände darin eingetaucht werden können, und er ist außerdem mit einem Heizer (5) ausgerüstet. Der dem Sumpfraum (2) benach barte Spülraum (4) ist mit einem Heizer (6) ausgerüstet und enthält ein Volumen des zweiten Flüssigkeitsgemischs, wie es oben beschrieben wurde, das eine andere Zusammensetzung wie diejenige im Sumpfraum (2) aufweist. Die Dampfzone (7) steht sowohl mit dem Sumpfraum (2) als auch mit dem Spülraum (4) in Verbindung. Eine Kühlschlange (8) ist in der Dampfzone (7) vorgesehen, um Dämpfe zu kondensieren. Weiterhin ist dort ein Trog (9) vorhanden. Der letztere ist
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dazu bestimmt, kondensierte Flüssigkeit zu sammeln. Ein Rohr (10) ist für die Rückführung des Kondensats zum SpUl.-raura (4) vorgesehen. Eine Kühlleitung (11) ist an der Außenseite des Behälters angebracht, durch welche ein Kühlmedium hindurchgeführt werden kann, um für weitere Kühlung zu sorgen. Ein Eintritt (12) kann vorgesehen sein, um eine Beschickung eines Gemischs aus primärem Lösungsmittel und Hilfslösungsmittel (wie oben beschrieben) von einer äußeren Quelle zu ermöglichen. Er ist in der Zeichnung so dargestellt, daß er in den Sumpfraum (2) führt. Er kann aber irgendwie angeordnet sein, so daß er an irgendeinem geeigneten Punkt in das System führt. (Nicht näher dargestellte) Mittel sind ebenfalls vorhanden, mit welchen die verunreinigten Gegenstände durch die Vorrichtung transportiert v/erden können. Die Schiene für die Gegenstände ist durch die Linie dargestellt, welche am Eintrittspunkt (13) beginnt und durch den Sumpfraum (2), die Dampfzone (7) und den SpUlraura (4) führt und am Austrittspunkt (14) endet.
Beim Betrieb werden die Lösungsmittelgemische in den beiden Räumen (2) und (4) erhitzt, und die Dämpfe daraus mischen sich in der Dampfzone (7), kondensieren sich an der Kühlschlange (8) und fließen aus der Flüssigkeit zurück in den SpUlraum (4), von wo aus überschüssige Flüssigkeit über die Wand (3) in den Sumpfraum (2) fließt. Dieser fortgesetzte Fluß von Flüssigkeit und von Dampf erhält eine klare SpUIflUssigkeit im Raum (4) aufrecht und stellt sicher, daß der Schmutz und die Verunreinigung sich im Raum (2) ansammeln, aus welchem sie in irgendeiner geeigneten Weise entfernt werden können, beispielsweise durch periodische Entnahme der Gesamtmenge oder eines Teils der schmutzigen Flüssigkeit. Die Flüssigkeitspegel werden dadurch aufrechterhalten, daß man frisches Lösungsmittelgemisch nach Bedarf zusetzt, um entferntes Lösungsmittel zu ersetzen.
Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung, welche
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folgende Teile aufweist: einen Behälter mit einem Sumpfraum, welcher mit einer Erhitzungsvorrichtung ausgerüstet ist und ein Volumen eines ersten nicht-azeotropbildenden Flüssigkeitsgemischs, wie oben beschrieben, mit einer ausreichenden Tiefe enthält, da3 die verunreinigten Gegenstände darin eingetaucht werden können, einen Spülraum oder Spülräume in der Nachbarschaft zum Sumpfraum, der bzw. die mit einer Erhitzungsvorrichtung oder mit Erhitzungsvorrichtungen versehen ist bzw. sind und ein Flüssigkeitsvolumen, wie oben beschrieben, enthält bzw. enthalten, das sich von demjenigen des Sumpfraums unterscheidet, wobei der Spülraum so ausgebildet ist, da3 ein Überfluß von Flüssigkeit in den Sumpfraum stattfinden kann, eine Dampfzone, die sowohl mit dem Sumpfraum als auch mit dem Spülraum in Verbindung steht, eine Kühleinrichtung, welche Dämpfe über dem Sumpfraum und dem SpUlraum kondensieren kann, und eine Einrichtung für die Rückführung von kondensierter Flüssigkeit in den Spülraum oder in die Spülräume.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
Das zu reinigende Material bestand aus gedruckten Schaltungsplatten, welche aus harzgebundenen Papierplatten bestanden, auf denen ein niederschlag von Flußmittel haftete. Der Flußmittelbelag war dadurch entstanden, daß mit einem Bürstenstrich Flußmittel auf die Platte aufgebracht wurde und daß anschließend dieser 2 Minuten bei 700C getrocknet wurde und daß anschließend 5 Sekunden bei 2500C eine Tauchlötung vorgenommen wurde, worauf sich eine 15 Minuten dauernde P.ause anschloß. Das Flußmittel war ein aktiviertes Flußmittel auf Kolophoniumbasis, das im Handel unter dem Warenzeichen "Zeva C4" erhältlich ist.
Das Reinigungsverfahren wurde wie oben beschrieben durch-
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geführt und umfaßte das Eintauchen der verunreinigten Gegenstände in den Sumpfraum einer Reinigungsanlage während einer Minute und das anschließende Eintauchen im benachbarten Spülraum während 10 Sekunden. Das Lösungsmittelgemisch im Sumpf bestand aus 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan, welches 14,8 Gew.-0A n-Butanol 'enthielt. Das Gemisch im Spülraum bestand aus 98,8 Gew.-96 des genannten Trichlorotrifluoroäthans und 1,2 Gew.-% n-Butanol. Beide Flüssigkeiten wurden am Siedepunkt gehalten. Die Dämpfe über den Flüssigkeitspegeln wurden durch Kühlschlangen kondensiert, und das Kondensat wurde zum SpUltank zurückgeführt. Ein Gemisch aus dem genannten Trichlorotrifluoroäthan und 8,4 Gew.-% n-Butanol war erforderlich, um die Zusammensetzung und um die Flüssigkeitspegel im Sumpfraum und im Spülraum aufrechtzuerhalten .
Durch diese Behandlung wurden ohne Beschädigung der Platten alle Flußmittelspuren entfernt.
Beispiel 2
In diesem Beispiel v/aren die Lösungsmittelgemische für die Behandlung der gedruckten Schaltungsplatten wie folgt:
(1) Sumpf: 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan mit einem Gehalt von 9,3 Ge\i.-°/o 1,4-Dioxan,
(2) Spülraum: 97,3 Gew.-96 Trichlorotrifluoroäthan und 2,7 Gew.-% 1,4-Dioxan,
(3) das Gemisch, welches zur Aufrechterhaltung der Zusammensetzung und der Flüssigkeitspegel im Sumpfraum und im Spülraum erforderlich war, bestand aus dem genannten Trichlorotrifluoroäthan mit 9,8 Gew.-96 1,4-Dioxan.
Alle Spuren von Flußmittelrückständen (wie in Beispiel 1 beschrieben) wurden durch diese Behandlung entfernt, ohne daß die Platten beschädigt wurden.
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Claims (34)

PATENTANSPRÜCHE:
1. Verfahren zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands in einem System, dadurch gekennzeichnet, daß man ein
Losungsmittelgemisch verwend&t, das ein halogeniertes Kohlenwasserstofflösungsmittel und ein Hilfslösungsmittel aufweist, welches mit dem genannten halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel kein Azeotrop bildet,
wobei der Gegenstand mit einem ersten erhitzten Flüssigkeitsgemisch in Berührung gebracht wird, welches das halogenierte Kohlenv/asserstoff lösungsmittel und' einen Anteil des Hilfslösungsmittels enthält, der zumindest 2,5 Gew.-Teile je 100 Gew.-Teile des halogenierten Kohlenwasserstoff lösungsmittels ausmacht, und daß der Gegenstand anschließend mit einem zweiten Flüssigkeitsgemisch gespült wird, welches einen niedrigeren Anteil des Hilfslösungsmittels enthält, als er im ersten Flüssigkeitsgemisch vorliegt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in das System kontinuierlich oder intermittierend von einer äußeren Quelle eine Beschickung aus dem halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel und/oder dem
Hilfslösungsmittel in solchen Mengen eingeführt wird, die erforderlich sind, die Zusammensetzung des ersten und des zweiten Flüssigkeitsgemischs im wesentlichen
konstant zu halten.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Flüssigkeitsgemisch ebenfalls erhitzt wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet» daß man den Gegenstand in das erste erhitzte Flüssigkeitsgemisch eintaucht, wobei sich dieses Gemisch in einem Sumpfraum eines Reinigungssystems befindet, und daß man hierauf den Gegenstand in
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das zweite Flüssigkeitsgemisch in einen Spülraum des Systems einbringt, wobei das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch eine gemeinsame Dampfzone aufweisen.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der entsprechende Anteil des halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittels und des Hilfslösungsmittels kontinuierlich oder intermittierend in den Sumpfraum und/oder den Spülraum des Reinigungssystems eingeführt wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Teil und vorzugsweise die Gesamtmenge des Kondensats des Dampfs des ersten und des zweiten Flüssigkeitsgemischs in einen Spülraum zurückgeführt wird, der das zweite Flüssigkeitsgemisch enthält.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3, 4, 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Flüssigkeitsgemisch vom Spülraum in den Sumpfraum überfließt.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Flüssigkeitsgemisch mindestens 5 Gew.-Teile von dem Hilfslösungsmittel je 100 Gew.-Teile des Gesamtgemischs enthält.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel aus einem Fluorochlorokohlenwasserstoff besteht.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Fluorochlorokohlenwasserstoff zwei oder drei Kohlenstoff atome enthält.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Fluorochlorokohlenwasserstoff aus 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan besteht.
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12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Hilfslösungsmittel aus n-Butanol besteht.
13« Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Hilfslösungsmittel aus einem Alkoxyalkohol besteht.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkoxyalkohol aus 2-Methoxyäthanol besteht.
15· Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkoxyalkohol aus 2-Äthoxyäthanol besteht.
16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkoxyalkohol aus 2-Butoxyäthanol besteht.
17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Hilfslösungsmittel aus einem"cyclischen Äther besteht.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß der cyclische Äther aus 1,4-Dioxan besteht.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Hilfslösungsmittels im Sumpfraum nicht größer als 90 Gew.-% des darin befindlichen Flüssigkeitsgemischs ist.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Hilfslösungsmittels im Sumpfraum nicht größer als 70 % des darin befindlichen Flüssigkeitsgemischs ist.
21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Hilfslösungsmittels im Sumpfraum nicht großer als 40 Gew.-% des darin befindlichen Flüssigkeitsgemischs ist.
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IC
22. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Hilfslösungsmittels im zweiten Spülflüssigkeitsgeraisch im Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-?6, bezogen auf das zweite Flüssigkeitsgemisch, liegt.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 11, 12, 19, 20, 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration an n-Butanol in 1 ,'1,2-Trichloro-i ,.2,2-trifluoroäthan, das im ersten FlüSTsigkeitsgemisch im Sumpfraum verwendet wird, 15 bis 25 Gew.-96, bezogen auf das gesamte Flüssigkeitsgemisch, beträgt.
24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration an n-Butanol im Trichlorotrifluoroathan, das im zweiten Flüssigkeitsgemisch im Spülraum verwendet wird, 1 bis 1,5 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Flüssigkeitsgemisch, beträgt.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 und 18 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration an 1,4-Dioxan im Trichlorotrifluoroathan, das im ersten Flüssigkeitsgemisch im Sumpfraum verwendet wird, 8 bis 12 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Flüssigkeitsgemisch , beträgt.
26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des 1,4-Dioxans im Trichlorotrifluoroathan, das im zweiten Flüssigkeitsgemisch im Spülraum verwendet wird, 2 bis 4 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Flüssigkeitsgemisch, beträgt.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Spülräume verwendet werden.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur im Sumpfraum und
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Im Spülraum mindestens 3O0C und bis zum Siedepunkt der Gemische "beträgt.
29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Gemischs mindestens 4O°C und bis zum Siedepunkt des Gemisches beträgt.
30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß die FlUssigkeitsgemische 1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan als primäres Lösungsmittel enthalten und die Temperatur dieser Gemische im Bereich von bis 500C liegt.
31. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein verunreinigter Gegenstand mit dem ersten erhitzten Flüssigkeitsgemisch in einem Reinigungssystem in Berührung gebracht wird, welches einen Raum (Sumpfraum) aufweist, wobei der Gegenstand durch die Dampfzone über den Raum gezogen und darin mit dem zweiten Flüssigkeitsgemisch gespült wird, welches durch Kondensation von Dämpfen aus der Damp'fzone erhalten wird.
32. Abwandlung des Verfahrens nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenstand nach dem Eintauchen in das erste Flüssigkeitsgemisch durch die und aus der Dampfzone gezogen wird, über der Dampfzone, aber Innerhalb des Reinigungsbehälters abkühlen gelassen und dann zur Dampfzone zurückgeführt wird, wo er durch das zweite Flüssigkeitsgemisch gespült wird, das durch Kondensation von Dämpfen aus der Dampfzone auf dem abgekühlten Gegenstand erhalten wird.
33. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch sich in Räumen befinden, die voneinander getrennt sind und keine gemeinsame Dampfzone aufweisen,
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wobei kondensierxe Flüssigkeit aus dem ersten erhitzten Gemisch zum zweiten erhitzten Flüssigkeitsgemisch zurückgeführt wird.
34. Vorrichtung für die Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einem Behälter besteht, der folgende Teile aufweist: einen Sumpfraum mit einer Erhitzungsvorrichtung und mit einem Volumen eines ersten nicht-azeotropbildenden Lösungsmittelgemischs, das sich aus einem primären Lösungsmittel und einem Hilfslösungsmittel zusammensetzt und eine Tiefe aufweist, daß darin verunreinigte Gegenstände eingetaucht werden können, einen Spülraum oder Spülräume in der Nachbarschaft zum Sumpfraum, der bzw. die mit einer Erhitzungsvorrichtung oder Erhitzungsvorrichtungen versehen ist bzw. sind und ein Volumen aus einem zweiten Flüssigkeitsgemisch enthält oder enthalten, welches einen niedrigeren Anteil an Hilfslösungsmittel aufweist, als er im ersten Lösungsmittelgemisch enthalten ist, wobei der Spülraum so angeordnet ist, daß er einen Überfluß von Flüssigkeit in den Sumpfraum gestattet, eine Dampfzone, die sowohl mit dem Sumpf raum als auch mit dem Spülraum in Verbindung steht, eine Kühleinrichtung, welche eine Kondensation von Dämpfen' über dem Sumpfraum und dem Spülraum ermöglicht, und eine Einrichtung, die dazu geeignet ist, kondensierte Flüssigkeit zum Spülraum oder zu den Spülräumen zurückzuführen.
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4070425A (en) * 1976-02-24 1978-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyamide gel removal
US4056403A (en) * 1976-05-27 1977-11-01 Olin Corporation Solvent composition used to clean polyurethane foam generating equipment
US4269630A (en) * 1979-10-01 1981-05-26 George M. Stephenson Two-step process and composition for cleaning polished surfaces
US4478364A (en) * 1980-11-07 1984-10-23 Re-Al, Inc. Method of mounting and cleaning electrical slide switch of flush through design
EP0090496B1 (de) * 1982-03-18 1986-01-15 Imperial Chemical Industries Plc Reinigungsmittel
US4711256A (en) * 1985-04-19 1987-12-08 Robert Kaiser Method and apparatus for removal of small particles from a surface
US4787941A (en) * 1986-06-30 1988-11-29 Wang Laboratories, Inc. Cleaning method for keyboard assemblies
US4973420A (en) * 1989-05-04 1990-11-27 Hoechst Celanese Corporation Stripper composition for removal of protective coatings
MY114292A (en) * 1989-10-26 2002-09-30 Momentive Performance Mat Jp Method for removing residual liquid cleaning agent using a rinsing composition containing a polyorganosiloxane
WO1991011269A1 (en) * 1990-01-24 1991-08-08 Motorola, Inc. A method for electrical assembly cleaning
US5503681A (en) * 1990-03-16 1996-04-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of cleaning an object
KR0121454B1 (ko) * 1990-03-16 1997-11-15 사토 후미오 세정방법 및 세정장치
US5593507A (en) * 1990-08-22 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Cleaning method and cleaning apparatus
US5304253A (en) * 1990-09-12 1994-04-19 Baxter International Inc. Method for cleaning with a volatile solvent
US5082503A (en) * 1990-10-22 1992-01-21 Baxter International Inc. Method for removing contaminants from the surfaces of articles
US5106425A (en) * 1990-10-22 1992-04-21 Baxter International, Inc. Method for maintaining a flammable solvent in a non-flammable environment
US5113883A (en) * 1990-10-22 1992-05-19 Baxter International Inc. Apparatus for cleaning objects with volatile solvents
WO1992022678A1 (en) * 1991-06-14 1992-12-23 Petroferm Inc. A composition and a process for removing rosin solder flux with terpene and hydrocarbons
US5273592A (en) * 1991-11-01 1993-12-28 Alliesignal Inc. Method of cleaning using partially fluorinated ethers having a tertiary structure
MX9206771A (es) * 1991-12-02 1993-06-01 Allied Signal Inc Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples
US6355113B1 (en) 1991-12-02 2002-03-12 3M Innovative Properties Company Multiple solvent cleaning system
US5401429A (en) * 1993-04-01 1995-03-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether
US5494601A (en) * 1993-04-01 1996-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions
US5482563A (en) * 1993-04-06 1996-01-09 Motorola, Inc. Method for electrical assembly cleaning using a non-azeotropic solvent composition
US6187729B1 (en) * 1993-12-14 2001-02-13 Petroferm Inc. Cleaning composition comprising solvating agent and rinsing agent
US5534078A (en) * 1994-01-27 1996-07-09 Breunsbach; Rex Method for cleaning electronic assemblies

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB440732A (en) * 1934-07-05 1936-01-06 Walter Frederick Jesson Improved apparatus for degreasing metal and like non-absorbent articles
FR1178073A (fr) * 1956-07-04 1959-05-04 Montedison Spa Procédé en phase vapeur pour le dégraissage des métaux
DE2138547A1 (de) * 1970-08-03 1972-03-23 Imp Smelting Corp Nsc Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Gegenstanden insbesondere zum Entfer nen von Flußmitteln und ähnlichen Ablage rungen von elektrischen Bau und Schaltungs teilen

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2153577A (en) * 1935-03-07 1939-04-11 Du Pont Process of degreasing
US2104992A (en) * 1935-04-22 1938-01-11 Wacker Chemie Gmbh Machine for cleaning and degreasing articles
US2162656A (en) * 1935-05-22 1939-06-13 Du Pont Degreasing process
US2220124A (en) * 1938-07-20 1940-11-05 Westvaco Chlorine Products Cor Degreasing
NL121693C (de) * 1959-05-22
NL129954C (de) * 1964-04-02
US3553142A (en) * 1968-12-23 1971-01-05 Allied Chem Azeotrope and solvent compositions based on 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane and acetonitrile
US3723332A (en) * 1970-11-27 1973-03-27 Allied Chem Stabilized perchlorofluorocarbon compositions
US3733218A (en) * 1971-11-15 1973-05-15 Diamond Shamrock Corp Removal of solder flux with azeotropic solvent mixtures

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB440732A (en) * 1934-07-05 1936-01-06 Walter Frederick Jesson Improved apparatus for degreasing metal and like non-absorbent articles
FR1178073A (fr) * 1956-07-04 1959-05-04 Montedison Spa Procédé en phase vapeur pour le dégraissage des métaux
DE2138547A1 (de) * 1970-08-03 1972-03-23 Imp Smelting Corp Nsc Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Gegenstanden insbesondere zum Entfer nen von Flußmitteln und ähnlichen Ablage rungen von elektrischen Bau und Schaltungs teilen

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
In Betracht gezogene ältere Anmeldung: DE-OS 22 47 398 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPS4992861A (de) 1974-09-04
NL7312267A (de) 1974-03-11
BE804181R (fr) 1974-02-28
CH579952A5 (de) 1976-09-30
DK150990B (da) 1987-10-05
FR2198795A2 (de) 1974-04-05
SE392921B (sv) 1977-04-25
AU5980873A (en) 1975-03-06
DE2345037C2 (de) 1986-03-13
DK150990C (da) 1988-02-22
CA1011223A (en) 1977-05-31
US3904430A (en) 1975-09-09
IT1053745B (it) 1981-10-10
FR2198795B2 (de) 1975-03-21
GB1440438A (en) 1976-06-23

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